JP2001101613A - Magnetic head, method of manufacturing magnetic head, video using magnetic head, and movie using magnetic head - Google Patents
Magnetic head, method of manufacturing magnetic head, video using magnetic head, and movie using magnetic headInfo
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Abstract
(57)【要約】 (修正有)
【課題】 耐食性と入出力特性に優れ、基材割れを減ず
ることが出来る磁気ヘッド、磁気ヘッドの製造方法。
【解決手段】 磁気ヘッドは、一対の磁気コア半体MC
1,MC2と、一対の磁気コア半体の間に形成され一対
の磁気コア半体を接合する非磁性材料N3とを備え、一
対の磁気コア半体のそれぞれは、酸化物磁性体と、酸化
物磁性体のそれぞれの上に形成される少なくとも1層の
下地膜と、下地膜のそれぞれと非磁性材料との間に形成
される金属磁性薄膜(平均体積Vaと平均表面積Saが
Sa〉4.84Va2/3を満たす磁性結晶粒を母相す
る磁性膜を含む。)EM3とを備え、磁気コア半体の少
なくとも一方には巻き線窓21Aが形成され、金属磁性
薄膜は、金属磁性薄膜内に発生する好ましくない内部応
力により酸化物磁性体が割れないように形成される。
(57) [Summary] (with correction) [PROBLEMS] To provide a magnetic head and a method of manufacturing a magnetic head which are excellent in corrosion resistance and input / output characteristics and can reduce substrate cracking. A magnetic head includes a pair of magnetic core halves MC.
1 and MC2, and a non-magnetic material N3 formed between the pair of magnetic core halves and joining the pair of magnetic core halves. Each of the pair of magnetic core halves includes an oxide magnetic material, an oxide At least one underlayer formed on each of the magnetic materials, and a metal magnetic thin film formed between each of the underlayers and the nonmagnetic material (the average volume Va and the average surface area Sa are Sa> 4. including a magnetic film with magnetic crystal grains satisfying 84Va 2/3 to matrix.) and a EM3, is formed winding window 21A in at least one of the magnetic core halves, the metal magnetic thin film, the magnetic metal in the thin film The oxide magnetic material is formed so as not to be broken due to undesired internal stress generated during the heating.
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、耐食性と入出力特
性に優れるとともに基材割れを減ずることが出来る構造
を有する磁気ヘッド、磁気ヘッドの製造方法、磁気ヘッ
ドを用いたビデオおよび磁気ヘッドを用いたムービーに
関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a magnetic head having a structure which is excellent in corrosion resistance and input / output characteristics and can reduce substrate cracking, a method of manufacturing the magnetic head, and a video and magnetic head using the magnetic head. About the movie that was.
【0002】[0002]
【従来の技術】従来、VTR用などの磁気ヘッドとして
は、一対のフェライトを接合して磁気コアを形成したフ
ェライトヘッドが用いられてきた。近年の磁気記録の高
密度化に伴って、記録/再生ギャップ周辺に、フェライ
トより高飽和磁束密度な金属磁性材料を形成したメタル
インギャップヘッド(MIGヘッド)が用いられるよう
になっている。2. Description of the Related Art Conventionally, as a magnetic head for a VTR or the like, a ferrite head having a magnetic core formed by joining a pair of ferrites has been used. With the recent increase in density of magnetic recording, a metal-in-gap head (MIG head) in which a metal magnetic material having a higher saturation magnetic flux density than ferrite is formed around a recording / reproducing gap.
【0003】従来のフェライトヘッド、MIGヘッドの
例の模式図をそれぞれ図8、図9A〜図9Dに示す。FIGS. 8 and 9A to 9D are schematic views showing examples of conventional ferrite heads and MIG heads, respectively.
【0004】図8を参照して、フェライトヘッド300
は、一対のフェライトF1A、F1Bと、一対のフェラ
イトF1A、F1Bの間に形成され一対のフェライトF
1A、F1Bを接合する非磁性材料N1と接合ガラスG
1とを備える。Referring to FIG. 8, a ferrite head 300
Is formed between a pair of ferrites F1A, F1B and a pair of ferrites F1A, F1B.
Non-magnetic material N1 for bonding 1A and F1B and bonding glass G
1 is provided.
【0005】図9A〜図9Dを参照して、MIGヘッド
400は、一対の磁気コア半体MCA、MCBと、一対
の磁気コア半体MCA、MCBの間に形成され一対の磁
気コア半体MCA、MCBを接合する非磁性材料N2と
接合ガラスG2とを備える。一対の磁気コア半体MC
A、MCBのそれぞれは、フェライトF2A、F2B
と、フェライトF2A、F2Bとのそれぞれの上に形成
される少なくとも1層の下地膜(図示せず)と、下地膜
のそれぞれと非磁性材料N2との間に形成される金属磁
性薄膜FM2とを備える。Referring to FIGS. 9A to 9D, a MIG head 400 includes a pair of magnetic core halves MCA and MCB, and a pair of magnetic core halves MCA and MCB formed between the pair of magnetic core halves MCA and MCB. , And a nonmagnetic material N2 for joining the MCB and a joining glass G2. A pair of magnetic core halves MC
A and MCB are ferrites F2A, F2B
And at least one base film (not shown) formed on each of the ferrites F2A and F2B, and a metal magnetic thin film FM2 formed between each of the base films and the nonmagnetic material N2. Prepare.
【0006】金属磁性薄膜としては、非晶質材料(例え
ば特開昭63−120653号公報)や、Feを主体と
する非晶質膜から熱処理を施し5〜20nm程度の微結
晶を析出させた、Fe−N系、Fe−C系材料(例え
ば、長谷川:日本応用磁気学会誌、14、319−32
2(1990)、Nago IEEE,Trans.,
magn.,vol.28,No.5(1992))な
どが開発されている。As a metal magnetic thin film, an amorphous material (for example, JP-A-63-120563) or a heat treatment is performed on an amorphous film mainly composed of Fe to precipitate microcrystals of about 5 to 20 nm. , Fe-N-based, Fe-C-based materials (for example, Hasegawa: Journal of the Japan Society of Applied Magnetics, 14, 319-32)
2 (1990), Nago IEEE, Trans. ,
magn. , Vol. 28, No. 5 (1992)).
【0007】これら金属磁性薄膜の内、特に、磁性金属
組成の微結晶粒子を析出または粒成長させることによ
り、1.2T以上の高飽和磁束密度と軟磁気特性を持た
せている材料では、耐食性の改善が必要である。[0007] Among these metal magnetic thin films, in particular, a material having a high saturation magnetic flux density of 1.2 T or more and a soft magnetic property by precipitating or growing microcrystalline particles of a magnetic metal composition has a high corrosion resistance. Need improvement.
【0008】そのために、不動態を形成する軽元素をこ
れらの材料に添加することが試みられているが、このよ
うな軽元素は、酸素、窒素などと反応しやすいために、
非晶質化もしくは微結晶化のために用いられる酸素など
と反応してしまい、磁性金属微結晶粒中に残りにくい。For this purpose, attempts have been made to add a passivation-forming light element to these materials. However, such a light element is liable to react with oxygen, nitrogen and the like.
It reacts with oxygen or the like used for amorphization or microcrystallization, and hardly remains in magnetic metal microcrystal grains.
【0009】そこで、不動態を形成する軽元素を添加す
ると共に、磁性結晶粒を比較的大きくかつ表面積が大き
い形状に組織制御し、磁気特性や高飽和磁束密度と同時
に耐食性を満たす金属磁性薄膜(例えば、特開平10−
223435号公報)が開発されている。In view of this, a light element which forms a passivation is added, and the structure of the magnetic crystal grains is controlled to have a relatively large size and a large surface area. For example, JP-A-10-
223435) has been developed.
【0010】[0010]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、MIG
ヘッドは、酸化物であるフェライトと金属磁性薄膜との
複合デバイスであるために、ヘッドの構造や金属磁性薄
膜の材料特性に起因して、金属磁性薄膜に生じる内部応
力による基材(フェライト)の割れ、界面での反応によ
る磁気特性の劣化などが生じるという課題がある。SUMMARY OF THE INVENTION However, MIG
Since the head is a composite device of ferrite, which is an oxide, and a metal magnetic thin film, the substrate (ferrite) due to internal stress generated in the metal magnetic thin film due to the structure of the head and the material properties of the metal magnetic thin film There is a problem that the magnetic properties are deteriorated due to cracks and reactions at the interface.
【0011】また、金属磁性薄膜の材料特性に応じて、
最適なヘッド構造は変化する。磁気ヘッドとしての特性
を向上するためには、材料設計のみならず、これら内部
応力による基材(フェライト)の割れ、界面での反応に
よる磁気特性の劣化の課題を解決しなければならない。Further, according to the material characteristics of the metal magnetic thin film,
The optimal head structure varies. In order to improve the characteristics of the magnetic head, it is necessary to solve not only the material design but also the problems of cracking of the base material (ferrite) due to the internal stress and deterioration of the magnetic characteristics due to reaction at the interface.
【0012】本発明の目的は、耐食性と入出力特性に優
れると共に基材割れを減ずることが出来る磁気ヘッド、
磁気ヘッドの製造方法、磁気ヘッドを用いたビデオおよ
び磁気ヘッドを用いたムービーを提供することにある。An object of the present invention is to provide a magnetic head which is excellent in corrosion resistance and input / output characteristics and can reduce substrate cracking.
An object of the present invention is to provide a method for manufacturing a magnetic head, a video using the magnetic head, and a movie using the magnetic head.
【0013】本発明の他の目的は、金属磁性薄膜の材料
特性とMIGヘッドの構造とを互いに最適な物にするこ
とにある。It is another object of the present invention to optimize the material characteristics of the metal magnetic thin film and the structure of the MIG head.
【0014】[0014]
【課題を解決するための手段】本発明に係る磁気ヘッド
は、一対の磁気コア半体と、前記一対の磁気コア半体の
間に形成され前記一対の磁気コア半体を接合する非磁性
材料とを備え、前記一対の磁気コア半体のそれぞれは、
酸化物磁性体と、前記酸化物磁性体のそれぞれの上に形
成される少なくとも1層の下地膜と、前記下地膜のそれ
ぞれと前記非磁性材料との間に形成される金属磁性薄膜
とを備え、前記金属磁性薄膜は、平均体積Vaと平均表
面積Saとが、Sa>4.84Va2/3を満たす磁性結
晶粒を母相とする磁性膜を含む磁性薄膜であり、前記磁
気コア半体の少なくとも一方には巻き線窓が形成され、
前記金属磁性薄膜は、前記金属磁性薄膜内に発生する好
ましくない内部応力により前記酸化物磁性体が割れない
ように形成され、そのことにより上記目的が達成され
る。A magnetic head according to the present invention comprises a pair of magnetic core halves and a non-magnetic material formed between the pair of magnetic core halves to join the pair of magnetic core halves. Wherein each of the pair of magnetic core halves is
An oxide magnetic body, at least one underlayer formed on each of the oxide magnetic bodies, and a metal magnetic thin film formed between each of the underlayers and the nonmagnetic material The metal magnetic thin film is a magnetic thin film including a magnetic film having a magnetic crystal grain having an average volume Va and an average surface area Sa satisfying Sa> 4.84 Va 2/3 as a mother phase. At least one has a winding window,
The metal magnetic thin film is formed so that the oxide magnetic material is not cracked by an undesired internal stress generated in the metal magnetic thin film, thereby achieving the above object.
【0015】前記金属磁性薄膜は、磁性結晶粒を含み、
前記磁性結晶粒は、50nmを超える平均最大長を有し
てもよい。The metal magnetic thin film includes magnetic crystal grains,
The magnetic grains may have an average maximum length greater than 50 nm.
【0016】前記磁性結晶粒は、略針状体、略柱状体ま
たはこれらの組み合わせからなる多枝形状体を含み、前
記略針状体または前記略柱状体の短手方向の平均結晶サ
イズは、5nmよりも大きく、60nmよりも小さくて
もよい。The magnetic crystal grains include a substantially needle-like body, a substantially columnar body, or a multi-branched body made of a combination thereof. The average crystal size of the substantially needle-like body or the substantially columnar body in the lateral direction is as follows: It may be larger than 5 nm and smaller than 60 nm.
【0017】前記磁性結晶粒の短手方向の結晶サイズの
平均dSおよび長手方向の結晶サイズの平均dLが5n
m<dS<60nm、60nm<dL<5000nmを
満たしてもよい。The average dS of the crystal size in the short direction and the average dL of the crystal size in the long direction of the magnetic crystal grains are 5n.
m <dS <60 nm and 60 nm <dL <5000 nm may be satisfied.
【0018】前記金属磁性薄膜は、(MaXbZc)100-d
Adで示される組成を有し、MはFe、Co、Niから
選ばれる少なくとも1種の磁性金属元素を含み、XはS
i、Al、Ga及びGeから選ばれる少なくとも1種の
元素を含み、ZはIVa族、Va族、Al、Ga及びC
rから選ばれる少なくとも1種の元素を含み、AはOお
よびNの少なくとも1種の元素を含み、a、b、cおよ
びdは、0.1≦b≦26、0.1≦c≦5、a+b+
c=100および1≦d≦10 なる関係式を満たす数
値であってもよい。The metal magnetic thin film is (M a X b Z c ) 100-d
Has a composition represented by A d, M includes at least one magnetic metal element selected Fe, Co, from Ni, X is S
i contains at least one element selected from Al, Ga and Ge, and Z is a group IVa, a group Va, Al, Ga and C
r contains at least one element selected from r, A contains at least one element of O and N, and a, b, c and d are 0.1 ≦ b ≦ 26, 0.1 ≦ c ≦ 5 , A + b +
It may be a numerical value satisfying the relational expression of c = 100 and 1 ≦ d ≦ 10.
【0019】前記一対の磁気コア半体のそれぞれは、他
方の磁気コア半体と前記非磁性材料を介して接合する接
合面と、被記録媒体と摺動する摺動面と、前記接合面と
前記摺動面とに連続する側面とを有し、前記金属磁性薄
膜は、前記側面には形成されてもよい。Each of the pair of magnetic core halves has a bonding surface for bonding with the other magnetic core half via the non-magnetic material, a sliding surface for sliding on a recording medium, and a bonding surface. A side surface continuous with the sliding surface may be provided, and the metal magnetic thin film may be formed on the side surface.
