JP2001343654A - 液晶表示素子およびその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 簡単な構成で容易に製造でき、壁状スペーサ
が基板に密着し、基板間隔が均一で厳密に制御可能であ
り、外圧による変形に強い液晶表示素子を得る。 【解決手段】 電極２，６を有する１対の基板１，５間
に液晶８が狭持されている液晶表示素子において、一方
の基板１上に壁状スペーサ３が設けられており、この壁
状スペーサ３の頭頂部に凹部９が設けられている。そし
て、この凹部９内は負圧状態に保たれており、その負圧
と大気圧との圧力差によって生じる吸着力により、基板
１，５が互いに密着状態に固定されている。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、文字、図形等を表
示する表示装置、入射光の透過量が変化する調光装置、
光シャッター等に利用される液晶表示素子およびその製
造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来の液晶表示素子では、電極を有する
１対の基板間にガラスファイバー・ビーズや樹脂製ビー
ズを散布し、液晶を狭持するための基板間間隔を制御し
ている。しかし、ビーズ等の散布では、厳密な基板間間
隔の制御や、外圧に対する変形の抑制が困難である。そ
こで、フォトリソグラフィ等の方法を用いて、基板間に
柱状または壁状のスペーサを形成することが行われてい
る（例えば、特開平１０−１６１１２５号公報）。ま
た、このような壁状スペーサ（隔壁構造）を有する液晶
表示素子を用い、さらに液晶の再配向過程において温度
勾配を持たせた冷却方法を行うことによって、液晶（強
誘電性・反強誘電性液晶）の配向欠陥を抑制できること
が知られている（特開平７−３１８９１２号公報）。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】基板間隔の制御や、外
圧による変形の抑制のためには、基板と壁状スペーサと
が密着している必要がある。また、特開平７−３１８９
１２号公報のように、壁状スペーサを有する液晶表示素
子を用い、さらに液晶の再配向過程において温度勾配を
持たせた冷却方法を行うことによって、液晶（強誘電性
・反強誘電性液晶）の配向欠陥を抑制する場合において
も、基板と壁状スペーサが密着し直線状の空間が維持さ
れている必要がある。そこで、壁状スペーサと基板との
接着が行われている。

【０００４】壁状スペーサを有する液晶表示素子の製造
方法としては、図９に示すように、配向制御層２４を形
成した後、その配向制御層２４上に壁状スペーサ２３を
形成する方法と、図１０に示すように、壁状スペーサ２
３の形成後に配向制御層２４を形成する方法がある。

【０００５】配向制御層２４上に壁状スペーサ２３を形
成する場合、配向制御層２４と壁状スペーサ２３とを接
着することになる。例えば、特開平７−３１８９１２号
公報に開示されている実施例１では、一方の基板２１の
配向制御層２４上にリソグラフィーにより壁状スペーサ
２３を形成し、これを、他方の配向制御層２７を有する
基板２５と、大気圧中で機械的に圧接させながら加熱す
ることによって、接着を行っている。なお、基板２１，
２５にはそれぞれ電極２２，２６が設けられている。

【０００６】一方、配向制御層２４上に壁状スペーサ２
３を形成する場合、壁状スペーサ２３の形成時に配向制
御層２４がスペーサ材料等によって汚染されるという問
題が生じる。また、液晶２８が接触する面が配向制御層
２４，２７と壁状スペーサ２３の２種類となり、配向制
御層２４，２７によって制御しようとする液晶２８の配
向方向と、壁状スペーサ２３により導かれる配向方向が
異なる可能性があり、この場合、液晶２８のスイッチン
グ不良や配向不良あるいは長時間の経過に伴う経時的配
向変化等の問題が生じる。特開平７−３１８９１２号公
報においては、壁状スペーサ２３の内壁面に高分子有機
物膜を塗布し、直線状空間の内壁面を化学的に均一する
ことが望ましいと述べられているが、内壁面に高分子有
機物膜を塗布する方法については述べられていない。

