[go: up one dir, main page]

JP2000319361A - 熱硬化性樹脂組成物 - Google Patents

熱硬化性樹脂組成物

Info

Publication number
JP2000319361A
JP2000319361A JP11130656A JP13065699A JP2000319361A JP 2000319361 A JP2000319361 A JP 2000319361A JP 11130656 A JP11130656 A JP 11130656A JP 13065699 A JP13065699 A JP 13065699A JP 2000319361 A JP2000319361 A JP 2000319361A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
compound
molecule
resin composition
thermosetting resin
phenolic hydroxyl
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP11130656A
Other languages
English (en)
Inventor
Hitoshi Akiyama
仁 秋山
Sumiya Miyake
澄也 三宅
Yoshiyuki Go
義幸 郷
Hiroshi Nagata
永田  寛
Akiko Okubo
明子 大久保
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Bakelite Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Bakelite Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sumitomo Bakelite Co Ltd filed Critical Sumitomo Bakelite Co Ltd
Priority to JP11130656A priority Critical patent/JP2000319361A/ja
Publication of JP2000319361A publication Critical patent/JP2000319361A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Epoxy Resins (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 速硬化性と保存安定性とを両立させた、電気
・電子材料分野に有用な熱硬化性樹脂組成物を提供す
る。 【解決手段】 1分子内にエポキシ基を2個以上有する
化合物(A)、1分子内にフェノール性水酸基を2個以
上有する化合物(B)、ならびに、テトラフェニルホス
ホニウム(X)1分子と、1分子内に2個のフェノール
性水酸基を有する化合物(Y)2〜2.5分子とで形成
される分子会合体の構造を有し、かつ、前記化合物
(Y)がそのフェノール性水酸基の一つが共役塩基であ
るフェノキシド型の化合物からなる分子化合物(C)を
必須成分とすることを特徴とする熱硬化性樹脂組成物。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、硬化性と保存性が
良好で、電気・電子材料分野に有用な熱硬化性樹脂組成
物に関するものである。
【0002】
【従来の技術】電気・電子材料、特にIC封止材料は近
年、生産効率の向上を目的とした速硬化性と、物流・保
管時のハンドリング性向上のための保存性の向上とが求
められるようになってきている。
【0003】従来、電子電気分野向けエポキシ樹脂に
は、硬化触媒としてアミン類、イミダゾール系化合物、
ジアザビシクロウンデセンなどの含窒素複素環式化合
物、第四級アンモニウム、ホスホニウムあるいはアルソ
ニウム化合物などの種々の化合物が使用されている。
【0004】これら一般に使用される硬化触媒は、常温
などの比較的低温においても硬化促進作用を示す場合が
多い。このことは、樹脂組成物の製造および保存時の粘
度上昇や、流動性の低下、硬化性のばらつきなど、製品
としての品質を低下させる原因となっている。
