JP2001044064A - セラミック電子部品の製造方法 - Google Patents
セラミック電子部品の製造方法Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 積層体の形成時に導電体層の変形や破損のな
いセラミック電子部品の製造方法を提供することを目的
とするものである。 【解決手段】 ベースフィルム10の表面に導電体層1
2を形成後、ベースフィルム10ごと導電体層12を巻
き取り、導電体層ロールを作製し、このベースフィルム
10は表面及び裏面に離型層11を形成したものであ
り、またベースフィルム10の表面にセラミックシート
13を作製し、ロール14でベースフィルム10ごとに
セラミックシート13を巻き取り、セラミックシートロ
ールを作製し、このベースフィルム10も表面及び裏面
に離型層11を形成したものであり、次に、導電体層ロ
ール及びセラミックシートロールから導電体層12及び
セラミックシート13を巻き出してベースフィルム10
ごと適当な大きさに裁断し、次いで、セラミックシート
13と導電体層12とを交互に積層して積層体を形成
し、焼成後外部電極3を形成する。
いセラミック電子部品の製造方法を提供することを目的
とするものである。 【解決手段】 ベースフィルム10の表面に導電体層1
2を形成後、ベースフィルム10ごと導電体層12を巻
き取り、導電体層ロールを作製し、このベースフィルム
10は表面及び裏面に離型層11を形成したものであ
り、またベースフィルム10の表面にセラミックシート
13を作製し、ロール14でベースフィルム10ごとに
セラミックシート13を巻き取り、セラミックシートロ
ールを作製し、このベースフィルム10も表面及び裏面
に離型層11を形成したものであり、次に、導電体層ロ
ール及びセラミックシートロールから導電体層12及び
セラミックシート13を巻き出してベースフィルム10
ごと適当な大きさに裁断し、次いで、セラミックシート
13と導電体層12とを交互に積層して積層体を形成
し、焼成後外部電極3を形成する。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は例えば積層セラミッ
クコンデンサ等のセラミック電子部品の製造方法に関す
るものである。
クコンデンサ等のセラミック電子部品の製造方法に関す
るものである。
【0002】
【従来の技術】図4はセラミック電子部品の一つである
積層セラミックコンデンサの一部断面斜視図であり、1
はセラミック誘電体層、2は導電体層、3は外部電極
で、導電体層2は相対向する端面で各々外部電極3に接
続されている。
積層セラミックコンデンサの一部断面斜視図であり、1
はセラミック誘電体層、2は導電体層、3は外部電極
で、導電体層2は相対向する端面で各々外部電極3に接
続されている。
【0003】以下に従来の積層セラミックコンデンサの
製造方法について説明する。
製造方法について説明する。
【0004】まず、長いベースフィルムの表面に連続的
に導電体層となる金属ペーストを所望の形状に印刷し、
ベースフィルムごと巻き取って導電体層ロールを作製す
る。このベースフィルムは表面に離型層を形成したもの
である。次に導電体層ロールをそれぞれ巻き出して所望
の形状にベースフィルムごと切断した後、セラミックシ
ート上にベースフィルムごと導電体層を転写後、ベース
フィルムを剥離し、この上にまたセラミックシートを積
層し、この上に同様にして導電体層を転写する。セラミ
ックシートと導電体層とを交互に積層することにより積
層体を得る。次いで、この積層体を焼成して導電体層2
の露出した両端面に外部電極3を形成して積層セラミッ
クコンデンサを得ていた。
に導電体層となる金属ペーストを所望の形状に印刷し、
ベースフィルムごと巻き取って導電体層ロールを作製す
る。このベースフィルムは表面に離型層を形成したもの
である。次に導電体層ロールをそれぞれ巻き出して所望
の形状にベースフィルムごと切断した後、セラミックシ
ート上にベースフィルムごと導電体層を転写後、ベース
フィルムを剥離し、この上にまたセラミックシートを積
層し、この上に同様にして導電体層を転写する。セラミ
ックシートと導電体層とを交互に積層することにより積
層体を得る。次いで、この積層体を焼成して導電体層2
