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JP2000512930A - 網目化印刷圧胴の彫刻方法 - Google Patents

網目化印刷圧胴の彫刻方法

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JP2000512930A JP10539055A JP53905598A JP2000512930A JP 2000512930 A JP2000512930 A JP 2000512930A JP 10539055 A JP10539055 A JP 10539055A JP 53905598 A JP53905598 A JP 53905598A JP 2000512930 A JP2000512930 A JP 2000512930A
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Abstract

(57)【要約】 本発明は、電子的彫刻機にて彫刻機構を用いて網目化印刷圧胴の彫刻を行う方法、例えば、凹版用の網目化印刷圧胴の彫刻方法に関する。彫刻信号により制御される彫刻機構(4)により一連のインキセルを彫刻し、該インキセルは、所定の彫刻パラメータにより定められるラスタスクリーンパターンで配置され、前記インキセルの深さは、彫刻された階調値を表わすものであり、インキセルの面状の彫刻のための彫刻機構(4)は、圧胴(1)の軸方向に進む送り運動を、圧胴(1)に沿って行う。網目ラスタスクリーンの幾何学的関係、形状は、回転圧胴(1)の周速度及び彫刻機構(4)の送り速度により定められる。、複数の順次の彫刻(A、B)を、種々の彫刻パラメータ、例えば、ラスタスクリーンを以て少なくとも1つの彫刻機構(4)で、少なくとも1つの圧胴(1)上に、自動的シーケンス制御により1つの作業工程にて生じさせる。順次の彫刻は、多重くぼみ、凹点又は後続彫刻である。

Description

【発明の詳細な説明】 網目化印刷圧胴の彫刻方法 本発明は、電子的再現複製技術の分野に係わり、そして、電子的彫刻機にて彫 刻機構を用いて網目化印刷圧胴の彫刻を行う方法、例えば、凹版用の網目化印刷 圧胴の彫刻方法に関する。 電子的彫刻機にて彫刻過程に際して、例えば、カッティング工具として彫刻刀 を有する彫刻機構が、軸方向に連続的に、又は、歩進的に、回転圧胴に沿って移 動する。彫刻信号により制御される彫刻刀は、ラスタスクリーンパターンで配置 された凹部−以下インキセルと称する−を圧胴のとう面内にカッティングする。 彫刻信号は、”白”と”黒”との間の階調値を表す画像信号の、周期的ラスタス クリーン信号との重畳により形成される。ラスタスクリーン信号は、圧胴の周速 度及び彫刻機構の送り速度と共に彫刻される網目ラスタスクリーンの幾何学的関 係形状を定める。周期的ラスタスクリーン信号は、彫刻刀の振動的ストローク運 動を生じさせるが、画像信号は、再生すべき階調値に相応して、圧胴のとう面内 にカッティングされたインキセルの深さを制御する。 屡々、製版に際して、殊に、包装印刷に対して、順次連続する、即ちシーケン シャルないし順次の、即ち 、順次連続する彫刻を、等しい、又は異なる彫刻パラメータを以て、例えば、ラ スタスクリーンパラメータ、スクリーン角度、スクリーン幅を生じさせなければ ならない。順次の彫刻の例は、軸方向でのハーフトーン画像及びバーマーク情報 ないしバーコードの第1彫刻(凹み、凹点)内での部分領域の事後ないし後続彫 刻である。順次の彫刻は同じ又は異なる直径を有する1つの又は複数の圧胴上で 行われる。 従来の彫刻機の機能動作法に基づき不都合にも、その種の順次の彫刻を異なる 彫刻パラメータを以て、場合により異なる直径を有する1つ又は複数の圧胴上に 1つの作業工程で自動的に、例えば交替夜業で操作者の操作なしで実施するわけ にはゆかない。 従って、本発明の課題とするところは電子的彫刻にて彫刻機構を用いて網目化 印刷圧胴の彫刻を行う方法、例えば、凹版用の網目化印刷圧胴の彫刻方法を次の ように改善する、即ち、彫刻を、1つの彫刻機構で、等しい、又は異なる直径を 有する少なくとも1つの圧胴上に、1つの作業工程にて刻成し得るように改善す ることにある。 前記課題は請求項1の構成要件により解決される。 有利な発展形態及び実施形態がサブクレームに記載されている。 本発明を図1〜図5を用いて詳述する。 各図は下記のことを表わす。 図1は圧胴に対する彫刻機の基本的ブロック接続図である。 図2は1つの圧胴上での順次の彫刻動作手法の第1実施例の説明図である。 図3は1つの圧胴上での順次の彫刻動作手法の第2実施例の説明図である。 図4は2つの圧胴上での順次の彫刻の動作手法の第3実施例の説明図である。 図5は2つの圧胴上での順次の彫刻の動作手法の第4実施例の説明図である。 図1は圧胴の彫刻のための彫刻機の基本的ブロック接続図である。 圧胴1は回転駆動部2により回転駆動される。彫刻車3上に取付けられた彫刻 機構4は、送り駆動部5により駆動されるスピンドル6を用いて軸方向に回転圧 胴1のところを移動する。 彫刻機構4は実施例では電磁機構であり、実質的に電磁駆動系により動かされ るカッティング工具としての彫刻刀、滑り基底部及びスクレーパを有する。 線路7上の彫刻信号Gにより制御される彫刻機構4の彫刻刀は、彫刻ラインご とに1つのラスタスクリーンのパターンにて配されたインキセルを回転圧胴1の 套面内に刻成カッテイングし、その間、彫刻機構4は歩進的に軸方向に圧胴1に 沿って移動する。彫刻中回転圧胴の套面上に支持されている滑り基底部により、 その静止位置における彫刻刀と、套面との間の一定の間隔が生ぜしめられる。套 面上を滑るスクレーパは、インクセルのカッティングの際形成される材料を除去 する。 圧胴1の彫刻は、図示の実施例では圧胴1を円形状にめぐって延びる個々の彫 刻ライン上で行われる。