【０００７】壁状スペーサ２３の形成後に配向制御層２
４を形成する場合、両基板２１，２５の配向制御層２
４，２７同士が接着される。しかし、配向制御層２４，
２７間の接着は、接着力と配向制御力の両立が極めて困
難である。すなわち、配向制御層２４，２７として通常
用いられるポリイミド等の有機薄膜同士を接着させるた
めには高温で加熱する必要があるが、有機薄膜からなる
配向制御層２４，２７を高温で加熱すると、ラビング処
理等によって与えられている配向制御力が消失してしま
う。また、二酸化シリコンの斜方蒸着等の無機薄膜を用
いて配向制御層２４，２７を形成する場合、あまり大型
化できないため液晶表示素子の大面積化の妨げとなる。

【０００８】そこで、特開平１０−１６１１２５号公報
では、壁状スペーサ２３となる感光性樹脂上に熱可塑性
樹脂２９および特定の溶媒に可溶な樹脂（図示せず）を
積層した後、パターニングして壁状スペーサ２３を形成
している。このとき、熱可塑性樹脂２９および特定の溶
媒に可溶な樹脂は、壁状スペーサ２３の頭頂部のみに存
在している。その後、壁状スペーサ２３および基板２１
上に配向制御層２４を形成する。それから、基板２１を
特定の溶媒に浸漬させ可溶性樹脂を剥離すると、可溶性
樹脂の剥離と同時に可溶性樹脂の上方に位置する配向制
御層２４が除去されて、図１１に示すように、壁状スペ
ーサ２３の頭頂部に熱可塑性樹脂２９が露出する。そこ
で、この熱可塑性樹脂２９によって他の基板２５との接
着が行われる。この方法によると、壁状スペーサ２３の
壁面にも配向制御層２４が存在するため配向特性がよ
く、しかも強い接着力つまり高い密着性を得ることがで
きる。しかし、この方法は複数回の樹脂の塗布工程およ
び剥離工程を含み、製造工程が煩雑である。

【０００９】また、図示しないが、特開平１１−１９４
３５０号公報には、配向制御層の材料と壁状スペーサの
材料を、配向制御層形成時に配向制御層材料が壁状スペ
ーサにはじかれるように選択し、壁状スペーサの形成さ
れている領域以外の領域のみに選択的に配向制御層を形
成する方法が開示されている。しかし、壁状スペーサの
頭頂部のみにおいて配向制御層が壁状スペーサにはじか
れる構成として、壁状スペーサの頭頂部のみにスペーサ
材料を露出させることは困難で、さらに材料選択の幅が
狭められてしまう。

【００１０】そこで、本発明の目的は、簡単な構成で、
壁状スペーサが基板に密着し、基板間隔が均一で厳密に
制御可能であり、外圧による変形に強く、高いコントラ
ストが得られる液晶表示素子と、このような液晶表示素
子を容易に製造できる方法とを提供することにある。

【００１１】

【課題を解決するための手段】本発明の特徴は、電極を
有する１対の基板間に液晶が狭持されている液晶表示素
子において、少なくとも一方の基板上に壁状スペーサが
設けられており、壁状スペーサの頭頂部に凹部が設けら
れているところにある。

【００１２】また、本発明のもう一つの特徴は、電極を
有する１対の基板間に液晶が狭持されている液晶表示素
子において、少なくとも一方の基板上に、実質的に平行
な少なくとも２つの壁状スペーサからなる多重スペーサ
ラインが設けられており、多重スペーサラインを構成す
る少なくとも２つの壁状スペーサ間に間隙が存在すると
ころにある。

