JP2000280620A - Optical recording medium - Google Patents
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Landscapes
- Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、光記録媒体に関す
るものであり、特に青色レーザー光により記録・再生可
能である化合物含有の追記型光記録媒体に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an optical recording medium, and more particularly to a recordable optical recording medium containing a compound which can be recorded and reproduced by a blue laser beam.
【0002】[0002]
【従来の技術】基板上に反射層を有する光記録媒体とし
てコンパクトディスク(以下、CDと略す)規格に対応
した追記可能なCD−R(CD-Recordable)が広く普及
している。CD−Rの記録容量は0.65GB程度であ
るが、情報量の飛躍的増加に伴い、情報記録媒体に対す
る高密度化および大容量化への要求は高まっている。2. Description of the Related Art As an optical recording medium having a reflective layer on a substrate, a recordable CD-R (CD-Recordable) complying with the compact disk (hereinafter abbreviated as CD) standard has been widely used. The recording capacity of a CD-R is about 0.65 GB, but with the dramatic increase in the amount of information, the demand for higher density and larger capacity of information recording media is increasing.
【0003】記録および再生用レーザーの短波長化によ
りビームスポットを小さくすることができ、高密度な光
記録が可能になる。最近では、光ディスクシステムに利
用される短波長半導体レーザーの開発が進み、波長68
0nm、650nmおよび635nmの赤色半導体レー
ザーが実用化されている〔例えば、日経エレクトロニク
ス、No.592、p.65、1993年10月11日
号〕。これらの半導体レーザーを用い、2時間以上の動
画をデジタル記録したDVDが実用化されている。DV
Dは再生専用媒体であるため、この容量に対応する追記
型光記録媒体(DVD−R)の開発も進んでいる。[0003] By shortening the wavelength of a recording and reproducing laser, a beam spot can be reduced, and high-density optical recording can be performed. Recently, the development of short wavelength semiconductor lasers used in optical disk systems has been advanced,
Red semiconductor lasers of 0 nm, 650 nm and 635 nm have been put into practical use [for example, Nikkei Electronics, No. 592, p. 65, October 11, 1993]. A DVD in which a moving image of two hours or more is digitally recorded using these semiconductor lasers has been put to practical use. DV
Since D is a read-only medium, a write-once optical recording medium (DVD-R) corresponding to this capacity is also being developed.
【0004】さらに、超高密度の記録が可能となる波長
400nm〜500nmの青色半導体レーザーの開発も
急速に進んでおり〔例えば、日経エレクトロニクス、N
o.708、p.117、1998年1月26日号、日
経エレクトロニクス、No.736、p.33、199
9年2月8日号〕、それに対応した追記型光記録媒体の
開発も行われている。[0004] Further, development of blue semiconductor lasers having a wavelength of 400 nm to 500 nm capable of recording at a very high density has been rapidly progressing [for example, Nikkei Electronics, N.
o. 708, p. 117, January 26, 1998 issue, Nikkei Electronics, No. 736, p. 33,199
February 8, 2009], and a write-once optical recording medium corresponding thereto has been developed.
【0005】追記型光記録媒体の記録層にレーザー光を
照射し、記録層に物理変化や化学変化を生じさせること
でピットを形成させるとき、化合物の光学定数、分解挙
動が良好なピットを形成させるための重要な要素とな
る。分解しづらいものは感度が低下し、分解が激しいか
または変化しやすいものはピット間および半径方向への
影響が大きくなり、信頼性のあるピット形成が困難にな
る。従来のCD−R媒体は、超高密度記録で用いられる
青色半導体レーザー波長では、記録層の屈折率も低く、
消衰係数も適度な値ではないため、反射率の低下、エラ
ーレートの増大、ジッターの増大により、良好な記録・
再生ができない。従って、記録層に用いる化合物には青
色半導体レーザーに対する光学的性質、分解挙動の適切
な化合物を選択する必要がある。しかし、実際に提案さ
れている有機色素化合物の例は、特開平4−74690
号公報記載のシアニン色素化合物や、特開平7−304
256号公報あるいは特開平7−304257号公報に
記載のポルフィリン色素化合物など、ごく限られた例し
かない。When pits are formed by irradiating a laser beam to a recording layer of a write-once optical recording medium to cause a physical change or a chemical change in the recording layer, a pit having good optical constants and decomposition behavior of the compound is formed. It is an important factor to make it happen. Those that are difficult to decompose have reduced sensitivity, while those that are severely decomposed or are subject to change have a greater effect between pits and in the radial direction, making reliable pit formation difficult. Conventional CD-R media have a low refractive index of the recording layer at the wavelength of the blue semiconductor laser used in ultra-high density recording,
Since the extinction coefficient is not an appropriate value, good recording and recording can be achieved by lowering the reflectance, increasing the error rate, and increasing the jitter.
Cannot play. Therefore, it is necessary to select an appropriate compound having an optical property and a decomposition behavior for a blue semiconductor laser as the compound used for the recording layer. However, examples of organic dye compounds actually proposed are described in JP-A-4-74690.
Patent Application Publication No. JP-A-7-304
There are only very limited examples such as the porphyrin dye compounds described in JP-A-256 or JP-A-7-304257.
【0006】[0006]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、シアニ
ン色素は一般に耐光性が低いために、媒体を長期保存し
た時に、時として再生が不可能となる場合がある。ま
た、上記公報記載のポルフィリン化合物は、特開平7−
304256号公報あるいは特開平7−304257号
公報の実施例に記載されるように、単独で光記録媒体の
記録層に使用した場合にはレーザー光による書き込みが
不可能であることなど、記録層に用いる化合物としては
充分に満足いく性能を有するとは言い得ない。さらに、
該公報等における光記録媒体では、有機色素に配位する
置換基を有する単分子あるいは高分子化合物を混合して
使用することが必須であり、また、特開平7−3042
57号公報の実施例欄に記載のサンプルディスクのよう
に記録層が白濁する場合があるため、組成比を設定する
必要があるなど、媒体の製造が煩雑であり、生産性の向
上に未だ余地が残されていた。こうしたことから、超高
密度の記録と長期保存安定性に優れた媒体を作成するの
に適した光記録媒体用色素の開発が急務となっている。However, since cyanine dyes generally have low light fastness, regeneration may sometimes be impossible when the medium is stored for a long period of time. The porphyrin compound described in the above publication is disclosed in
As described in the examples of JP-A-304256 or JP-A-7-304257, when the recording layer of the optical recording medium is used alone, it is impossible to write with a laser beam. It cannot be said that the compound used has sufficiently satisfactory performance. further,
In the optical recording media disclosed in the publications, it is essential to use a mixture of a single molecule or a high molecular compound having a substituent coordinating with an organic dye.
Since the recording layer may become cloudy like the sample disk described in the Example section of JP-A-57-57, the production of the medium is complicated, for example, the composition ratio needs to be set, and there is still room for improvement in productivity. Was left. For these reasons, there is an urgent need to develop a dye for an optical recording medium suitable for producing a medium having an ultra-high density recording and excellent long-term storage stability.
【0007】本発明の目的は、波長400nm〜500
nmの範囲から選択されるレーザー光で良好な記録およ
び再生が可能な超高密度記録に適した化合物を記録層に
有する光記録媒体を提供することにある。[0007] The object of the present invention is to provide a wavelength of 400 nm to 500 nm.
An object of the present invention is to provide an optical recording medium having, in a recording layer, a compound suitable for ultra-high-density recording capable of excellent recording and reproduction with a laser beam selected from the range of nm.
【0008】[0008]
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
を解決すべく鋭意検討を重ねた結果、本発明を完成する
に至った。すなわち、本発明は、基板上に少なくとも記
録層および反射層を有する光記録媒体において、記録層
中、互変可能な構造の一つとして一般式(1)Means for Solving the Problems The present inventors have made intensive studies to solve the above problems, and as a result, completed the present invention. That is, the present invention relates to an optical recording medium having at least a recording layer and a reflective layer on a substrate, wherein the recording layer has the general formula (1)
【0009】[0009]
【化2】 Embedded image
【0010】〔式中、R1、R2、R3、R4、R5、R6、
R7、R8はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、
シアノ基、置換または無置換のアルキル基、アラルキル
基、アリール基、アルコキシ基、アラルキルオキシ基、
アリールオキシ基、アルケニル基、アルケニルオキシ
基、アルキルチオ基、アラルキルチオ基、アリールチオ
基、アルケニルチオ基、アルキルアミノ基、アラルキル
アミノ基、アリールアミノ基、アルケニルアミノ基、ア
シル基、アルコキシカルボニル基、アラルキルオキシカ
ルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アルケニル
オキシカルボニル基、アルキルアミノカルボニル基、ア
ラルキルアミノカルボニル基、アリールアミノカルボニ
ル基、アルケニルアミノカルボニル基、複素環基、アル
キルスルホニル基、アリールスルホニル基を表す。〕で
示される化合物を含有する光記録媒体であり、特には、
波長400nm〜500nmの範囲から選択されるレー
ザー光に対して記録および再生が可能である新規な光記
録媒体に関するものである。Wherein R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 ,
R 7 and R 8 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom,
Cyano group, substituted or unsubstituted alkyl group, aralkyl group, aryl group, alkoxy group, aralkyloxy group,
Aryloxy, alkenyl, alkenyloxy, alkylthio, aralkylthio, arylthio, alkenylthio, alkylamino, aralkylamino, arylamino, alkenylamino, acyl, alkoxycarbonyl, aralkyloxy Represents a carbonyl group, an aryloxycarbonyl group, an alkenyloxycarbonyl group, an alkylaminocarbonyl group, an aralkylaminocarbonyl group, an arylaminocarbonyl group, an alkenylaminocarbonyl group, a heterocyclic group, an alkylsulfonyl group, or an arylsulfonyl group. An optical recording medium containing a compound represented by the following,
The present invention relates to a novel optical recording medium capable of recording and reproducing with respect to a laser beam selected from a wavelength range of 400 nm to 500 nm.
【0011】[0011]
【発明の実施の形態】本発明の具体的構成について以下
に説明する。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The concrete constitution of the present invention will be described below.
【0012】この光記録媒体は基板1、記録層2、反射
層3および保護層4が順次積層している4層構造を有し
ている。これを図1に示すように単板で用いてもよく、
図2に示すようにDVDのように接着層5で貼り合わせ
ても良い。This optical recording medium has a four-layer structure in which a substrate 1, a recording layer 2, a reflective layer 3, and a protective layer 4 are sequentially laminated. This may be used as a single plate as shown in FIG.
As shown in FIG. 2, the bonding may be performed with an adhesive layer 5 like a DVD.
【0013】基板の材質としては、基本的には記録光お
よび再生光の波長で透明であればよい。例えば、ポリカ
ーボネート樹脂、塩化ビニル樹脂、ポリメタクリル酸メ
チル等のアクリル樹脂、ポリスチレン樹脂、エポキシ樹
脂等の高分子材料やガラス等の無機材料が利用される。
これらの基板材料は射出成形法等により円盤状に基板に
成形される。必要に応じて、基板表面に案内溝やピット
を形成することもある。このような案内溝やピットは、
基板の成形時に付与することが望ましいが、基板の上に
紫外線硬化樹脂層を用いて付与することもできる。The material of the substrate is basically required to be transparent at the wavelength of the recording light and the reproducing light. For example, polymer materials such as acrylic resins such as polycarbonate resin, vinyl chloride resin and polymethyl methacrylate, polystyrene resins and epoxy resins, and inorganic materials such as glass are used.
These substrate materials are formed into a disk shape by injection molding or the like. If necessary, guide grooves or pits may be formed on the substrate surface. Such guide grooves and pits
It is desirable to apply it at the time of molding the substrate, but it can also be applied using an ultraviolet curable resin layer on the substrate.
【0014】本発明においては、基板上に記録層を設け
るが、本発明の記録層は、一般式(1)で示される化合
物を含有するものである。In the present invention, a recording layer is provided on a substrate. The recording layer of the present invention contains a compound represented by the general formula (1).