【0020】前記金属磁性薄膜は、(FeaSibAlc
Td)100-eNeで示される組成を有し、TはTiおよび
Taから選ばれる少なくとも1種の元素を含み、a、
b、c、dおよびeは、10≦b≦23、0.1≦d≦
5、0.1≦c+d≦8、a+b+c+d=100およ
び1≦e≦10なる関係式を満たす数値であってもよ
い。The metal magnetic thin film is made of (Fe a Si b Al c
T d ) having a composition represented by 100-e Ne , wherein T contains at least one element selected from Ti and Ta;
b, c, d and e are 10 ≦ b ≦ 23, 0.1 ≦ d ≦
5, a numerical value satisfying the relational expressions of 0.1 ≦ c + d ≦ 8, a + b + c + d = 100, and 1 ≦ e ≦ 10 may be used.
【0021】ZはIVa族、Va族及びCrから選ばれ
る少なくとも1種の元素を含んでもよい。Z may include at least one element selected from the group IVa, group Va, and Cr.
【0022】XはSi及びGeから選ばれる少なくとも
1種の元素を含み、a、b、cおよびdは、0.1≦b
≦23、0.1≦c≦8、a+b+c=100および1
≦d≦10 なる関係式を満たす数値であってもよい。X contains at least one element selected from Si and Ge, and a, b, c and d are 0.1 ≦ b
≦ 23, 0.1 ≦ c ≦ 8, a + b + c = 100 and 1
It may be a numerical value satisfying the relational expression of ≦ d ≦ 10.
【0023】前記金属磁性薄膜は、(FeaSibAlc
Tid)100-e-fNeOfで示される組成を有し、a、b、
c、d、eおよびfは、 10≦b≦23、0.1≦d≦5、0.1≦c+d≦
8、a+b+c+d=100、1≦e+f≦10および
0.1≦f≦5 なる関係式を満たす数値であってもよい。The metal magnetic thin film is formed of (Fe a Si b Al c
Ti d) has a composition represented by 100-ef N e O f, a, b,
c, d, e and f are: 10 ≦ b ≦ 23, 0.1 ≦ d ≦ 5, 0.1 ≦ c + d ≦
8, a + b + c + d = 100, 1 ≦ e + f ≦ 10, and 0.1 ≦ f ≦ 5.
【0024】前記下地膜は、Al、Siの酸化物、窒化
物およびその混合物のいずれかを含んでもよい。The base film may contain any of oxides and nitrides of Al and Si and a mixture thereof.
【0025】前記下地膜は、前記磁気コア半体に接する
下地層Aと、前記金属磁性薄膜に接する下地層Bとを含
み、前記下地層Aは、Al、Siの酸化物、窒化物およ
びその混合物のいずれかを含み、前記下地層Bは、前記
金属磁性薄膜の主構成元素と、前記金属磁性薄膜より多
くの酸素または窒素を含み、前記下地層Bは、結晶粒を
含み、前記結晶粒の平均粒径は、少なくとも前記下地層
Bが前記下地層Aに接する界面近傍において、5nm以
下であってもよい。The underlayer includes an underlayer A in contact with the magnetic core half, and an underlayer B in contact with the metal magnetic thin film. The underlayer A is composed of oxides and nitrides of Al and Si and the same. The underlayer B contains a main constituent element of the metal magnetic thin film and more oxygen or nitrogen than the metal magnetic thin film, the underlayer B contains crystal grains, May be 5 nm or less at least near the interface where the underlayer B contacts the underlayer A.
【0026】前記下地層Aは、Al酸化物を含み、前記
下地層Aの厚みは、0.5nm以上4nm以下であり、
前記下地層Bの厚みは、0.5nm以上200nm以下
であってもよい。The underlayer A contains an Al oxide, and the thickness of the underlayer A is 0.5 nm or more and 4 nm or less,
The thickness of the underlayer B may be 0.5 nm or more and 200 nm or less.
【0027】前記酸化物磁性体は、単結晶フェライトを
含み、前記単結晶フェライトは、前記一対の磁気コア半
体が前記非磁性材料を介して接合する面に対応する接合
面と前記一対の磁気コア半体が被記録媒体と摺動する面
に対応する摺動面とを有してもよい。The oxide magnetic material includes a single crystal ferrite, and the single crystal ferrite includes a bonding surface corresponding to a surface where the pair of magnetic core halves are bonded via the nonmagnetic material, and the pair of magnetic cores. The core half may have a sliding surface corresponding to the surface on which the recording medium slides.
【0028】前記単結晶フェライトは、Amol%のF
e2O3と、Bmol%のMnOと、Cmol%のZnO
とから構成されるMnZn単結晶フェライトを含み、
A、BおよびCは、 52≦A≦57、5≦B≦29、16≦C≦21 なる関係式を満たす数値であってもよい。The single crystal ferrite has an Amol% of F
e 2 O 3 , B mol% of MnO, and C mol% of ZnO
MnZn single crystal ferrite composed of
A, B and C may be numerical values satisfying the relational expressions of 52 ≦ A ≦ 57, 5 ≦ B ≦ 29, and 16 ≦ C ≦ 21.
【0029】前記磁気コア半体は、前記一対の磁気コア
半体が前記非磁性材料を介して接合する面に対応する接
合面と前記一対の磁気コア半体が被記録媒体と摺動する
面に対応する摺動面とを有し、前記少なくとも1つの磁
気コア半体は、前記巻き線窓を形成する底面と前記巻き
線窓を形成する第1側面とを有し、前記第1側面は、前
記底面から前記接合面に向かって形成され、前記第1側
面は、前記底面に対して前記摺動面側に形成され、前記
第1側面と前記接合面とのなす角度は、22.5゜以上
70゜以下であってもよい。The magnetic core halves include a bonding surface corresponding to a surface where the pair of magnetic core halves are bonded via the nonmagnetic material, and a surface on which the pair of magnetic core halves slide with a recording medium. The at least one magnetic core half has a bottom surface forming the winding window and a first side surface forming the winding window, and the first side surface has , The first side surface is formed on the sliding surface side with respect to the bottom surface, and an angle formed by the first side surface and the bonding surface is 22.5. It may be not less than {not less than 70}.
【0030】前記巻き線窓は、前記磁気コア半体の一方
にのみ形成され、前記第1側面と前記接合面とのなす角
度は、45゜以上70゜以下であってもよい。[0030] The winding window may be formed on only one of the magnetic core halves, and an angle between the first side surface and the joining surface may be not less than 45 ° and not more than 70 °.
【0031】前記巻き線窓は、前記磁気コア半体の双方
に形成され、前記第1側面と前記接合面とのなす角度
は、22.5゜以上50゜以下であってもよい。[0031] The winding window may be formed on both of the magnetic core halves, and an angle between the first side surface and the joining surface may be not less than 22.5 ° and not more than 50 °.
【0032】前記第1側面は、前記接合面に隣接して形
成される第2側面と前記底面に隣接して形成される第3
側面とを有し、前記第2側面と前記接合面とのなす角度
は、22.5゜以上70゜以下であり、前記第3側面と
前記底面とのなす角度は、実質的に90°であってもよ
い。The first side surface has a second side surface formed adjacent to the joining surface and a third side surface formed adjacent to the bottom surface.
An angle between the second side surface and the joint surface is 22.5 ° or more and 70 ° or less, and an angle between the third side surface and the bottom surface is substantially 90 °. There may be.
【0033】前記巻き線窓は、前記磁気コア半体の一方
にのみ形成され、前記第2側面と前記接合面とのなす角
度は、45゜以上70゜以下であってもよい。[0033] The winding window may be formed on only one of the magnetic core halves, and an angle between the second side surface and the joining surface may be not less than 45 ° and not more than 70 °.
【0034】前記巻き線窓は、前記磁気コア半体の双方
に形成され、前記第2側面と前記接合面とのなす角度
は、22.5゜以上50゜以下であってもよい。[0034] The winding window may be formed on both of the magnetic core halves, and an angle between the second side surface and the joining surface may be not less than 22.5 ° and not more than 50 °.
【0035】前記金属磁性薄膜は、(FeaSibAlc
Tid)100-e-fNeOfで示される組成を有し、a、b、
c、d、eおよびfは、 10≦b≦13、1≦c≦3、1≦d≦3、a+b+c
+d=100、4≦e+f≦10、0.1≦f≦2 なる関係式を満たす数値であってもよい。The metal magnetic thin film is formed of (Fe a Si b Al c
Ti d) has a composition represented by 100-ef N e O f, a, b,
c, d, e and f are as follows: 10 ≦ b ≦ 13, 1 ≦ c ≦ 3, 1 ≦ d ≦ 3, a + b + c
+ D = 100, 4 ≦ e + f ≦ 10, and 0.1 ≦ f ≦ 2.
【0036】前記酸化物磁性体は、前記一対の磁気コア
半体が前記非磁性材料を介して接合する面に対応する接
合面と前記接合面に連続した側面とを有し、前記接合面
と前記側面とがなす角度が70゜以上90゜以下であ
り、前記金属磁性薄膜は、前記接合面と前記側面とのう
ち前記接合面にのみ形成されてもよい。The oxide magnetic body has a joining surface corresponding to a surface where the pair of magnetic core halves are joined via the non-magnetic material, and a side surface continuous with the joining surface. The angle between the side surface and the side surface may be 70 ° or more and 90 ° or less, and the metal magnetic thin film may be formed only on the joint surface between the joint surface and the side surface.
【0037】本発明に係る磁気ヘッドの製造方法は、一
対の磁気コア半体と、前記一対の磁気コア半体の間に形
成され前記一対の磁気コア半体を接合する非磁性材料と
を備え、前記一対の磁気コア半体のそれぞれは、酸化物
磁性体と、前記酸化物磁性体のそれぞれの上に形成され
る少なくとも1層の下地膜と、前記下地膜のそれぞれと
前記非磁性材料との間に形成される金属磁性薄膜とを備
え、前記金属磁性薄膜は、平均体積Vaと平均表面積S
aとが、Sa>4.84Va2/3を満たす磁性結晶粒を
母相とする磁性膜を含む磁性薄膜であり、前記磁気コア
半体の少なくとも一方には巻き線窓が形成され、前記金
属磁性薄膜は、前記金属磁性薄膜内に発生する好ましく
ない内部応力により前記酸化物磁性体が割れないように
形成され、前記金属磁性薄膜は、(MaX1bZ1c)
100-dAdで示される組成を有し、前記金属磁性薄膜は、
磁性結晶粒を含み、前記磁性結晶粒は、略針状体、略柱
状体またはこれらの組み合わせからなる多枝形状体を含
み、前記磁性結晶粒の短手方向の結晶サイズの平均dS
および長手方向の結晶サイズの平均dLが5nm<dS
<60nm、60nm<dL<5000nmを満たし、
MはFe、Co、Niから選ばれる少なくとも1種の磁
性金属元素を含み、X1はSi、Al、Ga及びGeか
ら選ばれる少なくとも1種の元素を含み、Z1はIVa
族、Va族、Al、Ga及びCrから選ばれる少なくと
も1種の元素を含み、AはOおよびNの少なくとも1種
の元素を含み、a、b、cおよびdは、0.1≦b≦2
6、0.1≦c≦5、a+b+c=100および1≦d
≦10なる関係式を満たす数値である磁気ヘッドの製造
方法であって、一対の略平板形状の前記酸化物磁性体の
少なくとも一方に巻き線窓を形成する巻き線窓形成工程
と、前記酸化物磁性体上に少なくとも1層の下地膜を形
成する下地膜形成工程と、前記下地膜上に、前記金属磁
性薄膜の主構成元素からなる固体原料を用いて、酸素、
窒素の少なくとも一方を含む雰囲気下において前記金属
磁性薄膜を気相法で形成する金属磁性薄膜形成工程と、
前記金属磁性薄膜の幅がトラック幅に対応するように、
前記金属磁性薄膜が形成された前記酸化物磁性体に溝を
形成するトラック加工工程と、前記非磁性材料を介し
て、前記一対の酸化物磁性体を突き合わせて接合する接
合工程とを包含し、そのことにより上記目的が達成され
る。A method of manufacturing a magnetic head according to the present invention includes a pair of magnetic core halves and a non-magnetic material formed between the pair of magnetic core halves and joining the pair of magnetic core halves. Each of the pair of magnetic core halves includes an oxide magnetic body, at least one underlayer formed on each of the oxide magnetic bodies, and each of the underlayer and the nonmagnetic material. And a metal magnetic thin film formed therebetween, wherein the metal magnetic thin film has an average volume Va and an average surface area S
a is a magnetic thin film including a magnetic film having magnetic crystal grains satisfying Sa> 4.84 Va 2/3 as a mother phase, wherein a winding window is formed in at least one of the magnetic core halves, The magnetic thin film is formed so that the oxide magnetic body is not cracked by an undesirable internal stress generated in the metal magnetic thin film, and the metal magnetic thin film is formed of (M a X1 b Z1 c ).
Has a composition represented by 100-d A d, wherein the metal magnetic thin film,
A magnetic crystal grain, wherein the magnetic crystal grain includes a substantially needle-like body, a substantially columnar body, or a multi-branched body made of a combination thereof;
And the average dL of the crystal size in the longitudinal direction is 5 nm <dS
<60 nm, 60 nm <dL <5000 nm,
M includes at least one magnetic metal element selected from Fe, Co, and Ni; X1 includes at least one element selected from Si, Al, Ga, and Ge; and Z1 includes IVa
Group, Va group, at least one element selected from Al, Ga and Cr, A includes at least one element of O and N, and a, b, c and d are 0.1 ≦ b ≦ 2
6, 0.1 ≦ c ≦ 5, a + b + c = 100 and 1 ≦ d
A method for manufacturing a magnetic head that satisfies a relational expression of ≦ 10, wherein a winding window forming step of forming a winding window on at least one of a pair of substantially flat oxide magnetic bodies; A base film forming step of forming at least one base film on a magnetic material, and forming a base material on the base film using a solid raw material comprising a main constituent element of the metal magnetic thin film;
A metal magnetic thin film forming step of forming the metal magnetic thin film by a gas phase method under an atmosphere containing at least one of nitrogen,
As the width of the metal magnetic thin film corresponds to the track width,
A track processing step of forming a groove in the oxide magnetic body on which the metal magnetic thin film is formed, and a joining step of abutting and joining the pair of oxide magnetic bodies via the non-magnetic material, Thereby, the above object is achieved.
【0038】前記工程のそれぞれは、前記巻き線窓形成
工程、前記下地膜形成工程、前記金属磁性薄膜形成工
程、前記トラック加工工程、前記接合工程の順番に実行
されてもよい。Each of the steps may be executed in the order of the winding window forming step, the base film forming step, the metal magnetic thin film forming step, the track processing step, and the joining step.