【0005】この問題を解決すべく、近年では低温での
粘度、流動性の経時変化を抑え、賦形、成形時の加熱に
よってのみ硬化反応を起こすような、いわゆる潜伏性硬
化促進剤の研究が盛んになされている。その手段とし
て、硬化促進剤の活性点をイオン対により保護すること
で、潜伏性を発現する研究がなされており、特開平8−
41290号公報では、種々の有機酸とホスホニウムイ
オンとの塩構造を有する潜伏性硬化促進剤が開示されて
いる。しかし、このホスホニウム塩は特定の高次の分子
構造を有さず、イオン対が比較的容易に外部環境の影響
を受けるため、近年の低分子エポキシ樹脂やフェノール
アラルキル樹脂を用いる半導体封止材料では、保存性が
低下する問題が生じている。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、速硬化性と
保存安定性とを両立させた、電気・電子材料分野に有用
な熱硬化性樹脂組成物を提供することを目的とするもの
である。
【0007】
【課題を解決するための手段】すなわち本発明は、1分
子内にエポキシ基を2個以上有する化合物(A)、1分
子内にフェノール性水酸基を2個以上有する化合物
(B)、ならびに、テトラフェニルホスホニウム(X)
1分子と、1分子内に2個のフェノール性水酸基を有す
る化合物(Y)2〜2.5分子とで形成される分子会合
体の構造を有し、かつ、該構造において前記化合物
(Y)はそのフェノール性水酸基の一つが共役塩基であ
るフェノキシド型の化合物からなる分子化合物(C)を
必須成分とすることを特徴とする熱硬化性樹脂組成物に
関するものであり、硬化促進剤として反応活性点が保護
された分子化合物の構造を利用することで、きわめて優
れた硬化性と保存性を有する組成物が得られることを見
いだし、本発明を完成するに至った。
【0008】
【発明の実施の形態】本発明は、1分子内にエポキシ基
を2個以上有する化合物(A)、1分子内にフェノール
性水酸基を2個以上有する化合物(B)、ならびに、テ
トラフェニルホスホニウムテトラフェニルボレート
(Z)(以下、ボレート(Z)と略する)と1分子内に
2個のフェノール性水酸基を有する化合物(Y)(以
下、化合物(Y)と略する)とを反応させて得られるテ
トラフェニルホスホニウム(X)1分子と、1分子内に
2個のフェノール性水酸基を有する化合物(Y)2〜
2.5分子とで形成される分子会合体の構造を有し、か
つ、該構造において前記化合物(Y)はそのフェノール
性水酸基の一つが共役塩基であるフェノキシド型の化合
物からなる分子化合物(C)を配合した熱硬化性樹脂組
成物により、きわめて優れた硬化性と保存性を得るもの
である。
【0009】本発明において用いる1分子内にエポキシ
基を2個以上有する化合物(A)は、1分子内にエポキ
シ基を2個以上有するものであれば何ら制限はなく、例
えば、ビフェニル型エポキシ樹脂、ノボラック型エポキ
シ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂など、ビフェノール
などのフェノール類やフェノール樹脂、ナフトール類な
どの水酸基にエピクロロヒドリンを反応させて製造する
エポキシ樹脂の他、脂環式エポキシ樹脂のようにオレフ
ィンを過酸を用いて酸化させエポキシ化したエポキシ樹
脂や、ハイドロキノン等のジヒドロキシベンゼン類をエ
ピクロロヒドリンでエポキシ化したものも含まれる。
【0010】本発明において用いる1分子内にフェノー
ル性水酸基を2個以上有する化合物(B)は、1分子内
にエポキシ基を2個以上有する化合物(A)の硬化剤と
して作用するものである。具体的には、フェノールノボ
ラック樹脂、クレゾールノボラック樹脂、アルキル変性
ノボラック樹脂、フェノールアラルキル樹脂、ナフトー
ル類とフェノール類をカルボニル基含有化合物と共縮合
した樹脂などが例示されるが、1分子内で芳香族性の環
に結合する水素原子が水酸基で2個以上置換された化合
物であればよい。
【0011】本発明において用いる分子化合物(C)を
合成するためのボレート(Z)と反応させる、化合物
(Y)としては、式(1)で表される化合物、ビス(4
−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニル)メタン(通
称テトラメチルビスフェノールF)、4,4’−スルホ
ニルジフェノールおよび式(2)で表される、4,4’
