JP2001089679A - 有機−無機複合傾斜材料、その製造方法及びその用途 - Google Patents
有機−無機複合傾斜材料、その製造方法及びその用途Info
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- 239000000463 material Substances 0.000 title claims abstract description 109
- 239000002131 composite material Substances 0.000 title claims abstract description 56
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 6
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 117
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 115
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 40
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 32
- 229920000620 organic polymer Polymers 0.000 claims abstract description 27
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims abstract description 16
- 239000011368 organic material Substances 0.000 claims abstract description 12
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 101
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 56
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 claims description 47
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 45
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 claims description 43
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 claims description 39
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 35
- -1 metal oxide compound Chemical class 0.000 claims description 34
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 claims description 28
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 22
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 claims description 13
- 229910003471 inorganic composite material Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 8
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 5
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 5
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 4
- 229910003455 mixed metal oxide Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 125000006239 protecting group Chemical group 0.000 claims description 3
- 239000002210 silicon-based material Substances 0.000 claims description 2
- 150000007530 organic bases Chemical class 0.000 abstract description 10
- 239000010408 film Substances 0.000 description 63
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 38
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 21
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 18
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 17
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 17
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 15
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical group [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 13
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical group [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 9
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 9
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 8
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 8
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 8
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 7
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 7
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 7
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 7
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 7
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 7
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 7
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 7
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 6
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 6
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 5
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 5
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 5
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 5
- 238000000985 reflectance spectrum Methods 0.000 description 5
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 4
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 4
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 4
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 4
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 4
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 4
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 4
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 4
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 4