ここで、彫刻機構4は、1つの彫刻ラインの彫刻後ごと に、次の彫刻ラインへの軸方向送りステップを実施する。その種の彫刻手法は、 US4013829Aに記載されている。代替選択的に、圧胴1の彫刻を、圧胴 1の周りをらせん状に延びる彫刻ラインでも行い得、ここで彫刻機構4は連続的 な送り運動を実施する。 線路7上での彫刻信号Gは、彫刻アンプ8にて、周期的ラスタスクリーン信号 R−これはバイブレーション振動的とも称される−の、アナログ画像値Bとの重 畳により形成され、アナログ画像値Bは“黒”と“白”との間の彫刻すべき階調 値を表わすものである。周期的ラスタスクリーン信号Rは、ラスタスクリーンの 生成のため彫刻刀の振動的ストローク運動を生ぜさせ、一方、アナログ画像値B は、彫刻すべき階調値に相応して圧胴1の套面内への彫刻刀の侵入深さを規定す る。 ラスタスクリーン信号Rの周波数は圧胴1の周速度及び彫刻機構の送りステッ プ幅と共にラスタスクリーン角度及びラスタスクリーン幅に関して彫刻すべきラ スタスクリーンの幾何学的関係を規定する。 ラスタスクリーン信号Rはシーケンス制御部9において生ぜしめられ、彫刻ア ンプ8に、線路10を介して供給される。 彫刻データメモリ11中には、彫刻データGDが彫刻ラインごとに圧胴1の彫 刻に必要な順序で彫刻ラスタの処理すべきジョブに対するデータ集合体の形態で 記憶されている。彫刻すべき各インキセルには少なくとも1バイトの彫刻データ が割当てられており、この少なくとも1バイトの彫刻データは、就中彫刻情報と して“黒”と“白”との間の彫刻すべき階調値を含む。 彫刻データGRは、例えばスキャナでの、再現すべき原画の点状及びライン状 の光電的走査により得られ、次いで彫刻データメモリ11内に記憶される。 圧胴1の彫刻の際彫刻データGDが、読出クロック列TSを用いて彫刻データ メモリ11から読出され、D/A変換器13にてアナログ画像値Bに変換され、 このアナログ画像値Bは、線路14を介して彫刻アンプ8に供給される。 読出クロック列TS−それの周波数は、ラスタスクリーン信号Rの1倍又は複 数倍に相応する−は、同様に、シーケンス制御部9で生ぜしめられ、線路15を 介して彫刻データメモリ11へ供給される。シーケンス制御部9は、更に、制御 命令S1“彫刻トリガ”を 生じさせ、この制御命令S1“彫刻トリガ”は、線路16を介して彫刻データメ モリ11に供給され、そのつど、個々の彫刻ラインにてインキセルの彫刻をトリ ガ、イネーブリングする。 シーケンス制御部9は、圧胴1の回転運動に同期化され、ここで、そのために 回転駆動部2に機械的に結合されたパルス発生器17から線路18を介してシー ケンス制御部9へ同期信号が供給される。 シーケンス制御部9では、本発明による同じ又は異なる彫刻パラメータを以っ ての自動的な順次の彫刻の実施のため、実際の彫刻タスクの処理すべきジヨブに 対するプログラミング可能なシーケンスチャートプランに従って種々の制御命令 が生ぜしめられる。彫刻パラメータは、例えばラスタスクリーンパラメータ、基 準尺度又はグラデーションであり得る。個々のジョブデータは、1つの実際の彫 刻タスクの個々のジョブを含めて、シーケンス制御部9内に入力される。 回転駆動部2は、回転数の変化可能な駆動モータを有する大きな慣性質量を伴 う圧胴1が彫刻機内に挿入された後、駆動モータの回転数は停止状態から連続的 に高められる−圧胴1がその夫々の動作回転数に達するまで−。回転駆動部2へ の線路19上での制御命令S2“回転数変化”により、当該の回転数変化を介し て、圧胴1の周速度を、回転している圧胴のもとで彫刻すべきラスタスクリーン に相応して変化させ得る。 送り駆動部5は、ステップモータを有する位置定め駆動部として構成されてい る。ステップモータに供給されるパルスクロック列の周波数は、ステップモータ の回転数、ひいては、彫刻機構4の送り速度を規定する。 クロックパルス列の各クロックが、彫刻機構4のたどった距離インクリメント に相応するので、クロックのカウントにより彫刻機構4の夫々の軸方向位置を検 出できる。 彫刻機構4の軸方向位置に相応するパルスクロック列のクロックの所定の数と 、彫刻系の夫々の実際の位置に相応する、ステップモータに供給されるクロック の数との比較により、彫刻機構4の精確な軸方向位置定めを行ない得る。彫刻機 構4の精確な軸方向位置定めは、スタートポジションからの始動の際及び彫刻中 の彫刻ラインごとの歩進的送り運動の実施の際必要である。 彫刻機構4の送り運動の制御のため種々の命令がシーケンス制御部9から送り 制御部5へ供給される。線路20上での“スタート/ストップ”命令により、彫 刻前での軸方向スタート位置からの始動及び彫刻中での歩進的送り運動が制御さ れる。線路21上でのさらなる命令S4“送り方向”により、スタート位置から の始動スタートの際の彫刻機構4の送り方向が設定される。線路22上での他の 制御命令S5“送り幅”は 、彫刻すべきラスタスクリーンに相応して夫々の送りステップ幅ないし彫刻ライ ン間の間隔を規定する。線路23を介しては、軸方向スタート位置SP、軸方向 終端位置FP及び個々のジョブの彫刻の際の彫刻機構4の送り供給位置が送り制 御部5へ伝達される。 彫刻機構4は、図示してない電気的に制御可能な昇降ないしひき外し装置を有 し、このひき外し装置は、彫刻の実施のため彫刻刀、滑り基底部及びスクレーバ を有する彫刻機構4のアクテイブ部分を回転圧胴1の套面上の作業位置へ降下さ せ、そして、彫刻中断及び彫刻機構4の位置定めの際圧胴1の套面のところから 休止位置へ持上げるものである。さらなる図示してない操作装置は、圧胴1の夫 々の直径に依存して彫刻機構4の半径方向送りを制御する。 シーケンス制御部9から昇降ひき外しないしひき外し装置及び操作装置への線 路24上のさらなる制御信号S6“ひき外しないし昇降”及び“送り供給”によ り、彫刻機構4の半径方向送り供給及び彫刻機構4のアクティブ部分の昇降が制 御される。 