JP2001118397A - Semiconductor storage device - Google Patents
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 レイアウト面積の増大を抑制することがで
き、かつテストモードにより初期故障スクリーニングを
実施する際に、初期故障スクリーニング効率を高めるこ
とができる半導体記憶装置を提供する。
【解決手段】 テストモードを検知するテストモード検
知回路と、メモリセルアレイ内に配置されたダミー領域
の記憶ノードを電源電圧および接地電圧を供給する各電
位線に短絡させたメモリセルを有し、このダミー領域の
ワード線を活性状態としてビット線を確定させるか、あ
るいはビット線をイコライズするセンスアンプ内部のイ
コライズトランジスタを利用し、各ビット線を交互に接
地電圧と電源電圧の各電位へ確定させることにより、ビ
ット線間にストレス印加を実施し、ロウ方向にはプリデ
コード回路の出力をテストモード時に複数活性化させ
る。
(57) Abstract: Provided is a semiconductor memory device capable of suppressing an increase in layout area and increasing initial fault screening efficiency when performing initial fault screening in a test mode. A test mode detection circuit for detecting a test mode, and a memory cell in which a storage node of a dummy region arranged in a memory cell array is short-circuited to each potential line for supplying a power supply voltage and a ground voltage, Either activate the word line in the dummy area to determine the bit line, or use an equalizing transistor inside the sense amplifier to equalize the bit line, and alternately determine each bit line to the ground voltage and power supply voltage. As a result, stress is applied between the bit lines, and a plurality of outputs of the predecode circuit are activated in the row direction in the test mode.
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、メモリセルアレイ
にテスト電位を供給して、その良否をテストするテスト
モードを有する半導体記憶装置に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor memory device having a test mode in which a test potential is supplied to a memory cell array to test the quality of the test.
【0002】[0002]
【従来の技術】従来から、家庭電化製品やOA機器や産
業機器等に接続されるコンピュータシステムなどのメモ
リ素子として広く使用されている半導体記憶装置には、
複数のメモリセルが行列状に配列されたメモリセルアレ
イと、それらのメモリセルのうち各行に対応するメモリ
セルを駆動するワード線と、各列に対応するメモリセル
に蓄積された電位をセンスアンプへ接続するように対応
づけられたビット線とが形成され、メモリセルアレイに
対し、テスト電位を供給して良否をテストするためのテ
ストモードが設けられている。2. Description of the Related Art Conventionally, a semiconductor memory device widely used as a memory element of a computer system connected to home appliances, OA equipment, industrial equipment, and the like includes:
A memory cell array in which a plurality of memory cells are arranged in a matrix, a word line for driving a memory cell corresponding to each row of the memory cells, and a potential stored in a memory cell corresponding to each column to a sense amplifier. Bit lines associated with each other are formed so as to be connected to each other, and a test mode is provided for supplying a test potential to the memory cell array to test the memory cells.
【0003】このようなテストモードを有し、装置の信
頼性を向上する目的で構成された半導体記憶装置の一例
として、例えば、特開平10−340598号公報に開
示されているものが挙げられる。図7は従来の半導体記
憶装置におけるストレス加速手段の概略構成図である。
図7において、1は半導体記憶装置のテストモード時に
メモリセルアレイのビット線BL1、BL2を電源電圧
かあるいは接地電圧の各電位にイコライズ(変移)し、
通常動作時は、電源電圧の1/2レベルへイコライズす
る目的で、チップのメモリセル周辺に配置されてイコラ
イズレベル(イコライズ電位)を発生するイコライズレ
ベル発生回路である。2はロウデコーダであり、その中
をイコライズレベル発生回路1により発生したイコライ
ズレベルを受けたイコライズ電位線が引き回される。
3、4はセンスアンプ列であり、イコライズレベル発生
回路1により発生したイコライズ電位を供給してビット
線BL1、BL2をイコライズするイコライズトランジ
スタを含む。An example of a semiconductor memory device having such a test mode and configured for the purpose of improving the reliability of the device is disclosed in, for example, JP-A-10-340598. FIG. 7 is a schematic configuration diagram of a stress accelerating means in a conventional semiconductor memory device.
In FIG. 7, 1 equalizes the bit lines BL1 and BL2 of the memory cell array to the power supply voltage or the ground voltage in the test mode of the semiconductor memory device.
At the time of normal operation, this is an equalizing level generating circuit that is arranged around a memory cell of a chip and generates an equalizing level (equalizing potential) for the purpose of equalizing to a half level of the power supply voltage. Reference numeral 2 denotes a row decoder, in which an equalizing potential line receiving an equalizing level generated by the equalizing level generating circuit 1 is routed.
Reference numerals 3 and 4 denote sense amplifier arrays, which include equalizing transistors for supplying the equalizing potential generated by the equalizing level generating circuit 1 to equalize the bit lines BL1 and BL2.
【0004】以上のように構成された従来の半導体記憶
装置においては、テストモードを検知するテストモード
検知回路がテストモードを検知すると、イコライズレベ
ル発生回路1内のトランジスタTE1、TE2、TE3
及びTE4を制御することにより、チップ周辺からコア
内部に向かってビット線BL1、BL2に、電位VBL
1、VBL2として接地電位と電源電位を供給し、ビッ
ト線BL1、BL2間に信頼性加速をかけるように構成
されている。一方、テストモードではない通常モードの
場合は、制御線Фnを制御することにより、ビット線B
L1、BL2に対して、電位VBL1、VBL2として
中間電位発生回路から中間電位を供給する。In the conventional semiconductor memory device configured as described above, when the test mode detecting circuit for detecting the test mode detects the test mode, the transistors TE1, TE2, TE3 in the equalize level generating circuit 1
And TE4, the potential VBL is applied to the bit lines BL1 and BL2 from the periphery of the chip toward the inside of the core.
1, a ground potential and a power supply potential are supplied as VBL2, and reliability is accelerated between the bit lines BL1 and BL2. On the other hand, in the case of the normal mode other than the test mode, by controlling the control line #n, the bit line B
An intermediate potential is supplied to L1 and BL2 from the intermediate potential generation circuit as potentials VBL1 and VBL2.
【0005】[0005]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記のよ
うな従来の半導体記憶装置では、テストモードの際に
は、ビット線に接地電位と電源電位を供給してビット線
間に信頼性加速をかける構成となっており、そのため、
テストモード用にロウデコーダ2中に2本のイコライズ
電位線を設置する必要性があり、かつ周辺回路でのトラ
ンジスタサイズが大きくなり、レイアウト面積を増大さ
せるという問題点を有していた。However, in the conventional semiconductor memory device as described above, in the test mode, the ground potential and the power supply potential are supplied to the bit lines to accelerate the reliability between the bit lines. And for that,
It is necessary to provide two equalizing potential lines in the row decoder 2 for the test mode, and there is a problem that a transistor size in a peripheral circuit increases and a layout area increases.
【0006】本発明は、上記従来の問題点を解決するも
ので、回路構成のためのレイアウト面積の増大を軽減
し、かつテストモード時には、より高い信頼性加速を得
ることができる半導体記憶装置を提供する。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention solves the above-mentioned conventional problems, and provides a semiconductor memory device capable of reducing an increase in layout area for a circuit configuration and achieving higher reliability acceleration in a test mode. provide.
