JP2000235178A - Method for manufacturing counter substrate for liquid crystal panel, liquid crystal panel and projection display device - Google Patents
Method for manufacturing counter substrate for liquid crystal panel, liquid crystal panel and projection display deviceInfo
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明が属する技術分野】本発明は、ブラックマトリッ
クスを備えた液晶パネル用対向基板の製造方法、かかる
液晶パネル用対向基板を備えた液晶パネル、および、か
かる液晶パネルを備えた投射型表示装置に関するもので
ある。The present invention relates to a method for manufacturing a counter substrate for a liquid crystal panel having a black matrix, a liquid crystal panel having the counter substrate for a liquid crystal panel, and a projection type display device having the liquid crystal panel. Things.
【０００２】[0002]
【従来の技術】スクリーン上に、画像を投影する投射型
表示装置が知られている。2. Description of the Related Art A projection display device for projecting an image on a screen is known.
【０００３】このような投射型表示装置では、その画像
形成に主として液晶パネル（液晶光シャッター）が用い
られている。In such a projection type display device, a liquid crystal panel (liquid crystal optical shutter) is mainly used for image formation.
【０００４】この液晶パネルは、例えば、各画素を制御
する薄膜トランジスター（ＴＦＴ）と個別電極とを有す
る液晶駆動基板（ＴＦＴ基板）と、共通電極等を有する
液晶パネル用対向基板とが、液晶層を介して接合された
構成となっている。In this liquid crystal panel, for example, a liquid crystal driving substrate (TFT substrate) having a thin film transistor (TFT) for controlling each pixel and an individual electrode, and a counter substrate for a liquid crystal panel having a common electrode and the like are composed of a liquid crystal layer. Are connected to each other.
【０００５】このような構成の液晶パネル（ＴＦＴ液晶
パネル）では、液晶パネル用対向基板に、光の透過率を
高めるべく、各画素に対応する位置に多数の微小なマイ
クロレンズを設けたものが知られている。In a liquid crystal panel (TFT liquid crystal panel) having such a configuration, a large number of minute microlenses are provided at positions corresponding to respective pixels on a counter substrate for a liquid crystal panel in order to increase light transmittance. Are known.
【０００６】このようなマイクロレンズを形成するため
に、基板に凹部を形成する方法として、例えば、特開平
９−１０１４０１に開示の技術が知られている。As a method of forming a concave portion on a substrate in order to form such a microlens, for example, a technique disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 9-101401 is known.
【０００７】しかし、かかる技術だけでは、マイクロレ
ンズを形成するための凹部が形成された基板から、優れ
た特性を有する液晶パネル用対向基板、ひいては液晶パ
ネルを適切に製造することは、困難である。However, it is difficult to properly manufacture a counter substrate for a liquid crystal panel having excellent characteristics, and furthermore, a liquid crystal panel from a substrate in which a concave portion for forming a microlens is formed using only such a technique. .
【０００８】[0008]
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、高い
光の透過率を有し、鮮明な画像が得られる液晶パネル用
対向基板を歩留りよく製造することができる液晶パネル
用対向基板の製造方法、かかる液晶パネル用対向基板を
備えた液晶パネル、および、かかる液晶パネルを備えた
投射型表示装置を提供することにある。SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to manufacture a counter substrate for a liquid crystal panel which has a high light transmittance and can produce a clear image with a good yield. It is an object of the present invention to provide a method, a liquid crystal panel including such a liquid crystal panel facing substrate, and a projection display device including such a liquid crystal panel.
【０００９】[0009]
【課題を解決するための手段】このような目的は、下記
（１）〜（１３）の本発明により達成される。This and other objects are achieved by the present invention which is defined below as (1) to (13).
【００１０】（１） ガラス基板上に多数のマイクロレ
ンズ用凹部が形成されたマイクロレンズ用凹部付き基板
を用意し、該マイクロレンズ用凹部付き基板に、樹脂層
を介してカバーガラスを積層し、次いで、該カバーガラ
ス上に、ブラックマトリックスを、前記マイクロレンズ
用凹部の位置に対応するように形成することを特徴とす
る液晶パネル用対向基板の製造方法。(1) A substrate with concave portions for microlenses having a large number of concave portions for microlenses formed on a glass substrate is prepared, and a cover glass is laminated on the substrate with concave portions for microlenses via a resin layer. Next, a method of manufacturing a counter substrate for a liquid crystal panel, wherein a black matrix is formed on the cover glass so as to correspond to a position of the concave portion for a microlens.
【００１１】（２） ガラス基板上に多数のマイクロレ
ンズ用凹部が形成されたマイクロレンズ用凹部付き基板
を用意し、該マイクロレンズ用凹部付き基板に、樹脂層
を介してカバーガラスを積層するとともに該樹脂層にマ
イクロレンズを形成し、次いで、前記カバーガラス上
に、多数の開口を有するブラックマトリックスを、前記
開口が前記マイクロレンズの光軸上に位置するように、
形成することを特徴とする液晶パネル用対向基板の製造
方法。(2) A substrate with concave portions for microlenses having a large number of concave portions for microlenses formed on a glass substrate is prepared, and a cover glass is laminated on the substrate with concave portions for microlenses via a resin layer. Forming a micro lens in the resin layer, then, on the cover glass, a black matrix having a number of openings, such that the openings are located on the optical axis of the micro lens,
A method for manufacturing a counter substrate for a liquid crystal panel, comprising:
【００１２】（３） 前記積層したカバーガラスの厚さ
を調整した後、前記ブラックマトリックスを形成する上
記（１）または（２）に記載の液晶パネル用対向基板の
製造方法。(3) The method according to (1) or (2) above, wherein the black matrix is formed after adjusting the thickness of the laminated cover glass.
【００１３】（４） 前記カバーガラスの厚さの調整
は、前記カバーガラスを研削、研磨することにより行わ
れる上記（３）に記載の液晶パネル用対向基板の製造方
法。(4) The method according to (3), wherein the thickness of the cover glass is adjusted by grinding and polishing the cover glass.
【００１４】（５） 前記ブラックマトリックスを形成
後、前記カバーガラス上に、前記ブラックマトリックス
を覆うように、透明導電膜を形成する上記（１）ないし
（４）のいずれかに記載の液晶パネル用対向基板の製造
方法。(5) The liquid crystal panel according to any one of (1) to (4), wherein after forming the black matrix, a transparent conductive film is formed on the cover glass so as to cover the black matrix. A method for manufacturing a counter substrate.
【００１５】（６） 前記ブラックマトリックスは、前
記カバーガラス上に気相成膜法を行った後、エッチング
を施すことにより形成されるものである上記（１）ない
し（５）のいずれかに記載の液晶パネル用対向基板の製
造方法。(6) The black matrix according to any one of (1) to (5), wherein the black matrix is formed by performing a gas phase film forming method on the cover glass and then performing etching. Of manufacturing a counter substrate for a liquid crystal panel.
【００１６】（７） 前記マイクロレンズ用凹部付き基
板は位置決めの指標となるアライメントマークを有し、
前記ブラックマトリックスは、前記アライメントマーク
を指標として形成されるものである上記（１）ないし
（６）のいずれかに記載の液晶パネル用対向基板の製造
方法。(7) The substrate with concave portions for microlenses has an alignment mark as an index for positioning.
The method according to any one of the above (1) to (6), wherein the black matrix is formed using the alignment mark as an index.
【００１７】（８） 前記ガラス基板および／または前
記カバーガラスは、石英ガラスで構成されている上記
（１）ないし（７）のいずれかに記載の液晶パネル用対
向基板の製造方法。(8) The method according to any one of the above (1) to (7), wherein the glass substrate and / or the cover glass are made of quartz glass.
【００１８】（９） 前記ブラックマトリックスは、金
属膜からなる上記（１）ないし（８）のいずれかに記載
の液晶パネル用対向基板の製造方法。(9) The method according to any one of the above (1) to (8), wherein the black matrix is formed of a metal film.
【００１９】（１０） 上記（１）ないし（９）のいず
れかに記載の液晶パネル用対向基板の製造方法により製
造された液晶パネル用対向基板を備えたことを特徴とす
る液晶パネル。(10) A liquid crystal panel comprising a liquid crystal panel counter substrate manufactured by the method for manufacturing a liquid crystal panel counter substrate according to any one of (1) to (9).
【００２０】（１１） 個別電極を備えた液晶駆動基板
と、該液晶駆動基板に接合され、上記（１）ないし
（９）のいずれかに記載の液晶パネル用対向基板の製造
方法により製造された液晶パネル用対向基板と、前記液
晶駆動基板と液晶パネル用対向基板との空隙に封入され
た液晶とを有することを特徴とする液晶パネル。(11) A liquid crystal driving substrate provided with individual electrodes and bonded to the liquid crystal driving substrate, and manufactured by the method of manufacturing a counter substrate for a liquid crystal panel according to any one of the above (1) to (9). A liquid crystal panel comprising: a counter substrate for a liquid crystal panel; and liquid crystal sealed in a gap between the liquid crystal driving substrate and the counter substrate for a liquid crystal panel.
【００２１】（１２） 前記液晶駆動基板はＴＦＴ基板
である上記（１１）に記載の液晶パネル。(12) The liquid crystal panel according to the above (11), wherein the liquid crystal driving substrate is a TFT substrate.
【００２２】（１３） 上記（１０）ないし（１２）の
いずれかに記載の液晶パネルを備えたことを特徴とする
投射型表示装置。(13) A projection display device comprising the liquid crystal panel according to any one of (10) to (12).
【００２３】[0023]
【発明の実施の形態】以下、本発明を添付図面に示す好
適実施例に基づいて詳細に説明する。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, the present invention will be described in detail based on preferred embodiments shown in the accompanying drawings.
【００２４】図３は、本発明の液晶パネル用対向基板の
製造方法を示す模式的な縦断面図、図４は、本発明の液
晶パネル用対向基板を示す模式的な縦断面図である。FIG. 3 is a schematic longitudinal sectional view showing a method of manufacturing the opposing substrate for a liquid crystal panel of the present invention, and FIG. 4 is a schematic longitudinal sectional view showing the opposing substrate for a liquid crystal panel of the present invention.
【００２５】図４に示すように、液晶パネル用対向基板
１は、マイクロレンズ用凹部付き基板２と、かかるマイ
クロレンズ用凹部付き基板２に、所定の屈折率を有する
透明な樹脂層１４を介して接合されたカバーガラス１３
と、かかるカバーガラス１３上に形成され、多数の開口
１１１を有するブラックマトリックス１１と、かかるカ
バーガラス１３上にブラックマトリックス１１を覆うよ
うに形成された透明導電膜１２とを有している。また、
マイクロレンズ用凹部付き基板２は、表面に多数の凹部
（マイクロレンズ用凹部）３が形成されたガラス基板５
からなっている。また、樹脂層１４では、マイクロレン
ズ用凹部付き基板２の凹部３に充填された樹脂により、
マイクロレンズ８が形成されている。As shown in FIG. 4, the opposing substrate 1 for a liquid crystal panel has a substrate 2 with concave portions for microlenses and a substrate 2 with concave portions for microlenses via a transparent resin layer 14 having a predetermined refractive index. And bonded cover glass 13
And a black matrix 11 formed on the cover glass 13 and having many openings 111, and a transparent conductive film 12 formed on the cover glass 13 so as to cover the black matrix 11. Also,
The substrate 2 with concave portions for microlenses is a glass substrate 5 having a large number of concave portions (recesses for microlenses) 3 formed on the surface.
Consists of In the resin layer 14, the resin filled in the concave portion 3 of the substrate 2 with concave portions for microlenses uses
A micro lens 8 is formed.
【００２６】この液晶パネル用対向基板１では、遮光機
能を有するブラックマトリックス１１は、マイクロレン
ズ８の位置に対応するように設けられている。具体的に
は、マイクロレンズ８の光軸Ｑがブラックマトリックス
１１に形成された開口１１１を通るように、ブラックマ
トリックス１１は設けられている。したがって、液晶パ
ネル用対向基板１では、ブラックマトリックス１１と対
向する面から入射した入射光Ｌは、マイクロレンズ８で
集光され、ブラックマトリックス１１の開口１１１を通
過する。また、透明導電膜１２は、透明性を有する電極
であり、光を透過する。このため、入射光Ｌは、液晶パ
ネル用対向基板１を通過する際に、光量の大幅な減衰が
防止される。すなわち、液晶パネル用対向基板１は、高
い光透過率を有している。In the opposite substrate 1 for a liquid crystal panel, the black matrix 11 having a light shielding function is provided so as to correspond to the position of the microlens 8. Specifically, the black matrix 11 is provided so that the optical axis Q of the microlens 8 passes through the opening 111 formed in the black matrix 11. Therefore, in the opposing substrate 1 for the liquid crystal panel, the incident light L incident from the surface facing the black matrix 11 is collected by the microlenses 8 and passes through the openings 111 of the black matrix 11. The transparent conductive film 12 is a transparent electrode and transmits light. For this reason, when the incident light L passes through the opposite substrate 1 for a liquid crystal panel, a large attenuation of the light amount is prevented. That is, the opposing substrate 1 for a liquid crystal panel has a high light transmittance.
