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JP2001064359A - Epoxy resin composition and wiring board using the same - Google Patents

Epoxy resin composition and wiring board using the same

Info

Publication number
JP2001064359A
JP2001064359A JP24375099A JP24375099A JP2001064359A JP 2001064359 A JP2001064359 A JP 2001064359A JP 24375099 A JP24375099 A JP 24375099A JP 24375099 A JP24375099 A JP 24375099A JP 2001064359 A JP2001064359 A JP 2001064359A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
epoxy resin
resin composition
insulating film
substrate
epoxy
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP24375099A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Florence Cooley Nawarage
ナワラゲ・フローレンス・クーレイ
Yasuhiro Yoneda
泰博 米田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fujitsu Ltd filed Critical Fujitsu Ltd
Priority to JP24375099A priority Critical patent/JP2001064359A/en
Publication of JP2001064359A publication Critical patent/JP2001064359A/en
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  • Non-Metallic Protective Coatings For Printed Circuits (AREA)
  • Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain an epoxy resin composition which is suited in forming insulating films capable of exhibiting excellent crack resistance, high flexibility, and excellent reliability at the time of bending the substrate or mounting parts on the substrate in the film formation of insulating films on the substrate formed from organic materials. SOLUTION: The epoxy resin composition is constituted by comprising (1) an epoxy resin component selected from the group consisting of an aromatic epoxy resin having an aromatic ring in the molecule, an alicyclic epoxy resin having a cyclohexane skeleton in the molecule, and a mixture thereof and (2) an epoxy curing agent having two or more hydroxyl groups and two or more aromatic rings in the molecule.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明はエポキシ樹脂組成物
に関し、さらに詳しく述べると、特に半導体装置等にお
いて絶縁膜の形成に有利に使用することのできるエポキ
シ樹脂組成物に関する。本発明は、また、このようなエ
ポキシ樹脂組成物に由来する絶縁膜を備えた配線基板に
関する。本発明の配線基板は、例えばMCM−L/D基
板、シングルチップパッケージ基板などの多層回路基板
を包含する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an epoxy resin composition, and more particularly to an epoxy resin composition which can be advantageously used for forming an insulating film in a semiconductor device or the like. The present invention also relates to a wiring board provided with an insulating film derived from such an epoxy resin composition. The wiring board of the present invention includes a multilayer circuit board such as an MCM-L / D board and a single-chip package board.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来より、電子部品をコンパクトに電子
機器に組み込むために、プリント基板が一般的に使用さ
れている。プリント基板は、一般的に、積層板に張り合
わせた銅箔を所望とする電子回路パターンに従ってエッ
チングして作製するものであるので、高密度に電子部品
を実装することは困難であるが、コスト面で有用なた
め、電子機器等の製造の分野において広く用いられてい
る。
2. Description of the Related Art Conventionally, printed circuit boards have been generally used for compactly incorporating electronic components into electronic equipment. Printed circuit boards are generally manufactured by etching a copper foil bonded to a laminate in accordance with a desired electronic circuit pattern. Therefore, it is difficult to mount electronic components at a high density. Therefore, it is widely used in the field of manufacturing electronic devices and the like.

【0003】一方、ハイブリッド集積回路(IC)等の
作製のため、ビルドアップ多層配線構造を備えた配線基
板が以前より用いられている。この配線基板は、セラミ
ック基板の上に導体の厚膜ペーストと絶縁体の厚膜ペー
ストを順次印刷して積み重ね、焼成することによって作
製することができる。近年、電子機器に対する小型化、
高性能化、低価格化などの要求に伴い、プリント基板の
電子回路の微細化及び多層化、そして電子部品の高密度
実装化が進み、また、したがって、プリント基板に対し
てもビルドアップ多層配線構造の検討が活発化してい
る。ビルドアップ多層配線構造を備えたプリント基板で
は、電子回路の層間にビルドアップ用の絶縁膜(いわゆ
る、層間絶縁膜)を形成することが必要である。ビルド
アップ用の絶縁膜は、下層の電子回路の全面に、但し、
上層の電子回路との接続を行う個所(一般に「ビアホー
ル」と称される部分)を除いて、形成される。
On the other hand, a wiring board having a build-up multilayer wiring structure has been used for a long time to manufacture a hybrid integrated circuit (IC) or the like. This wiring board can be manufactured by sequentially printing and stacking a thick paste of a conductor and a thick paste of an insulator on a ceramic substrate and firing the paste. In recent years, miniaturization of electronic devices,
With the demand for higher performance and lower cost, miniaturization and multi-layering of electronic circuits on printed circuit boards and high-density mounting of electronic components are progressing, and therefore, build-up multilayer wiring for printed circuit boards. Examination of the structure is active. In a printed circuit board having a build-up multilayer wiring structure, it is necessary to form a build-up insulating film (so-called interlayer insulating film) between electronic circuit layers. The insulating film for build-up is on the entire surface of the lower electronic circuit, except that
It is formed except for a portion that is connected to an upper electronic circuit (a portion generally called a “via hole”).

【0004】一般的に述べて、従来のビルドアップ多層
配線構造を備えたプリント配線基板は、次のような手順
に従って作製されている。まず、配線パターンと穴埋め
されたスルーホールを有する両面配線板をコア基板とし
て用意する。次に、コア基板の両面に感光性樹脂を全体
的に塗布し、露光及び現像を行って、ビアホールを備え
た絶縁膜を形成する。次いで、無電解メッキ、電解メッ
キ等の常用のメッキ法を使用して、コア基板の両面に形
成された絶縁膜の表面に、導体メッキ層を全面的に形成
する。引き続いて、導体メッキ層を所望とする配線パタ
ーンに従ってエッチングする。その結果、導体配線を備
えたコア基板が完成する。
Generally speaking, a printed wiring board having a conventional build-up multilayer wiring structure is manufactured according to the following procedure. First, a double-sided wiring board having a wiring pattern and a filled through hole is prepared as a core substrate. Next, a photosensitive resin is entirely applied to both surfaces of the core substrate, and exposure and development are performed to form an insulating film having via holes. Next, a conductor plating layer is entirely formed on the surface of the insulating film formed on both surfaces of the core substrate by using a common plating method such as electroless plating and electrolytic plating. Subsequently, the conductor plating layer is etched according to a desired wiring pattern. As a result, a core substrate provided with the conductor wiring is completed.