の露出した両端面に外部電極3を形成して積層セラミッ
クコンデンサを得ていた。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】上記方法によると、導
電体層をベースフィルムごと巻き取る際、ベースフィル
ムの裏面と接触することとなる。裏面には離型層が形成
されていないため、積層体の形成時に巻き出す際、導電
体層2がベースフィルムの裏面に付着し、所望の形状の
導電体層を得ることができないという問題点を有してい
た。
電体層をベースフィルムごと巻き取る際、ベースフィル
ムの裏面と接触することとなる。裏面には離型層が形成
されていないため、積層体の形成時に巻き出す際、導電
体層2がベースフィルムの裏面に付着し、所望の形状の
導電体層を得ることができないという問題点を有してい
た。
【0006】そこで、本発明は積層体の形成時に導電体
層の変形や破損のないセラミック電子部品の製造方法を
提供することを目的とするものである。
層の変形や破損のないセラミック電子部品の製造方法を
提供することを目的とするものである。
【0007】
【課題を解決するための手段】この目的を達成するため
に本発明のセラミック電子部品の製造方法は、ベースフ
ィルムの表面に複数の導電体層を形成後この導電体層を
前記ベースフィルムごと巻き取り導電体層ロールを形成
する第1の工程と、次に前記導電体層ロールを巻き出し
て導電体層をセラミックシート上に転写させた後前記ベ
ースフィルムを剥離する第2の工程と、次いで前記導電
体層上にセラミックシートを積層する第3の工程と、そ
の後前記第2の工程と前記第3の工程とを交互に所望の
回数繰り返して積層体を形成する第4の工程と、次に前
記積層体を焼成する第5の工程とを備え、前記第1の工
程におけるベースフィルムは表面及び裏面に剥離層を形
成したものを用いる方法であり、ベースフィルムの裏面
にも離型層を設けることにより、導電体層のベースフィ
ルムの裏面への付着を防止できるので上記目的を達成す
ることができる。
に本発明のセラミック電子部品の製造方法は、ベースフ
ィルムの表面に複数の導電体層を形成後この導電体層を
前記ベースフィルムごと巻き取り導電体層ロールを形成
する第1の工程と、次に前記導電体層ロールを巻き出し
て導電体層をセラミックシート上に転写させた後前記ベ
ースフィルムを剥離する第2の工程と、次いで前記導電
体層上にセラミックシートを積層する第3の工程と、そ
の後前記第2の工程と前記第3の工程とを交互に所望の
回数繰り返して積層体を形成する第4の工程と、次に前
記積層体を焼成する第5の工程とを備え、前記第1の工
程におけるベースフィルムは表面及び裏面に剥離層を形
成したものを用いる方法であり、ベースフィルムの裏面
にも離型層を設けることにより、導電体層のベースフィ
ルムの裏面への付着を防止できるので上記目的を達成す
ることができる。
【0008】
【発明の実施の形態】本発明の請求項1に記載の発明
は、ベースフィルムの表面に複数の導電体層を形成後こ
の導電体層を前記ベースフィルムごと巻き取り導電体層
ロールを形成する第1の工程と、次に前記導電体層ロー
ルを巻き出して導電体層をセラミックシート上に転写さ
せた後前記ベースフィルムを剥離する第2の工程と、次
いで前記導電体層上にセラミックシートを積層する第3
の工程と、その後前記第2の工程と前記第3の工程とを
交互に所望の回数繰り返して積層体を形成する第4の工
程と、次に前記積層体を焼成する第5の工程とを備え、
前記第1の工程におけるベースフィルムは表面及び裏面
に剥離層を形成したものを用いるセラミック電子部品の
製造方法であり、ベースフィルム裏面にも離型層を形成
したので、ベースフィルムの裏面に導電体層が付着して
導電体層が変形するのを防止できる。
は、ベースフィルムの表面に複数の導電体層を形成後こ
の導電体層を前記ベースフィルムごと巻き取り導電体層
ロールを形成する第1の工程と、次に前記導電体層ロー
ルを巻き出して導電体層をセラミックシート上に転写さ
せた後前記ベースフィルムを剥離する第2の工程と、次
いで前記導電体層上にセラミックシートを積層する第3
の工程と、その後前記第2の工程と前記第3の工程とを
交互に所望の回数繰り返して積層体を形成する第4の工
程と、次に前記積層体を焼成する第5の工程とを備え、
前記第1の工程におけるベースフィルムは表面及び裏面