【００２７】なお、この液晶パネル用対向基板１では、
１個のマイクロレンズ８と、ブラックマトリックス１１
の１個の開口１１１とが、１画素に対応している。The counter substrate 1 for a liquid crystal panel includes:
One micro lens 8 and black matrix 11
And one opening 111 corresponds to one pixel.
【００２８】なお、マイクロレンズ用凹部付き基板２
は、例えば反射防止層等の他の構成要素を有していても
よい。The substrate 2 with concave portions for microlenses
May have other components such as, for example, an antireflection layer.
【００２９】この液晶パネル用対向基板１は、例えば、
製造時にマイクロレンズ用凹部付き基板２が有していた
アライメントマーク４（図５参照）を、位置決めの指標
としつつ製造される。The opposing substrate 1 for a liquid crystal panel is, for example,
It is manufactured using the alignment marks 4 (see FIG. 5) of the substrate 2 with concave portions for microlenses at the time of manufacture as an index for positioning.
【００３０】本発明の液晶パネル用対向基板１を製造す
る際には、まず、マイクロレンズ用凹部付き基板２を用
意する。かかるマイクロレンズ用凹部付き基板２は、例
えば以下のようにして製造、用意することができる。When manufacturing the opposing substrate 1 for a liquid crystal panel of the present invention, first, the substrate 2 with concave portions for microlenses is prepared. The substrate 2 with concave portions for microlenses can be manufactured and prepared, for example, as follows.
【００３１】なお、本明細書において、マイクロレンズ
用凹部付き基板には、個別基板とウエハーの双方を含む
ものとする。In this specification, the substrate with concave portions for microlenses includes both an individual substrate and a wafer.
【００３２】まず、図１に示すように、マイクロレンズ
用凹部付き基板２を製造するに際し、ガラス基板５を用
意する。First, as shown in FIG. 1, when manufacturing the substrate 2 with concave portions for microlenses, a glass substrate 5 is prepared.
【００３３】このガラス基板５は、厚さが均一で、たわ
みや傷のないものが好適に用いられる。また、ガラス基
板５は、洗浄等により、その表面が清浄化されているも
のが好ましい。As the glass substrate 5, a glass substrate having a uniform thickness and having no bending or flaw is suitably used. Further, it is preferable that the surface of the glass substrate 5 is cleaned by washing or the like.
【００３４】また、製造された液晶パネル用対向基板が
液晶パネルの製造に用いられ、かかる液晶パネルがガラ
ス基板５以外のガラス基板（例えば後述するガラス基板
１７１等）を有する場合には、ガラス基板５の熱膨張係
数は、かかる液晶パネルが有する他のガラス基板の熱膨
張係数とほぼ等しいものであることが好ましい。このよ
うに、ガラス基板５と液晶パネルが有する他のガラス基
板の熱膨張係数をほぼ等しいものとすると、得られる液
晶パネルでは、温度が変化したときに二者の熱膨張係数
が違うことにより生じる反り、たわみ等が防止される。When the manufactured opposing substrate for a liquid crystal panel is used for manufacturing a liquid crystal panel, and the liquid crystal panel has a glass substrate other than the glass substrate 5 (for example, a glass substrate 171 described later), the glass substrate is used. It is preferable that the coefficient of thermal expansion of 5 is substantially equal to the coefficient of thermal expansion of another glass substrate of the liquid crystal panel. As described above, assuming that the thermal expansion coefficients of the glass substrate 5 and another glass substrate of the liquid crystal panel are substantially equal, the resulting liquid crystal panel is caused by a difference in thermal expansion coefficient between the two when the temperature changes. Warpage, deflection, etc. are prevented.
【００３５】かかる観点からは、ガラス基板５と液晶パ
ネルが有する他のガラス基板とは、同じ材質で構成され
ていることが好ましい。これにより、温度変化時の熱膨
張係数の相違による反り、たわみ等が効果的に防止され
る。From such a viewpoint, it is preferable that the glass substrate 5 and the other glass substrates of the liquid crystal panel are made of the same material. As a result, warpage, deflection, and the like due to a difference in thermal expansion coefficient when the temperature changes are effectively prevented.
【００３６】特に、製造された液晶パネル用対向基板１
を高温ポリシリコンのＴＦＴ液晶パネルの製造に用いる
場合には、ガラス基板５は、石英ガラスで構成されてい
ることが好ましい。ＴＦＴ液晶パネルは、液晶駆動基板
としてＴＦＴ基板を有している。かかるＴＦＴ基板に
は、製造時の環境により特性が変化しにくい石英ガラス
が好ましく用いられる。このため、これに対応させて、
ガラス基板５を石英ガラスで構成することにより、反
り、たわみ等の生じにくい、安定性に優れたＴＦＴ液晶
パネルを得ることができる。In particular, the counter substrate 1 for a manufactured liquid crystal panel
Is used for manufacturing a TFT liquid crystal panel of high temperature polysilicon, the glass substrate 5 is preferably made of quartz glass. The TFT liquid crystal panel has a TFT substrate as a liquid crystal driving substrate. For such a TFT substrate, quartz glass whose characteristics hardly change depending on the environment at the time of manufacturing is preferably used. Therefore, corresponding to this,
When the glass substrate 5 is made of quartz glass, a TFT liquid crystal panel which is less likely to be warped or bent and has excellent stability can be obtained.
【００３７】ガラス基板５の厚さは、ガラス基板５を構
成する材料、屈折率等の種々の条件により異なるが、通
常、０．３〜３mm程度が好ましく、０．５〜２mm程度が
より好ましい。厚さをこの範囲内とすると、必要な光学
特性を備えたコンパクトなマイクロレンズ用凹部付き基
板２を得ることができる。Although the thickness of the glass substrate 5 varies depending on various conditions such as the material constituting the glass substrate 5 and the refractive index, it is usually preferably about 0.3 to 3 mm, more preferably about 0.5 to 2 mm. . When the thickness is in this range, a compact substrate 2 with concave portions for microlenses having necessary optical characteristics can be obtained.
【００３８】＜１＞まず、ガラス基板５の表面に、図１
（ａ）に示すように、マスク層６を形成する。また、こ
れとともに、ガラス基板５の裏面（マスク層６を形成す
る面と反対側の面）に裏面保護層６９を形成する。もち
ろん、これらマスク層６および裏面保護層６９は、例え
ばＣＶＤ法等を用いて同時に形成することもできる。<1> First, FIG.
As shown in (a), a mask layer 6 is formed. At the same time, a back surface protection layer 69 is formed on the back surface of the glass substrate 5 (the surface opposite to the surface on which the mask layer 6 is formed). Of course, the mask layer 6 and the back surface protective layer 69 can be simultaneously formed by using, for example, a CVD method or the like.
【００３９】このマスク層６は、後述する工程＜４＞に
おける操作で耐性を有するものが好ましい。It is preferable that the mask layer 6 has resistance during the operation in the step <4> described later.
【００４０】かかる観点からは、このマスク層６を構成
する材料としては、例えば、多結晶シリコン（ポリシリ
コン）、アモルファスシリコン、Au／Cr、Au／Ti、Pt／
Cr、Pt／Ti、SiC 等の金属、窒化シリコンなどが挙げら
れる。From this point of view, the material constituting the mask layer 6 is, for example, polycrystalline silicon (polysilicon), amorphous silicon, Au / Cr, Au / Ti, Pt /
Examples thereof include metals such as Cr, Pt / Ti, and SiC, and silicon nitride.
【００４１】その中でも特に、マスク層６を構成する材
料としては、多結晶シリコンが好ましい。多結晶シリコ
ンでマスク層６を構成すると、ガラス基板５の表面に緻
密な層を形成することができる。このため、マスク層６
にピンホール等の欠陥が生じにくい。また、多結晶シリ
コンは、ガラスに対する密着性が高い。このため、後述
する工程＜４＞で、ガラス基板５に対しウエットエッチ
ングを施して凹部を形成する場合には、不必要な部分に
エッチング液が侵入しにくくなり、理想的なレンズ形状
を形成することが可能となる。したがって、マスク層６
を多結晶シリコンで構成することにより高い歩留りで、
高性能のマイクロレンズ用凹部付き基板を得ることがで
きる。Among them, the material constituting the mask layer 6 is preferably polycrystalline silicon. When the mask layer 6 is made of polycrystalline silicon, a dense layer can be formed on the surface of the glass substrate 5. Therefore, the mask layer 6
Defects such as pinholes are unlikely to occur. In addition, polycrystalline silicon has high adhesion to glass. For this reason, in a case where a concave portion is formed by performing wet etching on the glass substrate 5 in a step <4> described later, it becomes difficult for the etchant to enter unnecessary portions, and an ideal lens shape is formed. It becomes possible. Therefore, the mask layer 6
By using polycrystalline silicon for high yield,
A high-performance substrate with concave portions for microlenses can be obtained.
【００４２】マスク層６の厚さは、マスク層６を構成す
る材料によっても異なるが、マスク層６が多結晶シリコ
ンで構成されている場合には、０．０１〜１０μm 程度
が好ましく、０．２〜１μm 程度がより好ましい。厚さ
がこの範囲の下限値未満であると、後述する工程＜４＞
でエッチングを施す際に、ガラス基板５のマスクした部
分を十分に保護できない場合があり、上限値を超える
と、マスク層６の内部応力によりマスク層６が剥がれ易
くなる場合がある。Although the thickness of the mask layer 6 varies depending on the material constituting the mask layer 6, when the mask layer 6 is made of polycrystalline silicon, the thickness is preferably about 0.01 to 10 μm. It is more preferably about 2 to 1 μm. If the thickness is less than the lower limit of this range, a step <4> described later.
In some cases, the masked portion of the glass substrate 5 cannot be sufficiently protected when etching is performed. If the upper limit is exceeded, the mask layer 6 may be easily peeled off due to internal stress of the mask layer 6.
【００４３】マスク層６を多結晶シリコンで構成する場
合には、例えば、化学気相成膜法（ＣＶＤ法）による
と、マスク層６を好適に形成することができる。これ
は、化学気相成膜法によると、モノシランガス（SiH4）
をガラス基板５の表面で反応させて多結晶シリコン膜を
成膜することが可能となるため、スパッタリング法等を
用いて成膜した場合に発生しやすいピンホール等の欠陥
の発生を効果的に抑制することができるうえ、緻密で密
着力のある膜を形成できることによる。When the mask layer 6 is made of polycrystalline silicon, the mask layer 6 can be suitably formed by, for example, a chemical vapor deposition method (CVD method). This is based on the chemical vapor deposition method, monosilane gas (SiH 4 )
Can be reacted on the surface of the glass substrate 5 to form a polycrystalline silicon film, so that defects such as pinholes, which are likely to occur when the film is formed by a sputtering method or the like, can be effectively reduced. In addition to being able to suppress, a dense and adherent film can be formed.
【００４４】多結晶シリコンで構成されたマスク層６を
ＣＶＤ法で形成する場合、マスク層６形成時の温度は、
特に限定されないが、３００〜８００℃程度が好まし
く、４００〜７００℃程度がより好ましい。また、マス
ク層６形成時の圧力は、特に限定されないが、３０〜１
６０Pa程度が好ましく、５０〜１００Pa程度がより好ま
しい。また、SiH4等の多結晶シリコンを形成するための
原料となる気体の供給速度は、特に限定されないが、１
０〜５００mL／分程度が好ましく、４０〜４００mL／分
程度がより好ましい。多結晶シリコンの層の形成条件を
このような範囲内とすると、マスク層６を好適に形成す
ることができる。When the mask layer 6 made of polycrystalline silicon is formed by the CVD method, the temperature at the time of forming the mask layer 6 is as follows.
Although not particularly limited, about 300 to 800 ° C. is preferable, and about 400 to 700 ° C. is more preferable. The pressure at the time of forming the mask layer 6 is not particularly limited, but may be 30 to 1
About 60 Pa is preferable, and about 50-100 Pa is more preferable. In addition, the supply rate of the gas serving as a raw material for forming polycrystalline silicon such as SiH 4 is not particularly limited.
It is preferably about 0 to 500 mL / min, more preferably about 40 to 400 mL / min. When the conditions for forming the polycrystalline silicon layer are within such a range, the mask layer 6 can be suitably formed.
【００４５】なお、裏面保護層６９は、次工程以降でガ
ラス基板５の裏面を保護するためのものである。この裏
面保護層６９により、ガラス基板５の裏面の侵食、劣化
等が好適に防止される。この裏面保護層６９は、例え
ば、マスク層６と同様の材料で構成されている。このた
め、裏面保護層６９は、マスク層６の形成と同時に、マ
スク層６と同様に設けることができる。The back surface protective layer 69 is for protecting the back surface of the glass substrate 5 in the subsequent steps. The back surface protective layer 69 suitably prevents erosion and deterioration of the back surface of the glass substrate 5. The back surface protective layer 69 is made of, for example, the same material as the mask layer 6. For this reason, the back surface protective layer 69 can be provided at the same time as the formation of the mask layer 6, similarly to the mask layer 6.