【0015】本発明の記録層に含有される一般式(1)
で示される化合物について、以下に具体例を詳細に述べ
る。The general formula (1) contained in the recording layer of the present invention
Specific examples of the compound represented by are described below in detail.
【0016】式(1)中、R1、R2、R3、R4、R5、
R6、R7、R8で示される基としては、ポリカーボネー
ト、アクリル、エポキシ、ポリオレフィン基板などへの
塗布による加工性の良好な基を選択して用いることがで
きる。In the formula (1), R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 ,
As the group represented by R 6 , R 7 , and R 8 , a group having good workability by application to a polycarbonate, acrylic, epoxy, polyolefin substrate, or the like can be selected and used.
【0017】式(1)中、R1、R2、R3、R4、R5、
R6、R7、R8で示される基として、水素原子、フッ素
原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などのハロゲン
原子またはシアノ基が挙げられる。In the formula (1), R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 ,
Examples of the groups represented by R 6 , R 7 , and R 8 include a halogen atom such as a hydrogen atom, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom, or a cyano group.
【0018】式(1)中、R1、R2、R3、R4、R5、
R6、R7、R8で示される置換または無置換のアルキル
基としては、直鎖または分岐または環状の無置換アルキ
ル基、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、シアノ基、アルコ
キシ基、アシル基、アシルオキシ基、アルコキシカルボ
ニル基、アリールオキシカルボニル基、アラルキルオキ
シカルボニル基、アルケニルオキシカルボニル基、アル
コキシカルボニルオキシ基、モノアルキルアミノ基、ジ
アルキルアミノ基、アシルアミノ基、アルキルスルホン
アミノ基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル
基、複素環基等の置換基群より選択した置換基で置換し
たアルキル基などが挙げられる。In the formula (1), R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 ,
Examples of the substituted or unsubstituted alkyl group represented by R 6 , R 7 , and R 8 include a linear, branched, or cyclic unsubstituted alkyl group, a halogen atom, a hydroxy group, a cyano group, an alkoxy group, an acyl group, and an acyloxy group. An alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, an aralkyloxycarbonyl group, an alkenyloxycarbonyl group, an alkoxycarbonyloxy group, a monoalkylamino group, a dialkylamino group, an acylamino group, an alkylsulfonamino group, an alkylsulfonyl group, an arylsulfonyl group, Examples include an alkyl group substituted with a substituent selected from a substituent group such as a heterocyclic group.
【0019】置換または無置換の直鎖または分岐または
環状のアルキル基としては、メチル基、エチル基、n−
プロピル基、iso−プロピル基、n−ブチル基、is
o−ブチル基、sec−ブチル基、t−ブチル基、n−
ペンチル基、iso−ペンチル基、2−メチルブチル
基、1−メチルブチル基、ネオペンチル基、1,2−ジ
メチルプロピル基、1,1−ジメチルプロピル基、シク
ロペンチル基、n−ヘキシル基、4−メチルペンチル
基、3−メチルペンチル基、2−メチルペンチル基、1
−メチルペンチル基、3,3−ジメチルブチル基、2,
3−ジメチルブチル基、1,3−ジメチルブチル基、
2,2−ジメチルブチル基、1,2−ジメチルブチル
基、1,1−ジメチルブチル基、3−エチルブチル基、
2−エチルブチル基、1−エチルブチル基、1,2,2
−トリメチルブチル基、1,1,2−トリメチルブチル
基、1,1,3,3−テトラメチルブチル基、1−エチ
ル−2−メチルプロピル基、シクロヘキシル基、n−ヘ
プチル基、2−メチルヘキシル基、3−メチルヘキシル
基、4−メチルヘキシル基、5−メチルヘキシル基、
2,4−ジメチルペンチル基、n−オクチル基、2−エ
チルヘキシル基、2,5−ジメチルヘキシル基、2,
5,5−トリメチルペンチル基、2,4−ジメチルヘキ
シル基、2,2,4−トリメチルペンチル基、3,5,
5−トリメチルヘキシル基、n−ノニル基、n−デシル
基、4−エチルオクチル基、4−エチル−4,5−メチ
ルヘキシル基、n−ウンデシル基、n−ドデシル基、
1,3,5,7−テトラエチルオクチル基、4−ブチル
オクチル基、6,6−ジエチルオクチル基、n−トリデ
シル基、6−メチル−4−ブチルオクチル基、n−テト
ラデシル基、n−ペンタデシル基、3,5−ジメチルヘ
プチル基、2,6−ジメチルヘプチル基、2,4−ジメ
チルヘプチル基、2,2,5,5−テトラメチルヘキシ
ル基、1−シクロペンチル−2,2−ジメチルプロピル
基、1−シクロヘキシル−2,2−ジメチルプロピル基
などの炭素数1〜15の無置換アルキル基;Examples of the substituted or unsubstituted linear, branched or cyclic alkyl group include a methyl group, an ethyl group and an n-
Propyl group, iso-propyl group, n-butyl group, is
o-butyl group, sec-butyl group, t-butyl group, n-
Pentyl group, iso-pentyl group, 2-methylbutyl group, 1-methylbutyl group, neopentyl group, 1,2-dimethylpropyl group, 1,1-dimethylpropyl group, cyclopentyl group, n-hexyl group, 4-methylpentyl group , 3-methylpentyl group, 2-methylpentyl group, 1
-Methylpentyl group, 3,3-dimethylbutyl group, 2,
3-dimethylbutyl group, 1,3-dimethylbutyl group,
2,2-dimethylbutyl group, 1,2-dimethylbutyl group, 1,1-dimethylbutyl group, 3-ethylbutyl group,
2-ethylbutyl group, 1-ethylbutyl group, 1,2,2
-Trimethylbutyl group, 1,1,2-trimethylbutyl group, 1,1,3,3-tetramethylbutyl group, 1-ethyl-2-methylpropyl group, cyclohexyl group, n-heptyl group, 2-methylhexyl Group, 3-methylhexyl group, 4-methylhexyl group, 5-methylhexyl group,
2,4-dimethylpentyl group, n-octyl group, 2-ethylhexyl group, 2,5-dimethylhexyl group, 2,
5,5-trimethylpentyl group, 2,4-dimethylhexyl group, 2,2,4-trimethylpentyl group, 3,5
5-trimethylhexyl group, n-nonyl group, n-decyl group, 4-ethyloctyl group, 4-ethyl-4,5-methylhexyl group, n-undecyl group, n-dodecyl group,
1,3,5,7-tetraethyloctyl group, 4-butyloctyl group, 6,6-diethyloctyl group, n-tridecyl group, 6-methyl-4-butyloctyl group, n-tetradecyl group, n-pentadecyl group 3,5-dimethylheptyl group, 2,6-dimethylheptyl group, 2,4-dimethylheptyl group, 2,2,5,5-tetramethylhexyl group, 1-cyclopentyl-2,2-dimethylpropyl group, An unsubstituted alkyl group having 1 to 15 carbon atoms such as a 1-cyclohexyl-2,2-dimethylpropyl group;
【0020】クロロメチル基、クロロエチル基、ブロモ
エチル基、ヨードエチル基、ジクロロメチル基、フルオ
ロメチル基、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエ
チル基、2,2,2−トリフルオロエチル基、2,2,
2−トリクロロエチル基、1,1,1,3,3,3−ヘ
キサフルオロ−2−プロピル基、ノナフルオロブチル
基、パーフルオロデシル基等のハロゲン原子で置換した
炭素数1〜10のアルキル基;ヒドロキシメチル基、2
−ヒドロキシエチル基、4−ヒドロキシブチル基、2−
ヒドロキシ−3−メトキシプロピル基、2−ヒドロキシ
−3−クロロプロピル基、2−ヒドロキシ−3−エトキ
シプロピル基、3−ブトキシ−2−ヒドロキシプロピル
基、2−ヒドロキシ−3−シクロヘキシルオキシプロピ
ル基、2−ヒドロキシプロピル基、2−ヒドロキシブチ
ル基、4−ヒドロキシデカリル−2−オキシ基などのヒ
ドロキシ基で置換した炭素数1〜10のアルキル基;ヒ
ドロキシメトキシメチル基、ヒドロキシエトキシエチル
基、2−(2’−ヒドロキシ−1’−メチルエトキシ)
−1−メチルエチル基、2−(3’−フルオロ−2’−
ヒドロキシプロポキシ)エチル基、2−(3’−クロロ
−2’−ヒドロキシプロポキシ)エチル基、ヒドロキシ
ブトキシシクロヘキシル基などのヒドロキシアルコキシ
基で置換した炭素数2〜10のアルキル基;ヒドロキシ
メトキシメトキシメチル基、ヒドロキシエトキシエトキ
シエチル基、[2’−(2’−ヒドロキ−1’−メチル
エトキシ)−1’−メチルエトキシ]エトキシエチル
基、[2’−(2’−フルオロ−1’−ヒドロキシエト
キシ)−1’−メチルエトキシ]エトキシエチル基、
[2’−(2’−クロロ−1’−ヒドロキシエトキシ)
−1’−メチルエトキシ]エトキシエチル基などのヒド
ロキシアルコキシアルコキシ基で置換した炭素数3〜1
0のアルキル基;Chloromethyl group, chloroethyl group, bromoethyl group, iodoethyl group, dichloromethyl group, fluoromethyl group, trifluoromethyl group, pentafluoroethyl group, 2,2,2-trifluoroethyl group, 2,2,2
C1-C10 alkyl groups substituted by halogen atoms such as 2-trichloroethyl group, 1,1,1,3,3,3-hexafluoro-2-propyl group, nonafluorobutyl group and perfluorodecyl group A hydroxymethyl group, 2
-Hydroxyethyl group, 4-hydroxybutyl group, 2-
Hydroxy-3-methoxypropyl group, 2-hydroxy-3-chloropropyl group, 2-hydroxy-3-ethoxypropyl group, 3-butoxy-2-hydroxypropyl group, 2-hydroxy-3-cyclohexyloxypropyl group, 2 An alkyl group having 1 to 10 carbon atoms substituted with a hydroxy group such as -hydroxypropyl group, 2-hydroxybutyl group, 4-hydroxydecalyl-2-oxy group; hydroxymethoxymethyl group, hydroxyethoxyethyl group, 2- ( 2'-hydroxy-1'-methylethoxy)
-1-methylethyl group, 2- (3′-fluoro-2′-
An alkyl group having 2 to 10 carbon atoms substituted by a hydroxyalkoxy group such as a hydroxypropoxy) ethyl group, a 2- (3′-chloro-2′-hydroxypropoxy) ethyl group, a hydroxybutoxycyclohexyl group; a hydroxymethoxymethoxymethyl group; Hydroxyethoxyethoxyethyl group, [2 '-(2'-hydroxy-1'-methylethoxy) -1'-methylethoxy] ethoxyethyl group, [2'-(2'-fluoro-1'-hydroxyethoxy)- 1′-methylethoxy] ethoxyethyl group,
[2 ′-(2′-chloro-1′-hydroxyethoxy)
-1'-Methylethoxy] ethoxyethyl group and the like having 3 to 1 carbon atoms substituted with a hydroxyalkoxyalkoxy group.