- 229920002799 BoPET Polymers 0.000 description 3
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000004833 X-ray photoelectron spectroscopy Methods 0.000 description 3
- 239000011149 active material Substances 0.000 description 3
- 150000004703 alkoxides Chemical class 0.000 description 3
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 3
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 3
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 3
- 230000001699 photocatalysis Effects 0.000 description 3
- LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N tetramethyl orthosilicate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)OC LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 3
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 3
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 3
- OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 2-(2-cyanopropan-2-yldiazenyl)-2-methylpropanenitrile Chemical compound N#CC(C)(C)N=NC(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L Calcium carbonate Chemical compound [Ca+2].[O-]C([O-])=O VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L Magnesium sulfate Chemical compound [Mg+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000004677 Nylon Substances 0.000 description 2
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000005595 acetylacetonate group Chemical group 0.000 description 2
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 2
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 2
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 2
- 238000007334 copolymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 239000012024 dehydrating agents Substances 0.000 description 2
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 2
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 2
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 2
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 2
- 230000003301 hydrolyzing effect Effects 0.000 description 2
- IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N isocyanate group Chemical group [N-]=C=O IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- 229920001778 nylon Polymers 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 2
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 2
- 239000011941 photocatalyst Substances 0.000 description 2
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 2
- 239000002798 polar solvent Substances 0.000 description 2
- 238000012643 polycondensation polymerization Methods 0.000 description 2
- 238000006068 polycondensation reaction Methods 0.000 description 2
- 239000002861 polymer material Substances 0.000 description 2
- 239000011973 solid acid Substances 0.000 description 2
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 2
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 2
- VXUYXOFXAQZZMF-UHFFFAOYSA-N titanium(IV) isopropoxide Chemical compound CC(C)O[Ti](OC(C)C)(OC(C)C)OC(C)C VXUYXOFXAQZZMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NKRJRPDCNYYXEZ-UHFFFAOYSA-N (2-methylpropan-2-yl)oxyalumane Chemical compound CC(C)(C)O[AlH2] NKRJRPDCNYYXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(ethenyl)benzene;1-ethenyl-2-ethylbenzene;styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1.CCC1=CC=CC=C1C=C.C=CC1=CC=CC=C1C=C NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RDSLEAUQWCVEIL-UHFFFAOYSA-N 2-methylpropan-2-olate titanium(3+) Chemical group CC(C)(C)O[Ti](OC(C)(C)C)OC(C)(C)C RDSLEAUQWCVEIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C(C)=C XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PRITYMRQBPHKEZ-UHFFFAOYSA-N C(CC)O[AlH]OCCC Chemical group C(CC)O[AlH]OCCC PRITYMRQBPHKEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DDRLLIXCLOMEDF-UHFFFAOYSA-N CC(C)(C)O[Zr](OC(C)(C)C)OC(C)(C)C Chemical group CC(C)(C)O[Zr](OC(C)(C)C)OC(C)(C)C DDRLLIXCLOMEDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VHQMSJOKQWPUSE-UHFFFAOYSA-N CCC(C)O[Zr](OC(C)CC)OC(C)CC Chemical group CCC(C)O[Zr](OC(C)CC)OC(C)CC VHQMSJOKQWPUSE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KFDGIFZCOIOUIL-UHFFFAOYSA-N CCCCO[Zr](OCCCC)OCCCC Chemical group CCCCO[Zr](OCCCC)OCCCC KFDGIFZCOIOUIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TYXCJKRJSAWBMB-UHFFFAOYSA-N CCCO[Zr](OCCC)OCCC Chemical group CCCO[Zr](OCCC)OCCC TYXCJKRJSAWBMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JGWLCFLLGBJLTF-UHFFFAOYSA-N CCO[Zr](OCC)OCC Chemical group CCO[Zr](OCC)OCC JGWLCFLLGBJLTF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SAIHNRAAWMQBOH-UHFFFAOYSA-N CO[Zr](OC)OC Chemical group CO[Zr](OC)OC SAIHNRAAWMQBOH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000049 Carbon (fiber) Polymers 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 239000004734 Polyphenylene sulfide Substances 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 1