【0005】その後、必要に応じて、先に説明した絶縁
膜の形成から導体配線の形成までの一連の工程を反復す
る。所望とする多層配線構造を備えたプリント配線基板
が得られる。上記したようなプリント配線基板を作製す
るに当たって、いろいろな感光性樹脂(フォトレジス
ト)が絶縁膜形成材料として使用されている。感光性樹
脂は、光の照射を通じて硬化可能であり、また、必要に
応じて、パターン状に光の照射を行うことにより、その
パターンに対応して絶縁膜のパターン化を行うことがで
きるからである。最近では、無公害化などの観点から、
例えば水酸化ナトリウムなどのようなアルカリの希薄な
水溶液で現像可能な感光性の樹脂組成物が絶縁膜形成材
料として用いられるようになっている。このようなアル
カリ現像型の感光性樹脂組成物としては、例えば、エポ
キシ樹脂に不飽和モノカルボン酸を反応させ、これにさ
らに多塩基酸無水物を付加させた反応生成物をベースポ
リマーとする感光性組成物(例えば、特公昭56−40
329号公報及び特公昭57−45785号公報を参照
されたい)や、ノボラック型エポキシ樹脂をベースポリ
マーとする感光性組成物(例えば、特開昭61−243
869号公報を参照されたい)などがある。
Thereafter, a series of steps from the formation of the insulating film to the formation of the conductor wiring described above are repeated as necessary. A printed wiring board having a desired multilayer wiring structure is obtained. In producing the printed wiring board as described above, various photosensitive resins (photoresists) are used as an insulating film forming material. The photosensitive resin can be cured through light irradiation, and if necessary, by irradiating light in a pattern, the insulating film can be patterned corresponding to the pattern. is there. Recently, from the viewpoint of decontamination,
For example, a photosensitive resin composition developable with a dilute aqueous solution of alkali such as sodium hydroxide has been used as an insulating film forming material. Examples of the alkali-developable photosensitive resin composition include, for example, a photosensitive resin having a reaction product obtained by reacting an unsaturated monocarboxylic acid with an epoxy resin and further adding a polybasic anhydride thereto. Composition (for example, JP-B-56-40)
No. 329 and JP-B-57-45785) and photosensitive compositions using a novolak-type epoxy resin as a base polymer (for example, JP-A-61-243).
869).

【0006】従来の多層配線構造を備えたプリント配線
基板を作製するに当たっては、上記したように、エポキ
シ樹脂をベースポリマーとして含有する感光性樹脂組成
物が絶縁膜形成材料として使用されている。しかし、こ
こで使用されているエポキシ樹脂は、再配置の自由度の
ない、換言すると、柔軟性あるいはフレキシビリティに
乏しい、例えばビスフェノールA型構造のエポキシ樹脂
が大半である。また、エポキシ樹脂の硬化のために併用
されているエポキシ硬化剤としては、例えば、酸無水物
のように、原子の再配置の自由度のない化合物や、フェ
ノール−ノボラック樹脂のように、分子内の水酸基の数
が多く、したがって架橋密度が非常に高い硬化物を生成
可能な化合物が用いられている。このため、従来のプリ
ント配線基板の作製では、樹脂等の有機材料を主体にし
て形成された、屈曲性や柔軟性に優れた基板の上に上述
の感光性樹脂組成物を使用して多層配線構造を作り上げ
る場合に、取り扱いの必要性から基板を曲げる時や、基
板上にBGA(ボール・グリッド・アレイ)などの部品
を実装する時に、絶縁膜にクラックが発生するという問
題があった。
In manufacturing a printed wiring board having a conventional multilayer wiring structure, as described above, a photosensitive resin composition containing an epoxy resin as a base polymer is used as a material for forming an insulating film. However, most of the epoxy resins used here have no flexibility in rearrangement, in other words, epoxy resins having a poor flexibility or flexibility, for example, a bisphenol A type structure. Examples of the epoxy curing agent used in combination for curing the epoxy resin include compounds having no degree of freedom in rearrangement of atoms, such as acid anhydride, and intramolecular compounds, such as phenol-novolak resin. Are used because they have a large number of hydroxyl groups and therefore can produce a cured product having a very high crosslinking density. For this reason, in the production of a conventional printed wiring board, the above-described photosensitive resin composition is used to form a multilayer wiring on a substrate formed mainly of an organic material such as a resin and having excellent flexibility and flexibility. When fabricating a structure, there is a problem that cracks occur in the insulating film when the substrate is bent due to the necessity of handling or when components such as a BGA (ball grid array) are mounted on the substrate.

【0007】絶縁膜形成材料としてエポキシ樹脂を使用
した感光性樹脂組成物の上述のような問題を解決するた
めに、特に絶縁膜の脆さの問題を解決するために、さま
ざまな試みもなされている。例えば、エポキシ樹脂に対
して分子の末端に官能基を有するゴム化合物を添加する
ことが提案されている(例えば、第29回ナショナル・
サンペ・シンポジウム講演集、422頁、1984年を
参照されたい)。しかし、ゴム化合物を添加すると、脆
さの改良を図ることができるけれども、樹脂の弾性率の
低下を甘受しなければならなくなり、さらなる改良が必
要である。また、ポリマー、30巻、213頁、198
9年に開示されているように、エポキシ樹脂に対してポ
リエーテルイミドを添加することも提案されている。し
かし、ポリエーテルイミドの場合、エポキシ樹脂との相
溶性に劣るので、相分離、溶解性の悪化という問題があ
る。
Various attempts have been made to solve the above-mentioned problems of the photosensitive resin composition using an epoxy resin as a material for forming an insulating film, particularly to solve the problem of brittleness of the insulating film. I have. For example, it has been proposed to add a rubber compound having a functional group at the terminal of a molecule to an epoxy resin (for example, the 29th National
Sampe Symposium Lectures, p. 422, 1984). However, when a rubber compound is added, although brittleness can be improved, a decrease in the elastic modulus of the resin must be accepted, and further improvement is required. Polymer, Vol. 30, pp. 213, 198
It has also been proposed to add a polyetherimide to an epoxy resin, as disclosed in 1999. However, in the case of polyetherimide, the compatibility with the epoxy resin is poor, so that there is a problem that phase separation and solubility deteriorate.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、上述
のような従来の技術の問題点を解消して、絶縁膜の形成
に好適なエポキシ樹脂組成物であって、引っ張り伸度が
高く、屈曲性を有する有機材料から形成された基板上に
絶縁膜を成膜する時に、基板の曲げや基板上への部品の
実装時に優れた耐クラック性、高い柔軟性及び優れた信
頼性を示すことのできるエポキシ樹脂組成物を提供する
ことにある。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide an epoxy resin composition suitable for forming an insulating film, which solves the above-mentioned problems of the prior art and has a high tensile elongation. When forming an insulating film on a substrate formed of a flexible organic material, it exhibits excellent crack resistance, high flexibility and excellent reliability when bending the substrate or mounting components on the substrate. To provide an epoxy resin composition that can be used.