【００１３】前者の構成における頭頂部に凹部を有する
壁状スペーサは、フォトマスクとしてグレイマスク（階
調を有するフォトマスク）を用いたフォトリソグラフィ
法によって形成することができる。つまり基板上にフォ
トレジストを塗布した後、所定のグレイマスクを施し、
光照射を行い、現像を行うことによって頭頂部に凹部を
有する壁状スペーサを作成できる。また、後者の構成に
おける多重スペーサラインを構成する壁状スペーサは、
通常のフォトリソグラフィの手法によって形成すること
ができる。また、フォトリソグラフィの代わりに高精細
の印刷手法等で形成することもできる。いずれにして
も、壁状スペーサは、従来から広く一般的に用いられて
いる技術を利用して形成することができる。

【００１４】前記した構成の液晶表示素子は、壁状スペ
ーサの凹部内、または多重スペーサラインを構成する壁
状スペーサ間の前記間隙内の気圧と大気圧との圧力差に
よって生じる吸着力により、１対の基板が互いに密着状
態に固定されている。例えば、頭頂部に凹部を有する壁
状スペーサまたは少なくとも２つの壁状スペーサからな
る多重スペーサライン上に配向制御層を有する透明電極
基板と、配向制御層を有する透明電極基板とを貼り合わ
せた状態で機械的にプレスし、それにより密着させた状
態で減圧器の中に入れる。そして、減圧を行い、減圧状
態で壁状スペーサの頭頂部の凹部または多重スペーサラ
インを構成する壁状スペーサ間の間隙を外部から密封
し、大気圧雰囲気中に戻す。すると、凹部または壁状ス
ペーサ間の間隙が負圧状態に維持され、それと大気圧と
の圧力差によって生じる吸着力により、１対の基板が互
いに密着状態で固定される。なお、この時、基板を加熱
することが密着性の面から好ましい。

【００１５】少なくとも２つの壁状スペーサにより多重
スペーサラインを構成する場合、壁状スペーサ間の間隔
が、１対の前記基板間の間隔以下であることが好まし
い。

【００１６】また、このような液晶表示素子では、１対
の基板間の密着と液晶注入を同時に行うことが容易とな
る。頭頂部に凹部を有する壁状スペーサまたは多重スペ
ーサラインを有する基板を、もう一つの基板と重ね合わ
せて機械的にプレスし、液晶を真空注入すると、液晶は
電極間に優先的に浸透していき、壁状スペーサの凹部あ
るいは多重スペーサラインを構成する壁状スペーサ間の
間隙には、ほとんど浸透していかない。したがって、液
晶を注入した後、液晶表示素子を大気圧に戻した時に、
外部の大気圧と、壁状スペーサの凹部あるいは壁状スペ
ーサ間の間隙との圧力差によって、１対の基板を密着状
態に固定することができる。

【００１７】狭持される液晶として、強誘電性液晶ある
いは反強誘電性液晶等のスメクチック相を有する液晶を
用いた場合、スメクチック相を有する液晶の欠点とされ
る対衝撃性や配向性を著しく改善することができる。

【００１８】なお、壁状スペーサが基板の電極形成位置
以外の位置に配置されていることが、液晶表示素子の開
口率の面から好ましい。

【００１９】また、壁状スペーサの表面に配向制御層が
設けられていると、液晶の均一な配向を得るために効果
的である。

【００２０】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態を図面を
参照して説明する。

【００２１】（第１の実施形態）図１は本発明の第１の
実施形態の液晶表示素子を示している。この液晶表示素
子の構成について以下に説明する。

【００２２】透明な電極２を有する透明な基板１上に、
壁状スペーサ３が形成され、さらにその上にポリイミド
からなる配向制御層４が形成されている。これに対し、
透明な電極６を有しポリイミドからなる配向制御層７が
形成されているもう一つの基板５が、互いに配向制御層
４，７同士が対向するように重ね合わされて固定されて
いる。両基板１，５間（両配向制御層４，７間）には液
晶８が封入されている。両配向制御層４，７は、ラビン
グにより同一方向に配向処理が施されている。この液晶
表示装置において、壁状スペーサ３の頭頂部（もう一つ
の基板５と接する先端部）に、凹部９が形成されてい
る。この凹部９は、もう一つの基板５の配向制御層７に
塞がれ、端部は接着材１２（図４，５参照）に封止され
て密封状態にあり、内部は負圧に保たれている。両基板
１，５（両配向制御層４，７）は、接着剤による接着
や、加熱処理が行われておらず、凹部９内の負圧に起因
する吸着力により、互いに固定されている。