An alkyl group of 0;
【0021】シアノメチル基、2−シアノエチル基、4
−シアノブチル基、2−シアノ−3−メトキシプロピル
基、2−シアノ−3−クロロプロピル基、2−シアノ−
3−エトキシプロピル基、3−ブトキシ−2−シアノプ
ロピル基、2−シアノ−3−シクロヘキシルプロピル
基、2−シアノプロピル基、2−シアノブチル基などの
シアノ基で置換した炭素数2〜10のアルキル基;Cyanomethyl group, 2-cyanoethyl group, 4
-Cyanobutyl group, 2-cyano-3-methoxypropyl group, 2-cyano-3-chloropropyl group, 2-cyano-
Alkyl having 2 to 10 carbon atoms substituted with a cyano group such as a 3-ethoxypropyl group, a 3-butoxy-2-cyanopropyl group, a 2-cyano-3-cyclohexylpropyl group, a 2-cyanopropyl group, or a 2-cyanobutyl group. Group;
【0022】メトキシメチル基、エトキシメチル基、プ
ロポキシメチル基、ブトキシメチル基、メトキシエチル
基、エトキシエチル基、プロポキシエチル基、ブトキシ
エチル基、n−ヘキシルオキシエチル基、(4−メチル
ペントキシ)エチル基、(1,3−ジメチルブトキシ)
エチル基、(2−エチルヘキシルオキシ)エチル基、n
−オクチルオキシエチル基、(3,5,5−トリメチル
ヘキシルオキシ)エチル基、(2−メチル−1−iso
−プロピルプロポキシ)エチル基、(3−メチル−1−
iso−プロピルブチルオキシ)エチル基、2−エトキ
シ−1−メチルエチル基、3−メトキシブチル基、
(3,3,3−トリフルオロプロポキシ)エチル基、
(3,3,3−トリクロロプロポキシ)エチル基などの
アルコキシ基で置換した炭素数2〜15のアルキル基;Methoxymethyl, ethoxymethyl, propoxymethyl, butoxymethyl, methoxyethyl, ethoxyethyl, propoxyethyl, butoxyethyl, n-hexyloxyethyl, (4-methylpentoxy) ethyl Group, (1,3-dimethylbutoxy)
Ethyl group, (2-ethylhexyloxy) ethyl group, n
-Octyloxyethyl group, (3,5,5-trimethylhexyloxy) ethyl group, (2-methyl-1-iso
-Propylpropoxy) ethyl group, (3-methyl-1-
iso-propylbutyloxy) ethyl group, 2-ethoxy-1-methylethyl group, 3-methoxybutyl group,
(3,3,3-trifluoropropoxy) ethyl group,
An alkyl group having 2 to 15 carbon atoms substituted with an alkoxy group such as (3,3,3-trichloropropoxy) ethyl group;
【0023】メトキシメトキシメチル基、メトキシエト
キシエチル基、エトキシエトキシエチル基、プロポキシ
エトキシエチル基、ブトキシエトキシエチル基、シクロ
ヘキシルオキシエトキシエチル基、デカリルオキシプロ
ポキシエトキシ基、(1,2−ジメチルプロポキシエト
キシ)エチル基、(3−メチル−1−iso−ブチルブ
トキシ)エトキシエチル基、(2−メトキシ−1−メチ
ルエトキシ)エチル基、(2−ブトキシ−1−メチルエ
トキシ)エチル基、2−(2’−エトキシ−1’−メチ
ルエトキシ)−1−メチルエチル基、(3,3,3−ト
リフルオロプロポキシ)エトキシエチル基、(3,3,
3−トリクロロプロポキシ)エトキシエチル基などのア
ルコキシアルコキシ基で置換した炭素数3〜15のアル
キル基;メトキシメトキシメトキシメチル基、メトキシ
エトキシエトキシエチル基、エトキシエトキシエトキシ
エチル基、ブトキシエトキシエトキシエチル基、シクロ
ヘキシルオキシ、プロポキシプロポキシプロポキシ基、
(2,2,2−トリフルオロエトキシ)エトキシエトキ
シエチル基、(2,2,2−トリクロロエトキシ)エト
キシエトキシエチル基などのアルコキシアルコキシアル
コキシ基で置換した炭素数4〜15のアルキル基;Methoxymethoxymethyl group, methoxyethoxyethyl group, ethoxyethoxyethyl group, propoxyethoxyethyl group, butoxyethoxyethyl group, cyclohexyloxyethoxyethyl group, decalyloxypropoxyethoxy group, (1,2-dimethylpropoxyethoxy) Ethyl group, (3-methyl-1-iso-butylbutoxy) ethoxyethyl group, (2-methoxy-1-methylethoxy) ethyl group, (2-butoxy-1-methylethoxy) ethyl group, 2- (2 ′ -Ethoxy-1′-methylethoxy) -1-methylethyl group, (3,3,3-trifluoropropoxy) ethoxyethyl group, (3,3
C3-C15 alkyl group substituted with alkoxyalkoxy group such as 3-trichloropropoxy) ethoxyethyl group; methoxymethoxymethoxymethyl group, methoxyethoxyethoxyethyl group, ethoxyethoxyethoxyethyl group, butoxyethoxyethoxyethyl group, cyclohexyl Oxy, propoxypropoxypropoxy group,
An alkyl group having 4 to 15 carbon atoms substituted with an alkoxyalkoxyalkoxy group such as a (2,2,2-trifluoroethoxy) ethoxyethoxyethyl group or a (2,2,2-trichloroethoxy) ethoxyethoxyethyl group;
【0024】ホルミルメチル基、2−オキソブチル基、
3−オキソブチル基、4−オキソブチル基、1,3−ジ
オキソ−2−シクロヘキシル基、2−オキソ−5−t−
ブチル−1−シクロヘキシル基等のアシル基で置換した
炭素数2〜10のアルキル基;ホルミルオキシメチル
基、アセトキシエチル基、プロピオニルオキシエチル
基、ブタノイルオキシエチル基、バレリルオキシエチル
基、(2−エチルヘキサノイルオキシ)エチル基、
(3,5,5−トリメチルヘキサノイルオキシ)エチル
基、(3,5,5−トリメチルヘキサノイルオキシ)ヘ
キシル基、(3−フルオロブチリルオキシ)エチル基、
(3−クロロブチリルオキシ)エチル基などのアシルオ
キシ基で置換した炭素数2〜15のアルキル基;A formylmethyl group, a 2-oxobutyl group,
3-oxobutyl group, 4-oxobutyl group, 1,3-dioxo-2-cyclohexyl group, 2-oxo-5-t-
An alkyl group having 2 to 10 carbon atoms substituted with an acyl group such as a butyl-1-cyclohexyl group; formyloxymethyl group, acetoxyethyl group, propionyloxyethyl group, butanoyloxyethyl group, valeryloxyethyl group, (2 -Ethylhexanoyloxy) ethyl group,
(3,5,5-trimethylhexanoyloxy) ethyl group, (3,5,5-trimethylhexanoyloxy) hexyl group, (3-fluorobutyryloxy) ethyl group,
An alkyl group having 2 to 15 carbon atoms substituted with an acyloxy group such as (3-chlorobutyryloxy) ethyl group;
【0025】ホルミルオキシメトキシメチル基、アセト
キシエトキシエチル基、プロピオニルオキシエトキシエ
チル基、バレリルオキシエトキシエチル基、(2−エチ
ルヘキサノイルオキシ)エトキシエチル基、(3,5,
5−トリメチルヘキサノイルオキシ)ブトキシエチル
基、(3,5,5−トリメチルヘキサノイルオキシ)エ
トキシエチル基、(2−フルオロプロピオニルオキシ)
エトキシエチル基、(2−クロロプロピオニルオキシ)
エトキシエチル基などのアシルオキシアルコキシ基で置
換した炭素数3〜15のアルキル基;アセトキシメトキ
シメトキシメチル基、アセトキシエトキシエトキシエチ
ル基、プロピオニルオキシエトキシエトキシエチル基、
バレリルオキシエトキシエトキシエチル基、(2−エチ
ルヘキサノイルオキシ)エトキシエトキシエチル基、
(3,5,5−トリメチルヘキサノイルオキシ)エトキ
シエトキシエチル基、(2−フルオロプロピオニルオキ
シ)エトキシエトキシエチル基、(2−クロロプロピオ
ニルオキシ)エトキシエトキシエチル基などのアシルオ
キシアルコキシアルコキシ基で置換した炭素数5〜15
のアルキル基;メトキシカルボニルメチル基、エトキシ
カルボニルメチル基、ブトキシカルボニルメチル基、メ
トキシカルボニルエチル基、エトキシカルボニルエチル
基、ブトキシカルボニルエチル基、p−エチルシクロヘ
キシルオキシカルボニルシクロヘキシル基、(2,2,
3,3−テトラフルオロプロポキシ)カルボニルメチル
基、(2,2,3,3−テトラクロロプロポキシ)カル
ボニルメチル基などのアルコキシカルボニル基で置換し
た炭素数3〜15のアルキル基;フェノキシカルボニル
メチル基、フェノキシカルボニルエチル基、(4−t−
ブチルフェノキシ)カルボニルエチル基、ナフチルオキ
シカルボニルメチル基、ビフェニルオキシカルボニルエ
チル基などのアリールオキシカルボニル基で置換した炭
素数8〜15のアルキル基;ベンジルオキシカルボニル
メチル基、ベンジルオキシカルボニルエチル基、フェネ
チルオキシカルボニルメチル基、(4−シクロヘキシル
オキシベンジルオキシ)カルボニルメチル基などのアラ
ルキルオキシカルボニル基で置換した炭素数9〜15の
アルキル基;Formyloxymethoxymethyl group, acetoxyethoxyethyl group, propionyloxyethoxyethyl group, valeryloxyethoxyethyl group, (2-ethylhexanoyloxy) ethoxyethyl group, (3,5
5-trimethylhexanoyloxy) butoxyethyl group, (3,5,5-trimethylhexanoyloxy) ethoxyethyl group, (2-fluoropropionyloxy)
Ethoxyethyl group, (2-chloropropionyloxy)
An alkyl group having 3 to 15 carbon atoms substituted with an acyloxyalkoxy group such as an ethoxyethyl group; an acetoxymethoxymethoxymethyl group, an acetoxyethoxyethoxyethyl group, a propionyloxyethoxyethoxyethyl group;
Valeryloxyethoxyethoxyethyl group, (2-ethylhexanoyloxy) ethoxyethoxyethyl group,
Carbon substituted with an acyloxyalkoxyalkoxy group such as a (3,5,5-trimethylhexanoyloxy) ethoxyethoxyethyl group, a (2-fluoropropionyloxy) ethoxyethoxyethyl group, or a (2-chloropropionyloxy) ethoxyethoxyethyl group Number 5-15
An alkyl group of methoxycarbonylmethyl group, ethoxycarbonylmethyl group, butoxycarbonylmethyl group, methoxycarbonylethyl group, ethoxycarbonylethyl group, butoxycarbonylethyl group, p-ethylcyclohexyloxycarbonylcyclohexyl group, (2,2,
A C3-C15 alkyl group substituted by an alkoxycarbonyl group such as a 3,3-tetrafluoropropoxy) carbonylmethyl group or a (2,2,3,3-tetrachloropropoxy) carbonylmethyl group; a phenoxycarbonylmethyl group; A phenoxycarbonylethyl group, (4-t-
Butylphenoxy) an alkyl group having 8 to 15 carbon atoms, which is substituted by an aryloxycarbonyl group such as carbonylethyl group, naphthyloxycarbonylmethyl group, biphenyloxycarbonylethyl group; benzyloxycarbonylmethyl group, benzyloxycarbonylethyl group, phenethyloxy An alkyl group having 9 to 15 carbon atoms substituted with an aralkyloxycarbonyl group such as a carbonylmethyl group or a (4-cyclohexyloxybenzyloxy) carbonylmethyl group;
【0026】ビニルオキシカルボニルメチル基、ビニル
オキシカルボニルエチル基、アリルオキシカルボニルメ
チル基、オクテノキシカルボニルメチル基などのアルケ
ニルオキシカルボニル基で置換した炭素数4〜10のア
ルキル基;メトキシカルボニルオキシメチル基、メトキ
シカルボニルオキシエチル基、エトキシカルボニルオキ
シエチル基、ブトキシカルボニルオキシエチル基、
(2,2,2−トリフルオロエトキシ)カルボニルオキ
シエチル基、(2,2,2−トリクロロエトキシ)カル
ボニルオキシエチル基などのアルコキシカルボニルオキ
シ基で置換した炭素数3〜15のアルキル基;メトキシ
メトキシカルボニルオキシメチル基、メトキシエトキシ
カルボニルオキシエチル基、エトキシエトキシカルボニ
ルオキシエチル基、ブトキシエトキシカルボニルオキシ