次に図2〜図4に即して、自動的に実行処理される順次の彫刻の例を説明する 。 図2は、1つの圧胴1上での2つのジョブの順次彫刻の1例を示す。 圧胴1上で、軸方向で相並ぶ彫刻凹点、“A”及び“B”を単一の彫刻機構4 で1つの作業工程で自動的 に刻成するものである。彫刻“A”、“B”はラスタスクリーン角度及びラスタ スクリーン幅に関して異なったラスタスクリーンを有するものである。彫刻“A ”は、例えばバーコードであり、彫刻“B”はハーフトーン画像であり、ここで バーコードは、ハーフトーン画像より精細なラスタスクリーンで彫刻するもので ある。 この場合ジョブ“A”のバーコードデータ及びジョブ“B”の画像データが図 1の彫刻データメモリ11内にファイルされ、そして、両ジョブの異なるラスタ スクリーンパラメータスタート位置SPA;SPB及び終端位置EPA;EPBがシ ーケンス制御部9内に入力される。 シーケンス制御部9では、圧胴1の所要の周速度が夫々の圧胴直径の考慮下で 、そして、彫刻機構4の送り速度が求められ、それらは、2つのジョブにて異な るラスタスクリーンの彫刻のため調整されなければならない。 第1の例による順次の彫刻のプロセスは自動的に次のようなステップで実行処 理される: 1. 彫刻“A”に対する彫刻すべきラスタスクリーンに相応して圧胴1の周速 度を調整する、 2. 彫刻“A”に対する彫刻すべきラスタスクリーンに相応して彫刻機構4の 送り幅を調整する、 3. 軸方向の出発位置から彫刻“A”のスタート位置 SPAへの彫刻機構4の位置定め、 4. 作業位置への彫刻機構の降下、 5. 終端位置EPAまでの彫刻“A”の実行、 6. 休止位置である終端位置EPAへの到達後彫刻機構4の持上げ上昇、 7. 彫刻“B”に対する彫刻すべきラスタスクリーンに相応して圧胴1の周速 度を変化させる 8. 彫刻“B”に対する彫刻すべきラスタスクリーンに相応して彫刻機構4の 送り幅を変化させる、 9. 終端位置EPAから後続彫刻“B”のスタート位置SPBへの彫刻機構4の 位置定め、 10.作業位置への彫刻機構4の下降、 11.終端位置EPBまでの彫刻“B”の実行、 12.休止位置である終端位置EPBへの到達後の彫刻機構4の持上げ上昇、 13.軸方向出発位置での彫刻機構4の位置定め、 図3は、1つの圧胴1上での2つのジョブの順次彫刻手法の第2実施例を示す 。 圧胴1上で先ず第1彫刻“A”、次いで、第1彫刻“A”の際省かれた領域を 単一の彫刻機構4で1つの作業工程で自動的に刻成するものである。第1彫刻“ A”と後続彫刻“B”はラスタスクリーン角度及びラスタスクリーン幅に関して 異なるラスタスクリーンを有するべきものである。第1彫刻及び後続彫刻のため に必要とされる彫刻ラインは、例えば、2つのジョブ A,Bからの彫刻データGDの重畳により形成される。代替的に後続彫刻“B” のスタート位置を、送り方向及び周方向でも算出するとよく、ここで、後続彫刻 “B”の際ジョブ“B”の彫刻データGBを彫刻ラインごとに読出すのである。 第2実施例による順次彫刻のプロセスは自動的に次のステップで実行処理され る。 1. 彫刻“A”に対する彫刻すべきラスタスクリーンに相応して圧胴1の周速度 を調整する、 2. 第1彫刻“A”に対する彫刻すべきラスタスクリーンに相応して彫刻機構4 の送り幅を調整する、 3. 軸方向の出発位置から彫刻“A”のスタート位置SPAへの彫刻機構4の位 置定め、 4. 作業位置への彫刻機構の降下、 5. 後続彫刻“B”に対する領域の省略下での終端位置EPAまでの彫刻“A” の実行、 6. 休止位置である終端位置EPAへの到達後彫刻機構4の持上げ上昇、 7. 後続彫刻“B”のスタート位置SPB上での彫刻機構4の戻り帰還及び位置 定め、 8. 彫刻“B”に対する彫刻すべきラスタスクリーンに相応して彫刻機構4の送 り幅を変化させる、 9. 終端位置EPAから後続彫刻“B”のスタート位置SPBへの彫刻機構4の位 置定め、 10.作業位置への彫刻機構4の下降、 11.後続彫刻“B”の終端位置EPBまでの後続彫刻“B”の実行、 12.休止位置である後続彫刻“B”の終端位置EPBへの到達後の彫刻機構4の 持上げ上昇、 13.軸方向出発位置での彫刻機構4の位置定め、 図4は、相異なる直径を有し得る(ツイン作動モード)機械的に相互に結合さ れた2つの圧胴1;1’上での順次彫刻手法の第3の実施例を示す。 第1の圧胴1上に彫刻“A”が、そして、第2の圧胴1’上に彫刻“B”が単 一の彫刻機構4を以て自動的に1つの作業工程で刻成されるものである。彫刻“ A”と彫刻“B”は、同じく相異なるラスタスクリーンを有する。 第3実施例による順次彫刻は自動的に下記のステップで実行処理される: 1. その直径を考慮しての第1圧胴1上での彫刻“A”に対する彫刻すべきラス タスクリーンに相応して第1圧胴1の周速度を調整する、 2. 第1圧胴1上での彫刻“A”に対する彫刻すべきラスタスクリーンに相応し て彫刻機構4の送り幅を調整する、 3. 軸方向の出発位置から彫刻“A”のスタート位置SPAへの彫刻機構4の位 置定め、及び第1圧胴1の直径に相応しての彫刻機構4の半径方向送り供給、 4. 作業位置への彫刻機構の降下、 5. 第1圧胴1上での彫刻機構4を以ての終端位置EPAまでの彫刻“A”の実 行、 6. 休止位置である終端位置EPAへ彫刻“A”の到達後彫刻機構4の持上げ上 昇、 7. その直径の考慮下での第2圧胴1’上での彫刻“B”に対する彫刻すべきラ スタスクリーンに相応して圧胴1の周速度を変化させる、 8. 第2圧胴1’上での彫刻“B”に対する彫刻すべきラスタスクリーンに相応 して彫刻機構4の送り幅を変化させる、 9. 第2圧胴1’上での終端位置EPAから彫刻“B”タート位置SPBへの彫刻 機構4の位置定め、第2圧胴1’の直径に相応する彫刻機構4の送り供給、 10.