【0007】[0007]
【課題を解決するための手段】上記の課題を解決するた
めに本発明の半導体記憶装置は、テストモードを検知す
るテストモード検知回路と、テスト検知信号の非出力時
はイコライズ電位発生回路からのイコライズ電位を供給
し、テスト検知信号の出力時はイコライズ電位の供給を
停止し、電源電圧または接地電圧に切り替えるイコライ
ズ電位切替回路と、メモリセルアレイのビット線とをセ
ンスアンプ周辺に備えたことにより、ビット線に対して
接地電圧供給と電源電圧供給とを交互に切り替えること
が可能となり、さらに、このイコライズ電位切替回路を
センスアンプ列周辺に配置することで、トランジスタサ
イズおよびイコライズ電位線の増大を抑制することを特
徴とする。In order to solve the above-mentioned problems, a semiconductor memory device according to the present invention comprises a test mode detecting circuit for detecting a test mode, and an equalizing potential generating circuit when a test detection signal is not output. By providing an equalizing potential, stopping the supply of the equalizing potential when the test detection signal is output, and providing an equalizing potential switching circuit for switching to a power supply voltage or a ground voltage and a bit line of the memory cell array around the sense amplifier, It is possible to alternately switch between the supply of the ground voltage and the supply of the power supply voltage to the bit line, and furthermore, by arranging this equalizing potential switching circuit around the sense amplifier row, it is possible to suppress an increase in the transistor size and the equalizing potential line. It is characterized by doing.
【0008】以上により、回路構成のためのレイアウト
面積の増大を軽減し、かつテストモード時には、そのテ
ストモードにより初期故障スクリーニングを実施する際
のスクリーニング効率を高めることができ、より高い信
頼性加速を得ることができる。As described above, the increase in the layout area for the circuit configuration can be reduced, and in the test mode, the screening efficiency at the time of performing the initial failure screening in the test mode can be increased, and higher reliability can be accelerated. Obtainable.
【0009】[0009]
【発明の実施の形態】本発明の請求項1に記載の半導体
記憶装置は、複数のメモリセルが行列状に配列されたメ
モリセルアレイと、前記複数のメモリセルのうち各行に
対応するメモリセルを駆動するワード線と、前記複数の
メモリセルのうち各列に対応するメモリセルに蓄積され
た電位をセンスアンプへ接続するように対応づけられた
ビット線とが形成され、前記メモリセルアレイに対し、
テスト電位を供給して良否をテストするテストモードを
有する半導体記憶装置であって、前記テストモードを検
知しテスト検知信号を出力するテストモード検知回路
と、前記ビット線に、前記メモリセルアレイに対するイ
コライズを起動するためのイコライズ起動信号を受け
て、前記イコライズのためのイコライズ電位を供給する
イコライズ回路と、前記イコライズ電位を発生するイコ
ライズ電位発生回路と、前記テストモード検知回路から
のテスト検知信号の出力状態に基づいて、前記ビット線
に、前記イコライズ電位と前記テスト電位とを切替えて
供給するイコライズ電位切替回路と、前記イコライズ電
位切替回路の前記切替えを制御して、前記ビット線への
電位供給を制御する制御回路とを備え、前記制御回路
を、前記イコライズ電位切替回路により、前記ビット線
に対し、テスト検知信号非出力時は前記イコライズ電位
発生回路からのイコライズ電位を供給し、テスト検知信
号出力時は前記イコライズ電位発生回路からのイコライ
ズ電位の供給を停止して前記テスト電位を供給して、前
記ビット線に交互に異なる電位を供給するように、前記
イコライズ電位切替回路を制御するよう構成する。A semiconductor memory device according to a first aspect of the present invention includes a memory cell array in which a plurality of memory cells are arranged in a matrix, and a memory cell corresponding to each row among the plurality of memory cells. A word line to be driven and a bit line associated to connect a potential stored in a memory cell corresponding to each column among the plurality of memory cells to a sense amplifier are formed.
What is claimed is: 1. A semiconductor memory device having a test mode for testing a pass / fail by supplying a test potential, wherein a test mode detection circuit for detecting the test mode and outputting a test detection signal, and equalizing the memory cell array to the bit line. An equalizing circuit for receiving an equalizing start signal for starting and supplying an equalizing potential for the equalizing, an equalizing potential generating circuit for generating the equalizing potential, and an output state of a test detection signal from the test mode detecting circuit Controlling an equalizing potential switching circuit for switching the equalizing potential and the test potential to supply the bit line to the bit line, and controlling the switching of the equalizing potential switching circuit to control the potential supply to the bit line. A control circuit for controlling the equalization potential The equalizing potential is supplied from the equalizing potential generating circuit to the bit line when the test detection signal is not output, and the supply of the equalizing potential from the equalizing potential generating circuit is stopped when the test detecting signal is output. The equalizing potential switching circuit is configured to supply the test potential and alternately supply different potentials to the bit lines.
【0010】この構成によると、ビット線を交互に接地
電圧と電源電圧との各電位へ切り替えることが可能であ
り、センスアンプ列周辺にイコライズ電位切替回路を配
置することで、トランジスタサイズとイコライズ電位線
の増大を抑制する。請求項2に記載の半導体記憶装置
は、請求項1に記載のメモリセルアレイへ接続されたビ
ット線に対してイコライズ電位切替回路を通じて供給さ
れるテスト電位の供給手段として、前記メモリセルアレ
イのダミー領域に配置され、その領域の記憶ノードを、
交互に、接地電圧を供給している電源配線と電源電圧を
供給している電源配線とに、短絡したダミーセルアレイ
と、テストモード検知回路からテスト検知信号出力時
は、イコライズ電位発生回路からのイコライズ電位の前
記ダミーセルアレイのビット線への供給を停止し、前記
ダミーセルアレイのワード線を駆動する制御回路とを設
けた構成とする。According to this structure, it is possible to alternately switch the bit line to each of the ground voltage and the power supply voltage. By arranging the equalizing potential switching circuit around the sense amplifier array, the transistor size and the equalizing potential can be changed. Suppress line growth. According to a second aspect of the present invention, the semiconductor memory device includes a dummy region of the memory cell array as a test potential supply unit that is supplied to a bit line connected to the memory cell array according to the first embodiment through an equalizing potential switching circuit. Placed, and the storage node of that area,
Alternately, short-circuit the dummy cell array to the power supply line supplying the ground voltage and the power supply line supplying the power supply voltage, and equalize from the equalize potential generation circuit when the test detection signal is output from the test mode detection circuit. A control circuit for stopping the supply of the potential to the bit lines of the dummy cell array and driving the word lines of the dummy cell array is provided.
【0011】この構成によると、テストモード検知回路
の出力結果からダミー領域のワード線を駆動して、ビッ
ト線を電源電圧あるいは接地電圧の各電位へ固定し、既
存するダミーセルアレイを使用するため、完全にこれに
かかるレイアウト面積を抑制する。請求項3に記載の半
導体記憶装置は、請求項1または請求項2に記載のワー
ド線を物理的に選択するワード線選択回路を設け、前記
ワード線選択回路を、テストモード検知回路からテスト
検知信号の出力時のみ、前記ワード線を物理的に交互と
なるように複数本選択し、前記ワード線に交互に異なる
電位を供給するよう構成する。According to this configuration, the word line in the dummy area is driven from the output result of the test mode detection circuit to fix the bit line to each of the power supply voltage or the ground voltage, and to use the existing dummy cell array. This completely reduces the layout area involved. According to a third aspect of the present invention, there is provided a semiconductor memory device including a word line selecting circuit for physically selecting the word line according to the first or second aspect, wherein the word line selecting circuit detects a test from a test mode detecting circuit. Only when outputting a signal, a plurality of word lines are selected so as to be physically alternated, and different potentials are alternately supplied to the word lines.