に剥離層を形成したものを用いるセラミック電子部品の
製造方法であり、ベースフィルム裏面にも離型層を形成
したので、ベースフィルムの裏面に導電体層が付着して
導電体層が変形するのを防止できる。
【0009】請求項2に記載の発明は、第2の工程に用
いるセラミックシートも両面に剥離層を形成したベース
フィルムの表面に形成後、このベースフィルムごと巻き
取ったセラミックシートロールを巻き出したものである
請求項1に記載のセラミック電子部品の製造方法であ
り、セラミックシートのベースフィルムの裏面への付着
を防止できる。
いるセラミックシートも両面に剥離層を形成したベース
フィルムの表面に形成後、このベースフィルムごと巻き
取ったセラミックシートロールを巻き出したものである
請求項1に記載のセラミック電子部品の製造方法であ
り、セラミックシートのベースフィルムの裏面への付着
を防止できる。
【0010】請求項3に記載の発明は、第2の工程に用
いるセラミックシートは少なくともセラミック成分とポ
リエチレンを含有したものである請求項1に記載のセラ
ミック電子部品の製造方法であり、ベースフィルム上に
形成する必要がないので上記問題を発生しないものであ
る。
いるセラミックシートは少なくともセラミック成分とポ
リエチレンを含有したものである請求項1に記載のセラ
ミック電子部品の製造方法であり、ベースフィルム上に
形成する必要がないので上記問題を発生しないものであ
る。
【0011】請求項4に記載の発明は、ベースフィルム
は表面よりも裏面の方が剥離強度が小さいものを用いる
請求項1に記載のセラミック電子部品の製造方法であ
り、導電体層のベースフィルム裏面への付着を更に抑制
できる。
は表面よりも裏面の方が剥離強度が小さいものを用いる
請求項1に記載のセラミック電子部品の製造方法であ
り、導電体層のベースフィルム裏面への付着を更に抑制
できる。
【0012】請求項5に記載の発明は、離型層をアクリ
ル樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂、シリコン樹脂の
うち少なくとも一つ以上を用いて形成したものであり、
離型性の高いものである。
ル樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂、シリコン樹脂の
うち少なくとも一つ以上を用いて形成したものであり、
離型性の高いものである。
【0013】請求項6に記載の発明は、ベースフィルム
の表面に複数の導電体層を形成後この導電体層を前記ベ
ースフィルムごと巻き取り導電体層ロールを作製する第
1の工程と、次に前記導電体層ロールを巻き出して前記
導電体層をセラミックシート上に転写させた後前記ベー
スフィルムを剥離して導電体層付セラミックシートを複
数形成する第2の工程と、次いで前記導電体層付セラミ
ックシートを前記導電体層がセラミックシートを介して
対向するように積層して積層体を得る第3の工程と、そ
の後前記積層体を焼成する第5の工程とを備え、前記第
1の工程におけるベースフィルムは表面及び裏面に剥離
層を形成したものを用いるセラミック電子部品の製造方
法であり、ベースフィルムの裏面にも離型層を形成した
ので、ベースフィルムの裏面に導電体層が付着して導電
体層が変形するのを防止できる。
の表面に複数の導電体層を形成後この導電体層を前記ベ
ースフィルムごと巻き取り導電体層ロールを作製する第
1の工程と、次に前記導電体層ロールを巻き出して前記
導電体層をセラミックシート上に転写させた後前記ベー
スフィルムを剥離して導電体層付セラミックシートを複
数形成する第2の工程と、次いで前記導電体層付セラミ
ックシートを前記導電体層がセラミックシートを介して
対向するように積層して積層体を得る第3の工程と、そ
の後前記積層体を焼成する第5の工程とを備え、前記第
1の工程におけるベースフィルムは表面及び裏面に剥離
層を形成したものを用いるセラミック電子部品の製造方
法であり、ベースフィルムの裏面にも離型層を形成した
ので、ベースフィルムの裏面に導電体層が付着して導電
体層が変形するのを防止できる。
【0014】請求項7に記載の発明は、第2の工程に用
いるセラミックシートも両面に剥離層を形成したベース
フィルムの表面に形成後、このベースフィルムごと巻き
取ったセラミックシートロールを巻き出したものである