【００２３】次に、この液晶表示装置の製造方法につい
て、図２〜５を参照して説明する。

【００２４】まず、透明な電極２を有する透明な基板１
上に、フォトレジスト１０を塗布する（図２（ａ）参
照）。このフォトレジスト１０上にグレイマスク１１を
置く（図２（ｂ）参照）。このグレイマスク１１は、図
２（ｂ）には模式的に示しているが、電極２の部分をマ
スクして壁状スペーサ３を形成すべき部分をマスクせ
ず、ただし、マスクしない部分の中央が僅かに薄い階調
を有するマスクである。それから、フォトレジスト１１
が塗布された基板１に光照射を行った後、未硬化部分を
溶媒で除去し、中央部に凹部９を有する壁状スペーサ３
を形成する（図２（ｃ）参照）。この壁状スペーサ３を
有する基板１に、ポリイミドからなる配向制御層４を塗
布形成し、壁状スペーサ３と平行にラビング処理を行う
（図２（ｄ）参照）。

【００２５】一方、もう一枚の透明な電極６を有する透
明な基板５に、ポリイミドからなる配向制御層７を塗布
形成し、壁状スペーサ３を有する基板１の配向制御層４
と同一方向となるようにラビング処理を行う（図３参
照）。

【００２６】それから、両基板１，５を、互いに配向制
御層４，７同士が対向するように重ね合わせて貼り合わ
せる（図４参照）。具体的には、図示しないが、この素
子を加圧治具に挟み込み機械的に加圧した状態で、減圧
器に入れ減圧を行う。減圧雰囲気内で、図４，５に模式
的に示すように、壁状スペーサ３の端部で開放されてい
る凹部９を接着剤１２で塞ぎ、壁状スペーサ３を基板５
に密着させたまま減圧器外（大気中）に取り出す。こう
すると、凹部９内は減圧雰囲気に保持されたまま、液晶
表示素子が大気中に存在するため、凹部９内が外気圧に
比べて負圧状態となり、吸引力が発生する。この吸引力
により、両基板１，５が互いに引き付け合って、固定さ
れる。その後、両基板１，５間でシール１７により区画
された領域内に強誘電性液晶８を真空注入し、図示しな
いが、液晶８を注入した部分を接着剤で塞ぐ。この真空
注入時の気圧は、基板密着時の気圧よりも高くし、基板
１，５の剥がれを防ぐ。このようにして、図１に示す液
晶表示素子が製造される。

【００２７】なお、この液晶表示素子を液晶材料の等方
相温度まで加熱し、それから１℃／minで室温まで徐冷
したところ、光漏れのない均一な配向を得ることができ
た。さらに、この液晶表示素子は、衝撃にも強いもので
あった。

【００２８】（第２の実施形態）図６は本発明の第２の
実施形態の液晶表示素子を示している。第１の実施例と
同様の構成については、同一の符号を付与し、説明を省
略する。

【００２９】本実施形態の液晶表示素子は、隣接する２
本の壁状スペーサ１３を対として構成された二重スペー
サライン１４を有している。すなわち、第１の実施形態
のように凹部９は有しておらず比較的薄い壁状スペーサ
１３が２つ微小な間隔をおいて実質的に平行に形成され
て二重スペーサライン１４が構成されている。スペーサ
以外の部分については第１の実施形態と同様な構成であ
る。

