JP2000329523A - Position calibration device for alignment scope and its method - Google Patents
Position calibration device for alignment scope and its methodInfo
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Landscapes
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、プリント回路基板
などの処理対象物に対して所定の処理を施す製造装置な
どに備えられ、処理に先立って処理対象物の計測を行う
ためのアライメントスコープの位置校正装置及びその方
法に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an alignment scope provided in a manufacturing apparatus or the like for performing a predetermined process on a processing target such as a printed circuit board, and for measuring the processing target prior to the processing. The present invention relates to a position calibration device and a method thereof.
【0002】[0002]
【従来の技術】従来のこの種の装置として、例えば、プ
リント回路基板製造装置に備えられたものが挙げられ
る。この装置には、プリント回路基板を載置する描画ス
テージと、所定の処理位置で描画ステージに対してレー
ザービームを偏向照射する処理部とが備えられており、
レーザービームによりプリント回路基板に対して所要の
パターンを直接的に描画する処理を行うようになってい
る。描画ステージは、例えば、リニアガイドに搭載され
ているとともにモータ軸に連結された送りネジによって
処理部に対して移動されるようになっている。2. Description of the Related Art As a conventional apparatus of this type, there is, for example, an apparatus provided in a printed circuit board manufacturing apparatus. The apparatus includes a drawing stage on which a printed circuit board is placed, and a processing unit that deflects and irradiates the drawing stage with a laser beam at a predetermined processing position.
A process for directly drawing a required pattern on a printed circuit board by a laser beam is performed. The drawing stage is, for example, mounted on a linear guide and moved with respect to the processing unit by a feed screw connected to a motor shaft.
【0003】また、基板の四隅に形成されている基準穴
や基準マークの位置を計測するためのアライメントスコ
ープが、描画ステージの上方にその移動方向を挟んで処
理部側に2台配備されている。各アライメントスコープ
は、描画ステージの上方に配設されたスコープステージ
に各々取り付けられている。これらのスコープステージ
には、描画ステージの移動方向と直交する方向にリニア
ガイドが取り付けられており、モータ軸に連結された送
りネジでアライメントスコープがガイドレールに沿って
移動されるようになっている。各アライメントスコープ
の位置は、ガイドレールに沿って処理部側に取り付けら
れたリニアスケールで検出される。Also, two alignment scopes for measuring the positions of reference holes and reference marks formed at the four corners of the substrate are provided above the drawing stage on the processing unit side with the moving direction therebetween. . Each alignment scope is attached to a scope stage arranged above the drawing stage. A linear guide is attached to these scope stages in a direction perpendicular to the direction of movement of the drawing stage, and the alignment scope is moved along the guide rails by a feed screw connected to the motor shaft. . The position of each alignment scope is detected by a linear scale attached to the processing section along the guide rail.
【0004】このように構成されている装置では、プリ
ント回路基板が載置された描画ステージを処理部に対し
て移動して描画処理を施す前に、描画ステージ上に載置
された基板の四隅に形成されている基準穴の位置をアラ
イメントスコープで予め計測する。具体的には、描画ス
テージを処理部側に移動させるとともに各アライメント
スコープをその移動方向に対し直交する方向に移動させ
て、処理部側に形成されているプリント回路基板の基準
穴の上方にアライメントスコープを位置させる。このと
きのアライメントスコープの位置(光学系中心)は、上
述したリニアスケールによって検出されてアライメント
スコープの基準となる位置が決定される。In the apparatus configured as described above, before the drawing stage on which the printed circuit board is mounted is moved with respect to the processing unit to perform the drawing process, the four corners of the board mounted on the drawing stage are processed. The position of the reference hole formed in is measured in advance with an alignment scope. Specifically, by moving the drawing stage to the processing unit side and moving each alignment scope in a direction perpendicular to the moving direction, the alignment scope is aligned above the reference hole of the printed circuit board formed on the processing unit side. Position the scope. At this time, the position of the alignment scope (the center of the optical system) is detected by the above-described linear scale, and the reference position of the alignment scope is determined.
【0005】[0005]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな構成を有する従来例の場合には、次のような問題が
ある。すなわち、アライメントスコープの光学系中心の
位置と、リニアスケールの配設位置とが構造的に離れて
いることや、アライメントスコープを搭載したスコープ
ステージが動作する際に生じる移動誤差(ローリングや
ピッチングなどに起因して発生)などによってアライメ
ントスコープの光学系中心の位置検出精度が低下すると
いう問題がある。したがって、検出されたアライメント
スコープの位置を基準に計測されるプリント回路基板の
基準穴の位置測定精度が低いという問題がある。However, the prior art having such a structure has the following problems. In other words, the position of the center of the optical system of the alignment scope and the position of the linear scale are structurally separated, and the movement error (rolling, pitching, etc.) generated when the scope stage equipped with the alignment scope operates. For this reason, there is a problem that the accuracy of detecting the position of the center of the optical system of the alignment scope is reduced due to the above-mentioned problem. Therefore, there is a problem that the position measurement accuracy of the reference hole of the printed circuit board measured based on the detected position of the alignment scope is low.
【0006】また、アライメントスコープのスコープス
テージに対する取り付け姿勢などがずれた場合には、基
準となるものが無いだけにアライメントスコープの取り
付け姿勢を元の状態に戻すことが非常に難しいという問
題もある。Further, when the mounting posture of the alignment scope with respect to the scope stage is shifted, there is also a problem that it is very difficult to return the mounting posture of the alignment scope to the original state because there is no reference.
【0007】本発明は、このような事情に鑑みてなされ
たものであって、基準マスクを用いることにより、アラ
イメントスコープの位置校正を容易にかつ精度良く行う
ことができるアライメントスコープの位置校正装置及び
その方法を提供することを目的とする。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of such circumstances, and an alignment scope position calibration apparatus which can easily and accurately calibrate the position of an alignment scope by using a reference mask. It is intended to provide such a method.
