JP2001272570A - 光ファイバアレイ - Google Patents
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 光ファイバー等の光伝送部材を所定位置に固
定する光ファイバアレイにおいて、各光伝送部材を溝中
に半田を使用して確実に固定できるようにし、光伝送部
材と溝との間に空隙が生じにくい光ファイバアレイを提
供する。 【解決手段】 メタライズ層を形成されていない光ファ
イバ2の芯線2bを、断面をV字状に形成した固定用溝
7に収容し、メタライズ層を各々形成した支持基板3の
保持部3bと上基板4とにより半田8を充填して固定さ
れている。メタライズ層3cを形成する支持基板3とメ
タライズ層4aを形成する上基板4とは、半田8が各々
のメタライズ層に沿って濡れているので半田との接合に
より固定されるとともに、その間に挟持される光ファイ
バ2は、メタライズ層が無く半田との接合力が無く上下
の両面からの挟持力により確実に固定される。
定する光ファイバアレイにおいて、各光伝送部材を溝中
に半田を使用して確実に固定できるようにし、光伝送部
材と溝との間に空隙が生じにくい光ファイバアレイを提
供する。 【解決手段】 メタライズ層を形成されていない光ファ
イバ2の芯線2bを、断面をV字状に形成した固定用溝
7に収容し、メタライズ層を各々形成した支持基板3の
保持部3bと上基板4とにより半田8を充填して固定さ
れている。メタライズ層3cを形成する支持基板3とメ
タライズ層4aを形成する上基板4とは、半田8が各々
のメタライズ層に沿って濡れているので半田との接合に
より固定されるとともに、その間に挟持される光ファイ
バ2は、メタライズ層が無く半田との接合力が無く上下
の両面からの挟持力により確実に固定される。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、光ファイバ等の光伝送
部材を所定位置に保持するための光ファイバアレイに関
するものであって、特に光伝送部材保持装置のパッケー
ジ内に、光学伝送部材と接続した光学素子とともに気密
封止される光ファイバアレイに関するものである。
部材を所定位置に保持するための光ファイバアレイに関
するものであって、特に光伝送部材保持装置のパッケー
ジ内に、光学伝送部材と接続した光学素子とともに気密
封止される光ファイバアレイに関するものである。
【0002】
【従来の技術】光伝送部材である光ファイバを所定位置
に固定し他の部材と接続するための光ファイバアレイと
しては、V溝等の固定用溝を複数列に形成した支持基板
を利用したものが知られている。支持基板に、リボン状
被覆を取り除いた裸線を各々固定用溝に収容して整列さ
せた光ファイバを上基板で保持し固定した後、この光フ
ァイバアレイを他の光学部品に、例えば発光ダイオード
又は受光素子に対して結合させたり、又は他の光ファイ
バやロッドレンズに対して光学的に結合させている。そ
の固定用溝の形成方法としては、支持基板の材質に適す
るようにシリコン基板にはエッチング法が実施され、光
学ガラス基板やセラミックス基板には研削法が実施され
ている。
に固定し他の部材と接続するための光ファイバアレイと
しては、V溝等の固定用溝を複数列に形成した支持基板
を利用したものが知られている。支持基板に、リボン状
被覆を取り除いた裸線を各々固定用溝に収容して整列さ
せた光ファイバを上基板で保持し固定した後、この光フ
ァイバアレイを他の光学部品に、例えば発光ダイオード
又は受光素子に対して結合させたり、又は他の光ファイ
バやロッドレンズに対して光学的に結合させている。そ
の固定用溝の形成方法としては、支持基板の材質に適す
るようにシリコン基板にはエッチング法が実施され、光
学ガラス基板やセラミックス基板には研削法が実施され
ている。
【0003】そして、いずれの材質の基板においても、
支持基板と上基板とで固定した光ファイバの光軸が所定
位置からずれると、光ファイバと他の光伝送手段との間
での伝送損失が大きくなる。従って、光ファイバ支持基
板における固定用溝の加工精度としては、例えば0.5
μm以下といった、きわめて高い加工精度が要求されて
いる。そのため、支持基板と上基板とを固定する手段
は、光ファイバをV溝中に樹脂系接着材で固定する手段
が実施されてきた。また、樹脂系接着材から発生する有
機ガスが発光ダイオードの発光界面に対し付着して発光
特性が劣化することを回避するために、光ファイバをV
溝中に半田により固定する手段に改良された。更に、光