【0039】前記工程のそれぞれは、前記下地膜形成工
程、前記金属磁性薄膜形成工程、前記巻き線窓形成工
程、前記トラック加工工程、前記接合工程の順番に実行
されてもよい。Each of the above steps may be performed in the order of the base film forming step, the metal magnetic thin film forming step, the winding window forming step, the track processing step, and the joining step.
【0040】本発明に係るビデオは、本発明に係る磁気
ヘッドを搭載したシリンダと、前記シリンダに磁気テー
プを巻き付けるヘッドテープインターフェース機構と、
前記シリンダを駆動するシリンダ駆動部と、前記シリン
ダに巻き付けられた前記磁気テープを駆動する磁気テー
プ駆動部とを備え、そのことにより上記目的が達成され
る。A video according to the present invention comprises a cylinder on which a magnetic head according to the present invention is mounted, a head tape interface mechanism for winding a magnetic tape around the cylinder,
A cylinder drive unit for driving the cylinder and a magnetic tape drive unit for driving the magnetic tape wound on the cylinder are provided, thereby achieving the above object.
【0041】本発明に係るムービーは、本発明に係る磁
気ヘッドを搭載したシリンダと、前記シリンダに磁気テ
ープを巻き付けるヘッドテープインターフェース機構
と、前記シリンダを駆動するシリンダ駆動部と、前記シ
リンダに巻き付けられた前記磁気テープを駆動する磁気
テープ駆動部と、映像信号を電気信号に変換する光学系
と、前記光学系により変換された前記電気信号を前記磁
気ヘッドへ出力する信号処理回路とを備え、そのことに
より上記目的が達成される。A movie according to the present invention includes a cylinder on which the magnetic head according to the present invention is mounted, a head tape interface mechanism for winding a magnetic tape around the cylinder, a cylinder driving unit for driving the cylinder, and a cylinder wound around the cylinder. A magnetic tape driving unit that drives the magnetic tape, an optical system that converts a video signal into an electric signal, and a signal processing circuit that outputs the electric signal converted by the optical system to the magnetic head, Thereby, the above object is achieved.
【0042】磁気ヘッドの構成をこのような構成にする
ことにより、一つの磁性結晶粒の体積に対する表面積の
割合が大きくなるため、粒間で及ぼしあう交換結合の影
響が大きくなり、従来の微結晶系材料より大きな粒サイ
ズにおいても軟磁気特性が向上する。また、結晶粒が大
きいために、熱処理による粒成長が抑制され、組成中の
耐食性元素が金属磁性結晶内に固溶したまま残存する比
率が高くなり、高い飽和磁束密度と耐食性の両立が可能
になる。また、被記録媒体と摺動する面では、磁気コア
半体の接合面に連続した面に金属磁性薄膜が形成されて
いないため、前記接合面の端、いわゆるトラックエッジ
への応力集中による破壊を防ぐことが出来、磁気ヘッド
特性の劣化を防ぐことが出来る。By adopting such a configuration of the magnetic head, the ratio of the surface area to the volume of one magnetic crystal grain is increased, so that the influence of exchange coupling exerted between the grains is increased, and the conventional microcrystals are used. Even with a grain size larger than the system material, the soft magnetic properties are improved. In addition, since the crystal grains are large, grain growth due to heat treatment is suppressed, and the ratio of corrosion-resistant elements in the composition remaining as a solid solution in the metallic magnetic crystal is increased, making it possible to achieve both high saturation magnetic flux density and corrosion resistance. Become. In addition, since the metal magnetic thin film is not formed on the surface that slides on the recording medium and is continuous with the joining surface of the magnetic core half, destruction due to stress concentration on the end of the joining surface, the so-called track edge, is prevented. Thus, deterioration of the magnetic head characteristics can be prevented.
【0043】このように本発明によれば、(MaX
bZc)100-dAdで示される組成を有し、かつ、その母相
をなす磁性結晶粒が略針状体、略柱状体またはこれらの
組み合わせからなる多枝形状体からなり、結晶粒の短手
方向の結晶サイズの平均dSおよび長手方向の結晶サイ
ズの平均dLが5nm<dS<60nm、60nm<d
L<5000nmを満たす金属磁性薄膜、ただし、Mは
Fe、Co、Niから選ばれる少なくとも1種の磁性金
属元素であり、XはSi、Al、Ga及びGeから選ば
れる少なくとも1種の元素を含み、ZはIVa族、Va
族、Al、Ga及びCrから選ばれる少なくとも1種の
元素を含み、AはOおよびNの少なくとも1種の元素で
あり、a、b、c、dは、 0.1≦b≦26 0.1≦c≦5 a+b+c=10
0 1≦d≦10 なる関係式を満たす数値である金属磁性薄膜を用いたメ
タル−イン−ギャップ(Metal In Gap)タ
イプの磁気ヘッドにおいて、ヘッドの構造を、磁気ヘッ
ドの被記録媒体と摺動する面において、磁気コアの接合
面に連続した面に金属磁性薄膜が形成されていない形状
にすることにより、ヘッド特性と耐食性を向上し、かつ
フェライト割れによるヘッドの不良率を低減することが
できる。Thus, according to the present invention, (M a X
b Z c) has a composition represented by 100-d A d, and makes the magnetic crystal grains constituting the matrix phase substantially needles, a substantially columnar body or multivessel shaped body comprising a combination thereof, crystalline The average dS of the crystal size in the transverse direction of the grains and the average dL of the crystal size in the longitudinal direction are 5 nm <dS <60 nm, 60 nm <d.
A metal magnetic thin film satisfying L <5000 nm, where M is at least one magnetic metal element selected from Fe, Co, and Ni, and X includes at least one element selected from Si, Al, Ga, and Ge , Z is group IVa, Va
A includes at least one element selected from the group consisting of Al, Ga, and Cr, A is at least one element of O and N, and a, b, c, and d are 0.1 ≦ b ≦ 260. 1 ≦ c ≦ 5 a + b + c = 10
In a metal-in-gap (Metal In Gap) type magnetic head using a metal magnetic thin film having a numerical value satisfying the relational expression of 0 1 ≦ d ≦ 10, the head structure is slid with a recording medium of the magnetic head. The head characteristics and corrosion resistance can be improved and the defect rate of the head due to ferrite cracking can be reduced by forming a shape in which the metal magnetic thin film is not formed on the surface that is continuous with the joining surface of the magnetic core on the surface to be bonded. .
【0044】[0044]
【発明の実施の形態】(実施の形態1)図1A〜図1E
に実施の形態1に係る磁気ヘッド100の模式図を示
す。図1Aは磁気ヘッド100をヘッド先端すなわち、
テープ摺動面側から見た図である。図1Bは、図1A中
に矢印A1で示した方向から見た断面図である。実施の
形態1に係る磁気ヘッド100の加工工程の内、特に実
施の形態1に関わる部分の工程を図2A〜図2Dに示
す。(Embodiment 1) FIGS. 1A to 1E
FIG. 1 shows a schematic diagram of the magnetic head 100 according to the first embodiment. FIG. 1A shows the magnetic head 100 at the head end,
It is the figure seen from the tape sliding surface side. FIG. 1B is a cross-sectional view as viewed from the direction indicated by arrow A1 in FIG. 1A. FIGS. 2A to 2D show, among the processing steps of the magnetic head 100 according to the first embodiment, the steps of the portion related to the first embodiment.
【0045】図1A〜図1Bを参照して、磁気ヘッド1
00は、一対の磁気コア半体MC1、MC2と、一対の
磁気コア半体MC1、MC2の間に形成され一対の磁気
コア半体MC1、MC2を接合する非磁性材料N3と接
合ガラスG3とを備える。一対の磁気コア半体MC1、
MC2のそれぞれは、フェライトF3A、F3Bと、フ
ェライトF3A、F3Bのそれぞれの上に形成される下
地膜(図示せず)と、下地膜(図示せず)のそれぞれと
非磁性材料N3との間に形成される金属磁性薄膜FM3
とを備える。磁気コア半体MC1には巻き線窓21Aが
形成される。Referring to FIGS. 1A and 1B, magnetic head 1
The reference numeral 00 denotes a pair of magnetic core halves MC1 and MC2, a nonmagnetic material N3 formed between the pair of magnetic core halves MC1 and MC2, and joining the pair of magnetic core halves MC1 and MC2 and a bonding glass G3. Prepare. A pair of magnetic core halves MC1,
Each of the MC2 has a ferrite F3A, F3B, a base film (not shown) formed on each of the ferrites F3A, F3B, and a gap between each of the base films (not shown) and the nonmagnetic material N3. Metal magnetic thin film FM3 to be formed
And A winding window 21A is formed in the magnetic core half MC1.
【0046】図1Aを参照して、フェライトF3A、F
3Bのそれぞれは、非磁性材料N3に対応する接合面S
1と接合面S1に連続した側面S2、S3とを有する。
金属磁性薄膜FM3は、接合面S1にのみ形成され、側
面S2、S3には形成されない。接合面S1と側面S2
とのなす角度および接合面S1と側面S3とのなす角度
は、70°以上90°以下である。Referring to FIG. 1A, ferrites F3A and F3A
3B has a bonding surface S corresponding to the nonmagnetic material N3.
1 and side surfaces S2 and S3 continuous with the joining surface S1.
The metal magnetic thin film FM3 is formed only on the bonding surface S1, and is not formed on the side surfaces S2 and S3. Joint surface S1 and side surface S2
And the angle between the joining surface S1 and the side surface S3 are 70 ° or more and 90 ° or less.
【0047】側面S2、S3に金属磁性薄膜FM3が形
成されると、側面S2、S3に形成された金属磁性薄膜
FM3内に好ましくない内部応力が発生する。金属磁性
薄膜FM3内に内部応力が発生すると、フェライトF3
A、F3Bが割れる原因となる。このように金属磁性薄
膜FM3は、金属磁性薄膜FM3内に発生する好ましく
ない内部応力によりフェライトF3A、F3Bが割れな
いように形成される。フェライトF3A、F3Bのそれ
ぞれは、単結晶フェライトを含む。単結晶フェライト
は、Amol%のFe2O3と、Bmol%のMnOと、
Cmol%のZnOとから構成されるMnZn単結晶フ
ェライトを含み、A、BおよびCは、 52≦A≦57、5≦B≦29、16≦C≦21 なる関係式を満たす数値である。単結晶フェライトは、
Ca酸化物、Ni酸化物またはCu酸化物をさらに含み
得る。When the metal magnetic thin film FM3 is formed on the side surfaces S2 and S3, an undesirable internal stress is generated in the metal magnetic thin film FM3 formed on the side surfaces S2 and S3. When an internal stress occurs in the metal magnetic thin film FM3, the ferrite F3
A and F3B may be cracked. As described above, the metal magnetic thin film FM3 is formed so that the ferrites F3A and F3B are not cracked by an undesirable internal stress generated in the metal magnetic thin film FM3. Each of the ferrites F3A and F3B includes single crystal ferrite. The single crystal ferrite is composed of Amol% Fe 2 O 3 , Bmol% MnO,
MnZn single crystal ferrite composed of Cmol% ZnO and A, B and C are numerical values satisfying the relational expressions of 52 ≦ A ≦ 57, 5 ≦ B ≦ 29, and 16 ≦ C ≦ 21. Single crystal ferrite is
It may further include a Ca oxide, a Ni oxide or a Cu oxide.
【0048】図1Cおよび図1Dは、実施の形態1に係
る磁気ヘッドの変形例の断面図を示す。図1Cに示す磁
気ヘッド100Aでは、一対の磁気コア半体MC1の双
方に巻き線窓が形成される。図1Dに示す磁気ヘッド1
00Bでは、一対の磁気コア半体MC3の双方に巻き線
窓が形成される。FIGS. 1C and 1D are cross-sectional views of a modification of the magnetic head according to the first embodiment. In the magnetic head 100A shown in FIG. 1C, winding windows are formed on both of the pair of magnetic core halves MC1. Magnetic head 1 shown in FIG. 1D
In 00B, winding windows are formed on both of the pair of magnetic core halves MC3.
【0049】図2A〜図2Dおよび図3Cを参照して、
実施の形態1の磁気ヘッド100、100A、100B
の製造方法を説明する。磁気ヘッド100Bの製造方法
を例に挙げて説明する。磁気ヘッド100、100A
は、同様の製造方法に適切な変更を加えることにより得
られる。Referring to FIGS. 2A to 2D and 3C,
Magnetic head 100, 100A, 100B of the first embodiment
Will be described. The method of manufacturing the magnetic head 100B will be described as an example. Magnetic head 100, 100A
Can be obtained by making appropriate changes to the same manufacturing method.
【0050】図2Aに示す各面S21、S22およびS
23の結晶方位が略(100)面である直方体のMnZ
nフェライトの単結晶を図2Bに示す形状に加工する。
面S21を研磨した後、加工変質層を除去し、巻き線窓
21を形成する(S101)。なお図1Bに示す磁気コ
ア半体MC2を製造するときは、巻き線窓21は形成さ
れない。Each surface S21, S22 and S shown in FIG. 2A
23 is a rectangular parallelepiped MnZ having a substantially (100) crystal orientation.
A single crystal of n ferrite is processed into a shape shown in FIG. 2B.
After polishing the surface S21, the affected layer is removed to form the winding window 21 (S101). When manufacturing the magnetic core half MC2 shown in FIG. 1B, the winding window 21 is not formed.
【0051】ヘッド特性上、面S21は(100)面、
面S22および面S23は(100)面もしくは(11
0)面である時、好ましい結果が得られる。使用時の磁
気テープとの摩耗特性の点から、面S23は(100)
面の時より好ましい結果が得られる。面S21および面
S23が(100)面だと面S22は必然的に(10
0)面になる。Due to the head characteristics, the surface S21 is a (100) surface,
The plane S22 and the plane S23 are (100) planes or (11)
When it is the 0) plane, favorable results are obtained. The surface S23 is (100) in terms of abrasion characteristics with the magnetic tape during use.
More favorable results are obtained when the surface is used. If the plane S21 and the plane S23 are (100) planes, the plane S22 is necessarily (10
0) plane.
【0052】実用上の観点から、各面S21、S22お
よびS23を厳密に(100)面、(110)面とする
ことは困難であるが、各結晶方位に対して±4゜以内に
すると実質上同等の効果が得られる。From a practical viewpoint, it is difficult to strictly set each of the planes S21, S22 and S23 to the (100) plane and the (110) plane. The same effect can be obtained.
【0053】図2Bに示す巻き線窓21の形状を拡大し
た断面図を図3Aに示す。一般的な巻き線窓21Aの形
状としては図3Bに示した物がある。接合面付近に傾斜
をつけ磁束を絞り込むことで磁気ヘッドの特性は向上す
る。FIG. 3A is an enlarged sectional view of the shape of the winding window 21 shown in FIG. 2B. The shape of the general winding window 21A is shown in FIG. 3B. The characteristics of the magnetic head are improved by inclining the magnetic flux by providing an inclination near the joining surface.
