JP2001029752A - 超純水の製造方法及び装置 - Google Patents
超純水の製造方法及び装置Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 系内の菌の増殖を抑制して、ＲＯ膜装置のス
ライム汚染を防止し、高純度の水を長期間連続して安定
に得る。 【解決手段】 原水をｐＨ４〜６に調整した後、第１段
目の逆浸透膜装置２と脱酸素装置３に通液し、その後ｐ
Ｈを７〜８に調整した後、電気脱イオン装置４に通液
し、得られた脱イオン水を第２段目の逆浸透膜装置５に
通液する超純水の製造方法。
ライム汚染を防止し、高純度の水を長期間連続して安定
に得る。 【解決手段】 原水をｐＨ４〜６に調整した後、第１段
目の逆浸透膜装置２と脱酸素装置３に通液し、その後ｐ
Ｈを７〜８に調整した後、電気脱イオン装置４に通液
し、得られた脱イオン水を第２段目の逆浸透膜装置５に
通液する超純水の製造方法。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は超純水の製造方法及
び装置に係り、特に、逆浸透（ＲＯ）膜装置におけるス
ライム（生菌）の発生を抑制し、高純度水を長期に亘り
安定に得る超純水の製造方法及び装置に関する。
び装置に係り、特に、逆浸透（ＲＯ）膜装置におけるス
ライム（生菌）の発生を抑制し、高純度水を長期に亘り
安定に得る超純水の製造方法及び装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、工水、市水、井水或いは半導体製
造工程等からの回収水を処理して純水を製造するシステ
ムとしては、次のようなものが提供されている。
造工程等からの回収水を処理して純水を製造するシステ
ムとしては、次のようなものが提供されている。
【０００３】 多床塔イオン交換樹脂で処理した後、
ＲＯ膜装置で処理する方法 ＲＯ膜装置で処理した後、混床塔イオン交換樹脂で
処理し、更にＲＯ膜装置で処理する方法 ＲＯ膜装置で処理した後、電気透析装置で処理し、
更にＲＯ膜装置で処理する方法
ＲＯ膜装置で処理する方法 ＲＯ膜装置で処理した後、混床塔イオン交換樹脂で
処理し、更にＲＯ膜装置で処理する方法 ＲＯ膜装置で処理した後、電気透析装置で処理し、
更にＲＯ膜装置で処理する方法
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】上記〜のいずれの
方法においても、系内の菌の増殖を抑制することができ
ず、長期間運転することにより、後段のＲＯ膜装置のＲ
Ｏ膜面にスライム（菌）が堆積し、水質の悪化、膜の透
過流束の低下をもたらすため、定期的にＲＯ膜装置の殺
菌洗浄が必要であるという欠点がある。
方法においても、系内の菌の増殖を抑制することができ
ず、長期間運転することにより、後段のＲＯ膜装置のＲ
Ｏ膜面にスライム（菌）が堆積し、水質の悪化、膜の透
過流束の低下をもたらすため、定期的にＲＯ膜装置の殺
菌洗浄が必要であるという欠点がある。
【０００５】特に、，の方法では、再生後のイオン
交換樹脂からの溶出物による後段のＲＯ膜装置の汚染の
問題もある。
交換樹脂からの溶出物による後段のＲＯ膜装置の汚染の
問題もある。
【０００６】なお、の方法で使用されている電気透析
装置はＣＯ2の除去のために設けられたものであり、イ
オン交換膜のみで構成され、脱イオン能力はあるが殺菌
作用は弱い。電気透析装置で殺菌作用を得るためには、
限界電流密度以上の高い電流を流す必要があり、経済的
に不利である。
装置はＣＯ2の除去のために設けられたものであり、イ
オン交換膜のみで構成され、脱イオン能力はあるが殺菌
作用は弱い。電気透析装置で殺菌作用を得るためには、
限界電流密度以上の高い電流を流す必要があり、経済的
に不利である。
【０００７】本発明は上記従来の問題点を解決し、系内