−イソプロピリデンジフェノール(通称ビスフェノール
A)、ビス(4−ヒドロキシフェニル)メタン、ビス
(2−ヒドロキシフェニル)メタン、(2−ヒドロキシ
フェニル)(4−ヒドロキシフェニル)メタンおよびこ
れらのうちビス(4−ヒドロキシフェニル)メタン、ビ
ス(2−ヒドロキシフェニル)メタン、(2−ヒドロキ
シフェニル)(4−ヒドロキシフェニル)メタンの3種
の混合物(たとえば本州化学製、ビスフェノールF−
D)などのビスフェノール類、1,2−ベンゼンジオー
ル、1,3−ベンゼンジオール、1,4−ベンゼンジオ
ールなどのジヒドロキシベンゼン類、1,6−ジヒドロ
キシナフタレンなどのジヒドロキシナフタレン類の各種
異性体、2,2’−ビフェノール、4,4’−ビフェノ
ールなどのビフェノール類の各種異性体等の化合物があ
げられるが、本発明でボレート(Z)と、化合物(Y)
との反応により、分子化合物(C)を得る合成法におけ
る反応性および作業のハンドリング性においては、化合
物(Y)は式(2)で表される化合物からなる群より選
ばれることが望ましい。
【0012】
【化1】
【0013】
【化2】 式中、RはCH2またはC(CH32を表す。
【0014】本発明で特に重要な技術は、ボレート
(Z)と、前述の化合物(Y)の反応により、特異な分
子化合物を得る合成法と、その結果生成する特定のモル
比の分子化合物(C)に関するものである。
【0015】分子化合物(C)の合成方法は、テトラフ
ェニルホスホニウムテトラフェニルボレート(Z)と、
1分子内に2個のフェノール性水酸基を有する化合物
(Y)とを、Z:Y=1:2〜4のモル比で反応させた
後、さらに沸点60℃以上の溶媒中で熱反応させること
により行われる。
【0016】分子化合物(C)の合成における反応の前
段階は、ホウ素上の置換反応を含む反応である。この置
換反応には化合物(Y)のフェノール性水酸基が深く関
与しており、ホウ素上に4つの置換基を有するボレート
(Z)と、2つのフェノール性水酸基を有する化合物
(Y)とのモル比の最適値は、一義的に決定される。具
体的には、1分子内の2つのフェノール性水酸基の両方
が反応に関与できる場合、およびその片方のみが反応に
関与できる場合の2通りが存在し、それぞれに対応する
ボレート(Z)と化合物(Y)のモル比は、Z:Y=
1:2および1:4である。
【0017】この範囲外、たとえばボレート(Z)に対
し化合物(Y)のモル比が1:2未満の場合では、反応
に必要な水酸基が不足し、ホウ素上での置換反応が十分
に行われないため、後段の溶媒中での熱反応が十分に行
われない事がある。また、ボレート(Z)に対し化合物
(Y)のモル比が1:4を越える場合では、過剰に添加
された化合物(Y)が除去しきれず、分子化合物(C)
の特性を劣化させると考えられる。実際に本発明では、
この範囲内にボレート(Z)と化合物(Y)のモル比を
設定することで、反応が最適に行われることが、発明者
らにより確認されている。この反応は、ホウ素上のフェ
ニル基が、フェノール性水酸基で置換される際に発生す
るベンゼン量でモニターでき、通常理論発生量に対して
80重量%以上のベンゼンが発生すれば、十分に反応が
進行している。
【0018】分子化合物(C)の合成における後段の溶
媒中での熱反応の際に用いる溶媒は、溶媒の種類に関し
ては、沸点60℃以上であれば、特に制限はないが、1
分子内に水酸基を少なくとも1個有する沸点60℃以上
の溶媒が好ましく、特にメタノール、エタノール、プロ
パノール、ブタノール等、通常、用いられるアルコール
系溶媒が好適である。
【0019】また溶媒中での熱反応時間は、1時間以上
とすることが望ましいが、この熱反応とは、必ずしも還
流反応である必要はなく、実質的に60℃以上に加熱で
きる条件であれば、還流状態である必要はない。前述の
条件により、このプロセスにおいて、反応合成物が十分
に溶媒中に拡散され、ホウ素由来の成分や、余分な成分
(Y)が取り除かれて、分子化合物(C)が形成され
る。
【0020】また、アルコール系溶媒を加熱することで
溶解度を一時的に上昇させ、不溶分を溶解した上で、再
び冷却により目的の分子化合物(C)を再析出させるこ
とが可能であることも、この条件の優れた点である。
【0021】本発明において用いる分子化合物(C)に
含まれる化合物(Y)は、フェノール性水酸基がフェノ