【0008】[0008]
【課題を解決するための手段】本発明は、このような目
的を達成するために、次のような構成をとる。すなわ
ち、請求項1に記載のアライメントスコープの位置校正
装置は、載置台に載置された処理対象物に対して処理部
で所定の処理を施すのに先立ち、処理対象物の計測を行
うアライメントスコープの位置を校正する装置におい
て、アライメントスコープが移動可能な範囲に2次元の
基準パターンが形成された基準マスクを前記載置台に備
えるとともに、前記基準マスクに形成された所定位置の
基準パターンにアライメントスコープを移動した後、前
記所定位置の基準パターンとアライメントスコープとの
位置ずれ量に基づいてアライメントスコープの位置校正
を行うようにしたことを特徴とするものである。The present invention has the following configuration in order to achieve the above object. That is, the alignment scope position calibration device according to claim 1 performs an alignment scope measurement of the processing target object before performing a predetermined process in the processing unit on the processing target object mounted on the mounting table. In the apparatus for calibrating the position of the above, the mounting table is provided with a reference mask in which a two-dimensional reference pattern is formed in a movable range of the alignment scope, and the alignment scope is provided with a reference pattern of a predetermined position formed in the reference mask. After the movement of the alignment scope, the position of the alignment scope is calibrated based on the amount of displacement between the reference pattern at the predetermined position and the alignment scope.
【0009】また、請求項2に記載のアライメントスコ
ープの位置校正装置は、請求項1に記載のアライメント
スコープの位置校正装置において、前記基準マスクは、
前記載置台に載置された処理対象物より下方に配設され
ていることを特徴とするものである。According to a second aspect of the present invention, there is provided an alignment scope position calibrating apparatus according to the first aspect, wherein the reference mask comprises:
It is characterized by being disposed below a processing target placed on the mounting table.
【0010】また、請求項3に記載のアライメントスコ
ープの位置校正装置は、請求項2に記載のアライメント
スコープの位置校正装置において、前記基準マスクをア
ライメントスコープの光軸方向に昇降する昇降機構をさ
らに備えるとともに、処理対象物に対するアライメント
スコープによる計測時には、前記基準マスクをアライメ
ントスコープの焦点から遠ざけるように移動させるよう
にしたことを特徴とするものである。According to a third aspect of the present invention, there is provided an alignment scope position calibrating device according to the second aspect, further comprising an elevating mechanism for elevating the reference mask in the optical axis direction of the alignment scope. In addition, the apparatus is characterized in that the reference mask is moved so as to be away from the focus of the alignment scope at the time of measurement by the alignment scope on the processing object.
【0011】また、請求項4に記載のアライメントスコ
ープの位置校正方法は、載置台に載置された処理対象物
に対して処理部で所定の処理を施すのに先立ち、処理対
象物の計測を行うアライメントスコープの位置を校正す
る方法において、2次元の基準パターンが形成された基
準マスクをアライメントスコープが移動可能な範囲にお
ける前記載置台の上部あるいは下部に配置する過程と、
前記基準マスクに形成された所定位置の基準パターンに
アライメントスコープを移動する過程と、前記基準マス
クに形成された所定位置の基準パターンとアライメント
スコープとの位置ずれ量に基づいてアライメントスコー
プの位置校正を行う過程と、を順に実施することを特徴
とするものである。According to a fourth aspect of the present invention, in the method for calibrating the position of the alignment scope, the measurement of the processing target object is performed before the processing unit performs predetermined processing on the processing target object mounted on the mounting table. In the method of calibrating the position of the alignment scope to be performed, a step of disposing a reference mask on which a two-dimensional reference pattern is formed on the upper or lower part of the mounting table in a movable range of the alignment scope,
Moving the alignment scope to a reference pattern at a predetermined position formed on the reference mask, and calibrating the position of the alignment scope based on the amount of displacement between the alignment pattern and the reference pattern at the predetermined position formed on the reference mask. And performing the steps sequentially.
【0012】[0012]
【作用】請求項1に記載の装置発明の作用は次のとおり
である。処理に先立って、載置台に備えられた基準マス
クの所定位置の基準パターンにアライメントスコープを
移動した後、基準パターンとアライメントスコープとの
位置ずれ量を求めてこれに基づき位置校正を行う。The operation of the first aspect of the present invention is as follows. Prior to the processing, the alignment scope is moved to a reference pattern at a predetermined position of a reference mask provided on the mounting table, and then the amount of displacement between the reference pattern and the alignment scope is obtained, and the position is calibrated based thereon.
【0013】例えば、所定位置の基準パターンとアライ
メントスコープの光学系中心との『位置ずれ量』を画像
処理によって求め、その差分(描画ステージの移動方向
の距離とこれに直交する方向の距離)を求めて記憶して
おく。これによりアライメントスコープの『位置ずれ
量』が判るので、載置台の基準マスクを位置の基準にし
て、アライメントスコープを移動した際に実際にはどの
位置にあるかが正確に判る。For example, the "position shift amount" between the reference pattern at a predetermined position and the center of the optical system of the alignment scope is obtained by image processing, and the difference (the distance in the moving direction of the drawing stage and the distance in the direction orthogonal thereto) is calculated. Find and memorize. As a result, the "position shift amount" of the alignment scope can be determined, so that the position where the alignment scope is actually moved when the alignment scope is moved can be accurately determined based on the reference mask of the mounting table.
【0014】また、請求項2に記載の装置発明によれ
ば、基準マスクを載置台に載置された処理対象物より下
方に配設するので、処理対象物の交換時などに基準マス
クを取り外す必要がない。According to the second aspect of the present invention, since the reference mask is disposed below the processing object mounted on the mounting table, the reference mask is removed when the processing object is replaced. No need.
【0015】また、請求項3に記載の装置発明によれ
ば、アライメントスコープにより処理対象物を計測した
りする際には、昇降機構によって基準マスクをその焦点
位置から遠ざけることにより、処理対象物に対するその
後の処理時に基準マスクの基準パターンを計測してしま
うようなことを防止できる。According to the third aspect of the present invention, when measuring the object to be processed by the alignment scope, the reference mask is moved away from the focal position by the elevating mechanism, thereby making it possible to measure the object to be processed. Measurement of the reference pattern of the reference mask during subsequent processing can be prevented.
【0016】また、請求項4に記載の方法発明によれ
ば、処理に先立って、載置台の下部あるいは上部に備え
られた基準マスクの所定位置の基準パターンにアライメ
ントスコープを移動し、基準パターンとアライメントス
コープとの位置ずれ量に基づいて位置校正を行う。According to a fourth aspect of the present invention, prior to the processing, the alignment scope is moved to a reference pattern at a predetermined position of a reference mask provided on the lower or upper part of the mounting table, and the reference pattern and the reference pattern are moved. The position is calibrated based on the amount of displacement from the alignment scope.