【0012】この構成によると、ダミー領域のワード線
を選択する手段は、メモリセルアレイの各列に対応する
ワード線を、テストモード検知回路の出力信号により、
テストモード時のみ前記ワード線に対する物理的な選択
が交互となるよう複数本選択され、一方のワード線の電
位が接地電圧であり、他方のワード線の電位がワード線
の駆動レベルまで昇圧される。According to this structure, the means for selecting the word line in the dummy area sets the word line corresponding to each column of the memory cell array in accordance with the output signal of the test mode detection circuit.
Only in the test mode, a plurality of the word lines are selected so that the physical selection is alternated, the potential of one word line is the ground voltage, and the potential of the other word line is boosted to the word line drive level. .
【0013】請求項4に記載の半導体記憶装置は、請求
項3に記載のテストモード検知回路からのテスト検知信
号の出力時にワード線選択回路により選択されたワード
線に対する供給電位による昇圧の開始よりも早く、ダミ
ー領域のワード線を昇圧し、かつ前記ダミー領域のワー
ド線の昇圧の際には、センスアンプを活性化する手段を
具備した構成とする。According to a fourth aspect of the present invention, in the semiconductor memory device according to the third aspect, when a test detection signal is output from the test mode detection circuit according to the third aspect, boosting by a supply potential to the word line selected by the word line selection circuit is started. As soon as possible, a means for boosting the word line in the dummy region and activating the sense amplifier when boosting the word line in the dummy region is provided.
【0014】この構成によると、ダミー領域のワード線
を立ち上げる手段は、このワード線を、テストモード時
にメモリセルを駆動するワード線の昇圧を開始するタイ
ミングよりも速く立ち上げ、かつ、そのワード線を昇圧
する際に、センスアンプを活性化することで、ビット線
の電位をより安定化して、信頼性加速を向上する。請求
項5に記載の半導体記憶装置は、請求項1から請求項4
のいずれかに記載のテストモード検知回路からテスト検
知信号の出力時は、センスアンプをイコライズ状態に保
持する構成とする。According to this configuration, the means for raising the word line in the dummy area raises the word line earlier than the timing for starting the boosting of the word line for driving the memory cell in the test mode, and By activating the sense amplifier when boosting the line, the potential of the bit line is further stabilized, and the acceleration of reliability is improved. According to a fifth aspect of the present invention, there is provided a semiconductor memory device.
When a test detection signal is output from the test mode detection circuit according to any one of the above, the sense amplifier is held in an equalized state.
【0015】この構成によると、イコライズ状態を維持
する手段は、テストモード時はセンスアンプを活性化し
ないでイコライズ状態を維持することが可能となる。請
求項6に記載の半導体記憶装置は、請求項1から請求項
5のいずれかに記載のテストモード検知回路からテスト
検知信号の出力時は、ワード線選択回路に対応するアド
レスの複数ビットを選択状態とし、残りのビットのみを
前記ワード線選択回路へ入力することで任意に多重選択
を実行する構成とする。According to this configuration, the means for maintaining the equalized state can maintain the equalized state without activating the sense amplifier in the test mode. According to a sixth aspect of the present invention, when a test detection signal is output from the test mode detection circuit according to any one of the first to fifth aspects, a plurality of bits of an address corresponding to the word line selection circuit are selected. The state is set, and only the remaining bits are input to the word line selection circuit to arbitrarily perform multiple selection.
【0016】この構成によると、さらにワード線の多重
選択手段を、ワード線選択回路の入力アドレスの複数ビ
ットを選択状態とし、任意に選択した下位ビットのみを
ワード線選択回路へ入力して実現することで、レイアウ
ト面積の抑制を可能とするとともに、入力アドレスから
ワード線選択信号をデコードすることで、論理的には同
一アドレスであるワード線を物理的に分離する。According to this configuration, the word line multiple selection means is realized by selecting a plurality of bits of the input address of the word line selection circuit and inputting only the lower bits arbitrarily selected to the word line selection circuit. Thus, the layout area can be suppressed, and the word line having the same logical address is physically separated by decoding the word line selection signal from the input address.
【0017】請求項7に記載の半導体記憶装置は、請求
項1から請求項6のいずれかに記載のメモリセルに対し
て、プリチャージ電源配線と接続した電荷蓄積素子と、
前記電荷蓄積素子と前記メモリセルに対応づけた第1の
ビット線との間に接続されて電荷を転送する第1の転送
素子と、前記電荷蓄積素子と前記メモリセルに対応づけ
た第2のビット線との間に接続されて電荷を転送する第
2の転送素子とを設け、テストモード検知回路からテス
ト検知信号の出力時は、センスアンプのうちの第1のセ
ンスアンプ列と第2のセンスアンプ列に挟まれた第1の
メモリセルブロック内の前記第1のビット線と第2のビ
ット線に対する各供給電位を異なる電圧レベルとした構
成とする。According to a seventh aspect of the present invention, there is provided a semiconductor memory device according to any one of the first to sixth aspects, further comprising: a charge storage element connected to a precharge power supply wiring;
A first transfer element connected between the charge storage element and a first bit line associated with the memory cell to transfer charges; and a second transfer element associated with the charge storage element and the memory cell. A second transfer element connected between the first and second bit lines and a second transfer element for transferring a charge, wherein when a test detection signal is output from the test mode detection circuit, a first sense amplifier row of the sense amplifiers and a second Each supply potential for the first bit line and the second bit line in the first memory cell block sandwiched between the sense amplifier rows is set to a different voltage level.
【0018】この構成によると、メモリセルに対し、プ
リチャージ電源線と接続した電荷蓄積素子と、その電荷
蓄積素子と第1のビット線との間に接続されて電荷を転
送する第1の転送素子と、前記電荷蓄積素子と第2のビ
ット線との間に接続されて電荷を転送する第2の転送素
子とを設け、第1のセンスアンプ列と第2のセンスアン
プ列に挟まれた第1のメモリセルブロック内の第1のビ
ット線と第2のビット線に対して、電源電圧と接地電圧
との各レベルを交互に供給することで、テストモード時
にセンスアンプへ供給される電圧レベルを第1のセンス
アンプ列と第2のセンスアンプ列とで異ならせて、スト
レス印加を可能とする。According to this configuration, for the memory cell, the charge storage element connected to the precharge power supply line and the first transfer connected between the charge storage element and the first bit line for transferring the charge. An element, and a second transfer element connected between the charge storage element and the second bit line for transferring electric charges, and are interposed between the first sense amplifier row and the second sense amplifier row. By alternately supplying the power supply voltage and the ground voltage to the first bit line and the second bit line in the first memory cell block, the voltage supplied to the sense amplifier in the test mode The level is made different between the first sense amplifier row and the second sense amplifier row to enable stress application.