請求項6に記載のセラミック電子部品の製造方法であ
り、セラミックシートのベースフィルム裏面への付着を
防止できる。
いるセラミックシートも両面に剥離層を形成したベース
フィルムの表面に形成後、このベースフィルムごと巻き
取ったセラミックシートロールを巻き出したものである
請求項6に記載のセラミック電子部品の製造方法であ
り、セラミックシートのベースフィルム裏面への付着を
防止できる。
【0015】請求項8に記載の発明は、第2の工程に用
いるセラミックシートは少なくともセラミック成分とポ
リエチレンを含有したものである請求項6に記載のセラ
ミック電子部品の製造方法であり、ベースフィルム上に
形成する必要がないので上記問題を発生しないものであ
る。
いるセラミックシートは少なくともセラミック成分とポ
リエチレンを含有したものである請求項6に記載のセラ
ミック電子部品の製造方法であり、ベースフィルム上に
形成する必要がないので上記問題を発生しないものであ
る。
【0016】請求項9に記載の発明は、ベースフィルム
は表面よりも裏面の方が剥離強度が小さいものを用いる
請求項6に記載のセラミック電子部品の製造方法であ
り、導電体層のベースフィルム裏面への付着を更に抑制
できる。
は表面よりも裏面の方が剥離強度が小さいものを用いる
請求項6に記載のセラミック電子部品の製造方法であ
り、導電体層のベースフィルム裏面への付着を更に抑制
できる。
【0017】請求項10に記載の発明は、離型層は、ア
クリル樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂、シリコン樹
脂のうち少なくとも一つ以上を用いて形成したものであ
る請求項6に記載のセラミック電子部品の製造方法であ
り、離型性の高いものである。
クリル樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂、シリコン樹
脂のうち少なくとも一つ以上を用いて形成したものであ
る請求項6に記載のセラミック電子部品の製造方法であ
り、離型性の高いものである。
【0018】以下、本発明の実施の形態について積層セ
ラミックコンデンサを例に図面を参照しながら説明す
る。
ラミックコンデンサを例に図面を参照しながら説明す
る。
【0019】(実施の形態1)図1(a)〜(c)、図
2(a)〜(c)は本発明の実施の形態1における積層
セラミックコンデンサの製造工程を示す断面図であり、
10はベースフィルム、11は離型層、12は導電体
層、13はセラミックシート、14はロールである。
2(a)〜(c)は本発明の実施の形態1における積層
セラミックコンデンサの製造工程を示す断面図であり、
10はベースフィルム、11は離型層、12は導電体
層、13はセラミックシート、14はロールである。
【0020】まず、図1(a),(b)に示すようにニ
ッケル粉末、溶剤、有機バインダ、可塑剤を混合した金
属ペーストを長いベースフィルム10の表面に所望の形
状に印刷、乾燥し、導電体層12を多数形成後、ロール
14でベースフィルム10ごと導電体層12を巻き取
り、図1(c)に示すような導電体層ロールを作製す
る。このベースフィルム10は表面及び裏面に離型層1
1を形成したものである。
ッケル粉末、溶剤、有機バインダ、可塑剤を混合した金
属ペーストを長いベースフィルム10の表面に所望の形
状に印刷、乾燥し、導電体層12を多数形成後、ロール
14でベースフィルム10ごと導電体層12を巻き取
り、図1(c)に示すような導電体層ロールを作製す
る。このベースフィルム10は表面及び裏面に離型層1
1を形成したものである。
【0021】また、図2(a),(b)に示すようにチ
タン酸バリウムを主成分とする誘電体粉末に有機バイン
ダ、可塑剤、溶剤を加えて、スラリーを作製し、ドクタ
ーブレード法によりベースフィルム10の表面にセラミ
ックシート13を作製し、ロール14でベースフィルム
10ごとに図2(c)に示すようにセラミックシート1
3を巻き取り、セラミックシートロールを作製する。こ
のベースフィルム10も表面及び裏面に離型層11を形
成したものである。
タン酸バリウムを主成分とする誘電体粉末に有機バイン
ダ、可塑剤、溶剤を加えて、スラリーを作製し、ドクタ
ーブレード法によりベースフィルム10の表面にセラミ
ックシート13を作製し、ロール14でベースフィルム