【0054】図3Bに示す形状では接合面S1と第1側
面S1Aとのなす角θ1と、底面S1Bと第1側面S1
Aとのなす角θ2とは等しく、θ1=θ2である。図1
Bに示した片窓形状の場合には、θ1は45゜〜70゜
の時、絞り込みの好ましい効果が得られる。図1Cに示
したような両窓形状の場合には、θ1は22.5゜〜5
0゜の時、絞り込みの好ましい効果が得られる。In the shape shown in FIG. 3B, the angle θ1 formed between the joint surface S1 and the first side surface S1A, the bottom surface S1B and the first side surface S1
An angle θ2 with A is equal, and θ1 = θ2. FIG.
In the case of the single window shape shown in B, when θ1 is 45 ° to 70 °, a favorable effect of narrowing down is obtained. In the case of a double window shape as shown in FIG. 1C, θ1 is 22.5 ° to 5 °.
At 0 °, a favorable effect of narrowing down is obtained.
【0055】巻き線窓21Aの大きさは必要な巻き線数
を巻くことが出来るように決められる。同じ巻き線数が
可能な大きさで比較した時、ヘッド摺動面からみた磁路
長が短い方が磁気ヘッドの再生感度は向上する。The size of the winding window 21A is determined so that the required number of windings can be wound. When compared with a size that allows the same number of windings, the shorter the magnetic path length as viewed from the head sliding surface, the higher the reproduction sensitivity of the magnetic head.
【0056】絞り込みの効果を持たせながら磁路長を短
くするためには、図3Aに示すように、接合面S1と第
2側面S1Cとのなす角度θ11と、第3側面S1Dと
底面S1Bとのなす角度θ12とが異なるような形状に
すると好ましい効果が得られる。As shown in FIG. 3A, in order to shorten the magnetic path length while giving the effect of narrowing down, as shown in FIG. 3A, the angle θ11 formed between the joint surface S1 and the second side surface S1C, the third side surface S1D and the bottom surface S1B, A preferable effect can be obtained by making the shape different from the angle θ12 formed.
【0057】角度θ11の範囲は磁束の絞り込みのため
であるので図3Bの例と同様の範囲の時、好ましい結果
が得られる。すなわち、図1Bに示した片窓形状の場合
には、θ11は45゜〜70゜の時、絞り込みの好まし
い効果が得られる。図1Cに示したような両窓形状の場
合には、θ11は22.5゜〜50゜の時、絞り込みの
好ましい効果が得られる。角度θ12は、図3Aに示す
ように、実質的に90゜の時、巻き線のための大きさを
確保しつつ、磁路長を短くできるため、より好ましい効
果が得られる。Since the range of the angle θ11 is for narrowing down the magnetic flux, a preferable result is obtained when the range is the same as the example of FIG. 3B. That is, in the case of the single window shape shown in FIG. 1B, when θ11 is 45 ° to 70 °, a favorable effect of narrowing down is obtained. In the case of the double window shape as shown in FIG. 1C, when θ11 is 22.5 ° to 50 °, a favorable effect of narrowing down is obtained. As shown in FIG. 3A, when the angle θ12 is substantially 90 °, the magnetic path length can be shortened while securing a size for the winding, so that a more preferable effect can be obtained.
【0058】酸化物であるフェライトF3A、F3B上
に直に金属磁性膜FM3を作成すると、熱処理の際に酸
素の拡散が生じる。このため、面S1上に下地層UL1
(図1A)としてアルミナを成膜する(S102)。酸
素拡散防止のための下地層UL1としては他に、珪素酸
化物、アルミ窒化物、珪素窒化物もしくはその混合物を
用いたとき好ましい結果が得られる。下地層UL1の厚
みは0.5nm以上で酸素拡散防止効果が得られる。厚
ければ厚いほど酸素拡散の防止効果が得られるが、上記
の物質は非磁性であり、厚すぎると磁束が漏れる効果に
より磁気ヘッドの特性は劣化するため4nm以下にする
と好ましい結果が得られる。When the metal magnetic film FM3 is formed directly on the ferrites F3A and F3B, which are oxides, diffusion of oxygen occurs during the heat treatment. Therefore, the underlayer UL1 is placed on the surface S1.
As FIG. 1A, an alumina film is formed (S102). Preferred results are obtained when silicon oxide, aluminum nitride, silicon nitride, or a mixture thereof is used as the underlayer UL1 for preventing oxygen diffusion. When the thickness of the underlayer UL1 is 0.5 nm or more, an oxygen diffusion preventing effect can be obtained. The thicker the material, the more the effect of preventing oxygen diffusion can be obtained. However, the above-mentioned substances are non-magnetic, and if the thickness is too large, the effect of leaking magnetic flux deteriorates the characteristics of the magnetic head.
【0059】下地層UL1上に金属磁性膜FM3を形成
する(S103)。成膜初期に窒素、酸素の量を増や
し、下地層UL1との界面近傍の平均粒径を5nm以下
とした第2の下地層UL2(図1E)を0.5nm〜2
00nm(好ましくは0.5nm〜20nm)作成した
後に、金属磁性膜FM3を形成するとより好ましい効果
が得られる。金属磁性膜FM3を金属磁性薄膜の主構成
元素からなる固体原料を用いて成膜した後の状態を図2
Cに示す。The metal magnetic film FM3 is formed on the underlayer UL1 (S103). In the initial stage of film formation, the amount of nitrogen and oxygen is increased, and the second underlayer UL2 (FIG. 1E) having an average particle size near the interface with the underlayer UL1 of 5 nm or less is set to 0.5 nm to 2 nm.
If the metal magnetic film FM3 is formed after the formation of 00 nm (preferably 0.5 nm to 20 nm), more preferable effects can be obtained. FIG. 2 shows a state after the metal magnetic film FM3 is formed using a solid material composed of the main constituent elements of the metal magnetic thin film.
C.
【0060】金属磁性膜FM3上に非磁性のギャップ材
(図示せず)を作成した後、トラック幅規制のための溝
22を加工する(S104)。溝22を加工した後の状
態を図2Dに示す。非磁性材料N3を形成し、もう一方
の磁気コア半体と突き合わせ、不活性ガス中での熱処理
で接合ガラスG3を流し込み、一対の磁気コア半体を接
合する(S105)。所望の形状に切断、研削して外形
を加工し(S106)、図1A〜図1Eに示す形状を有
する磁気ヘッド100、100Aまたは100Bの製造
が完了する。After a non-magnetic gap material (not shown) is formed on the metal magnetic film FM3, a groove 22 for controlling a track width is processed (S104). FIG. 2D shows a state after processing the groove 22. The non-magnetic material N3 is formed, butted against the other magnetic core half, and the bonding glass G3 is poured by heat treatment in an inert gas to join the pair of magnetic core halves (S105). The outer shape is processed by cutting and grinding into a desired shape (S106), and the manufacture of the magnetic head 100, 100A or 100B having the shape shown in FIGS. 1A to 1E is completed.
【0061】本発明の磁気ヘッドを形成するには、通常
の加工手段を用いることが出来る。例えば切断、切削手
段としてはレジンボンド(登録商標)ダイアモンドブレ
ードや、メタルレジンボンドダイアモンドブレードを用
いたダイシングソー、スライシングソー等、研磨手段と
してはグリーンカーボン(SiC)砥粒や、ダイアモン
ド砥粒と、鋳鉄や錫製の定盤を用いた回転ラッピング
等、あるいは、アルミナやダイアモンド砥粒を、有機樹
脂テープ上に分散したラッピングテープを用いた研磨を
用いることが出来る。For forming the magnetic head of the present invention, ordinary processing means can be used. For example, as cutting and cutting means, a resin bond (registered trademark) diamond blade, a dicing saw using a metal resin bond diamond blade, a slicing saw, etc., and as a polishing means, green carbon (SiC) abrasive grains, diamond abrasive grains, Rotation lapping using a cast iron or tin platen, or polishing using a lapping tape in which alumina or diamond abrasive grains are dispersed on an organic resin tape can be used.
【0062】また必要に応じて、フェライトの加工変質
層を除去する手段を用いることが出来る。例えば、リン
酸などを用いた酸による表面エッチングや、低加重錫定
盤とpHを弱酸性に調整したコロイダルシリカ砥粒を用
いたメカノケミカルラッピング等を用いることが出来
る。If necessary, a means for removing the affected layer of ferrite can be used. For example, surface etching with an acid using phosphoric acid or the like, mechanochemical lapping using a low-weighted tin platen and colloidal silica abrasive grains whose pH has been adjusted to slightly acidic, or the like can be used.
【0063】本発明の下地層、及び磁気コア半体を接合
する非磁性材料は、通常の気相成膜法で形成することが
出来る。例えば、高周波マグネトロンスパッタリング、
対向ターゲットスパッタリング、イオンビームスパッタ
リング、ECRスパッタリング等に代表されるスパッタ
リング法や、CVD等で成膜する事が出来る。The non-magnetic material for bonding the underlayer and the magnetic core half of the present invention can be formed by a usual vapor phase film forming method. For example, high-frequency magnetron sputtering,
The film can be formed by a sputtering method typified by facing target sputtering, ion beam sputtering, ECR sputtering, or the like, or by CVD or the like.
【0064】本発明の構造組成を有する金属磁性薄膜
は、低ガス圧雰囲気で形成することができ、例えば高周
波マグネトロンスパッタリング、直流スパッタリング、
対向ターゲットスパッタリング、イオンビームスパッタ
リング、ECRスパッタリング等に代表されるスパッタ
リング法で成膜する事が出来る。The metal magnetic thin film having the structural composition of the present invention can be formed in a low gas pressure atmosphere. For example, high frequency magnetron sputtering, DC sputtering,
The film can be formed by a sputtering method typified by facing target sputtering, ion beam sputtering, ECR sputtering and the like.
【0065】具体的には、本発明の金属磁性薄膜の組成
からの組成ずれを考慮して組成を決定した合金ターゲッ
トを、アルゴン等の不活性ガスを用いてスパッタし基板
上に成膜する。あるいは添加物の一部をペレットとし
て、合金ターゲット上に配置して同時にスパッタする、
もしくは添加物の一部をガス状態で装置内に導入し、反
応性スパッタにより成膜すればよい。Specifically, an alloy target having a composition determined in consideration of a composition deviation from the composition of the metal magnetic thin film of the present invention is formed on a substrate by sputtering using an inert gas such as argon. Alternatively, part of the additive is pelletized, placed on the alloy target and sputtered at the same time,
Alternatively, a part of the additive may be introduced into the apparatus in a gas state, and the film may be formed by reactive sputtering.
【0066】本発明の一組の磁気コア半体を突き合わせ
て接合する手段としては、通常のフェライトヘッドやM
IGヘッドで用いられる、接合ガラスを用いたガラスボ
ンディングを用いることが出来る。例えば、軟化点が4
60℃から560℃の範囲から選ばれる接合ガラスを、
不活性ガス雰囲気中、軟化点〜軟化点+40℃の範囲か
ら選ばれる温度で熱処理し、接合したい磁気コアの周
り、少なくとも2カ所に溶かし込み、固めることにより
接合することが出来る。Means for joining and joining a pair of magnetic core halves of the present invention include a normal ferrite head and M
Glass bonding using a bonding glass used in an IG head can be used. For example, if the softening point is 4
Bonding glass selected from the range of 60 ° C to 560 ° C,
In an inert gas atmosphere, heat treatment is performed at a temperature selected from the range of softening point to softening point + 40 ° C., and melting is performed in at least two places around a magnetic core to be bonded, and the magnetic core is joined by solidification.
【0067】以上のように実施の形態1によれば、金属
磁性薄膜FM3は接合面S1にのみ形成され側面S2、
S3には形成されないので、金属磁性薄膜FM3内に発
生する好ましくない内部応力によりフェライトF3A、
F3Bが割れる事を防止することができる。As described above, according to the first embodiment, the metal magnetic thin film FM3 is formed only on the bonding surface S1, and the side surfaces S2,
Since it is not formed in S3, the ferrite F3A,
F3B can be prevented from cracking.
【0068】このため、耐食性と入出力特性に優れると
共に基材割れを減ずることが出来る磁気ヘッド、磁気ヘ
ッドの製造方法を提供することができる。Therefore, it is possible to provide a magnetic head and a method of manufacturing the magnetic head which are excellent in corrosion resistance and input / output characteristics and can reduce the crack of the base material.
【0069】(実施の形態2)実施の形態2に係る磁気
ヘッド200を説明する。(Second Embodiment) A magnetic head 200 according to a second embodiment will be described.
【0070】図4A〜図4Bは、実施の形態2に係る磁
気ヘッド200の模式図である。図4Aは、実施の形態
2に係る磁気ヘッド200をヘッド先端、テープと摺動
する側から見た図である。図4Bは、図4Aに示した矢
印A2の方向から見た磁気ヘッド200の断面図であ
る。図4Cおよび図4Dは、実施の形態2に係る磁気ヘ
ッドの変形例の断面図を示す。図4Cに示す磁気ヘッド
200Aでは、一対の磁気コア半体MC4の双方に巻き
線窓21が形成される。図4Dに示す磁気ヘッド200
Bでは、一対の磁気コア半体MC5、MC6のうち磁気
コア半体MC6に巻き線窓21が形成される。FIGS. 4A and 4B are schematic diagrams of a magnetic head 200 according to the second embodiment. FIG. 4A is a view of the magnetic head 200 according to the second embodiment as viewed from the head end and the side that slides on the tape. FIG. 4B is a cross-sectional view of the magnetic head 200 as seen from the direction of arrow A2 shown in FIG. 4A. 4C and 4D are cross-sectional views of a modification of the magnetic head according to the second embodiment. In the magnetic head 200A shown in FIG. 4C, the winding windows 21 are formed on both of the pair of magnetic core halves MC4. Magnetic head 200 shown in FIG. 4D
In B, the winding window 21 is formed in the magnetic core half MC6 of the pair of magnetic core halves MC5 and MC6.
【0071】実施の形態2に係る磁気ヘッド200の加
工工程のうち、特に実施の形態2に関わる部分の工程を
図5A〜図5Dに示す。図5Eは、実施の形態2の磁気
ヘッド200の製造方法を示すフローチャートである。FIGS. 5A to 5D show, among the processing steps of the magnetic head 200 according to the second embodiment, those steps particularly relating to the second embodiment. FIG. 5E is a flowchart illustrating a method for manufacturing the magnetic head 200 according to the second embodiment.