【0009】本発明のもう1つの目的は、そのようなエ
ポキシ樹脂組成物を使用した配線基板を提供することに
ある。本発明のこれらの目的及びその他の目的は、以下
の詳細な説明から容易に理解することができるであろ
う。
Another object of the present invention is to provide a wiring board using such an epoxy resin composition. These and other objects of the present invention will be readily understood from the following detailed description.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記した
目的を達成すべく鋭意研究の結果、エポキシ硬化物の架
橋密度の低減及びエポキシ硬化物の構造内への再配置可
能な分子構造の導入を通じて、目的を達成できるという
ことを発見した。本発明は、1つの面において、下記の
成分: (1)分子内に芳香族環を有する芳香族系エポキシ樹
脂、分子内にシクロヘキサン骨格を有する脂環式エポキ
シ樹脂及びその混合物からなる群から選ばれたエポキシ
樹脂成分、及び(2)分子内に2個以上の水酸基及び2
個以上の芳香族環を有するエポキシ硬化剤、を含んでな
ることを特徴とするエポキシ樹脂組成物を提供する。
Means for Solving the Problems The inventors of the present invention have conducted intensive studies to achieve the above-mentioned object, and as a result, have found that the crosslinking density of an epoxy cured product can be reduced and the molecular structure capable of being rearranged in the structure of an epoxy cured product. It was discovered that the goal could be achieved through the introduction of. In one aspect, the present invention provides: (1) an aromatic epoxy resin having an aromatic ring in the molecule, an alicyclic epoxy resin having a cyclohexane skeleton in the molecule, and a mixture thereof. Epoxy resin component, and (2) two or more hydroxyl groups and 2
An epoxy resin composition comprising: an epoxy curing agent having at least one aromatic ring.

【0011】また、本発明は、そのもう1つの面におい
て、本発明のエポキシ樹脂組成物から形成された絶縁膜
を有してなることを特徴とする配線基板を提供する。好
ましい1態様に従うと、本発明の配線基板は、多層回路
基板の形態を有しており、かつ絶縁膜が層間絶縁膜であ
る。
[0011] The present invention also provides, in another aspect, a wiring board comprising an insulating film formed from the epoxy resin composition of the present invention. According to a preferred embodiment, the wiring board of the present invention has a form of a multilayer circuit board, and the insulating film is an interlayer insulating film.

【0012】[0012]

【発明の実施の形態】以下、本発明をその典型的な実施
の形態を参照して説明する。なお、本発明は下記の実施
形態に限定されるものではないことを理解されたい。本
発明によるエポキシ樹脂組成物は、好適には絶縁膜の形
成材料として使用するものであって、少なくとも、下記
の2成分を有していることが必要である。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be described below with reference to typical embodiments. It should be understood that the present invention is not limited to the embodiments described below. The epoxy resin composition according to the present invention is preferably used as a material for forming an insulating film, and needs to have at least the following two components.

【0013】(1)分子内に芳香族環を有する芳香族系
エポキシ樹脂、分子内にシクロヘキサン骨格を有する脂
環式エポキシ樹脂及びその混合物からなる群から選ばれ
たエポキシ樹脂成分。 (2)分子内に2個以上の水酸基及び2個以上の芳香族
環を有するエポキシ硬化剤。
(1) An epoxy resin component selected from the group consisting of an aromatic epoxy resin having an aromatic ring in the molecule, an alicyclic epoxy resin having a cyclohexane skeleton in the molecule, and a mixture thereof. (2) An epoxy curing agent having two or more hydroxyl groups and two or more aromatic rings in the molecule.

【0014】エポキシ樹脂成分として有利に使用するこ
とのできる芳香族系エポキシ樹脂は、以下に列挙するも
のに限定されるわけではないけれども、ビスフェノール
A型のエポキシ樹脂、例えばテトラブロモビスフェノー
ルA型エポキシ樹脂、及びそれ以外のエポキシ樹脂、例
えばビスフェノールF型エポキシ樹脂、ビスフェノール
S型エポキシ樹脂、フェノール−ノボラック型エポキシ
樹脂、クレゾール−シクノボラック型エポキシ樹脂、そ
してそれらの臭素化エポキシ樹脂を包含する。
The aromatic epoxy resin which can be advantageously used as the epoxy resin component is not limited to those listed below, but is a bisphenol A type epoxy resin such as a tetrabromobisphenol A type epoxy resin. And other epoxy resins such as bisphenol F epoxy resin, bisphenol S epoxy resin, phenol-novolak epoxy resin, cresol-cynovolak epoxy resin, and brominated epoxy resins thereof.

【0015】また、単独であるいは上記芳香族系エポキ
シ樹脂と組み合わせて有利に使用することのできる脂環
式エポキシ樹脂は、その分子内にシクロヘキサン骨格を
有する限りにおいて特に限定されないというものの、好
ましくは、脂環式の2官能性エポキシ樹脂、脂環式の3
官能性エポキシ樹脂、脂環式の4官能性エポキシ樹脂又
はその混合物である。
The alicyclic epoxy resin which can be advantageously used alone or in combination with the above-mentioned aromatic epoxy resin is not particularly limited as long as it has a cyclohexane skeleton in its molecule. Alicyclic bifunctional epoxy resin, alicyclic 3
It is a functional epoxy resin, an alicyclic tetrafunctional epoxy resin or a mixture thereof.

【0016】エポキシ樹脂成分に併用されるエポキシ硬
化剤は、分子内に2個以上の水酸基及び2個以上の芳香
族環を有する限りにおいて特に限定されるものではな
く、常用のエポキシ硬化剤から適当なものを任意に選択
して使用することができる。芳香族環としては、特にベ
ンゼン環が好適である。このようなエポキシ硬化剤のな
かでも、特に、その分子内に含まれる相隣れる2個のベ
ンゼン環の間に、結合基として、2個もしくはそれ以上
の炭素原子を有する結合基、例えば炭化水素基(好まし
くは、メチレン基など)が含まれているエポキシ硬化剤
が好ましい。好適なエポキシ硬化剤の一例として、3,
3’−ジエチレンジオキシジフェノール化合物を挙げる
ことができる。また、このようなエポキシ硬化剤は、フ
ェノール−ノボラック樹脂を追加の成分として含有する
混合物として使用してもよい。
The epoxy curing agent used in combination with the epoxy resin component is not particularly limited as long as it has two or more hydroxyl groups and two or more aromatic rings in the molecule. Can be arbitrarily selected and used. As the aromatic ring, a benzene ring is particularly preferable. Among such epoxy curing agents, particularly, a bonding group having two or more carbon atoms as a bonding group between two adjacent benzene rings contained in the molecule, for example, a hydrocarbon Epoxy curing agents containing a group (preferably a methylene group or the like) are preferred. Examples of suitable epoxy curing agents include 3,
A 3'-diethylenedioxydiphenol compound can be mentioned. Also, such epoxy curing agents may be used as a mixture containing a phenol-novolak resin as an additional component.