の菌の増殖を抑制して、ＲＯ膜装置のスライム汚染を防
止し、高純度の水を長期間連続して安定に得ることがで
きる超純水の製造方法及び装置を提供することを目的と
する。
の菌の増殖を抑制して、ＲＯ膜装置のスライム汚染を防
止し、高純度の水を長期間連続して安定に得ることがで
きる超純水の製造方法及び装置を提供することを目的と
する。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明の超純水の製造方
法は、原水をｐＨ４〜６に調整した後、第１段目の逆浸
透膜装置と脱酸素装置に通液し、その後ｐＨを７〜８に
調整した後、電気脱イオン装置に通液し、得られた脱イ
オン水を第２段目の逆浸透膜装置に通液することを特徴
とする。
法は、原水をｐＨ４〜６に調整した後、第１段目の逆浸
透膜装置と脱酸素装置に通液し、その後ｐＨを７〜８に
調整した後、電気脱イオン装置に通液し、得られた脱イ
オン水を第２段目の逆浸透膜装置に通液することを特徴
とする。
【０００９】本発明の超純水の製造装置は、原水をｐＨ
４〜６に調整する第１のｐＨ調整手段と、該第１のｐＨ
調整手段でｐＨ調整された水を処理する第１段目の逆浸
透膜装置及び脱酸素装置と、該第１段目の逆浸透膜装置
及び脱酸素装置で処理された水をｐＨ７〜８に調整する
第２のｐＨ調整手段と、該第２のｐＨ調整手段でｐＨ調
整された水を処理する電気脱イオン装置と、該電気脱イ
オン装置で得られた脱イオン水を処理する逆浸透膜装置
とを備えてなることを特徴とする。
４〜６に調整する第１のｐＨ調整手段と、該第１のｐＨ
調整手段でｐＨ調整された水を処理する第１段目の逆浸
透膜装置及び脱酸素装置と、該第１段目の逆浸透膜装置
及び脱酸素装置で処理された水をｐＨ７〜８に調整する
第２のｐＨ調整手段と、該第２のｐＨ調整手段でｐＨ調
整された水を処理する電気脱イオン装置と、該電気脱イ
オン装置で得られた脱イオン水を処理する逆浸透膜装置
とを備えてなることを特徴とする。
【００１０】前述の如く、イオン交換膜のみで構成さ
れ、イオン交換膜間に導電性を有する物質が設けられて
いない電気透析装置では、水の電気伝導性に依存して電
流が流れるのみであり、イオン除去程度の電流では殺菌
作用はない。電気透析装置では、限界電流密度以上で殺
菌作用が得られるとされているが、通常、そのために
は、３０Ａ／ｍ2以上の高い電流密度が必要であり、経
済的に不利である。
れ、イオン交換膜間に導電性を有する物質が設けられて
いない電気透析装置では、水の電気伝導性に依存して電
流が流れるのみであり、イオン除去程度の電流では殺菌
作用はない。電気透析装置では、限界電流密度以上で殺
菌作用が得られるとされているが、通常、そのために
は、３０Ａ／ｍ2以上の高い電流密度が必要であり、経
済的に不利である。
【００１１】これに対して、イオン交換膜間に導電性の
物質（イオン交換体）を充填した電気脱イオン装置であ
れば、このイオン交換体の表面を媒体として、低電流で
殺菌作用を得ることができる。
物質（イオン交換体）を充填した電気脱イオン装置であ
れば、このイオン交換体の表面を媒体として、低電流で
殺菌作用を得ることができる。
【００１２】本発明に従って、ＲＯ膜装置と脱酸素装置
とで処理して溶存酸素（ＤＯ）を低減した水を、電気脱
イオン装置で処理することにより、電気脱イオン装置に
おいて低電流で良好な殺菌作用が得られ、後段のＲＯ膜
装置のスライム汚染を防止して、長期に亘り高水質を維
持して安定運転を継続できる。この電気脱イオン装置の
後段のＲＯ膜装置では、電気脱イオン装置からの脱イオ
ン水中の微粒子やＴＯＣ、シリカ等が効率的に除去され
る。このように、電気脱イオン装置とＲＯ膜装置を組み
合せることで、通常、超純水の製造システムに設けられ
ている非再生型イオン交換樹脂設備を不要とすることが