エチル基、(2,2,2−トリフルオロエトキシ)エト
キシカルボニルオキシエチル基、(2,2,2−トリク
ロロエトキシ)エトキシカルボニルオキシエチル基など
のアルコキシアルコキシカルボニルオキシ基で置換した
炭素数4〜15のアルキル基;メチルアミノメチル基、
エチルアミノメチル基、n−ブチルアミノメチル基、n
−ヘキシルアミノメチル基、n−オクチルアミノメチル
基、n−デシルアミノメチル基、イソアミルアミノメチ
ル基、メトキシメチルアミノメチル基、メトキシエチル
アミノメチル基、エトキシメチルアミノメチル基、エト
キシエチルアミノメチル基、プロポキシエチルアミノメ
チル基、ブトキシエチルアミノメチル基、(2−シクロ
ヘキシルオキシエチル)アミノメチル基、メチルアミノ
エチル基、エチルアミノエチル基、n−ブチルアミノエ
チル基、n−ヘキシルアミノエチル基、n−オクチルア
ミノエチル基、n−デシルアミノエチル基、イソアミル
アミノエチル基、メトキシメチルアミノエチル基、メト
キシエチルアミノエチル基、エトキシメチルアミノエチ
ル基、エトキシエチルアミノエチル基、プロポキシエチ
ルアミノエチル基、ブトキシエチルアミノエチル基、
(2−シクロヘキシルオキシエチル)アミノエチル基、
メチルアミノプロピル基、エチルアミノプロピル基、n
−ブチルアミノプロピル基、n−ヘキシルアミノプロピ
ル基、n−オクチルアミノプロピル基、n−デシルアミ
ノプロピル基、イソアミルアミノプロピル基、メトキシ
メチルアミノプロピル基、メトキシエチルアミノプロピ
ル基、エトキシメチルアミノプロピル基、エトキシエチ
ルアミノプロピル基、プロポキシエチルアミノプロピル
基、ブトキシエチルアミノプロピル基、(2−シクロヘ
キシルオキシエチル)アミノプロピル基、メチルアミノ
ブチル基、エチルアミノブチル基、n−ブチルアミノブ
チル基、n−ヘキシルアミノブチル基、n−オクチルア
ミノブチル基、n−デシルアミノブチル基、イソアミル
アミノブチル基、メトキシメチルアミノブチル基、メト
キシエチルアミノブチル基、エトキシメチルアミノブチ
ル基、エトキシエチルアミノブチル基、プロポキシエチ
ルアミノブチル基、ブトキシエチルアミノブチル基、
(2−シクロヘキシルオキシエチル)アミノブチル基等
のモノアルキルアミノ基が置換した炭素数2〜14のア
ルキル基;An alkyl group having 4 to 10 carbon atoms substituted by an alkenyloxycarbonyl group such as vinyloxycarbonylmethyl group, vinyloxycarbonylethyl group, allyloxycarbonylmethyl group, octenoxycarbonylmethyl group; methoxycarbonyloxymethyl group , Methoxycarbonyloxyethyl group, ethoxycarbonyloxyethyl group, butoxycarbonyloxyethyl group,
An alkyl group having 3 to 15 carbon atoms and substituted by an alkoxycarbonyloxy group such as a (2,2,2-trifluoroethoxy) carbonyloxyethyl group or a (2,2,2-trichloroethoxy) carbonyloxyethyl group; methoxymethoxy Carbonyloxymethyl group, methoxyethoxycarbonyloxyethyl group, ethoxyethoxycarbonyloxyethyl group, butoxyethoxycarbonyloxyethyl group, (2,2,2-trifluoroethoxy) ethoxycarbonyloxyethyl group, (2,2,2- An alkyl group having 4 to 15 carbon atoms substituted by an alkoxyalkoxycarbonyloxy group such as trichloroethoxy) ethoxycarbonyloxyethyl group; a methylaminomethyl group;
Ethylaminomethyl group, n-butylaminomethyl group, n
-Hexylaminomethyl group, n-octylaminomethyl group, n-decylaminomethyl group, isoamylaminomethyl group, methoxymethylaminomethyl group, methoxyethylaminomethyl group, ethoxymethylaminomethyl group, ethoxyethylaminomethyl group, propoxy Ethylaminomethyl group, butoxyethylaminomethyl group, (2-cyclohexyloxyethyl) aminomethyl group, methylaminoethyl group, ethylaminoethyl group, n-butylaminoethyl group, n-hexylaminoethyl group, n-octylamino Ethyl group, n-decylaminoethyl group, isoamylaminoethyl group, methoxymethylaminoethyl group, methoxyethylaminoethyl group, ethoxymethylaminoethyl group, ethoxyethylaminoethyl group, propoxyethylaminoethyl group Butoxyethyl aminoethyl group,
(2-cyclohexyloxyethyl) aminoethyl group,
Methylaminopropyl group, ethylaminopropyl group, n
-Butylaminopropyl group, n-hexylaminopropyl group, n-octylaminopropyl group, n-decylaminopropyl group, isoamylaminopropyl group, methoxymethylaminopropyl group, methoxyethylaminopropyl group, ethoxymethylaminopropyl group, Ethoxyethylaminopropyl group, propoxyethylaminopropyl group, butoxyethylaminopropyl group, (2-cyclohexyloxyethyl) aminopropyl group, methylaminobutyl group, ethylaminobutyl group, n-butylaminobutyl group, n-hexylamino Butyl, n-octylaminobutyl, n-decylaminobutyl, isoamylaminobutyl, methoxymethylaminobutyl, methoxyethylaminobutyl, ethoxymethylaminobutyl, ethoxy Ruaminobuchiru group, propoxyethyl aminobutyl group, butoxyethyl aminobutyl group,
An alkyl group having 2 to 14 carbon atoms, which is substituted by a monoalkylamino group such as (2-cyclohexyloxyethyl) aminobutyl group;
【0027】ジメチルアミノメチル基、ジエチルアミノ
メチル基、ジ−n−ブチルアミノメチル基、ジ−n−ヘ
キシルアミノメチル基、ジ−n−オクチルアミノメチル
基、ジ−n−デシルアミノメチル基、N−イソアミル−
N−メチルアミノメチル基、ピペリジノメチル基、ジ
(メトキシメチル)アミノメチル基、ジ(メトキシエチ
ル)アミノメチル基、ジ(エトキシメチル)アミノメチ
ル基、ジ(エトキシエチル)アミノメチル基、ジ(プロ
ポキシエチル)アミノメチル基、ジ(ブトキシエチル)
アミノメチル基、ビス(2−シクロヘキシルオキシエチ
ル)アミノメチル基、ジメチルアミノエチル基、ジエチ
ルアミノエチル基、ジ−n−ブチルアミノエチル基、ジ
−n−ヘキシルアミノエチル基、ジ−n−オクチルアミ
ノエチル基、ジ−n−デシルアミノエチル基、N−イソ
アミル−N−メチルアミノエチル基、ピペリジノエチル
基、ジ(メトキシメチル)アミノエチル基、ジ(メトキ
シエチル)アミノエチル基、ジ(エトキシメチル)アミ
ノエチル基、ジ(エトキシエチル)アミノエチル基、ジ
(プロポキシエチル)アミノエチル基、ジ(ブトキシエ
チル)アミノエチル基、ビス(2−シクロヘキシルオキ
シエチル)アミノエチル基、ジメチルアミノプロピル
基、ジエチルアミノプロピル基、ジ−n−ブチルアミノ
プロピル基、ジ−n−ヘキシルアミノプロピル基、ジ−
n−オクチルアミノプロピル基、ジ−n−デシルアミノ
プロピル基、N−イソアミル−N−メチルアミノプロピ
ル基、ピペリジノプロピル基、ジ(メトキシメチル)ア
ミノプロピル基、ジ(メトキシエチル)アミノプロピル
基、ジ(エトキシメチル)アミノプロピル基、ジ(エト
キシエチル)アミノプロピル基、ジ(プロポキシエチ
ル)アミノプロピル基、ジ(ブトキシエチル)アミノプ
ロピル基、ビス(2−シクロヘキシルオキシエチル)ア
ミノプロピル基、ジメチルアミノブチル基、ジエチルア
ミノブチル基、ジ−n−ブチルアミノブチル基、ジ−n
−ヘキシルアミノブチル基、ジ−n−オクチルアミノブ
チル基、ジ−n−デシルアミノブチル基、N−イソアミ
ル−N−メチルアミノブチル基、ピペリジノブチル基、
ジ(メトキシメチル)アミノブチル基、ジ(メトキシエ
チル)アミノブチル基、ジ(エトキシメチル)アミノブ
チル基、ジ(エトキシエチル)アミノブチル基、ジ(プ
ロポキシエチル)アミノブチル基、ジ(ブトキシエチ
ル)アミノブチル基、ビス(2−シクロヘキシルオキシ
エチル)アミノブチル基等のジアルキルアミノ基が置換
した炭素数3〜20のアルキル基;Dimethylaminomethyl, diethylaminomethyl, di-n-butylaminomethyl, di-n-hexylaminomethyl, di-n-octylaminomethyl, di-n-decylaminomethyl, N- Isoamyl-
N-methylaminomethyl group, piperidinomethyl group, di (methoxymethyl) aminomethyl group, di (methoxyethyl) aminomethyl group, di (ethoxymethyl) aminomethyl group, di (ethoxyethyl) aminomethyl group, di (propoxyethyl) ) Aminomethyl group, di (butoxyethyl)
Aminomethyl group, bis (2-cyclohexyloxyethyl) aminomethyl group, dimethylaminoethyl group, diethylaminoethyl group, di-n-butylaminoethyl group, di-n-hexylaminoethyl group, di-n-octylaminoethyl Group, di-n-decylaminoethyl group, N-isoamyl-N-methylaminoethyl group, piperidinoethyl group, di (methoxymethyl) aminoethyl group, di (methoxyethyl) aminoethyl group, di (ethoxymethyl) aminoethyl Group, di (ethoxyethyl) aminoethyl group, di (propoxyethyl) aminoethyl group, di (butoxyethyl) aminoethyl group, bis (2-cyclohexyloxyethyl) aminoethyl group, dimethylaminopropyl group, diethylaminopropyl group, Di-n-butylaminopropyl group, di-n Hexyl aminopropyl group, di -
n-octylaminopropyl group, di-n-decylaminopropyl group, N-isoamyl-N-methylaminopropyl group, piperidinopropyl group, di (methoxymethyl) aminopropyl group, di (methoxyethyl) aminopropyl group Di (ethoxymethyl) aminopropyl group, di (ethoxyethyl) aminopropyl group, di (propoxyethyl) aminopropyl group, di (butoxyethyl) aminopropyl group, bis (2-cyclohexyloxyethyl) aminopropyl group, dimethyl Aminobutyl group, diethylaminobutyl group, di-n-butylaminobutyl group, di-n
-Hexylaminobutyl group, di-n-octylaminobutyl group, di-n-decylaminobutyl group, N-isoamyl-N-methylaminobutyl group, piperidinobutyl group,
Di (methoxymethyl) aminobutyl group, di (methoxyethyl) aminobutyl group, di (ethoxymethyl) aminobutyl group, di (ethoxyethyl) aminobutyl group, di (propoxyethyl) aminobutyl group, di (butoxyethyl) An alkyl group having 3 to 20 carbon atoms substituted by a dialkylamino group such as an aminobutyl group or a bis (2-cyclohexyloxyethyl) aminobutyl group;
【0028】アセチルアミノメチル基、アセチルアミノ
エチル基、プロピオニルアミノエチル基、ブタノイルア
ミノエチル基、シクロヘキサンカルボニルアミノエチル
基、p−メチルシクロヘキサンカルボニルアミノエチル
基、スクシンイミノエチル基などのアシルアミノ基で置
換した炭素数3〜10のアルキル基;メチルスルホンア
ミノメチル基、メチルスルホンアミノエチル基、エチル
スルホンアミノエチル基、プロピルスルホンアミノエチ
ル基、オクチルスルホンアミノエチル基などのアルキル
スルホンアミノ基で置換した炭素数2〜10のアルキル
基;メチルスルホニルメチル基、エチルスルホニルメチ
ル基、ブチルスルホニルメチル基、メチルスルホニルエ
チル基、エチルスルホニルエチル基、ブチルスルホニル