【0017】エポキシ硬化剤は、使用されるエポキシ樹
脂成分の種類及び使用量や所望とする効果などに応じて
いろいろな量で樹脂組成物に配合することができるけれ
ども、通常、エポキシ樹脂成分中に含まれるエポキシ基
1当量に対して、エポキシ硬化剤の活性水素当量として
0.8〜1.1当量の付近の配合比が得られるようにし
て配合を行うのが好ましい。特に、得られるエポキシ硬
化物の物性が良好となるからである。
The epoxy curing agent can be added to the resin composition in various amounts depending on the type and amount of the epoxy resin component used, the desired effect, and the like. It is preferable that the compounding is performed such that a mixing ratio of about 0.8 to 1.1 equivalents as active hydrogen equivalent of the epoxy curing agent is obtained with respect to 1 equivalent of the epoxy group contained. In particular, the physical properties of the obtained epoxy cured product are improved.

【0018】本発明のエポキシ樹脂組成物は、必要に応
じて、上記した2種類の必須成分に追加して、任意の添
加剤をさらに有していてもよい。本発明の実施に適当な
添加剤は、例えば、エポキシ硬化反応促進剤である。適
当なエポキシ硬化反応促進剤としては、例えば、イミダ
ゾール化合物、トリフェニルホスフィン、三級アミンな
どを挙げることができる。このような硬化反応促進剤
は、通常、エポキシ樹脂成分100重量部に対して1〜
10重量部の範囲で添加するのが好ましい。
The epoxy resin composition of the present invention may further have an optional additive, if necessary, in addition to the above two essential components. Suitable additives for the practice of the present invention are, for example, epoxy curing accelerators. Suitable epoxy curing reaction accelerators include, for example, imidazole compounds, triphenylphosphine, tertiary amines, and the like. Such a curing reaction accelerator is generally used in an amount of 1 to 100 parts by weight of the epoxy resin component.
It is preferable to add in the range of 10 parts by weight.

【0019】また、無機フィラーも、絶縁膜の強化など
を目的として、本発明のエポキシ樹脂組成物に対して有
利に添加することができる。適当な無機フィラーは、シ
リカ粉末などである。無機フィラーは、通常、樹脂組成
物の全量(溶媒を除く)を基準にして10〜30重量%
の範囲であることが好ましく、さらに好ましくは、10
〜20重量%の範囲である。
Further, an inorganic filler can be advantageously added to the epoxy resin composition of the present invention for the purpose of strengthening the insulating film. Suitable inorganic fillers include silica powder and the like. The inorganic filler is usually 10 to 30% by weight based on the total amount of the resin composition (excluding the solvent).
And more preferably 10
-20% by weight.

【0020】さらに、本発明のエポキシ樹脂組成物に対
して有利に添加することができるその他の添加剤として
は、例えば、難燃剤(例えば、三酸化アンチモンな
ど)、レベリング剤などを挙げることができる。本発明
のエポキシ樹脂組成物は、任意の形態で使用することが
できるけれども、一般的には、塗布性や取り扱い性を考
慮して、ワニス状組成物として有利に使用することがで
きる。ワニス状エポキシ樹脂組成物は、上記したような
成分を適当な溶媒に溶解することによって調製すること
ができる。適当な溶媒としては、以下に列挙するものに
限定されるわけではないけれども、プロピレングリコー
ルモノエーテル類、アセテート類、シクロヘキサン、ジ
オキサン、キシレンなどの有機溶剤を挙げることができ
る。これらの溶媒は、単独で使用してもよく、2種類以
上を混合して使用してもよい。
Further, examples of other additives that can be advantageously added to the epoxy resin composition of the present invention include a flame retardant (for example, antimony trioxide) and a leveling agent. . Although the epoxy resin composition of the present invention can be used in any form, it can generally be advantageously used as a varnish-like composition in consideration of applicability and handleability. The varnish-like epoxy resin composition can be prepared by dissolving the above components in a suitable solvent. Suitable solvents include, but are not limited to, those listed below, and organic solvents such as propylene glycol monoethers, acetates, cyclohexane, dioxane, xylene, and the like. These solvents may be used alone or as a mixture of two or more.

【0021】本発明のエポキシ樹脂組成物を使用する
と、機械的特性、電気的特性、寸法安定性性等の各種の
特性に優れるばかりでなく、引っ張り伸度が高く、屈曲
性を有する有機材料製基板と組み合わせて絶縁膜の形成
に使用した時に、クラック等の欠陥を生じるこがなく、
柔軟性、信頼性に優れた絶縁膜を形成することができ
る。本発明のエポキシ樹脂組成物からの絶縁膜の形成
は、特に形成方法に限定されるわけではなく、以下の説
明からも理解されるように、常用の技法を使用して実施
することができる。
When the epoxy resin composition of the present invention is used, not only are various properties such as mechanical properties, electrical properties, and dimensional stability excellent, but also an organic material having high tensile elongation and flexibility is used. When used to form an insulating film in combination with a substrate, no defects such as cracks occur,
An insulating film having excellent flexibility and reliability can be formed. The formation of the insulating film from the epoxy resin composition of the present invention is not particularly limited to a forming method, and as will be understood from the following description, can be carried out using a common technique.

【0022】さらに、本発明のエポキシ樹脂組成物を使
用すると、上記したような優れた絶縁膜を備えた配線基
板を提供することができる。ここで、本発明の絶縁膜
は、種々の配線基板の任意の位置において有利に使用す
ることができ、特に層間絶縁膜として有利に使用するこ
とができる。図1は、このような層間絶縁膜の好ましい
使用例である、ビルドアップ多層配線構造を備えたプリ
ント配線基板を模式的に示した断面図である。もちろ
ん、本発明の実施に当たっては、図示した以外の多層回
路基板においても満足し得る結果を得ることができる。
Further, when the epoxy resin composition of the present invention is used, it is possible to provide a wiring board having an excellent insulating film as described above. Here, the insulating film of the present invention can be advantageously used at any position of various wiring boards, and can be particularly advantageously used as an interlayer insulating film. FIG. 1 is a cross-sectional view schematically showing a printed wiring board having a build-up multilayer wiring structure, which is a preferred use example of such an interlayer insulating film. Of course, in practicing the present invention, satisfactory results can be obtained with a multilayer circuit board other than those shown.