- 239000011358 absorbing material Substances 0.000 description 1
- 238000010306 acid treatment Methods 0.000 description 1
- 229920000122 acrylonitrile butadiene styrene Polymers 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 125000003282 alkyl amino group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005103 alkyl silyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K aluminium trichloride Chemical group Cl[Al](Cl)Cl VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- JPUHCPXFQIXLMW-UHFFFAOYSA-N aluminium triethoxide Chemical compound CCO[Al](OCC)OCC JPUHCPXFQIXLMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 235000011114 ammonium hydroxide Nutrition 0.000 description 1
- 229920006231 aramid fiber Polymers 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- BYTFJWNSICJFCB-UHFFFAOYSA-N bis[(2-methylpropan-2-yl)oxy]alumane Chemical group CC(C)(C)O[AlH]OC(C)(C)C BYTFJWNSICJFCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NUFATYMMMZQQCQ-UHFFFAOYSA-N butan-1-olate;titanium(3+) Chemical group [Ti+3].CCCC[O-].CCCC[O-].CCCC[O-] NUFATYMMMZQQCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YHWCPXVTRSHPNY-UHFFFAOYSA-N butan-1-olate;titanium(4+) Chemical compound [Ti+4].CCCC[O-].CCCC[O-].CCCC[O-].CCCC[O-] YHWCPXVTRSHPNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OZNDOGQMIDIFFC-UHFFFAOYSA-N butan-2-olate titanium(3+) Chemical group CCC(C)O[Ti](OC(C)CC)OC(C)CC OZNDOGQMIDIFFC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZZHNUBIHHLQNHX-UHFFFAOYSA-N butoxysilane Chemical compound CCCCO[SiH3] ZZHNUBIHHLQNHX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000019 calcium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 description 1
- 239000004917 carbon fiber Substances 0.000 description 1
- 239000003729 cation exchange resin Substances 0.000 description 1
- 229920002301 cellulose acetate Polymers 0.000 description 1
- 239000012461 cellulose resin Substances 0.000 description 1
- 229910010293 ceramic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L chromic acid Substances O[Cr](O)(=O)=O KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000013329 compounding Methods 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 230000001276 controlling effect Effects 0.000 description 1
- 238000003851 corona treatment Methods 0.000 description 1
- 230000002596 correlated effect Effects 0.000 description 1
- 230000000875 corresponding effect Effects 0.000 description 1
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- DYHSMQWCZLNWGO-UHFFFAOYSA-N di(propan-2-yloxy)alumane Chemical group CC(C)O[AlH]OC(C)C DYHSMQWCZLNWGO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RGHVMFZEKLHZBU-UHFFFAOYSA-N dibutoxyalumane Chemical group C(CCC)O[AlH]OCCCC RGHVMFZEKLHZBU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007607 die coating method Methods 0.000 description 1
- WCNOPGVIIPWIRJ-UHFFFAOYSA-N diethoxyalumane Chemical group C(C)O[AlH]OCC WCNOPGVIIPWIRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005594 diketone group Chemical group 0.000 description 1
- DMHKHAWLXIYNLV-UHFFFAOYSA-N dimethoxyalumane Chemical group CO[AlH]OC DMHKHAWLXIYNLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- NNRZFZBJEDXBPK-UHFFFAOYSA-N ethanolate;titanium(3+) Chemical group [Ti+3].CC[O-].CC[O-].CC[O-] NNRZFZBJEDXBPK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 229920005570 flexible polymer Polymers 0.000 description 1
- 125000003709 fluoroalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N furo[3,4-b]pyrazine-5,7-dione Chemical compound C1=CN=C2C(=O)OC(=O)C2=N1 AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 239000003365 glass fiber Substances 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 238000007756 gravure coating Methods 0.000 description 1
- 239000011256 inorganic filler Substances 0.000 description 1