ファイバの直径は125μm程度であり、V溝と光ファ
イバとの極めて小さい間隙のV溝中へ、支持基板の末端
面から半田を流入させると、V溝と光ファイバとの間隙
に半田を流入していない空隙が発生し易いために、光伝
送部材を溝に収容して溝及び光伝送部材上に半田シート
を設置し、この半田シートを溝の方へと向かって上基板
を介して加圧しながら加熱することによって、溝と光伝
送部材との間隙に半田を流入させて充填する手段に改良
された。
支持基板と上基板とで固定した光ファイバの光軸が所定
位置からずれると、光ファイバと他の光伝送手段との間
での伝送損失が大きくなる。従って、光ファイバ支持基
板における固定用溝の加工精度としては、例えば0.5
μm以下といった、きわめて高い加工精度が要求されて
いる。そのため、支持基板と上基板とを固定する手段
は、光ファイバをV溝中に樹脂系接着材で固定する手段
が実施されてきた。また、樹脂系接着材から発生する有
機ガスが発光ダイオードの発光界面に対し付着して発光
特性が劣化することを回避するために、光ファイバをV
溝中に半田により固定する手段に改良された。更に、光
ファイバの直径は125μm程度であり、V溝と光ファ
イバとの極めて小さい間隙のV溝中へ、支持基板の末端
面から半田を流入させると、V溝と光ファイバとの間隙
に半田を流入していない空隙が発生し易いために、光伝
送部材を溝に収容して溝及び光伝送部材上に半田シート
を設置し、この半田シートを溝の方へと向かって上基板
を介して加圧しながら加熱することによって、溝と光伝
送部材との間隙に半田を流入させて充填する手段に改良
された。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかし、半田シートに
より支持基板と上基板とを固定した光ファイバアレイで
あっても、半田が、メタライズ層を形成している光ファ
イバの円周方向へ濡れて充填していくより長手方向へ濡
れていく方が早いため、急激に上基板を押し下げた特殊
な場合など、固定用溝内に半田が十分に充填されずに残
留した空隙が溝に沿って長く延びると、溝内の空隙を伝
わって不活性ガスが漏れだし、レーザー等の光学素子の
劣化を防止するパッケージ又はケースの気密性を保持す
ることができないおそれがあった。つまり、前記のよう
な光ファイバアレイを収容したパッケージ等は屋外の過
酷な環境下に置かれることが多く、60℃の高温から−
40℃もの低温にさらされたり、砂漠環境から高湿環境
にさらされたりするので、こうした過酷な周囲環境下で
長期間安定して動作しなければならない。そのため、前
記のように溝中の半田に空隙が残留していると、この空
隙内に残留する空気が膨張と収縮とを繰り返して周囲の
半田を動かすことや、空隙の中に湿気が侵入したするこ
とがあり、この影響で光ファイバの固定位置が僅かでも
変動することがあった。そして、光ファイバの固定位置
が変動すると、たとえ変動の大きさが僅かであっても、
その光軸が光学素子の光軸とずれるために結合損失の増
大又は変動がある。
より支持基板と上基板とを固定した光ファイバアレイで
あっても、半田が、メタライズ層を形成している光ファ
イバの円周方向へ濡れて充填していくより長手方向へ濡
れていく方が早いため、急激に上基板を押し下げた特殊
な場合など、固定用溝内に半田が十分に充填されずに残
留した空隙が溝に沿って長く延びると、溝内の空隙を伝
わって不活性ガスが漏れだし、レーザー等の光学素子の
劣化を防止するパッケージ又はケースの気密性を保持す
ることができないおそれがあった。つまり、前記のよう
な光ファイバアレイを収容したパッケージ等は屋外の過
酷な環境下に置かれることが多く、60℃の高温から−
40℃もの低温にさらされたり、砂漠環境から高湿環境
にさらされたりするので、こうした過酷な周囲環境下で
長期間安定して動作しなければならない。そのため、前
記のように溝中の半田に空隙が残留していると、この空
隙内に残留する空気が膨張と収縮とを繰り返して周囲の
半田を動かすことや、空隙の中に湿気が侵入したするこ
とがあり、この影響で光ファイバの固定位置が僅かでも
変動することがあった。そして、光ファイバの固定位置
が変動すると、たとえ変動の大きさが僅かであっても、
その光軸が光学素子の光軸とずれるために結合損失の増
大又は変動がある。
【0005】
【課題を解決するための手段】そこで、本発明の課題
は、光ファイバ等の光伝送部材を所定位置に固定するた
めの光ファイバアレイにおいて、各光伝送部材を溝中に