エチル基、(2−エチルヘキシル)スルホニルエチル
基、(2,2,3,3−テトラフルオロプロピル)スル
ホニルメチル基、(2,2,3,3−テトラクロロプロ
ピル)スルホニルメチル基などのアルキルスルホニル基
で置換した炭素数2〜10のアルキル基;ベンゼンスル
ホニルメチル基、ベンゼンスルホニルエチル基、ベンゼ
ンスルホニルプロピル基、ベンゼンスルホニルブチル
基、トルエンスルホニルメチル基、トルエンスルホニル
エチル基、トルエンスルホニルプロピル基、トルエンス
ルホニルブチル基、キシレンスルホニルメチル基、キシ
レンスルホニルエチル基、キシレンスルホニルプロピル
基、キシレンスルホニルブチル基などのアリールスルホ
ニル基で置換した炭素数7〜12のアルキル基;チアジ
アゾリノメチル基、ピロリノメチル基、ピロリジノメチ
ル基、ピラゾリジノメチル基、イミダゾリジノメチル
基、オキサゾリル基、トリアゾリノメチル基、モルホリ
ノメチル基、インドーリノメチル基、ベンズイミダゾリ
ノメチル基、カルバゾリノメチル基などの複素環基で置
換した炭素数2〜13のアルキル基等が挙げられる。Substitution with an acylamino group such as an acetylaminomethyl group, an acetylaminoethyl group, a propionylaminoethyl group, a butanoylaminoethyl group, a cyclohexanecarbonylaminoethyl group, a p-methylcyclohexanecarbonylaminoethyl group, and a succiniminoethyl group. An alkyl group having 3 to 10 carbon atoms; the number of carbon atoms substituted by an alkylsulfonamino group such as a methylsulfonaminomethyl group, a methylsulfonaminoethyl group, an ethylsulfonaminoethyl group, a propylsulfonaminoethyl group, and an octylsulfonaminoethyl group. 2 to 10 alkyl groups; methylsulfonylmethyl group, ethylsulfonylmethyl group, butylsulfonylmethyl group, methylsulfonylethyl group, ethylsulfonylethyl group, butylsulfonylethyl group, (2- 2 carbon atoms substituted by an alkylsulfonyl group such as a tylhexyl) sulfonylethyl group, a (2,2,3,3-tetrafluoropropyl) sulfonylmethyl group, a (2,2,3,3-tetrachloropropyl) sulfonylmethyl group Alkyl groups of 10 to 10; benzenesulfonylmethyl group, benzenesulfonylethyl group, benzenesulfonylpropyl group, benzenesulfonylbutyl group, toluenesulfonylmethyl group, toluenesulfonylethyl group, toluenesulfonylpropyl group, toluenesulfonylbutyl group, xylenesulfonylmethyl group An alkyl group having 7 to 12 carbon atoms substituted with an arylsulfonyl group such as a xylenesulfonylethyl group, a xylenesulfonylpropyl group, or a xylenesulfonylbutyl group; a thiadiazolinomethyl group, a pyrrolinomethyl group, Heterocyclic groups such as loridinomethyl group, pyrazolidinomethyl group, imidazolidinomethyl group, oxazolyl group, triazolinomethyl group, morpholinomethyl group, indolinomethyl group, benzimidazolinomethyl group and carbazolinomethyl group Examples thereof include a substituted alkyl group having 2 to 13 carbon atoms.
【0029】式(1)中、R1、R2、R3、R4、R5、
R6、R7、R8で示される置換または無置換のアラルキ
ル基の例としては、前記に挙げたアルキル基と同様な置
換基を有するアラルキル基であり、好ましくは、ベンジ
ル基、ニトロベンジル基、シアノベンジル基、ヒドロキ
シベンジル基、メチルベンジル基、トリフルオロメチル
ベンジル基、ナフチルメチル基、ニトロナフチルメチル
基、シアノナフチルメチル基、ヒドロキシナフチルメチ
ル基、メチルナフチルメチル基、トリフルオロメチルナ
フチルメチル基、フルオレン−9−イルエチル基などの
炭素数7〜15のアラルキル基等が挙げられる。In the formula (1), R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 ,
Examples of the substituted or unsubstituted aralkyl groups represented by R 6 , R 7 and R 8 are aralkyl groups having the same substituents as the above-mentioned alkyl groups, and are preferably a benzyl group or a nitrobenzyl group. , Cyanobenzyl group, hydroxybenzyl group, methylbenzyl group, trifluoromethylbenzyl group, naphthylmethyl group, nitronaphthylmethyl group, cyanonaphthylmethyl group, hydroxynaphthylmethyl group, methylnaphthylmethyl group, trifluoromethylnaphthylmethyl group, Examples thereof include an aralkyl group having 7 to 15 carbon atoms such as a fluoren-9-ylethyl group.
【0030】式(1)中、R1、R2、R3、R4、R5、
R6、R7、R8で示される置換または無置換のアリール
基の例としては、前記に挙げたアルキル基と同様な置換
基を有するアリール基であり、好ましくは、フェニル
基、ニトロフェニル基、シアノフェニル基、ヒドロキシ
フェニル基、メチルフェニル基、トリフルオロメチルフ
ェニル基、ナフチル基、ニトロナフチル基、シアノナフ
チル基、ヒドロキシナフチル基、メチルナフチル基、ト
リフルオロメチルナフチル基、メトキシカルボニルフェ
ニル基、4−(5’−メチルベンゾキサゾール−2’−
イル)フェニル基、ジブチルアミノカルボニルフェニル
基などの炭素数6〜15のアリール基等が挙げられる。In the formula (1), R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 ,
Examples of the substituted or unsubstituted aryl groups represented by R 6 , R 7 , and R 8 are aryl groups having the same substituents as the above-described alkyl groups, and are preferably a phenyl group or a nitrophenyl group. , Cyanophenyl, hydroxyphenyl, methylphenyl, trifluoromethylphenyl, naphthyl, nitronaphthyl, cyanonaphthyl, hydroxynaphthyl, methylnaphthyl, trifluoromethylnaphthyl, methoxycarbonylphenyl, 4 -(5'-methylbenzoxazole-2'-
Yl) aryl groups having 6 to 15 carbon atoms such as phenyl group and dibutylaminocarbonylphenyl group.
【0031】式(1)中、R1、R2、R3、R4、R5、
R6、R7、R8で示される置換または無置換のアルケニ
ル基の例としては、前記に挙げたアルキル基と同様な置
換基を有するアルケニル基であり、好ましくは、ビニル
基、プロペニル基、1−ブテニル基、iso−ブテニル
基、1−ペンテニル基、2−ペンテニル基、2−メチル
−1−ブテニル基、3−メチル−1−ブテニル基、2−
メチル−2−ブテニル基、2,2−ジシアノビニル基、
2−シアノ−2−メチルカルボキシルビニル基、2−シ
アノ−2−メチルスルホンビニル基、スチリル基、4−
フェニル−2−ブテニル基などの炭素数2〜10のアル
ケニル基が挙げられる。In the formula (1), R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 ,
Examples of the substituted or unsubstituted alkenyl groups represented by R 6 , R 7 and R 8 are alkenyl groups having the same substituents as the above-mentioned alkyl groups, and are preferably a vinyl group, a propenyl group, 1-butenyl group, iso-butenyl group, 1-pentenyl group, 2-pentenyl group, 2-methyl-1-butenyl group, 3-methyl-1-butenyl group, 2-
A methyl-2-butenyl group, a 2,2-dicyanovinyl group,
2-cyano-2-methylcarboxylvinyl group, 2-cyano-2-methylsulfonevinyl group, styryl group, 4-
An alkenyl group having 2 to 10 carbon atoms such as a phenyl-2-butenyl group is exemplified.
【0032】式(1)中、R1、R2、R3、R4、R5、
R6、R7、R8で示される置換または無置換のアルコキ
シ基の例としては、メトキシ基、エトキシ基、n−プロ
ポキシ基、イソプロポキシ基、n−ブトキシ基、イソブ
トキシ基、tert−ブトキシ基、sec−ブトキシ
基、n−ペンチルオキシ基、イソペンチルオキシ基、t
ert−ペンチルオキシ基、sec−ペンチルオキシ
基、シクロペンチルオキシ基、n−ヘキシルオキシ基、
1−メチルペンチルオキシ基、2−メチルペンチルオキ
シ基、3−メチルペンチルオキシ基、4−メチルペンチ
ルオキシ基、1,1−ジメチルブトキシ基、1,2−ジ
メチルブトキシ基、1,3−ジメチルブトキシ基、2,
3−ジメチルブトキシ基、1,1,2−トリメチルプロ
ポキシ基、1,2,2−トリメチルプロポキシ基、1−
エチルブトキシ基、2−エチルブトキシ基、1−エチル
−2−メチルプロポキシ基、シクロヘキシルオキシ基、
メチルシクロペンチルオキシ基、n−へプチルオキシ
基、1−メチルヘキシルオキシ基、2−メチルヘキシル
オキシ基、3−メチルヘキシルオキシ基、4−メチルヘ
キシルオキシ基、5−メチルヘキシルオキシ基、1,1
−ジメチルペンチルオキシ基、1,2−ジメチルペンチ
ルオキシ基、1,3−ジメチルペンチルオキシ基、1,
4−ジメチルペンチルオキシ基、2,2−ジメチルペン
チルオキシ基、2,3−ジメチルペンチルオキシ基、
2,4−ジメチルペンチルオキシ基、3,3−ジメチル
ペンチルオキシ基、3,4−ジメチルペンチルオキシ
基、1−エチルペンチルオキシ基、2−エチルペンチル
オキシ基、3−エチルペンチルオキシ基、1,1,2−
トリメチルブトキシ基、1,1,3−トリメチルブトキ
シ基、1,2,3−トリメチルブトキシ基、1,2,2
−トリメチルブトキシ基、1,3,3−トリメチルブト
キシ基、2,3,3−トリメチルブトキシ基、1−エチ
ル−1−メチルブトキシ基、1−エチル−2−メチルブ
トキシ基、1−エチル−3−メチルブトキシ基、2−エ
チル−1−メチルブトキシ基、2−エチル−3−メチル
ブトキシ基、1−n−プロピルブトキシ基、1−イソプ
ロピルブトキシ基、1−イソプロピル−2−メチルプロ
ポキシ基、メチルシクロヘキシルオキシ基、n−オクチ
ルオキシ基、1−メチルヘプチルオキシ基、2−メチル
ヘプチルオキシ基、3−メチルヘプチルオキシ基、4−
メチルヘプチルオキシ基、5−メチルヘプチルオキシ
基、6−メチルヘプチルオキシ基、1,1−ジメチルヘ
キシルオキシ基、1,2−ジメチルヘキシルオキシ基、
1,3−ジメチルヘキシルオキシ基、1,4−ジメチル
ヘキシルオキシ基、1,5−ジメチルヘキシルオキシ
基、2,2−ジメチルヘキシルオキシ基、2,3−ジメ
チルヘキシルオキシ基、2,4−ジメチルヘキシルオキ
シ基、2,5−ジメチルヘキシルオキシ基、3,3−ジ
メチルヘキシルオキシ基、3,4−ジメチルヘキシルオ
キシ基、3,5−ジメチルヘキシルオキシ基、4,4−
ジメチルヘキシルオキシ基、4,5−ジメチルヘキシル
オキシ基、1−エチルヘキシルオキシ基、2−エチルヘ
キシルオキシ基、3−エチルヘキシルオキシ基、4−エ
チルヘキシルオキシ基、1−n−プロピルペンチルオキ
シ基、2−n−プロピルペンチルオキシ基、1−イソプ
ロピルペンチルオキシ基、2−イソプロピルペンチルオ
キシ基、1−エチル−1−メチルペンチルオキシ基、1
−エチル−2−メチルペンチルオキシ基、1−エチル−
3−メチルペンチルオキシ基、1−エチル−4−メチル
ペンチルオキシ基、2−エチル−1−メチルペンチルオ
キシ基、2−エチル−2−メチルペンチルオキシ基、2
−エチル−3−メチルペンチルオキシ基、2−エチル−
4−メチルペンチルオキシ基、3−エチル−1−メチル
ペンチルオキシ基、3−エチル−2−メチルペンチルオ
キシ基、3−エチル−3−メチルペンチルオキシ基、3
−エチル−4−メチルペンチルオキシ基、1,1,2−
トリメチルペンチルオキシ基、1,1,3−トリメチル
ペンチルオキシ基、1,1,4−トリメチルペンチルオ
キシ基、1,2,2−トリメチルペンチルオキシ基、
1,2,3−トリメチルペンチルオキシ基、1,2,4
−トリメチルペンチルオキシ基、1,3,4−トリメチ
ルペンチルオキシ基、2,2,3−トリメチルペンチル