【0023】図1において、プリント配線基板10は、
積層基板1の両面に多層化された電子回路層12及び1
3を有しており、また、電子回路層12及び13は、そ
れぞれ、本発明によるエポキシ樹脂由来の絶縁膜2及び
導体配線(例えば、銅)3が交互に積み重ねられた構成
を有している。さらに、積層基板1には、下層の電子回
路12及び上層の電子回路13を接続するために、絶縁
性の樹脂材料4で穴埋めされたスルーホール5が形成さ
れている。図から理解されるように、このようなプリン
ト配線基板では、電子回路の層間にビルドアップ用の絶
縁膜(いわゆる、層間絶縁膜)を形成することが必要で
ある。ビルドアップ用の絶縁膜は、下層の電子回路の全
面に、但し、上層の電子回路との接続を行う個所(一般
に「ビアホール」と称される部分)を除いて、形成され
る。
In FIG. 1, a printed wiring board 10 includes
Electronic circuit layers 12 and 1 having a multilayer structure on both surfaces of laminated substrate 1
The electronic circuit layers 12 and 13 have a configuration in which the epoxy resin-based insulating film 2 and the conductor wiring (for example, copper) 3 according to the present invention are alternately stacked. . Further, through holes 5 filled with an insulating resin material 4 are formed in the laminated substrate 1 to connect the lower electronic circuit 12 and the upper electronic circuit 13. As understood from the drawing, in such a printed wiring board, it is necessary to form an insulating film for build-up (so-called interlayer insulating film) between layers of the electronic circuit. The build-up insulating film is formed on the entire surface of the lower electronic circuit except for a portion (generally referred to as a “via hole”) for connection with the upper electronic circuit.

【0024】一般的に述べて、図1に示したようなビル
ドアップ多層配線構造を備えたプリント配線基板は、例
えば、図2に順を追って示す作製プロセスに従って作製
することができる。なお、図2のプリント配線基板の説
明では、理解を用意にするため、図1のものとは若干異
なる層構成が採用されている。 (1)コア基板の作製 選ばれた基板にスルーホール5を形成し、その基板の両
面及びスルーホールの内壁に配線パターン3を形成し、
さらにスルーホールの内部に絶縁性の樹脂4を充填する
ことによって、図2(A)に示すような、両面に配線3
を有する積層基板1を形成する。この積層基板1は、通
常、コア基板と呼ばれる。
Generally speaking, a printed wiring board having a build-up multilayer wiring structure as shown in FIG. 1 can be manufactured, for example, according to a manufacturing process shown in FIG. In the description of the printed wiring board in FIG. 2, a layer configuration slightly different from that in FIG. 1 is employed for easy understanding. (1) Fabrication of a core substrate A through hole 5 is formed in a selected substrate, and a wiring pattern 3 is formed on both surfaces of the substrate and the inner wall of the through hole.
Further, by filling the inside of the through hole with the insulating resin 4, the wiring 3 is formed on both sides as shown in FIG.
Is formed. This laminated substrate 1 is usually called a core substrate.

【0025】(2)絶縁膜の形成 積層基板1の両面に、その全面を覆うようにして本発明
のエポキシ樹脂組成物を被覆する。ここでは、ワニス状
のエポキシ樹脂組成物を用意し、スクリーン印刷により
被覆する。なお、被覆法としては、スクリーン印刷法の
ほか、カーテン被覆法、ロールコート法、スピンコート
法などを使用することができる。エポキシ樹脂組成物の
被覆厚さは、所望とする結果などに応じて広く変更する
ことができるというものの、通常、約40〜60μmの
範囲であることが好ましい。次いで、形成された被覆を
適当な温度(例えば、120℃)で加熱し、皮膜を乾燥
させる。皮膜の乾燥が完了した後、さらに続けて、例え
ば約170〜200℃の温度で加熱してエポキシ樹脂成
分を硬化させる。その後、引き続いて形成する上層の電
子回路と接続すべき個所、いわゆるビアホール部分(例
えば、約50〜150μmの幅)を機械的加工によって
形成する。ビアホール形成のための加工装置としては、
例えば、炭酸ガスレーザ、エキシマレーザ、YAGレー
ザ等を用いたレーザ加工機を有利に使用することができ
る。このようにしてビア形成を行った結果、図2(B)
に示すように、ビアホール6を備えた絶縁膜2が形成さ
れる。
(2) Formation of Insulating Film Both surfaces of the laminated substrate 1 are coated with the epoxy resin composition of the present invention so as to cover the entire surface. Here, a varnish-like epoxy resin composition is prepared and coated by screen printing. In addition, as a coating method, in addition to a screen printing method, a curtain coating method, a roll coating method, a spin coating method, or the like can be used. The coating thickness of the epoxy resin composition can be varied widely depending on the desired result and the like, but is usually preferably in the range of about 40 to 60 μm. Next, the formed coating is heated at an appropriate temperature (for example, 120 ° C.) to dry the coating. After the drying of the film is completed, the epoxy resin component is further cured by heating at a temperature of, for example, about 170 to 200 ° C. Thereafter, a portion to be connected to an upper-layer electronic circuit to be subsequently formed, a so-called via hole portion (for example, a width of about 50 to 150 μm) is formed by mechanical processing. As processing equipment for forming via holes,
For example, a laser beam machine using a carbon dioxide laser, an excimer laser, a YAG laser, or the like can be advantageously used. As a result of forming a via in this way, FIG.
As shown in FIG. 7, the insulating film 2 having the via hole 6 is formed.

【0026】(3)導体メッキ 先の工程で形成された絶縁膜2の上に、配線前駆体とし
ての導体を全面的に被覆する。この導体被覆工程は、例
えば、無電解メッキ、電解メッキ等の常用のメッキ法を
使用して行うことができる。また、このメッキ工程に先
がけて、積層基板1の全体を例えば過マンガン酸水溶液
等のアルカリ性溶液に浸漬し、絶縁膜2の表面に適当な
微細凹凸を付与するのが好ましい。メッキの被着がより
促進されるからである。図2(C)に示すように、積層
基板1の両面に形成された絶縁膜2の表面に、導体メッ
キ層7が全面的に形成される。
(3) Conductor Plating A conductor as a wiring precursor is entirely coated on the insulating film 2 formed in the previous step. This conductor coating step can be performed using a common plating method such as electroless plating and electrolytic plating. Prior to this plating step, it is preferable that the entire laminated substrate 1 is immersed in an alkaline solution such as an aqueous solution of permanganic acid, for example, to provide appropriate fine irregularities on the surface of the insulating film 2. This is because deposition of plating is further promoted. As shown in FIG. 2C, a conductor plating layer 7 is entirely formed on the surface of the insulating film 2 formed on both surfaces of the laminated substrate 1.