半田を使用して確実に固定できるようにし、この際光伝
送部材と溝との間に空隙が生じにくいようにすることで
ある。請求項1に係る本発明は、固定用溝に光伝送部材
を収容する支持基板と該光伝送部材を保持する上基板と
を有し、光伝送部材光ファイバアレイのパッケージに、
光学伝送部材と接続した光学素子とともに気密封止され
る光ファイバアレイにおいて、メタライズ層を形成され
ていない光伝送部材を、メタライズ層を形成された支持
基板の固定用溝に収容し、メタライズ層を形成されてい
る上基板により半田固定されていることを特徴とする光
ファイバアレイである。これにより、メタライズ層を形
成された支持基板とメタライズ層を形成されている上基
板とは、半田がメタライズ層に沿って濡れているので半
田との接合により固定されるとともに、その間に挟持さ
れる光伝送部材は、メタライズ層が無く半田との接合力
が無く両面からの挟持力により固定される。一方、光伝
送部材の外周面を包囲する半田は、光伝送部材光に対す
る濡れ性が小さくて接合力は無いので光伝送部材に沿っ
て濡れていく前に、支持基板と上基板との挟持力により
押圧されて円周方向に動き固定用溝の内側に充填されて
いく。したがって、光伝送部材と溝との間に空隙が生じ
ることが無いので、レーザー等の光学素子の劣化を防止
するパッケージ又はケースの気密性を確実に保持でき
た。また、光ファイバの整列位置も固定できたので、従
来のように、光ファイバの光軸が光学素子の光軸とずれ
るために結合損失の増大又は変動を生じることが皆無に
なった。なお、光伝送部材は、光ファイバが好ましく、
ロッドレンズ等の受動的な光伝送部材であって良い。光
伝送部材と光学的に結合される光学素子には特に限定は
ないが、レーザー光を発振するレーザー発光素子や、レ
ーザー光を受光する受光素子が好ましい。
は、光ファイバ等の光伝送部材を所定位置に固定するた
めの光ファイバアレイにおいて、各光伝送部材を溝中に
半田を使用して確実に固定できるようにし、この際光伝
送部材と溝との間に空隙が生じにくいようにすることで
ある。請求項1に係る本発明は、固定用溝に光伝送部材
を収容する支持基板と該光伝送部材を保持する上基板と
を有し、光伝送部材光ファイバアレイのパッケージに、
光学伝送部材と接続した光学素子とともに気密封止され
る光ファイバアレイにおいて、メタライズ層を形成され
ていない光伝送部材を、メタライズ層を形成された支持
基板の固定用溝に収容し、メタライズ層を形成されてい
る上基板により半田固定されていることを特徴とする光
ファイバアレイである。これにより、メタライズ層を形
成された支持基板とメタライズ層を形成されている上基
板とは、半田がメタライズ層に沿って濡れているので半
田との接合により固定されるとともに、その間に挟持さ
れる光伝送部材は、メタライズ層が無く半田との接合力
が無く両面からの挟持力により固定される。一方、光伝
送部材の外周面を包囲する半田は、光伝送部材光に対す
る濡れ性が小さくて接合力は無いので光伝送部材に沿っ
て濡れていく前に、支持基板と上基板との挟持力により
押圧されて円周方向に動き固定用溝の内側に充填されて
いく。したがって、光伝送部材と溝との間に空隙が生じ
ることが無いので、レーザー等の光学素子の劣化を防止
するパッケージ又はケースの気密性を確実に保持でき
た。また、光ファイバの整列位置も固定できたので、従
来のように、光ファイバの光軸が光学素子の光軸とずれ
るために結合損失の増大又は変動を生じることが皆無に
なった。なお、光伝送部材は、光ファイバが好ましく、
ロッドレンズ等の受動的な光伝送部材であって良い。光
伝送部材と光学的に結合される光学素子には特に限定は
ないが、レーザー光を発振するレーザー発光素子や、レ
ーザー光を受光する受光素子が好ましい。
【0006】また、メタライズ層を形成されていない光
伝送部材の表面粗さRaは、0.1〜1μmである光フ
ァイバアレイが好適である。これにより、表面粗さが
0.1より小さいと、経年変化で接合力が弱まり光ファ
イバの固定位置がずれるから、光学素子の光軸ともずれ
て結合損失の増大又は変動を生じるおそれがある一方、
表面粗さが1より大きいと、半田の濡れ性が大きくなり
長手方向への移動が円周方向への充填より早くなって充
填されなかった空隙で気密性が劣る可能性がある。
伝送部材の表面粗さRaは、0.1〜1μmである光フ
ァイバアレイが好適である。これにより、表面粗さが
0.1より小さいと、経年変化で接合力が弱まり光ファ
イバの固定位置がずれるから、光学素子の光軸ともずれ