作業位置への彫刻機構4の下降、 11.第2圧胴1’上での彫刻“B”の終端位置EPBまでの彫刻“B”の実行、 12.休止位置である終端位置EPBへの彫刻“B”のの到達後の彫刻機構4の持 上げ上昇、 13.軸方向出発位置での彫刻機構4の位置定め、 図5は、同じく相異なる直径を有し得る(ツイン作動モード)機械的に相互に 結合された2つの圧胴1;1’上での順次彫刻手法の第4の実施例を示す。 第1の圧胴1上に彫刻“A”が、そして、第2の圧 胴1’上に彫刻“B”が夫々彫刻機構4−それらは共に彫刻車上に取付けられて いる−を以て自動的に1つの作業工程で刻成されるものである。彫刻“A”と彫 刻“B”は、同じく相異なるラスタスクリーンを有する。 第4実施例による順次彫刻は自動的に下記のステップで実行処理される: 1. その直径を考慮しての第1圧胴1上での彫刻“A”に対する彫刻すべきラス タスクリーンに相応して第1圧胴1の周速度を調整する、 2. 第1圧胴1上での彫刻“A”に対する彫刻すべきラスタスクリーンに相応し て彫刻機構4の送り幅を調整する、 3. 軸方向の出発位置から彫刻“A”のスタート位置SPAへの彫刻機構4の位 置定め、 4. 作業位置への彫刻機構の降下、 5. 第1圧胴1上での第1彫刻機構4を以ての終端位置EPAまでの彫刻“A” の実行、 6. 休止位置である終端位置EPAへの彫刻“A”の到達後彫刻機構4の持上げ 上昇、 7. その直径の考慮下での第2圧胴1’上での彫刻“B”に対する彫刻すべきラ スタスクリーンに相応して圧胴1の周速度を変化させる、 8. 第2圧胴1’上での彫刻“B”に対する彫刻すべきラスタスクリーンに相応 して彫刻機構4の送り幅 を変化させる、 9. 彫刻車の戻り帰還による終端位置EPAから彫刻“B”スタート位置SPBへ の彫刻機構4の位置定め、 10.作業位置への彫刻機構4の下降、 11.第2圧胴1’上での彫刻“B”の終端位置EPBまで続彫刻“B”の実行、 12.休止位置である終端位置EPBへの彫刻“B”の到達後の彫刻機構4の持上 げ上昇、 13.軸方向出発位置での彫刻機構4の位置定め、 順次彫刻手法に対する第3及び第4実施例では2つの機械的に結合された圧胴 1,1’は勿論等しい直径を有していてよく、各彫刻を、同じ彫刻パラメータで 実施得る。
【手続補正書】 【提出日】平成11年9月16日(1999.9.16) 【補正内容】 明細書 網目化印刷圧胴の彫刻方法 本発明は、電子的再現複製技術の分野に係わり、そして、電子的彫刻機にて彫 刻機構を用いて網目化印刷圧胴の彫刻を行う方法、例えば、凹版用の網目化印刷 圧胴の彫刻方法に関する。 電子的彫刻機にて彫刻過程に際して、例えば、カッティング工具として彫刻刀 を有する彫刻機構が、軸方向に連続的に、又は、歩進的に、回転圧胴に沿って移 動する。彫刻信号により制御される彫刻刀は、ラスタスクリーンパターンで配置 された凹部−以下インキセルと称する−を圧胴のとう面内にカッテイングする。 彫刻信号は、”白”と”黒”との間の階調値を表す画像信号の、周期的ラスタス クリーン信号との重畳により形成される。ラスタスクリーン信号は、圧胴の周速 度及び彫刻機構の送り速度と共に彫刻される網目ラスタスクリーンの幾何学的関 係形状を定める。周期的ラスタスクリーン信号は、彫刻刀の振動的ストローク運 動を生じさせるが、画像信号は、再生すべき階調値に相応して、圧胴のとう面内 にカッティングされたインキセルの深さを制御する。 圧胴の彫刻のためのその種の彫刻機は、WO−A−94/19900から公知 である。そこには、彫刻信 号の校正のための方法が記載されておりこの方法では、インキセルが彫刻され、 彫刻されたインキセルの幾何学的な実際値寸法が測定され、そして、測定された 実際値寸法と所定の規定寸法との比較により調整値が求められ、この調整値によ り、選定された階調値に対する彫刻信号値が次のように補正される即ち、インキ セルの形態で実際に彫刻された実際値−階調値が、直線信号値により定められた 設定値−階調値に相応するように補正されるのである。 GB−A−1407487から圧胴の彫刻のためのさらなる彫刻機が公知ドイ ツ連邦共和国特許出願公開(DE−A)第る。ここにはレイアウトプランに従っ て合成された画像−及びテキスト部分から成る印刷面の彫刻のための方法が記載 されており、この方法では、印刷面の彫刻のために必要とされる彫刻データが、 彫刻前に個々の画像−及びテキスト部分の彫刻データからレイアウトプランに従 って総合彫刻ラインにまとめられ、記憶され、そして、総合彫刻ラインのまとめ られた彫刻データが彫刻の際読出され、彫刻機構に供給される。 屡々、製版に際して、殊に、包装印刷に対して、順次連続する、即ちシーケン シャルないし順次の、即ち、順次連続する彫刻を、等しい、又は異なる彫刻パラ メータを以て、例えば、ラスタスクリーンパラメータ、スクリーン角度、スクリ ーン幅を生じさせなければ ならない。順次の彫刻の例は、軸方向でのハーフトーン画像及びバーマーク情報 ないしバーコードの第1彫刻(凹み、凹点)内での部分領域の事後ないし後続彫 刻である。順次の彫刻は同じ又は異なる直径を有する1つの又は複数の圧胴上で 行われる。 従来の彫刻機の機能動作法に基づき不都合にも、その種の順次の彫刻を異なる 彫刻パラメータを以て、場合により異なる直径を有する1つ又は複数の圧胴上に 1つの作業工程で自動的に、例えば交替夜業で操作者の操作なしで実施するわけ にはゆかない。 従って、本発明の課題とするところは電子的彫刻にて彫刻機構を用いて網目化 印刷圧胴の彫刻を行う方法、例えば、凹版用の網目化印刷圧胴の彫刻方法を次の ように改善する、即ち、彫刻を、1つの彫刻機構で、等しい、又は異なる直径を 有する少なくとも1つの圧胴上に、1つの作業工程にて刻成し得るように改善す ることにある。 前記課題は請求項1の構成要件により解決される。 