ラートになった共役塩基型の化合物との混合物となって
いるが、そのモル数は分子化合物(C)の中和適定によ
る分析結果より、ホスホニウムのモル数に等しいと考え
られる。すなわち、ホスホニウム1モルに対して、化合
物(Y)は、2.0〜2.5モルであるが、そのフェノ
ール性水酸基のうち一つは共役塩基であるフェノキシド
型の化合物であると考えられる。
【0022】本発明に用いる分子化合物(C)は、前述
のようにホスホニウム−フェノキシド型の塩を構造に有
するが、これが従来の技術におけるホスホニウム−有機
酸アニオン塩型の化合物と異なる点は、本発明に用いる
分子化合物(C)では水素結合による高次構造がこのイ
オン結合を取り囲んでいる点である。従来の技術におけ
る塩では、イオン結合の強さのみにより反応性を制御し
ていたのに対し、本発明に用いる分子化合物(C)で
は、常温ではアニオンの高次構造による囲い込みが活性
点の保護を行う一方、実際の賦形の段階においては、こ
の高次構造が崩れることで活性点がむき出しになり、反
応性を発現する、いわゆる潜伏性が付与される。
【0023】本発明において用いる、1分子内にエポキ
シ基を2個以上有する化合物(A)と、硬化剤として機
能する、1分子内にフェノール性水酸基を2個以上有す
る化合物(B)の比率は、エポキシ基1モルに対し、フ
ェノール性水酸基を0.5〜2モル、好ましくは、0.
8〜1.2程度のモル比となるよう用いると硬化性、耐
熱性、電気特性等がより良好となる。また硬化促進剤と
して機能する、分子化合物(C)は、前述化合物
(A)、(B)の合計重量を100とした場合、0.5
〜20重量部程度が硬化性、保存性、他特性のバランス
がよく好適である。
【0024】本発明の熱硬化性樹脂組成物は、必要に応
じて無機充填材や離型剤、カップリング剤等当業者にて
公知の添加剤、副資材を組み合わせることは何らさしつ
かえない。エポキシ樹脂封止材料に本発明の熱硬化性樹
脂組成物を用いる場合、無機充填材は、化合物(A)、
(B)の合計重量を100とした場合、100〜240
0重量部程度、離型剤やカップリング剤は、0.1〜2
0重量部程度が好適である。
【0025】本発明の樹脂組成物とするには、前記各成
分を混合後、加熱ニーダー、押し出し機、熱ロール等に
より、加熱混練する方法により製造することができる。
【0026】
【実施例】以下にこの発明の実施例を示すが、本発明が
これにより何らかの制限を受けるものではない。
【0027】まず、ボレート(Z)とフェノール化合物
(Y)から、硬化促進剤となる分子化合物(C)を合成
し、次に、得られた分子化合物(C)を、1分子内にエ
ポキシ基を2個以上有する化合物(A)、1分子内にフ
ェノール性水酸基を2個以上有する化合物(B)に加え
て粉砕混合し、さらに100℃で5分間熱板上で溶融混
練した後、冷却粉砕して組成物のサンプルを調製した。
特性評価のため、キュラストメータによる硬化トルクの
測定および示差走査熱分析(DSC)による硬化発熱量
残存率を測定した。評価方法は下記のとおりである。
【0028】1.硬化トルク 前記のサンプル調製方法により作製した樹脂組成物を用
いて、キュラストメーター(オリエンテック社製、JS
RキュラストメーターPS型)により、175℃、45
秒後のトルクを求めた。キュラストメーターにおけるト
ルクは硬化性のパラメータであり、値の大きい方が硬化
性が高いことを示す。
【0029】2. 硬化発熱量残存率(保存性評価) 前記のサンプル調製方法により作製した樹脂組成物を用
いて、調製直後の初期硬化発熱量、および40℃で3日
間保存処理後の硬化発熱量を測定し、初期硬化発熱量
(mj/mg)に対する保存処理後の硬化発熱量(mj
/mg)の百分率を算出した。尚、硬化発熱量の測定
は、昇温速度10℃/minの条件で示差熱分析により
測定した。この値が大きいほど保存性が良好であること
を示す。
【0030】3. 中和適定 硬化促進剤の活性基当量評価のため、合成した分子化合
物(C)をメタノール/水系溶媒中でシュウ酸および水
酸化ナトリウムを用いて、そのアルカリ当量を測定し
た。具体的には分子化合物(C)を重量既知の過剰のシ
ュウ酸と反応させ、残余のシュウ酸を規定度既知の水酸
化ナトリウム水溶液で定量して、分子化合物(C)の重
量あたり規定度(N/g)を算出した。この値の逆数が
ホスホニウムフェノキシド当量となる。