【0072】実施の形態1と同様のMnZnフェライト
の単結晶を図5Bに示す形状に加工し、面S21を研磨
した後、加工変質層を除去する。酸素拡散防止の下地層
UL1としてアルミナを成膜する(S201)。下地層
UL1として他に実施の形態1で前述したと同様に珪素
酸化物、アルミ窒化物、珪素窒化物もしくはその混合物
を用いることが出来る。A single crystal of MnZn ferrite similar to that of the first embodiment is processed into the shape shown in FIG. 5B, and after polishing the surface S21, the affected layer is removed. Alumina is formed as an underlayer UL1 for preventing oxygen diffusion (S201). Silicon oxide, aluminum nitride, silicon nitride, or a mixture thereof can be used as underlayer UL1 in the same manner as described in the first embodiment.
【0073】図5Cに示すように、下地層UL1(図4
A)上に金属磁性薄膜FM3を作成する(S202)。
成膜初期に窒素、酸素の量を増やし、下地層UL1との
界面近傍の平均粒径を5nm以下とした第2の下地層U
L2(図4E)を0.5nm〜20nm(好ましくは
0.5nm〜200nm)作成した後に、金属磁性膜F
M3を作成するとより好ましい効果が得られる。As shown in FIG. 5C, the underlayer UL1 (FIG.
A) A metal magnetic thin film FM3 is formed on (A) (S202).
The amount of nitrogen and oxygen is increased in the initial stage of film formation, and the average particle size near the interface with the underlayer UL1 is set to 5 nm or less.
After forming L2 (FIG. 4E) from 0.5 nm to 20 nm (preferably from 0.5 nm to 200 nm), the metal magnetic film F
When M3 is formed, more preferable effects can be obtained.
【0074】金属磁性薄膜FM3上に非磁性のギャップ
材(図示せず)を作成した後、図5Dに示すように、巻
き線窓21とトラック幅規制のための溝22とを加工す
る(S203、S204)。なお図4B、図4Dに示す
ように、磁気コア半体MC5を製造するときは、巻き線
窓21は形成されない。After forming a non-magnetic gap material (not shown) on the metal magnetic thin film FM3, as shown in FIG. 5D, the winding window 21 and the groove 22 for regulating the track width are processed (S203). , S204). As shown in FIGS. 4B and 4D, when manufacturing the magnetic core half MC5, the winding window 21 is not formed.
【0075】巻き線窓21は、実施の形態1と同様の形
状にする事が出来る。非磁性材料N3を形成し、もう一
方の磁気コア半体と突き合わせ、不活性ガス中での熱処
理で接合ガラスG3を流し込み、接合する(S20
5)。所望の形状に切断、研削し(S206)、図4A
〜図4Dに示す形状を有する磁気ヘッド200、200
Aまたは200Bの製造が完了する。The winding window 21 can have the same shape as in the first embodiment. The non-magnetic material N3 is formed, butted against the other half of the magnetic core, and the bonding glass G3 is poured by heat treatment in an inert gas and bonded (S20).
5). Cutting and grinding into a desired shape (S206), FIG. 4A
To the magnetic heads 200 and 200 having the shapes shown in FIG.
The manufacture of A or 200B is completed.
【0076】以上のように実施の形態2によれば、金属
磁性薄膜FM3は接合面S1にのみ形成され側面S2、
S3には形成されないので、金属磁性薄膜FM3内に発
生する好ましくない内部応力によりフェライトF3A、
F3Bが割れる事を防止することができる。このため、
耐食性と入出力特性に優れると共に基材割れを減ずるこ
とが出来る磁気ヘッド、磁気ヘッドの製造方法を提供す
ることができる。As described above, according to the second embodiment, the metal magnetic thin film FM3 is formed only on the bonding surface S1, and the side surface S2,
Since it is not formed in S3, the ferrite F3A,
F3B can be prevented from cracking. For this reason,
It is possible to provide a magnetic head which is excellent in corrosion resistance and input / output characteristics and can reduce substrate cracking, and a method of manufacturing the magnetic head.
【0077】(実施の形態3)図6は、本発明に係る磁
気ヘッド100を用いたビデオ800のブロック図であ
る。本発明に係る磁気ヘッド100は、シリンダ801
に固定される。映像音声信号の記録再生時には、シリン
ダ駆動部802は、シリンダ801を一定速度で回転さ
せる。磁気テープ駆動部803は、磁気テープ804を
一方のリールから他方のリールへ一定の速度で送り出し
かつ巻き取る。ヘッドテープインターフェース機構80
5は、磁気テープ804をシリンダ801に対して斜め
に巻き付ける。(Embodiment 3) FIG. 6 is a block diagram of a video 800 using the magnetic head 100 according to the present invention. The magnetic head 100 according to the present invention includes a cylinder 801.
Fixed to When recording and reproducing the video and audio signals, the cylinder driving unit 802 rotates the cylinder 801 at a constant speed. The magnetic tape drive 803 sends out and winds the magnetic tape 804 from one reel to the other at a constant speed. Head tape interface mechanism 80
5 winds the magnetic tape 804 obliquely around the cylinder 801.
【0078】シリンダ801が回転すると、磁気ヘッド
100は磁気テープ804上を一定周期で走査する。記
録時には、磁気ヘッド100は入力された電気信号を磁
束に変換し、磁気テープ804上の磁性体の磁化状態を
変化させて記録する。再生時には、磁気ヘッド100は
磁気テープ804から漏れる磁束を電気信号に変換す
る。When the cylinder 801 rotates, the magnetic head 100 scans the magnetic tape 804 at a constant period. At the time of recording, the magnetic head 100 converts the input electric signal into magnetic flux, and changes the magnetization state of the magnetic material on the magnetic tape 804 for recording. At the time of reproduction, the magnetic head 100 converts a magnetic flux leaking from the magnetic tape 804 into an electric signal.
【0079】(実施の形態4)図7は、本発明に係る磁
気ヘッド100を用いたムービー900のブロック図で
ある。映像音声信号を磁気ヘッド100により磁気テー
プ804上に記録再生する機構は、実施の形態3と同様
である。実施の形態4に係るムービー900は、映像を
電気信号に変換する光学系901と、音声を電気信号に
変換するマイク902と、映像を表示する液晶モニタ9
03とを備える。(Embodiment 4) FIG. 7 is a block diagram of a movie 900 using the magnetic head 100 according to the present invention. The mechanism for recording and reproducing video and audio signals on the magnetic tape 804 by the magnetic head 100 is the same as that of the third embodiment. The movie 900 according to the fourth embodiment includes an optical system 901 that converts an image into an electric signal, a microphone 902 that converts audio into an electric signal, and a liquid crystal monitor 9 that displays an image.
03.
【0080】記録時には、映像音声信号は磁気ヘッド1
00により磁気テープ804上に記録され、同時に映像
信号は液晶モニタ903上に表示される。磁気ヘッド1
00により再生された再生信号は、信号処理回路904
を介して液晶モニタ903上に表示され、インターフェ
ース部905を介して外部機器(図示せず)に出力され
る。At the time of recording, the video and audio signals are transmitted to the magnetic head 1
00, the video signal is displayed on the liquid crystal monitor 903 at the same time. Magnetic head 1
00 is reproduced by the signal processing circuit 904.
Is displayed on the liquid crystal monitor 903 via the interface unit 905, and output to an external device (not shown) via the interface unit 905.
【0081】以上のように実施の形態4によれば、耐食
性と入出力特性に優れると共に基材割れを減ずることが
出来る磁気ヘッドを用いたムービーを提供することがで
きる。As described above, according to the fourth embodiment, it is possible to provide a movie using a magnetic head that is excellent in corrosion resistance and input / output characteristics and that can reduce base material cracking.
【0082】(実施例)以下に実施例を用いて本発明を
詳しく説明する。(Examples) The present invention will be described below in detail with reference to examples.
【0083】(実施例1)比較のための図9A〜図9D
に示した従来のヘッド形状(側面膜FM2B有)を有す
る磁気ヘッドと実施の形態1に示す磁気ヘッド(側面膜
無し)とを、後述する共通仕様と、表1に示す条件で試
作し、録再出力、耐食性、フェライト割れ率を評価し
た。Example 1 FIGS. 9A to 9D for comparison
The magnetic head having the conventional head shape (with side film FM2B) shown in FIG. 1 and the magnetic head shown in Embodiment 1 (without side film) were prototyped under the common specifications described later and the conditions shown in Table 1, and recorded. The re-output, corrosion resistance, and ferrite cracking rate were evaluated.
【0084】表1中、金属磁性薄膜は符号aa〜ag、
ba〜bgで示した。各符号で示す金属磁性薄膜の組成
の詳細は表2にまとめる。耐食性は、作成した磁気ヘッ
ドを塩水噴霧試験にかける前後の録再出力を比較し、劣
化の程度により評価した。フェライト割れ率は、作成し
た磁気ヘッドの内フェライト割れにより、不良になった
率により評価した。In Table 1, the metallic magnetic thin films are denoted by symbols aa to ag,
Indicated by ba to bg. Table 2 summarizes the details of the composition of the metal magnetic thin film indicated by each symbol. The corrosion resistance was evaluated based on the degree of deterioration by comparing the recording / reproducing output before and after subjecting the prepared magnetic head to the salt spray test. The ferrite cracking rate was evaluated based on the rate of failure due to ferrite cracking in the prepared magnetic head.
【0085】[0085]
【表1】 [Table 1]
【0086】[0086]
【表2】 評価は、No.1で示される従来の磁気ヘッドよりも劣
るときは×で示し、No.1で示される従来の磁気ヘッ
ドと同等の時は△で示し、No.1で示される従来の磁
気ヘッドよりも改善されているときは○で示し、No.
1で示される従来の磁気ヘッドよりも顕著に改善されて
いるときは二重丸で示す。割れ率に関する評価は、数値
で示す。録再出力および耐食性に関しては、改善されて
いるとは0〜+2dBの改善を意味するものとし、顕著
に改善されているとは+2dB以上の改善を意味するも
のとする。[Table 2] The evaluation is No. When it is inferior to the conventional magnetic head shown by No. 1, it is shown by x, and No. When the magnetic head is equivalent to the conventional magnetic head indicated by No. 1, When the magnetic head is improved over the conventional magnetic head shown by No. 1,
When the magnetic head is significantly improved over the conventional magnetic head indicated by 1, it is indicated by a double circle. The evaluation of the crack rate is shown by numerical values. Regarding the recording / reproducing output and the corrosion resistance, “improved” means an improvement of 0 to +2 dB, and “notably improved” means an improvement of +2 dB or more.
【0087】金属磁性薄膜は、磁性結晶粒を含み、磁性
結晶粒は、略針状体、略柱状体またはこれらの組み合わ
せからなる多枝形状体を含む。表2におけるdSおよび
dLは、磁性結晶粒の短手方向の結晶サイズの平均dS
および長手方向の結晶サイズの平均dLを示す。The metal magnetic thin film includes magnetic crystal grains, and the magnetic crystal grains include a substantially needle-like body, a substantially columnar body, or a multi-branched body composed of a combination thereof. DS and dL in Table 2 are the average dS of the crystal size in the lateral direction of the magnetic crystal grains.
And the average dL of the crystal size in the longitudinal direction.
【0088】表2に示すように、長手方向の結晶サイズ
の平均dLは、50nmを超える。好ましくは長手方向
の結晶サイズの平均dLは、60nmよりも大きく、5
000nmよりも小さい。磁性結晶粒の短手方向の結晶
サイズの平均dSは、5nmよりも大きく、60nmよ
りも小さい。As shown in Table 2, the average dL of the crystal size in the longitudinal direction exceeds 50 nm. Preferably, the average dL of the longitudinal crystal size is greater than 60 nm and 5 d.
Less than 000 nm. The average dS of the crystal size in the lateral direction of the magnetic crystal grains is larger than 5 nm and smaller than 60 nm.
【0089】金属磁性薄膜aa〜agは、(MaX
bZc)100-dAdで示される組成を有する。MはFe、C
o、Niから選ばれる少なくとも1種の磁性金属元素を
含み、XはSi、Al、Ga及びGeから選ばれる少な
くとも1種の元素を含み、ZはIVa族、Va族、A
l、Ga及びCrから選ばれる少なくとも1種の元素を
含み、AはOおよびNの少なくとも1種の元素を含む。The metal magnetic thin films aa to ag are (M a X
b Z c ) has a composition represented by 100-d Ad . M is Fe, C
o, at least one type of magnetic metal element selected from Ni, X includes at least one type of element selected from Si, Al, Ga, and Ge; Z: group IVa, group Va, A
A includes at least one element selected from l, Ga and Cr, and A includes at least one element of O and N.
【0090】a、b、cおよびdは、 0.1≦b≦26、0.1≦c≦5、a+b+c=10
0および1≦d≦10 なる関係式を満たす数値である。A, b, c and d are as follows: 0.1 ≦ b ≦ 26, 0.1 ≦ c ≦ 5, a + b + c = 10
It is a numerical value satisfying the relational expression of 0 and 1 ≦ d ≦ 10.
【0091】金属磁性膜ac〜agは、(FeaSibA
lcTd)100-eNeで示される組成を有し、TはTiおよ
びTaから選ばれる少なくとも1種の元素を含む。The metal magnetic films ac to ag are made of (Fe a Si b A
has a composition represented by l c T d) 100-e N e, T contains at least one element selected from Ti and Ta.
【0092】a、b、c、dおよびeは、 10≦b≦23、0.1≦d≦5、0.1≦c+d≦
8、a+b+c+d=100および1≦e≦10 なる関係式を満たす数値である。A, b, c, d and e are as follows: 10 ≦ b ≦ 23, 0.1 ≦ d ≦ 5, 0.1 ≦ c + d ≦
8, a + b + c + d = 100 and a numerical value satisfying the relational expression of 1 ≦ e ≦ 10.
【0093】前述した共通仕様の内容を以下に示す。 ・ヘッド仕様 トラック幅:17μm ギャップデプス:12.5μm ギャップレングス:0.2μm 巻き線数:16 磁性膜厚:4.5μm 下地膜:アルミナ2nm C/N特性: テープ相対速度=10.2m/s 録再周波数=20.9MHz テープ:MPテープ 表1に示す実施の形態1のヘッド形状(側面膜無形状)
を実施の形態2のヘッド形状に変えても表1と同様の傾
向が得られる。The contents of the above-mentioned common specifications are shown below. Head specifications Track width: 17 μm Gap depth: 12.5 μm Gap length: 0.2 μm Number of windings: 16 Magnetic film thickness: 4.5 μm Underlayer: alumina 2 nm C / N characteristics: Tape relative speed = 10.2 m / s Recording / reproducing frequency = 20.9 MHz Tape: MP tape Head shape of Embodiment 1 shown in Table 1 (no side film shape)
Is changed to the head shape of the second embodiment, the same tendency as in Table 1 can be obtained.