て結合損失の増大又は変動を生じるおそれがある一方、
表面粗さが1より大きいと、半田の濡れ性が大きくなり
長手方向への移動が円周方向への充填より早くなって充
填されなかった空隙で気密性が劣る可能性がある。
【0007】
【発明の実施の形態】以下、本発明に係る実施の形態を
図面に従って説明する。図1(a)は、本発明に係る光
ファイバアレイを概略的に示す正面図であり、図1
(b)は(a)の平面図であり、図1(c)は(a)の
左側面図である。図2は光ファイバ付近の断面図であ
り、図3は、光ファイバアレイを製造する1工程を示す
説明図である。なお、光ファイバ径や各種層の厚みは小
さい又は薄いので誇張して図示している部分がある。こ
の光ファイバアレイ1は、光ファイバ2を載置した支持
基板3に対し、光ファイバ2の被覆部2aと光ファイバ
2の被覆部2aを除いた芯線2bとを各々挟持する被覆
蓋部5と上基板4とを備えている。まず支持基板3に
は、光ファイバ2の被覆部2aを載置するための被覆載
置部3aと、被覆部2aの厚み分の段差を有する保持部
3bとを備える一方、被覆蓋部5の下面は溝部を形成
し、被覆載置部3aの光ファイバ2を覆うようにして被
覆部2aを固定するとともに、支持基板3の保持部3b
には所定列数の固定用溝7が、それぞれ保持部3bの端
面6から被覆載置部3aへと向かって形成され、各溝7
の中にそれぞれ光ファイバ2の芯線2bを収容して本発
明に従って半田8で上基板4と固定されている。
図面に従って説明する。図1(a)は、本発明に係る光
ファイバアレイを概略的に示す正面図であり、図1
(b)は(a)の平面図であり、図1(c)は(a)の
左側面図である。図2は光ファイバ付近の断面図であ
り、図3は、光ファイバアレイを製造する1工程を示す
説明図である。なお、光ファイバ径や各種層の厚みは小
さい又は薄いので誇張して図示している部分がある。こ
の光ファイバアレイ1は、光ファイバ2を載置した支持
基板3に対し、光ファイバ2の被覆部2aと光ファイバ
2の被覆部2aを除いた芯線2bとを各々挟持する被覆
蓋部5と上基板4とを備えている。まず支持基板3に
は、光ファイバ2の被覆部2aを載置するための被覆載
置部3aと、被覆部2aの厚み分の段差を有する保持部
3bとを備える一方、被覆蓋部5の下面は溝部を形成
し、被覆載置部3aの光ファイバ2を覆うようにして被
覆部2aを固定するとともに、支持基板3の保持部3b
には所定列数の固定用溝7が、それぞれ保持部3bの端
面6から被覆載置部3aへと向かって形成され、各溝7
の中にそれぞれ光ファイバ2の芯線2bを収容して本発
明に従って半田8で上基板4と固定されている。
【0008】光ファイバ付近の保持部3b及び上基板4
の断面図である図2に示すように、メタライズ層を形成
されていない光ファイバ2の芯線2bを、断面をV字状
に形成した固定用溝7に収容し、メタライズ層を各々形
成した支持基板3の保持部3bと上基板4とにより半田
8を充填して固定されている。これにより、メタライズ
層3cを形成する支持基板3とメタライズ層4aを形成
する上基板4とは、半田8が各々のメタライズ層に沿っ
て濡れているので半田との接合により固定されるととも
に、その間に挟持される光ファイバ2は、メタライズ層
が無く半田との接合力が無く上下の両面からの挟持力に
より確実に固定されている。
の断面図である図2に示すように、メタライズ層を形成
されていない光ファイバ2の芯線2bを、断面をV字状
に形成した固定用溝7に収容し、メタライズ層を各々形
成した支持基板3の保持部3bと上基板4とにより半田
8を充填して固定されている。これにより、メタライズ
層3cを形成する支持基板3とメタライズ層4aを形成
する上基板4とは、半田8が各々のメタライズ層に沿っ
て濡れているので半田との接合により固定されるととも
に、その間に挟持される光ファイバ2は、メタライズ層
が無く半田との接合力が無く上下の両面からの挟持力に
より確実に固定されている。
【0009】次に、本発明の光ファイバアレイを製造す
る方法について述べる。まず支持基板3を製造する。こ
れは、シリコン、セラミックス、ガラスを原料として、
各溝を、例えば深さ125μm程度の微細なものを形成
する。つまり、支持基板3に溝を形成する方法として
は、第1にシリコン材料をエッチングすることによって
溝を形成する方法がある。第2に、加工精度の高いV溝
を形成するためには、アルミナ、メノウ、ジルコニア等
のセラミックス材料やガラス材料により焼成した平板状
の基板を、研削加工して各溝を形成する方法を使用でき