【0019】請求項8に記載の半導体記憶装置は、請求
項7に記載のダミー領域のワード線を第1のセンスアン
プ列と第2のセンスアンプ列とに挟まれた状態に配置
し、メモリセルを、それらの記憶ノードのうちの前記ダ
ミー領域のワード線につながる記憶ノードが、交互に、
接地電圧を供給している電源配線と電源電圧を供給して
いる電源配線とに短絡するように構成する。In the semiconductor memory device according to the present invention, the word line of the dummy region according to the present invention is arranged so as to be sandwiched between the first sense amplifier row and the second sense amplifier row. The storage nodes connected to the word line of the dummy region among the storage nodes are alternately
The power supply line supplying the ground voltage and the power supply line supplying the power supply voltage are short-circuited.
【0020】この構成によると、メモリセルのビット線
に対して交互に接地電圧と電源電圧の各電位を供給可能
なように、第1のセンスアンプ列と第2のセンスアンプ
列に挟まれたダミー領域のワード線につながるメモリセ
ル内の記憶ノードを接地電圧あるいは電源電圧の各電位
線へ短絡する。請求項9に記載の半導体記憶装置は、請
求項8に記載のメモリセルを、テストモード検知回路か
らテスト検知信号の出力時のみ、ワード線選択回路がダ
ミー領域のワード線を物理的に交互となるように選択す
るよう構成する。According to this configuration, the first sense amplifier row and the second sense amplifier row are interposed between the first sense amplifier row and the second sense amplifier row so that the potentials of the ground voltage and the power supply voltage can be alternately supplied to the bit lines of the memory cells. A storage node in a memory cell connected to a word line in the dummy region is short-circuited to a ground voltage or a power supply voltage. According to a ninth aspect of the present invention, the memory cell according to the eighth aspect is configured such that the word line selection circuit physically alternates the word lines in the dummy area only when the test mode detection circuit outputs the test detection signal. It is configured to be selected as follows.
【0021】請求項10に記載の半導体記憶装置は、請
求項1または請求項2または請求項4から請求項9のい
ずれかに記載のテストモード検知回路からテスト検知信
号の出力時に、入力アドレスによって、複数のワード線
に対する選択を変更する手段を具備した構成とする。こ
の構成によると、入力アドレスからワード線選択信号を
デコードして、論理的には同一アドレスであるワード線
を物理的に分離する。According to a tenth aspect of the present invention, when a test detection signal is output from the test mode detection circuit according to any one of the first, second, or fourth to ninth aspects, a semiconductor memory device according to an input address is used. And means for changing the selection of a plurality of word lines. According to this configuration, the word line selection signal is decoded from the input address, and the word lines having the same logical address are physically separated.
【0022】請求項11に記載の半導体記憶装置は、請
求項1または請求項2または請求項4から請求項10の
いずれかに記載のテストモード検知回路からテスト検知
信号の出力時に、複数のワード線に対する選択を、内部
に備えたリフレッシュカウンタのカウント値を基に実行
する手段を具備する構成とする。この構成によると、入
力アドレスの印加を実施せずにストレスの印加を行う場
合には、ワード線の選択を内部に備えたリフレッシュカ
ウンタにより可変化する手段を具備することで、ストレ
ス印加を実施する。In the semiconductor memory device according to the present invention, when a test detection signal is output from the test mode detection circuit according to any one of the first, second, or fourth to tenth aspects, a plurality of words are output. A configuration is provided that includes means for executing selection of a line based on the count value of a refresh counter provided therein. According to this configuration, when stress is applied without applying an input address, stress applying is performed by providing a means for variably selecting a word line by a refresh counter provided therein. .
【0023】以下、本発明の実施の形態を示す半導体記
憶装置について、図面を参照しながら具体的に説明す
る。 (実施の形態1)本発明の実施の形態1の半導体記憶装
置を説明する。図1は本実施の形態1の半導体記憶装置
の概略構成を示すブロック図である。図1に示すよう
に、テストモードを検知するテストモード検知回路7を
有し、複数のメモリセルが行列状に配列されたメモリセ
ルアレイ12と、メモリセルアレイ12の各行に対応す
るメモリセルを駆動するワード線13と、各列に対応す
るメモリセルに蓄積された電位を、センスアンプP出力
端子(SAP)8およびセンスアンプN出力端子(SA
N)9の各出力端子を有するセンスアンプSA1へ接続
するように対応づけられたビット線14と、センスアン
プSA1の周辺に配置され、ビット線14をイコライズ
起動信号EQによりイコライズするイコライズ回路15
と、イコライズ電位VBPを供給するイコライズ電位発
生回路(図示せず)と、テストモード検知回路7からテ
スト検知信号TEの非出力時である通常動作時はイコラ
イズ電位発生回路からのイコライズ電位VBPを供給
し、テスト検知信号TEの出力時であるテストモード時
はイコライズ電位発生回路からのイコライズ電位VBP
の供給をとめ、本記憶装置に供給される電源電圧又は接
地電圧の各電位を供給するイコライズ電位切替回路5、
6とを有したものである。Hereinafter, a semiconductor memory device according to an embodiment of the present invention will be specifically described with reference to the drawings. (Embodiment 1) A semiconductor memory device according to Embodiment 1 of the present invention will be described. FIG. 1 is a block diagram showing a schematic configuration of the semiconductor memory device according to the first embodiment. As shown in FIG. 1, a test mode detecting circuit 7 for detecting a test mode is provided, and drives a memory cell array 12 in which a plurality of memory cells are arranged in a matrix and memory cells corresponding to each row of the memory cell array 12. The potential stored in the word line 13 and the memory cell corresponding to each column is applied to the sense amplifier P output terminal (SAP) 8 and the sense amplifier N output terminal (SA).
N) A bit line 14 associated with the sense amplifier SA1 having each output terminal 9 and an equalizing circuit 15 arranged around the sense amplifier SA1 for equalizing the bit line 14 with an equalizing start signal EQ.
And an equalizing potential generating circuit (not shown) for supplying the equalizing potential VBP, and supplying the equalizing potential VBP from the equalizing potential generating circuit during normal operation when the test mode detection circuit 7 does not output the test detection signal TE. In the test mode when the test detection signal TE is output, the equalizing potential VBP from the equalizing potential generating circuit is output.
, The equalizing potential switching circuit 5, which supplies the power supply voltage or the ground voltage supplied to the storage device,
6.
【0024】このような半導体記憶装置において、テス
トモード検知回路7がテストモードを検知すると、テス
トモード検知回路7の出力TEがハイレベルへ達し、こ
れがテスト検知信号としてプリデコード回路11へ入力
される。このテスト検知信号TEは、またイコライズ電
位切替回路5、6へも入力され、通常状態において使用
するイコライズ電位VBPの供給を停止し、プリデコー
ド回路11の出力結果から、所定の電源電圧あるいは接
地電圧の各電位を、ビット線14のイコライズレベルと
して、イコライズ回路15へ供給し、ビット線14に対
して物理的に交互となるように接地電圧と電源電圧の各
電位を供給する。 (実施の形態2)本発明の実施の形態2の半導体記憶装
置を説明する。In such a semiconductor memory device, when the test mode detection circuit 7 detects the test mode, the output TE of the test mode detection circuit 7 reaches a high level, which is input to the predecode circuit 11 as a test detection signal. . The test detection signal TE is also input to the equalizing potential switching circuits 5 and 6 to stop the supply of the equalizing potential VBP used in the normal state, and determine the predetermined power supply voltage or ground voltage from the output result of the predecoding circuit 11. Are supplied to the equalizing circuit 15 as the equalizing level of the bit line 14, and the potentials of the ground voltage and the power supply voltage are supplied to the bit line 14 so as to be physically alternated. (Second Embodiment) A semiconductor memory device according to a second embodiment of the present invention will be described.