【００３０】図７に要部を示す本実施形態の製造方法
は、第１の実施形態と同様であり、両基板１，５を、互
いに配向制御層４，７同士が対向するように重ね合わせ
て貼り合わせるために、この素子を加圧治具に挟み込み
機械的に加圧した状態で、反強誘電性の液晶１５を真空
注入する。図８に示すように、液晶１５は、シール１７
にて区画された領域に浸透する。このとき、二重スペー
サライン１４を構成する１対の壁状スペーサ１３間の間
隙１６には、ごく僅かな量の液晶１５が浸入する。この
浸入した少量の液晶１５が、壁状スペーサ１３の両端部
で開放されている間隙１６を塞ぐ。なお、前記の通り、
液晶１５は狭い間隙１６内へはごく少量しか浸透してい
かないので、間隙１６内が液晶１５で満たされることは
ないが、間隙１６の両端部を封止することは可能であ
る。その後、液晶１５の注入口１８を接着剤で塞ぐ。

【００３１】液晶表示素子を大気圧に戻すと、二重スペ
ーサライン１４をなす１対の壁状スペーサ１３間の間隙
１６内は、少量の液晶１５に封止されて減圧雰囲気に保
持されたまま、液晶表示素子は大気中に存在するため、
間隙１６内が外気圧に比べて負圧状態となり、吸引力が
発生する。この吸引力により、両基板１，５が互いに引
き付け合って、固定される。このようにして、図６に示
す液晶表示素子が製造される。

【００３２】２つの壁状スペーサ１３により二重スペー
サライン１４を構成する場合、壁状スペーサ１３間の間
隔が、１対の基板１，５間の間隔以下であると、圧力差
による吸引効果をより強く発揮できるので好ましい。

【００３３】なお、本実施形態では、２つの壁状スペー
サ１３により二重スペーサライン１４を構成している
が、３つ以上の壁状スペーサラインにより多重（三重以
上の）スペーサラインを構成してもよい。

【００３４】こうして製造した液晶表示素子は、隣接し
た壁状スペーサ１３間の間隙１６に液晶１５がほとんど
浸透しておらず、加圧治具をはずした後も両基板１，５
は密着したままであった。この液晶表示素子を、第１の
実施形態と同様に加熱・徐冷したところ、光漏れのない
均一な配向を得ることができた。さらにこの液晶表示素
子は、衝撃にも強いものであった。

【００３５】（実施形態３）本実施形態では、図示しな
いが、第２の実施形態と実質的に同様な構成の液晶表示
素子において、配向制御層４，７への配向処理をラビン
グ処理ではなく光配向処理を行った。すなわち、第２の
実施形態と同様に、図７（ａ）に示すように、隣接した
壁状スペーサ１３からなる二重スペーサライン１４を有
する基板１を作成した後、図７（ｂ）に示すように、ポ
リイミドからなる配向制御層４を塗布形成し、偏向紫外
線光を照射し、光配向処理を行う。もう一方の基板５に
も配向制御層７を塗布形成して同様に光配向処理を行
い、両基板１，５を重ね合わせる。その後、第２の実施
形態と同様に、機械的加圧および液晶の真空注入を経て
液晶表示素子を製造する。こうして製造した液晶表示素
子を、第１の実施形態と同様に加熱・徐冷したところ、
光漏れのない均一な配向を得ることができた。さらにこ
の液晶表示素子は、衝撃にも強いものであった。

【００３６】なお、第１の実施形態と同様に頭頂部に凹
部９を有する壁状スペーサ３を備えた構成の液晶表示素
子において、配向制御層にラビング処理ではなく光配向
処理を施しても、同様な効果が得られる。