る。詳しくは、例えば、セラミックスの成形体を焼結さ
せて焼結体を製造し、この焼結体を平面研削加工して平
坦面を形成し、次いでこの平坦面をダイヤモンド砥石で
研削加工することによって、各溝を形成する。第3に、
支持基板の固定用溝をプレス成形法によって形成するこ
とができる。このガラス材料としては、BK−7:光学
ガラス、ホウケイ酸ガラス、ソーダ石灰ガラス、イオン
交換ガラス、LiO2 −Al2 O3 −SiO2 系のガラ
スが特に好ましい。
る方法について述べる。まず支持基板3を製造する。こ
れは、シリコン、セラミックス、ガラスを原料として、
各溝を、例えば深さ125μm程度の微細なものを形成
する。つまり、支持基板3に溝を形成する方法として
は、第1にシリコン材料をエッチングすることによって
溝を形成する方法がある。第2に、加工精度の高いV溝
を形成するためには、アルミナ、メノウ、ジルコニア等
のセラミックス材料やガラス材料により焼成した平板状
の基板を、研削加工して各溝を形成する方法を使用でき
る。詳しくは、例えば、セラミックスの成形体を焼結さ
せて焼結体を製造し、この焼結体を平面研削加工して平
坦面を形成し、次いでこの平坦面をダイヤモンド砥石で
研削加工することによって、各溝を形成する。第3に、
支持基板の固定用溝をプレス成形法によって形成するこ
とができる。このガラス材料としては、BK−7:光学
ガラス、ホウケイ酸ガラス、ソーダ石灰ガラス、イオン
交換ガラス、LiO2 −Al2 O3 −SiO2 系のガラ
スが特に好ましい。
【0010】そして、支持基板3の材質がセラミックス
材料やガラス材料である場合には、半田を溝の表面に対
して直接に濡らして溝の内部まで半田を行き渡らせるた
めに、少なくとも溝の表面にはメタライズ層を形成す
る。また、支持基板3と上基板4を半田により固着させ
るために、相互当接面にメタライズ層を形成する。メタ
ライズ層の材質は特に限定されないが、メタライズ層を
複数の金属層によって形成し、メタライズ層の下地側の
層は支持持基板の材質に対して良好な付着力を有してい
る金属によって形成することが好ましい。また、メタラ
イズ層の表面側の層は、使用する半田の材質と同種とす
ることが好ましく、特に金または金の合金とすることが
好ましい。例えば、支持基板の母材から、クロム層/金
層、チタン層/白金層/金層の順番とすることが望まし
い。また、メタライズ層の全体の厚さは、溝中における
光ファイバーの光軸の位置精度を一層向上させるという
観点からは、1.5μm以下とすることが好ましく、濡
れ性を向上させるという観点からは、0.5μm以上と
することが好ましい。例えば、厚さ0.1μmのチタン
層/厚さ0.1μmの白金層/厚さ1μmの金層を順次
に積層する。ここで、光ファイバ等の光伝送部材の表面
にはメタライズ層を形成しない。通信用の光ファイバ
は、通常石英製であり半田には直接に濡れにくいため
に、冷却・固着時に半田が収縮して半田に外周面を包囲
された光ファイバに対して、内側へと向かって強く把握
するように加圧する。この加圧力が大きく、且つ半田が
充填されない空隙が存在する場合には、半田からの圧力
が円周方向から不均一に付与され光ファイバの材質に軽
微な異方性が生じ、光ファイバを伝搬する光信号に影響
を与える可能性もあった。そこで、光ファイバーの表面
にメタライズ層を形成しないことによって、加圧されて
充填されていく半田が長手方向へ早く移動させず空隙を
生じさせないようことでこうした半田の収縮による圧力
の影響が光ファイバーには及びにくくした。
材料やガラス材料である場合には、半田を溝の表面に対
して直接に濡らして溝の内部まで半田を行き渡らせるた
めに、少なくとも溝の表面にはメタライズ層を形成す
る。また、支持基板3と上基板4を半田により固着させ
るために、相互当接面にメタライズ層を形成する。メタ
ライズ層の材質は特に限定されないが、メタライズ層を
複数の金属層によって形成し、メタライズ層の下地側の
層は支持持基板の材質に対して良好な付着力を有してい
る金属によって形成することが好ましい。また、メタラ
イズ層の表面側の層は、使用する半田の材質と同種とす
ることが好ましく、特に金または金の合金とすることが
好ましい。例えば、支持基板の母材から、クロム層/金
層、チタン層/白金層/金層の順番とすることが望まし
い。また、メタライズ層の全体の厚さは、溝中における
光ファイバーの光軸の位置精度を一層向上させるという
観点からは、1.5μm以下とすることが好ましく、濡