でき、設備コストの低減を図ることができる。
とで処理して溶存酸素（ＤＯ）を低減した水を、電気脱
イオン装置で処理することにより、電気脱イオン装置に
おいて低電流で良好な殺菌作用が得られ、後段のＲＯ膜
装置のスライム汚染を防止して、長期に亘り高水質を維
持して安定運転を継続できる。この電気脱イオン装置の
後段のＲＯ膜装置では、電気脱イオン装置からの脱イオ
ン水中の微粒子やＴＯＣ、シリカ等が効率的に除去され
る。このように、電気脱イオン装置とＲＯ膜装置を組み
合せることで、通常、超純水の製造システムに設けられ
ている非再生型イオン交換樹脂設備を不要とすることが
でき、設備コストの低減を図ることができる。
【００１３】
【発明の実施の形態】以下に図面を参照して本発明の実
施の形態を詳細に説明する。
施の形態を詳細に説明する。
【００１４】図１（ａ）〜（ｃ）は本発明の超純水の製
造方法及び装置の実施の形態を示す系統図である。
造方法及び装置の実施の形態を示す系統図である。
【００１５】本発明において、処理対象となる原水は、
工水、市水、井水又は製造プロセス回収水、例えば半導
体又は液晶等の製造プロセスの洗浄排水であり、これら
の２種以上を混合して原水としても良い。半導体製造回
収水のような製造プロセス回収水を原水とする場合であ
って、当該回収水の有機物（ＴＯＣ）濃度が高い場合に
は、図１（ｃ）に示す如く、生物処理手段、加熱手段、
触媒による分解手段、或いはＲＯ膜装置等のＴＯＣ除去
装置６で予め処理し、ＴＯＣを０．５ｍｇ／Ｌ以下とす
るのが好ましい。
工水、市水、井水又は製造プロセス回収水、例えば半導
体又は液晶等の製造プロセスの洗浄排水であり、これら
の２種以上を混合して原水としても良い。半導体製造回
収水のような製造プロセス回収水を原水とする場合であ
って、当該回収水の有機物（ＴＯＣ）濃度が高い場合に
は、図１（ｃ）に示す如く、生物処理手段、加熱手段、
触媒による分解手段、或いはＲＯ膜装置等のＴＯＣ除去
装置６で予め処理し、ＴＯＣを０．５ｍｇ／Ｌ以下とす
るのが好ましい。
【００１６】また、工水、市水、井水等の原水は、必要
に応じて除濁装置１で前処理するのが好ましく、この除
濁装置１としては、一般に、限外濾過（ＵＦ）膜装置、
精密濾過（ＭＦ）膜装置等が用いられるが、生物処理装
置等のＴＯＣ除去装置やＲＯ膜装置等であっても良い。
また、工水、市水、井水等の硬度成分含有水について
は、軟化装置で硬度成分を除去しても良い。
に応じて除濁装置１で前処理するのが好ましく、この除
濁装置１としては、一般に、限外濾過（ＵＦ）膜装置、
精密濾過（ＭＦ）膜装置等が用いられるが、生物処理装
置等のＴＯＣ除去装置やＲＯ膜装置等であっても良い。
また、工水、市水、井水等の硬度成分含有水について
は、軟化装置で硬度成分を除去しても良い。
【００１７】原水又はその除濁処理水（又はＴＯＣ除去
処理水）は、ＨＣｌ，Ｈ2ＳＯ4等の鉱酸を添加してｐＨ
４〜６に調整した後、第１段目のＲＯ膜装置（以下「第
１のＲＯ膜装置」と称す。）２及び脱酸素装置３で処理
する。
処理水）は、ＨＣｌ，Ｈ2ＳＯ4等の鉱酸を添加してｐＨ
４〜６に調整した後、第１段目のＲＯ膜装置（以下「第
１のＲＯ膜装置」と称す。）２及び脱酸素装置３で処理
する。
【００１８】ここで、調整ｐＨは酸素と共に炭酸ガスを
除去するために行うものであり、後段の脱塩装置の負荷
を軽減させる。ｐＨが６を超えると静菌効果が劣化し、
４未満では腐食による影響が顕著になるため、調整ｐＨ
は４〜６とする。
除去するために行うものであり、後段の脱塩装置の負荷
を軽減させる。ｐＨが６を超えると静菌効果が劣化し、
４未満では腐食による影響が顕著になるため、調整ｐＨ
は４〜６とする。
【００１９】第１のＲＯ膜装置２と脱酸素装置３の処理
順序には特に制限はなく、図１（ａ），（ｃ）に示す如
く、第１のＲＯ膜装置２で脱塩処理した後脱酸素装置３