【0031】4. 組成比の決定 合成した分子化合物(C)中のテトラフェニルホスホニ
ウム(X)と共役塩基型を含む化合物(Y)の組成比を
得るために、重メタノール溶媒中で1H−NMR測定を
行い、テトラフェニルホスホニウムのフェニルプロトン
の面積と、共役塩基型を含む化合物(Y)のフェニルプ
ロトンの面積を算出した。この値を用いて、成分の組成
比 (X/Y) が算出できる。
【0032】[硬化促進剤の合成] (合成例1)本州化学工業製ビスフェノールF−D(化
合物(Y)に相当)300.3g(1.5モル)と、テ
トラフェニルホスホニウムテトラフェニルボレート
(Z)325.6g(0.5モル)とを3Lセパラブル
フラスコに仕込み、200℃で3時間反応させた。この
反応でのベンゼン留出量は、理論生成量の97wt%
(すなわちベンゼン留出率97%)であった。この反応
による粗生成物を微粉砕し、セパラブルフラスコに仕込
み、2−プロパノールを粗生成物の仕込み重量の3倍量
加え、内温82.4℃(2−プロパノール沸点温度)で
1.5時間攪拌させた。その後、2−プロパノールの大
部分を除去し、さらに加熱減圧下で低沸点分を除去し
た。得られた生成物を化合物C1とする。C1の1H−
NMRデータを図1に示した。測定溶媒は重メチルアル
コールであり、4.8ppm付近および3.3ppm付
近のピークは溶媒のピークである。ここで、6.4〜
7.1ppm付近のピーク群は、原料であるビスフェノ
ールFのフェニルプロトン、7.6〜8.0ppm付近
のピーク群は、テトラフェニルホスホニウム基のフェニ
ルプロトンと帰属され、それらの面積比より分子化合物
(C)中でのテトラフェニルホスホニウム(X)と共役
塩基型を含む化合物(Y)のモル比が、X/Y=1/
2.2であると計算できる。
【0033】(合成例2〜9)合成例2〜9では、表1
に示した条件により、基本的な操作はすべて合成例1と
同様に行い、それぞれ化合物C2〜C9を調整した。
【0034】(比較合成例1)安息香酸ナトリウム7
2.05g(0.5モル)を200gのメタノールに溶
解したもを室温で攪拌し、テトラフェニルホスホニウム
ブロマイド209.6g(0.5モル)をメタノール2
00gに溶解したものをこれに滴下した。完全に滴下
後、溶液を加熱し析出分を再溶解したのち、これに純水
150gを加えて析出物を得た。この析出物を、吸引ろ
過し、純水で数回すすぎ、80℃の真空乾燥機で2時間
乾燥して比較合成品Dを得た。
【0035】
【表1】
【0036】[組成物のサンプル調製] (実施例1〜9、および比較例1、2)表2に示した配
合により、前記の方法で組成物のサンプルを調製し評価
した。比較例1では、実施例における化合物(C)にか
えてトリフェニルホスフィンを、比較例2では前述比較
合成例1で合成された化合物(D)を用いた。得られた
各組成物の評価結果は、表2に示した通りであった。
【0037】
【表2】
【0038】表2に示した各実施例の評価結果から明ら
かなように、本発明の熱硬化性樹脂組成物は、優れた硬
化性と保存性を有するのに対して、比較例1の従来の硬
化促進剤であるトリフェニルホスフィンでは、明らかに
硬化性、保存性が劣る。また比較例2は、テトラフェニ
ルホスホニウム(X)と1官能の有機酸(OA)が、
X:OA=1:1のモル比で塩をなした化合物であり、
硬化性はやや高いものの、保存性はトリフェニルホスフ
ィン同様非常に劣っている。これからも本発明の分子化
合物(C)が従来の硬化促進剤に比べ、硬化性、保存性
に大きく優れている事が分かる。
【0039】
【発明の効果】本発明の熱硬化性樹脂組成物は、硬化性
と保存性に優れ、電気・電子部品の封止材料として用い
れば、生産効率の向上と、物流・保管時のハンドリング
性向上に寄与することができ、電気・電子材料分野にお
ける昨今の要求に応え得るものとして有用である。
【図面の簡単な説明】
【図1】 合成例1で得られた化合物C1のH−NM
Rチャートである。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 永田 寛 東京都品川区東品川2丁目5番8号 住友 ベークライト株式会社内 (72)発明者 大久保 明子 東京都品川区東品川2丁目5番8号 住友 ベークライト株式会社内 Fターム(参考) 4J036 AA01 DA04 FB07 GA04 GA06 GA29 JA07