【００４６】＜２＞次に、図１（ｂ）に示すように、マ
スク層６に、複数の第１開口６１および第２開口６２を
形成する。<2> Next, as shown in FIG. 1B, a plurality of first openings 61 and second openings 62 are formed in the mask layer 6.
【００４７】第１開口６１は、凹部３すなわちマイクロ
レンズ８を形成する位置に設け、第２開口６２は、アラ
イメントマーク４を形成する位置に設ける。また、第１
開口６１の形状は、凹部３の形状に対応し、第２開口６
２の形状は、アライメントマーク４の形状の一部分に対
応している。The first opening 61 is provided at the position where the recess 3, that is, the microlens 8 is formed, and the second opening 62 is provided at the position where the alignment mark 4 is formed. Also, the first
The shape of the opening 61 corresponds to the shape of the recess 3 and the second opening 6
The shape 2 corresponds to a part of the shape of the alignment mark 4.
【００４８】これら第１開口６１および第２開口６２の
形成は、例えば、マスク層６上に、第１開口６１および
第２開口６２に対応したレジスト（例えばフォトレジス
ト等）を塗布してマスク層６上にさらに第２のマスクを
施し、次いで、第２のマスクでマスクされていない部分
のマスク層６を除去し、次いで、前記第２のマスクを除
去することにより行うことができる。The first opening 61 and the second opening 62 are formed, for example, by applying a resist (eg, a photoresist) corresponding to the first opening 61 and the second opening 62 on the mask layer 6. This can be performed by further applying a second mask on the second mask 6, removing portions of the mask layer 6 not masked by the second mask, and then removing the second mask.
【００４９】なお、マスク層６の除去は、マスク層６が
多結晶シリコンで構成されている場合、例えば、ＣＦガ
ス、塩素系ガス等によるドライエッチング、フッ酸＋硝
酸水溶液、アルカリ水溶液等の剥離液への浸漬（ウエッ
トエッチング）などにより行うことができる。When the mask layer 6 is made of polycrystalline silicon, the mask layer 6 may be removed, for example, by dry etching with a CF gas, a chlorine-based gas, or the like, or by peeling off a hydrofluoric acid + nitric acid aqueous solution, an alkaline aqueous solution, or the like. It can be performed by immersion in liquid (wet etching) or the like.
【００５０】＜３＞次に、図１（ｃ）に示すように、ア
ライメントマーク４を形成する部分のマスク層６上に、
保護層７を形成する。<3> Next, as shown in FIG. 1C, a portion of the mask layer 6 where the alignment mark 4 is to be formed is
The protection layer 7 is formed.
【００５１】この保護層７は、アライメントマーク４の
形状に対応している。この保護層７は、マスク層６上だ
けでなく、ガラス基板５上に直接形成することもでき
る。例えば、図１（ｃ）に示すように、第２開口６２を
保護層７で覆ってもよい。This protective layer 7 corresponds to the shape of the alignment mark 4. This protective layer 7 can be formed not only on the mask layer 6 but also directly on the glass substrate 5. For example, as shown in FIG. 1C, the second opening 62 may be covered with the protective layer 7.
【００５２】この保護層７は、後述する工程＜４＞にお
ける凹部３の形成、および、後述する工程＜５＞におけ
るマスク層６の除去に、耐性を有することが好ましい。
これにより、保護層７で保護された部分におけるマスク
層６の食刻等が防止され、アライメントマーク４の形状
を正確に形作ることができる。また、保護層７は、薄膜
で構成されていることが好ましい。保護層７が薄膜で構
成されていると、後述する工程＜４＞および工程＜５＞
で、ガラス基板５の取り扱いが容易となり、また、後述
する工程＜６＞で保護層７の除去が容易となる。The protective layer 7 preferably has resistance to the formation of the concave portion 3 in the step <4> described later and the removal of the mask layer 6 in the step <5> described later.
This prevents the mask layer 6 from being etched or the like at the portion protected by the protective layer 7, and allows the shape of the alignment mark 4 to be accurately formed. Further, the protective layer 7 is preferably formed of a thin film. When the protective layer 7 is formed of a thin film, the following steps <4> and <5>
Thus, the handling of the glass substrate 5 is facilitated, and the removal of the protective layer 7 is facilitated in a step <6> described later.
【００５３】かかる観点からは、保護層７は、例えば、
Au／Cr、Au／Ti、Pt／Cr、Pt／Ti、SiC等の金属、窒化
シリコン等のケイ素化合物、ネガ型レジスト等のレジス
ト、テープなどで構成されていることが好ましい。From this viewpoint, the protective layer 7 is formed, for example, by
It is preferably made of a metal such as Au / Cr, Au / Ti, Pt / Cr, Pt / Ti, SiC, a silicon compound such as silicon nitride, a resist such as a negative resist, a tape, or the like.
【００５４】この保護層７は、例えば、蒸着（マスク蒸
着）、スパッタリング（マスクスパッタリング）等の気
相成膜法により、アライメントマーク４を形成する部分
に、アライメントマーク４の形状に対応した薄膜を成膜
することにより形成することができる。The protective layer 7 is formed by depositing a thin film corresponding to the shape of the alignment mark 4 on a portion where the alignment mark 4 is to be formed by a vapor deposition method such as vapor deposition (mask vapor deposition) or sputtering (mask sputtering). It can be formed by forming a film.
【００５５】なお、保護層７は、ガラス基板５全体に、
マスク層６を覆うように成膜し、次いで、アライメント
マーク４を形成する部分に、アライメントマーク４の形
状に対応したレジストをパターニングし、次いで、エッ
チング等を施すことにより、形成してもよい。The protective layer 7 covers the entire glass substrate 5.
A film may be formed so as to cover the mask layer 6, and then a resist corresponding to the shape of the alignment mark 4 may be patterned on a portion where the alignment mark 4 is to be formed, and then may be formed by performing etching or the like.
【００５６】また、保護層７は、例えば、アライメント
マーク４を形成する部分に、アライメントマーク４の形
状に対応したテープ等を貼着することにより形成しても
よい。The protective layer 7 may be formed by, for example, attaching a tape or the like corresponding to the shape of the alignment mark 4 to a portion where the alignment mark 4 is to be formed.
【００５７】＜４＞次に、図２（ｄ）に示すように、ガ
ラス基板５上に多数の凹部３を形成する。<4> Next, as shown in FIG. 2D, a large number of concave portions 3 are formed on the glass substrate 5.
【００５８】これは、例えば、ガラス基板５にエッチン
グを施すこと等により行うことができる。エッチング法
としては、例えば、ウエットエッチング法、ドライエッ
チング法などが挙げられる。その中でも、ウエットエッ
チング法を用いると、凹部３を好適に形成できる。ウエ
ットエッチング法によりエッチングを行う場合には、フ
ッ酸を含むエッチング液（フッ酸系エッチング液）を用
いると、ガラス基板５を選択的に食刻することができ、
凹部３を好適に形成することができる。This can be performed, for example, by etching the glass substrate 5. Examples of the etching method include a wet etching method and a dry etching method. Among them, the concave portion 3 can be suitably formed by using the wet etching method. In the case of performing etching by a wet etching method, if an etching solution containing hydrofluoric acid (a hydrofluoric acid-based etching solution) is used, the glass substrate 5 can be selectively etched,
The recess 3 can be suitably formed.
【００５９】エッチングを行うと、ガラス基板５は、マ
スク層６および保護層７が存在しない部分、すなわち第
１開口６１より食刻される。これにより、各第１開口６
１が設けられた部分に各凹部３が形成される。When the etching is performed, the glass substrate 5 is etched from a portion where the mask layer 6 and the protective layer 7 are not present, that is, from the first opening 61. Thereby, each first opening 6
Each recess 3 is formed in a portion where 1 is provided.
【００６０】＜５＞次に、図２（ｅ）に示すように、マ
スク層６を除去する。また、この際、マスク層６の除去
とともに裏面保護層６９も除去する。<5> Next, as shown in FIG. 2E, the mask layer 6 is removed. At this time, the back surface protective layer 69 is also removed together with the removal of the mask layer 6.
【００６１】これは、マスク層６等が多結晶シリコンで
構成されている場合、例えば、ＣＦガス、塩素系ガス等
によるドライエッチング、フッ酸＋硝酸水溶液、アルカ
リ水溶液等の剥離液への浸漬（ウエットエッチング）な
どにより行うことができる。When the mask layer 6 and the like are made of polycrystalline silicon, for example, dry etching with a CF gas, a chlorine-based gas or the like, immersion in a stripping solution such as an aqueous solution of hydrofluoric acid and nitric acid, or an aqueous solution of an alkali ( (Wet etching) or the like.
【００６２】このとき、保護層７が形成された部分は、
保護層７により保護されるので、マスク層６は除去され
ず、ガラス基板５上に残存する。At this time, the portion where the protective layer 7 is formed is
Since the mask layer 6 is not removed because it is protected by the protective layer 7, it remains on the glass substrate 5.
【００６３】＜６＞次に、保護層７を除去する。<6> Next, the protective layer 7 is removed.
【００６４】これは、保護層７の構成材料にもよるが、
例えば、保護層７がAu／Cr等で構成されている場合、塩
酸と硝酸の混合液等を剥離液としたウエットエッチング
などにより行うことができる。また、保護層７が窒化シ
リコン等で構成されている場合には、リン酸等を剥離液
としたウエットエッチングなどにより保護層７を除去す
ることができる。また、保護層７がテープ等により構成
されている場合には、かかるテープを剥離することによ
り、保護層７を除去することができる。This depends on the constituent material of the protective layer 7,
For example, when the protective layer 7 is made of Au / Cr or the like, it can be performed by wet etching using a mixed solution of hydrochloric acid and nitric acid or the like as a stripping solution. When the protective layer 7 is made of silicon nitride or the like, the protective layer 7 can be removed by wet etching using phosphoric acid or the like as a stripping solution. When the protective layer 7 is made of a tape or the like, the protective layer 7 can be removed by peeling off the tape.
【００６５】これにより、図２（ｆ）に示すように、マ
スク層６のうち保護層７で保護された部分がアライメン
トマーク４として残存する。As a result, as shown in FIG. 2F, the portion of the mask layer 6 protected by the protective layer 7 remains as the alignment mark 4.
【００６６】以上により、図２（ｆ）、図５に示すよう
に、ガラス基板５上に多数の凹部３が形成され、また、
ガラス基板５上に位置決めを行う際の指標となるアライ
メントマーク４が所定の位置に形成されたマイクロレン
ズ用凹部付き基板２が得られる。As described above, a large number of concave portions 3 are formed on the glass substrate 5 as shown in FIGS.
The substrate 2 with concave portions for microlenses in which the alignment marks 4 serving as indices for positioning on the glass substrate 5 are formed at predetermined positions is obtained.
【００６７】アライメントマーク４の形成位置は特に限
定されないが、例えば、図５に示すように、アライメン
トマーク４を凹部３の形成領域外に形成することができ
る。The position at which the alignment mark 4 is formed is not particularly limited. For example, as shown in FIG. 5, the alignment mark 4 can be formed outside the region where the concave portion 3 is formed.
【００６８】アライメントマーク４は、マイクロレンズ
用凹部付き基板２上に複数箇所設けることが好ましい。
特に、アライメントマーク４はマイクロレンズ用凹部付
き基板２の角部に複数箇所設けることが好ましい。これ
により、位置決めをより容易に行うことができるように
なる。It is preferable that a plurality of alignment marks 4 are provided on the substrate 2 with concave portions for microlenses.
In particular, it is preferable to provide a plurality of alignment marks 4 at the corners of the substrate 2 with concave portions for microlenses. Thereby, positioning can be performed more easily.
【００６９】図５は、アライメントマーク４を十字型に
した例を示している。アライメントマーク４の形状は、
特に限定されないが、図５に示すように、角を形成する
角部４１を有していることが好ましい。このようにアラ
イメントマーク４が角部４１を有していると、位置決め
をより正確に行うことができるようになる。FIG. 5 shows an example in which the alignment mark 4 has a cross shape. The shape of the alignment mark 4 is
Although not particularly limited, it is preferable to have a corner 41 forming a corner as shown in FIG. When the alignment mark 4 has the corners 41 in this manner, positioning can be performed more accurately.
【００７０】さらには、図５に示すように、アライメン
トマーク４は、その中心部位を示すマーク（図５では円
形の第２開口６２）を有していることが好ましい。これ
により、位置決めの精度をさらに向上させることができ
る。Further, as shown in FIG. 5, it is preferable that the alignment mark 4 has a mark (a circular second opening 62 in FIG. 5) indicating its central portion. Thereby, the positioning accuracy can be further improved.