【0025】図2は本実施の形態2の半導体記憶装置の
概略構成を示すブロック図である。図2において、ビッ
ト線14の電位を交互に接地電圧と電源電圧を用いて供
給する手段が、メモリセルアレイ内のダミー領域に配置
されたメモリセルアレイであるダミーセル22、23の
記憶ノードを、接地電圧と電源電圧を供給している電源
配線と短絡し、テストモード検知回路の出力結果に基づ
くダミーワード線20、21の駆動により、ビット線1
4を電源電圧あるいは接地電圧の各電位へ固定させるこ
とができる。FIG. 2 is a block diagram showing a schematic configuration of the semiconductor memory device according to the second embodiment. In FIG. 2, means for alternately supplying the potential of the bit line 14 using the ground voltage and the power supply voltage is used to connect the storage nodes of the dummy cells 22 and 23 which are the memory cell arrays arranged in the dummy region in the memory cell array to the ground voltage. And the power supply line supplying the power supply voltage, and the dummy word lines 20 and 21 are driven based on the output result of the test mode detection circuit, so that the bit line 1
4 can be fixed to each of the power supply voltage and the ground voltage.
【0026】かつ、これらのメモリセルアレイとして、
既存に存在するダミーセルアレイを使用するため、新た
にメモリセルアレイ領域を形成する必要がなく、メモリ
セルアレイ領域の形成によるレイアウト面積の増大を抑
えることができ、ビット線14に交互に電位差を与える
ことができる。ここで、上記の実施の形態1および実施
の形態2の半導体記憶装置におけるプリデコード回路1
1について説明する。Further, as these memory cell arrays,
Since an existing dummy cell array is used, it is not necessary to form a new memory cell array region, an increase in layout area due to the formation of the memory cell array region can be suppressed, and a potential difference can be alternately applied to the bit lines 14. it can. Here, the predecode circuit 1 in the semiconductor memory device according to the first and second embodiments is described.
1 will be described.
【0027】図3は上記の実施の形態1および実施の形
態2の半導体記憶装置におけるプリデコード回路11の
構成図である。このプリデコード回路11は、図3に示
すように、各メモリセルに接続されるワード線を選択す
るプリデコード信号発生回路の出力ADDEXT、XA
DDEXTおよびテスト検知信号TEの各信号にNOR
素子24、25を接続したものである。FIG. 3 is a configuration diagram of the predecode circuit 11 in the semiconductor memory devices according to the first and second embodiments. As shown in FIG. 3, the predecode circuit 11 includes outputs ADDEXT and XA of a predecode signal generation circuit for selecting a word line connected to each memory cell.
NOR is applied to each of DDEXT and test detection signal TE.
The element 24 and the element 25 are connected.
【0028】この構成によれば、テストモード検知回路
7からのテスト検知信号TEがローレベル、つまり通常
動作時には、ADDEXT、XADDEXTに従って発
生する信号がPADD、PXADDとして、そのまま出
力され、テストモード検知回路からのテスト検知信号T
Eがハイレベル、つまりテストモード時には、PAD
D、PXADD共にハイレベルとなって出力され、多重
選択される。このように、プリデコード信号発生回路の
最終段のドライバーより手前に配置することで、メモリ
セルアレイ等のレイアウトサイズを軽減できる状態で、
多重選択手段が得られる。According to this configuration, when the test detection signal TE from the test mode detection circuit 7 is at a low level, that is, during normal operation, signals generated in accordance with ADDEXT and XADDEXT are output as they are as PADD and PXADD. Test detection signal T from
When E is at the high level, that is, in the test mode, the PAD
Both D and PXADD are output at a high level and are multiply selected. Thus, by arranging it before the driver at the final stage of the predecode signal generation circuit, the layout size of the memory cell array and the like can be reduced.
A multiple selection means is obtained.
【0029】なお、以上の実施の形態1、2において、
これらのプリデコード信号発生回路を、入力される全ア
ドレス端子に対して設置すれば、全ワード線の多重選択
となる。また、例えば、最下位の1アドレスのみNOR
素子をただの反転素子として、全ワード線の1/2の多
重選択を行うというように、ワード線の本数を分割して
一括選択することも可能である。In the first and second embodiments,
If these predecode signal generating circuits are provided for all input address terminals, multiple word lines can be selected. Also, for example, only the lowest one address is NOR
It is also possible to divide the number of word lines and select them collectively, for example, by performing multiple selection of half of all word lines by using the elements as simple inversion elements.
【0030】さらに、上記の実施の形態1の半導体記憶
装置に対して作用するセンスアンプコントロール回路に
ついて説明する。図4は上記の実施の形態1の半導体記
憶装置におけるセンスアンプSA1を活性化するセンス
アンプコントロール回路を示すものである。図4におい
て、27は図3に示すプリデコード回路11からのロウ
アドレスプリデコード信号PXADDを受けるデコーダ
(NAND素子)である。29はセンスアンプSA1を
動作可能とするセンスアンプイネーブル信号SEを受け
てセットされるフリップフロップであり、テストモード
検知回路7からの出力信号であるテスト検知信号TEを
反転した信号XTEを受けて、テストモード時で、信号
XTEがローレベルであるときは、NAND素子28の
動作により、信号EQをハイレベルにして固定する。Further, a sense amplifier control circuit acting on the semiconductor memory device of the first embodiment will be described. FIG. 4 shows a sense amplifier control circuit for activating the sense amplifier SA1 in the semiconductor memory device of the first embodiment. 4, a decoder (NAND element) 27 receives a row address predecode signal PXADD from the predecode circuit 11 shown in FIG. A flip-flop 29 is set in response to a sense amplifier enable signal SE that enables the sense amplifier SA1. The flip-flop 29 receives a signal XTE obtained by inverting the test detection signal TE output from the test mode detection circuit 7, In the test mode, when the signal XTE is at a low level, the operation of the NAND element 28 causes the signal EQ to be fixed at a high level.
【0031】通常動作時(XTE=High)には、デ
コーダ27から出力されるロウアドレスプリデコード信
号が最初に遷移し、PXADDn、PXADDm共にハ
イレベルのとき、信号EQをローレベルとして発生し、
センスアンプイネーブル信号SEがローレベルへ遷移す
ると、フリップフロップ29の出力がハイレベルとなっ
てセンスアンプSA1をディスエーブルにし、信号EQ
をハイレベルへあげる通常の動作を行ない、テストモー
ド時はこれらの信号がどのように遷移しても必ずイコラ
イズ状態を保持する。During normal operation (XTE = High), the row address predecode signal output from the decoder 27 transitions first, and when both PXADDn and PXADDm are at high level, the signal EQ is generated as low level.
When the sense amplifier enable signal SE changes to low level, the output of the flip-flop 29 changes to high level to disable the sense amplifier SA1, and the signal EQ
Is raised to the high level, and in the test mode, the equalized state is always maintained regardless of how these signals transition.