有利な発展形態及び実施形態がサブクレームに記載されている。 本発明を図1〜図5を用いて詳述する。 各図は下記のことを表わす。 図1は圧胴に対する彫刻機の基本的ブロック接続図である。 図2は1つの圧胴上での順次の彫刻動作手法の第1 実施例の説明図である。 図3は1つの圧胴上での順次の彫刻動作手法の第2実施例の説明図である。 図4は2つの圧胴上での順次の彫刻の動作手法の第3実施例の説明図である。 図5は2つの圧胴上での順次の彫刻の動作手法の第4実施例の説明図である。 図1は圧胴の彫刻のための彫刻機の基本的ブロック接続図である。 圧胴1は回転駆動部2により回転駆動される。彫刻車3上に取付けられた彫刻 機構4は、送り駆動部5により駆動されるスピンドル6を用いて軸方向に回転圧 胴1のところを移動する。 彫刻機構4は実施例では電磁機構であり、実質的に電磁駆動系により動かされ るカッティング工具としての彫刻刀、滑り基底部及びスクレーパを有する。 線路7上の彫刻信号Gにより制御される彫刻機構4の彫刻刀は、彫刻ラインご とに1つのラスタスクリーンのパターンにて配されたインキセルを回転圧胴1の 套面内に刻成カッテイングし、その間、彫刻機構4は歩進的に軸方向に圧胴1に 沿って移動する。彫刻中回転圧胴の套面上に支持されている滑り基底部により、 その静止位置における彫刻刀と、套面との間の一定の間隔が生ぜしめられる。套 面上を滑るスクレーパは、インクセルのカッテイングの際形成される材料を除去 する。 圧胴1の彫刻は、図示の実施例では圧胴1を円形状にめぐって延びる個々の彫 刻ライン上で行われる。ここで、彫刻機構4は、1つの彫刻ラインの彫刻後ごと に、次の彫刻ラインへの軸方向送りステップを実施する。その種の彫刻手法は、 US4013829Aに記載されている。代替選択的に、圧胴1の彫刻を、圧胴 1の周りをらせん状に延びる彫刻ラインでも行い得、ここで彫刻機構4は連続的 な送り運動を実施する。 線路7上での彫刻信号Gは、彫刻アンプ8にて、周期的ラスタスクリーン信号 R−これはバイブレーション振動的とも称される−の、アナログ画像値Bとの重 畳により形成され、アナログ画像値Bは“黒”と“白”との間の彫刻すべき階調 値を表わすものである。周期的ラスタスクリーン信号Rは、ラスタスクリーンの 生成のため彫刻刀の振動的ストローク運動を生ぜさせ、一方、アナログ画像値B は、彫刻すべき階調値に相応して圧胴1の套面内への彫刻刀の侵入深さを規定す る。 ラスタスクリーン信号Rの周波数は圧胴1の周速度及び彫刻機構の送りステッ プ幅と共にラスタスクリーン角度及びラスタスクリーン幅に関して彫刻すべきラ スタスクリーンの幾何学的関係を規定する。 ラスタスクリーン信号Rはシーケンス制御部9において生ぜしめられ、彫刻ア ンプ8に、線路10を介し て供給される。 彫刻データメモリ11中には、彫刻データGDが彫刻ラインごとに圧胴1の彫 刻に必要な順序で彫刻ラスタの処理すべきジョブに対するデータ集合体の形態で 記憶されている。彫刻すべき各インキセルには少なくとも1バイトの彫刻データ が割当てられており、この少なくとも1バイトの彫刻データは、就中彫刻情報と して“黒”と“白”との間の彫刻すべき階調値を含む。 彫刻データGRは、例えばスキャナでの、再現すべき原画の点状及びライン状 の光電的走査により得られ、次いで彫刻データメモリ11内に記憶される。 圧胴1の彫刻の際彫刻データGDが、読出クロック列TSを用いて彫刻データ メモリ11から読出され、D/A変換器13にてアナログ画像値Bに変換され、 このアナログ画像値Bは、線路14を介して彫刻アンプ8に供給される。 読出クロック列TS−それの周波数は、ラスタスクリーン信号Rの1倍又は複 数倍に相応する−は、同様に、シーケンス制御部9で生ぜしめられ、線路15を 介して彫刻データメモリ11へ供給される。シーケンス制御部9は、更に、制御 命令S1“彫刻トリガ”を生じさせ、この制御命令S1“彫刻トリガ”は、線路1 6を介して彫刻データメモリ11に供給され、そのつど、個々の彫刻ラインにて インキセルの彫刻をトリ ガ、イネーブリングする。 シーケンス制御部9は、圧胴1の回転運動に同期化され、ここで、そのために 回転駆動部2に機械的に結合されたパルス発生器17から線路18を介してシー ケンス制御部9へ同期信号が供給される。 シーケンス制御部9では、本発明による同じ又は異なる彫刻パラメータを以っ ての自動的な順次の彫刻の実施のため、実際の彫刻タスクの処理すべきジョブに 対するプログラミング可能なシーケンスチャートプランに従って種々の制御命令 が生ぜしめられる。彫刻パラメータは、例えばラスタスクリーンパラメータ、基 準尺度又はグラデーションであり得る。個々のジョブデータは、1つの実際の彫 刻タスクの個々のジョブを含めて、シーケンス制御部9内に入力される。 回転駆動部2は、回転数の変化可能な駆動モータを有する大きな慣性質量を伴 う圧胴1が彫刻機内に挿入された後、駆動モータの回転数は停止状態から連続的 に高められる−圧胴1がその夫々の動作回転数に達するまで−。回転駆動部2へ の線路19上での制御命令S2“回転数変化”により、当該の回転数変化を介し て、圧胴1の周速度を、回転している圧胴のもとで彫刻すべきラスタスクリーン に相応して変化させ得る。 送り駆動部5は、ステップモータを有する位置定め駆動部として構成されてい る。ステップモータに供給されるパルスクロック列の周波数は、ステップモータ の回転数、ひいては、彫刻機構4の送り速度を規定する。 クロックパルス列の各クロックが、彫刻機構4のたどった距離インクリメント に相応するので、クロックのカウントにより彫刻機構4の夫々の軸方向位置を検 出できる。 彫刻機構4の軸方向位置に相応するパルスクロック列のクロックの所定の数と 、彫刻系の夫々の実際の位置に相応する、ステップモータに供給されるクロック の数との比較により、彫刻機構4の精確な軸方向位置定めを行ない得る。