で脱酸素処理しても良く、図１（ｂ）に示す如く、脱酸
素装置３で処理した後第１のＲＯ膜装置２で処理しても
良い。いずれの場合であっても、脱酸素装置３による脱
酸素処理で、処理水のＤＯが１００ｐｐｂ以下となるよ
うに処理を行うのが好ましい。ＤＯが１００ｐｐｂを超
えると後段の電気脱イオン装置４での殺菌処理を行って
も、十分な生菌の増殖抑制効果を得ることはできない。
順序には特に制限はなく、図１（ａ），（ｃ）に示す如
く、第１のＲＯ膜装置２で脱塩処理した後脱酸素装置３
で脱酸素処理しても良く、図１（ｂ）に示す如く、脱酸
素装置３で処理した後第１のＲＯ膜装置２で処理しても
良い。いずれの場合であっても、脱酸素装置３による脱
酸素処理で、処理水のＤＯが１００ｐｐｂ以下となるよ
うに処理を行うのが好ましい。ＤＯが１００ｐｐｂを超
えると後段の電気脱イオン装置４での殺菌処理を行って
も、十分な生菌の増殖抑制効果を得ることはできない。
【００２０】この脱酸素装置３としては、膜脱気装置、
真空脱気装置、窒素ガス脱気装置等を用いることができ
る。
真空脱気装置、窒素ガス脱気装置等を用いることができ
る。
【００２１】また、第１のＲＯ膜装置２のＲＯ膜として
は特に制限はなく、ポリスルホン、ポリアミド、ポリ酢
酸ビニル等のＲＯ膜を用いることができ、通常の場合、
入口圧７．０〜１５．０ｋｇ／ｃｍ2、水回収率７０〜
８５％の条件でＲＯ膜処理される。
は特に制限はなく、ポリスルホン、ポリアミド、ポリ酢
酸ビニル等のＲＯ膜を用いることができ、通常の場合、
入口圧７．０〜１５．０ｋｇ／ｃｍ2、水回収率７０〜
８５％の条件でＲＯ膜処理される。
【００２２】第１のＲＯ膜装置２及び脱酸素装置３で処
理された水は、ＮａＯＨ等のアルカリを添加してｐＨ７
〜８に調整した後、電気脱イオン装置４で処理し、次い
で第２段目のＲＯ膜装置（以下「第２のＲＯ膜装置」と
称す。）５で処理する。シリカの除去効率の面から、こ
の調整ｐＨは高い方が好ましいが、調整ｐＨが過度に高
いと超純水としての要求特性を満たさなくなるため、こ
の調整ｐＨは７〜８、好ましくは７〜７．５とする。
理された水は、ＮａＯＨ等のアルカリを添加してｐＨ７
〜８に調整した後、電気脱イオン装置４で処理し、次い
で第２段目のＲＯ膜装置（以下「第２のＲＯ膜装置」と
称す。）５で処理する。シリカの除去効率の面から、こ
の調整ｐＨは高い方が好ましいが、調整ｐＨが過度に高
いと超純水としての要求特性を満たさなくなるため、こ
の調整ｐＨは７〜８、好ましくは７〜７．５とする。
【００２３】電気脱イオン装置４としては、陽極を備え
る陽極室と陰極を備える陰極室との間に、複数のアニオ
ン交換膜及びカチオン交換膜を交互に配列して濃縮室と
脱塩室とを交互に形成し、脱塩室にアニオン交換樹脂と
カチオン交換樹脂との混合樹脂やイオン交換繊維等のイ
オン交換体を充填した一般的なものを使用することがで
き、このような電気脱イオン装置４であれば、電流密度
４〜２０Ａ／ｍ2、好ましくは６〜１０Ａ／ｍ2の比較的
低い電流密度で脱イオン処理と共に殺菌処理効果を得る
ことができる。
る陽極室と陰極を備える陰極室との間に、複数のアニオ
ン交換膜及びカチオン交換膜を交互に配列して濃縮室と
脱塩室とを交互に形成し、脱塩室にアニオン交換樹脂と
カチオン交換樹脂との混合樹脂やイオン交換繊維等のイ
オン交換体を充填した一般的なものを使用することがで
き、このような電気脱イオン装置４であれば、電流密度
４〜２０Ａ／ｍ2、好ましくは６〜１０Ａ／ｍ2の比較的
低い電流密度で脱イオン処理と共に殺菌処理効果を得る
ことができる。
【００２４】電気脱イオン装置４の脱イオン水は、次い
で第２のＲＯ膜装置５で処理して、更に残留する微量の
ＴＯＣやシリカ等を除去して純度を高めた後、処理水
（超純水）として取り出される。
で第２のＲＯ膜装置５で処理して、更に残留する微量の