【0017】[0017]
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の一
実施例を説明する。図1は、本発明に係るアライメント
スコープの位置校正装置を備えたプリント回路基板製造
装置の概要説明に供する斜視図であり、図2は詳細な平
面図、図3は詳細な側面図である。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a perspective view for explaining the outline of a printed circuit board manufacturing apparatus provided with an alignment scope position calibrating apparatus according to the present invention, FIG. 2 is a detailed plan view, and FIG. 3 is a detailed side view.
【0018】基台1の上面には、一対のリニアガイド3
が配設されており、それらのリニアガイド3の間には、
サーボモータ7によって回転駆動される送りネジ9が配
備されている。この送りネジ9には、描画ステージ5が
その下部で螺合されている。描画ステージ5は、鉛直の
z軸周りに載置テーブル15を回転させるための回転機
構11と、鉛直のz方向に載置テーブル15を昇降させ
るための昇降機構13とを下から順に備えている。載置
テーブル15は、最上部にプリント回路基板S(処理対
象物)を載置するためのものである。On the upper surface of the base 1, a pair of linear guides 3
Are arranged, and between those linear guides 3,
A feed screw 9 driven to rotate by a servomotor 7 is provided. The drawing stage 5 is screwed to the feed screw 9 at its lower part. The drawing stage 5 includes a rotating mechanism 11 for rotating the mounting table 15 around a vertical z-axis and an elevating mechanism 13 for raising and lowering the mounting table 15 in the vertical z-direction, from the bottom. . The mounting table 15 is for mounting the printed circuit board S (processing object) on the top.
【0019】本発明の載置台に相当する載置テーブル1
5は、図4の断面図に示すように構成されている。すな
わち、載置テーブル15の基台15aの上面に基準マス
クRMが配設され、その上に吸着テーブル17が配設さ
れている。基準マスクRMの上面には、図5に示すよう
に全面にわたって格子状の基準パターンPRが形成され
ているが、後述するアライメントスコープの移動可能な
範囲だけに形成するようにしてもよい。基準マスクRM
上の基準パターンPRは、例えば、50μmの線幅で5
mm間隔に形成されている。A mounting table 1 corresponding to the mounting table of the present invention
5 is configured as shown in the sectional view of FIG. That is, the reference mask RM is provided on the upper surface of the base 15a of the mounting table 15, and the suction table 17 is provided thereon. Although a grid-like reference pattern PR is formed on the entire upper surface of the reference mask RM as shown in FIG. 5, it may be formed only in a movable range of an alignment scope described later. Reference mask RM
The upper reference pattern PR has, for example, a line width of 50 μm and a width of 5 μm.
It is formed at mm intervals.
【0020】吸着テーブル17の上面には、下方の基準
パターンPRと平面視で重複しない位置に吸着溝17a
が穿たれている。この吸着溝17aには、図示しない真
空吸引源が連通接続されており、上面に載置されたプリ
ント回路基板Sの下面を吸着溝17aを通して吸着して
保持する。この実施例では、上述した基準マスクRMと
吸着テーブル17が共に透明ガラスで形成されており、
最下層の基台15aに内蔵されたバックライト(図示省
略)からの照射光がプリント回路基板Sに照射されて基
準穴SRを浮かび上がらせるように構成されている。On the upper surface of the suction table 17, a suction groove 17a is provided at a position which does not overlap with the lower reference pattern PR in plan view.
Is pierced. A vacuum suction source (not shown) is connected to the suction groove 17a, and sucks and holds the lower surface of the printed circuit board S mounted on the upper surface through the suction groove 17a. In this embodiment, the above-described reference mask RM and the suction table 17 are both formed of transparent glass.
Irradiation light from a backlight (not shown) incorporated in the lowermost base 15a is applied to the printed circuit board S so that the reference hole SR emerges.
【0021】描画ステージ5がサーボモータ7の駆動に
より移動されるy方向(副走査方向)には、処理位置E
Pにて描画用のレーザービームLBをx方向(主走査方
向)に偏向しながら下方に向けて照射する処理部21が
配設されている。処理部21は門型フレームによって基
台1の上部に配設されており、サーボモータ7が駆動さ
れると描画ステージ5が処理部21に対して進退するよ
うになっている。In the y-direction (sub-scanning direction) in which the drawing stage 5 is moved by the drive of the servomotor 7, the processing position E
A processing unit 21 is provided which irradiates the laser beam LB for drawing with P downward while deflecting it in the x direction (main scanning direction). The processing unit 21 is disposed above the base 1 with a gate-shaped frame, and the drawing stage 5 moves forward and backward with respect to the processing unit 21 when the servo motor 7 is driven.
【0022】図3に示すように、昇降機構13は基台1
5aの下部に配備されており、上面が傾斜した傾斜部材
13aと、これが螺合された螺軸13bと、この螺軸1
3bを回転駆動するパルスモータ13cとを備えてい
る。基台15aの下面に取り付けられている自由輪が、
パルスモータ13cの駆動によりy方向に進退する傾斜
部材13aの傾斜面に昇降されるようにして、図示しな
いガイドレールに沿ってz方向に昇降するようになって
いる。As shown in FIG. 3, the lifting mechanism 13 is
5a, a slant member 13a having a slanted upper surface, a screw shaft 13b with which the screw member 13a is screwed, and a screw shaft 1b.
And a pulse motor 13c for rotatingly driving the motor 3b. The free wheel attached to the lower surface of the base 15a,
By driving the pulse motor 13c, the ascending and descending surfaces of the inclined member 13a which moves forward and backward in the y direction are moved up and down in the z direction along guide rails (not shown).
【0023】基台1には、図2,図3に示すように待機
位置にある描画ステージ5の上方を覆うようにアライメ
ントスコープユニット31が配設されている。このアラ
イメントスコープユニット31は、水平面内でそれぞれ
独立に移動可能な4台のアライメントスコープ33,3
5,37,39を備えている。各アライメントスコープ
33,35,37,39は、CCDカメラ33a,35
a,37a,39aとレンズ部33b,35b,37
b,39bとを備えている。As shown in FIGS. 2 and 3, the base 1 is provided with an alignment scope unit 31 so as to cover above the drawing stage 5 at the standby position. The alignment scope unit 31 includes four alignment scopes 33 and 3 that can move independently in a horizontal plane.