れ性を向上させるという観点からは、0.5μm以上と
することが好ましい。例えば、厚さ0.1μmのチタン
層/厚さ0.1μmの白金層/厚さ1μmの金層を順次
に積層する。ここで、光ファイバ等の光伝送部材の表面
にはメタライズ層を形成しない。通信用の光ファイバ
は、通常石英製であり半田には直接に濡れにくいため
に、冷却・固着時に半田が収縮して半田に外周面を包囲
された光ファイバに対して、内側へと向かって強く把握
するように加圧する。この加圧力が大きく、且つ半田が
充填されない空隙が存在する場合には、半田からの圧力
が円周方向から不均一に付与され光ファイバの材質に軽
微な異方性が生じ、光ファイバを伝搬する光信号に影響
を与える可能性もあった。そこで、光ファイバーの表面
にメタライズ層を形成しないことによって、加圧されて
充填されていく半田が長手方向へ早く移動させず空隙を
生じさせないようことでこうした半田の収縮による圧力
の影響が光ファイバーには及びにくくした。
【0011】次に、支持基板3の保持部3bに形成した
溝7の中に各光ファイバの芯線8を収容し、溝7及びそ
こに収容した光ファイバ芯線2bを覆うように保持部3
bの上面に半田シート8aを載せ、半田シート8aの上
に上基板4を載せる。そして、図4に示すように、支持
基板3をホットプレート9に載置し、少なくとも半田シ
ート8aの部分を加熱する。この加熱の間に、矢印Pで
示すように上方から所定の圧力を加える。上方の半田シ
ート8aから溶解した半田8は、上基板4の圧力により
下方へ移動するが、メタライズ層を形成しない光ファイ
バ2の表面よりメタライズ層3cを形成した支持基板3
側へ濡れ性が高く移動してくる。特に、光ファイバ2の
外周面を包囲する半田8は、光ファイバ2に対する濡れ
性が小さくて接合力は無いので光ファイバ2に沿って濡
れていく前に、支持基板3と上基板4との挟持力により
押圧されて円周方向に動き溝7のV底まで充填されてい
く。したがって、光ファイバ2と溝7との間に空隙が生
じることが無いので、レーザー等の光学素子の劣化を防
止するパッケージ又はケースの気密性を確実に保持でき
た。そして、光ファイバの整列位置も固定できたので、
従来のように、光ファイバの光軸が光学素子の光軸とず
れるために結合損失の増大又は変動を生じることが皆無
になった。
溝7の中に各光ファイバの芯線8を収容し、溝7及びそ
こに収容した光ファイバ芯線2bを覆うように保持部3
bの上面に半田シート8aを載せ、半田シート8aの上
に上基板4を載せる。そして、図4に示すように、支持
基板3をホットプレート9に載置し、少なくとも半田シ
ート8aの部分を加熱する。この加熱の間に、矢印Pで
示すように上方から所定の圧力を加える。上方の半田シ
ート8aから溶解した半田8は、上基板4の圧力により
下方へ移動するが、メタライズ層を形成しない光ファイ
バ2の表面よりメタライズ層3cを形成した支持基板3
側へ濡れ性が高く移動してくる。特に、光ファイバ2の
外周面を包囲する半田8は、光ファイバ2に対する濡れ
性が小さくて接合力は無いので光ファイバ2に沿って濡
れていく前に、支持基板3と上基板4との挟持力により
押圧されて円周方向に動き溝7のV底まで充填されてい
く。したがって、光ファイバ2と溝7との間に空隙が生
じることが無いので、レーザー等の光学素子の劣化を防
止するパッケージ又はケースの気密性を確実に保持でき
た。そして、光ファイバの整列位置も固定できたので、
従来のように、光ファイバの光軸が光学素子の光軸とず
れるために結合損失の増大又は変動を生じることが皆無
になった。
【0012】この加熱処理の後に、光ファイバアレイ1
の全体をホットプレート11から取り外し、各光ファイ
バ2の芯線2bの端面を光学研磨して、各端面を支持基
板3の保持部3bの端面6に露出させて光ファイバとし
て仕上げる。そして、この光ファイバアレイを、光学伝
送部材で光学素子と接続するともにパッケージ内に気密
封止して光伝送部材保持装置として使用される。
の全体をホットプレート11から取り外し、各光ファイ
バ2の芯線2bの端面を光学研磨して、各端面を支持基
板3の保持部3bの端面6に露出させて光ファイバとし
て仕上げる。そして、この光ファイバアレイを、光学伝
送部材で光学素子と接続するともにパッケージ内に気密
封止して光伝送部材保持装置として使用される。
【0013】
【発明の効果】以上述べたように、本発明によれば、光
ファイバ等の光伝送部材を所定位置に固定するための光
ファイバアレイにおいて、メタライズ層を形成されてい