【0032】このようにすることで、通常動作時の場合
はイコライズおよびセンス動作を行わせ、テストモード
時はイコライズ動作のみにすることも可能であり、その
差は素子28がNANDであるか、インバーターである
かの差のみであり、レイアウト面積を増加させずに実施
可能となる。 (実施の形態3)本発明の実施の形態3の半導体記憶装
置を説明する。By doing so, it is possible to perform the equalizing and sensing operations in the normal operation, and to perform only the equalizing operation in the test mode. The difference is whether the element 28 is NAND or The difference is only the difference between the inverters and whether the inverters are used or not. Third Embodiment A semiconductor memory device according to a third embodiment of the present invention will be described.
【0033】図5は本実施の形態3の半導体記憶装置の
概略構成を示すブロック図である。この半導体記憶装置
は、図5に示すように、プリデコード回路31、ワード
線33、ビット線34、イコライズ回路35、イコライ
ズ電位切替回路36、37およびテストモード検知回路
38が、それぞれ図1に示すプリデコード回路11、ワ
ード線13、ビット線14、イコライズ回路15、イコ
ライズ電位切替回路6、5およびテストモード検知回路
7と同様に構成され、メモリセルアレイ32が、2つの
転送素子TS1、TS2と1つの記憶素子からなり、こ
の記憶ノードからの電位読み出しをオープンビット線3
4によって読み出すように構成されている。FIG. 5 is a block diagram showing a schematic configuration of the semiconductor memory device according to the third embodiment. In this semiconductor memory device, as shown in FIG. 5, a predecode circuit 31, a word line 33, a bit line 34, an equalizing circuit 35, equalizing potential switching circuits 36 and 37, and a test mode detecting circuit 38 are respectively shown in FIG. The memory cell array 32 has the same configuration as the predecode circuit 11, the word line 13, the bit line 14, the equalize circuit 15, the equalize potential switching circuits 6, 5, and the test mode detection circuit 7, and the memory cell array 32 includes two transfer elements TS1, TS2 and 1 Read from the storage node by the open bit line 3
4 for reading.
【0034】例えば、図1に示すビット線14を物理的
に交互に接地電圧と電源電圧の各電位へ固定化する場合
には、一方の転送素子TS1につながるビット線34と
他方の転送素子TS2につながるビット線34を反転さ
せた状態で、イコライズを行う構成となる。 (実施の形態4)本発明の実施の形態4の半導体記憶装
置を説明する。For example, when the bit lines 14 shown in FIG. 1 are physically and alternately fixed to the ground voltage and the power supply voltage, the bit line 34 connected to one transfer element TS1 and the other transfer element TS2 Is equalized in a state where the bit line 34 connected to is inverted. (Fourth Embodiment) A semiconductor memory device according to a fourth embodiment of the present invention will be described.
【0035】図6は本実施の形態4の半導体記憶装置の
概略構成を示すブロック図である。この半導体記憶装置
は、図6に示すように、ダミーワード線40、43およ
びビット線44が、それぞれ図2に示すダミーワード線
20、21およびビット線14と同様に構成されおり、
また、実施の形態3の半導体記憶装置と同様に、2つの
転送素子と1つの記憶素子からなるメモリセルを用いて
いる。FIG. 6 is a block diagram showing a schematic configuration of a semiconductor memory device according to the fourth embodiment. In this semiconductor memory device, as shown in FIG. 6, dummy word lines 40 and 43 and bit line 44 are configured similarly to dummy word lines 20 and 21 and bit line 14 shown in FIG. 2, respectively.
Further, similarly to the semiconductor memory device of the third embodiment, a memory cell including two transfer elements and one storage element is used.
【0036】このような半導体記憶装置において、ダミ
ー領域に配置されたメモリセルの記憶ノードを接地電圧
かあるいは電源電圧による各電位に短絡させておき、ダ
ミー領域42側のダミーワード線(WLa)40とダミ
ー領域45側のダミーワード線(WLb)43とを、双
方ともたちあげ、それ以外のダミーワード線は活性させ
ない状態をつくると、ビット線44の電位は電源電圧と
接地電圧による電位となり、かつ、この活性化するワー
ド線の組合せを反対にするとビット線44は反対の電位
となり得る。In such a semiconductor memory device, the storage node of the memory cell arranged in the dummy region is short-circuited to each of the ground voltage or the power supply voltage, and the dummy word line (WLa) 40 on the dummy region 42 side is set. And the dummy word line (WLb) 43 on the side of the dummy region 45 is raised, and the other dummy word lines are not activated, the potential of the bit line 44 becomes the potential based on the power supply voltage and the ground voltage, In addition, when the combination of the activated word lines is reversed, the bit line 44 can have the opposite potential.
【0037】このとき、本当にストレスをかけたいワー
ド線は、必ずどちらか一方のみとすれば、記憶ノードに
おける電位ショートをさけることができ、また電位のか
け方をもコントロールすることができる。なお、上記の
各実施の形態の半導体記憶装置におけるアドレス発生回
路部ADD1、ADD2について、図8において、テス
トモード時にリフレッシュカウンタ50をイネーブル化
して、これをアドレスとして使用することもできる。At this time, if only one of the word lines to which a stress is really required is always provided, it is possible to avoid a potential short-circuit at the storage node and to control the manner of applying the potential. In FIG. 8, the refresh counter 50 can be enabled in the test mode for the address generation circuit units ADD1 and ADD2 in the semiconductor memory device of each of the above embodiments, and can be used as an address.
【0038】これにより、テストモード検知回路7、3
8により発生したテスト検知信号TEをリフレッシュカ
ウンタ50に入力すると、リフレッシュカウンタ50が
動作し、リフレッシュカウンタ50の出力をプリデコー
ドするプリデコード回路51に入力することで、アドレ
ス発生を自動化することができ、ほとんどの回路が通常
状態で使用する回路であるから、レイアウト面積の抑制
につながる。Thus, the test mode detection circuits 7, 3
When the test detection signal TE generated in step 8 is input to the refresh counter 50, the refresh counter 50 operates, and by inputting the output of the refresh counter 50 to the pre-decoding circuit 51, the address generation can be automated. Since most circuits are used in a normal state, the layout area can be reduced.
【0039】また、以上の各実施の形態において、テス
トモードでのテストの例としては、バーイン工程でのス
トレス印加であっても一括書き込みであってもよい。In each of the above embodiments, examples of the test in the test mode may be a stress application in a burn-in process or a batch write.
【0040】[0040]
【発明の効果】以上のように本発明によれば、テストモ
ードを検知するテストモード検知回路と、テスト検知信
号の非出力時はイコライズ電位発生回路からのイコライ
ズ電位を供給し、テスト検知信号の出力時はイコライズ
電位の供給を停止し、電源電圧または接地電圧に切り替
えるイコライズ電位切替回路と、メモリセルアレイのビ
ット線とをセンスアンプ周辺に備えたことにより、ビッ
ト線に対して接地電圧供給と電源電圧供給とを交互に切
り替えることが可能となり、さらに、このイコライズ電
位切替回路をセンスアンプ列周辺に配置することで、ト
ランジスタサイズおよびイコライズ電位線の増大を抑制
することができる。As described above, according to the present invention, the test mode detecting circuit for detecting the test mode and the equalizing potential from the equalizing potential generating circuit when the test detecting signal is not output are supplied to the test mode detecting circuit. At the time of output, the supply of the equalizing potential is stopped, and an equalizing potential switching circuit for switching to the power supply voltage or the ground voltage and the bit line of the memory cell array are provided around the sense amplifier. It is possible to alternately switch between the supply of voltage and the supply of voltage. Further, by arranging this equalizing potential switching circuit around the sense amplifier array, it is possible to suppress an increase in the transistor size and the equalizing potential line.