5, 37 and 39 are provided. Each of the alignment scopes 33, 35, 37, 39 is a CCD camera 33a, 35
a, 37a, 39a and lens portions 33b, 35b, 37
b, 39b.
【0024】アライメントスコープユニット31は、基
台1に立設されたスコープステージ41を備え、この上
部にアライメントスコープ33,39を搭載した左ステ
ージ43と、アライメントスコープ35,37を搭載し
た右ステージ45とを備えている。左ステージ43は、
スコープステージ41上に配設されたリニアガイド41
aにx方向に摺動自在に嵌め付けられており、パルスモ
ータ41bにより回転される送りネジ41cに螺合され
ている。その上部には、y方向にリニアガイド43aが
配設され、これにはアライメントスコープ39が取り付
けられた移動ブロック43bが嵌め付けられている。こ
の移動ブロック43bは、パルスモータ43cにより回
転される送りネジ43dに螺合されている。したがっ
て、パルスモータ41bを駆動した場合には、アライメ
ントスコープ33,39が左ステージ43ごとx方向に
移動され、パルスモータ43cを駆動した場合には、リ
ニアガイド43aに固定されているアライメントスコー
プ33は移動せず、アライメントスコープ39だけがy
方向に移動されるようになっている。The alignment scope unit 31 has a scope stage 41 erected on the base 1, and a left stage 43 on which alignment scopes 33 and 39 are mounted and a right stage 45 on which alignment scopes 35 and 37 are mounted. And The left stage 43
Linear guide 41 disposed on scope stage 41
a is slidably fitted in the x direction and is screwed to a feed screw 41c rotated by a pulse motor 41b. A linear guide 43a is disposed in the upper part in the y direction, and a moving block 43b to which the alignment scope 39 is attached is fitted to the linear guide 43a. The moving block 43b is screwed to a feed screw 43d rotated by a pulse motor 43c. Therefore, when the pulse motor 41b is driven, the alignment scopes 33 and 39 are moved together with the left stage 43 in the x direction. When the pulse motor 43c is driven, the alignment scope 33 fixed to the linear guide 43a is moved. Does not move, only alignment scope 39 is y
It is to be moved in the direction.
【0025】右ステージ45は、スコープステージ41
上に配設されたリニアガイド41aに対してx方向に摺
動自在に搭載され、パルスモータ41dにより回転され
る送りネジ41eに螺合されている。その上部には、リ
ニアガイド45aが配設され、これにはアライメントス
コープ37が取り付けられた移動ブロック45bが搭載
されている。移動ブロック45bは、パルスモータ45
cによって回転される送りネジ45dに螺合されてい
る。そのためパルスモータ41dを駆動した場合には、
アライメントスコープ35,37が右ステージ45ごと
x方向に移動される一方、パルスモータ45cを駆動し
た場合には、アライメントスコープ37だけが単独でy
方向に移動される。The right stage 45 is the scope stage 41
It is slidably mounted in the x direction with respect to the linear guide 41a provided thereon, and is screwed to a feed screw 41e rotated by a pulse motor 41d. A linear guide 45a is provided on the upper part, and a moving block 45b to which the alignment scope 37 is attached is mounted on the linear guide 45a. The moving block 45b includes a pulse motor 45.
It is screwed with the feed screw 45d rotated by c. Therefore, when the pulse motor 41d is driven,
When the alignment scopes 35 and 37 are moved in the x-direction together with the right stage 45, when the pulse motor 45c is driven, only the alignment scope 37 is alone y.
Moved in the direction.
【0026】図6のブロック図を参照する。各アライメ
ントスコープ33,35,37,39のCCDカメラ3
3a,35a,37a,39aは全て画像処理部49に
接続されており、ここにおいて各映像信号が処理されて
重心位置の算出や『位置ずれ量』の演算が行われる。ま
た、画像処理部49には、処理の開始などを指示するキ
ーボード51や、各アライメントスコープ33,35,
37,39が捉えている映像を映し出したり、処理内容
などを表示したりするCRT53が接続されている。Referring to the block diagram of FIG. CCD camera 3 for each alignment scope 33, 35, 37, 39
3a, 35a, 37a, and 39a are all connected to the image processing unit 49, where each video signal is processed to calculate the position of the center of gravity and to calculate the "position shift amount". In addition, the image processing unit 49 includes a keyboard 51 for instructing the start of processing and the like, the alignment scopes 33 and 35,
A CRT 53 for displaying images captured by 37 and 39 and displaying processing contents is connected.
【0027】この装置全体を統括的に制御するのはシス
テム制御部55である。ここには、主走査制御回路57
と、副走査制御回路59と、校正データ記憶部61など
が接続されている。The system control unit 55 controls the entire apparatus. Here, the main scanning control circuit 57
, A sub-scanning control circuit 59, a calibration data storage unit 61, and the like.
【0028】システム制御部55は、描画時には、ラス
タ変換回路63から主走査制御回路57へ順次に送られ
たラスターデータに基づきレーザビームLBのx方向の
位置を設定するための主走査制御回路57を制御する。
この主走査制御回路57は、システム制御部55からの
指示とラスターデータに基づいて電子シャッタを制御す
る。また、x方向に配設された図示しないXリニアスケ
ールからの光信号を検出して、レーザビームLBの主走
査方向の偏向距離を測定する。ここからの信号は、適宜
に処理されてからシステム制御部55に取り込まれ、こ
の信号に基づいて副走査制御回路59のためのクロック
パルスが生成される。At the time of drawing, the system control section 55 sets a main scanning control circuit 57 for setting the position of the laser beam LB in the x direction based on the raster data sequentially sent from the raster conversion circuit 63 to the main scanning control circuit 57. Control.
The main scanning control circuit 57 controls the electronic shutter based on an instruction from the system control unit 55 and the raster data. Further, an optical signal from an X linear scale (not shown) arranged in the x direction is detected, and the deflection distance of the laser beam LB in the main scanning direction is measured. The signal from here is appropriately processed before being taken into the system control unit 55, and a clock pulse for the sub-scanning control circuit 59 is generated based on this signal.