ない光伝送部材を溝中に半田を使用して確実に固定でき
るようにし、この光伝送部材と溝との間に半田が充填さ
れない空隙が生じにくいようにできる。
ファイバ等の光伝送部材を所定位置に固定するための光
ファイバアレイにおいて、メタライズ層を形成されてい
ない光伝送部材を溝中に半田を使用して確実に固定でき
るようにし、この光伝送部材と溝との間に半田が充填さ
れない空隙が生じにくいようにできる。
【図1】(a)は光ファイバアレイを概略的に示す正面
図であり、(b)は(a)の平面図であり、(c)は
(a)左側面図である。
図であり、(b)は(a)の平面図であり、(c)は
(a)左側面図である。
【図2】図1(a)のA線における断面図の光ファイバ
付近を部分的に拡大した説明図である。
付近を部分的に拡大した説明図である。
【図3】上基板4上から圧力を加え、半田シート8aを
溶融させている、製造方法の1工程を示す斜視図であ
る。
溶融させている、製造方法の1工程を示す斜視図であ
る。
1・・光ファイバアレイ、2・・光ファイバ、2a・・
被覆部、2b・・芯線、3・・支持基板、3a・・被覆
載置部、3b・・保持部、、3c・・メタライズ層、4
・・上基板、4a・・メタライズ層、6・・端面、7・
・V溝、8・・半田、8a・・半田シート、9・・ホッ
トプレート。
被覆部、2b・・芯線、3・・支持基板、3a・・被覆
載置部、3b・・保持部、、3c・・メタライズ層、4
・・上基板、4a・・メタライズ層、6・・端面、7・
・V溝、8・・半田、8a・・半田シート、9・・ホッ
トプレート。
Claims (2)
- 【請求項1】 固定用溝に光伝送部材を収容する支持基
板と該光伝送部材を保持する上基板とを有し、光伝送部
材保持装置のパッケージに、光学伝送部材と接続した光
学素子とともに気密封止される光ファイバアレイにおい
て、 メタライズ層を形成されていない光伝送部材を、メタラ
イズ層を形成された支持基板の固定用溝に収容し、メタ
ライズ層を形成されている上基板により半田固定されて
いることを特徴とする光ファイバアレイ。 - 【請求項2】 メタライズ層を形成されていない光伝送
部材の表面粗さRaは、0.1〜1μmである請求項1
記載の光ファイバアレイ。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000086177A JP2001272570A (ja) | 2000-03-27 | 2000-03-27 | 光ファイバアレイ |
| US09/812,719 US6512877B2 (en) | 2000-03-27 | 2001-03-20 | Optical fiber array |
| EP01302811A EP1139130A1 (en) | 2000-03-27 | 2001-03-27 | Optical fiber array mounting assembly |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000086177A JP2001272570A (ja) | 2000-03-27 | 2000-03-27 | 光ファイバアレイ |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001272570A true JP2001272570A (ja) | 2001-10-05 |
Family
ID=18602390
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000086177A Pending JP2001272570A (ja) | 2000-03-27 | 2000-03-27 | 光ファイバアレイ |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6512877B2 (ja) |
| EP (1) | EP1139130A1 (ja) |
| JP (1) | JP2001272570A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003202447A (ja) * | 2002-01-09 | 2003-07-18 | Ibiden Co Ltd | 光ファイバアレイ |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1193510A3 (en) * | 2000-09-29 | 2005-03-30 | Nippon Sheet Glass Co., Ltd. | Rod lens array and a process for producing the same |