- 229910003475 inorganic filler Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 229910052943 magnesium sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019341 magnesium sulphate Nutrition 0.000 description 1
- 239000006247 magnetic powder Substances 0.000 description 1
- 239000008204 material by function Substances 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 239000002905 metal composite material Substances 0.000 description 1
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JDQLUYWHCUWSJE-UHFFFAOYSA-N methanolate;titanium(3+) Chemical group [Ti+3].[O-]C.[O-]C.[O-]C JDQLUYWHCUWSJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005055 methyl trichlorosilane Substances 0.000 description 1
- JLUFWMXJHAVVNN-UHFFFAOYSA-N methyltrichlorosilane Chemical compound C[Si](Cl)(Cl)Cl JLUFWMXJHAVVNN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001820 oxy group Chemical group [*:1]O[*:2] 0.000 description 1
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 description 1
- 229920006255 plastic film Polymers 0.000 description 1
- 229920003207 poly(ethylene-2,6-naphthalate) Polymers 0.000 description 1
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229920006122 polyamide resin Polymers 0.000 description 1
- 229920005668 polycarbonate resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004431 polycarbonate resin Substances 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 239000011112 polyethylene naphthalate Substances 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 1
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 1
- 229920005672 polyolefin resin Polymers 0.000 description 1
- 229920001955 polyphenylene ether Polymers 0.000 description 1
- 229920000069 polyphenylene sulfide Polymers 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001709 polysilazane Polymers 0.000 description 1
- 229920005990 polystyrene resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 1
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 1
- BDDFDYYYZGKVEP-UHFFFAOYSA-N propan-1-olate;titanium(3+) Chemical group [Ti+3].CCC[O-].CCC[O-].CCC[O-] BDDFDYYYZGKVEP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JARWBUDQCTWQBB-UHFFFAOYSA-N propoxyaluminum Chemical compound CCCO[Al] JARWBUDQCTWQBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 description 1
- 239000012779 reinforcing material Substances 0.000 description 1
- 239000004576 sand Substances 0.000 description 1
- 125000005372 silanol group Chemical group 0.000 description 1
- FDNAPBUWERUEDA-UHFFFAOYSA-N silicon tetrachloride Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)Cl FDNAPBUWERUEDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 125000003808 silyl group Chemical group [H][Si]([H])([H])[*] 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 238000003980 solgel method Methods 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 238000010345 tape casting Methods 0.000 description 1
- OQTSOKXAWXRIAC-UHFFFAOYSA-N tetrabutan-2-yl silicate Chemical compound CCC(C)O[Si](OC(C)CC)(OC(C)CC)OC(C)CC OQTSOKXAWXRIAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UQMOLLPKNHFRAC-UHFFFAOYSA-N tetrabutyl silicate Chemical compound CCCCO[Si](OCCCC)(OCCCC)OCCCC UQMOLLPKNHFRAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UVVUGWBBCDFNSD-UHFFFAOYSA-N tetraisocyanatosilane Chemical compound O=C=N[Si](N=C=O)(N=C=O)N=C=O UVVUGWBBCDFNSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZUEKXCXHTXJYAR-UHFFFAOYSA-N tetrapropan-2-yl silicate Chemical compound CC(C)O[Si](OC(C)C)(OC(C)C)OC(C)C ZUEKXCXHTXJYAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZQZCOBSUOFHDEE-UHFFFAOYSA-N tetrapropyl silicate Chemical compound CCCO[Si](OCCC)(OCCC)OCCC ZQZCOBSUOFHDEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BCLLLHFGVQKVKL-UHFFFAOYSA-N tetratert-butyl silicate Chemical compound CC(C)(C)O[Si](OC(C)(C)C)(OC(C)(C)C)OC(C)(C)C BCLLLHFGVQKVKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YONPGGFAJWQGJC-UHFFFAOYSA-K titanium(iii) chloride Chemical group Cl[Ti](Cl)Cl YONPGGFAJWQGJC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- WOZZOSDBXABUFO-UHFFFAOYSA-N tri(butan-2-yloxy)alumane Chemical compound [Al+3].CCC(C)[O-].CCC(C)[O-].CCC(C)[O-] WOZZOSDBXABUFO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MYWQGROTKMBNKN-UHFFFAOYSA-N tributoxyalumane Chemical compound [Al+3].CCCC[O-].CCCC[O-].CCCC[O-] MYWQGROTKMBNKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DFJSZWHUOKADCX-UHFFFAOYSA-N triisocyanato(methyl)silane Chemical compound O=C=N[Si](C)(N=C=O)N=C=O DFJSZWHUOKADCX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UAEJRRZPRZCUBE-UHFFFAOYSA-N trimethoxyalumane Chemical compound [Al+3].