【0029】副走査制御回路59は、レーザビームLB
の主走査に応じて生成されたクロックパルスに基づいて
サーボモータ7を駆動する。これにより描画ステージ5
がy方向(副走査方向)に移動される。その移動位置
は、図示しないYリニアスケールからの光信号を検出す
るセンサによって検出され、移動位置に応じた信号に変
換されてシステム制御部55に与えられる。システム制
御部55は、その信号に応じてサーボモータ7の駆動に
フィードバックをかける。The sub-scanning control circuit 59 outputs the laser beam LB
The servo motor 7 is driven based on the clock pulse generated in accordance with the main scanning of FIG. This makes the drawing stage 5
Is moved in the y direction (sub-scanning direction). The moving position is detected by a sensor that detects an optical signal from a Y linear scale (not shown), converted into a signal corresponding to the moving position, and provided to the system control unit 55. The system control unit 55 feeds back the drive of the servomotor 7 according to the signal.
【0030】校正データ記憶部61は、基準マスクRM
を吸着テーブル17の下層に備えた描画ステージ5を待
機位置に移動した際に、処理部21側に配備されている
2台のアライメントスコープ33,35からの映像信号
を画像処理部49が処理することにより得られる各アラ
イメントスコープ33,35の中心位置と基準パターン
PRとの『位置ずれ量』を格納するものである。The calibration data storage unit 61 stores a reference mask RM.
When the drawing stage 5 provided below the suction table 17 is moved to the standby position, the image processing unit 49 processes the video signals from the two alignment scopes 33 and 35 provided on the processing unit 21 side. This stores the “position shift amount” between the center position of each alignment scope 33 and 35 and the reference pattern PR.
【0031】『位置ずれ量』を図7を参照しつつもう少
し具体的に説明する。例えば、アライメントスコープ3
3のCCDカメラ33aで捉えた視野像Vの視野中心C
と、所定位置の基準パターンPRの交点とのずれをx方
向(Δx)とy方向(Δy)について求める。このとき
の『位置ずれ量』がxy方向ともに『0』である場合に
は、図7における基準パターンPRの交点と視野中心C
とが一致することになる。上述した校正データ記憶部6
1には、上記のΔx,Δyを記憶する。つまりアライメ
ントスコープ33の位置が何らかの原因により位置ずれ
した場合であっても、設計的に位置不変である基準マス
クRMの基準パターンPRを基準として、その位置から
のずれ量を記憶する。したがって、この『位置ずれ量』
を読みしてその分だけ補正すれば、アライメントスコー
プ33の視野中心Cにある実際の位置が正確に判る。The "position shift amount" will be described more specifically with reference to FIG. For example, alignment scope 3
Center of the visual field image V captured by the third CCD camera 33a
And the deviation from the intersection of the reference pattern PR at the predetermined position are determined for the x direction (Δx) and the y direction (Δy). If the “position shift amount” at this time is “0” in both the xy directions, the intersection of the reference pattern PR and the visual field center C in FIG.
Will match. The above-described calibration data storage unit 6
1 stores the above Δx and Δy. That is, even when the position of the alignment scope 33 is displaced for some reason, the amount of displacement from the position is stored with reference to the reference pattern PR of the reference mask RM, which is design-invariant. Therefore, this "position shift amount"
Is read and corrected by that amount, the actual position at the field center C of the alignment scope 33 can be accurately determined.
【0032】また、各アライメントスコープ33,3
5,37,39の駆動部65は、各アライメントスコー
プ33,35,37,39ごとに対応して設けられてい
るが、各々パルスモータが異なるだけであるので、アラ
イメントスコープ33を例にとって説明する。この駆動
部65は、システム制御部55からの指示に基づいてパ
ルスモータ41bを制御する駆動回路65aを備える。
なお、図6中では、アライメントスコープ33以外の駆
動部についてはブロックを省略して記載してある。Each of the alignment scopes 33, 3
The drive units 65, 37, and 39 are provided for each of the alignment scopes 33, 35, 37, and 39, but only the pulse motors are different. . The drive section 65 includes a drive circuit 65a that controls the pulse motor 41b based on an instruction from the system control section 55.
Note that, in FIG. 6, blocks other than the alignment scope 33 are not illustrated for the drive units.
【0033】昇降制御回路67は、載置テーブル15の
z方向の昇降を制御するものである。システム制御部5
5は、後述するように処理に応じて駆動回路69を介し
パルスモータ13cの回転を制御する。パルスモータ1
3cの駆動により載置テーブル15が昇降するが、この
ときの高さが図示しないZリニアスケールを含む高さ検
出回路73によって検出され、システム制御部55にフ
ィードバックされる。The elevation control circuit 67 controls the elevation of the mounting table 15 in the z direction. System control unit 5
Reference numeral 5 controls the rotation of the pulse motor 13c via the drive circuit 69 in accordance with the processing as described later. Pulse motor 1
The mounting table 15 is moved up and down by the driving of 3c. The height at this time is detected by a height detecting circuit 73 including a Z linear scale (not shown), and is fed back to the system control unit 55.
【0034】次に、図8のフローチャートを参照して本
実施例装置における位置校正処理をについて説明する。Next, the position calibration processing in the apparatus of this embodiment will be described with reference to the flowchart of FIG.
【0035】ステップS1 システム制御部55は、処理対象のプリント回路基板S
に関するCADデータを図示しないコンピュータから読
み込む。Step S1 The system controller 55 sets the printed circuit board S to be processed.
Is read from a computer (not shown).
【0036】ステップS2 システム制御部55は、受け取ったCADデータ中のプ
リント回路基板Sの基準穴SRの位置データに基づいて
アライメントスコープ33,35,37,39をその位
置に移動する(粗位置合わせ)。Step S2 The system controller 55 moves the alignment scopes 33, 35, 37, 39 to the positions based on the position data of the reference holes SR of the printed circuit board S in the received CAD data (coarse position adjustment). ).
【0037】つまり、アライメントスコープ33,3
5,37,39に対応した駆動部65を制御して、各ア
ライメントスコープ33,35,37,39をプリント
回路基板Sが載置テーブル15に載置された場合にその
基準穴SR(通常は、基板の四隅に形成されている)の
上方に位置するように移動させる。また、アライメント
スコープ33,35,37,39の駆動回路65だけで
は基準穴SR付近にアライメントスコープ33,35,
37,39を移動させることができない場合には、副走
査制御回路59を介してサーボモータ7を駆動し、載置
テーブル15を移動させるようにしてもよい。That is, the alignment scopes 33, 3
When the printed circuit board S is mounted on the mounting table 15 by controlling the driving units 65 corresponding to 5, 37, and 39, the alignment scopes 33, 35, 37, and 39 are controlled by the reference holes SR (normally). (Formed at the four corners of the substrate). In addition, only the drive circuit 65 of the alignment scopes 33, 35, 37, and 39 has the alignment scopes 33, 35, and 35 near the reference hole SR.