【0041】また、ワード線及びビット線間のストレス
印加を実行することができ、テストモードにおける一括
したビット線へのデータ書き込みを実行することができ
る。また、上記のテストモードにおける一括したビット
線へのデータ書き込みを、既存の回路を利用して、回路
素子数の増加を回避し、レイアウト面積を増大させるこ
となく、実現することができる。Further, stress can be applied between the word lines and the bit lines, and data can be written to the bit lines in the test mode. In addition, the collective writing of data to the bit lines in the test mode can be realized by using existing circuits, avoiding an increase in the number of circuit elements, and without increasing the layout area.
【0042】以上のため、回路構成のためのレイアウト
面積の増大を軽減し、かつテストモード時には、そのテ
ストモードにより初期故障スクリーニングを実施する際
のスクリーニング効率を高めることができ、より高い信
頼性加速を得ることができる。As described above, the increase in the layout area for the circuit configuration can be reduced, and in the test mode, the screening efficiency in performing the initial fault screening in the test mode can be increased, and the higher reliability can be achieved. Can be obtained.
【図1】本発明の実施の形態1の半導体記憶装置の概略
構成を示すブロック図FIG. 1 is a block diagram illustrating a schematic configuration of a semiconductor memory device according to a first embodiment of the present invention;
【図2】本発明の実施の形態2の半導体記憶装置の概略
構成を示すブロック図FIG. 2 is a block diagram illustrating a schematic configuration of a semiconductor memory device according to a second embodiment of the present invention;
【図3】本発明の実施の形態1および実施の形態2にお
けるプリデコード回路の概略図FIG. 3 is a schematic diagram of a predecode circuit according to the first and second embodiments of the present invention.
【図4】本発明の実施の形態1におけるセンスアンプコ
ントロール回路の概略図FIG. 4 is a schematic diagram of a sense amplifier control circuit according to the first embodiment of the present invention.
【図5】本発明の実施の形態3の半導体記憶装置の概略
構成を示すブロック図FIG. 5 is a block diagram illustrating a schematic configuration of a semiconductor memory device according to a third embodiment of the present invention;
【図6】本発明の実施の形態4の半導体記憶装置の概略
構成を示すブロック図FIG. 6 is a block diagram illustrating a schematic configuration of a semiconductor memory device according to a fourth embodiment of the present invention;
【図7】従来の半導体記憶装置におけるストレス加速手
段の構成を示すブロック図FIG. 7 is a block diagram showing a configuration of a stress accelerating unit in a conventional semiconductor memory device;
【図8】本発明の各実施の形態におけるアドレス発生回
路部の概略図FIG. 8 is a schematic diagram of an address generation circuit unit in each embodiment of the present invention.
11、51 プリデコード回路 5、6 イコライズ電位切替回路 13 ワード線 14 ビット線 15 イコライズ回路 20、40、43 ダミーワード線 22、42、45 ダミー領域内のメモリセルアレイ 24、25 NOR素子 26、28 NAND素子 27 デコーダ(NAND素子) 29 フリップフロップ 50 リフレッシュカウンタ 11, 51 Predecode circuit 5, 6 Equalize potential switching circuit 13 Word line 14 Bit line 15 Equalize circuit 20, 40, 43 Dummy word line 22, 42, 45 Memory cell array 24, 25 NOR element 26, 28 NAND in dummy area Element 27 Decoder (NAND element) 29 Flip-flop 50 Refresh counter
Claims (11)
メモリセルアレイと、前記複数のメモリセルのうち各行
に対応するメモリセルを駆動するワード線と、前記複数
のメモリセルのうち各列に対応するメモリセルに蓄積さ
れた電位をセンスアンプへ接続するように対応づけられ
たビット線とが形成され、前記メモリセルアレイに対
し、テスト電位を供給して良否をテストするテストモー
ドを有する半導体記憶装置であって、前記テストモード
を検知しテスト検知信号を出力するテストモード検知回
路と、前記ビット線に、前記メモリセルアレイに対する
イコライズを起動するためのイコライズ起動信号を受け
て、前記イコライズのためのイコライズ電位を供給する
イコライズ回路と、前記イコライズ電位を発生するイコ
ライズ電位発生回路と、前記テストモード検知回路から
のテスト検知信号の出力状態に基づいて、前記ビット線
に、前記イコライズ電位と前記テスト電位とを切替えて
供給するイコライズ電位切替回路と、前記イコライズ電
位切替回路の前記切替えを制御して、前記ビット線への
電位供給を制御する制御回路とを備え、前記制御回路
を、前記イコライズ電位切替回路により、前記ビット線
に対し、テスト検知信号非出力時は前記イコライズ電位
発生回路からのイコライズ電位を供給し、テスト検知信
号出力時は前記イコライズ電位発生回路からのイコライ
ズ電位の供給を停止して前記テスト電位を供給して、前
記ビット線に交互に異なる電位を供給するように、前記
イコライズ電位切替回路を制御するよう構成したことを
特徴とする半導体記憶装置。A memory cell array in which a plurality of memory cells are arranged in a matrix; a word line for driving a memory cell corresponding to each row of the plurality of memory cells; and a column in each of the plurality of memory cells. A semiconductor memory having a test mode in which a test potential is supplied to the memory cell array by forming a test potential by forming a bit line associated with the sense amplifier to connect the potential stored in the corresponding memory cell to the sense amplifier; A test mode detection circuit for detecting the test mode and outputting a test detection signal; and receiving, on the bit line, an equalization activation signal for activating the equalization for the memory cell array, for performing the equalization. An equalizing circuit for supplying an equalizing potential, and an equalizing potential generating circuit for generating the equalizing potential. An equalizing potential switching circuit that switches the equalizing potential and the test potential to the bit line based on an output state of a test detection signal from the test mode detecting circuit, and the switching of the equalizing potential switching circuit. And a control circuit for controlling the supply of a potential to the bit line. The control circuit controls the equalizing potential switching circuit to generate the equalizing potential when the test detection signal is not output to the bit line. An equalizing potential is supplied from a circuit, and when a test detection signal is output, the supply of the equalizing potential from the equalizing potential generating circuit is stopped and the test potential is supplied, so that different potentials are alternately supplied to the bit lines. A semiconductor memory device configured to control the equalizing potential switching circuit.