【００７１】なお、上述した方法では、ガラス基板５上
に保護層７を形成して（上記工程＜３＞参照）から凹部
３を形成した（上記工程＜４＞参照）が、例えば、保護
層７を形成する前に凹部３を形成し、次いで、保護層７
を形成してもよい。すなわち、凹部３を形成した後、保
護層７を形成してもよい。In the above-described method, the protective layer 7 is formed on the glass substrate 5 (see step <3>), and then the recess 3 is formed (see step <4>). The recess 3 is formed before forming the protective layer 7, and then the protective layer 7 is formed.
May be formed. That is, the protective layer 7 may be formed after the concave portion 3 is formed.
【００７２】また、上述した方法では、ガラス基板５上
に層を形成することにより、アライメントマークを設け
たが、アライメントマークは、ガラス基板５上に層とし
て形成しなくともよい。例えば、ガラス基板５上に、凹
部３とは異なる形状を有する窪みを、アライメントマー
クとして設けてもよい。このような窪みは、例えば、上
記工程＜２＞において窪み（アライメントマーク）の形
状に対応するように第２開口を形成し、次いで、保護層
７を形成せずに（上記工程＜３＞を行わずに）ガラス基
板５に対してエッチングを施す（上記工程＜４＞を行
う）ことにより、設けることができる。In the above-described method, the alignment mark is provided by forming a layer on the glass substrate 5. However, the alignment mark does not have to be formed as a layer on the glass substrate 5. For example, a depression having a shape different from that of the recess 3 may be provided on the glass substrate 5 as an alignment mark. Such a depression is formed, for example, by forming a second opening corresponding to the shape of the depression (alignment mark) in the above step <2>, and then forming the second opening without forming the protective layer 7 (the above step <3>). It can be provided by etching the glass substrate 5 (without performing the above-described step <4>).
【００７３】ただし、前述したようにアライメントマー
ク４を形成すると、アライメントマーク４を構成するマ
スク層６、アライメントマーク４近傍のガラス基板５の
侵食が防止されるので、アライメントマーク４の輪郭、
特に角部４１を正確に形作ることが容易となり、位置決
めの際の精度を向上させることができる。However, when the alignment marks 4 are formed as described above, the erosion of the mask layer 6 constituting the alignment marks 4 and the glass substrate 5 near the alignment marks 4 is prevented.
In particular, it is easy to accurately form the corner 41, and the accuracy in positioning can be improved.
【００７４】なお、アライメントマーク４は、凹部３を
形成する工程の途中で形成しなくてもよく、凹部３を形
成した後、改めて設けてもよい。また、凹部３を形成す
る前に、あらかじめ設けておいてもよい。The alignment mark 4 does not have to be formed during the process of forming the concave portion 3 and may be provided again after the concave portion 3 is formed. Further, before forming the concave portion 3, it may be provided in advance.
【００７５】ただし、前述したようにアライメントマー
ク４を形成すると、凹部３を形成する工程の途中で、ア
ライメントマーク４も形成するので、工程数を大幅に増
やさずにアライメントマーク４を形成することができ
る。However, when the alignment mark 4 is formed as described above, the alignment mark 4 is also formed in the middle of the step of forming the concave portion 3, so that the alignment mark 4 can be formed without greatly increasing the number of steps. it can.
【００７６】なお、上述した例では、マイクロレンズ用
凹部付き基板２にアライメントマーク４を設けたが、ア
ライメントマーク４を設けなくてもよい。In the above example, the alignment marks 4 are provided on the substrate 2 with concave portions for microlenses. However, the alignment marks 4 need not be provided.
【００７７】このようなマイクロレンズ用凹部付き基板
２を用いて液晶パネル用対向基板１を製造すると、アラ
イメントマーク４を指標として、例えばブラックマトリ
ックス１１を、凹部３すなわちマイクロレンズ８の対応
する位置に位置決めを行いつつ、液晶パネル用対向基板
１を製造することができる。When the opposing substrate 1 for a liquid crystal panel is manufactured using the substrate 2 with concave portions for microlenses, for example, the black matrix 11 is placed at the position corresponding to the concave portions 3, that is, the microlenses 8 using the alignment marks 4 as indices. The liquid crystal panel facing substrate 1 can be manufactured while performing positioning.
【００７８】以下、液晶パネル用対向基板１の製造方法
について説明する。Hereinafter, a method for manufacturing the opposing substrate 1 for a liquid crystal panel will be described.
【００７９】＜７＞まず、図３（ｇ）に示すように、カ
バーガラス１３を、接着剤を介して、マイクロレンズ用
凹部付き基板２の凹部３が形成された面に接合する。<7> First, as shown in FIG. 3 (g), the cover glass 13 is bonded to the surface of the substrate 2 with the concave portion 3 for the micro lens with the concave portion 3 via an adhesive.
【００８０】この接着剤が硬化する（固化する）ことに
より、樹脂層（接着剤層）１４が形成される。また、こ
れにより、樹脂層１４に、凹部３に充填された樹脂で構
成され、凸レンズとして機能するマイクロレンズ８が形
成される。When the adhesive is cured (solidified), a resin layer (adhesive layer) 14 is formed. Thereby, the microlenses 8 which are formed of the resin filled in the concave portions 3 and function as convex lenses are formed in the resin layer 14.
【００８１】なお、この接着剤には、ガラス基板５の屈
折率よりも高い屈折率（例えばｎ＝１．６０程度）の光
学接着剤などが好適に用いられる。As the adhesive, an optical adhesive having a refractive index higher than that of the glass substrate 5 (for example, n = 1.60) is preferably used.
【００８２】カバーガラス１３の熱膨張係数は、前記と
同様の理由から、製造する液晶パネルが有する他のガラ
ス基板の熱膨張係数とほぼ等しいものであることが好ま
しい。For the same reason as described above, the thermal expansion coefficient of the cover glass 13 is preferably substantially equal to the thermal expansion coefficient of another glass substrate of the liquid crystal panel to be manufactured.
【００８３】また、同様の観点からは、カバーガラス１
３と液晶パネルが有する他のガラス基板とは、同じ材質
で構成されていることが好ましい。Further, from the same viewpoint, the cover glass 1
It is preferable that 3 and the other glass substrate of the liquid crystal panel are made of the same material.
【００８４】特に、製造された液晶パネル用対向基板１
を高温ポリシリコンのＴＦＴ液晶パネルの製造に用いる
場合には、カバーガラス１３は、前記と同様の理由か
ら、石英ガラスで構成されていることが好ましい。In particular, the manufactured counter substrate 1 for a liquid crystal panel
Is used for manufacturing a TFT liquid crystal panel made of high-temperature polysilicon, the cover glass 13 is preferably made of quartz glass for the same reason as described above.
【００８５】＜８＞次に、図３（ｈ）に示すように、カ
バーガラス１３の厚さを調整する。<8> Next, as shown in FIG. 3H, the thickness of the cover glass 13 is adjusted.
【００８６】例えば、カバーガラス１３に研削、研磨、
エッチング等を施すことによりカバーガラス１３の厚さ
を薄くすることができる。For example, the cover glass 13 is ground, polished,
The thickness of the cover glass 13 can be reduced by performing etching or the like.
【００８７】カバーガラス１３の厚さは、必要な光学特
性を備えた液晶パネル用対向基板１を得る観点からは、
１０〜１０００μm 程度が好ましく、２０〜１５０μm
程度がより好ましい。The thickness of the cover glass 13 is determined from the viewpoint of obtaining the opposing substrate 1 for a liquid crystal panel having necessary optical characteristics.
About 10 to 1000 μm is preferable, and 20 to 150 μm
The degree is more preferred.
【００８８】なお、積層したカバーガラス１３が、以降
の工程を行うのに最適な厚さの場合には、本工程は行わ
なくてもよい。When the laminated cover glass 13 has an optimum thickness for performing the subsequent steps, this step need not be performed.
【００８９】＜９＞次に、図３（ｉ）に示すように、カ
バーガラス１３上に、開口１１１が形成されたブラック
マトリックス１１を形成する。<9> Next, as shown in FIG. 3I, a black matrix 11 having an opening 111 is formed on the cover glass 13.
【００９０】このとき、ブラックマトリックス１１は、
マイクロレンズ８の位置に対応するように形成する。よ
り具体的には、マイクロレンズ８の光軸Ｑがブラックマ
トリックス１１の開口１１１を通るように形成する（図
４参照）。At this time, the black matrix 11
It is formed so as to correspond to the position of the micro lens 8. More specifically, it is formed so that the optical axis Q of the microlens 8 passes through the opening 111 of the black matrix 11 (see FIG. 4).
【００９１】このブラックマトリックス１１は、例え
ば、Cr、Al、Al合金、Ni、Zn、Ti等の金属膜、カーボン
やチタン等を分散した樹脂層などで構成されている。そ
の中でも、ブラックマトリックス１１は、Cr膜またはAl
合金膜で構成されていることが好ましい。ブラックマト
リックス１１がCr膜で構成されていると、遮光性に優れ
たブラックマトリックス１１を得ることができる。ま
た、ブラックマトリックス１１がAl合金膜で構成されて
いると、優れた放熱性を有する液晶パネル用対向基板１
が得られる。The black matrix 11 is composed of, for example, a metal film of Cr, Al, Al alloy, Ni, Zn, Ti, etc., a resin layer in which carbon, titanium or the like is dispersed. Among them, the black matrix 11 is made of a Cr film or an Al film.
It is preferable to be composed of an alloy film. When the black matrix 11 is composed of a Cr film, the black matrix 11 having excellent light shielding properties can be obtained. Further, when the black matrix 11 is made of an Al alloy film, the opposing substrate 1 for a liquid crystal panel having excellent heat dissipation is provided.
Is obtained.
【００９２】ブラックマトリックス１１の厚さは、液晶
パネル用対向基板１の平坦性に対する影響を抑制する観
点等からは、０．０３〜１．０μm 程度が好ましく、
０．０５〜０．３μm 程度がより好ましい。The thickness of the black matrix 11 is preferably about 0.03 to 1.0 μm from the viewpoint of suppressing the influence on the flatness of the opposing substrate 1 for a liquid crystal panel.
It is more preferably about 0.05 to 0.3 μm.
【００９３】この開口１１１が形成されたブラックマト
リックス１１は、例えば次のように形成することができ
る。まず、カバーガラス１３上に例えば、蒸着、スパッ
タリング等の気相成膜法によりブラックマトリックス１
１となる薄膜を成膜する。次に、かかるブラックマトリ
ックス１１となる薄膜上にレジスト膜を形成する。次
に、アライメントマーク４を指標として、ブラックマト
リックス１１の開口１１１がマイクロレンズ８（凹部
３）に対応する位置に来るように、前記レジスト膜を露
光してかかるレジスト膜に開口１１１のパターンを形成
する。次に、ウエットエッチングを行い、前記薄膜のう
ちの開口１１１となる部分のみを除去する。次に、前記
レジスト膜を除去する。なお、ウエットエッチングを行
う際の剥離液としては、例えば、ブラックマトリックス
１１となる薄膜がAl合金等で構成されているときは、リ
ン酸系エッチング液を用いることができる。The black matrix 11 in which the openings 111 are formed can be formed, for example, as follows. First, the black matrix 1 is formed on the cover glass 13 by a vapor deposition method such as vapor deposition or sputtering.
A thin film to be 1 is formed. Next, a resist film is formed on the thin film serving as the black matrix 11. Next, using the alignment mark 4 as an index, the resist film is exposed so that the opening 111 of the black matrix 11 comes to a position corresponding to the microlens 8 (the concave portion 3), and a pattern of the opening 111 is formed in the resist film. I do. Next, wet etching is performed to remove only the portion of the thin film that will become the opening 111. Next, the resist film is removed. In addition, as the stripping solution for performing the wet etching, for example, when the thin film to be the black matrix 11 is made of an Al alloy or the like, a phosphoric acid-based etching solution can be used.
【００９４】また、この開口１１１が形成されたブラッ
クマトリックス１１は、例えば次のように形成すること
もできる。まず、カバーガラス１３上に、感光性を有す
るレジスト膜を形成する。次に、マイクロレンズ用凹部
付き基板２のカバーガラス１３と対向する面から光を照
射する。このとき、照射された光は、マイクロレンズ８
で集光され、前記レジスト膜では、マイクロレンズ８の
光軸Ｑの近傍に光が集中する。このため、前記レジスト
膜のうち、光軸Ｑ近傍に位置する部分が感光する。次
に、例えば前記レジスト膜を現像等することにより、感
光した部分以外のレジスト膜を除去する。次に、カバー
ガラス１３上に例えば、蒸着、スパッタリング等の気相
成膜法によりブラックマトリックス１１となる薄膜を成
膜する。このとき、レジスト膜が残存した部分は、レジ
スト膜上にブラックマトリックス１１となる薄膜が成膜
される。次に、剥離液（例えば硫酸と過酸化水素水との
混合液）への浸漬などにより前記残存したレジスト膜を
除去する。このとき、レジスト膜上に成膜した薄膜は、
レジスト膜とともに、カバーガラス１３上から除去され
る。これにより、開口１１１が形成される。このような
方法を用いた場合には、ブラックマトリックス１１を、
アライメントマーク４を用いずに、マイクロレンズ８の
位置に対応するように形成することができる。Further, the black matrix 11 in which the openings 111 are formed can be formed, for example, as follows. First, a photosensitive resist film is formed on the cover glass 13. Next, light is irradiated from the surface of the substrate 2 with concave portions for microlenses facing the cover glass 13. At this time, the irradiated light is transmitted to the micro lens 8.