10ごとに図2(c)に示すようにセラミックシート1
3を巻き取り、セラミックシートロールを作製する。こ
のベースフィルム10も表面及び裏面に離型層11を形
成したものである。
【0022】次に、導電体層ロール及びセラミックシー
トロールから導電体層12及びセラミックシート13を
巻き出してベースフィルム10ごと適当な大きさに裁断
する。
トロールから導電体層12及びセラミックシート13を
巻き出してベースフィルム10ごと適当な大きさに裁断
する。
【0023】次いで、セラミックシート13を複数枚積
層して形成した無効層上にセラミックシート13と導電
体層12とを交互に積層し、再び無効層を形成して積層
体ブロックとする。
層して形成した無効層上にセラミックシート13と導電
体層12とを交互に積層し、再び無効層を形成して積層
体ブロックとする。
【0024】ここでベースフィルム10の剥離は、セラ
ミックシート13の場合、その厚みが厚い場合は導電体
層12上に積層する前でも積層後でもどちらでも構わな
い。しかしながら薄い場合は取り扱いが難しいので導電
体層12上に圧着させた後に剥離することが好ましい。
導電体層12の場合は、セラミックシート13上に圧着
させた後に剥離する。
ミックシート13の場合、その厚みが厚い場合は導電体
層12上に積層する前でも積層後でもどちらでも構わな
い。しかしながら薄い場合は取り扱いが難しいので導電
体層12上に圧着させた後に剥離することが好ましい。
導電体層12の場合は、セラミックシート13上に圧着
させた後に剥離する。
【0025】その後、積層体ブロックを所望の大きさの
積層体に切断して、脱脂、焼成を行い、焼結体を得る。
積層体に切断して、脱脂、焼成を行い、焼結体を得る。
【0026】次に、この焼結体の導電体層2の露出した
両端面に銅などの外部電極3を焼き付け、この上にメッ
キを施した後に図4に示す完成品に至る。
両端面に銅などの外部電極3を焼き付け、この上にメッ
キを施した後に図4に示す完成品に至る。
【0027】(実施の形態2)以下、本発明の実施の形
態2について図面を参照しながら説明する。
態2について図面を参照しながら説明する。
【0028】図3(a)〜(d)は本実施の形態2にお
ける積層セラミックコンデンサの製造工程を示す断面図
であり、図1,2と同じ構成要素については同番号を付
し、説明を省略する。
ける積層セラミックコンデンサの製造工程を示す断面図
であり、図1,2と同じ構成要素については同番号を付
し、説明を省略する。
【0029】実施の形態1と異なる点についてのみ説明
する。
する。
【0030】本実施の形態2では、図3(a)〜(c)
に示すように実施の形態1で示した導電体層ロールとセ
ラミックシートロールとを巻き出して導電体層12上に
セラミックシート13を圧着して、ベースフィルム10
上に導電体層付セラミックシートを形成した後、図3
(d)に示すようにロールで巻き取り導電体層付セラミ
ックシートロールを形成する。
に示すように実施の形態1で示した導電体層ロールとセ
ラミックシートロールとを巻き出して導電体層12上に
セラミックシート13を圧着して、ベースフィルム10
上に導電体層付セラミックシートを形成した後、図3
(d)に示すようにロールで巻き取り導電体層付セラミ
ックシートロールを形成する。
【0031】次に、この導電体層付セラミックシートロ
ールを巻き出して、所望の形状にベースフィルム10ご
と切断した後、無効層上にこの導電体層付セラミックシ
ートを積層することにより積層体ブロックを形成する。
この後の工程については実施の形態1と同様である。
ールを巻き出して、所望の形状にベースフィルム10ご
と切断した後、無効層上にこの導電体層付セラミックシ
ートを積層することにより積層体ブロックを形成する。
この後の工程については実施の形態1と同様である。
【0032】ここで導電体層付セラミックシートロール
の積層の際のベースフィルム10の剥離は、実施の形態
1に記載したようにセラミックシート13の厚みが厚い
場合は導電体層12上に積層する前でも積層後でもどち
らでも構わない。しかしながら薄い場合は取り扱いが難
しいので導電体層12上に圧着させた後に剥離すること
が好ましい。
の積層の際のベースフィルム10の剥離は、実施の形態
1に記載したようにセラミックシート13の厚みが厚い