【0094】また、表2中のSiをGeに変えても表1
と同様の傾向が得られる。AlをGaに変えても表1と
同様の傾向が得られる。表2中の実施例に示す金属磁性
薄膜aa、abのSiをAlに変えても表1と同様の傾
向が得られる。Also, when Si in Table 2 was changed to Ge,
The same tendency is obtained. Even when Al is changed to Ga, the same tendency as in Table 1 can be obtained. The same tendency as in Table 1 can be obtained even when Si of the metal magnetic thin films aa and ab shown in Examples in Table 2 is changed to Al.
【0095】また、表2中のTaをTi、Zr、Hf、
V、Nb、Crに変えても表1と同様の傾向が得られ
る。In Table 2, Ta is represented by Ti, Zr, Hf,
The same tendency as in Table 1 can be obtained by changing to V, Nb, and Cr.
【0096】ここでいう表1と同様の傾向とは、例えば
向上した録再出力の数値自身は完全に同じではないが、
向上の程度×〜◎の評価は同様の結果が得られるという
意味である。The tendency similar to that shown in Table 1 means that, for example, the numerical values of the improved recording / reproduction are not completely the same,
The evaluation of the degree of improvement x to ◎ means that the same result is obtained.
【0097】以上の結果から、No.11〜No.21
で示される磁気ヘッドで録再出力、耐食性、フェライト
割れ率の改善が確認された。また特に、No.14〜N
o.21で示される磁気ヘッドを用いた場合には耐食性
でより好ましい結果が得られた。また、θ=90°の形
状の巻き線窓を有するNo.20およびNo.21で示
される磁気ヘッドの場合、録再出力でより好ましい結果
が得られた。From the above results, No. 11-No. 21
The recording / reproducing output, the corrosion resistance, and the ferrite cracking rate were improved with the magnetic head indicated by. Also, in particular, No. 14-N
o. When the magnetic head indicated by No. 21 was used, more favorable results were obtained in terms of corrosion resistance. In addition, No. 1 having a winding window having a shape of θ = 90 °. 20 and no. In the case of the magnetic head indicated by 21, a more preferable result was obtained in recording / reproducing output.
【0098】上記実施例のいずれの磁気ヘッドも金属磁
性薄膜の構造を観察すると、略針状体、略柱状体または
これらの組み合わせからなる多枝形状体を有しており、
磁性結晶粒の平均体積Vaと平均表面積Saとが、Sa
>4.84Va2/3という関係を有していることが確認
された。When observing the structure of the metal magnetic thin film, any of the magnetic heads of the above embodiments has a substantially needle-like body, a substantially columnar body, or a multi-branched body composed of a combination thereof.
The average volume Va and the average surface area Sa of the magnetic crystal grains are Sa
> 4.84Va 2/3 was confirmed.
【0099】(実施例2)実施例1と同様の評価を、以
下に示す共通仕様と表3に示す条件で試作した磁気ヘッ
ドに関して行った。表3中、金属磁性薄膜は符号ca〜
cg、da〜dgで示した。表3中の金属磁性薄膜の詳
細を表4に示す。(Example 2) The same evaluation as in Example 1 was carried out on a magnetic head experimentally manufactured under the following common specifications and the conditions shown in Table 3. In Table 3, the metal magnetic thin films are denoted by symbols ca to
Indicated by cg and da to dg. Table 4 shows details of the metal magnetic thin films in Table 3.
【0100】[0100]
【表3】 [Table 3]
【0101】[0101]
【表4】 表1と同様に、評価は、No.1で示される従来の磁気
ヘッドよりも劣るときは×で示し、No.1で示される
従来の磁気ヘッドと同等の時は△で示し、No.1で示
される従来の磁気ヘッドよりも改善されているときは○
で示し、No.51で示される従来の磁気ヘッドよりも
顕著に改善されているときは二重丸で示す。割れ率に関
する評価は、数値で示す。録再出力および耐食性に関し
ては、改善されているとは0〜+2dBの改善を意味す
るものとし、顕著に改善されているとは+2dB以上の
改善を意味するものとする。[Table 4] As in Table 1, the evaluation was No. When it is inferior to the conventional magnetic head shown by No. 1, it is shown by x, and No. When the magnetic head is equivalent to the conventional magnetic head indicated by No. 1, When it is better than the conventional magnetic head indicated by 1,
And No. When the magnetic head is markedly improved over the conventional magnetic head indicated by 51, it is indicated by a double circle. The evaluation of the crack rate is shown by numerical values. Regarding the recording / reproducing output and the corrosion resistance, “improved” means an improvement of 0 to +2 dB, and “notably improved” means an improvement of +2 dB or more.
【0102】金属磁性薄膜ca〜cgは、(MaX1bZ
1c)100-dAdで示される組成を有する。MはFe、C
o、Niから選ばれる少なくとも1種の磁性金属元素を
含み、XはSi及びGeから選ばれる少なくとも1種の
元素を含み、Z1はIVa族、Va族及びCrから選ば
れる少なくとも1種の元素を含み、AはOおよびNの少
なくとも1種の元素を含む。The metal magnetic thin films ca to cg are (M a X 1 b Z
1c ) It has a composition represented by 100-d Ad . M is Fe, C
o includes at least one magnetic metal element selected from Ni, X includes at least one element selected from Si and Ge, and Z1 includes at least one element selected from IVa group, Va group and Cr. A includes at least one element of O and N.
【0103】a、b、cおよびdは、 0.1≦b≦23、0.1≦c≦8、a+b+c=10
0および1≦d≦10 なる関係式を満たす数値である 金属磁性薄膜cc、ceは、(FeaSibAlcTid)
100-e-fNeOfで示される組成を有し、a、b、c、
d、eおよびfは、 10≦b≦23、0.1≦d≦5、0.1≦c+d≦
8、a+b+c+d=100、1≦e+f≦10および
0.1≦f≦5 なる関係式を満たす数値である。A, b, c and d are: 0.1 ≦ b ≦ 23, 0.1 ≦ c ≦ 8, a + b + c = 10
The metallic magnetic thin films cc and ce satisfying the relational expression of 0 and 1 ≦ d ≦ 10 are represented by (Fe a Si b Al c T id )
Has a composition represented by 100-ef N e O f, a, b, c,
d, e and f are 10 ≦ b ≦ 23, 0.1 ≦ d ≦ 5, 0.1 ≦ c + d ≦
8, a + b + c + d = 100, a numerical value satisfying the relational expressions of 1 ≦ e + f ≦ 10 and 0.1 ≦ f ≦ 5.
【0104】前述した共通仕様の内容を以下に示す。 ・ヘッド仕様 トラック幅:17μm ギャップデプス:12.5μm ギャップレングス:0.2μm 巻き線数:16 磁性膜厚:4.5μm 下地膜:アルミナ2nm C/N特性: テープ相対速度=10.2m/s 録再周波数=20.9MHz テープ:MPテープ 表3に示す実施の形態1のヘッド形状(側面膜無形状)
を実施の形態2のヘッド形状に変えても表3と同様の傾
向が得られる。The contents of the above-mentioned common specifications are shown below. Head specifications Track width: 17 μm Gap depth: 12.5 μm Gap length: 0.2 μm Number of windings: 16 Magnetic film thickness: 4.5 μm Underlayer: alumina 2 nm C / N characteristics: Tape relative speed = 10.2 m / s Recording / reproducing frequency = 20.9 MHz Tape: MP tape Head shape of Embodiment 1 shown in Table 3 (no side film shape)
Is changed to the head shape of the second embodiment, the same tendency as in Table 3 can be obtained.
【0105】また、表4中のSiをGeに変えても表3
と同様の傾向が得られる。Al、TiをGa、Zr、H
f、V、Ta、Nb、Crから選ばれる元素に変えても
表3と同様の傾向が得られる。Further, when Si in Table 4 is changed to Ge,
The same tendency is obtained. Ga, Zr, H for Al and Ti
The same tendency as in Table 3 can be obtained by changing the element selected from f, V, Ta, Nb, and Cr.
【0106】ここでいう同様の傾向とは、実施例1で前
述したように、例えば録再出力の向上数値自身は完全に
同じではないが、向上の程度×〜◎の評価は同様の結果
が得られるという意味である。以上の結果により、本発
明の効果が確認された。As described above in the first embodiment, the similar tendency means, for example, that the improved numerical value of the recording / reproducing output is not completely the same, but the evaluation of the degree of improvement x to ◎ has the same result. It means that it can be obtained. From the above results, the effect of the present invention was confirmed.
【0107】上記実施例のいずれの磁気ヘッドも金属磁
性薄膜の構造を観察すると、略針状体、略柱状体または
これらの組み合わせからなる多枝形状体を有しており、
磁性結晶粒の平均体積Vaと平均表面積Saとが、Sa
>4.84Va2/3という関係を有していることが確認
された。When observing the structure of the metal magnetic thin film, any of the magnetic heads of the above embodiments has a substantially needle-like body, a substantially columnar body, or a multi-branched body composed of a combination thereof.
The average volume Va and the average surface area Sa of the magnetic crystal grains are Sa
> 4.84Va 2/3 was confirmed.
【0108】(実施例3)以下に本発明の実施例3を示
す。(Embodiment 3) Embodiment 3 of the present invention will be described below.
【0109】実施の形態1の磁気ヘッドを、後述する共
通仕様と、表5に示す条件とで試作し、録再出力、リッ
プルを評価した。表5中、金属磁性薄膜は符号で示し
た。各符号は表2、表4に示す金属磁性薄膜に付された
符号に対応する。The magnetic head of the first embodiment was prototyped under the common specifications described below and under the conditions shown in Table 5, and the recording / reproducing output and the ripple were evaluated. In Table 5, the metal magnetic thin films are indicated by symbols. Each code corresponds to the code given to the metal magnetic thin film shown in Tables 2 and 4.
【表5】 [Table 5]
【表6】 [Table 6]
【0110】表5において、下地層1とはフェライトに
接する側の下地層を意味するものとし、下地層2とは金
属磁性膜に接する側の下地層を意味するものとする。N
o.73、No.75、No.77、No.79、N
o.81、No.83、No.85およびNo.87で
示される金属磁性薄膜acを有する磁気ヘッドの評価に
関しては、下地層1および下地層2が形成されないN
o.71で示される磁気ヘッドと比較して、同等の時は
△で示し、No.71で示される磁気ヘッドよりも改善
されているときは○で示し、No.71で示される磁気
ヘッドよりも顕著に改善されているときは二重丸で示
す。リップルに関する評価は、数値で示す。録再出力お
よび耐食性に関しては、改善されているとは0〜+3d
Bの改善を意味するものとし、顕著に改善されていると
は+3dB以上の改善を意味するものとする。In Table 5, the underlayer 1 means the underlayer on the side in contact with the ferrite, and the underlayer 2 means the underlayer on the side in contact with the metal magnetic film. N
o. 73, no. 75, no. 77, No. 79, N
o. 81, no. 83, no. 85 and No. Regarding the evaluation of the magnetic head having the metal magnetic thin film ac indicated by reference numeral 87, N
o. Compared with the magnetic head indicated by No. 71, the equivalent time is indicated by Δ, and When the magnetic head is improved over the magnetic head indicated by No. 71, it is indicated by ○, and When the magnetic head is markedly improved over the magnetic head indicated by 71, it is indicated by a double circle. The evaluation of the ripple is indicated by numerical values. Regarding recording / playback and corrosion resistance, it is 0 to + 3d
B means an improvement, and significant improvement means an improvement of +3 dB or more.
【0111】表5中の下地層2の成膜条件を表6にまと
める。ターゲットとしては金属磁性薄膜用の合金ターゲ
ットを用いて成膜した。Table 6 summarizes the film forming conditions for the underlayer 2 in Table 5. The target was formed using an alloy target for a metal magnetic thin film.
【0112】共通仕様を以下に示す ・ヘッド仕様 トラック幅:17μm ギャップデプス:12.5μm ギャップレングス:0.2μm 巻き線数:16 磁性膜厚:4.5μm C/N特性: テープ相対速度=10.2m/s 録再周波数=20.9MHz テープ:MPテープ 表5中のAlをSiに変えても同様の傾向が得られた。
表6中の窒素を酸素に変えても表5と同様の傾向が得ら
れた。表5中の金属磁性薄膜ac、ccをそれぞれ、表
2、表4に示す金属磁性薄膜aa〜ab、ad〜ag、
金属磁性薄膜ca〜cb、cd〜cgに変えても同様の
傾向が得られた。Common specifications are as follows: Head specifications Track width: 17 μm Gap depth: 12.5 μm Gap length: 0.2 μm Number of windings: 16 Magnetic film thickness: 4.5 μm C / N characteristics: Tape relative speed = 10 .2 m / s recording / reproducing frequency = 20.9 MHz Tape: MP tape The same tendency was obtained when Al in Table 5 was changed to Si.
Even when nitrogen in Table 6 was changed to oxygen, the same tendency as in Table 5 was obtained. The metal magnetic thin films ac and cc in Table 5 are shown as metal magnetic thin films aa-ab, ad-ag,
The same tendency was obtained even when the metal magnetic thin films ca to cb and cd to cg were changed.
【0113】ここでいう同様の傾向とは、実施例1で前
述したように、例えば録再出力の向上数値自身は完全に
同じではないが、向上の程度×〜◎の評価は同様の結果
が得られるという意味である。以上より本発明の効果が
確認された。As described above in the first embodiment, the similar tendency means, for example, that the numerical value of the recording / reproducing output is not completely the same, but the evaluation of the degree of improvement x to ◎ has the same result. It means that it can be obtained. From the above, the effect of the present invention was confirmed.
【0114】上記実施例のいずれの磁気ヘッドも金属磁
性薄膜の構造を観察すると、略針状体、略柱状体または
これらの組み合わせからなる多枝形状体を有しており、
磁性結晶粒の平均体積Vaと平均表面積Saとが、Sa
>4.84Va2/3という関係を有していることが確認
された。When observing the structure of the metal magnetic thin film, any of the magnetic heads of the above embodiments has a substantially needle-like body, a substantially columnar body, or a multi-branched body composed of a combination thereof.
The average volume Va and the average surface area Sa of the magnetic crystal grains are Sa
> 4.84Va 2/3 was confirmed.