オキシ基、2,2,4−トリメチルペンチルオキシ基、
2,3,4−トリメチルペンチルオキシ基、1,3,3
−トリメチルペンチルオキシ基、2,3,3−トリメチ
ルペンチルオキシ基、3,3,4−トリメチルペンチル
オキシ基、1,4,4−トリメチルペンチルオキシ基、
2,4,4−トリメチルペンチルオキシ基、3,4,4
−トリメチルペンチルオキシ基、1−n−ブチルブトキ
シ基、1−イソブチルブトキシ基、1−sec−ブチル
ブトキシ基、1−tert−ブチルブトキシ基、2−t
ert−ブチルブトキシ基、1−n−プロピル−1−メ
チルブトキシ基、1−n−プロピル−2−メチルブトキ
シ基、1−n−プロピル−3−メチルブトキシ基、1−
イソプロピル−1−メチルブトキシ基、1−イソプロピ
ル−2−メチルブトキシ基、1−イソプロピル−3−メ
チルブトキシ基、1,1−ジエチルブトキシ基、1,2
−ジエチルブトキシ基、1−エチル−1,2−ジメチル
ブトキシ基、1−エチル−1,3−ジメチルブトキシ
基、1−エチル−2,3−ジメチルブトキシ基、2−エ
チル−1,1−ジメチルブトキシ基、2−エチル−1,
2−ジメチルブトキシ基、2−エチル−1,3−ジメチ
ルブトキシ基、2−エチル−2,3−ジメチルブトキシ
基、1,1,3,3−テトラメチルブトキシ基、1,2
−ジメチルシクロヘキシルオキシ基、1,3−ジメチル
シクロヘキシルオキシ基、1,4−ジメチルシクロヘキ
シルオキシ基、エチルシクロヘキシルオキシ基、n−ノ
ニルオキシ基、3,5,5−トリメチルヘキシルオキシ
基、n−デシルオキシ基、n−ウンデシルオキシ基、n
−ドデシルオキシ基、1−アダマンチルオキシ基、n−
ペンタデカニルオキシ基等の炭素数1〜15の直鎖、分
岐又は環状の無置換アルコキシ基;In the formula (1), R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 ,
Examples of the substituted or unsubstituted alkoxy groups represented by R 6 , R 7 and R 8 include a methoxy group, an ethoxy group, an n-propoxy group, an isopropoxy group, an n-butoxy group, an isobutoxy group and a tert-butoxy group. , Sec-butoxy group, n-pentyloxy group, isopentyloxy group, t
ert-pentyloxy group, sec-pentyloxy group, cyclopentyloxy group, n-hexyloxy group,
1-methylpentyloxy group, 2-methylpentyloxy group, 3-methylpentyloxy group, 4-methylpentyloxy group, 1,1-dimethylbutoxy group, 1,2-dimethylbutoxy group, 1,3-dimethylbutoxy Group, 2,
3-dimethylbutoxy group, 1,1,2-trimethylpropoxy group, 1,2,2-trimethylpropoxy group, 1-
Ethyl butoxy group, 2-ethyl butoxy group, 1-ethyl-2-methylpropoxy group, cyclohexyloxy group,
Methylcyclopentyloxy group, n-heptyloxy group, 1-methylhexyloxy group, 2-methylhexyloxy group, 3-methylhexyloxy group, 4-methylhexyloxy group, 5-methylhexyloxy group, 1,1
-Dimethylpentyloxy group, 1,2-dimethylpentyloxy group, 1,3-dimethylpentyloxy group, 1,
4-dimethylpentyloxy group, 2,2-dimethylpentyloxy group, 2,3-dimethylpentyloxy group,
2,4-dimethylpentyloxy group, 3,3-dimethylpentyloxy group, 3,4-dimethylpentyloxy group, 1-ethylpentyloxy group, 2-ethylpentyloxy group, 3-ethylpentyloxy group, 1,2-
Trimethylbutoxy group, 1,1,3-trimethylbutoxy group, 1,2,3-trimethylbutoxy group, 1,2,2
-Trimethylbutoxy group, 1,3,3-trimethylbutoxy group, 2,3,3-trimethylbutoxy group, 1-ethyl-1-methylbutoxy group, 1-ethyl-2-methylbutoxy group, 1-ethyl-3 -Methylbutoxy group, 2-ethyl-1-methylbutoxy group, 2-ethyl-3-methylbutoxy group, 1-n-propylbutoxy group, 1-isopropylbutoxy group, 1-isopropyl-2-methylpropoxy group, methyl Cyclohexyloxy group, n-octyloxy group, 1-methylheptyloxy group, 2-methylheptyloxy group, 3-methylheptyloxy group, 4-
Methylheptyloxy group, 5-methylheptyloxy group, 6-methylheptyloxy group, 1,1-dimethylhexyloxy group, 1,2-dimethylhexyloxy group,
1,3-dimethylhexyloxy group, 1,4-dimethylhexyloxy group, 1,5-dimethylhexyloxy group, 2,2-dimethylhexyloxy group, 2,3-dimethylhexyloxy group, 2,4-dimethyl Hexyloxy group, 2,5-dimethylhexyloxy group, 3,3-dimethylhexyloxy group, 3,4-dimethylhexyloxy group, 3,5-dimethylhexyloxy group, 4,4-
Dimethylhexyloxy group, 4,5-dimethylhexyloxy group, 1-ethylhexyloxy group, 2-ethylhexyloxy group, 3-ethylhexyloxy group, 4-ethylhexyloxy group, 1-n-propylpentyloxy group, 2-n -Propylpentyloxy group, 1-isopropylpentyloxy group, 2-isopropylpentyloxy group, 1-ethyl-1-methylpentyloxy group, 1
-Ethyl-2-methylpentyloxy group, 1-ethyl-
3-methylpentyloxy group, 1-ethyl-4-methylpentyloxy group, 2-ethyl-1-methylpentyloxy group, 2-ethyl-2-methylpentyloxy group, 2
-Ethyl-3-methylpentyloxy group, 2-ethyl-
4-methylpentyloxy group, 3-ethyl-1-methylpentyloxy group, 3-ethyl-2-methylpentyloxy group, 3-ethyl-3-methylpentyloxy group, 3
-Ethyl-4-methylpentyloxy group, 1,1,2-
Trimethylpentyloxy group, 1,1,3-trimethylpentyloxy group, 1,1,4-trimethylpentyloxy group, 1,2,2-trimethylpentyloxy group,
1,2,3-trimethylpentyloxy group, 1,2,4
A trimethylpentyloxy group, a 1,3,4-trimethylpentyloxy group, a 2,2,3-trimethylpentyloxy group, a 2,2,4-trimethylpentyloxy group,
2,3,4-trimethylpentyloxy group, 1,3,3
-A trimethylpentyloxy group, a 2,3,3-trimethylpentyloxy group, a 3,3,4-trimethylpentyloxy group, a 1,4,4-trimethylpentyloxy group,
2,4,4-trimethylpentyloxy group, 3,4,4
-Trimethylpentyloxy group, 1-n-butylbutoxy group, 1-isobutylbutoxy group, 1-sec-butylbutoxy group, 1-tert-butylbutoxy group, 2-t
tert-butylbutoxy group, 1-n-propyl-1-methylbutoxy group, 1-n-propyl-2-methylbutoxy group, 1-n-propyl-3-methylbutoxy group, 1-
Isopropyl-1-methylbutoxy group, 1-isopropyl-2-methylbutoxy group, 1-isopropyl-3-methylbutoxy group, 1,1-diethylbutoxy group, 1,2
-Diethylbutoxy group, 1-ethyl-1,2-dimethylbutoxy group, 1-ethyl-1,3-dimethylbutoxy group, 1-ethyl-2,3-dimethylbutoxy group, 2-ethyl-1,1-dimethyl Butoxy group, 2-ethyl-1,
2-dimethylbutoxy group, 2-ethyl-1,3-dimethylbutoxy group, 2-ethyl-2,3-dimethylbutoxy group, 1,1,3,3-tetramethylbutoxy group, 1,2
-Dimethylcyclohexyloxy group, 1,3-dimethylcyclohexyloxy group, 1,4-dimethylcyclohexyloxy group, ethylcyclohexyloxy group, n-nonyloxy group, 3,5,5-trimethylhexyloxy group, n-decyloxy group, n-undecyloxy group, n
-Dodecyloxy group, 1-adamantyloxy group, n-
A linear, branched or cyclic unsubstituted alkoxy group having 1 to 15 carbon atoms such as a pentadecanyloxy group;
【0033】メトキシメトキシ基、メトキシエトキシ
基、エトキシエトキシ基、n−プロポキシエトキシ基、
イソプロポキシエトキシ基、n−ブトキシエトキシ基、
イソブトキシエトキシ基、tert−ブトキシエトキシ
基、sec−ブトキシエトキシ基、n−ペンチルオキシ
エトキシ基、イソペンチルオキシエトキシ基、tert
−ペンチルオキシエトキシ基、sec−ペンチルオキシ
エトキシ基、シクロペンチルオキシエトキシ基、n−ヘ
キシルオキシエトキシ基、エチルシクロヘキシルオキシ
エトキシ基、n−ノニルオキシエトキシ基、(3,5,
5−トリメチルヘキシルオキシ)エトキシ基、(3,
5,5−トリメチルヘキシルオキシ)ブトキシ基、n−
デシルオキシエトキシ基、n−ウンデシルオキシエトキ
シ基、n−ドデシルオキシエトキシ基、3−メトキシプ
ロポキシ基、3−エトキシプロポキシ基、3−(n−プ
ロポキシ)プロポキシ基、2−イソプロポキシプロポキ
シ基、2−メトキシブトキシ基、2−エトキシブトキシ
基、2−(n−プロポキシ)ブトキシ基、4−イソプロ
ポキシブトキシ基、デカリルオキシエトキシ基、アダマ
ンチルオキシエトキシ基等の、アルコキシ基で置換した
炭素数2〜15のアルコキシ基;A methoxymethoxy group, a methoxyethoxy group, an ethoxyethoxy group, an n-propoxyethoxy group,
Isopropoxyethoxy group, n-butoxyethoxy group,
Isobutoxyethoxy group, tert-butoxyethoxy group, sec-butoxyethoxy group, n-pentyloxyethoxy group, isopentyloxyethoxy group, tert
-Pentyloxyethoxy group, sec-pentyloxyethoxy group, cyclopentyloxyethoxy group, n-hexyloxyethoxy group, ethylcyclohexyloxyethoxy group, n-nonyloxyethoxy group, (3,5,
5-trimethylhexyloxy) ethoxy group, (3,
5,5-trimethylhexyloxy) butoxy group, n-
Decyloxyethoxy group, n-undecyloxyethoxy group, n-dodecyloxyethoxy group, 3-methoxypropoxy group, 3-ethoxypropoxy group, 3- (n-propoxy) propoxy group, 2-isopropoxypropoxy group, 2 A C2-C2-substituted alkoxy group such as a methoxybutoxy group, a 2-ethoxybutoxy group, a 2- (n-propoxy) butoxy group, a 4-isopropoxybutoxy group, a decalyloxyethoxy group, or an adamantyloxyethoxy group; 15 alkoxy groups;
【0034】メトキシメトキシメトキシ基、エトキシメ
トキシメトキシ基、プロポキシメトキシメトキシ基、ブ
トキシメトキシメトキシ基、メトキシエトキシメトキシ
基、エトキシエトキシメトキシ基、プロポキシエトキシ
メトキシ基、ブトキシエトキシメトキシ基、メトキシプ
ロポキシメトキシ基、エトキシプロポキシメトキシ基、
プロポキシプロポキシメトキシ基、ブトキシプロポキシ
メトキシ基、メトキシブトキシメトキシ基、エトキシブ
トキシメトキシ基、プロポキシブトキシメトキシ基、ブ
トキシブトキシメトキシ基、メトキシメトキシエトキシ
基、エトキシメトキシエトキシ基、プロポキシメトキシ
エトキシ基、ブトキシメトキシエトキシ基、メトキシエ
トキシエトキシ基、エトキシエトキシエトキシ基、プロ