ＴＯＣやシリカ等を除去して純度を高めた後、処理水
（超純水）として取り出される。
【００２５】この第２のＲＯ膜装置５においては、前段
の電気脱イオン装置４において、低ＤＯ条件下で殺菌処
理されたことにより、生菌の増殖が抑制され、長期に亘
り、膜面へのスライムの堆積による膜の透過流束の低下
や処理水水質の悪化等の問題を引き起こすことなく、安
定な処理を行って、高水質処理水を得ることができる。
の電気脱イオン装置４において、低ＤＯ条件下で殺菌処
理されたことにより、生菌の増殖が抑制され、長期に亘
り、膜面へのスライムの堆積による膜の透過流束の低下
や処理水水質の悪化等の問題を引き起こすことなく、安
定な処理を行って、高水質処理水を得ることができる。
【００２６】第２のＲＯ膜装置５のＲＯ膜としても特に
制限はなく、ポリスルホン、ポリアミド、ポリ酢酸ビニ
ル等のＲＯ膜を用いることができ、通常の場合、入口圧
７．０〜１５．０ｋｇ／ｃｍ2、水回収率８０〜９０％
の条件でＲＯ膜処理される。
制限はなく、ポリスルホン、ポリアミド、ポリ酢酸ビニ
ル等のＲＯ膜を用いることができ、通常の場合、入口圧
７．０〜１５．０ｋｇ／ｃｍ2、水回収率８０〜９０％
の条件でＲＯ膜処理される。
【００２７】なお、本発明においては、図１（ｃ）に示
す如く、電気脱イオン装置４の濃縮水及び第２のＲＯ膜
装置５の濃縮水は第１のＲＯ膜装置２の入口側に返送し
て循環処理するのが水回収率の向上の面で好ましい。こ
の場合においても、電気脱イオン装置４及び第２のＲＯ
膜装置５の給水は、前段の第１のＲＯ膜装置２や脱酸素
装置３による処理で十分に水質が高められているため、
これらの濃縮水を第１のＲＯ膜装置２の入口側に返送す
ることによる処理水水質の低下の問題は殆どなく、良好
な処理を行える。
す如く、電気脱イオン装置４の濃縮水及び第２のＲＯ膜
装置５の濃縮水は第１のＲＯ膜装置２の入口側に返送し
て循環処理するのが水回収率の向上の面で好ましい。こ
の場合においても、電気脱イオン装置４及び第２のＲＯ
膜装置５の給水は、前段の第１のＲＯ膜装置２や脱酸素
装置３による処理で十分に水質が高められているため、
これらの濃縮水を第１のＲＯ膜装置２の入口側に返送す
ることによる処理水水質の低下の問題は殆どなく、良好
な処理を行える。
【００２８】
【実施例】以下に実施例及び比較例を挙げて本発明をよ
り具体的に説明する。
り具体的に説明する。
【００２９】実施例１ 図１（ｂ）に示す方法で、市水を原水として超純水の製
造を行った。
造を行った。
【００３０】用いた装置及び処理条件は次の通りであ
る。
る。
【００３１】除濁装置：ＵＦ膜装置（栗田工業（株）製
「プレブロックス」分画分子量２０，０００） 脱酸素装置：膜脱気装置（ヘキスト社製「リキセル」４
インチ，２本シリーズ） 圧力＝３０Ｔｏｒｒ スイープガス＝Ｎ2（０．２Ｎ−ｍ3／ｈｒ） 処理水量＝１．０ｍ3／ｈｒ 第１のＲＯ膜装置：ＲＯ膜（日本電工社製「ＥＳ−２０
−Ｄ」４インチ，２本シリーズ） 入口圧＝９ｋｇ／ｃｍ2 水回収率＝７０％ 電気脱イオン装置：電気脱イオン装置（栗田工業（株）
製「Ｍ−１０型」２台） 処理水量＝１２０Ｌ／ｈｒ 水回収率＝７０％ 第２のＲＯ膜装置：ＲＯ膜（日本電工社製「ＮＴＲ−７
５９」２．５インチ，１本） 入口圧＝７ｋｇ／ｃｍ2 水回収率＝９０％ なお、脱酸素装置（膜脱気装置）の給水にはＨＣｌを添
加してｐＨ５．０とした。この膜脱気装置の処理水のＤ
Ｏは５０ｐｐｂであった。また、電気脱イオン装置の給
水にはＮａＯＨを添加してｐＨ７〜７．５とした。電気
脱イオン装置の濃縮水と第２のＲＯ膜装置の濃縮水は第
１のＲＯ膜装置の入口側に返送した。
「プレブロックス」分画分子量２０，０００） 脱酸素装置：膜脱気装置（ヘキスト社製「リキセル」４