【0115】[0115]
【発明の効果】以上のように本発明によれば、耐食性と
入出力特性に優れると共に基材割れを減ずることが出来
る磁気ヘッド、磁気ヘッドの製造方法、磁気ヘッドを用
いたビデオおよび磁気ヘッドを用いたムービーを提供す
ることができる。As described above, according to the present invention, there are provided a magnetic head, a method of manufacturing a magnetic head, a video and a magnetic head using the magnetic head, which are excellent in corrosion resistance and input / output characteristics and can reduce substrate cracking. The used movie can be provided.
【0116】また本発明によれば、金属磁性薄膜の材料
特性とMIGヘッドの構造とを互いに最適な物にするこ
とができる。According to the present invention, the material characteristics of the metal magnetic thin film and the structure of the MIG head can be mutually optimized.
【図1A】本発明の実施の形態1の磁気ヘッドを摺動面
からみた模式図。FIG. 1A is a schematic view of a magnetic head according to a first embodiment of the present invention as viewed from a sliding surface.
【図1B】本発明の実施の形態1の磁気ヘッドの断面模
式図。FIG. 1B is a schematic sectional view of the magnetic head according to the first embodiment of the present invention.
【図1C】本発明の実施の形態1の磁気ヘッドの変形例
の断面模式図。FIG. 1C is a schematic sectional view of a modification of the magnetic head according to the first embodiment of the present invention.
【図1D】本発明の実施の形態1の磁気ヘッドの他の変
形例の断面模式図。FIG. 1D is a schematic sectional view of another modification of the magnetic head according to the first embodiment of the present invention.
【図1E】本発明の実施の形態1の第2下地層を含む磁
気ヘッドを摺動面からみた模式図。FIG. 1E is a schematic view of a magnetic head including a second underlayer according to the first embodiment of the present invention, as viewed from a sliding surface.
【図2A】本発明の実施の形態1の磁気ヘッド製造過程
の模式図。FIG. 2A is a schematic diagram of a magnetic head manufacturing process according to the first embodiment of the present invention.
【図2B】本発明の実施の形態1の磁気ヘッド製造過程
の模式図。FIG. 2B is a schematic view of the magnetic head manufacturing process according to the first embodiment of the present invention.
【図2C】本発明の実施の形態1の磁気ヘッド製造過程
の模式図。FIG. 2C is a schematic view of the magnetic head manufacturing process according to the first embodiment of the present invention.
【図2D】本発明の実施の形態1の磁気ヘッド製造過程
の模式図。FIG. 2D is a schematic view of the magnetic head manufacturing process according to the first embodiment of the present invention;
【図3A】本発明の実施の形態1の磁気ヘッドの巻き線
溝形状の拡大図。FIG. 3A is an enlarged view of a winding groove shape of the magnetic head according to the first embodiment of the present invention.
【図3B】本発明の実施の形態1の磁気ヘッドの巻き線
溝形状の変形例の拡大図。FIG. 3B is an enlarged view of a modification of the winding groove shape of the magnetic head according to the first embodiment of the present invention.
【図3C】本発明の実施の形態1の磁気ヘッドの製造方
法を示すフローチャート。FIG. 3C is a flowchart showing a method of manufacturing the magnetic head according to the first embodiment of the present invention.
【図4A】本発明の実施の形態2の磁気ヘッドを摺動面
からみた模式図。FIG. 4A is a schematic view of a magnetic head according to a second embodiment of the present invention as viewed from a sliding surface.
【図4B】本発明の実施の形態2の磁気ヘッドの断面模
式図。FIG. 4B is a schematic sectional view of the magnetic head according to the second embodiment of the present invention.
【図4C】本発明の実施の形態2の磁気ヘッドの変形例
の断面模式図。FIG. 4C is a schematic sectional view of a modification of the magnetic head according to the second embodiment of the present invention.
【図4D】本発明の実施の形態2の磁気ヘッドの他の変
形例の断面模式図。FIG. 4D is a schematic sectional view of another modification of the magnetic head according to the second embodiment of the present invention.
【図4E】本発明の実施の形態2の第2下地層を含む磁
気ヘッドを摺動面からみた模式図。FIG. 4E is a schematic view of a magnetic head including a second underlayer according to the second embodiment of the present invention, as viewed from a sliding surface.
【図5A】本発明の実施の形態2の磁気ヘッド製造過程
の模式図。FIG. 5A is a schematic view of a magnetic head manufacturing process according to the second embodiment of the present invention.
【図5B】本発明の実施の形態2の磁気ヘッド製造過程
の模式図。FIG. 5B is a schematic view of the magnetic head manufacturing process according to the second embodiment of the present invention.
【図5C】本発明の実施の形態2の磁気ヘッド製造過程
の模式図。FIG. 5C is a schematic view of the magnetic head manufacturing process according to the second embodiment of the present invention.
【図5D】本発明の実施の形態2の磁気ヘッド製造過程
の模式図FIG. 5D is a schematic view of the magnetic head manufacturing process according to the second embodiment of the present invention.
【図5E】本発明の実施の形態2の磁気ヘッドの製造方
法を示すフローチャート。FIG. 5E is a flowchart showing a method for manufacturing a magnetic head according to the second embodiment of the present invention.
【図6】本発明に係る磁気ヘッドを用いたビデオのブロ
ック図。FIG. 6 is a block diagram of a video using the magnetic head according to the present invention.
【図7】本発明に係る磁気ヘッドを用いたムービーのブ
ロック図。FIG. 7 is a block diagram of a movie using the magnetic head according to the present invention.
【図8】従来のフェライトヘッドの模式図。FIG. 8 is a schematic view of a conventional ferrite head.
【図9A】従来のMIGヘッドの模式図。FIG. 9A is a schematic view of a conventional MIG head.
【図9B】従来のMIGヘッドにおける磁気コア半体の
平面図。FIG. 9B is a plan view of a magnetic core half in a conventional MIG head.
【図9C】従来のMIGヘッドにおける磁気コア半体の
斜視図。FIG. 9C is a perspective view of a magnetic core half in a conventional MIG head.
【図9D】従来のMIGヘッドにおける磁気コア半体の
断面図。FIG. 9D is a sectional view of a magnetic core half in a conventional MIG head.
G1、G2、G3 接合ガラス N1、N2、N3 非磁性ギャップ F3A、F3B、F3C フェライト FM2、FM3 磁性金属薄膜 S1 接合面 S1A 第1側面 S1B 底面 S1C 第2側面 S1D 第3側面 G1, G2, G3 Bonded glass N1, N2, N3 Non-magnetic gap F3A, F3B, F3C Ferrite FM2, FM3 Magnetic metal thin film S1 Bonded surface S1A First side surface S1B Bottom surface S1C Second side surface S1D Third side surface
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 榊間 博 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (72)発明者 小佐野 浩一 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (72)発明者 沢井 瑛昌 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (72) Inventor Hiroshi Sakama 1006 Kazuma Kadoma, Osaka Prefecture Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. 72) Inventor Eisai Sawai 1006 Kadoma Kadoma, Osaka Prefecture Matsushita Electric Industrial Co., Ltd.
Claims (28)
コア半体を接合する非磁性材料とを備え、 前記一対の磁気コア半体のそれぞれは、酸化物磁性体
と、前記酸化物磁性体のそれぞれの上に形成される少な
くとも1層の下地膜と、 前記下地膜のそれぞれと前記非磁性材料との間に形成さ
れる金属磁性薄膜とを備え、 前記金属磁性薄膜は、平均体積Vaと平均表面積Saと
が、 Sa>4.84Va2/3 を満たす磁性結晶粒を母相とする磁性膜を含む磁性薄膜
であり、 前記磁気コア半体の少なくとも一方には巻き線窓が形成
され、 前記金属磁性薄膜は、前記金属磁性薄膜内に発生する好
ましくない内部応力により前記酸化物磁性体が割れない
ように形成される磁気ヘッド。1. A pair of magnetic core halves, comprising: a pair of magnetic core halves; and a non-magnetic material formed between the pair of magnetic core halves and joining the pair of magnetic core halves. A magnetic thin film formed between each of the base film and the non-magnetic material, an oxide magnetic body, at least one underlayer formed on each of the oxide magnetic bodies, Wherein the metal magnetic thin film is a magnetic thin film including a magnetic film having a magnetic crystal grain as a mother phase having an average volume Va and an average surface area Sa satisfying Sa> 4.84 Va 2/3. A magnetic head in which a winding window is formed in at least one of the halves, and the metal magnetic thin film is formed so that the oxide magnetic material is not broken by undesired internal stress generated in the metal magnetic thin film.
み、 前記磁性結晶粒は、50nmを超える平均最大長を有す
る、請求項1記載の磁気ヘッド。2. The magnetic head according to claim 1, wherein the metal magnetic thin film includes magnetic crystal grains, and the magnetic crystal grains have an average maximum length exceeding 50 nm.
またはこれらの組み合わせからなる多枝形状体を含み、 前記略針状体または前記略柱状体の短手方向の平均結晶
サイズは、5nmよりも大きく、60nmよりも小さ
い、請求項2記載の磁気ヘッド。3. The magnetic crystal grain includes a substantially needle-like body, a substantially columnar body, or a multi-branched body made of a combination thereof, and an average crystal size of the substantially needle-like body or the substantially columnar body in a lateral direction. 3. The magnetic head according to claim 2, wherein is larger than 5 nm and smaller than 60 nm.
の平均dSおよび長手方向の結晶サイズの平均dLが5
nm<dS<60nm、60nm<dL<5000nm
を満たす、請求項2記載の磁気ヘッド。4. An average dS of the crystal size in the lateral direction and an average dL of the crystal size in the longitudinal direction of the magnetic crystal grains are 5 or more.
nm <dS <60 nm, 60 nm <dL <5000 nm
The magnetic head according to claim 2, which satisfies the following.
100-dAdで示される組成を有し、 MはFe、Co、Niから選ばれる少なくとも1種の磁
性金属元素を含み、XはSi、Al、Ga及びGeから
選ばれる少なくとも1種の元素を含み、 ZはIVa族、Va族、Al、Ga及びCrから選ばれ
る少なくとも1種の元素を含み、 AはOおよびNの少なくとも1種の元素を含み、 a、b、cおよびdは、 0.1≦b≦26、0.1≦c≦5、a+b+c=10
0および1≦d≦10なる関係式を満たす数値である、
請求項1記載の磁気ヘッド。5. The metal magnetic thin film according to claim 1, wherein (M a X b Z c )
Has a composition represented by 100-d A d, M is Fe, Co, comprising at least one magnetic metal element selected from Ni, at least one element X is Si, Al, selected from Ga and Ge Z contains at least one element selected from the group IVa, Va, Al, Ga and Cr; A contains at least one element of O and N; and a, b, c and d are 0.1 ≦ b ≦ 26, 0.1 ≦ c ≦ 5, a + b + c = 10
A numerical value satisfying the relational expression of 0 and 1 ≦ d ≦ 10,
The magnetic head according to claim 1.
他方の磁気コア半体と前記非磁性材料を介して接合する
接合面と、被記録媒体と摺動する摺動面と、前記接合面
と前記摺動面とに連続する側面とを有し、 前記金属磁性薄膜は、前記側面には形成されない、請求
項1に記載の磁気ヘッド。6. Each of the pair of magnetic core halves includes:
A joining surface joined to the other magnetic core half via the nonmagnetic material, a sliding surface sliding on the recording medium, and a side surface continuous with the joining surface and the sliding surface, The magnetic head according to claim 1, wherein the metal magnetic thin film is not formed on the side surface.
cTd)100-eNeで示される組成を有し、 TはTiおよびTaから選ばれる少なくとも1種の元素
を含み、 a、b、c、dおよびeは、 10≦b≦23、0.1≦d≦5、0.1≦c+d≦
8、 a+b+c+d=100および1≦e≦10 なる関係式を満たす数値である、請求項6に記載の磁気
ヘッド。7. The method according to claim 7, wherein the metal magnetic thin film comprises (Fe a Si b Al
c T d) has a composition represented by 100-e N e, T contains at least one element selected from Ti and Ta, a, b, c, d and e, 10 ≦ b ≦ 23, 0.1 ≦ d ≦ 5, 0.1 ≦ c + d ≦
8. The magnetic head according to claim 6, wherein the numerical values satisfy the relational expressions of a + b + c + d = 100 and 1 ≦ e ≦ 10.
れる少なくとも1種の元素を含む、請求項5に記載の磁
気ヘッド。8. The magnetic head according to claim 5, wherein Z contains at least one element selected from the group consisting of IVa group, Va group and Cr.
も1種の元素を含み、 a、b、cおよびdは、 0.1≦b≦23、0.1≦c≦8、a+b+c=10
0および1≦d≦10なる関係式を満たす数値である、
請求項5に記載の磁気ヘッド。9. X contains at least one element selected from Si and Ge, and a, b, c and d are: 0.1 ≦ b ≦ 23, 0.1 ≦ c ≦ 8, a + b + c = 10
A numerical value satisfying the relational expression of 0 and 1 ≦ d ≦ 10,
The magnetic head according to claim 5.
lcTid)100-e-fNeOfで示される組成を有し、 a、b、c、d、eおよびfは、 10≦b≦23、0.1≦d≦5、0.1≦c+d≦
8、 a+b+c+d=100、1≦e+f≦10および0.
1≦f≦5 なる関係式を満たす数値である、請求項9に記載の磁気
ヘッド。10. The method according to claim 10, wherein the metal magnetic thin film comprises (Fe a Si b A
l c Ti d) 100-ef N e O has a composition represented by f, a, b, c, d, e and f, 10 ≦ b ≦ 23,0.1 ≦ d ≦ 5,0.1 ≤c + d≤
8, a + b + c + d = 100, 1 ≦ e + f ≦ 10 and 0.
The magnetic head according to claim 9, wherein the numerical value satisfies a relational expression of 1 ≦ f ≦ 5.
窒化物およびその混合物のいずれかを含む、請求項1に
記載の磁気ヘッド。11. The method according to claim 11, wherein the base film is made of an oxide of Al or Si;
The magnetic head according to claim 1, wherein the magnetic head comprises any of a nitride and a mixture thereof.
する下地層Aと、前記金属磁性薄膜に接する下地層Bと
を含み、 前記下地層Aは、Al、Siの酸化物、窒化物およびそ
の混合物のいずれかを含み、 前記下地層Bは、前記金属磁性薄膜の主構成元素と、前
記金属磁性薄膜より多くの酸素または窒素を含み、 前記下地層Bは、結晶粒を含み、 前記結晶粒の平均粒径は、少なくとも前記下地層Bが前
記下地層Aに接する界面近傍において、5nm以下であ
る、請求項11に記載の磁気ヘッド。12. The underlayer includes an underlayer A in contact with the magnetic core half, and an underlayer B in contact with the metal magnetic thin film, wherein the underlayer A is an oxide or nitride of Al or Si. Wherein the underlayer B contains a main constituent element of the metal magnetic thin film and more oxygen or nitrogen than the metal magnetic thin film, the underlayer B contains crystal grains, The magnetic head according to claim 11, wherein the average grain size of the crystal grains is 5 nm or less at least near an interface where the underlayer B contacts the underlayer A. 13.