場合は導電体層12上に積層する前でも積層後でもどち
らでも構わない。しかしながら薄い場合は取り扱いが難
しいので導電体層12上に圧着させた後に剥離すること
が好ましい。
【0033】また、導電体層12側にセラミックシート
13を転写させてセラミックシート13側のベースフィ
ルム10を剥離して、導電体層付セラミックシートを巻
き取ったが、セラミックシート13側に導電体層12を
転写して導電体層12側のベースフィルム10を剥離し
ても構わない。
13を転写させてセラミックシート13側のベースフィ
ルム10を剥離して、導電体層付セラミックシートを巻
き取ったが、セラミックシート13側に導電体層12を
転写して導電体層12側のベースフィルム10を剥離し
ても構わない。
【0034】以下、本発明のポイントについて記載す
る。
る。
【0035】(1)ベースフィルム10の表面だけでな
く裏面にも離型層11を設けたので、一度に大量のセラ
ミックシート13及び導電体層12を形成してロール状
として保管したとしても、次に巻き出して使用する際、
ベースフィルム10の裏面にセラミックシート13及び
導電体層12が付着するのを抑制できるので、積層セラ
ミックコンデンサの生産性を向上させることができる。
く裏面にも離型層11を設けたので、一度に大量のセラ
ミックシート13及び導電体層12を形成してロール状
として保管したとしても、次に巻き出して使用する際、
ベースフィルム10の裏面にセラミックシート13及び
導電体層12が付着するのを抑制できるので、積層セラ
ミックコンデンサの生産性を向上させることができる。
【0036】またベースフィルム10の両面に離型層1
1を設ける場合、導電体層12あるいはセラミックシー
ト13を形成する面(表面)よりも非形成面(裏面)の
剥離強度が小さいものを用い、ベースフィルム10の裏
面に導電体層12あるいはセラミックシート13が移動
してしまうのを防止することが望ましい。
1を設ける場合、導電体層12あるいはセラミックシー
ト13を形成する面(表面)よりも非形成面(裏面)の
剥離強度が小さいものを用い、ベースフィルム10の裏
面に導電体層12あるいはセラミックシート13が移動
してしまうのを防止することが望ましい。
【0037】(2)上記実施の形態1,2ではセラミッ
クシート13もベースフィルム10の表面に形成したも
のを用いたが、例えばセラミック成分にバインダとして
ポリエチレンを混合したものでセラミックシート13を
作製した場合は、支持体であるベースフィルム10は不
要となるので、ベースフィルム10の裏面にセラミック
シート13が付着するというような問題の発生がない。
クシート13もベースフィルム10の表面に形成したも
のを用いたが、例えばセラミック成分にバインダとして
ポリエチレンを混合したものでセラミックシート13を
作製した場合は、支持体であるベースフィルム10は不
要となるので、ベースフィルム10の裏面にセラミック
シート13が付着するというような問題の発生がない。
【0038】(3)離型層11は、アクリル樹脂、メラ
ミン樹脂、エポキシ樹脂、シリコン樹脂のうち少なくと
も一つ以上を用いて形成することにより、高い離型性が
得られ、ベースフィルム10の剥離の際のセラミックシ
ート13あるいは導電体層12の変形を防止できる。
ミン樹脂、エポキシ樹脂、シリコン樹脂のうち少なくと
も一つ以上を用いて形成することにより、高い離型性が
得られ、ベースフィルム10の剥離の際のセラミックシ
ート13あるいは導電体層12の変形を防止できる。
【0039】(4)上記実施の形態においては、積層セ
ラミックコンデンサを例に説明したが、セラミックシー
トと導電体層を積層して形成する例えば、積層サーミス
タ、積層バリスタ、積層インダクタ、セラミック多層基
板、積層フィルタなどのセラミック電子部品において同
様の効果が得られるものである。
ラミックコンデンサを例に説明したが、セラミックシー
トと導電体層を積層して形成する例えば、積層サーミス
タ、積層バリスタ、積層インダクタ、セラミック多層基
板、積層フィルタなどのセラミック電子部品において同
様の効果が得られるものである。
【0040】
【発明の効果】以上の本発明によると、ベースフィルム
の表面だけでなく裏面にも離型層を形成したので、積層
体の形成時に導電体層の変形や破損のないセラミック電