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 1分子内にエポキシ基を2個以上有する
    化合物(A)、1分子内にフェノール性水酸基を2個以
    上有する化合物(B)、ならびに、テトラフェニルホス
    ホニウム(X)1分子と、1分子内に2個のフェノール
    性水酸基を有する化合物(Y)2〜2.5分子とで形成
    される分子会合体の構造を有し、かつ、該構造において
    前記化合物(Y)はそのフェノール性水酸基の一つが共
    役塩基であるフェノキシド型の化合物からなる分子化合
    物(C)を必須成分とすることを特徴とする熱硬化性樹
    脂組成物。
  2. 【請求項2】 請求項1の分子化合物(C)が、テトラ
    フェニルホスホニウムテトラフェニルボレート(Z)
    と、1分子内に2個のフェノール性水酸基を有する化合
    物(Y)とを、Z:Y=1:2〜4のモル比で反応させ
    た後、さらに沸点60℃以上の溶媒中で熱反応させるこ
    とにより合成されるものである請求項1記載の熱硬化性
    樹脂組成物。
  3. 【請求項3】 1分子内に2個のフェノール性水酸基を
    有する化合物(Y)が、ジヒドロキシベンゼン類、ビス
    フェノール類、ビフェノール類、ジヒドロキシナフタレ
    ン類、および式(1)で表される化合物からなる群より
    選ばれた、少なくとも1種であることを特徴とする、請
    求項1または2記載の熱硬化性樹脂組成物。 【化1】
  4. 【請求項4】 ビスフェノール類が、式(2)で表され
    る化合物からなる群より選ばれた、少なくとも一種であ
    ることを特徴とする、請求項3記載の熱硬化性樹脂組成
    物。 【化2】 式中、RはCH2またはC(CH32を表す。
JP11130656A 1999-05-11 1999-05-11 熱硬化性樹脂組成物 Pending JP2000319361A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP11130656A JP2000319361A (ja) 1999-05-11 1999-05-11 熱硬化性樹脂組成物