【0027】(4)配線の形成 導体メッキ層7を、所望とする配線パターンに従ってエ
ッチングする。このパターニング工程は、常用のエッチ
ング法に従って行うことができる。その結果、図2
(D)に示すように、導体配線3を備えた積層基板1が
完成する。その後、図示しないけれども、先に説明した
絶縁膜の形成から導体配線の形成までの一連の工程を反
復することにより、先に図1を参照して説明したような
多層配線構造を備えたプリント配線基板を完成すること
ができる。
(4) Formation of Wiring The conductive plating layer 7 is etched according to a desired wiring pattern. This patterning step can be performed according to a conventional etching method. As a result, FIG.
As shown in (D), the laminated substrate 1 including the conductor wiring 3 is completed. Thereafter, although not shown, by repeating a series of steps from the formation of the insulating film to the formation of the conductor wiring described above, the printed wiring having the multilayer wiring structure as described above with reference to FIG. The substrate can be completed.

【0028】[0028]

【実施例】引き続いて、本発明をその実施例を参照して
説明する。実施例1 下記の成分を記載の配合量で混合してエポキシ樹脂組成
物の塗布溶液を調製した。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will now be described with reference to embodiments. Example 1 The following components were mixed in the amounts described to prepare a coating solution of an epoxy resin composition.

【0029】 テトラブロモビスフェノールA型エポキシ樹脂 75重量部 (大日本インキ製、商品名「エピクロン153」) シクロヘキサン骨格を有する脂環式エポキシ樹脂 25重量部 (チバガイギ製、商品名「アラルダイトCY179」) フェノール−ノボラック樹脂 32重量部 (群栄化学製、商品名「PSM−4300」) 3,3’−エチレンジオキシジフェノール 9.3重量部 2−メチル−4−エチルイミダゾール 1重量部 シリカ粉末 6重量部 三酸化アンチモン 8重量部 プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート 18重量部 シクロヘキサン 29重量部 〔ピール強度の測定〕上記のようにして調製した塗布溶
液を予め用意しておいた銅箔基板の上に膜厚40nmでス
ピンコートし、次いで120℃で20分間にわたって加
熱し、さらに、170℃で60分間にわたって加熱した
後、室温まで放冷した。
Tetrabromobisphenol A type epoxy resin 75 parts by weight (trade name “Epiclon 153” manufactured by Dainippon Ink) 25 parts by weight of alicyclic epoxy resin having a cyclohexane skeleton (trade name “Araldite CY179” manufactured by Ciba Geigy) Phenol -Novolak resin 32 parts by weight (manufactured by Gun Ei Chemical Co., trade name "PSM-4300") 9.3 parts by weight of 3,3'-ethylenedioxydiphenol 1 part by weight of 2-methyl-4-ethylimidazole 6 parts by weight of silica powder Part Antimony trioxide 8 parts by weight Propylene glycol monomethyl ether acetate 18 parts by weight Cyclohexane 29 parts by weight [Measurement of peel strength] The coating solution prepared as described above was coated on a previously prepared copper foil substrate to a film thickness of 40 nm. Spin coat at 120 ° C for 20 minutes After heating at 170 ° C. for 60 minutes, the mixture was allowed to cool to room temperature.

【0030】上記のようにして絶縁膜を形成した後、銅
箔基板の全体を下記の処理浴に順次浸漬した。 (1)前処理剤(シップレー製コンディショナ、60
℃、10分) (2)酸化剤(シップレー製プロモータ、70℃、10
分、pH=11) (3)中和剤(シップレー製ニュートライザ、60℃、
10分) 一連の処理工程が完了した後、無電解銅メッキ及び電解
銅メッキを施して、膜厚25μmの導体層を絶縁膜上に
形成した。この導体層のピール強度を剥離試験機によっ
て測定したところ、1.1kgf/cmであることが確認され
た。 〔引っ張り伸びの測定〕上記のようにして調製した塗布
溶液を予め用意しておいたアルミニウムの薄板の上に膜
厚40nmでスピンコートし、次いで120℃で20分間
にわたって加熱し、さらに、170℃で60分間にわた
って加熱した後、室温まで放冷した。硬化後の皮膜を剥
離して厚さ40μmのエポキシ硬化フィルムを得、これ
を引張試験機にかけて伸度(引っ張り伸び)を測定し
た。エポキシ硬化フィルムの引っ張り伸びは7.5%よ
りも大であることが確認された。 〔繰り返し荷重試験〕上記のようにして調製した塗布溶
液を使用して、先に図1及び図2を参照して説明したよ
うなビルトアップ製法に従いビルトアップ多層配線プリ
ント基板(コア基板+4層ビルトアップ+両面2層)1
0を作製し、その上にさらに、図3に示すように、BG
Aパッケージ11を実装した。得られた装置に繰り返し
荷重試験に供したところ、3mm曲げて750破断サイク
ルをクリアすることが確認された。 〔USPCBT試験〕上記のようにして調製した塗布溶
液を間隔が126μmの配線を有するBT(ビスマレイ
ミドトリアジン)基板上に膜厚40nmでスピンコート
し、120℃で20分間にわたって加熱し、そして、1
70℃で60分間にわたって加熱した後、室温まで放冷
した。
After forming the insulating film as described above, the entire copper foil substrate was sequentially immersed in the following treatment bath. (1) Pretreatment agent (Shipley conditioner, 60
(C), 10 minutes) (2) Oxidizing agent (Shipley promoter, 70 ° C, 10 minutes)
Min, pH = 11) (3) Neutralizer (Shipley Nutriser, 60 ° C,
After a series of processing steps was completed, electroless copper plating and electrolytic copper plating were performed to form a 25 μm-thick conductor layer on the insulating film. When the peel strength of this conductor layer was measured by a peeling tester, it was confirmed to be 1.1 kgf / cm. [Measurement of tensile elongation] The coating solution prepared as described above was spin-coated on a previously prepared aluminum thin plate at a film thickness of 40 nm, then heated at 120 ° C for 20 minutes, and further heated at 170 ° C. And then allowed to cool to room temperature. The cured film was peeled off to obtain an epoxy cured film having a thickness of 40 μm, which was subjected to a tensile tester to measure elongation (tensile elongation). The tensile elongation of the epoxy cured film was found to be greater than 7.5%. [Repeated load test] Using the coating solution prepared as described above, a built-up multilayer wiring printed circuit board (core board + four-layer built-in) according to the built-up manufacturing method described above with reference to FIGS. Up + 2 layers on both sides) 1
0, and further, as shown in FIG.
A package 11 was mounted. When the obtained device was repeatedly subjected to a load test, it was confirmed that the device was bent by 3 mm and cleared the 750 breaking cycle. [USPCBT test] The coating solution prepared as described above was spin-coated at a film thickness of 40 nm on a BT (bismaleimide triazine) substrate having wiring of 126 μm, heated at 120 ° C. for 20 minutes, and
After heating at 70 ° C. for 60 minutes, it was allowed to cool to room temperature.