ポキシエトキシエトキシ基、ブトキシエトキシエトキシ
基、メトキシプロポキシエトキシ基、エトキシプロポキ
シエトキシ基、プロポキシプロポキシエトキシ基、ブト
キシプロポキシエトキシ基、メトキシブトキシエトキシ
基、エトキシブトキシエトキシ基、プロポキシブトキシ
エトキシ基、ブトキシブトキシエトキシ基、メトキシメ
トキシプロポキシ基、エトキシメトキシプロポキシ基、
プロポキシメトキシプロポキシ基、ブトキシメトキシプ
ロポキシ基、メトキシエトキシプロポキシ基、エトキシ
エトキシプロポキシ基、プロポキシエトキシプロポキシ
基、ブトキシエトキシプロポキシ基、メトキシプロポキ
シプロポキシ基、エトキシプロポキシプロポキシ基、プ
ロポキシプロポキシプロポキシ基、ブトキシプロポキシ
プロポキシ基、メトキシブトキシプロポキシ基、エトキ
シブトキシプロポキシ基、プロポキシブトキシプロポキ
シ基、ブトキシブトキシプロポキシ基、メトキシメトキ
シブトキシ基、エトキシメトキシブトキシ基、プロポキ
シメトキシブトキシ基、ブトキシメトキシブトキシ基、
メトキシエトキシブトキシ基、エトキシエトキシブトキ
シ基、プロポキシシエトキシブトキシ基、ブトキシエト
キシブトキシ碁、メトキシプロポキシブトキシ基、エト
キシプロポキシブトキシ基、プロポキシプロポキシブト
キシ基、ブトキシプロポキシブトキシ基、メトキシブト
キシブトキシ基、エトキシブトキシブトキシ基、プロポ
キシブトキシブトキシ基、ブトキシブトキシブトキシ
基、(4−エチルシクロへキシルオキシ)エトキシエト
キシ基、(2−エチル−1−へキシルオキシ)エトキシ
プロポキシ基、4−(3,5,5−トリメチルヘキシル
オキシ)ブトキシエトキシ基等の、アルコキシアルコキ
シ基で置換した直鎖、分岐または環状の炭素数3〜15
のアルコキシ基;Methoxymethoxymethoxy, ethoxymethoxymethoxy, propoxymethoxymethoxy, butoxymethoxymethoxy, methoxyethoxymethoxy, ethoxyethoxymethoxy, propoxyethoxymethoxy, butoxyethoxymethoxy, methoxypropoxymethoxy, ethoxypropoxy Methoxy group,
Propoxypropoxymethoxy group, butoxypropoxymethoxy group, methoxybutoxymethoxy group, ethoxybutoxymethoxy group, propoxybutoxymethoxy group, butoxybutoxymethoxy group, methoxymethoxyethoxy group, ethoxymethoxyethoxy group, propoxymethoxyethoxy group, butoxymethoxyethoxy group, Methoxyethoxyethoxy, ethoxyethoxyethoxy, propoxyethoxyethoxy, butoxyethoxyethoxy, methoxypropoxyethoxy, ethoxypropoxyethoxy, propoxypropoxyethoxy, butoxypropoxyethoxy, methoxybutoxyethoxy, methoxybutoxyethoxy, methoxybutoxyethoxy Propoxybutoxyethoxy, butoxybutoxyethoxy, methoxymethoxypropoxy , Ethoxy methoxypropoxy group,
Propoxymethoxypropoxy, butoxymethoxypropoxy, methoxyethoxypropoxy, ethoxyethoxypropoxy, propoxyethoxypropoxy, butoxyethoxypropoxy, methoxypropoxypropoxy, ethoxypropoxypropoxy, propoxypropoxy, butoxypropoxy, butoxypropoxy Methoxybutoxypropoxy group, ethoxybutoxypropoxy group, propoxybutoxypropoxy group, butoxybutoxypropoxy group, methoxymethoxybutoxy group, ethoxymethoxybutoxy group, propoxymethoxybutoxy group, butoxymethoxybutoxy group,
Methoxyethoxybutoxy, ethoxyethoxybutoxy, propoxycyethoxybutoxy, butoxyethoxybutoxy, methoxypropoxybutoxy, ethoxypropoxybutoxy, propoxypropoxybutoxy, butoxypropoxybutoxy, methoxybutoxybutoxy, methoxybutoxybutoxy , Propoxybutoxybutoxy, butoxybutoxybutoxy, (4-ethylcyclohexyloxy) ethoxyethoxy, (2-ethyl-1-hexyloxy) ethoxypropoxy, 4- (3,5,5-trimethylhexyloxy) butoxy A linear, branched or cyclic C3-C15 substituted with an alkoxyalkoxy group such as an ethoxy group.
An alkoxy group;
【0035】メトキシカルボニルメトキシ基、エトキシ
カルボニルメトキシ基、n−プロポキシカルボニルメト
キシ基、イソプロポキシカルボニルメトキシ基、4’−
エチルシクロヘキシルオキシカルボニルメトキシ基等の
アルコキシカルボニル基で置換した炭素数3〜10のア
ルコキシ基;アセチルメトキシ基、エチルカルボニルメ
トキシ基、オクチルカルボニルメトキシ基等のアシル基
で置換した炭素数3〜10のアルコキシ基;アセチルオ
キシメトキシ基、アセチルオキシエトキシ基、アセチル
オキシヘキシルオキシ基、ブタノイルオキシシクロヘキ
シルオキシ基などのアシルオキシ基で置換した炭素数3
〜10のアルコキシ基;Methoxycarbonylmethoxy, ethoxycarbonylmethoxy, n-propoxycarbonylmethoxy, isopropoxycarbonylmethoxy, 4'-
An alkoxy group having 3 to 10 carbon atoms substituted by an alkoxycarbonyl group such as ethylcyclohexyloxycarbonylmethoxy group; an alkoxy group having 3 to 10 carbon atoms substituted by an acyl group such as acetylmethoxy group, ethylcarbonylmethoxy group, octylcarbonylmethoxy group A group having 3 carbon atoms substituted by an acyloxy group such as an acetyloxymethoxy group, an acetyloxyethoxy group, an acetyloxyhexyloxy group, a butanoyloxycyclohexyloxy group;
10 to 10 alkoxy groups;
【0036】メチルアミノメトキシ基、2−メチルアミ
ノエトキシ基、2−(2−メチルアミノエトキシ)エト
キシ基、4−メチルアミノブトキシ基、1−メチルアミ
ノプロパン−2−イルオキシ基、3−メチルアミノプロ
ポキシ基、2−メチルアミノ−2−メチルプロポキシ
基、2−エチルアミノエトキシ基、2−(2−エチルア
ミノエトキシ)エトキシ基、3−エチルアミノプロポキ
シ基、1−エチルアミノプロポキシ基、2−イソプロピ
ルアミノエトキシ基、2−(n−ブチルアミノ)エトキ
シ基、3−(n−ヘキシルアミノ)プロポキシ基、4−
(シクロヘキシルアミノ)ブチルオキシ基等のアルキル
アミノ基で置換した炭素数2〜10のアルコキシ基;メ
チルアミノメトキシメトキシ基、メチルアミノエトキシ
エトキシ基、メチルアミノエトキシプロポキシ基、エチ
ルアミノエトキシプロポキシ基、4−(2’−イソブチ
ルアミノプロポキシ)ブトキシ基等のアルキルアミノア
ルコキシ基で置換した炭素数3〜10のアルコキシ基;
ジメチルアミノメトキシ基、2−ジメチルアミノエトキ
シ基、2−(2−ジメチルアミノエトキシ)エトキシ
基、4−ジメチルアミノブトキシ基、1−ジメチルアミ
ノプロパン−2−イルオキシ基、3−ジメチルアミノプ
ロポキシ基、2−ジメチルアミノ−2−メチルプロポキ
シ基、2−ジエチルアミノエトキシ基、2−(2−ジエ
チルアミノエトキシ)エトキシ基、3−ジエチルアミノ
プロポキシ基、1−ジエチルアミノプロポキシ基、2−
ジイソプロピルアミノエトキシ基、2−(ジ−n−ブチ
ルアミノ)エトキシ基、2−ピペリジルエトキシ基、3
−(ジ−n−ヘキシルアミノ)プロポキシ基等のジアル
キルアミノ基で置換した炭素数3〜15のアルコキシ
基;Methylaminomethoxy, 2-methylaminoethoxy, 2- (2-methylaminoethoxy) ethoxy, 4-methylaminobutoxy, 1-methylaminopropan-2-yloxy, 3-methylaminopropoxy Group, 2-methylamino-2-methylpropoxy group, 2-ethylaminoethoxy group, 2- (2-ethylaminoethoxy) ethoxy group, 3-ethylaminopropoxy group, 1-ethylaminopropoxy group, 2-isopropylamino Ethoxy group, 2- (n-butylamino) ethoxy group, 3- (n-hexylamino) propoxy group, 4-
(Cyclohexylamino) alkoxy group having 2 to 10 carbon atoms substituted by alkylamino group such as butyloxy group; methylaminomethoxymethoxy group, methylaminoethoxyethoxy group, methylaminoethoxypropoxy group, ethylaminoethoxypropoxy group, 4- ( An alkoxy group having 3 to 10 carbon atoms substituted with an alkylaminoalkoxy group such as 2′-isobutylaminopropoxy) butoxy group;
Dimethylaminomethoxy group, 2-dimethylaminoethoxy group, 2- (2-dimethylaminoethoxy) ethoxy group, 4-dimethylaminobutoxy group, 1-dimethylaminopropan-2-yloxy group, 3-dimethylaminopropoxy group, 2 -Dimethylamino-2-methylpropoxy group, 2-diethylaminoethoxy group, 2- (2-diethylaminoethoxy) ethoxy group, 3-diethylaminopropoxy group, 1-diethylaminopropoxy group, 2-
Diisopropylaminoethoxy group, 2- (di-n-butylamino) ethoxy group, 2-piperidylethoxy group, 3
An alkoxy group having 3 to 15 carbon atoms, which is substituted with a dialkylamino group such as-(di-n-hexylamino) propoxy group;
【0037】ジメチルアミノメトキシメトキシ基、ジメ
チルアミノエトキシエトキシ基、ジメチルアミノエトキ
シプロポキシ基、ジエチルアミノエトキシプロポキシ
基、4−(2’−ジイソブチルアミノプロポキシ)ブト
キシ基等のジアルキルアミノアルコキシ基で置換した炭
素数4〜15のアルコキシ基;2−メチルチオメトキシ
基、2−メチルチオエトキシ基、2−エチルチオエトキ
シ基、2−n−プロピルチオエトキシ基、2−イソプロ
ピルチオエトキシ基、2−n−ブチルチオエトキシ基、
2−イソブチルチオエトキシ基、(3,5,5−トリメ
チルヘキシルチオ)ヘキシルオキシ基等のアルキルチオ
基で置換した炭素数2〜15のアルコキシ基;等が挙げ
られ、好ましくは、メトキシ基、エトキシ基、n−プロ
ポキシ基、iso−プロポキシ基、n−ブトキシ基、i
so−ブトキシ基、sec−ブトキシ基、t−ブトキシ
基、n−ペントキシ基、iso−ペントキシ基、ネオペ
ントキシ基、2−メチルブトキシ基、2−エチルヘキシ
ルオキシ基、3,5,5−トリメチルヘキシルオキシ
基、デカリルオキシ基などの炭素数1〜10のアルコキ
シ基が挙げられる。C 4 carbon atoms substituted with a dialkylaminoalkoxy group such as dimethylaminomethoxymethoxy, dimethylaminoethoxyethoxy, dimethylaminoethoxypropoxy, diethylaminoethoxypropoxy, 4- (2′-diisobutylaminopropoxy) butoxy, etc. To 15 alkoxy groups; 2-methylthiomethoxy group, 2-methylthioethoxy group, 2-ethylthioethoxy group, 2-n-propylthioethoxy group, 2-isopropylthioethoxy group, 2-n-butylthioethoxy group,
An alkoxy group having 2 to 15 carbon atoms substituted by an alkylthio group such as a 2-isobutylthioethoxy group and a (3,5,5-trimethylhexylthio) hexyloxy group; and the like, preferably a methoxy group and an ethoxy group , N-propoxy group, iso-propoxy group, n-butoxy group, i
so-butoxy group, sec-butoxy group, t-butoxy group, n-pentoxy group, iso-pentoxy group, neopentoxy group, 2-methylbutoxy group, 2-ethylhexyloxy group, 3,5,5-trimethylhexyloxy group And an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms such as a decalyloxy group.