[O-]C.[O-]C.[O-]C UAEJRRZPRZCUBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PZJJKWKADRNWSW-UHFFFAOYSA-N trimethoxysilicon Chemical group CO[Si](OC)OC PZJJKWKADRNWSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OBROYCQXICMORW-UHFFFAOYSA-N tripropoxyalumane Chemical compound [Al+3].CCC[O-].CCC[O-].CCC[O-] OBROYCQXICMORW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DAOVYDBYKGXFOB-UHFFFAOYSA-N tris(2-methylpropoxy)alumane Chemical compound [Al+3].CC(C)C[O-].CC(C)C[O-].CC(C)C[O-] DAOVYDBYKGXFOB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PFXYQVJESZAMSV-UHFFFAOYSA-K zirconium(iii) chloride Chemical group Cl[Zr](Cl)Cl PFXYQVJESZAMSV-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
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- Laminated Bodies (AREA)
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- Paints Or Removers (AREA)
Abstract
上金属系化合物からなり、新規な機能性材料として有用
な、厚さ方向に組成が連続的に変化する有機−無機複合
傾斜材料を提供する。 【解決手段】 有機高分子化合物と金属系化合物との化
学結合物を含み、材料中の金属系化合物の含有率が、材
料の表面から深さ方向に連続的に変化する成分傾斜構造
を有すると共に、上記金属系化合物が金属元素の異なる
2種以上の混合金属系化合物からなり、かつその部分に
おいても、各金属系化合物の組成比が材料の厚み方向に
連続的に変化する成分傾斜構造を有する有機−無機複合
傾斜材料である。
Description
複合傾斜材料、その製造方法および該傾斜材料の用途に
関する。さらに詳しくは、本発明は、有機高分子化合物
と2種以上の混合金属系化合物との化学結合物を含有す
る有機−無機複合材料であって、該金属系化合物の含有
率が材料の厚み方向に連続的に変化する成分傾斜構造を
有すると共に、混合金属系化合物の部分においても、そ
の組成比が材料の厚み方向に連続的に変化する成分傾斜
構造を有し、機能性材料として各種用途に有用な有機−
無機複合傾斜材料、このものを効率よく製造する方法並
びに該傾斜材料からなる被膜形成用コーティング剤およ
び該傾斜材料を使用した基材や物品に関するものであ
る。
する要求の多様化に伴い、単一の高分子化合物では満足
させることが困難となり、高分子化合物に異なる性質を
もつ異種材料を加え、複合化することが行われている。
例えば、強化材を有機高分子材料中に分散させることに
よる物性改質が広く行われており、具体的には、炭素繊
維、ガラス繊維、金属繊維、セラミックス繊維、アラミ
ド繊維などの有機や無機の繊維状物質、あるいは炭酸カ
ルシウム、シリカ、アルミナなどの粉末状の無機フィラ
ーなどを添加し、均質に分散させることが行われてい
る。
により相溶化剤を介して相溶化させ、ポリマーアロイ化
することにより、新しい機能を発現させる研究も盛んに
行われている。
せ、表と裏で性質が全く異なる複合材料である傾斜機能
材料が注目され、例えばセラミックスの耐熱性と金属の
強度を併せもつ金属−セラミックス複合傾斜機能材料が
超音速航空機の機体材料などとして開発されている。こ
のような傾斜機能材料は、無機傾斜材料、有機傾斜材料
および有機−無機複合傾斜材料に分類され、そして、複
数の材料、例えば複数の異種の無機材料同士、複数の異
種の有機材料同士、あるいは1種以上の有機材料と1種
以上の無機材料を混合し、場所によって異なる分布密
度、配向などを制御することで、複数の成分材料の物性
を発現させうることから、例えば宇宙・航空分野、自動
車分野、エレクトロニクス分野、医療分野、エネルギー
分野、さらには放射線や電磁波のシールド分野などにお
ける利用が期待される。
系または金属系材料、例えば光触媒活性材料、導電性材
料、ハードコート剤、光記録材料、磁性粉、赤外線吸収
材料などからなる層を設け、機能性材料を作製すること
が広く行われている。プラスチック基材上に、このよう
な無機系または金属系材料層を設ける場合、一般に基材
との密着性が不十分であるために、例えばプラスチック
基材上に無機系プライマー層を設け、その上に無機系ま
たは金属系材料層を形成させる方法が、よく用いられ
る。しかしながら、この方法においては、無機系プライ
マー層と無機系または金属系材料層との密着性は良好で
あるものの、プラスチック基材と無機系プライマー層と
の密着性は必ずしも十分ではなく、耐熱密着性に劣った
り、あるいは経時により密着性が低下したりするなどの
問題があった。したがって、プラスチック基材上に無機
系または金属系材料層を密着性よく形成させる技術の開
発が望まれていた。
ィルムやディスプレイ保護用ハードコートフィルム等に
代表される光学用途のハードコートフィルムは、その表
面に反射防止処理を施すことがよく行われる。この反射
防止処理は、ハードコート層の上に屈折率を調整するた
めの金属酸化物などの薄膜を、蒸着やスパッタリングな
どにより単層又は複数層形成することにより、反射防止
膜を設けるものである。
の表面に反射防止の目的で、各種金属酸化物からなる多
層膜を、蒸着やスパッタリングなどにより設けることが
よく行われている。しかしながら、ハードコートフィル
ムやプラスチックレンズなどの有機基材上に、蒸着やス
パッタリングなどで金属酸化物からなる反射防止膜を設
ける場合、操作が煩雑である上、反射防止膜と有機基材
との密着性が不充分であるという問題が生じる。
蔵、冷凍ショーケースの窓などにおいては、暑さの軽
減、省エネルギー化を図る目的で、これらの窓に熱線
(赤外線)を反射させるために、例えば透明フィルムの
表面に、アルミニウム、銀、金等の金属薄膜をスパッタ
リングや蒸着により形成してなる熱線反射フィルムを貼
付することが行われている。しかしながら、この場合も
上記と同様に操作が煩雑である上、フィルムと金属薄膜
との密着性が不充分であるという問題が生じる。
事情のもとで、有機基材と強固に密着し、かつ表面側が
実質上金属系化合物層からなり、反射防止膜や光・熱線
反射膜などの用途に有用な、厚さ方向に組成が連続的に
変化する新規な有機−無機複合傾斜材料、このものを効
率よく製造する方法およびその用途を提供することを目
的とするものである。
を達成するために鋭意研究を重ねた結果、有機高分子化
合物と混合金属系化合物の化合結合物を含有し、該混合
金属系化合物の含有率が厚み方向に連続的に変化すると
共に、混合金属系化合物の組成比も厚み方向に連続的に
変化する構造の材料が、有機−無機複合傾斜材料として
その目的に適合しうること、そして、このものは、金属
系化合物が金属酸化物系化合物である場合、分子中に加
水分解により金属酸化物と結合しうる金属含有基を有す
る有機高分子化合物と、加水分解により金属酸化物を形
成しうると共に、加水分解反応性および金属元素の異な
る金属含有化合物2種以上の組合せとの混合物を、加水
分解処理して得られた塗布液を有機基板上に塗布し、加
熱乾燥処理することにより、効率よく得られることを見
出した。本発明は、かかる知見に基づいて完成したもの
である。
合物と金属系化合物との化学結合物を含有する有機−無
機複合材料であって、材料中の金属系化合物の含有率
が、材料の表面から深さ方向に連続的に変化する成分傾
斜構造を有すると共に、上記金属系化合物が金属元素の
異なる2種以上の混合金属系化合物からなり、かつその
部分においても、各金属系化合物の組成比が材料の厚み
方向に連続的に変化する成分傾斜構造を有することを特
徴とする有機−無機複合傾斜材料、(2)有機高分子化
合物と金属酸化物系化合物との化学結合物を含有する有
機−無機複合材料であって、材料中の金属酸化物系化合
物の含有率が、材料の表面から深さ方向に連続的に変化
する成分傾斜構造を有すると共に、上記金属酸化物系化
合物が金属元素の異なる2種以上の混合金属酸化物系化
合物からなり、かつその部分においても、各金属酸化物
系化合物の組成比が材料の厚み方向に連続的に変化する
成分傾斜構造を有する有機−無機複合材料を製造する方
法であって、(A)分子中に加水分解により金属酸化物
と結合しうる金属含有基を有する有機高分子化合物と、
(B)加水分解により金属酸化物を形成しうると共に、
加水分解反応性および金属元素の異なる金属含有化合物
2種以上の組合せとの混合物を加水分解処理して塗布液
を調製したのち、有機材からなる基板上に上記塗布液か
らなる塗膜を形成し、次いで加熱乾燥処理することを特
徴とする有機−無機複合傾斜材料の製造方法、(3)上