If it is not possible to move 37 and 39, the servo motor 7 may be driven via the sub-scanning control circuit 59 to move the mounting table 15.
【0038】具体的には、アライメントスコープ33の
駆動回路65aを介しパルスモータ41bに所要のパル
スを与えることにより送りネジ9側に向けてアライメン
トスコープ33,39を移動させ、アライメントスコー
プ39の駆動回路65aを介しパルスモータ43cに所
要パルスを与えて処理位置EP側にアライメントスコー
プ39を移動させ、アライメントスコープ35の駆動回
路65aを介してパルスモータ41dに所要のパルスを
与えることにより送りネジ9側に向けてアライメントス
コープ35,37を移動させ、アライメントスコープ3
7の駆動回路65aを介しパルスモータ45cに所要パ
ルスを与えて処理位置EP側にアライメントスコープ3
7を移動させる。これにより、アライメントスコープ3
3,35,37,39の各視野内には、非合焦状態では
あるが基準マスクRMの所定位置の基準パターンPRの
交点が位置することになる。More specifically, a required pulse is given to the pulse motor 41b via the drive circuit 65a of the alignment scope 33 to move the alignment scopes 33 and 39 toward the feed screw 9 side. A required pulse is given to the pulse motor 43c via the 65a, the alignment scope 39 is moved to the processing position EP side, and a required pulse is given to the pulse motor 41d via the drive circuit 65a of the alignment scope 35, so that the feed screw 9 is provided. The alignment scopes 35 and 37 are moved toward
7, a required pulse is given to the pulse motor 45c via the drive circuit 65a of FIG.
7 is moved. Thereby, the alignment scope 3
In each of the fields of view 3, 35, 37, and 39, the intersection of the reference pattern PR at a predetermined position of the reference mask RM is located although it is out of focus.
【0039】ステップS3 昇降制御回路67を介して載置テーブル15をz方向に
上昇させ、アライメントスコープ33,35,37,3
9を所定位置の基準パターンPRに合焦させる。Step S3: The mounting table 15 is raised in the z direction via the lifting control circuit 67, and the alignment scopes 33, 35, 37, 3
9 is focused on a reference pattern PR at a predetermined position.
【0040】ステップS4 各アライメントスコープ33,35,37,39の視野
像Vを画像処理し、視野中心Cと基準パターンPRの交
点との差分をそれぞれについて求める(図7参照)。Step S4 Image processing is performed on the visual field image V of each of the alignment scopes 33, 35, 37, and 39, and a difference between the visual field center C and the intersection of the reference pattern PR is obtained (see FIG. 7).
【0041】ステップS5 上記のステップS4で求められた差分(Δx,Δy)
は、アライメントスコープ33,35,37,39の各
々の『位置ずれ量』として校正データ記憶部61に格納
される。なお、ここで校正データ記憶部61に『位置ず
れ量』を格納すると、以後の処理においてアライメント
スコープ33,35,37,39を移動した際には、パ
ルスモータに与えたパルス数から算出される位置から
『位置ずれ量』分だけ視野中心の位置をずらして実際の
位置として取り扱う。Step S5 The difference (Δx, Δy) obtained in the above step S4
Is stored in the calibration data storage unit 61 as the “position shift amount” of each of the alignment scopes 33, 35, 37, and 39. Here, if the "position shift amount" is stored in the calibration data storage unit 61, when the alignment scopes 33, 35, 37, and 39 are moved in the subsequent processing, it is calculated from the number of pulses given to the pulse motor. The position of the center of the field of view is shifted from the position by the “position shift amount” and handled as an actual position.
【0042】なお、このステップS5は、本発明の位置
校正を行う過程に相当する。Step S5 corresponds to the process of performing the position calibration of the present invention.
【0043】ステップS6 上記のステップS3で上昇させた載置テーブル15を、
アライメントスコープ33,35,37,39の焦点位
置から遠ざけるように待機位置にまで下降させる。これ
により、後の処理においてアライメントスコープ33,
35,37,39がプリント回路基板Sではなく誤って
基準パターンPRを対象にして計測してしまうような不
都合を防止することができる。Step S6 The mounting table 15 raised in step S3 is
The alignment scopes 33, 35, 37, and 39 are lowered to standby positions so as to be away from the focal positions. This allows the alignment scope 33,
It is possible to prevent the inconvenience that the measurement is performed erroneously on the reference pattern PR instead of the printed circuit board S.
【0044】以上のようにしてアライメントスコープ3
3,35,37,39の位置校正処理を終えた後は、例
えば、次のようにしてプリント回路基板Sに対する処理
を行う。As described above, the alignment scope 3
After finishing the position calibration processes of 3, 35, 37, and 39, for example, the process for the printed circuit board S is performed as follows.
【0045】すなわち、図示しないローダによってプリ
ント回路基板Sが載置テーブル15に載置され、真空吸
引によって基板Sが吸着保持される。各アライメントス
コープ33,35,37,39が、基板SのCADデー
タに基づいて四隅に形成されている基準穴SRの上方に
移動する。画像処理により四隅の基準穴SRの位置が計
測され、それらの重心を求めてプリント回路基板Sの載
置姿勢が計測されるが、このときには校正データ記憶部
61に格納されている『位置ずれ量』が読み出されて、
各アライメントスコープ33,35,37,39の視野
中心の位置が補正される。このようにして姿勢が計測さ
れ、それに応じてθ方向に載置テーブル15を回転させ
てレーザービームLBと平行にさせた後、処理部21に
向けて移動させながら処理位置EPにて描画処理を施
す。That is, the printed circuit board S is mounted on the mounting table 15 by a loader (not shown), and the substrate S is suction-held by vacuum suction. Each of the alignment scopes 33, 35, 37, and 39 moves above the reference holes SR formed at the four corners based on the CAD data of the substrate S. The positions of the reference holes SR at the four corners are measured by image processing, and the mounting position of the printed circuit board S is measured by obtaining their centers of gravity. At this time, the “position shift amount” stored in the calibration data storage unit 61 is obtained. Is read out,
The position of the center of the visual field of each alignment scope 33, 35, 37, 39 is corrected. The posture is measured in this manner, and the mounting table 15 is rotated in the θ direction in accordance with the posture to be parallel to the laser beam LB. Then, the drawing process is performed at the processing position EP while moving toward the processing unit 21. Apply.