彫刻機 構4の精確な軸方向位置定めは、スタートポジションからの始動の際及び彫刻中 の彫刻ラインごとの歩進的送り運動の実施の際必要である。 彫刻機構4の送り運動の制御のため種々の命令がシーケンス制御部9から送り 制御部5へ供給される。線路20上での“スタート/ストップ”命令により、彫 刻前での軸方向スタート位置からの始動及び彫刻中での歩進的送り運動が制御さ れる。線路21上でのさらなる命令S4“送り方向”により、スタート位置から の始動スタートの際の彫刻機構4の送り方向が設定される。線路22上での他の 制御命令S5“送り幅”は、彫刻すべきラスタスクリーンに相応して夫々の送り ステップ幅ないし彫刻ライン間の間隔を規定する。線路23を介しては、軸方向 スタート位置SP、軸方向 終端位置FP及び個々のジョブの彫刻の際の彫刻機構4の送り供給位置が送り制 御部5へ伝達される。 彫刻機構4は、図示してない電気的に制御可能な昇降ないしひき外し装置を有 し、このひき外し装置は、彫刻の実施のため彫刻刀、滑り基底部及びスクレーバ を有する彫刻機構4のアクティブ部分を回転圧胴1の套面上の作業位置へ降下さ せ、そして、彫刻中断及び彫刻機構4の位置定めの際圧胴1の套面のところから 休止位置へ持上げるものである。さらなる図示してない操作装置は、圧胴1の夫 々の直径に依存して彫刻機構4の半径方向送りを制御する。 シーケンス制御部9から昇降ひき外しないしひき外し装置及び操作装置への線 路24上のさらなる制御信号S6“ひき外しないし昇降”及び“送り供給”によ り、彫刻機構4の半径方向送り供給及び彫刻機構4のアクティブ部分の昇降が制 御される。 次に図2〜図4に即して、自動的に実行処理される順次の彫刻の例を説明する 。 図2は、1つの圧胴1上での2つのジョブの順次彫刻の1例を示す。 圧胴1上で、軸方向で相並ぶ彫刻凹点、“A”及び“B”を単一の彫刻機構4 で1つの作業工程で自動的に刻成するものである。彫刻“A”、“B”はラスタ スクリーン角度及びラスタスクリーン幅に関して異なったラスタスクリーンを有 するものである。彫刻“A ”は、例えばバーコードであり、彫刻“B”はハーフトーン画像であり、ここで バーコードは、ハーフトーン画像より精細なラスタスクリーンで彫刻するもので ある。 この場合ジョブ“A”のバーコードデータ及びジョブ“B”の画像データが図 1の彫刻データメモリ11内にファイルされ、そして、両ジョブの異なるラスタ スクリーンパラメータスタート位置SPA;SPB及び終端位置EPA;EPBがシ ーケンス制御部9内に入力される。 シーケンス制御部9では、圧胴1の所要の周速度が夫々の圧胴直径の考慮下で 、そして、彫刻機構4の送り速度が求められ、それらは、2つのジョブにて異な るラスタスクリーンの彫刻のため調整されなければならない。 第1の例による順次の彫刻のプロセスは自動的に次のようなステップで実行処 理される: 1. 彫刻“A”に対する彫刻すべきラスタスクリーンに相応して圧胴1の周速度 を調整する、 2. 彫刻“A”に対する彫刻すべきラスタスクリーンに相応して彫刻機構4の送 り幅を調整する、 3. 軸方向の出発位置から彫刻“A”のスタート位置SPAへの彫刻機構4の位 置定め、 4. 作業位置への彫刻機構の降下、 5. 終端位置EPAまでの彫刻“A”の実行、 6. 休止位置である終端位置EPAへの到達後彫刻機構4の持上げ上昇、 7. 彫刻“B”に対する彫刻すべきラスタスクリーンに相応して圧胴1の周速度 を変化させる 8. 彫刻“B”に対する彫刻すべきラスタスクリーンに相応して彫刻機構4の送 り幅を変化させる、 9. 終端位置EPAから後続彫刻“B”のスタート位置SPBへの彫刻機構4の位 置定め、 10.作業位置への彫刻機構4の下降、 11.終端位置EPBまでの彫刻“B”の実行、 12.休止位置である終端位置EPBへの到達後の彫刻機構4の持上げ上昇、 13.軸方向出発位置での彫刻機構4の位置定め、 図3は、1つの圧胴1上での2つのジョブの順次彫刻手法の第2実施例を示す 。 圧胴1上で先ず第1彫刻“A”、次いで、第1彫刻“A”の際省かれた領域を 単一の彫刻機構4で1つの作業工程で自動的に刻成するものである。第1彫刻“ A”と後続彫刻“B”はラスタスクリーン角度及びラスタスクリーン幅に関して 異なるラスタスクリーンを有するべきものである。第1彫刻及び後続彫刻のため に必要とされる彫刻ラインは、例えば、2つのジョブA,Bからの彫刻データG Dの重畳により形成される。代替的に後続彫刻“B”のスタート位置を、送り方 向及び周方向でも算出するとよく、ここで、後続彫刻 “B”の際ジョブ“B”の彫刻データGBを彫刻ラインごとに読出すのである。 第2実施例による順次彫刻のプロセスは自動的に次のステップで実行処理され る。 1. 彫刻“A”に対する彫刻すべきラスタスクリーンに相応して圧胴1の周速度 を調整する、 2. 第1彫刻“A”に対する彫刻すべきラスタスクリーンに相応して彫刻機構4 の送り幅を調整する、 3. 軸方向の出発位置から彫刻“A”のスタート位置SPAへの彫刻機構4の位 置定め、 4. 作業位置への彫刻機構の降下、 5. 後続彫刻“B”に対する領域の省略下での終端位置EPAまでの彫刻“A” の実行、 6. 休止位置である終端位置EPAへの到達後彫刻機構4の持上げ上昇、 7. 後続彫刻“B”のスタート位置SPB上での彫刻機構4の戻り帰還及び位置 定め、 8. 彫刻“B”に対する彫刻すべきラスタスクリーンに相応して彫刻機構4の送 り幅を変化させる、 9. 終端位置EPAから後続彫刻“B”のスタート位置SPBへの彫刻機構4の位 置定め、 10.作業位置への彫刻機構4の下降、 11.後続彫刻“B”の終端位置EPBまでの後続彫刻“B”の実行、 12.休止位置である後続彫刻“B”の終端位置EPB への到達後の彫刻機構4の持上げ上昇、 13.