And the light is concentrated on the resist film in the vicinity of the optical axis Q of the microlens 8. Therefore, a portion of the resist film located near the optical axis Q is exposed. Next, the resist film other than the exposed portion is removed by, for example, developing the resist film. Next, a thin film to be the black matrix 11 is formed on the cover glass 13 by, for example, a vapor deposition method such as evaporation or sputtering. At this time, in the portion where the resist film remains, a thin film serving as the black matrix 11 is formed on the resist film. Next, the remaining resist film is removed by immersion in a stripping solution (for example, a mixed solution of sulfuric acid and hydrogen peroxide solution). At this time, the thin film formed on the resist film
It is removed from the cover glass 13 together with the resist film. Thereby, the opening 111 is formed. When such a method is used, the black matrix 11 is
Instead of using the alignment mark 4, it can be formed so as to correspond to the position of the microlens 8.
【００９５】なお、開口１１１が形成されたブラックマ
トリックス１１は、塩素系ガス等を用いたドライエッチ
ングによっても好適に形成することができる。The black matrix 11 in which the openings 111 are formed can be suitably formed by dry etching using a chlorine-based gas or the like.
【００９６】＜１０＞次に、カバーガラス１３上に、ブ
ラックマトリックス１１を覆うように透明導電膜（共通
電極）１２を形成する。<10> Next, a transparent conductive film (common electrode) 12 is formed on the cover glass 13 so as to cover the black matrix 11.
【００９７】これにより、液晶パネル用対向基板１、ま
たは、液晶パネル用対向基板１を複数個取りできるウエ
ハーを得ることができる。As a result, it is possible to obtain a liquid crystal panel opposing substrate 1 or a wafer from which a plurality of liquid crystal panel opposing substrates 1 can be formed.
【００９８】この透明導電膜１２は、例えば、インジウ
ムティンオキサイド（ＩＴＯ）、インジウムオキサイド
（ＩＯ）、酸化スズ（SnO2）などで構成されている。The transparent conductive film 12 is made of, for example, indium tin oxide (ITO), indium oxide (IO), tin oxide (SnO 2 ), or the like.
【００９９】透明導電膜１２の厚さは、０．０３〜１μ
m 程度が好ましく、０．０５〜０．３０μm 程度がより
好ましい。The thickness of the transparent conductive film 12 is 0.03 to 1 μm.
m, more preferably about 0.05 to 0.30 μm.
【０１００】この透明導電膜１２は、例えば、蒸着、ス
パッタリング等の気相成膜法により形成することができ
る。The transparent conductive film 12 can be formed by, for example, a vapor phase film forming method such as vapor deposition or sputtering.
【０１０１】＜１１＞最後に、ダイシング装置等を用い
て液晶パネル用対向基板１のウエハーを所定の形状、大
きさに（例えば、図５中、一点鎖線で示すように）カッ
トする。<11> Finally, the wafer of the opposing substrate 1 for a liquid crystal panel is cut into a predetermined shape and size (for example, as shown by a dashed line in FIG. 5) using a dicing apparatus or the like.
【０１０２】これにより、図４に示すような液晶パネル
用対向基板１を得ることができる。Thus, the opposing substrate 1 for a liquid crystal panel as shown in FIG. 4 can be obtained.
【０１０３】なお、上記工程＜１０＞で液晶パネル用対
向基板１が得られた場合等、カットを行う必要がない場
合には、本工程は行わなくてもよい。This step need not be performed when cutting is not necessary, such as when the opposing substrate 1 for a liquid crystal panel is obtained in the step <10>.
【０１０４】このようにして得られた液晶パネル用対向
基板１は、ブラックマトリックス１１を有している。し
たがって、画素と画素の間から不要な光が漏出すること
が防止される。これにより、例えば液晶パネル用対向基
板１を液晶パネル等に用いた場合には、鮮明な画像を得
ることができるようになる。The liquid crystal panel facing substrate 1 thus obtained has a black matrix 11. Accordingly, unnecessary light is prevented from leaking from between the pixels. Thus, for example, when the liquid crystal panel facing substrate 1 is used for a liquid crystal panel or the like, a clear image can be obtained.
【０１０５】また、液晶パネル用対向基板１は、マイク
ロレンズ８とブラックマトリックス１１の開口１１１と
の間で好適に位置合わせがなされている。したがって、
液晶パネル用対向基板１に入射した入射光Ｌは、液晶パ
ネル用対向基板１を通過する際、特にブラックマトリッ
クス１１を通過する際の入射光Ｌの減衰が抑制される。The liquid crystal panel facing substrate 1 is suitably positioned between the microlenses 8 and the openings 111 of the black matrix 11. Therefore,
When the incident light L that has entered the opposing substrate 1 for a liquid crystal panel passes through the opposing substrate 1 for a liquid crystal panel, attenuation of the incident light L particularly when passing through the black matrix 11 is suppressed.
【０１０６】このとき、マイクロレンズ用凹部付き基板
２にアライメントマーク４を設けた場合には、液晶パネ
ル用対向基板１を製造する際に、ブラックマトリックス
１１の位置決めを容易に行うことができる。At this time, when the alignment mark 4 is provided on the substrate 2 with concave portions for microlenses, the black matrix 11 can be easily positioned when the opposing substrate 1 for liquid crystal panel is manufactured.
【０１０７】なお、上述した実施例では、マイクロレン
ズ用凹部付き基板２の凹部３を形成する領域外にアライ
メントマーク４を形成したが、凹部３を形成する領域内
にアライメントマーク４を形成してもよいことは言うま
でもない。In the above-described embodiment, the alignment marks 4 are formed outside the region where the concave portion 3 is formed on the substrate 2 with concave portions for microlenses. However, the alignment mark 4 is formed inside the region where the concave portion 3 is formed. Needless to say, it is good.
【０１０８】なお、上述した実施例では、アライメント
マーク４をブラックマトリックス１１の位置決めに用い
たが、液晶パネル用対向基板１もしくはそのウエハーが
他の構成要素を有する場合には、アライメントマーク４
を、これらの位置決めに用いてもよい。In the above-described embodiment, the alignment mark 4 is used for positioning the black matrix 11. However, when the opposing substrate 1 for a liquid crystal panel or its wafer has other components, the alignment mark 4 is used.
May be used for these positioning.
【０１０９】次に、上記液晶パネル用対向基板１を用い
た液晶パネル（液晶光シャッター）について、図６に基
づいて説明する。Next, a liquid crystal panel (liquid crystal optical shutter) using the above-described liquid crystal panel counter substrate 1 will be described with reference to FIG.
【０１１０】図６に示すように、本発明の液晶パネル
（ＴＦＴ液晶パネル）１６は、ＴＦＴ基板（液晶駆動基
板）１７と、ＴＦＴ基板１７に接合された液晶パネル用
対向基板１と、ＴＦＴ基板１７と液晶パネル用対向基板
１との空隙に封入された液晶よりなる液晶層１８とを有
している。As shown in FIG. 6, a liquid crystal panel (TFT liquid crystal panel) 16 of the present invention comprises a TFT substrate (liquid crystal driving substrate) 17, an opposite substrate 1 for a liquid crystal panel joined to the TFT substrate 17, and a TFT substrate. 17 and a liquid crystal layer 18 made of liquid crystal sealed in a gap between the opposing substrate 1 for a liquid crystal panel.
【０１１１】ＴＦＴ基板１７は、液晶層１８の液晶を駆
動するための基板であり、ガラス基板１７１と、かかる
ガラス基板１７１上に設けられた多数の個別電極１７２
と、かかる個別電極１７２の近傍に設けられ、各個別電
極１７２に対応する多数の薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）
１７３とを有している。The TFT substrate 17 is a substrate for driving the liquid crystal of the liquid crystal layer 18, and includes a glass substrate 171 and a large number of individual electrodes 172 provided on the glass substrate 171.
And a number of thin film transistors (TFTs) provided near the individual electrodes 172 and corresponding to the individual electrodes 172.
173.
【０１１２】この液晶パネル１６では、液晶パネル用対
向基板１の透明導電膜（共通電極）１２と、ＴＦＴ基板
１７の個別電極１７２とが対向するように、ＴＦＴ基板
１７と液晶パネル用対向基板１とが、一定距離離間して
接合されている。In the liquid crystal panel 16, the TFT substrate 17 and the liquid crystal panel counter substrate 1 are arranged such that the transparent conductive film (common electrode) 12 of the liquid crystal panel counter substrate 1 and the individual electrode 172 of the TFT substrate 17 face each other. Are joined at a fixed distance from each other.
【０１１３】ガラス基板１７１は、前述したような理由
から、石英ガラスで構成されていることが好ましい。The glass substrate 171 is preferably made of quartz glass for the above-described reason.
【０１１４】個別電極１７２は、透明導電膜（共通電
極）１２との間で充放電を行うことにより、液晶層１８
の液晶を駆動する。この個別電極１７２は、例えば、前
述した透明導電膜１２と同様の材料で構成されている。The individual electrodes 172 are charged and discharged with the transparent conductive film (common electrode) 12 to form the liquid crystal layer 18.
To drive the liquid crystal. The individual electrode 172 is made of, for example, the same material as the transparent conductive film 12 described above.
【０１１５】薄膜トランジスタ１７３は、近傍の対応す
る個別電極１７２に接続されている。また、薄膜トラン
ジスタ１７３は、図示しない制御回路に接続され、個別
電極１７２へ供給する電流を制御する。これにより、個
別電極１７２の充放電が制御される。The thin film transistor 173 is connected to the corresponding individual electrode 172 in the vicinity. Further, the thin film transistor 173 is connected to a control circuit (not shown) and controls a current supplied to the individual electrode 172. Thereby, the charge and discharge of the individual electrode 172 are controlled.
【０１１６】液晶層１８は液晶分子（図示せず）を含有
しており、個別電極１７２の充放電に対応して、かかる
液晶分子、すなわち液晶の配向が変化する。The liquid crystal layer 18 contains liquid crystal molecules (not shown), and the liquid crystal molecules, that is, the orientation of the liquid crystal changes in accordance with the charging and discharging of the individual electrodes 172.
【０１１７】この液晶パネル１６では、通常、１個のマ
イクロレンズ８と、かかるマイクロレンズ８の光軸Ｑに
対応したブラックマトリックス１１の１個の開口１１１
と、１個の個別電極１７２と、かかる個別電極１７２に
接続された１個の薄膜トランジスタ１７３とが、１画素
に対応している。In the liquid crystal panel 16, one micro lens 8 and one opening 111 of the black matrix 11 corresponding to the optical axis Q of the micro lens 8 are usually provided.
And one individual electrode 172 and one thin film transistor 173 connected to the individual electrode 172 correspond to one pixel.
【０１１８】マイクロレンズ用凹部付き基板２側から入
射した入射光Ｌは、ガラス基板５を通り、マイクロレン
ズ８を通過する際に集光されつつ、樹脂層１４、カバー
ガラス１３、ブラックマトリックス１１の開口１１１、
透明導電膜１２、液晶層１８、個別電極１７２、ガラス
基板１７１を透過する。なお、このとき、マイクロレン
ズ用凹部付き基板２の入射側には通常偏光板（図示せ
ず）が配置されているので、入射光Ｌが液晶層１８を透
過する際に、入射光Ｌは直線偏光となっている。その
際、この入射光Ｌの偏光方向は、液晶層１８の液晶分子
の配向状態に対応して制御される。したがって、液晶パ
ネル１６を透過した入射光Ｌを、偏光板（図示せず）に
透過させることにより、出射光の輝度を制御することが
できる。The incident light L incident from the side of the substrate 2 with concave portions for microlenses passes through the glass substrate 5 and is condensed when passing through the microlenses 8, while being focused on the resin layer 14, the cover glass 13, and the black matrix 11. Opening 111,
The light passes through the transparent conductive film 12, the liquid crystal layer 18, the individual electrodes 172, and the glass substrate 171. At this time, since a polarizing plate (not shown) is usually arranged on the incident side of the substrate 2 with concave portions for microlenses, when the incident light L passes through the liquid crystal layer 18, the incident light L It is polarized. At this time, the polarization direction of the incident light L is controlled according to the alignment state of the liquid crystal molecules in the liquid crystal layer 18. Therefore, by transmitting the incident light L transmitted through the liquid crystal panel 16 through a polarizing plate (not shown), it is possible to control the luminance of the output light.