| KR100383383B1 (en) * | 2002-06-22 | 2003-05-16 | Fionix Inc | Method for fabricating optical fiber block |
| US6882790B2 (en) * | 2002-09-25 | 2005-04-19 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Optical fiber array and substrate for the optical fiber array |
| CN103014649B (zh) * | 2012-12-21 | 2015-08-19 | 中国电子科技集团公司第四十四研究所 | 光纤镀膜工艺 |
Family Cites Families (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63144310A (ja) | 1986-12-09 | 1988-06-16 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 光フアイバコネクタ |
| US5024497A (en) * | 1989-02-15 | 1991-06-18 | At&T Bell Laboratories | Shape memory alloy optical fiber switch |
| JP3068941B2 (ja) | 1992-03-17 | 2000-07-24 | 沖電気工業株式会社 | 光ファイバアレイ装置およびその製造方法 |
| JP3492767B2 (ja) | 1994-06-30 | 2004-02-03 | 京セラ株式会社 | 光ファイバ位置決め部材とそれを用いた光ファイバの位置決め固定方法 |
| JP3401930B2 (ja) | 1994-07-22 | 2003-04-28 | 住友電気工業株式会社 | 光ファイバアレイ |
| US5535296A (en) | 1994-09-28 | 1996-07-09 | Optobahn Corporation | Integrated optoelectronic coupling and connector |
| JPH10260321A (ja) | 1997-01-17 | 1998-09-29 | Ngk Insulators Ltd | 光伝送部材保持装置の製造方法 |
| US6195495B1 (en) | 1997-01-17 | 2001-02-27 | Ngk Insulators, Ltd. | Optical transmitting member-holding structure |
| JPH11236229A (ja) | 1997-12-16 | 1999-08-31 | Ngk Insulators Ltd | ガラス素子のプレス成形用金型 |
-
2000
- 2000-03-27 JP JP2000086177A patent/JP2001272570A/ja active Pending
-
2001
- 2001-03-20 US US09/812,719 patent/US6512877B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2001-03-27 EP EP01302811A patent/EP1139130A1/en not_active Withdrawn
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003202447A (ja) * | 2002-01-09 | 2003-07-18 | Ibiden Co Ltd | 光ファイバアレイ |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US20010024560A1 (en) | 2001-09-27 |
| EP1139130A1 (en) | 2001-10-04 |
| US6512877B2 (en) | 2003-01-28 |
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