軸方向出発位置での彫刻機構4の位置定め、 図4は、相異なる直径を有し得る(ツイン作動モード)機械的に相互に結合さ れた2つの圧胴1;1’上での順次彫刻手法の第3の実施例を示す。 第1の圧胴1上に彫刻“A”が、そして、第2の圧胴1’上に彫刻“B”が単 一の彫刻機構4を以て自動的に1つの作業工程で刻成されるものである。彫刻“ A”と彫刻“B”は、同じく相異なるラスタスクリーンを有する。 第3実施例による順次彫刻は自動的に下記のステップで実行処理される: 1. その直径を考慮しての第1圧胴1上での彫刻“A”に対する彫刻すべきラス タスクリーンに相応して第1圧胴1の周速度を調整する、 2. 第1圧胴1上での彫刻“A”に対する彫刻すべきラスタスクリーンに相応し て彫刻機構4の送り幅を調整する、 3. 軸方向の出発位置から彫刻“A”のスタート位置SPAへの彫刻機構4の位 置定め、及び第1圧胴1の直径に相応しての彫刻機構4の半径方向送り供給、 4. 作業位置への彫刻機構の降下、 5. 第1圧胴1上での彫刻機構4を以ての終端位置EPAまでの彫刻“A”の実 行、 6. 休止位置である終端位置EPAへ彫刻“A”の到達後彫刻機構4の持上げ上 昇、 7. その直径の考慮下での第2圧胴1’上での彫刻“B”に対する彫刻すべきラ スタスクリーンに相応して圧胴1の周速度を変化させる、 8. 第2圧胴1’上での彫刻“B”に対する彫刻すべきラスタスクリーンに相応 して彫刻機構4の送り幅を変化させる、 9. 第2圧胴1’上での終端位置EPAから彫刻“B”のスタート位置SPBへの 彫刻機構4の位置定め、第2圧胴1’の直径に相応する彫刻機構4の送り供給、 10.作業位置への彫刻機構4の下降、 11.第2圧胴1’上での彫刻“B”の終端位置EPBまでの彫刻“B”の実行、 12.休止位置である終端位置EPBへの彫刻“B”のの到達後の彫刻機構4の持 上げ上昇、 13.軸方向出発位置での彫刻機構4の位置定め、 図5は、同じく相異なる直径を有し得る(ツイン作動モード)機械的に相互に 結合された2つの圧胴1;1’上での順次彫刻手法の第4の実施例を示す。 第1の圧胴1上に彫刻“A”が、そして、第2の圧胴1’上に彫刻“B”が夫 々彫刻機構4−それらは共に彫刻車上に取付けられている−を以て自動的に1つ の作業工程で刻成されるものである。彫刻“A”と彫 刻“B”は、同じく相異なるラスタスクリーンを有する。 第4実施例による順次彫刻は自動的に下記のステップで実行処理される: 1. その直径を考慮しての第1圧胴1上での彫刻“A”に対する彫刻すべきラス タスクリーンに相応して第1圧胴1の周速度を調整する、 2. 第1圧胴1上での彫刻“A”に対する彫刻すべきラスタスクリーンに相応し て彫刻機構4の送り幅を調整する、 3. 軸方向の出発位置から彫刻“A”のスタート位置SPAへの彫刻機構4の位 置定め、 4. 作業位置への彫刻機構の降下、 5. 第1圧胴1上での第1彫刻機構4を以ての終端位置EPAまでの彫刻“A” の実行、 6. 休止位置である終端位置EPAへの彫刻“A”の到達後彫刻機構4の持上げ 上昇、 7. その直径の考慮下での第2圧胴1’上での彫刻“B”に対する彫刻すべきラ スタスクリーンに相応して圧胴1の周速度を変化させる、 8. 第2圧胴1’上での彫刻“B”に対する彫刻すべきラスタスクリーンに相応 して彫刻機構4の送り幅を変化させる、 9. 彫刻車の戻り帰還による終端位置EPAから彫刻“B”のスタート位置SPB への彫刻機構4の位置 定め、 10.作業位置への彫刻機構4の下降、 11.第2圧胴1’上での彫刻“B”の終端位置EPBまで続彫刻“B”の実行、 12.休止位置である終端位置EPBへの彫刻“B”の到達後の彫刻機構4の持上 げ上昇、 13.軸方向出発位置での彫刻機構4の位置定め、 順次彫刻手法に対する第3及び第4実施例では2つの機械的に結合された圧胴 1,1’は勿論等しい直径を有していてよく、各彫刻を、同じ彫刻パラメータで 実施得る。 請求の範囲 1. 電子的彫刻機にて網目化印刷圧胴の彫刻を行う方法、例えば、凹版用の網 目化印刷圧胴の彫刻方法であって、 所定の彫刻パラメータに依存して、彫刻機構(4)の制御のための彫刻信号を 生成し、 彫刻信号により制御される彫刻機構(4)により一連のインキセルを彫刻し、 該インキセルは、所定の彫刻パラメータにより定められるラスタスクリーンパタ ーンで配置され、前記インキセルの深さは、彫刻された階調値を表わすものであ り、 インキセルの面状の彫刻のための彫刻機構(4)は、圧胴(1)の軸方向に進 む送り運動を、圧胴(1)に沿って行うものであり、ここで、網目ラスタスクリ ーンの幾何学的関係形状は、就中回転圧胴(1)の周速度及び彫刻機構(4)の 送り速度により定められるようにし、当該の周速度及び送り速度は、所定の彫刻 パラメータに依存して調整セッティングされるようにした形式の網目化印刷圧胴 の彫刻方法において、 少なくとも1つの圧胴(1)の彫刻領域(A、B)上に、時間的順次連続する 彫刻ジョブの彫刻を、1つの作業工程で少なくとも1つの彫刻機構(4)を以て 、プログラミング可能なシーケンス制御部を用いて自動的に実施するようにし、 シーケンス制御部にて、個個の彫刻ジョブのそれぞれ所定の彫刻パラメータに 依存して制御信号(S)を生じさせ、前記制御信号(S)により、少なくとも1 つの圧胴(1)上の個個の彫刻領域(A、B)の位置に相応して、少なくとも彫 刻機構(4)の軸方向位置及び圧胴(1)の周速度及び送り速度が、或1つの彫 刻ジョブの終了後、後続する彫刻ジョブに対して自動的に変化せしめられるよう にしたことを特徴とする網目化印刷圧胴の彫刻方法。 2. その都度使用される少なくとも1つの圧胴(1)の直径に依存して付加的 に制御信号(S)を生じさせることを特徴とする請求項1記載の方法。 