【0046】上述したように本実施例装置によれば、載
置テーブル15の基準マスクRMを位置の基準にして、
アライメントスコープ33,35,37,39を移動し
た際に実際にはどの位置にあるかを正確に知ることがで
きる。したがって、従来例のようにリニアスケールなど
の測長機器を備える必要がなく、比較的簡易な構成でア
ライメントスコープ33,35,37,39の位置校正
を容易にかつ高精度に実施することができる。As described above, according to the apparatus of the present embodiment, the reference mask RM of the mounting table 15 is
When the alignment scopes 33, 35, 37, and 39 are moved, it is possible to know exactly where they are actually located. Therefore, unlike the conventional example, there is no need to provide a length measuring device such as a linear scale, and the position of the alignment scopes 33, 35, 37, and 39 can be easily and highly accurately calibrated with a relatively simple configuration. .
【0047】なお、本発明は以下のように変形実施する
ことも可能である。The present invention can be modified as follows.
【0048】(1)基準マスクRMを載置テーブル15
に位置固定で配設するのではなく、着脱自在にしてもよ
い。つまり、処理に先立って載置テーブル15に基準マ
スクRMを取り付けた状態で上述した位置校正処理を実
施し、その後に基板を処理する前に基準マスクRMを取
り外すようにしてもよい。(1) Place the reference mask RM on the mounting table 15
Instead of being fixed at the position, it may be detachable. That is, the position calibration process described above may be performed with the reference mask RM attached to the mounting table 15 prior to the process, and the reference mask RM may be removed before processing the substrate.
【0049】(2)基準マスクRMに形成した基準パタ
ーンは、上述したような格子状だけに限定されるもので
はなく、パターンの特定位置が求められればどのような
形状であってもよい。(2) The reference pattern formed on the reference mask RM is not limited to the above-described lattice shape, and may have any shape as long as a specific position of the pattern is obtained.
【0050】(3)上記の説明では、位置校正処理の後
に載置テーブル15を下降させたが、その後の処理に不
都合が生じないのであれば、載置テーブル15を下降さ
せる必要はない。(3) In the above description, the mounting table 15 is lowered after the position calibration processing. However, if there is no inconvenience in the subsequent processing, it is not necessary to lower the mounting table 15.
【0051】また、載置テーブル15を下降させること
なく、プリント回路基板S付近にだけ焦点があうように
CCDカメラに設けた電子絞りを開けて被写体深度を浅
くするようにしてもよい。The electronic aperture provided in the CCD camera may be opened so as to focus only on the vicinity of the printed circuit board S without lowering the mounting table 15, so as to reduce the depth of the subject.
【0052】(4)アライメントスコープの個数は、実
施例のように4台に限定されるものではなく、1台以上
であれば本発明を適用可能である。(4) The number of alignment scopes is not limited to four as in the embodiment, and the present invention can be applied to at least one alignment scope.
【0053】但し、アライメントスコープが一台の場合
には、プリント回路基板を載置テーブル15に載置した
状態で位置校正処理を実施する。そして、四隅の基準穴
に順にアライメントスコープを移動させて、各位置にて
視野中心と基準パターンPRの交点との位置ずれ量を計
測すると同時に、基準穴SRの重心を求めて基準パター
ンPRの交点との相対的な位置誤差を求めておく必要が
ある。However, when there is only one alignment scope, the position calibration process is performed with the printed circuit board mounted on the mounting table 15. Then, the alignment scope is sequentially moved to the reference holes at the four corners to measure the amount of displacement between the center of the visual field and the intersection of the reference pattern PR at each position, and at the same time, the center of gravity of the reference hole SR is obtained to determine the intersection of the reference pattern PR. It is necessary to obtain a relative position error with respect to the above.
【0054】(5)上述した実施例ではプリント回路基
板製造装置を例に採って説明したが、本発明はアライメ
ントスコープにより計測などの処理を行う装置であれば
どのような装置にも適用できる。例えば、PDP基板製
造装置や精密計測装置などであっても適用可能である。(5) In the above embodiment, the printed circuit board manufacturing apparatus has been described as an example. However, the present invention can be applied to any apparatus that performs processing such as measurement using an alignment scope. For example, the present invention can be applied to a PDP substrate manufacturing device, a precision measuring device, and the like.
【0055】[0055]
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、請求項
1に記載の装置発明によれば、載置台の基準マスクを位
置の基準にして、アライメントスコープを移動した際に
実際にはどの位置にあるかが正確に判る。したがって、
リニアスケールなどの測長機器を備える必要がなく、比
較的簡易な構成でアライメントスコープの位置校正を容
易にかつ高精度に実施することができる。As is apparent from the above description, according to the first aspect of the present invention, when the alignment scope is moved by using the reference mask of the mounting table as a position reference, Is exactly known. Therefore,
There is no need to provide a length measuring device such as a linear scale, and the position of the alignment scope can be easily and highly accurately calibrated with a relatively simple configuration.
【0056】また、請求項2に記載の装置発明によれ
ば、基準マスクを載置台に載置された処理対象物より下
方に配設するので、処理対象物の交換時などに基準マス
クを取り外す必要がなく、アライメントスコープの位置
校正を行いながらも処理対象物に対する処理を効率よく
実施できる。According to the second aspect of the present invention, since the reference mask is disposed below the processing object mounted on the mounting table, the reference mask is removed when the processing object is replaced. There is no need to perform the processing on the processing object efficiently while calibrating the position of the alignment scope.
【0057】また、請求項3に記載の装置発明によれ
ば、昇降機構によって基準マスクをアライメントスコー
プの焦点位置から遠ざけることにより、基準マスクの基
準パターンを計測してしまうことを防止でき、基準マス
クを載置台の処理対象物の下部に備えたことによる不都
合を回避することができる。According to the third aspect of the present invention, it is possible to prevent the reference mask from being measured by moving the reference mask away from the focal position of the alignment scope by the elevating mechanism. Can be prevented from being provided below the processing target of the mounting table.