【0031】上記のようにして配線上に絶縁膜を形成し
た後、120℃、85%RH(相対湿度)、1.7atm
、24V、96時間の条件下で不飽和型プレッシャー
クッカー試験(USPCBT試験)を実施した。測定さ
れた配線間抵抗は1×107 Ωのオーダーであり、試験
後の配線間抵抗も1×107 Ωのオーダーが維持されて
いることが確認された。よって、この試験の結果は「合
格」と判定された。 〔その他の試験〕上記のようにして調製した塗布溶液を
使用してその他の試験も実施したところ、下記の第1表
にまとめて記載するような結果が得られた。すなわち、
エポキシ硬化膜を徐々に加熱していく時の、重量の減少
が開始する温度(重量減少開始温度)は278℃であ
り、ガラス転移温度(Tg)は115℃であり、比誘電率
は3.8であり、吸水率は0.6%であり、そして破断
強度は75〜80MPaであった。実施例2 下記の成分を記載の配合量で混合してエポキシ樹脂組成
物の塗布溶液を調製した。
After the insulating film is formed on the wiring as described above, the temperature is 120 ° C., 85% RH (relative humidity), 1.7 atm.
, 24 V, 96 hours, an unsaturated pressure cooker test (USPCBT test) was performed. Between the measured wiring resistance of the order of 1 × 10 7 Ω, it was confirmed that the order of the inter-wiring resistance 1 × 10 7 Ω after the test is maintained. Therefore, the result of this test was determined to be “Pass”. [Other tests] Other tests were carried out using the coating solution prepared as described above, and the results as summarized in Table 1 below were obtained. That is,
When the epoxy cured film is gradually heated, the temperature at which the weight starts to decrease (the temperature at which the weight starts to decrease) is 278 ° C., the glass transition temperature (Tg) is 115 ° C., and the relative dielectric constant is 3. 8, the water absorption was 0.6%, and the breaking strength was 75 to 80 MPa. Example 2 The following components were mixed in the amounts described to prepare a coating solution of an epoxy resin composition.

【0032】 テトラブロモビスフェノールA型エポキシ樹脂 75重量部 (大日本インキ製、商品名「エピクロン153」) シクロヘキサン骨格を有する脂環式エポキシ樹脂 25重量部 (チバガイギ製、商品名「アラルダイトCY179」) フェノール−ノボラック樹脂 32重量部 (群栄化学製、商品名「PSM−4300」) 3,3’−エチレンジオキシジフェノール 4.7重量部 2−メチル−4−エチルイミダゾール 1重量部 シリカ粉末 6重量部 三酸化アンチモン 8重量部 プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート 18重量部 シクロヘキサン 29重量部 上記のようにして調製した塗布溶液を前記実施例1に記
載の手法に従って成膜し、得られたエポキシ硬化膜を評
価試験に供したところ、下記の第1表に記載のような結
果が得られた。なお、繰り返し荷重試験では、3mm曲げ
て750破断サイクルをクリアすることが確認され、ま
た、USPCBT試験では、配線間抵抗は1×107 Ω
のオーダーであり、試験後の配線間抵抗も1×107 Ω
のオーダーが維持されていることが確認された。比較例1 下記の成分を記載の配合量で混合してエポキシ樹脂組成
物の塗布溶液を調製した。
75 parts by weight of a tetrabromobisphenol A type epoxy resin (trade name “Epiclon 153” manufactured by Dainippon Ink) 25 parts by weight of an alicyclic epoxy resin having a cyclohexane skeleton (trade name “Araldite CY179” manufactured by Ciba Geigy) Phenol -Novolak resin 32 parts by weight (trade name "PSM-4300" manufactured by Gunei Chemical Co., Ltd.) 4.7 parts by weight of 3,3'-ethylenedioxydiphenol 1 part by weight of 2-methyl-4-ethylimidazole 1 part by weight of silica powder 6 parts by weight Part Antimony trioxide 8 parts by weight Propylene glycol monomethyl ether acetate 18 parts by weight Cyclohexane 29 parts by weight The coating solution prepared as described above was formed into a film according to the method described in Example 1 above, and the obtained epoxy cured film was evaluated. When subjected to the test, the results are as shown in Table 1 below. Results were obtained. In addition, in the repeated load test, it was confirmed that the 750 rupture cycle was cleared by bending by 3 mm. In the USPCBT test, the resistance between wirings was 1 × 10 7 Ω.
And the wiring resistance after the test is also 1 × 10 7 Ω
It was confirmed that the order was maintained. Comparative Example 1 The following components were mixed in the stated amounts to prepare a coating solution of the epoxy resin composition.

【0033】 テトラブロモビスフェノールA型エポキシ樹脂 75重量部 (大日本インキ製、商品名「エピクロン153」) シクロヘキサン骨格を有する脂環式エポキシ樹脂 25重量部 (チバガイギ製、商品名「アラルダイトCY179」) フェノール−ノボラック樹脂 40重量部 (群栄化学製、商品名「PSM−4300」) 2−メチル−4−エチルイミダゾール 1重量部 シリカ粉末 6重量部 三酸化アンチモン 8重量部 プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート 18重量部 シクロヘキサン 29重量部 上記のようにして調製した塗布溶液を前記実施例1に記
載の手法に従って成膜し、得られたエポキシ硬化膜を評
価試験に供したところ、下記の第1表に記載のような結
果が得られた。なお、繰り返し荷重試験では、3mm曲げ
て80破断サイクルしか得られないことが確認され、ま
た、USPCBT試験では、配線間抵抗は1×107 Ω
のオーダーであり、試験後の配線間抵抗も1×107 Ω
のオーダーが維持されていることが確認された。
75 parts by weight of tetrabromobisphenol A type epoxy resin (trade name “Epiclon 153” manufactured by Dainippon Ink) 25 parts by weight of alicyclic epoxy resin having a cyclohexane skeleton (trade name “Araldite CY179” manufactured by Ciba Geigy) Phenol -Novolak resin 40 parts by weight (trade name "PSM-4300", manufactured by Gun Ei Chemical Co., Ltd.) 2-Methyl-4-ethylimidazole 1 part by weight Silica powder 6 parts by weight Antimony trioxide 8 parts by weight Propylene glycol monomethyl ether acetate 18 parts by weight 29 parts by weight of cyclohexane The coating solution prepared as described above was formed into a film according to the method described in Example 1, and the obtained epoxy cured film was subjected to an evaluation test. Results were obtained. In addition, in the repeated load test, it was confirmed that only 80 rupture cycles were obtained after bending by 3 mm. In the USPCBT test, the resistance between wirings was 1 × 10 7 Ω.
And the wiring resistance after the test is also 1 × 10 7 Ω
It was confirmed that the order was maintained.