【００３７】次に、図示しないが、前記した本発明の各
実施形態と対比するための比較例について説明する。

【００３８】（第１の比較例）透明電極を有する透明基
板にフォトレジストを塗布した。このフォトレジスト上
に所定のフォトマスク（第１の実施形態で用いたグレイ
マスクとは異なり階調のないもの）を置き、光照射を行
った後、未硬化部分を溶媒で除去し、電極間に１本の壁
状スペーサ（第１の実施形態のような凹部のないもの）
を形成した。その後、第１〜３の実施形態と同様に、壁
状スペーサ基板およびもう一方の基板に配向制御層を形
成して配向処理を行った。両基板を貼り合わせ機械的に
加圧し、１５０℃で２時間加熱を行った。このようにし
て製造した液晶表示素子では、壁状スペーサともう一方
の基板とは密着していなかった。

【００３９】（第２の比較例）第１の比較例と同様に両
基板を作成し、貼り合わせ時の加熱温度を２２０℃とし
た。その他の工程は第１の実施形態と同様にして製造し
た液晶表示素子では、壁状スペーサはもう一方の基板に
密着したが、強誘電性電性液晶を真空注入し、液晶材料
の等方相温度に加熱してから１℃／minで室温まで徐冷
したところ、液晶は配向していなかった。

【００４０】前記した第１の実施形態では、基板１，５
間に狭持される液晶として強誘電性液晶８を用い、第２
の実施形態では反強誘電性液晶１５を用いているが、液
晶の種類について限定されるものではない。ただし、強
誘電性液晶８あるいは反強誘電性液晶１５等のスメクチ
ック相を有する液晶材料を用いる場合、スメクチック相
を有する液晶の欠点とされる対衝撃性や配向性を著しく
改善することができるため、本発明の構成は特に効果的
である。

【００４１】本発明の液晶表示素子は、電極２，６を有
する１対の基板１，５間に液晶８，１５が挟持されてい
る構造であり、両方の基板１，５が透明である光透過型
のみならず、いずれか一方の基板が不透明な光反射型の
液晶表示素子にも適用できる。例えば、液晶材料を透明
な基板と光反射板間に挟持した素子構造、電極を有する
透明な基板と電極を有する光吸収板間に挟持した素子構
造等がある。前者の場合、光反射板は光を反射する材料
で構成されていれば無機材料でも有機材料でも構わな
い。また反射強度または反射波長は目的とする素子特性
により任意に変更できる。その構造は光反射材料が光反
射板全体を形成しているものであってもよいし、光反射
材料がガラス等の別の材質による基板上にコーティング
されていてもよい。光反射材料をコーティングした場
合、光反射材料が液晶層側にある必要はない。また光反
射材料をコーティングする基板は光反射材料が調光層側
に位置していない場合は必ずしも透明である必要はな
い。後者の場合、光吸収板は光を吸収する材料で構成さ
れていれば無機材料でも有機材料でも構わない。吸収強
度または吸収波長は目的とする素子特性により任意に変
更できる。その構造は光吸収材料が光吸収板全体を形成
しているものであってもよいし、光吸収材料がガラス等
の異なる材質の基板上にコーティングされていてもよ
い。光吸収材料をコーティングした場合、光吸収材料が
液晶層側にある必要はない。また光吸収材料をコーティ
ングする基板は光吸収材料が液晶層側に位置していない
場合は必ずしも透明である必要はない。

【００４２】液晶表示素子の構成としては、従来の技術
が適用できる。電極２，６としてはインジウム−スズ−
オキサイド（ＩＴＯ）等が利用できるが、ポリピロール
等の有機導電性薄膜も利用できる。また、使用する基板
１，５自身が導電性を有している場合は、基板１，５を
電極２，６としても利用することもできる。前記した光
反射材料または光吸収材料が導電性を有している場合に
は、これらを電極２，６としても利用することができ
る。電極２，６は調光層と密着した状態で設置される。