り、 前記下地層Bの厚みは、0.5nm以上200nm以下
である、請求項12に記載の磁気ヘッド。13. The underlayer A contains an Al oxide, the thickness of the underlayer A is 0.5 nm or more and 4 nm or less, and the thickness of the underlayer B is 0.5 nm or more and 200 nm or less. The magnetic head according to claim 12.
トを含み、 前記単結晶フェライトは、前記一対の磁気コア半体が前
記非磁性材料を介して接合する面に対応する接合面と前
記一対の磁気コア半体が被記録媒体と摺動する面に対応
する摺動面とを有する、請求項1に記載の磁気ヘッド。14. The oxide magnetic material includes a single crystal ferrite, and the single crystal ferrite includes a bonding surface corresponding to a surface where the pair of magnetic core halves are bonded via the nonmagnetic material and the pair of magnetic cores. The magnetic head according to claim 1, wherein the magnetic core half has a sliding surface corresponding to a surface that slides on the recording medium.
のFe2O3と、Bmol%のMnOと、Cmol%のZ
nOとから構成されるMnZn単結晶フェライトを含
み、 A、BおよびCは、 52≦A≦57、5≦B≦29、16≦C≦21 なる関係式を満たす数値である、請求項14に記載の磁
気ヘッド。15. The single crystal ferrite contains Amol%.
Fe 2 O 3 , B mol% of MnO, and C mol% of Z
The MnZn single crystal ferrite composed of nO and A, B and C, wherein A, B and C are numerical values satisfying a relational expression of 52 ≦ A ≦ 57, 5 ≦ B ≦ 29, and 16 ≦ C ≦ 21. The magnetic head as described.
コア半体が前記非磁性材料を介して接合する面に対応す
る接合面と前記一対の磁気コア半体が被記録媒体と摺動
する面に対応する摺動面とを有し、 前記少なくとも1つの磁気コア半体は、前記巻き線窓を
形成する底面と前記巻き線窓を形成する第1側面とを有
し、 前記第1側面は、前記底面から前記接合面に向かって形
成され、 前記第1側面は、前記底面に対して前記摺動面側に形成
され、 前記第1側面と前記接合面とのなす角度は、22.5゜
以上70゜以下である、請求項1に記載の磁気ヘッド。16. The magnetic core half includes a joining surface corresponding to a surface where the pair of magnetic core halves are joined via the non-magnetic material, and the pair of magnetic core halves sliding with a recording medium. The at least one magnetic core half has a bottom surface forming the winding window and a first side surface forming the winding window. A side surface is formed from the bottom surface toward the joining surface, the first side surface is formed on the sliding surface side with respect to the bottom surface, and an angle formed by the first side surface and the joining surface is 22 2. The magnetic head according to claim 1, wherein the angle is not less than 0.5 ° and not more than 70 °.
一方にのみ形成され、 前記第1側面と前記接合面とのなす角度は、45゜以上
70゜以下である、請求項16に記載の磁気ヘッド。17. The method according to claim 16, wherein the winding window is formed only on one of the magnetic core halves, and an angle formed between the first side surface and the joining surface is 45 ° or more and 70 ° or less. The magnetic head as described.
双方に形成され、 前記第1側面と前記接合面とのなす角度は、22.5゜
以上50゜以下である、請求項16に記載の磁気ヘッ
ド。18. The winding window is formed on both of the magnetic core halves, and an angle between the first side surface and the joining surface is 22.5 ° or more and 50 ° or less. 3. The magnetic head according to claim 1.
て形成される第2側面と前記底面に隣接して形成される
第3側面とを有し、 前記第2側面と前記接合面とのなす角度は、22.5゜
以上70゜以下であり、 前記第3側面と前記底面とのなす角度は、実質的に90
°である、請求項16に記載の磁気ヘッド。19. The first side surface has a second side surface formed adjacent to the bonding surface and a third side surface formed adjacent to the bottom surface, wherein the second side surface and the bonding surface Is not less than 22.5 ° and not more than 70 °, and the angle formed by the third side surface and the bottom surface is substantially 90 °.
The magnetic head according to claim 16, wherein the angle is °.
一方にのみ形成され、 前記第2側面と前記接合面とのなす角度は、45゜以上
70゜以下である、請求項19に記載の磁気ヘッド。20. The magnetic recording medium according to claim 19, wherein the winding window is formed only on one of the magnetic core halves, and an angle between the second side surface and the joining surface is not less than 45 ° and not more than 70 °. The magnetic head as described.
双方に形成され、 前記第2側面と前記接合面とのなす角度は、22.5゜
以上50゜以下である、請求項19に記載の磁気ヘッ
ド。21. The winding window is formed on both of the magnetic core halves, and an angle formed by the second side surface and the joining surface is 22.5 ° or more and 50 ° or less. 3. The magnetic head according to claim 1.
lcTid)100-e-fNeOfで示される組成を有し、 a、b、c、d、eおよびfは、 10≦b≦13、1≦c≦3、1≦d≦3、a+b+c
+d=100、4≦e+f≦10、0.1≦f≦2 なる関係式を満たす数値である、請求項1に記載の磁気
ヘッド。22. The metal magnetic thin film according to claim 19, wherein (Fe a Si b A
l c Ti d) has a composition represented by 100-ef N e O f, a, b, c, d, e and f, 10 ≦ b ≦ 13,1 ≦ c ≦ 3,1 ≦ d ≦ 3 , A + b + c
2. The magnetic head according to claim 1, wherein the numerical value satisfies the following relational expression: + d = 100, 4 ≦ e + f ≦ 10, 0.1 ≦ f ≦ 2.
コア半体が前記非磁性材料を介して接合する面に対応す
る接合面と前記接合面に連続した側面とを有し、 前記接合面と前記側面とがなす角度が70゜以上90゜
以下であり、 前記金属磁性薄膜は、前記接合面と前記側面とのうち前
記接合面にのみ形成される、請求項1に記載の磁気ヘッ
ド。23. The oxide magnetic body has a bonding surface corresponding to a surface where the pair of magnetic core halves are bonded via the non-magnetic material, and a side surface continuous with the bonding surface. 2. The magnetic head according to claim 1, wherein an angle between a surface and the side surface is 70 ° or more and 90 ° or less, and wherein the metal magnetic thin film is formed only on the joint surface of the joint surface and the side surface. .
気コア半体の間に形成され前記一対の磁気コア半体を接
合する非磁性材料とを備え、前記一対の磁気コア半体の
それぞれは、酸化物磁性体と、前記酸化物磁性体のそれ
ぞれの上に形成される少なくとも1層の下地膜と、前記
下地膜のそれぞれと前記非磁性材料との間に形成される
金属磁性薄膜とを備え、前記金属磁性薄膜は、平均体積
Vaと平均表面積Saとが、Sa>4.84Va2/3を
満たす磁性結晶粒を母相とする磁性膜を含む磁性薄膜で
あり、前記磁気コア半体の少なくとも一方には巻き線窓
が形成され、前記金属磁性薄膜は、前記金属磁性薄膜内
に発生する好ましくない内部応力により前記酸化物磁性
体が割れないように形成され、前記金属磁性薄膜は、
(MaX1bZ1c)100-dAdで示される組成を有し、前
記金属磁性薄膜は、磁性結晶粒を含み、前記磁性結晶粒
は、略針状体、略柱状体またはこれらの組み合わせから
なる多枝形状体を含み、前記磁性結晶粒の短手方向の結
晶サイズの平均dSおよび長手方向の結晶サイズの平均
dLが5nm<dS<60nm、60nm<dL<50
00nmを満たし、MはFe、Co、Niから選ばれる
少なくとも1種の磁性金属元素を含み、X1はSi、A
l、Ga及びGeから選ばれる少なくとも1種の元素を
含み、Z1はIVa族、Va族、Al、Ga及びCrか
ら選ばれる少なくとも1種の元素を含み、AはOおよび
Nの少なくとも1種の元素を含み、a、b、cおよびd
は、0.1≦b≦26、0.1≦c≦5、a+b+c=
100および1≦d≦10なる関係式を満たす数値であ
る磁気ヘッドの製造方法であって、 一対の略平板形状の前記酸化物磁性体の少なくとも一方
に巻き線窓を形成する巻き線窓形成工程と、 前記酸化物磁性体上に少なくとも1層の下地膜を形成す
る下地膜形成工程と、 前記下地膜上に、前記金属磁性薄膜の主構成元素からな
る固体原料を用いて、酸素、窒素の少なくとも一方を含
む雰囲気下において前記金属磁性薄膜を気相法で形成す
る金属磁性薄膜形成工程と、 前記金属磁性薄膜の幅がトラック幅に対応するように、
前記金属磁性薄膜が形成された前記酸化物磁性体に溝を
形成するトラック加工工程と、 前記非磁性材料を介して、前記一対の酸化物磁性体を突
き合わせて接合する接合工程とを包含する磁気ヘッドの
製造方法。24. A semiconductor device comprising: a pair of magnetic core halves; and a non-magnetic material formed between the pair of magnetic core halves and joining the pair of magnetic core halves. Each of them includes an oxide magnetic body, at least one underlayer formed on each of the oxide magnetic bodies, and a metal magnetic thin film formed between each of the underlayers and the nonmagnetic material. Wherein the metal magnetic thin film is a magnetic thin film including a magnetic film having a magnetic crystal grain as a mother phase having an average volume Va and an average surface area Sa satisfying Sa> 4.84 Va 2/3. A winding window is formed in at least one of the halves, and the metal magnetic thin film is formed so that the oxide magnetic body is not broken by undesired internal stress generated in the metal magnetic thin film. Is
(M a X1 b Z1 c) has a composition represented by 100-d A d, wherein the metal magnetic thin film includes a magnetic crystal grains, the magnetic crystal grains substantially needles, substantially columnar body or these The magnetic crystal grains have an average dS of crystal size in the short direction and an average dL of crystal size in the long direction of 5 nm <dS <60 nm and 60 nm <dL <50.
M includes at least one magnetic metal element selected from Fe, Co, and Ni, and X1 denotes Si, A
l, at least one element selected from Ga and Ge, Z1 includes at least one element selected from the group IVa, Va, Al, Ga and Cr, and A is at least one element of O and N A, b, c and d
Are 0.1 ≦ b ≦ 26, 0.1 ≦ c ≦ 5, a + b + c =
A method of manufacturing a magnetic head, wherein the value satisfies a relational expression of 100 and 1 ≦ d ≦ 10, wherein a winding window is formed on at least one of the pair of substantially flat oxide magnetic bodies. An underlayer forming step of forming at least one underlayer on the oxide magnetic body; and using a solid material comprising a main constituent element of the metal magnetic thin film on the underlayer, using oxygen and nitrogen. A metal magnetic thin film forming step of forming the metal magnetic thin film by a gas phase method in an atmosphere including at least one of the metal magnetic thin films so that a width of the metal magnetic thin film corresponds to a track width;
A magnetic field comprising: a track processing step of forming a groove in the oxide magnetic body on which the metal magnetic thin film is formed; and a joining step of joining the pair of oxide magnetic bodies by abutting via the nonmagnetic material. Head manufacturing method.
形成工程、前記下地膜形成工程、前記金属磁性薄膜形成
工程、前記トラック加工工程、前記接合工程の順番に実
行される、請求項24記載の磁気ヘッドの製造方法。25. The method according to claim 24, wherein each of the steps is performed in the order of the winding window forming step, the base film forming step, the metal magnetic thin film forming step, the track processing step, and the joining step. Of manufacturing a magnetic head.
成工程、前記金属磁性薄膜形成工程、前記巻き線窓形成
工程、前記トラック加工工程、前記接合工程の順番に実
行される、請求項24記載の磁気ヘッドの製造方法。26. The method according to claim 24, wherein each of the steps is performed in the order of the base film forming step, the metal magnetic thin film forming step, the winding window forming step, the track processing step, and the joining step. Of manufacturing a magnetic head.
たシリンダと、 前記シリンダに磁気テープを巻き付けるヘッドテープイ
ンターフェース機構と、 前記シリンダを駆動するシリンダ駆動部と、 前記シリンダに巻き付けられた前記磁気テープを駆動す
る磁気テープ駆動部とを備えたビデオ。27. A cylinder on which the magnetic head according to claim 1 is mounted; a head tape interface mechanism for winding a magnetic tape around the cylinder; a cylinder driving unit for driving the cylinder; and the magnetic coil wound around the cylinder. Video with a magnetic tape drive for driving the tape.
たシリンダと、 前記シリンダに磁気テープを巻き付けるヘッドテープイ
ンターフェース機構と、 前記シリンダを駆動するシリンダ駆動部と、 前記シリンダに巻き付けられた前記磁気テープを駆動す
る磁気テープ駆動部と、 映像信号を電気信号に変換する光学系と、 前記光学系により変換された前記電気信号を前記磁気ヘ
ッドへ出力する信号処理回路とを備えたムービー。28. A cylinder on which the magnetic head according to claim 1 is mounted; a head tape interface mechanism for winding a magnetic tape around the cylinder; a cylinder drive unit for driving the cylinder; and the magnet wound around the cylinder. A movie comprising: a magnetic tape driving unit that drives a tape; an optical system that converts a video signal into an electric signal; and a signal processing circuit that outputs the electric signal converted by the optical system to the magnetic head.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000227994A JP2001101613A (en) | 1999-07-27 | 2000-07-27 | Magnetic head, method of manufacturing magnetic head, video using magnetic head, and movie using magnetic head |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11-212911 | 1999-07-27 | ||
| JP21291199 | 1999-07-27 | ||
| JP2000227994A JP2001101613A (en) | 1999-07-27 | 2000-07-27 | Magnetic head, method of manufacturing magnetic head, video using magnetic head, and movie using magnetic head |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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| JP2003133749A Division JP2004005970A (en) | 1999-07-27 | 2003-05-12 | Magnetic head |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001101613A true JP2001101613A (en) | 2001-04-13 |
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| Country | Link |
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| JP (1) | JP2001101613A (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8197891B2 (en) | 2004-01-28 | 2012-06-12 | Fuji Electric Co., Ltd. | Perpendicular magnetic recording medium and method for manufacturing same |
-
2000
- 2000-07-27 JP JP2000227994A patent/JP2001101613A/en active Pending
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