【０１１９】なお、偏光板は、例えば、ベース基板と、
かかるベース基板に積層された偏光基材とで構成され、
かかる偏光基材は、例えば、偏光素子（ヨウ素錯体、二
色性染料等）を添加した樹脂よりなる。Incidentally, the polarizing plate is, for example, a base substrate,
A polarizing substrate laminated on the base substrate,
Such a polarizing substrate is made of, for example, a resin to which a polarizing element (an iodine complex, a dichroic dye, or the like) is added.
【０１２０】この液晶パネル１６は、ブラックマトリッ
クス１１を有しているので、鮮明な画像を得ることがで
きる。Since the liquid crystal panel 16 has the black matrix 11, a clear image can be obtained.
【０１２１】また、液晶パネル１６は、マイクロレンズ
８を有しており、しかも、マイクロレンズ８を通過した
入射光Ｌは、集光されて各ブラックマトリックス１１の
開口１１１を通過する。しかも、液晶パネル１６が有す
る液晶パネル用対向基板１は、前述したようにマイクロ
レンズ８とブラックマトリックス１１の開口１１１との
間で好適に位置合わせがなされている。したがって、液
晶パネル１６、特にブラックマトリックス１１を通過す
る際の入射光Ｌの減衰が抑制される。すなわち、液晶パ
ネル１６は、高い光の透過率を有し、比較的小さい光量
で明るい画像を形成することができる。The liquid crystal panel 16 has a micro lens 8, and the incident light L passing through the micro lens 8 is condensed and passes through the opening 111 of each black matrix 11. In addition, the liquid crystal panel facing substrate 1 of the liquid crystal panel 16 is suitably positioned between the microlens 8 and the opening 111 of the black matrix 11 as described above. Therefore, attenuation of the incident light L when passing through the liquid crystal panel 16, particularly the black matrix 11, is suppressed. That is, the liquid crystal panel 16 has a high light transmittance, and can form a bright image with a relatively small amount of light.
【０１２２】この液晶パネル１６は、例えば、公知の方
法により製造されたＴＦＴ基板１７と液晶パネル用対向
基板１とを配向処理した後、シール材（図示せず）を介
して両者を接合し、次いで、これにより形成された空隙
部の封入孔（図示せず）より液晶を空隙部内に注入し、
次いで、かかる封入孔を塞ぐことにより製造することが
できる。その後、必要に応じて、液晶パネル１６の入射
側や出射側に偏光板を貼り付けてもよい。The liquid crystal panel 16 is, for example, subjected to an alignment treatment of a TFT substrate 17 manufactured by a known method and a counter substrate 1 for a liquid crystal panel, and then joined together via a sealing material (not shown). Next, liquid crystal is injected into the gap from a sealing hole (not shown) in the gap formed by this,
Then, it can be manufactured by closing the sealing hole. Thereafter, if necessary, a polarizing plate may be attached to the entrance side or the exit side of the liquid crystal panel 16.
【０１２３】なお、上記液晶パネル１６では、液晶駆動
基板としてＴＦＴ基板を用いたが、液晶駆動基板にＴＦ
Ｔ基板以外の他の液晶駆動基板、例えば、ＴＦＤ基板、
ＳＴＮ基板などを用いてもよい。In the liquid crystal panel 16, a TFT substrate is used as a liquid crystal driving substrate.
A liquid crystal driving substrate other than the T substrate, for example, a TFD substrate,
An STN substrate or the like may be used.
【０１２４】なお、上述した実施例では、最終的に得れ
らた液晶パネル用対向基板１にアライメントマーク４を
残存させなかったが、液晶パネル用対向基板１にアライ
メントマーク４を残存させて、これを液晶パネル１６を
製造する際の位置決めに用いてもよい。In the above-described embodiment, the alignment marks 4 were not left on the liquid crystal panel counter substrate 1 finally obtained. However, the alignment marks 4 were left on the liquid crystal panel counter substrate 1, This may be used for positioning when manufacturing the liquid crystal panel 16.
【０１２５】以下、上記液晶パネル１６を用いた投射型
表示装置について説明する。Hereinafter, a projection type display device using the liquid crystal panel 16 will be described.
【０１２６】図７は、本発明の投射型表示装置の光学系
を模式的に示す図である。FIG. 7 is a diagram schematically showing the optical system of the projection display device of the present invention.
【０１２７】同図に示すように、投射型表示装置３００
は、光源３０１と、複数のインテグレータレンズを備え
た照明光学系と、複数のダイクロイックミラー等を備え
た色分離光学系（導光光学系）と、赤色に対応した（赤
色用の）液晶ライトバルブ（液晶光シャッターアレイ）
２４と、緑色に対応した（緑色用の）液晶ライトバルブ
（液晶光シャッターアレイ）２５と、青色に対応した
（青色用の）液晶ライトバルブ（液晶光シャッターアレ
イ）２６と、赤色光のみを反射するダイクロイックミラ
ー面２１１および青色光のみを反射するダイクロイック
ミラー面２１２が形成されたダイクロイックプリズム
（色合成光学系）２１と、投射レンズ（投射光学系）２
２とを有している。As shown in FIG.
Is a light source 301, an illumination optical system including a plurality of integrator lenses, a color separation optical system (a light guiding optical system) including a plurality of dichroic mirrors, and a liquid crystal light valve corresponding to red (for red). (Liquid crystal optical shutter array)
24, a liquid crystal light valve (liquid crystal light shutter array) 25 corresponding to green (for green), a liquid crystal light valve (liquid crystal light shutter array) 26 corresponding to blue (for blue), and reflects only red light Dichroic prism (color synthesizing optical system) 21 having a dichroic mirror surface 211 and a dichroic mirror surface 212 that reflects only blue light, and a projection lens (projection optical system) 2
And 2.
【０１２８】また、照明光学系は、インテグレータレン
ズ３０２および３０３を有している。色分離光学系は、
ミラー３０４、３０６、３０９、青色光および緑色光を
反射する（赤色光のみを透過する）ダイクロイックミラ
ー３０５、緑色光のみを反射するダイクロイックミラー
３０７、青色光のみを反射するダイクロイックミラー
（または青色光を反射するミラー）３０８、集光レンズ
３１０、３１１、３１２、３１３および３１４とを有し
ている。Further, the illumination optical system has integrator lenses 302 and 303. The color separation optics
Mirrors 304, 306, 309, dichroic mirror 305 reflecting blue light and green light (transmitting only red light), dichroic mirror 307 reflecting only green light, dichroic mirror reflecting blue light only (or blue light (Reflecting mirror) 308 and condensing lenses 310, 311, 312, 313 and 314.
【０１２９】液晶ライトバルブ２５は、前述した液晶パ
ネル１６と、液晶パネル１６の入射面側（マイクロレン
ズ用凹部付き基板２が位置する面側、すなわちダイクロ
イックプリズム２１と反対側）に接合された第１の偏光
板（図示せず）と、液晶パネル１６の出射面側（マイク
ロレンズ用凹部付き基板２と対向する面側、すなわちダ
イクロイックプリズム２１側）に接合された第２の偏光
板（図示せず）とを備えている。液晶ライトバルブ２４
および２６も、液晶ライトバルブ２５と同様の構成とな
っている。これら液晶ライトバルブ２４、２５および２
６が備えている液晶パネル１６は、図示しない駆動回路
にそれぞれ接続されている。The liquid crystal light valve 25 is joined to the above-mentioned liquid crystal panel 16 and the incident surface side of the liquid crystal panel 16 (the surface side where the substrate 2 with concave portions for microlenses is located, that is, the side opposite to the dichroic prism 21). 1 polarizing plate (not shown) and a second polarizing plate (not shown) bonded to the exit surface side of the liquid crystal panel 16 (the surface side facing the substrate 2 with concave portions for microlenses, that is, the dichroic prism 21 side). Zu). LCD light valve 24
And 26 have the same configuration as the liquid crystal light valve 25. These liquid crystal light valves 24, 25 and 2
The liquid crystal panel 16 provided in the device 6 is connected to a drive circuit (not shown).
【０１３０】なお、投射型表示装置３００では、ダイク
ロイックプリズム２１と投射レンズ２２とで、光学ブロ
ック２０が構成されている。また、この光学ブロック２
０と、ダイクロイックプリズム２１に対して固定的に設
置された液晶ライトバルブ２４、２５および２６とで、
表示ユニット２３が構成されている。In the projection display device 300, the dichroic prism 21 and the projection lens 22 constitute the optical block 20. Also, this optical block 2
0, and liquid crystal light valves 24, 25 and 26 fixedly mounted on the dichroic prism 21,
The display unit 23 is configured.
【０１３１】以下、投射型表示装置３００の作用を説明
する。The operation of the projection display device 300 will be described below.
【０１３２】光源３０１から出射された白色光（白色光
束）は、インテグレータレンズ３０２および３０３を透
過する。この白色光の光強度（輝度分布）は、インテグ
レータレンズ３０２および３０３により均一にされる。The white light (white light flux) emitted from the light source 301 passes through the integrator lenses 302 and 303. The light intensity (luminance distribution) of this white light is made uniform by the integrator lenses 302 and 303.
【０１３３】インテグレータレンズ３０２および３０３
を透過した白色光は、ミラー３０４で図７中左側に反射
し、その反射光のうちの青色光（Ｂ）および緑色光
（Ｇ）は、それぞれダイクロイックミラー３０５で図７
中下側に反射し、赤色光（Ｒ）は、ダイクロイックミラ
ー３０５を透過する。Integrator lenses 302 and 303
7 is reflected to the left side in FIG. 7 by the mirror 304, and blue light (B) and green light (G) of the reflected light are respectively reflected by the dichroic mirror 305 in FIG.
The red light (R) reflected toward the middle and lower sides is transmitted through the dichroic mirror 305.
【０１３４】ダイクロイックミラー３０５を透過した赤
色光は、ミラー３０６で図７中下側に反射し、その反射
光は、集光レンズ３１０により整形され、赤色用の液晶
ライトバルブ２４に入射する。The red light transmitted through the dichroic mirror 305 is reflected by the mirror 306 downward in FIG. 7, and the reflected light is shaped by the condenser lens 310 and enters the liquid crystal light valve 24 for red.
【０１３５】ダイクロイックミラー３０５で反射した青
色光および緑色光のうちの緑色光は、ダイクロイックミ
ラー３０７で図７中左側に反射し、青色光は、ダイクロ
イックミラー３０７を透過する。The green light of the blue light and the green light reflected by the dichroic mirror 305 is reflected to the left side in FIG. 7 by the dichroic mirror 307, and the blue light passes through the dichroic mirror 307.
【０１３６】ダイクロイックミラー３０７で反射した緑
色光は、集光レンズ３１１により整形され、緑色用の液
晶ライトバルブ２５に入射する。The green light reflected by the dichroic mirror 307 is shaped by the condenser lens 311 and enters the liquid crystal light valve 25 for green.
【０１３７】また、ダイクロイックミラー３０７を透過
した青色光は、ダイクロイックミラー（またはミラー）
３０８で図７中左側に反射し、その反射光は、ミラー３
０９で図７中上側に反射する。前記青色光は、集光レン
ズ３１２、３１３および３１４により整形され、青色用
の液晶ライトバルブ２６に入射する。The blue light transmitted through the dichroic mirror 307 is transmitted to the dichroic mirror (or mirror).
At 308, the light is reflected to the left in FIG.
At 09, the light is reflected upward in FIG. The blue light is shaped by the condenser lenses 312, 313, and 314, and enters the liquid crystal light valve 26 for blue.
【０１３８】このように、光源３０１から出射された白
色光は、色分離光学系により、赤色、緑色および青色の
三原色に色分離され、それぞれ、対応する液晶ライトバ
ルブに導かれ、入射する。As described above, the white light emitted from the light source 301 is color-separated into three primary colors of red, green and blue by the color separation optical system, respectively, guided to the corresponding liquid crystal light valves, and entered.
【０１３９】この際、液晶ライトバルブ２４が有する液
晶パネル１６の各画素（薄膜トランジスター１７３とこ
れに接続された個別電極１７２）は、赤色用の画像信号
に基づいて作動する駆動回路（駆動手段）により、スイ
ッチング制御（オン／オフ）、すなわち変調される。At this time, each pixel (the thin film transistor 173 and the individual electrode 172 connected thereto) of the liquid crystal panel 16 included in the liquid crystal light valve 24 is driven by a driving circuit (driving means) which operates based on a red image signal. , Switching control (on / off), that is, modulation.