【００４３】配向制御層４，７としては、ポリイミドが
溶剤に溶け込んでいる可溶性タイプのポリイミドや焼成
してポリイミド化する焼成タイプのポリイミド、あるい
はナイロン等が利用できる。配向処理としては、前記し
たとおり、配向制御層４，７を布で擦るラビング処理や
偏向紫外線光の照射によって行われる光配向処理を利用
できる。また、本発明に用いられる基板１，５の材質
は、ガラス、プラスチック、金属等である。また、カラ
ーフィルターを有する基板１，５を用いたり、顔料や色
素等を基板中に分散させることによって、カラー化する
ことができる。基板１，５は電極２，６が調光層側にな
るように設置する。

【００４４】本発明の液晶表示素子は、薄層トランジス
タ（ＴＦＴ）素子、メタル−インシュレーター−メタル
（ＭＩＭ）素子などの能動素子と組み合わせて用いるこ
とも可能であり、用途に応じて単純マトリックスで駆動
させることもできる。

【００４５】

【発明の効果】本発明によると、液晶表示素子の基板間
隔が均一で厳密に制御可能であり、外圧による変形に強
く、高いコントラストが得られる。しかも、構成が簡単
で、製造が容易である。

【００４６】１対の基板間に設けられる壁状スペーサの
頭頂部に凹部を形成する場合、フォトマスクとしてグレ
イマスク（階調を有するフォトマスク）を用いたフォト
リソグラフィ法によって形成することができる。また、
１対の基板間に実質的に平行な複数の壁状スペーサから
なる多重スペーサラインを形成する場合、通常のフォト
リソグラフィ法によって形成することができる。また、
フォトリソグラフィ法の代わりに高精細の印刷手法等で
形成することもできる。いずれにしても、従来から用い
られている容易な方法で形成可能である。そして、これ
らの壁状スペーサ上に配向制御層を設けることにより、
高い配向特性を保つことができる。

【００４７】なお、壁状スペーサが基板の電極形成位置
以外の位置に配置されていることが、液晶表示素子の開
口率の面から好ましい。

【００４８】また、壁状スペーサの表面に配向制御層が
設けられていると、液晶の均一な配向を得るために効果
的である。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１の実施形態の液晶表示素子の構成
を示す断面図である。

【図２】第１の実施形態の液晶表示素子の一方の基板の
製造工程を示す断面図である。

【図３】第１の実施形態の液晶表示素子の他方の基板の
製造工程を示す断面図である。

【図４】第１の実施形態の液晶表示素子の両基板の貼り
合わせ工程を示す断面図である。

【図５】第１の実施形態の液晶表示素子の凹部封止工程
を示す模式図である。

【図６】本発明の第２の実施形態の液晶表示素子の構成
を示す断面図である。

【図７】第２の実施形態の液晶表示素子の一方の基板の
製造工程を示す断面図である。

【図８】第２の実施形態の液晶表示素子の液晶注入およ
び間隙封止工程を示す模式図である。

【図９】第１の従来例の液晶表示素子の構成を示す断面
図である。

【図１０】第２の従来例の液晶表示素子の構成を示す断
面図である。

【図１１】第３の従来例の液晶表示素子の構成を示す断
面図である。

【符号の説明】

１ 基板 ２ 電極 ３ 壁状スペーサ ４ 配向制御層 ５ 基板 ６ 電極 ７ 配向制御層 ８ 液晶 ９ 凹部 １０ フォトレジスト １１ グレイマスク １２ 接着剤 １３ 壁状スペーサ １４ 二重スペーサライン（多重スペーサライン） １５ 液晶 １６ 間隙 １７ シール １８ 注入口

フロントページの続き Ｆターム(参考） 2H089 LA13 LA42 LA47 NA25 NA30 NA49 PA08 QA03 QA14 QA15 RA13 RA14 TA04 2H090 HB08Y JA03 JC03 KA14 KA15 LA02 LA03 MB01 MB14 5C094 AA03 AA06 AA31 BA03 BA49 CA19 EC03 EC04 5G435 AA02 AA07 BB12