インチ，２本シリーズ） 圧力＝３０Ｔｏｒｒ スイープガス＝Ｎ2（０．２Ｎ−ｍ3／ｈｒ） 処理水量＝１．０ｍ3／ｈｒ 第１のＲＯ膜装置：ＲＯ膜（日本電工社製「ＥＳ−２０
−Ｄ」４インチ，２本シリーズ） 入口圧＝９ｋｇ／ｃｍ2 水回収率＝７０％ 電気脱イオン装置：電気脱イオン装置（栗田工業（株）
製「Ｍ−１０型」２台） 処理水量＝１２０Ｌ／ｈｒ 水回収率＝７０％ 第２のＲＯ膜装置：ＲＯ膜（日本電工社製「ＮＴＲ−７
５９」２．５インチ，１本） 入口圧＝７ｋｇ／ｃｍ2 水回収率＝９０％ なお、脱酸素装置（膜脱気装置）の給水にはＨＣｌを添
加してｐＨ５．０とした。この膜脱気装置の処理水のＤ
Ｏは５０ｐｐｂであった。また、電気脱イオン装置の給
水にはＮａＯＨを添加してｐＨ７〜７．５とした。電気
脱イオン装置の濃縮水と第２のＲＯ膜装置の濃縮水は第
１のＲＯ膜装置の入口側に返送した。
【００３２】電気脱イオン装置の電流密度を３Ａ／ｍ2
又は６Ａ／ｍ2とし、このときの電気脱イオン装置出口
水（脱イオン水、即ち第２のＲＯ膜装置の給水）の生菌
数と４ヶ月連続運転した後のＲＯ膜装置の透過流束と、
ＲＯ膜装置の処理水の水質を調べ、結果を表１に示し
た。
又は６Ａ／ｍ2とし、このときの電気脱イオン装置出口
水（脱イオン水、即ち第２のＲＯ膜装置の給水）の生菌
数と４ヶ月連続運転した後のＲＯ膜装置の透過流束と、
ＲＯ膜装置の処理水の水質を調べ、結果を表１に示し
た。
【００３３】比較例１ 実施例１において、電気脱イオン装置の代りに、電気透
析装置（旭硝子社製「ＣＳ−Ｏ型」セレミオン膜，２
台）を用い、電流密度１０Ａ／ｍ2又は３０Ａ／ｍ2で処
理水量１２０Ｌ／ｈｒ，水回収率７０％で運転を行った
こと以外は、実施例１と同様にして処理を行い、同様
に、電気透析装置出口水（脱イオン水、即ち第２のＲＯ
膜装置の給水）の生菌数と４ヶ月連続運転した後のＲＯ
膜装置の透過流束と、ＲＯ膜装置の処理水の水質を調
べ、結果を表１に示した。
析装置（旭硝子社製「ＣＳ−Ｏ型」セレミオン膜，２
台）を用い、電流密度１０Ａ／ｍ2又は３０Ａ／ｍ2で処
理水量１２０Ｌ／ｈｒ，水回収率７０％で運転を行った
こと以外は、実施例１と同様にして処理を行い、同様
に、電気透析装置出口水（脱イオン水、即ち第２のＲＯ
膜装置の給水）の生菌数と４ヶ月連続運転した後のＲＯ
膜装置の透過流束と、ＲＯ膜装置の処理水の水質を調
べ、結果を表１に示した。
【００３４】なお、比較例１のうち電流密度３０Ａ／ｍ
2というような運転条件は、電圧が高くなり過ぎ、経済
的に不利である。
2というような運転条件は、電圧が高くなり過ぎ、経済
的に不利である。
【００３５】
【表１】
【００３６】実施例１及び比較例１における連続運転後
の処理水の水質の低下は、ＲＯ膜面に付着した生菌数か
らの溶出物とＣＯ2の流出によるものと考えられる。運
転を停止してＲＯ膜を０．３重量％Ｈ2Ｏ2水で殺菌洗浄
することにより、処理水の水質は運転開始初期と同等に
回復させることができたが、ＲＯ膜の透過流束は十分に
回復しなかった。
の処理水の水質の低下は、ＲＯ膜面に付着した生菌数か
らの溶出物とＣＯ2の流出によるものと考えられる。運
転を停止してＲＯ膜を０．３重量％Ｈ2Ｏ2水で殺菌洗浄
することにより、処理水の水質は運転開始初期と同等に
回復させることができたが、ＲＯ膜の透過流束は十分に
回復しなかった。
【００３７】比較例２ 実施例１において、膜脱気装置の代りに１インチのネッ
トリングを充填し、１０Ｎ−ｍ2／ｍ2・ｍｉｎの空気を
上向流で流す脱炭酸塔を用い、この脱炭酸塔に通水ＬＶ
＝４０ｍ3／ｍ2・ｈｒで向流処理したこと以外は同様に
して処理を行い、２ヶ月運転後の脱イオン水（電気脱イ
オン装置の出口水，即ち第２のＲＯ膜装置の給水）の生
菌数を調べ、結果を表２に示した。
トリングを充填し、１０Ｎ−ｍ2／ｍ2・ｍｉｎの空気を
上向流で流す脱炭酸塔を用い、この脱炭酸塔に通水ＬＶ