【０１４０】同様に、緑色光および青色光は、それぞ
れ、液晶ライトバルブ２５および２６に入射し、それぞ
れの液晶パネル１６で変調され、これにより緑色用の画
像および青色用の画像が形成される。この際、液晶ライ
トバルブ２５が有する液晶パネル１６の各画素は、緑色
用の画像信号に基づいて作動する駆動回路によりスイッ
チング制御され、液晶ライトバルブ２６が有する液晶パ
ネル１６の各画素は、青色用の画像信号に基づいて作動
する駆動回路によりスイッチング制御される。Similarly, the green light and the blue light enter the liquid crystal light valves 25 and 26, respectively, and are modulated by the respective liquid crystal panels 16, whereby a green image and a blue image are formed. At this time, each pixel of the liquid crystal panel 16 included in the liquid crystal light valve 25 is switching-controlled by a drive circuit that operates based on an image signal for green, and each pixel of the liquid crystal panel 16 included in the liquid crystal light valve 26 is controlled for blue. The switching is controlled by a drive circuit that operates based on the image signal.
【０１４１】これにより赤色光、緑色光および青色光
は、それぞれ、液晶ライトバルブ２４、２５および２６
で変調され、赤色用の画像、緑色用の画像および青色用
の画像がそれぞれ形成される。Thus, the red light, the green light and the blue light are respectively transmitted to the liquid crystal light valves 24, 25 and 26.
, And a red image, a green image, and a blue image are respectively formed.
【０１４２】前記液晶ライトバルブ２４により形成され
た赤色用の画像、すなわち液晶ライトバルブ２４からの
赤色光は、面２１３からダイクロイックプリズム２１に
入射し、ダイクロイックミラー面２１１で図７中左側に
反射し、ダイクロイックミラー面２１２を透過して、出
射面２１６から出射する。The image for red color formed by the liquid crystal light valve 24, that is, the red light from the liquid crystal light valve 24 enters the dichroic prism 21 from the surface 213 and is reflected on the dichroic mirror surface 211 to the left in FIG. The light passes through the dichroic mirror surface 212 and exits from the exit surface 216.
【０１４３】また、前記液晶ライトバルブ２５により形
成された緑色用の画像、すなわち液晶ライトバルブ２５
からの緑色光は、面２１４からダイクロイックプリズム
２１に入射し、ダイクロイックミラー面２１１および２
１２をそれぞれ透過して、出射面２１６から出射する。The green image formed by the liquid crystal light valve 25, that is, the liquid crystal light valve 25
From the surface 214 enters the dichroic prism 21 from the surface 214, and the dichroic mirror surfaces 211 and 2
12 respectively, and exit from the exit surface 216.
【０１４４】また、前記液晶ライトバルブ２６により形
成された青色用の画像、すなわち液晶ライトバルブ２６
からの青色光は、面２１５からダイクロイックプリズム
２１に入射し、ダイクロイックミラー面２１２で図７中
左側に反射し、ダイクロイックミラー面２１１を透過し
て、出射面２１６から出射する。The image for blue formed by the liquid crystal light valve 26, that is, the liquid crystal light valve 26
7 enters the dichroic prism 21 from the surface 215, is reflected to the left side in FIG. 7 by the dichroic mirror surface 212, passes through the dichroic mirror surface 211, and exits from the emission surface 216.
【０１４５】このように、前記液晶ライトバルブ２４、
２５および２６からの各色の光、すなわち液晶ライトバ
ルブ２４、２５および２６により形成された各画像は、
ダイクロイックプリズム２１により合成され、これによ
りカラーの画像が形成される。この画像は、投射レンズ
２２により、所定の位置に設置されているスクリーン３
２０上に投影（拡大投射）される。As described above, the liquid crystal light valve 24,
Light of each color from 25 and 26, ie, each image formed by the liquid crystal light valves 24, 25 and 26,
The images are synthesized by the dichroic prism 21, whereby a color image is formed. This image is projected on the screen 3 installed at a predetermined position by the projection lens 22.
20 is projected (enlarged projection).
【０１４６】このとき、液晶ライトバルブ２４、２５お
よび２６は、前述したような液晶パネル１６を有してい
るので、スクリーン３２０上に明るく鮮明な画像を投影
することができる。At this time, since the liquid crystal light valves 24, 25 and 26 have the liquid crystal panel 16 as described above, a bright and clear image can be projected on the screen 320.
【０１４７】[0147]
【実施例】（実施例１）以下のように、液晶パネル用対
向基板を製造した。(Example 1) A counter substrate for a liquid crystal panel was manufactured as follows.
【０１４８】なお、液晶パネル用対向基板を製造するに
先立って、マイクロレンズ用凹部付き基板を製造した。Prior to manufacturing the opposing substrate for the liquid crystal panel, a substrate with concave portions for microlenses was manufactured.
【０１４９】まず、ガラス基板として、厚さ１mmの石英
ガラス基板を用意した。First, a quartz glass substrate having a thickness of 1 mm was prepared as a glass substrate.
【０１５０】この石英ガラス基板を、８５℃に加熱した
洗浄液（８０％硫酸＋２０％過酸化水素水）に浸漬して
洗浄を行い、その表面を清浄化した。This quartz glass substrate was immersed in a cleaning solution (80% sulfuric acid + 20% hydrogen peroxide solution) heated to 85 ° C. to perform cleaning, and the surface was cleaned.
【０１５１】−１− 次に、この石英ガラス基板を、６
００℃、８０Paに設定したＣＶＤ炉内に入れ、SiH4を３
００mL／分の速度で供給し、ＣＶＤ法にて、厚さ０．６
μmの多結晶の多結晶シリコン膜（マスク層および裏面
保護層）を形成した。-1- Next, this quartz glass substrate is
00 ° C., placed in a CVD furnace set to 80 Pa, SiH 4 3
It is supplied at a rate of 00 mL / min.
A μm polycrystalline silicon film (mask layer and backside protective layer) was formed.
【０１５２】−２− 次に、形成した多結晶シリコン膜
（マスク層）上に、フォトレジストによりマイクロレン
ズおよびアライメントマークのパターンを有するレジス
トを形成し、次いで、多結晶シリコン膜（マスク層）に
対してＣＦガスによるドライエッチングを行い、次い
で、前記レジストを除去して、多結晶シリコン膜（マス
ク層）に開口（第１開口および第２開口）を形成した。-2- Next, a resist having a pattern of microlenses and alignment marks is formed on the formed polycrystalline silicon film (mask layer) using a photoresist, and then the polycrystalline silicon film (mask layer) is formed on the polycrystalline silicon film (mask layer). Then, dry etching was performed using CF gas, and then the resist was removed to form openings (first openings and second openings) in the polycrystalline silicon film (mask layer).
【０１５３】−３− 次に、多結晶シリコン膜（マスク
層）および石英ガラス基板上の、アライメントマークを
形成する部分に、スパッタリングおよびフォトリソグラ
フィー法により、アライメントマークの形状に対応した
Au／Cr薄膜（保護層）を形成した。-3- Next, the portions of the polycrystalline silicon film (mask layer) and the quartz glass substrate on which the alignment marks are to be formed were made to correspond to the shapes of the alignment marks by sputtering and photolithography.
An Au / Cr thin film (protective layer) was formed.
【０１５４】−４− 次に、石英ガラス基板にウエット
エッチングを施し、石英ガラス基板上に多数の凹部を形
成した。-4- Next, wet etching was performed on the quartz glass substrate to form a large number of concave portions on the quartz glass substrate.
【０１５５】なお、エッチング液には、フッ酸系のエッ
チング液を用いた。As the etching solution, a hydrofluoric acid-based etching solution was used.
【０１５６】−５− 次に、ＣＦガスによるドライエッ
チングを行い、多結晶シリコン膜（マスク層および裏面
保護層）を除去した。-5 Next, dry etching was performed using CF gas to remove the polycrystalline silicon film (mask layer and back surface protective layer).
【０１５７】−６− 次に、石英ガラス基板を硝酸と塩
酸の混合液（剥離液）に浸漬して、Au／Cr薄膜を除去し
た。-6 Next, the quartz glass substrate was immersed in a mixed solution (stripping solution) of nitric acid and hydrochloric acid to remove the Au / Cr thin film.
【０１５８】これにより、石英ガラス基板上に、中心部
に円形の開口を有する十字型のアライメントマークと、
多数の凹部とが形成されたウエハー状のマイクロレンズ
用凹部付き基板を得た。Thus, a cross-shaped alignment mark having a circular opening at the center is formed on the quartz glass substrate.
A wafer-like substrate with concave portions for microlenses having a large number of concave portions was obtained.
【０１５９】このマイクロレンズ用凹部付き基板を用い
て液晶パネル用対向基板を製造した。Using this substrate with concave portions for microlenses, a counter substrate for liquid crystal panels was manufactured.
【０１６０】−７− 次に、マイクロレンズ用凹部付き
基板の凹部が形成された面に、紫外線（ＵＶ）硬化型エ
ポキシ系の光学接着剤（屈折率１．６０）を用い、石英
ガラス製のカバーガラスを接合した。-7- Next, an ultraviolet (UV) curable epoxy-based optical adhesive (refractive index: 1.60) is used to coat the surface of the substrate with concave portions for microlenses where the concave portions are formed, using quartz glass. The cover glass was bonded.
【０１６１】また、これにより、マイクロレンズ用凹部
付き基板の凹部に充填された光学接着剤よりなるマイク
ロレンズが、硬化した光学接着剤で構成された樹脂層に
形成された。Thus, a microlens made of the optical adhesive filled in the concave portion of the substrate with concave portions for microlenses was formed on the resin layer composed of the cured optical adhesive.
【０１６２】−８− 次に、この接合したカバーガラス
を、研削、研磨して、カバーガラスの厚さを５０μm と
した。-8- Next, the joined cover glass was ground and polished to a thickness of 50 μm.
【０１６３】−９− 次に、このカバーガラス上に、開
口が形成されたブラックマトリックスを形成した。これ
は、次のようにして行った。まず、カバーガラス上に、
スパッタリングにより厚さ０．１６μm のCr膜を成膜し
た。次に、かかるCr膜上にレジスト膜を形成した。次
に、前記アライメントマークを指標として、露光機を用
い、ブラックマトリックスパターンの各開口部が各マイ
クロレンズの光軸に一致するように露光し、前記レジス
ト膜にブラックマトリックスパターンを形成した。次
に、硝酸セリウムアンモン水溶液を剥離液としてウエッ
トエッチングを行い、Cr膜にブラックマトリックスの開
口を形成した。次に、前記レジスト膜を除去した。-9- Next, a black matrix having openings was formed on the cover glass. This was performed as follows. First, on the cover glass,
A Cr film having a thickness of 0.16 μm was formed by sputtering. Next, a resist film was formed on the Cr film. Next, using the alignment mark as an index, exposure was performed using an exposure machine so that each opening of the black matrix pattern coincided with the optical axis of each microlens, thereby forming a black matrix pattern on the resist film. Next, wet etching was performed using a cerium ammonium nitrate aqueous solution as a stripping solution to form an opening of a black matrix in the Cr film. Next, the resist film was removed.
【０１６４】このとき、アライメントマークを位置決め
の指標とすることにより、ブラックマトリックスパター
ンの位置決めを容易かつ正確に行うことができた。At this time, the positioning of the black matrix pattern could be performed easily and accurately by using the alignment marks as positioning indices.
【０１６５】−１０− 次に、カバーガラス上に、ブラ
ックマトリックスを覆うように、スパッタリングによ
り、厚さ０．１５μm のＩＴＯ膜（透明導電膜）を形成
した。-10- Next, an ITO film (transparent conductive film) having a thickness of 0.15 μm was formed on the cover glass by sputtering so as to cover the black matrix.
【０１６６】これにより、液晶パネル用対向基板を複数
個含むウエハーを得た。Thus, a wafer including a plurality of opposing substrates for a liquid crystal panel was obtained.
【０１６７】−１１− 最後に、ダイシング装置を用い
てこのウエハーをカットし、液晶パネル用対向基板を得
た。なお、マイクロレンズ用凹部付き基板が個別基板と
して得られる場合には、液晶パネル用対向基板も個別基
板として得られるので、ウエハーをカットして切り分け
る必要はない。11- Finally, the wafer was cut using a dicing apparatus to obtain a counter substrate for a liquid crystal panel. When the substrate with concave portions for microlenses is obtained as an individual substrate, the opposing substrate for a liquid crystal panel can also be obtained as an individual substrate, so there is no need to cut and separate the wafer.
【０１６８】（実施例２）上記−３−におけるAu／Cr薄
膜を窒化シリコン膜とし、上記−５−におけるＣＦガス
によるドライエッチングをフッ酸、硝酸、水の混合液に
よるウエットエッチングとし、上記−６−における剥離
液をリン酸水溶液とした以外は、実施例１と同様にして
液晶パネル用対向基板を得た。(Example 2) The Au / Cr thin film in -3- above was used as a silicon nitride film, and the dry etching with CF gas in -5 was wet etching with a mixed solution of hydrofluoric acid, nitric acid and water. A counter substrate for a liquid crystal panel was obtained in the same manner as in Example 1, except that the phosphoric acid solution was used as the stripping solution in 6-.
【０１６９】なお、窒化シリコン膜は、低圧ＣＶＤ法に
より成膜した。Note that the silicon nitride film was formed by a low pressure CVD method.