Claims (14)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 電極を有する１対の基板間に液晶が狭持
   されている液晶表示素子において、 少なくとも一方の前記基板上に壁状スペーサが設けられ
   ており、前記壁状スペーサの頭頂部に凹部が設けられて
   いることを特徴とする液晶表示素子。
2. 【請求項２】 前記壁状スペーサの前記凹部内の気圧と
   大気圧との圧力差によって生じる吸着力により、１対の
   前記基板が互いに固定されている、請求項１に記載の液
   晶表示素子。
3. 【請求項３】 電極を有する１対の基板間に液晶が狭持
   されている液晶表示素子において、 少なくとも一方の前記基板上に、実質的に平行な少なく
   とも２つの壁状スペーサからなる多重スペーサラインが
   設けられており、前記多重スペーサラインを構成する前
   記少なくとも２つの壁状スペーサ間に間隙が存在するこ
   とを特徴とする液晶表示素子。
4. 【請求項４】 前記多重スペーサラインを構成する前記
   壁状スペーサ間の前記間隙内の気圧と大気圧との圧力差
   によって生じる吸着力により、１対の前記基板が互いに
   固定されている、請求項３に記載の液晶表示素子。
5. 【請求項５】 前記多重スペーサラインを構成する前記
   壁状スペーサ間の間隔が、１対の前記基板間の間隔以下
   である、請求項３または４に記載の液晶表示素子。
6. 【請求項６】 前記壁状スペーサが、前記基板の前記電
   極形成位置以外の位置に配置されている、請求項１〜５
   のいずれか１項に記載の液晶表示素子。
7. 【請求項７】 前記壁状スペーサの表面に配向制御層が
   設けられている、請求項１〜６のいずれか１項に記載の
   液晶表示素子。
8. 【請求項８】 １対の前記基板間に狭持される前記液晶
   が、強誘電性液晶または反強誘電性液晶などのスメクチ
   ック相を有する液晶である、請求項１〜７のいずれか１
   項に記載の液晶表示素子。
9. 【請求項９】 電極を有する１対の基板間に液晶を狭持
   させる液晶表示素子の製造方法において、 少なくとも一方の前記基板上に、頭頂部に凹部を有する
   壁状スペーサを形成し、前記壁状スペーサの表面に配向
   制御層を形成することを特徴とする液晶表示素子の製造
   方法。
10. 【請求項１０】 前記壁状スペーサの前記凹部内の気圧
    と大気圧との圧力差によって生じる吸着力により、１対
    の前記基板を互いに固定させている、請求項９に記載の
    液晶表示素子の製造方法。
11. 【請求項１１】 １対の前記基板を重ね合わせた状態で
    減圧雰囲気中に入れて、前記凹部が外部に開放されてい
    る部分を封止した後、大気圧雰囲気中に戻すことによ
    り、前記凹部内を負圧状態に維持する、請求項１０に記
    載の液晶表示素子の製造方法。
12. 【請求項１２】 電極を有する１対の基板間に液晶材料
    を狭持させる液晶表示素子の製造方法において、 少なくとも一方の前記基板上に、実質的に平行な少なく
    とも２つの壁状スペーサからなる多重スペーサラインを
    形成し、前記壁状スペーサの表面に配向制御層を形成す
    ることを特徴とする液晶表示素子の製造方法。
13. 【請求項１３】 前記多重スペーサラインを構成する前
    記少なくとも２つの壁状スペーサ間の間隙内の気圧と大
    気圧との圧力差によって生じる吸着力により、１対の前
    記基板を互いに固定させている、請求項１２に記載の液
    晶表示素子の製造方法。
14. 【請求項１４】 １対の前記基板を重ね合わせた状態で
    減圧雰囲気中に入れて、前記間隙が外部に開放されてい
    る部分を封止した後、大気圧雰囲気中に戻すことによ
    り、前記間隙内を負圧状態に維持する、請求項１３に記
    載の液晶表示素子の製造方法。