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP11130656A JP2000319361A (ja) 1999-05-11 1999-05-11 熱硬化性樹脂組成物

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2000319361A true JP2000319361A (ja) 2000-11-21

Family

ID=15039479

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP11130656A Pending JP2000319361A (ja) 1999-05-11 1999-05-11 熱硬化性樹脂組成物

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2000319361A (ja)

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001089636A (ja) * 1999-07-22 2001-04-03 Sumitomo Bakelite Co Ltd エポキシ樹脂組成物及び半導体装置
JP2001206935A (ja) * 1999-11-17 2001-07-31 Sumitomo Bakelite Co Ltd エポキシ樹脂組成物及び半導体装置
JP2001247652A (ja) * 2000-03-07 2001-09-11 Sumitomo Bakelite Co Ltd エポキシ樹脂組成物及び半導体装置
JP2002249550A (ja) * 2001-02-26 2002-09-06 Sumitomo Bakelite Co Ltd エポキシ樹脂組成物及び半導体装置
JP2002249549A (ja) * 2001-02-26 2002-09-06 Sumitomo Bakelite Co Ltd エポキシ樹脂組成物及び半導体装置
WO2021132474A1 (ja) * 2019-12-25 2021-07-01 日清紡ケミカル株式会社 水性樹脂用架橋剤組成物および水性樹脂組成物

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001089636A (ja) * 1999-07-22 2001-04-03 Sumitomo Bakelite Co Ltd エポキシ樹脂組成物及び半導体装置
JP2001206935A (ja) * 1999-11-17 2001-07-31 Sumitomo Bakelite Co Ltd エポキシ樹脂組成物及び半導体装置
JP2001247652A (ja) * 2000-03-07 2001-09-11 Sumitomo Bakelite Co Ltd エポキシ樹脂組成物及び半導体装置
JP2002249550A (ja) * 2001-02-26 2002-09-06 Sumitomo Bakelite Co Ltd エポキシ樹脂組成物及び半導体装置
JP2002249549A (ja) * 2001-02-26 2002-09-06 Sumitomo Bakelite Co Ltd エポキシ樹脂組成物及び半導体装置
WO2021132474A1 (ja) * 2019-12-25 2021-07-01 日清紡ケミカル株式会社 水性樹脂用架橋剤組成物および水性樹脂組成物

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US10941241B2 (en) Epoxy resin molding material, molded product, molded cured product, and method for producing molded cured product
JP5170493B2 (ja) フェノール系重合体、その製法及びその用途
JP2001098053A (ja) 熱硬化性樹脂組成物およびそれを用いたエポキシ樹脂成形材料ならびに半導体装置
JP2000319361A (ja) 熱硬化性樹脂組成物
KR100629665B1 (ko) 에폭시수지 조성물 및 반도체 장치
JP4617531B2 (ja) エポキシ樹脂組成物及び半導体装置
JP5946329B2 (ja) フェノール系オリゴマー、その製法及び用途
JP4765135B2 (ja) エポキシ樹脂組成物及び半導体装置
JP2000327755A (ja) 熱硬化性樹脂組成物
JP3672224B2 (ja) 熱硬化性樹脂組成物およびそれを用いたエポキシ樹脂成形材料ならびに半導体装置
JP2000319359A (ja) 熱硬化性樹脂組成物
JP4491897B2 (ja) エポキシ樹脂組成物及び半導体装置
JP2002249549A (ja) エポキシ樹脂組成物及び半導体装置
JP2006225630A (ja) エポキシ樹脂組成物、その潜伏化手法および半導体装置
JP4595223B2 (ja) 熱硬化性樹脂組成物、エポキシ樹脂成形材料および半導体装置
JP2000273158A (ja) 熱硬化性樹脂組成物
JP2000072849A (ja) 熱硬化性樹脂組成物
JP2007231041A (ja) 硬化性樹脂組成物
JPH07173235A (ja) アリルナフトール共縮合物およびエポキシ樹脂組成物
JP2000256442A (ja) 熱硬化性樹脂組成物
JP3375275B2 (ja) 熱硬化性樹脂用硬化促進剤
JP2808034B2 (ja) ポリエポキシ化合物及びエポキシ樹脂組成物
JP2002003576A (ja) 潜在性硬化促進剤、これを含むエポキシ樹脂組成物及びその硬化物
US20040058160A1 (en) Thermosetting resin composition, epoxy resin molding material and semiconductor device
JP2012017292A (ja) 新規ホスホニウム化合物およびエポキシ樹脂用硬化促進剤

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20060110

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20080918

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20080924

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A132

Effective date: 20090310

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20090630