【０１７０】（評価）前記実施例１および２で得られた
液晶パネル用対向基板に、それぞれ、マイクロレンズ用
凹部付き基板側から光を入射させて光を透過させたとこ
ろ、本来はブラックマトリックスのCr膜でけられていた
光が効果的にブラックマトリックスの開口部に導かれ、
明るい出射光を得ることができた。この光の透過率は、
実施例１の液晶パネル用対向基板は８５％、実施例２の
液晶パネル用対向基板は８７％であった。これにより、
これらの液晶パネル用対向基板は、ブラックマトリック
スの開口部とマイクロレンズとが正確に位置合わせされ
ているため、安定的に光利用効率の向上が図られている
ことが確認された。(Evaluation) When light was allowed to enter the liquid crystal panel facing substrates obtained in the above Examples 1 and 2 from the substrate side with the concave portions for microlenses, and the light was transmitted. Light that has been shined by the Cr film is effectively guided to the openings of the black matrix,
Bright emitted light could be obtained. The transmittance of this light is
The opposing substrate for a liquid crystal panel in Example 1 was 85%, and the opposing substrate for a liquid crystal panel in Example 2 was 87%. This allows
In these counter substrates for liquid crystal panels, it was confirmed that the light use efficiency was stably improved because the openings of the black matrix and the microlenses were accurately aligned.
【０１７１】（実施例３）さらに、前記実施例１および
２で得られた液晶パネル用対向基板を用い、図６に示す
構造のＴＦＴ液晶パネルをそれぞれ組み立てた。このＴ
ＦＴ液晶パネルに用いたＴＦＴ基板には、ガラス基板と
して石英ガラスが用いられていた。Example 3 Further, using the opposite substrates for liquid crystal panels obtained in Examples 1 and 2, TFT liquid crystal panels having the structure shown in FIG. 6 were assembled. This T
For the TFT substrate used for the FT liquid crystal panel, quartz glass was used as a glass substrate.
【０１７２】組み立てたＴＦＴ液晶パネルは、両者と
も、前記液晶パネル用対向基板と同様に高い光の透過率
を有していた。また、各画素の輪郭もはっきりしてい
た。Each of the assembled TFT liquid crystal panels had a high light transmittance similarly to the liquid crystal panel counter substrate. The outline of each pixel was also clear.
【０１７３】したがって、かかる液晶パネルを用いた投
射型表示装置は、スクリーン上に明るく鮮明な画像を投
射できることが容易に推察される。Therefore, it is easily presumed that a projection type display device using such a liquid crystal panel can project a bright and clear image on a screen.
【０１７４】[0174]
【発明の効果】以上述べたように、本発明によれば、高
い光の透過率を有する液晶パネル用対向基板を容易に製
造することができる。As described above, according to the present invention, a counter substrate for a liquid crystal panel having a high light transmittance can be easily manufactured.
【０１７５】また、本発明によれば、液晶パネル用対向
基板が有するマイクロレンズに対するブラックマトリッ
クスの位置決めが正確かつ容易となる。したがって、本
発明によれば、高い歩留りで液晶パネル用対向基板およ
び液晶パネルを製造することができる。Further, according to the present invention, the positioning of the black matrix with respect to the microlenses of the opposing substrate for a liquid crystal panel can be performed accurately and easily. Therefore, according to the present invention, a counter substrate for a liquid crystal panel and a liquid crystal panel can be manufactured with a high yield.
【０１７６】さらに、本発明によれば、明るく鮮明な画
像を投射可能な投射型表示装置を提供することができ
る。Further, according to the present invention, it is possible to provide a projection display device capable of projecting a bright and clear image.
【図１】マイクロレンズ用凹部付き基板の製造方法を示
す模式的な縦断面図である。FIG. 1 is a schematic longitudinal sectional view showing a method for manufacturing a substrate with concave portions for microlenses.
【図２】マイクロレンズ用凹部付き基板の製造方法を示
す模式的な縦断面図である。FIG. 2 is a schematic longitudinal sectional view illustrating a method for manufacturing a substrate with concave portions for microlenses.
【図３】本発明の液晶パネル用対向基板の製造方法を示
す模式的な縦断面図である。FIG. 3 is a schematic longitudinal sectional view illustrating a method for manufacturing a counter substrate for a liquid crystal panel of the present invention.
【図４】本発明の液晶パネル用対向基板を示す模式的な
縦断面図である。FIG. 4 is a schematic longitudinal sectional view showing a counter substrate for a liquid crystal panel of the present invention.
【図５】マイクロレンズ用凹部付き基板を示す模式的な
平面図である。FIG. 5 is a schematic plan view showing a substrate with concave portions for microlenses.
【図６】本発明の液晶パネルを示す模式的な縦断面図で
ある。FIG. 6 is a schematic longitudinal sectional view showing a liquid crystal panel of the present invention.
【図７】本発明の投射型表示装置の光学系を模式的に示
す図である。FIG. 7 is a diagram schematically showing an optical system of the projection display device of the present invention.
１ 液晶パネル用対向基板 ２ マイクロレンズ用凹部付き基板 ３ 凹部 ４ アライメントマーク ４１ 角部 ５ ガラス基板 ６ マスク層 ６１ 第１開口 ６２ 第２開口 ６９ 裏面保護層 ７ 保護層 ８ マイクロレンズ １１ ブラックマトリックス １１１ 開口 １２ 透明導電膜 １３ カバーガラス １４ 樹脂層 １６ 液晶パネル １７ ＴＦＴ基板 １７１ ガラス基板 １７２ 個別電極 １７３ 薄膜トランジスタ １８ 液晶層 ２０ 光学ブロック ２１ ダイクロイックプリズム ２１１、２１２ ダイクロイックミラー面 ２１３〜２１５ 面 ２１６ 出射面 ２２ 投射レンズ ２３ 表示ユニット ２４〜２６ 液晶ライトバルブ ３００ 投射型表示装置 ３０１ 光源 ３０２、３０３ インテグレータレンズ ３０４、３０６、３０９ ミラー ３０５、３０７、３０８ ダイクロイックミラー ３１０〜３１４ 集光レンズ ３２０ スクリーン REFERENCE SIGNS LIST 1 counter substrate for liquid crystal panel 2 substrate with concave portion for micro lens 3 concave portion 4 alignment mark 41 corner portion 5 glass substrate 6 mask layer 61 first opening 62 second opening 69 back surface protective layer 7 protective layer 8 micro lens 11 black matrix 111 opening Reference Signs List 12 transparent conductive film 13 cover glass 14 resin layer 16 liquid crystal panel 17 TFT substrate 171 glass substrate 172 individual electrode 173 thin film transistor 18 liquid crystal layer 20 optical block 21 dichroic prism 211, 212 dichroic mirror surface 213 to 215 surface 216 emission surface 22 projection lens 23 Display unit 24-26 Liquid crystal light valve 300 Projection display device 301 Light source 302, 303 Integrator lens 304, 306, 309 Mirror 305, 307, 308 Dichro Kkumira 310-314 condenser lens 320 Screen
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｇ０２Ｆ 1/1335 Ｇ０２Ｆ 1/1335 (72)発明者 山下 秀人 長野県諏訪市大和３丁目３番５号 セイコ ーエプソン株式会社内 Ｆターム(参考） 2H090 JA03 JA04 JB04 JC03 JC12 JC14 JD01 JD18 LA01 LA04 LA12 LA15 2H091 FA29Y FA35Y FB02 FB07 FB08 FC18 FC26 FD04 FD05 FD06 FD12 FD14 GA01 GA13 LA18 MA07 4F213 AA44 AD04 AE03 AH33 AH74 AJ06 WA02 WB01 WB11 WC01 4G062 AA18 BB02 CC07 MM12 NN01──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) G02F 1/1335 G02F 1/1335 (72) Inventor Hideto Yamashita 3-5-5 Yamato, Suwa City, Nagano Prefecture F term in Seiko Epson Corporation (reference) 2H090 JA03 JA04 JB04 JC03 JC12 JC14 JD01 JD18 LA01 LA04 LA12 LA15 2H091 FA29Y FA35Y FB02 FB07 FB08 FC18 FC26 FD04 FD05 FD06 FD12 FD14 GA01 A03 A03 A04 A03 A03 A03 A04 WC01 4G062 AA18 BB02 CC07 MM12 NN01
Claims (13)
凹部が形成されたマイクロレンズ用凹部付き基板を用意
し、 該マイクロレンズ用凹部付き基板に、樹脂層を介してカ
バーガラスを積層し、 次いで、該カバーガラス上に、ブラックマトリックス
を、前記マイクロレンズ用凹部の位置に対応するように
形成することを特徴とする液晶パネル用対向基板の製造
方法。1. A substrate with concave portions for microlenses in which a large number of concave portions for microlenses are formed on a glass substrate, a cover glass is laminated on the substrate with concave portions for microlenses via a resin layer, And forming a black matrix on the cover glass so as to correspond to the position of the concave portion for the microlens.
凹部が形成されたマイクロレンズ用凹部付き基板を用意
し、 該マイクロレンズ用凹部付き基板に、樹脂層を介してカ
バーガラスを積層するとともに該樹脂層にマイクロレン
ズを形成し、 次いで、前記カバーガラス上に、多数の開口を有するブ
ラックマトリックスを、前記開口が前記マイクロレンズ
の光軸上に位置するように、形成することを特徴とする
液晶パネル用対向基板の製造方法。2. A substrate with concave portions for microlenses having a large number of concave portions for microlenses formed on a glass substrate is provided. A cover glass is laminated on the substrate with concave portions for microlenses via a resin layer, and A liquid crystal, comprising: forming a microlens on a resin layer; and forming a black matrix having a large number of openings on the cover glass such that the openings are located on the optical axis of the microlens. A method for manufacturing a counter substrate for a panel.
した後、前記ブラックマトリックスを形成する請求項１
または２に記載の液晶パネル用対向基板の製造方法。3. The black matrix is formed after adjusting the thickness of the laminated cover glass.
3. The method for manufacturing a counter substrate for a liquid crystal panel according to item 2.
カバーガラスを研削、研磨することにより行われる請求
項３に記載の液晶パネル用対向基板の製造方法。4. The method according to claim 3, wherein the adjustment of the thickness of the cover glass is performed by grinding and polishing the cover glass.
記カバーガラス上に、前記ブラックマトリックスを覆う
ように、透明導電膜を形成する請求項１ないし４のいず
れかに記載の液晶パネル用対向基板の製造方法。5. The method according to claim 1, wherein after forming the black matrix, a transparent conductive film is formed on the cover glass so as to cover the black matrix. Method.
ーガラス上に気相成膜法を行った後、エッチングを施す
ことにより形成されるものである請求項１ないし５のい
ずれかに記載の液晶パネル用対向基板の製造方法。6. The liquid crystal panel according to claim 1, wherein the black matrix is formed by performing a vapor deposition method on the cover glass and then performing etching. A method for manufacturing a counter substrate.
置決めの指標となるアライメントマークを有し、 前記ブラックマトリックスは、前記アライメントマーク
を指標として形成されるものである請求項１ないし６の
いずれかに記載の液晶パネル用対向基板の製造方法。7. The microlens recessed substrate has an alignment mark serving as an index for positioning, and the black matrix is formed using the alignment mark as an index. The method for manufacturing the opposing substrate for a liquid crystal panel according to the above.
ーガラスは、石英ガラスで構成されている請求項１ない
し７のいずれかに記載の液晶パネル用対向基板の製造方
法。8. The method for manufacturing a counter substrate for a liquid crystal panel according to claim 1, wherein said glass substrate and / or said cover glass is made of quartz glass.
らなる請求項１ないし８のいずれかに記載の液晶パネル
用対向基板の製造方法。9. The method according to claim 1, wherein the black matrix is made of a metal film.
液晶パネル用対向基板の製造方法により製造された液晶
パネル用対向基板を備えたことを特徴とする液晶パネ
ル。10. A liquid crystal panel comprising a liquid crystal panel counter substrate manufactured by the method for manufacturing a liquid crystal panel counter substrate according to claim 1. Description:
液晶駆動基板に接合され、請求項１ないし９のいずれか
に記載の液晶パネル用対向基板の製造方法により製造さ
れた液晶パネル用対向基板と、前記液晶駆動基板と液晶
パネル用対向基板との空隙に封入された液晶とを有する
ことを特徴とする液晶パネル。11. A liquid crystal driving substrate provided with individual electrodes, and a liquid crystal panel facing substrate bonded to the liquid crystal driving substrate and manufactured by the method for manufacturing a liquid crystal panel facing substrate according to any one of claims 1 to 9. A liquid crystal panel comprising: a substrate; and liquid crystal sealed in a gap between the liquid crystal driving substrate and a counter substrate for a liquid crystal panel.
請求項１１に記載の液晶パネル。12. The liquid crystal panel according to claim 11, wherein the liquid crystal driving substrate is a TFT substrate.
載の液晶パネルを備えたことを特徴とする投射型表示装
置。13. A projection type display device comprising the liquid crystal panel according to claim 10.
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