【0058】また、請求項4に記載の方法発明によれ
ば、処理に先立ち基準マスクの所定位置の基準パターン
にアライメントスコープを移動して位置校正を行うの
で、位置校正を容易にかつ高精度に実施することができ
る。According to the fourth aspect of the present invention, the position calibration is performed by moving the alignment scope to the reference pattern at a predetermined position of the reference mask prior to the processing, so that the position calibration can be performed easily and with high accuracy. Can be implemented.
【図1】本発明に係るアライメントスコープの位置校正
装置を備えたプリント回路基板製造装置の概要説明に供
する斜視図である。FIG. 1 is a perspective view for providing a brief description of a printed circuit board manufacturing apparatus provided with an alignment scope position calibrating apparatus according to the present invention.
【図2】プリント回路基板製造装置の詳細な平面図であ
る。FIG. 2 is a detailed plan view of the printed circuit board manufacturing apparatus.
【図3】プリント回路基板製造装置の詳細な側面図であ
る。FIG. 3 is a detailed side view of the printed circuit board manufacturing apparatus.
【図4】載置テーブルの断面図である。FIG. 4 is a sectional view of a mounting table.
【図5】載置テーブルの平面図である。FIG. 5 is a plan view of a mounting table.
【図6】プリント回路基板製造装置のブロック図であ
る。FIG. 6 is a block diagram of a printed circuit board manufacturing apparatus.
【図7】CCDカメラの視野像を示した模式図である。FIG. 7 is a schematic diagram showing a visual field image of a CCD camera.
【図8】位置校正処理を示したフローチャートである。FIG. 8 is a flowchart showing a position calibration process.
1 … 基台 3 … リニアガイド 5 … 描画ステージ 7 … サーボモータ 9 … 送りネジ 11 … 回転機構 13 … 昇降機構 15 … 載置テーブル(載置台) 17 … 吸着テーブル RM … 基準マスク PR … 基準パターン S … プリント回路基板(処理対象物) 21 … 処理部 LB … レーザービーム 33,35,37,39 … アライメントスコープ 41 … スコープステージ DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Base 3 ... Linear guide 5 ... Drawing stage 7 ... Servo motor 9 ... Feed screw 11 ... Rotation mechanism 13 ... Elevating mechanism 15 ... Mounting table (mounting table) 17 ... Suction table RM ... Reference mask PR ... Reference pattern S … Printed circuit board (object to be processed) 21… processing part LB… laser beam 33, 35, 37, 39… alignment scope 41… scope stage
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 城田 浩行 京都市上京区堀川通寺之内上る4丁目天神 北町1番地の1 大日本スクリーン製造株 式会社内 Fターム(参考) 2F065 AA03 CC00 FF01 FF04 JJ03 JJ26 PP12 QQ31 RR03 2H097 KA13 KA28 LA09 ────────────────────────────────────────────────── ─── Continued on the front page (72) Inventor Hiroyuki Shirota 4-chome Tenjin Kitamachi 1-chome, Horikawa-dori-Terauchi, Kamigyo-ku, Kyoto F-term (reference) 2F065 AA03 CC00 FF01 FF04 JJ03 JJ26 PP12 QQ31 RR03 2H097 KA13 KA28 LA09
Claims (4)
処理部で所定の処理を施すのに先立ち、処理対象物の計
測を行うアライメントスコープの位置を校正する装置に
おいて、 アライメントスコープが移動可能な範囲に2次元の基準
パターンが形成された基準マスクを前記載置台に備える
とともに、 前記基準マスクに形成された所定位置の基準パターンに
アライメントスコープを移動した後、前記所定位置の基
準パターンとアライメントスコープとの位置ずれ量に基
づいてアライメントスコープの位置校正を行うようにし
たことを特徴とするアライメントスコープの位置校正装
置。1. An apparatus for calibrating a position of an alignment scope for measuring a processing target object before performing a predetermined processing on a processing target object mounted on a mounting table by a processing unit. The mounting table includes a reference mask in which a two-dimensional reference pattern is formed in a movable range, and after moving an alignment scope to a reference pattern in a predetermined position formed in the reference mask, the reference pattern in the predetermined position A position calibration device for an alignment scope, wherein the position of the alignment scope is calibrated based on the amount of displacement between the alignment scope and the alignment scope.
の位置校正装置において、 前記基準マスクは、前記載置台に載置された処理対象物
より下方に配設されていることを特徴とするアライメン
トスコープの位置校正装置。2. The alignment scope according to claim 1, wherein the reference mask is disposed below a processing object mounted on the mounting table. Position calibration device.
の位置校正装置において、 前記基準マスクをアライメントスコープの光軸方向に昇
降する昇降機構をさらに備えるとともに、 処理対象物に対するアライメントスコープによる計測時
には、前記基準マスクをアライメントスコープの焦点か
ら遠ざけるように移動させるようにしたことを特徴とす
るアライメントスコープの位置校正装置。3. The position correcting apparatus for an alignment scope according to claim 2, further comprising an elevating mechanism for elevating and lowering the reference mask in a direction of an optical axis of the alignment scope. A position calibration device for an alignment scope, wherein the reference mask is moved away from the focal point of the alignment scope.
処理部で所定の処理を施すのに先立ち、処理対象物の計
測を行うアライメントスコープの位置を校正する方法に
おいて、 2次元の基準パターンが形成された基準マスクをアライ
メントスコープが移動可能な範囲における前記載置台の
上部あるいは下部に配置する過程と、 前記基準マスクに形成された所定位置の基準パターンに
アライメントスコープを移動する過程と、 前記基準マスクに形成された所定位置の基準パターンと
アライメントスコープとの位置ずれ量に基づいてアライ
メントスコープの位置校正を行う過程と、 を順に実施することを特徴とするアライメントスコープ
の位置校正方法。4. A method for calibrating the position of an alignment scope for measuring a processing object prior to performing a predetermined process on a processing object mounted on a mounting table by a processing unit, the method comprising: Disposing a reference mask on which a reference pattern is formed on the upper or lower part of the mounting table in a range in which the alignment scope can move; and moving the alignment scope to a reference pattern at a predetermined position formed on the reference mask. A step of calibrating the position of the alignment scope based on the amount of misalignment between the alignment scope and a reference pattern at a predetermined position formed on the reference mask.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14306799A JP3644848B2 (en) | 1999-05-24 | 1999-05-24 | Position calibration apparatus and method for alignment scope |
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