【0034】[0034]

【表1】 [Table 1]

【0035】上記第1表に記載の試験結果から理解され
るように、本発明に従うと、従来のエポキシ樹脂組成物
に比較して、特により高い柔軟性及び伸び性を示す絶縁
材料を得ることができる。
As can be understood from the test results shown in Table 1 above, according to the present invention, it is possible to obtain an insulating material exhibiting particularly higher flexibility and elongation than conventional epoxy resin compositions. Can be.

【0036】[0036]

【発明の効果】以上に説明したように、本発明によれ
ば、絶縁膜の形成に好適なエポキシ樹脂組成物であっ
て、引っ張り伸度が高く、屈曲性を有する有機材料から
形成された基板上に絶縁膜を成膜する時に、基板の曲げ
や基板上への部品の実装時に優れた耐クラック性、高い
柔軟性及び優れた信頼性を示すことのできるエポキシ樹
脂組成物を提供することができる。実際、本発明のエポ
キシ樹脂組成物を使用すると、従来のフェノール−ノボ
ラック樹脂をエポキシ硬化剤として使用した組成物に比
較して、より高い柔軟性及び伸び性を示す絶縁材料を提
供することができる。また、本発明によれば、このよう
なエポキシ樹脂組成物を絶縁膜形成材料として使用する
ことを通じて、高性能な絶縁膜を備えたプリント配線基
板を提供することができる。具体的には、BGA等の部
品の実装時にクラックを生じることのないビルトアップ
基板を実現することができる。
As described above, according to the present invention, there is provided an epoxy resin composition suitable for forming an insulating film, comprising a substrate formed of an organic material having high tensile elongation and flexibility. It is possible to provide an epoxy resin composition capable of exhibiting excellent crack resistance, high flexibility, and excellent reliability when a substrate is bent or a component is mounted on the substrate when an insulating film is formed thereon. it can. In fact, the use of the epoxy resin composition of the present invention can provide an insulating material exhibiting higher flexibility and elongation as compared with a composition using a conventional phenol-novolak resin as an epoxy curing agent. . Further, according to the present invention, a printed wiring board having a high-performance insulating film can be provided by using such an epoxy resin composition as an insulating film forming material. Specifically, it is possible to realize a built-up board that does not crack when components such as BGA are mounted.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明による、多層配線構造を有するプリント
配線基板の一例を示した模式断面図である。
FIG. 1 is a schematic sectional view showing an example of a printed wiring board having a multilayer wiring structure according to the present invention.

【図2】図1のプリント配線基板のビルトアップ製法に
基づく作製工程を順を追って示した断面図である。
FIG. 2 is a cross-sectional view sequentially showing a manufacturing process based on a built-up manufacturing method of the printed wiring board of FIG. 1;

【図3】図1のビルトアップ多層配線プリント基板にB
GAパッケージを実装した状態を示す模式断面図であ
る。
FIG. 3 shows B for the built-up multilayer wiring printed circuit board of FIG. 1;
FIG. 3 is a schematic cross-sectional view showing a state where a GA package is mounted.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…積層基板 2…絶縁膜 3…導体配線 4…樹脂材料 5…スルーホール 6…ビアホール 7…導体メッキ層 10…プリント配線基板 11…BGAパッケージ 12…電子回路層 13…電子回路層 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Laminated board 2 ... Insulating film 3 ... Conductor wiring 4 ... Resin material 5 ... Through hole 6 ... Via hole 7 ... Conductor plating layer 10 ... Printed wiring board 11 ... BGA package 12 ... Electronic circuit layer 13 ... Electronic circuit layer

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) H05K 3/46 H05K 3/46 B Fターム(参考) 4J036 AD08 AD09 AD21 AF06 AF10 AJ08 DB06 DC41 JA08 4J038 DA042 DB041 DB061 DB071 DB261 GA06 JA64 KA03 NA21 PB09 5E314 AA32 BB06 CC07 FF01 FF08 GG03 GG09 5E346 CC32 DD12 DD25 EE33 FF13 FF14 GG22 HH08 HH11 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) H05K 3/46 H05K 3/46 BF term (Reference) 4J036 AD08 AD09 AD21 AF06 AF10 AJ08 DB06 DC41 JA08 4J038 DA042 DB041 DB061 DB071 DB261 GA06 JA64 KA03 NA21 PB09 5E314 AA32 BB06 CC07 FF01 FF08 GG03 GG09 5E346 CC32 DD12 DD25 EE33 FF13 FF14 GG22 HH08 HH11

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 下記の成分: (1)分子内に芳香族環を有する芳香族系エポキシ樹
脂、分子内にシクロヘキサン骨格を有する脂環式エポキ
シ樹脂及びその混合物からなる群から選ばれたエポキシ
樹脂成分、及び(2)分子内に2個以上の水酸基及び2
個以上の芳香族環を有するエポキシ硬化剤、を含んでな
ることを特徴とするエポキシ樹脂組成物。
1. The following components: (1) an epoxy resin selected from the group consisting of an aromatic epoxy resin having an aromatic ring in the molecule, an alicyclic epoxy resin having a cyclohexane skeleton in the molecule, and a mixture thereof; Component, and (2) two or more hydroxyl groups and 2
An epoxy resin composition comprising: an epoxy curing agent having at least one aromatic ring.
【請求項2】 請求項1に記載のエポキシ樹脂組成物か
ら形成された絶縁膜を有してなることを特徴とする配線
基板。
2. A wiring board comprising an insulating film formed from the epoxy resin composition according to claim 1.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2005268810A (en) * 2002-11-12 2005-09-29 Nec Corp Wiring substrate, semiconductor package, substrate insulating film, and method of manufacturing wiring substrate

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