記有機−無機複合傾斜材料からなる被膜を基材上に形成
させることを特徴とするコーティング剤、好ましくは有
機基材に対する塗膜形成用として用いられるコーティン
グ剤、(4)上記有機−無機複合傾斜材料を用いたこと
を特徴とする基材、および(5)上記有機−無機複合傾
斜材料からなるコート層を有することを特徴とする物
品、を提供するものである。
は、有機高分子化合物と金属系化合物とが化学結合して
なる複合体を含有する有機−無機複合材料、好ましくは
該複合体からなる有機−無機複合材料であって、材料中
の金属系化合物の含有率が、材料表面から深さ方向に連
続的に変化する成分傾斜構造を有している。そして、上
記金属系化合物は、金属元素の異なる2種以上の混合金
属系化合物からなり、しかもその部分においても、各金
属系化合物の組成比が材料の厚み方向に連続的に変化す
る成分傾斜構造を有している。
ば、有機材からなる基板上に設けた有機−無機複合傾斜
材料の塗膜表面に、スパッタリングを施して膜を削って
いき、経時的に膜表面の炭素原子と各金属原子の含有率
を、X線光電子分光法などにより測定することによっ
て、行うことができる。具体的に例を挙げて説明する
と、図1は、後述の実施例1において、ポリエチレンテ
レフタレートフィルム上に設けられた厚さ0.12μm
の有機−無機複合材料(金属原子として、ケイ素原子と
チタン原子を含む)からなる塗膜における、スパッタリ
ング時間と炭素原子、ケイ素原子およびチタン原子の含
有率との関係を示すグラフであって、この図から分かる
ように、スパッタリングを施す前の塗膜表面は、ほぼ1
00%近くシリカで占められているが、スパッタリング
により膜が削られていくに伴い、ケイ素原子の含有率が
連続的に減少していくと共に、チタン原子の含有率が増
加し、チタニア層が現れる。その後さらにスパッタリン
グしていくと、チタン原子の含有率が連続的に減少して
いくと共に、炭素原子の含有率が増加し、有機成分が現
れ、スパッタリング時間が約40分間を過ぎた時点から
膜表面はほぼ有機成分のみとなる。
中の2種の混合金属酸化物系化合物の含有率が、表面か
ら基板方向に逐次減少していると共に、2種の金属酸化
物系化合物の組成比も、材料の厚み方向に連続的に変化
していることが示されている。
高分子化合物に金属元素の異なる2種の混合金属系化合
物が化学結合した複合体を含有し、かつ上述のような傾
斜特性を有することを特徴としており、このような複合
傾斜材料は、後で説明する本発明の方法によって容易に
形成させることができる。
種類については特に制限はなく、金属酸化物系化合物、
または金属酸化物系化合物を介して有機高分子化合物に
化学結合してなるポリシラザンのような金属窒化物系化
合物などを挙げることができるが、ゾル−ゲル法により
形成されうるものが好ましい。本発明においては、この
金属系化合物は、金属元素の異なる化合物を2種以上含
む混合物である。
属系化合物の含有量としては特に制限はないが、金属酸
化物換算で、通常5〜98重量%、好ましくは20〜9
8重量%、特に好ましくは50〜90重量%の範囲であ
る。有機高分子化合物の重合度や分子量としては、製膜
化しうるものであればよく特に制限されず、高分子化合
物の種類や所望の塗膜物性などに応じて適宜選定すれば
よい。さらに、本発明の傾斜材料は、その厚みが10μ
m以下、特に0.01〜2.0μmの範囲のものが、傾
斜性及び塗膜性能などの点から好適である。
の好ましい態様である金属系化合物が、金属酸化物系化
合物である場合、以下に示す本発明の方法により効率よ
く製造することができる。
加水分解により金属酸化物と結合しうる金属含有基(以
下、加水分解性金属含有基と称すことがある。)を有す
る有機高分子化合物と、(B)加水分解により金属酸化
物を形成しうると共に、加水分解反応性および金属元素
の異なる金属含有化合物(以下、加水分解性金属含有化
合物と称すことがある。)2種以上の組合せとの混合物
を加水分解処理して塗布液を調製する。
の加水分解性金属含有基および(B)成分である加水分
解反応性および金属元素の異なる加水分解性金属含有化
合物2種以上の組合せにおける金属としては、例えばケ
イ素、チタン、ジルコニウム及びアルミニウムの中から
選ばれる少なくとも1種を好ましく挙げることができ
る。
より金属酸化物と結合しうる金属含有基を有する有機高
分子化合物は、例えば該金属含有基を有する単量体と金
属を含まない単量体とを共重合又は縮重合させることに
より、得ることができる。
うる金属含有基としては、例えば一般式(I) −M1R1 n-1 …(I) (式中、R1は加水分解性基または非加水分解性基であ
るが、その中の少なくとも1つは加水分解により、
(B)成分と化学結合しうる加水分解性基であることが
必要であり、また、R1が複数の場合には、各R1はたが
いに同一であってもよいし、異なっていてもよく、M1
はケイ素、チタン、ジルコニウム、アルミニウムなどの
金属原子、nは金属原子M1の価数である。)で表され
る基を挙げることができる。
加水分解により(B)成分と化学結合しうる加水分解性
基としては、例えばアルコキシル基、イソシアネート
基、塩素原子などのハロゲン原子、オキシハロゲン基、
アセチルアセトネート基などが挙げられ、一方、(B)
成分と化学結合しない非加水分解性基としては、例えば
低級アルキル基などが好ましく挙げられる。
しては、例えば、トリメトキシシリル基、トリエトキシ
シリル基、トリ−n−プロポキシシリル基、トリイソプ
ロポキシシリル基、トリ−n−ブトキシシリル基、トリ
イソブトキシシリル基、トリ−sec−ブトキシシリル
基、トリ−tert−ブトキシシリル基、トリクロロシリル
基、ジメチルメトキシシリル基、メチルジメトキシシリ
ル基、ジメチルクロロシリル基、メチルジクロロシリル
基、トリイソシアナトシリル基、メチルジイソシアナト
シリル基など、トリメトキシチタニウム基、トリエトキ
シチタニウム基、トリ−n−プロポキシチタニウム基、
トリイソプロポキシチタニウム基、トリ−n−ブトキシ
チタニウム基、トリイソブトキシチタニウム基、トリ−
sec−ブトキシチタニウム基、トリ−tert−ブトキシチ
タニウム基、トリクロロチタニウム基、さらには、トリ
メトキシジルコニウム基、トリエトキシジルコニウム
基、トリ−n−プロポキシジルコニウム基、トリイソプ
ロポキシジルコニウム基、トリ−n−ブトキシジルコニ
ウム基、トリイソブトキシジルコニウム基、トリ−sec
−ブトキシジルコニウム基、トリ−tert−ブトキシジル
コニウム基、トリクロロジルコニウム基、またさらに
は、ジメトキシアルミニウム基、ジエトキシアルミニウ
ム基、ジ−n−プロポキシアルミニウム基、ジイソプロ
ポキシアルミニウム基、ジ−n−ブトキシアルミニウム
基、ジイソブトキシアルミニウム基、ジ−sec−ブトキ
シアルミニウム基、ジ−tert−ブトキシアルミニウム
基、トリクロロアルミニウム基などが挙げられる。
和基および前記一般式(I)で表される金属含有基を有
する単量体と、エチレン性不飽和基を有し、かつ金属を
含まない単量体とをラジカル共重合させることにより、
所望の高分子化合物が得られる。具体的には、一般式
(II)
ン基、好ましくは炭素数1〜4のアルキレン基、R1、
M1およびnは前記と同じである。)で表される金属含
有基を含むアルキル基をエステル成分とする(メタ)ア
クリル酸エステル1種以上と、一般式(III)
機基である。)で表されるエチレン性不飽和基を有する
単量体、特に好ましくは一般式(III−a)
ル基またはアラルキル基であり、R3は前記と同じであ
る。)で表される(メタ)アクリル酸エステル1種以上
とをラジカル共重合させる方法を挙げることができる。
性不飽和基の代わりに、縮合により高分子量化可能な
基、例えば縮合によりアミド結合、エステル結合あるい
はウレタン結合などを生成する2つ以上の官能基と前記
一般式(I)で表される金属含有基とを有する単量体
と、縮合により高分子量化可能な基、例えば縮合により
アミド結合、エステル結合あるいはウレタン結合などを
生成する2つ以上の官能基を有し、かつ金属含有基を含
まない単量体とを縮重合させる方法などにより、所望の
高分子化合物が得られる。
般式(I)で表される金属含有基を有するアミン成分と
酸成分とを縮重合させ、ポリアミドを形成させる方法、
あるいはいずれか一方の成分が前記一般式(I)で表さ
れる金属含有基を有するアルコール成分と酸成分とを縮
重合させ、ポリエステルを形成させる方法などが挙げら
れる。
酸化物を形成しうる金属含有化合物(加水分解性金属含
有化合物)としては、例えば一般式(IV) M2R5 m …(IV) (式中、R5は加水分解性基または非加水分解性基であ
るが、少なくとも2つは加水分解性基であり、かつ少な
くとも1つは、加水分解により(A)成分と化学結合し
うる加水分解性基であって、複数のR5はたがいに同一
であってもよいし、異なっていてもよく、M2はケイ
素、チタン、ジルコニウム、アルミニウムなどの金属原
子、mは金属原子M2の価数である。)で表される金属
化合物を挙げることができる。
水分解性基としては、例えばアルコキシル基、イソシア
ネート基、塩素原子などのハロゲン原子、オキシハロゲ
ン基、アセチルアセトネート基などが挙げられ、一方非
加水分解性基としては、例えば低級アルキル基、アリー
ル基、アルケニル基などが好ましく挙げられる。この加
水分解性金属含有化合物としては、上記一般式(IV)で
表される金属含有化合物から誘導されるオリゴマーや、
一般式(IV)で表される金属含有化合物を複数種混合し
たものも用いることができる。
物の例としては、テトラメトキシシラン、テトラエトキ
シシラン、テトラ−n−プロポキシシラン、テトライソ
プロポキシシラン、テトラ−n−ブトキシシラン、テト
ライソブトキシシラン、テトラ−sec−ブトキシシラ
ン、テトラ−tert−ブトキシシランなど、並びにこれら
に対応するテトラアルコキシチタンおよびテトラアルコ