に対してイコライズ電位切替回路を通じて供給されるテ
スト電位の供給手段として、前記メモリセルアレイのダ
ミー領域に配置され、その領域の記憶ノードを、交互
に、接地電圧を供給している電源配線と電源電圧を供給
している電源配線とに、短絡したダミーセルアレイと、
テストモード検知回路からテスト検知信号出力時は、イ
コライズ電位発生回路からのイコライズ電位の前記ダミ
ーセルアレイのビット線への供給を停止し、前記ダミー
セルアレイのワード線を駆動する制御回路とを設けたこ
とを特徴とする請求項1に記載の半導体記憶装置。2. As a means for supplying a test potential supplied through a equalizing potential switching circuit to a bit line connected to a memory cell array, the test node is arranged in a dummy region of the memory cell array, and storage nodes in the region are alternately arranged. A short-circuited dummy cell array in the power supply line supplying the ground voltage and the power supply line supplying the power supply voltage,
And a control circuit for stopping the supply of the equalizing potential from the equalizing potential generating circuit to the bit lines of the dummy cell array and driving the word lines of the dummy cell array when the test mode detecting circuit outputs the test detecting signal. 2. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein:
択回路を設け、前記ワード線選択回路を、テストモード
検知回路からテスト検知信号の出力時のみ、前記ワード
線を物理的に交互となるように複数本選択し、前記ワー
ド線に交互に異なる電位を供給するよう構成したことを
特徴とする請求項1または請求項2に記載の半導体記憶
装置。3. A word line selection circuit for physically selecting a word line is provided, and the word line selection circuit is configured to alternate the word lines physically only when a test detection signal is output from a test mode detection circuit. 3. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein a plurality of memory cells are selected and different potentials are alternately supplied to the word lines.
信号の出力時にワード線選択回路により選択されたワー
ド線に対する供給電位による昇圧の開始よりも早く、ダ
ミー領域のワード線を昇圧し、かつ前記ダミー領域のワ
ード線の昇圧の際には、センスアンプを活性化する手段
を具備したことを特徴とする請求項3に記載の半導体記
憶装置。4. A method for boosting a word line in a dummy area earlier than the start of boosting by a supply potential to a word line selected by a word line selection circuit when a test detection signal is output from a test mode detection circuit, and 4. The semiconductor memory device according to claim 3, further comprising means for activating a sense amplifier when boosting a word line in the region.
号の出力時は、センスアンプをイコライズ状態に保持す
ることを特徴とする請求項1から請求項4のいずれかに
記載の半導体記憶装置。5. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein a sense amplifier is held in an equalized state when a test detection signal is output from a test mode detection circuit.
号の出力時は、ワード線選択回路に対応するアドレスの
複数ビットを選択状態とし、残りのビットのみを前記ワ
ード線選択回路へ入力することで任意に多重選択を実行
することを特徴とする請求項1から請求項5のいずれか
に記載の半導体記憶装置。6. When outputting a test detection signal from a test mode detection circuit, a plurality of bits of an address corresponding to a word line selection circuit are selected, and only the remaining bits are input to the word line selection circuit. 6. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein a multiple selection is performed.
配線と接続した電荷蓄積素子と、前記電荷蓄積素子と前
記メモリセルに対応づけた第1のビット線との間に接続
されて電荷を転送する第1の転送素子と、前記電荷蓄積
素子と前記メモリセルに対応づけた第2のビット線との
間に接続されて電荷を転送する第2の転送素子とを設
け、テストモード検知回路からテスト検知信号の出力時
は、センスアンプのうちの第1のセンスアンプ列と第2
のセンスアンプ列に挟まれた第1のメモリセルブロック
内の前記第1のビット線と第2のビット線に対する各供
給電位を異なる電圧レベルとしたことを特徴とする請求
項1から請求項6のいずれかに記載の半導体記憶装置。7. A charge transfer device connected to a precharge power supply line and connected between a charge storage device and a first bit line associated with the memory cell to transfer a charge to a memory cell. And a second transfer element connected between the charge storage element and a second bit line associated with the memory cell to transfer charges, and When the test detection signal is output, the first sense amplifier row of the sense amplifiers and the second
7. The supply potentials for the first bit line and the second bit line in the first memory cell block sandwiched between the sense amplifier columns are set to different voltage levels. The semiconductor memory device according to any one of the above.
ンプ列と第2のセンスアンプ列とに挟まれた状態に配置
し、メモリセルを、それらの記憶ノードのうちの前記ダ
ミー領域のワード線につながる記憶ノードが、交互に、
接地電圧を供給している電源配線と電源電圧を供給して
いる電源配線とに短絡するように構成したことを特徴と
する請求項7に記載の半導体記憶装置。8. A word line of a dummy area is arranged between a first sense amplifier row and a second sense amplifier row, and a memory cell is stored in a word of the dummy area among the storage nodes. The storage nodes connected to the line alternately
8. The semiconductor memory device according to claim 7, wherein a short circuit is provided between a power supply line supplying a ground voltage and a power supply line supplying a power supply voltage.
らテスト検知信号の出力時のみ、ワード線選択回路がダ
ミー領域のワード線を物理的に交互となるように選択す
るよう構成したことを特徴とする請求項8に記載の半導
体記憶装置。9. The memory cell according to claim 1, wherein the word line selection circuit selects the word lines of the dummy area so as to be physically alternated only when the test mode detection circuit outputs the test detection signal. 9. The semiconductor memory device according to claim 8, wherein:
信号の出力時に、入力アドレスによって、複数のワード
線に対する選択を変更する手段を具備したことを特徴と
する請求項1または請求項2または請求項4から請求項
9のいずれかに記載の半導体記憶装置。10. The apparatus according to claim 1, further comprising means for changing selection of a plurality of word lines according to an input address when a test detection signal is output from the test mode detection circuit. 10. The semiconductor memory device according to claim 1.
信号の出力時に、複数のワード線に対する選択を、内部
に備えたリフレッシュカウンタのカウント値を基に実行
する手段を具備することを特徴とする請求項1または請
求項2または請求項4から請求項10のいずれかに記載
の半導体記憶装置。11. A system according to claim 1, further comprising means for selecting a plurality of word lines based on a count value of a refresh counter provided therein when the test detection signal is output from the test mode detection circuit. 11. The semiconductor memory device according to claim 1, 2 or 4 to 10.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29306899A JP2001118397A (en) | 1999-10-15 | 1999-10-15 | Semiconductor storage device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29306899A JP2001118397A (en) | 1999-10-15 | 1999-10-15 | Semiconductor storage device |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001118397A true JP2001118397A (en) | 2001-04-27 |
Family
ID=17790051
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP29306899A Pending JP2001118397A (en) | 1999-10-15 | 1999-10-15 | Semiconductor storage device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001118397A (en) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005332446A (en) * | 2004-05-18 | 2005-12-02 | Fujitsu Ltd | Semiconductor memory |
| US7310274B2 (en) | 2004-10-21 | 2007-12-18 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Semiconductor device |
| JP2008047227A (en) * | 2006-08-17 | 2008-02-28 | Fujitsu Ltd | Semiconductor memory and system |
| US7447088B2 (en) | 2006-01-25 | 2008-11-04 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Semiconductor memory device having an open bit line structure, and method of testing the same |
-
1999
- 1999-10-15 JP JP29306899A patent/JP2001118397A/en active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005332446A (en) * | 2004-05-18 | 2005-12-02 | Fujitsu Ltd | Semiconductor memory |
| US7310274B2 (en) | 2004-10-21 | 2007-12-18 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Semiconductor device |
| US7447088B2 (en) | 2006-01-25 | 2008-11-04 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Semiconductor memory device having an open bit line structure, and method of testing the same |
| JP2008047227A (en) * | 2006-08-17 | 2008-02-28 | Fujitsu Ltd | Semiconductor memory and system |
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