3. シーケンス制御部にて、付加的に制御信号(S)を生じさせ、該制御信号 (S)により、彫刻の際の少なくとも1つの圧胴(1)への、彫刻機構(4)の 半径方向送り供給、彫刻スタートの際の彫刻機構(4)の当てつけ係合及び各彫 刻ジョブの彫刻終了の際の彫刻機構(4)の引きはずし、ないし、昇降が制御さ れるようにしたことを特徴とする請求項1又は2記載の方法。 4. 彫刻領域(A、B)は、異なるラスタスクリーンを以て彫刻されるように したことを特徴とするする請求項1項から3項までのうち何れか1項記載の方法 。 5. 彫刻領域(A;B)にて、バーマーク情報又は ハーフトーン画像を彫刻することを特徴とする請求項1項から4項までのうち何 れか1項記載の方法。 6. 彫刻領域(A;B)を、1つの彫刻機構(4)で、1つの圧胴(1)上に 、1つの作業工程にて刻成することを特徴とする請求項1項から5項までのうち 何れか1項記載の方法。 7. 彫刻領域(A;B)を、1つの彫刻機構(4)で、等しい、又は異なる直 径を有する複数の圧胴(1)上に、1つの作業工程にて刻成することを特徴とす る請求項1項から5項までのうち何れか1項記載の方法。 8. 彫刻領域(A;B)を、それぞれ当該の圧胴(1、1’)に所属の1つの 彫刻機構(4、4’)で、等しい、又は異なる直径を有する複数の圧胴(1)上 に、1つの作業工程にて刻成することを特徴とする請求項1項から7項までのう ち何れか1項記載の方法。 9. 彫刻機構(4、4’)を、1つの軸方向に移動可能な彫刻車(3)上に取 り付けることを特徴とする請求項8記載の方法。 10.圧胴(1、1’)は、機械的に結合され、共に共通に回転駆動されるよう にしたことを特徴とする請求項7項から9項までのうち何れか1項記載の方法。 11.彫刻領域(A;B)を、軸方向で相並んで刻成することを特徴とする請求 項1項から10項までのうち何れか1項記載の方法。 12.一方の彫刻領域(A;B)において、第1の彫刻を実施し、他方の彫刻領 域(A;B)において第1の彫刻における後続彫刻を実施することを特徴とする 請求項1項から10項までのうち何れか1項記載の方法。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ラインホルト ブルーノ ブライヘーファ ー−シュターツィンガー ドイツ連邦共和国 シェーンキルヒェン カスターニエンガング 9

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1. 電子的彫刻機にて彫刻機構を用いて網目化印刷圧胴の彫刻を行う方法、例 えば、凹版用の網目化印刷圧胴の彫刻方法であって、 彫刻信号により制御される彫刻機構(4)により一連のインキセルを彫刻し、 該インキセルは、所定の彫刻パラメータにより定められるラスタスクリーンパタ ーンで配置され、前記インキセルの深さは、彫刻された階調値を表わすものであ り、 インキセルの面状の彫刻のための彫刻機構(4)は、圧胴(1)の軸方向に進 む送り運動を、圧胴(1)に沿って行うものであり、ここで、網目ラスタスクリ ーンの幾何学的関係形状は、回転圧胴(1)の周速度及び彫刻機構(4)の送り 速度により定められるものである形式の網目化印刷圧胴の彫刻方法において、 彫刻(A、B)を、同じ又は異なる彫刻パラメータを以て少なくとも1つの彫 刻機構(4)で、少なくとも1つの圧胴(1)上に、自動的シーケンス制御によ り1つの作業工程にて生じさせることを特徴とする網目化印刷圧胴の彫刻方法。 2. 自動的シーケンス制御部は、彫刻パラメータ及び圧胴(1)の直径に依存 して彫刻(A、B)を生じさせることを特徴とする請求項1記載の方法。 3. 自動的シーケンス制御部は、圧胴(1)の周速 度及び彫刻機構(4)の送り速度を、彫刻パラメータ及び圧胴(1)の直径に依 存して調整セッティングすることを特徴とする請求項1又は2記載の方法。 4. 自動的シーケンス制御部は、彫刻−スタート位置ポジションへの軸方向位 置決め、彫刻機構(4)の半径方向送り、彫刻スタートの際の彫刻機構(4)の 当てつけ係合及び彫刻終了の際の彫刻機構(4)の引きはずし、係合解離を行う ようにしたことを特徴とする請求項1項から3項までのうち何れか1項記載の方 法。 5. 彫刻(A;B)に対する彫刻パラメータは、種々のラスタスクリーンであ ることを特徴とする請求項1項から4項までのうち何れか1項記載の方法。 6. 彫刻(A;B)は、バーマーク情報又はハーフトーン画像であることを特 徴とする請求項1項から5項までのうち何れか1項記載の方法。 7. 彫刻(A;B)を、1つの彫刻機構(4)で、1つの圧胴(1)上に、1 つの作業工程にて刻成することを特徴とする請求項1項から6項までのうち何れ か1項記載の方法。 8. 彫刻(A;B)を、1つの彫刻機構(4)で、等しい、又は異なる直径を 有する複数の圧胴(1,1’)上に、1つの作業工程にて刻成することを特徴と する請求項1項から6項までのうち何れか1項記載の方法。 9. 彫刻(A;B)を、それぞれ当該の圧胴(1、1’)に所属の1つの彫刻 機構(4、4’)で、等しい、又は異なる直径を有する複数の圧胴(1)上に、 1つの作業工程にて刻成することを特徴とする請求項1項から6項までのうち何 れか1項記載の方法。 10.彫刻機構(4、4’)を、1つの軸方向に移動可能な彫刻車(3)上に取 り付けることを特徴とする請求項9記載の方法。 11.圧胴(1、1’)は、機械的に結合され、共に共通に回転駆動されるよう にしたことを特徴とする請求項8項から10項までのうち何れか1項記載の方法 。 12.彫刻(A;B)を、軸方向で相並んで刻成することを特徴とする請求項1 項から11項までのうち何れか1項記載の方法。 13.彫刻(A;B)のうちの1つを、第1の彫刻とし、第2の彫刻を第1の彫 刻における後続彫刻とすることを特徴とする請求項1項から11項までのうち何 れか1項記載の方法。
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