キシジルコニウム、さらにはトリメトキシアルミニウ
ム、トリエトキシアルミニウム、トリ−n−プロポキシ
アルミニウム、トリイソプロポキシアルミニウム、トリ
−n−ブトキシアルミニウム、トリイソブトキシアルミ
ニウム、トリ−sec−ブトキシアルミニウム、トリ−ter
t−ブトキシアルミニウムなどの金属アルコキシド、あ
るいは金属アルコキシドオリゴマー、例えば市販品のア
ルコキシシランオリゴマーである「メチルシリケート5
1」、「エチルシリケート40」(いずれもコルコート
社製商品名)など、さらにはテトライソシアナトシラ
ン、メチルトリイソシアナトシラン、テトラクロロシラ
ン、メチルトリクロロシランなどが挙げられるが、この
(B)成分としては、金属のアルコキシドが好適であ
る。
分解性金属含有化合物として、加水分解反応性および金
属元素の異なる化合物2種以上を混合して用いることが
必要である。この場合、金属元素が同一の金属含有化合
物は、それぞれ1種用いてもよいし、2種以上を組み合
わせて用いてもよい。そして、金属元素の異なる金属含
有化合物の加水分解反応性をそれぞれ適宜調節すると共
に、(A)成分と(B)成分との混合物の加水分解処理
条件を適宜選定することにより、金属酸化物系化合物の
含有率が、材料の表面から深さ方向に連続的に変化する
成分傾斜構造を有すると共に、各金属酸化物系化合物の
組成比が材料の厚み方向に連続的に変化する成分傾斜構
造を有する有機−無機複合傾斜材料が得られる。
て、炭素数2以上のアルコキシル基を有するジアルコキ
シシラン、トリアルコキシシランおよびテトラアルコキ
シシシランのいずれかを少なくとも含むケイ素含有化合
物と、他の金属を含む金属含有化合物との混合物を用い
るのが好ましい。
低下させた金属含有化合物を含むものも用いることがで
きる。上記保護基としては、加水分解性金属含有化合物
を保護して、加水分解反応速度を低下させうる基であれ
ばよく、特に制限はない。例えばジケトン類などを作用
させて加水分解性金属含有化合物を保護することができ
る。
性および金属元素の異なる2種以上の加水分解性金属含
有化合物からなる混合物の一成分として、加水分解性金
属含有化合物の代わりに、金属窒化物重合体を用いるこ
とができる。
般式(V)
子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキ
ル基、若しくはこれらの基以外のフルオロアルキル基な
どの炭素原子がケイ素原子に直結する基、アルキルシリ
ル基、アルキルアミノ基またはアルコキシル基である
が、その少なくとも1つは水素原子である。)で表され
る構造単位を含む数平均分子量100〜50000のポ
リシラザンなどを好ましく挙げることができる。
エーテルなどの適当な極性溶剤中において、前記(A)
成分の高分子化合物および(B)成分である2種以上の
加水分解性金属含有化合物からなる混合物を塩酸、硫
酸、硝酸などの酸、あるいは固体酸としてのカチオン交
換樹脂を用い、通常0〜100℃、好ましくは20〜6
0℃の温度にて加水分解処理し、固体酸を用いた場合に
は、それを除去したのち、さらに、所望により溶剤を留
去または添加し、塗布するのに適した粘度に調節して塗
布液を調製する。温度が低すぎる場合は加水分解が進ま
ず、高すぎる場合は逆に加水分解・重合反応が速く進み
すぎ、制御が困難となり、その結果得られる傾斜塗膜の
傾斜性が低下するおそれがある。なお、(B)成分の金
属含有化合物を含む極性溶剤溶液を予め調製し、これに
酸を加えて加水分解反応を進めておき、このものと
(A)成分を混合し、さらに加水分解処理してもよい。
製後も、加水分解、重縮合が徐々に進行して塗布条件が
変動する場合があるので、塗布液に不溶の固体の脱水
剤、例えば無水硫酸マグネシウムなどを添加することに
より、ポットライフの低下を防止することができる。こ
の場合、塗布液は、該脱水剤を除去してから、塗布に用
いる。
い、有機材からなる基板上に、乾燥塗膜の厚さ、通常1
0μm以下、好ましくは0.01〜2.0μmの範囲に
なるように、ディップコート法、スピンコート法、スプ
レーコート法、バーコート法、ナイフコート法、ロール
コート法、ブレードコート法、ダイコート法、グラビア
コート法などの公知の手段により塗膜を形成し、公知の
乾燥処理、例えば40〜150℃程度の温度で加熱乾燥
処理することにより、本発明の有機−無機複合傾斜材料
が得られる。
(B)成分である2種以上の加水分解性金属含有化合物
との混合物の加水分解処理により、(A)成分の高分子
化合物中の加水分解性金属含有基が加水分解するととも
に、(B)成分の2種以上の加水分解性金属含有化合物
も一部加水分解して重合する。次に、この塗布液を有機
材からなる基板(有機基材と称することがある。)に塗
布することにより、(A)成分の高分子化合物中のフレ
キシブルな高分子鎖の部分が基板に吸着されるととも
に、側鎖の金属含有基の加水分解部分は基板から離れた
ところに位置する。この塗膜を加熱乾燥処理することに
より、上記側鎖の金属含有基の加水分解がさらに進行す
るとともに、(B)成分の金属含有化合物の加水分解、
重合もさらに進行し、そしてこの際、上記側鎖の加水分
解により生成した反応性基、例えばシラノール基と
(B)成分の加水分解、重合物とが縮合(化学結合)す
ることにより、高分子化合物と金属酸化物系化合物とが
化学結合した複合体が形成する。そして、この際、
(B)成分として、加水分解反応性および金属元素の異
なる金属含有化合物2種以上からなる混合物を用いてい
るので、各金属含有化合物の加水分解、重合速度が異な
り、したがって、加水分解処理条件を適宜選定すること
により、金属酸化物系化合物の含有率が、材料の表面か
ら深さ方向に連続的に変化する成分傾斜構造を有すると
共に、高分子化合物と化学結合した各金属酸化物系化合
物の組成比が材料の厚み方向に連続的に変化する成分傾
斜構造を有する有機−無機複合傾斜材料が得られる。
発明の複合傾斜材料においては、材料中の金属系化合物
の含有率が表面ではほぼ100%であるが、基材方向に
逐次減少していき、基材近傍ではほぼ0%になる上、2
種以上の混合金属系化合物からなる部分においても、そ
の組成比が材料の厚み方向に連続的に変化する成分傾斜
構造を有するようになる。
斜材料が形成されることから、塗膜の形成後、有機材か
らなる基板に高分子鎖の部分が吸着されるのに必要な時
間、一般的には少なくとも液体状態を数秒間程度保持す
ることが肝要である。使用する有機成分の可溶性溶媒と
無機成分の可溶性溶媒は、通常は異なる溶媒が用いら
れ、それらが混和性を有する必要がある。また、塗工機
あるいはスプレー法等での塗布において、厚み斑がなく
かつ良好な傾斜構造を得るためには、無機成分同士が縮
合する前に高分子化合物の吸着が起こるようにするため
にも、上記無機成分可溶性溶媒の蒸発点を有機成分可溶
性溶媒の蒸発点以上に高くするのが好ましい。なお、有
機成分と無機成分の両者を溶解できるものであれば、単
独溶媒でも使用可能である。
く、例えばポリメチルメタクリレートなどのアクリル樹
脂、ポリスチレンやABS樹脂などのスチレン系樹脂、
ポリエチレンやポリプロピレンなどのオレフィン系樹
脂、ポリエチレンテレフタレートやポリエチレンナフタ
レートなどのポリエステル系樹脂、6−ナイロンや6,
6−ナイロンなどのポリアミド系樹脂、ポリ塩化ビニル
系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリフェニレンサル
ファイド系樹脂、ポリフェニレンエーテル系樹脂、ポリ
イミド系樹脂、セルロースアセテートなどのセルロース
系樹脂などからなる基板を挙げることができる。
着性をさらに向上させるために、所望により、酸化法や
凹凸化法などにより表面処理を施すことができる。上記
酸化法としては、例えばコロナ放電処理、クロム酸処理
(湿式)、火炎処理、熱風処理、オゾン・紫外線照射処
理などが挙げられ、また、凹凸化法としては、例えばサ
ンドブラスト法、溶剤処理法などが挙げられる。これら
の表面処理法は基板の種類に応じて適宜選ばれる。
は、有機系材料以外の材料、例えば金属系材料、ガラス
やセラミックス系材料、その他各種無機系または金属系
材料からなる基材の表面に、有機系塗膜を有するものも
包含する。前述した性状を有する本発明の有機−無機複
合傾斜材料は、新しい機能性材料として、種々の用途に
有用である。
からなる被膜を基材上に形成させるコーティング剤をも
提供するものである。このコーティング剤としては、前
記の(A)分子中に加水分解により金属酸化物と結合し
うる金属含有基を有する有機高分子化合物と、(B)加
水分解により金属酸化物を形成しうると共に、加水分解
反応性および金属元素の異なる金属含有化合物2種以上
の組合せとの混合物を加水分解処理して得られた塗布液
からなるものを好ましく挙げることができる。
対する塗膜形成用として用いることができる。有機基材
上に形成されたコート層は、前述のような成分傾斜構造
を有しているので、金属系化合物それぞれを主体とする
各層の材質や厚さを適宜選択して、その屈折率を調節す
ることにより、光反射防止層として、あるいは、光や熱
線などの高反射層として機能させることができる。
し、中間部にシリカなどの他の金属系化合物層が形成す
るようなコーティング剤の場合、有機基材上に直接塗布
してコート層を設け、その表面をアナターゼ型に結晶化
することにより、光触媒機能を付与することができる。
有機基材上にチタニアなどの光触媒活性材料層を設ける
場合、該有機基材の光触媒による劣化を抑制するため
に、通常有機基材と光触媒活性材料層との間に無機プラ
イマー層が設けられる。しかし、前記コーティング剤を
用いることにより、コート層の中間部にシリカなどの金
属系化合物層が形成されるので、無機プライマー層を設
けなくても、有機基材の光触媒による劣化を抑制するこ
とができ、しかも無機プライマー層と異なり、有機基材
とコート層との密着性は優れたものとなる。