＝４０ｍ3／ｍ2・ｈｒで向流処理したこと以外は同様に
して処理を行い、２ヶ月運転後の脱イオン水（電気脱イ
オン装置の出口水，即ち第２のＲＯ膜装置の給水）の生
菌数を調べ、結果を表２に示した。
【００３８】なお、表２には、実施例１における２ヶ月
運転後の脱イオン水（電気脱イオン装置の出口水，即ち
第２のＲＯ膜装置の給水）の生菌数も併記した。
運転後の脱イオン水（電気脱イオン装置の出口水，即ち
第２のＲＯ膜装置の給水）の生菌数も併記した。
【００３９】
【表２】
【００４０】以上の結果から、ＤＯを除去した後、電気
脱イオン装置で処理し、その後ＲＯ膜装置で処理するこ
とにより、高い水質を維持して長期連続運転を行えるこ
とがわかる。
脱イオン装置で処理し、その後ＲＯ膜装置で処理するこ
とにより、高い水質を維持して長期連続運転を行えるこ
とがわかる。
【００４１】
【発明の効果】以上詳述した通り、本発明の超純水の製
造方法及び装置によれば、系内の菌の増殖を抑制して、
ＲＯ膜装置のスライム汚染による処理水水質の低下、膜
の透過流束の低下を防止し、高純度の水を長期間連続し
て安定に得ることができる。
造方法及び装置によれば、系内の菌の増殖を抑制して、
ＲＯ膜装置のスライム汚染による処理水水質の低下、膜
の透過流束の低下を防止し、高純度の水を長期間連続し
て安定に得ることができる。
【図１】本発明の超純水の製造方法及び装置の実施の形
態を示す系統図である。
態を示す系統図である。
１ 除濁装置 ２ 第１のＲＯ膜装置 ３ 脱酸素装置 ４ 電気脱イオン装置 ５ 第２のＲＯ膜装置
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｃ０２Ｆ 9/00 ５０２ Ｃ０２Ｆ 9/00 ５０２Ｚ ５０２Ｌ ５０２Ｋ ５０３Ｂ ５０３ ５０４Ｂ ５０４ ５０４Ｅ 1/46 １０３ Ｆターム(参考） 4D006 GA03 KB01 KB17 MA13 MA14 MC21 MC54 MC62 PA01 PB02 PB05 PB23 PC02 4D037 AA03 AB11 BA23 BB05 BB07 CA03 CA04 CA14 4D061 DA02 DB02 EA09 EB01 EB13 EB19 EB37 FA03 FA09 FA11 GA30 GC01
Claims (6)
- 【請求項１】 原水をｐＨ４〜６に調整した後、第１段
目の逆浸透膜装置と脱酸素装置に通液し、その後ｐＨを
７〜８に調整した後、電気脱イオン装置に通液し、得ら
れた脱イオン水を第２段目の逆浸透膜装置に通液するこ
とを特徴とする超純水の製造方法。 - 【請求項２】 原水が工水、市水、井水又は製造プロセ
ス回収水であることを特徴とする請求項１の超純水の製
造方法。 - 【請求項３】 電気脱イオン装置の流入水の溶存酸素濃
度を１００ｐｐｂ以下とすることを特徴とする請求項１
又は２の超純水の製造方法。 - 【請求項４】 電気脱イオン装置から排出される濃縮水
と第２段目の逆浸透膜装置から排出される濃縮水を、第
１段目の逆浸透膜装置の前段に返送することを特徴とす
る請求項１ないし３のいずれか１項に記載の超純水の製
造方法。 - 【請求項５】 原水をｐＨ４〜６に調整する第１のｐＨ
調整手段と、 該第１のｐＨ調整手段でｐＨ調整された水を処理する第
１段目の逆浸透膜装置及び脱酸素装置と、 該第１段目の逆浸透膜装置及び脱酸素装置で処理された
水をｐＨ７〜８に調整する第２のｐＨ調整手段と、 該第２のｐＨ調整手段でｐＨ調整された水を処理する電
気脱イオン装置と、 該電気脱イオン装置で得られた脱イオン水を処理する逆
浸透膜装置とを備えてなることを特徴とする超純水の製
造装置。 - 【請求項６】 電気脱イオン装置から排出される濃縮水
を第１段目の逆浸透膜装置の前段へ送給する手段と、第
２段目の逆浸透膜装置の濃縮水を第１段目の逆浸透膜装