子部品の製造方法を提供することを目的とするものであ
る。従って、生産性の向上はもちろん、優れた特性のセ
ラミック電子部品を得ることができる。
の表面だけでなく裏面にも離型層を形成したので、積層
体の形成時に導電体層の変形や破損のないセラミック電
子部品の製造方法を提供することを目的とするものであ
る。従って、生産性の向上はもちろん、優れた特性のセ
ラミック電子部品を得ることができる。
【0041】ショート不良の発生を極端に抑え、歩留ま
りを向上させることができる。特にセラミックシートが
薄く、高積層が要求される積層チップコンデンサの歩留
まりの向上に対して絶大な効果がある。
りを向上させることができる。特にセラミックシートが
薄く、高積層が要求される積層チップコンデンサの歩留
まりの向上に対して絶大な効果がある。
【図1】(a)〜(c)本発明の一実施の形態における
積層セラミックコンデンサの製造工程を示す断面図
積層セラミックコンデンサの製造工程を示す断面図
【図2】(a)〜(c)本発明の一実施の形態における
積層セラミックコンデンサの製造工程を示す断面図
積層セラミックコンデンサの製造工程を示す断面図
【図3】(a)〜(d)本発明の一実施の形態における
積層セラミックコンデンサの製造工程を示す断面図
積層セラミックコンデンサの製造工程を示す断面図
【図4】一般的な積層セラミックコンデンサの一部切り
欠き断面斜視図
欠き断面斜視図
1 セラミック誘電体層 2 導電体層 3 外部電極 10 ベースフィルム 11 離型層 12 導電体層 13 セラミックシート 14 ロール
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 三浦 克之 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (72)発明者 倉光 秀紀 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 Fターム(参考) 5E001 AB03 AC04 AC09 AE02 AE03 AF00 AF06 AH01 AH05 AH06 AH09 AJ01 5E082 AA01 AB03 BC38 BC40 EE04 EE23 EE35 FF14 FG06 FG26 FG27 FG35 FG54 GG10 GG11 GG26 GG28 HH43 JJ03 JJ05 JJ12 JJ21 JJ23 LL02 LL03 LL35 MM22 MM24 PP10
Claims (10)
- 【請求項1】 ベースフィルムの表面に複数の導電体層
を形成後この導電体層を前記ベースフィルムごと巻き取
り導電体層ロールを形成する第1の工程と、次に前記導
電体層ロールを巻き出して導電体層をセラミックシート
上に転写させた後前記ベースフィルムを剥離する第2の
工程と、次いで前記導電体層上にセラミックシートを積
層する第3の工程と、その後前記第2の工程と前記第3
の工程とを交互に所望の回数繰り返して積層体を形成す
る第4の工程と、次に前記積層体を焼成する第5の工程
とを備え、前記第1の工程におけるベースフィルムは表
面及び裏面に剥離層を形成したものを用いるセラミック
電子部品の製造方法。 - 【請求項2】 第2の工程に用いるセラミックシートも
両面に剥離層を形成したベースフィルムの表面に形成
後、このベースフィルムごと巻き取ったセラミックシー
トロールを巻き出したものである請求項1に記載のセラ
ミック電子部品の製造方法。 - 【請求項3】 第2の工程に用いるセラミックシートは
少なくともセラミック成分とポリエチレンを含有したも
のである請求項1に記載のセラミック電子部品の製造方
法。 - 【請求項4】 ベースフィルムは表面よりも裏面の方が
剥離強度が小さいものを用いる請求項1に記載のセラミ
ック電子部品の製造方法。 - 【請求項5】 離型層は、アクリル樹脂、メラミン樹
脂、エポキシ樹脂、シリコン樹脂のうち少なくとも一つ
以上を用いて形成したものである請求項1に記載のセラ
ミック電子部品の製造方法。 - 【請求項6】 ベースフィルムの表面に複数の導電体層
を形成後この導電体層を前記ベースフィルムごと巻き取
り導電体層ロールを作製する第1の工程と、次に前記導
電体層ロールを巻き出して前記導電体層をセラミックシ