用途について説明する。まず、塗膜としての用途に用い
られる。該有機−無機複合傾斜材料は、有機基材に対す
る接着性に優れており、かつ塗膜表面は金属酸化物など
の性質を有することから、例えば各種プラスチックフィ
ルム上に該材料からなるコート層を設けることにより、
耐擦傷性や耐熱性などに優れると共に、密着性の良好な
ハードコートフィルムを得ることができる。
斜材料を用いてなる基材、および該複合傾斜材料からな
るコート層を有する物品をも提供する。物品の具体例と
しては、コート層が光反射防止層であるものや、光およ
び/または熱線の高反射層であるものなどを好ましく挙
げることができる。
明するが、本発明は、これらの例によってなんら限定さ
れるものではない。
および3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン
[信越化学工業(株)製]1.4gを混合し、よく撹拌し
た後に、これに2,2′−アゾビスイソブチロニトリル
[和光純薬工業(株)製]0.2gを添加・溶解させ、撹
拌しながら70℃で2.5時間反応させた。反応終了
後、室温まで冷却させた後、アセトンに重合物を溶解さ
せ、有機高分子化合物(A)を2.0g/リットル濃度
で含む溶液を調製した。
液の調製 テトラエトキシシラン[和光純薬工業(株)製][金属含
有化合物(B−1)]15gとエタノール10gの混合
溶液に、濃塩酸3gとエタノール5gとの混合溶液を撹
拌しながら滴下し、室温下で5時間撹拌を続け、金属含
有化合物(B−1)を含む溶液を調製した。
液の調製 チタンテトライソプロポキシド[和光純薬工業(株)製]
[金属含有化合物(B−2)]15gとエタノール10
gの混合溶液に、濃塩酸3gとエタノール5gとの混合
溶液を撹拌しながら滴下し、室温下で5時間撹拌を続
け、金属含有化合物(B−2)を含む溶液を調製した。
合物(A)と金属含有化合物(B−1)と金属含有化合
物(B−2)との体積比が2:1:1になるような割合
で混合して塗布液を調製した。この塗布液をスピンコー
ト法(1500rpm、10秒)にて、ポリエチレンテ
レフタレートフィルム(PETフィルム)上に塗布・成
膜し、70℃にて12時間加熱乾燥処理することによっ
て、厚さ0.12μmの有機−無機複合膜を得た。さら
に該薄膜を0.005Nアンモニア水に5分間浸漬させ
たのち、水洗・乾燥させた。
光純薬工業(株)製]15gとエタノール10gの混合溶
液に、8N塩酸5gとエタノール5gとの混合溶液を撹
拌しながら滴下し、室温下で5時間撹拌を続けた以外
は、実施例1と同じ方法で有機−無機複合膜を得た。
[和光純薬工業(株)製]15gとエタノール10gの混
合溶液に、濃塩酸3gとエタノール5gとの混合溶液を
撹拌しながら滴下し、室温下で5時間撹拌を続けた以外
は、実施例1と同じ方法で有機−無機複合膜を得た。
び比較例2で得られた有機−無機複合膜を有するPET
フィルムを、XPS装置[PHI−5600:アルバッ
ク・ファイ(株)製]を用い、アルゴン・スパッタリング
(4kV)を3分間隔で施して、膜を削り、膜表面の炭
素原子とケイ素原子およびチタン原子の含有率を、X線
光電子分光法により求め、傾斜性を調べた。
および比較例2のものにおける、スパッタリング時間
(膜の深さに相関する)と、炭素原子、ケイ素原子およ
びチタン原子の含有率との関係をグラフで示す。
に、複合膜表面はシリカ成分であり、次いで膜の表面か
ら深さ方向にスパッタリングしていくと、シリカ成分が
連続的に減少していき、反対にチタニア成分が増加しチ
タニアからなる層が現れる。その後さらにスパッタリン
グしていくと、チタニア成分が連続的に減少していき、
反対に有機成分が現れる。このように1回のコーティン
グによる層において、表面から、シリカ成分→チタニア
成分→有機成分の順に成分が連続的に傾斜して存在する
ことが明らかになった。
いては、図2および図3から、上記のような傾向は認め
られず、複合膜表面近傍の金属酸化物からなる層はシリ
カ成分とチタニア成分の混合体からなり、次いで膜の表
面から深さ方向にスパッタリングしていくと、金属酸化
物成分が連続的に減少していき、反対に有機成分が現れ
る構造を有していることが分かる。
で得られた有機−無機複合膜を有するPETフィルムの
反射率スペクトルを、可視・紫外分光光度計[(株)島津
製作所製、UV−2100型]を用い、入射角を0゜と
して、400〜800nmの波長領域について測定し
た。その結果を、それぞれ図4および図5に示す。ま
た、PETフィルム自体の反射率スペクトルも同様に測
定した。その結果を図6に示す。図4〜図6から明らか
なように、実施例1のものは、比較例2のものおよびP
ETフィルム自体に比べて、600nm付近の反射率が
大幅に低下しており、低反射膜として有効であることが
分かった。
機高分子化合物と2種以上の混合金属系化合物との化合
結合物を含有するものであって、該金属系化合物の含有
率が材料の厚み方向に連続的に変化する成分傾斜構造を
有すると共に、混合金属系化合物の部分においても、そ
の組成比が材料の厚み方向に連続的に変化する成分傾斜
構造を有し、反射防止層や、光・熱線などの高反射層な
どを形成しうる、新規な機能性材料として有用である。
スパッタリング時間と炭素原子、ケイ素原子およびチタ
ン原子の含有率との関係を示すグラフである。
スパッタリング時間と炭素原子、ケイ素原子およびチタ
ン原子の含有率との関係を示すグラフである。
スパッタリング時間と炭素原子、ケイ素原子およびチタ
ン原子の含有率との関係を示すグラフである。
ポリエチレンテレフタレートフィルムの反射率スペクト
ル図である。
ポリエチレンテレフタレートフィルムの反射率スペクト
ル図である。
射率スペクトル図である。
Claims (16)
- 【請求項1】 有機高分子化合物と金属系化合物との化
学結合物を含有する有機−無機複合材料であって、材料
中の金属系化合物の含有率が、材料の表面から深さ方向
に連続的に変化する成分傾斜構造を有すると共に、上記
金属系化合物が金属元素の異なる2種以上の混合金属系
化合物からなり、かつその部分においても、各金属系化
合物の組成比が材料の厚み方向に連続的に変化する成分
傾斜構造を有することを特徴とする有機−無機複合傾斜
材料。 - 【請求項2】 有機−無機複合材料が、有機高分子化合
物と金属系化合物との化学結合物からなるものである請
求項1に記載の有機−無機複合傾斜材料。 - 【請求項3】 金属系化合物が金属酸化物系化合物であ
る請求項1または2に記載の有機−無機複合傾斜材料。 - 【請求項4】 厚みが10μm以下である請求項1〜3
のいずれか1項に記載の有機−無機複合傾斜材料。 - 【請求項5】 有機高分子化合物と金属系化合物との化
学結合物が、分子中に加水分解により金属酸化物と結合
しうる金属含有基を有する有機高分子化合物と、加水分
解により金属酸化物を形成しうる金属元素の異なる金属
含有化合物2種以上の組合せとの混合物を加水分解処理
してなるものである請求項3または4に記載の有機−無
機複合傾斜材料。 - 【請求項6】 加水分解により金属酸化物を形成しうる
金属元素の異なる金属含有化合物2種以上の組合せが、
それぞれ加水分解反応性の異なる金属含有化合物の混合
物である請求項5に記載の有機−無機複合傾斜材料。 - 【請求項7】 加水分解反応性の異なる金属含有化合物
の混合物が、炭素数2以上のアルコキシル基を有するジ
アルコキシシラン、トリアルコキシシランおよびテトラ
アルコキシシシランのいずれかを少なくとも含むケイ素
含有化合物と、他の金属元素を含む金属含有化合物との
混合物である請求項6に記載の有機−無機複合傾斜材
料。 - 【請求項8】 加水分解反応性の異なる金属含有化合物
の混合物が、保護基により加水分解反応速度を低下させ
た金属含有化合物を含むものである請求項6または7に
記載の有機−無機複合傾斜材料。 - 【請求項9】 有機高分子化合物と金属酸化物系化合物
との化学結合物を含有する有機−無機複合材料であっ
て、材料中の金属酸化物系化合物の含有率が、材料の表
面から深さ方向に連続的に変化する成分傾斜構造を有す
ると共に、上記金属酸化物系化合物が金属元素の異なる
2種以上の混合金属酸化物系化合物からなり、かつその
部分においても、各金属酸化物系化合物の組成比が材料
の厚み方向に連続的に変化する成分傾斜構造を有する有
機−無機複合材料を製造する方法であって、(A)分子
中に加水分解により金属酸化物と結合しうる金属含有基
を有する有機高分子化合物と、(B)加水分解により金
属酸化物を形成しうると共に、加水分解反応性および金
属元素の異なる金属含有化合物2種以上の組合せとの混
合物を加水分解処理して塗布液を調製したのち、有機材
からなる基板上に上記塗布液からなる塗膜を形成し、次
いで加熱乾燥処理することを特徴とする有機−無機複合
傾斜材料の製造方法。 - 【請求項10】 乾燥塗膜の厚みが10μm以下である
請求項9に記載の方法。 - 【請求項11】 請求項1ないし8のいずれか1項に記
載の有機−無機複合傾斜材料からなる被膜を基材上に形
成させることを特徴とするコーティング剤。 - 【請求項12】 有機基材に対する塗膜形成用として用
いられる請求項11に記載のコーティング剤。 - 【請求項13】 請求項1ないし8のいずれか1項に記
載の有機−無機複合傾斜材料を用いたことを特徴とする
基材。 - 【請求項14】 請求項1ないし8のいずれか1項に記
載の有機−無機複合傾斜材料からなるコート層を有する
ことを特徴とする物品。 - 【請求項15】 コート層が光反射防止層である請求項
14に記載の物品。 - 【請求項16】 コート層が光および/または熱線の高
反射層である請求項14に記載の物品。
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| JP4504480B2 (ja) | 2010-07-14 |
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