置の前段へ送給する手段とを備えてなることを特徴とす
る請求項５の超純水の製造装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20947099A JP3565098B2 (ja) | 1999-07-23 | 1999-07-23 | 超純水の製造方法及び装置 |
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|---|---|
| JP2001029752A true JP2001029752A (ja) | 2001-02-06 |
| JP3565098B2 JP3565098B2 (ja) | 2004-09-15 |
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| Country | Link |
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| JP (1) | JP3565098B2 (ja) |
Cited By (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002126744A (ja) * | 2000-10-19 | 2002-05-08 | Ngk Insulators Ltd | 電気再生式脱イオン純水器の殺菌法 |
| JP2003190979A (ja) * | 2001-10-18 | 2003-07-08 | Kurita Water Ind Ltd | 超純水製造装置及び超純水製造方法 |
| JP2004057935A (ja) * | 2002-07-29 | 2004-02-26 | Kurita Water Ind Ltd | 超純水製造システム |
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| KR100501417B1 (ko) * | 2002-06-21 | 2005-07-18 | 한국전력공사 | 역삼투막법/전극법을 이용한 폐수 탈염장치 |
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| EP1833590A4 (en) * | 2004-12-23 | 2009-09-30 | Univ Murdoch | ENHANCED ELECTROLYTIC AND ELECTROCHEMICAL PROCESSES WITH REINFORCED CONDUCTIVITY |
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| US7955503B2 (en) | 2005-03-18 | 2011-06-07 | Kurita Water Industries Ltd. | Pure water producing apparatus |
| US8206592B2 (en) | 2005-12-15 | 2012-06-26 | Siemens Industry, Inc. | Treating acidic water |
| JP2013525003A (ja) * | 2010-04-30 | 2013-06-20 | ゼネラル・エレクトリック・カンパニイ | 電気脱イオン装置の殺菌方法 |
-
1999
- 1999-07-23 JP JP20947099A patent/JP3565098B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| JP3565098B2 (ja) | 2004-09-15 |
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