ート上に転写させた後前記ベースフィルムを剥離して導
電体層付セラミックシートを複数形成する第2の工程
と、次いで前記導電体層付セラミックシートを前記導電
体層がセラミックシートを介して対向するように積層し
て積層体を得る第3の工程と、その後前記積層体を焼成
する第5の工程とを備え、前記第1の工程におけるベー
スフィルムは表面及び裏面に剥離層を形成したものを用
いるセラミック電子部品の製造方法。 - 【請求項7】 第2の工程に用いるセラミックシートも
両面に剥離層を形成したベースフィルムの表面に形成
後、このベースフィルムごと巻き取ったセラミックシー
トロールを巻き出したものである請求項6に記載のセラ
ミック電子部品の製造方法。 - 【請求項8】 第2の工程に用いるセラミックシートは
少なくともセラミック成分とポリエチレンを含有したも
のである請求項6に記載のセラミック電子部品の製造方
法。 - 【請求項9】 ベースフィルムは表面よりも裏面の方が
剥離強度が小さいものを用いる請求項6に記載のセラミ
ック電子部品の製造方法。 - 【請求項10】 離型層は、アクリル樹脂、メラミン樹
脂、エポキシ樹脂、シリコン樹脂のうち少なくとも一つ
以上を用いて形成したものである請求項6に記載のセラ
ミック電子部品の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11213296A JP2001044064A (ja) | 1999-07-28 | 1999-07-28 | セラミック電子部品の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11213296A JP2001044064A (ja) | 1999-07-28 | 1999-07-28 | セラミック電子部品の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001044064A true JP2001044064A (ja) | 2001-02-16 |
Family
ID=16636782
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11213296A Pending JP2001044064A (ja) | 1999-07-28 | 1999-07-28 | セラミック電子部品の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001044064A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2005022567A1 (ja) * | 2003-08-29 | 2005-03-10 | Tdk Corporation | 積層電子部品用の積層体ユニットの製造方法 |
| WO2005004182A3 (ja) * | 2003-06-20 | 2005-04-14 | Tdk Corp | グリーンシートの積層方法と積層セラミック電子部品の製造方法 |
| KR100699590B1 (ko) | 2005-04-21 | 2007-03-23 | 삼성전기주식회사 | 상하 및 좌우 외부전극 형성 방법 및 그 방법에 의해제조된 전자부품 |
| KR20180128778A (ko) * | 2017-05-24 | 2018-12-04 | 주식회사 엘지화학 | 이차전지 및 그 이차전지의 절연부재 제조 방법 |
| CN110012618A (zh) * | 2019-02-20 | 2019-07-12 | 深圳顺络电子股份有限公司 | 一种叠层片式电子元器件的加工方法 |
-
1999
- 1999-07-28 JP JP11213296A patent/JP2001044064A/ja active Pending
Cited By (7)
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| KR102254262B1 (ko) * | 2017-05-24 | 2021-05-21 | 주식회사 엘지에너지솔루션 | 이차전지 및 그 이차전지의 절연부재 제조 방법 |
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