【0038】式(1)中、R1、R2、R3、R4、R5、
R6、R7、R8で示される置換または無置換のアラルキ
ルオキシ基の例としては、前記に挙げたアルキル基と同
様な置換基を有するアラルキルオキシ基であり、好まし
くは、ベンジルオキシ基、ニトロベンジルオキシ基、シ
アノベンジルオキシ基、ヒドロキシベンジルオキシ基、
メチルベンジルオキシ基、トリフルオロメチルベンジル
オキシ基、ナフチルメトキシ基、ニトロナフチルメトキ
シ基、シアノナフチルメトキシ基、ヒドロキシナフチル
メトキシ基、メチルナフチルメトキシ基、トリフルオロ
メチルナフチルメトキシ基、フルオレン−9−イルエト
キシ基などの炭素数7〜15のアラルキルオキシ基等が
挙げられる。In the formula (1), R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 ,
Examples of the substituted or unsubstituted aralkyloxy groups represented by R 6 , R 7 , and R 8 are aralkyloxy groups having the same substituents as the above-mentioned alkyl groups, preferably a benzyloxy group, Nitrobenzyloxy group, cyanobenzyloxy group, hydroxybenzyloxy group,
Methylbenzyloxy group, trifluoromethylbenzyloxy group, naphthylmethoxy group, nitronaphthylmethoxy group, cyanonaphthylmethoxy group, hydroxynaphthylmethoxy group, methylnaphthylmethoxy group, trifluoromethylnaphthylmethoxy group, fluoren-9-ylethoxy group, etc. And an aralkyloxy group having 7 to 15 carbon atoms.
【0039】式(1)中、R1、R2、R3、R4、R5、
R6、R7、R8で示される置換または無置換のアリール
オキシ基の例としては、前記に挙げたアルキル基と同様
な置換基を有するアリールオキシ基であり、好ましく
は、フェノキシ基、2−メチルフェノキシ基、4−メチ
ルフェノキシ基、4−t−ブチルフェノキシ基、2−メ
トキシフェノキシ基、4−iso−プロピルフェノキシ
基、ナフトキシ基などの炭素数6〜10のアリールオキ
シ基が挙げられる。In the formula (1), R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 ,
Examples of the substituted or unsubstituted aryloxy groups represented by R 6 , R 7 , and R 8 are aryloxy groups having the same substituents as the above-mentioned alkyl groups, and are preferably phenoxy groups, And aryloxy groups having 6 to 10 carbon atoms such as -methylphenoxy group, 4-methylphenoxy group, 4-t-butylphenoxy group, 2-methoxyphenoxy group, 4-iso-propylphenoxy group, and naphthoxy group.
【0040】式(1)中、R1、R2、R3、R4、R5、
R6、R7、R8で示される置換または無置換のアルケニ
ルオキシ基の例としては、前記に挙げたアルキル基と同
様な置換基を有するアルケニルオキシ基であり、好まし
くは、ビニルオキシ基、プロペニルオキシ基、1−ブテ
ニルオキシ基、iso−ブテニルオキシ基、1−ペンテ
ニルオキシ基、2−ペンテニルオキシ基、2−メチル−
1−ブテニルオキシ基、3−メチル−1−ブテニルオキ
シ基、2−メチル−2−ブテニルオキシ基、2,2−ジ
シアノビニルオキシ基、2−シアノ−2−メチルカルボ
キシルビニルオキシ基、2−シアノ−2−メチルスルホ
ンビニルオキシ基、スチリルオキシ基、4−フェニル−
2−ブテニルオキシ基、シンナミルオキシ基などの炭素
数2〜10のアルケニルオキシ基が挙げられる。In the formula (1), R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 ,
Examples of the substituted or unsubstituted alkenyloxy groups represented by R 6 , R 7 and R 8 are alkenyloxy groups having the same substituents as the above-mentioned alkyl groups, and are preferably a vinyloxy group or a propenyl group. Oxy group, 1-butenyloxy group, iso-butenyloxy group, 1-pentenyloxy group, 2-pentenyloxy group, 2-methyl-
1-butenyloxy group, 3-methyl-1-butenyloxy group, 2-methyl-2-butenyloxy group, 2,2-dicyanovinyloxy group, 2-cyano-2-methylcarboxylvinyloxy group, 2-cyano-2- Methylsulfone vinyloxy group, styryloxy group, 4-phenyl-
An alkenyloxy group having 2 to 10 carbon atoms such as a 2-butenyloxy group and a cinnamyloxy group is exemplified.
【0041】式(1)中、R1、R2、R3、R4、R5、
R6、R7、R8で示される置換または無置換のアルキル
チオ基の例としては、前記に挙げたアルキル基と同様な
置換基を有するアルキルチオ基であり、好ましくは、メ
チルチオ基、エチルチオ基、n−プロピルチオ基、is
o−プロピルチオ基、n−ブチルチオ基、iso−ブチ
ルチオ基、sec−ブチルチオ基、t−ブチルチオ基、
n−ペンチルチオ基、iso−ペンチルチオ基、ネオペ
ンチルチオ基、2−メチルブチルチオ基、メチルカルボ
キシルエチルチオ基、2−エチルヘキシルチオ基、3,
5,5−トリメチルヘキシルチオ基、デカリルチオ基な
どの炭素数1〜10のアルキルチオ基が挙げられる。In the formula (1), R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 ,
Examples of the substituted or unsubstituted alkylthio groups represented by R 6 , R 7 and R 8 are alkylthio groups having the same substituents as the above-mentioned alkyl groups, and are preferably methylthio groups, ethylthio groups, n-propylthio group, is
o-propylthio group, n-butylthio group, iso-butylthio group, sec-butylthio group, t-butylthio group,
n-pentylthio group, iso-pentylthio group, neopentylthio group, 2-methylbutylthio group, methylcarboxylethylthio group, 2-ethylhexylthio group, 3,
Examples thereof include an alkylthio group having 1 to 10 carbon atoms such as a 5,5-trimethylhexylthio group and a decalylthio group.
【0042】式(1)中、R1、R2、R3、R4、R5、
R6、R7、R8で示される置換または無置換のアラルキ
ルチオ基の例としては、前記に挙げたアルキル基と同様
な置換基を有するアラルキルチオ基であり、好ましく
は、ベンジルチオ基、ニトロベンジルチオ基、シアノベ
ンジルチオ基、ヒドロキシベンジルチオ基、メチルベン
ジルチオ基、トリフルオロメチルベンジルチオ基、ナフ
チルメチルチオ基、ニトロナフチルメチルチオ基、シア
ノナフチルメチルチオ基、ヒドロキシナフチルメチルチ
オ基、メチルナフチルメチルチオ基、トリフルオロメチ
ルナフチルメチルチオ基、フルオレン−9−イルエチル
チオ基などの炭素数7〜12のアラルキルチオ基等が挙
げられる。In the formula (1), R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 ,
Examples of the substituted or unsubstituted aralkylthio groups represented by R 6 , R 7 and R 8 are the aralkylthio groups having the same substituents as the above-mentioned alkyl groups, and are preferably a benzylthio group or a nitrothio group. Benzylthio, cyanobenzylthio, hydroxybenzylthio, methylbenzylthio, trifluoromethylbenzylthio, naphthylmethylthio, nitronaphthylmethylthio, cyanonaphthylmethylthio, hydroxynaphthylmethylthio, methylnaphthylmethylthio, Examples thereof include an aralkylthio group having 7 to 12 carbon atoms such as a trifluoromethylnaphthylmethylthio group and a fluoren-9-ylethylthio group.
【0043】式(1)中、R1、R2、R3、R4、R5、
R6、R7、R8で示される置換または無置換のアリール
チオ基の例としては前記に挙げたアルキル基と同様な置
換基を有するアリールチオ基であり、好ましくは、フェ
ニルチオ基、4−メチルフェニルチオ基、2−メトキシ
フェニルチオ基、4−t−ブチルフェニルチオ基、ナフ
チルチオ基等の炭素数6〜10のアリールチオ基などが
挙げられる。In the formula (1), R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 ,
Examples of the substituted or unsubstituted arylthio groups represented by R 6 , R 7 and R 8 are arylthio groups having the same substituents as the above-mentioned alkyl groups, and are preferably a phenylthio group, 4-methylphenyl Examples thereof include an arylthio group having 6 to 10 carbon atoms such as a thio group, a 2-methoxyphenylthio group, a 4-t-butylphenylthio group, and a naphthylthio group.
【0044】式(1)中、R1、R2、R3、R4、R5、
R6、R7、R8で示される置換または無置換のアルケニ
ルチオ基の例としては前記に挙げたアルキル基と同様な
置換基を有するアルケニルチオ基であり、好ましくは、
ビニルチオ基、アリルチオ基、ブテニルチオ基、ヘキサ
ンジエニルチオ基、スチリルチオ基、シクロヘキセニル
チオ基、デセニルチオ基等の炭素数2〜10のアルケニ
ルチオ基などが挙げられる。In the formula (1), R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 ,
Examples of the substituted or unsubstituted alkenylthio groups represented by R 6 , R 7 and R 8 are alkenylthio groups having the same substituents as the above-mentioned alkyl groups, and preferably
Examples thereof include an alkenylthio group having 2 to 10 carbon atoms such as a vinylthio group, an allylthio group, a butenylthio group, a hexanedienylthio group, a styrylthio group, a cyclohexenylthio group, and a decenylthio group.
【0045】式(1)中、R1、R2、R3、R4、R5、
R6、R7、R8で示される置換または無置換のアルキル
アミノ基の例としては、前記に挙げたアルキル基と同様
な置換基を有するアルキルアミノ基であり、好ましく
は、メチルアミノ基、エチルアミノ基、プロピルアミノ
基、ブチルアミノ基、ペンチルアミノ基、ヘキシルアミ
ノ基、ヘプチルアミノ基、オクチルアミノ基、2−エチ
ルヘキシルアミノ基、シクロヘキシルアミノ基、3,
5,5−トリメチルヘキシルアミノ基、ノニルアミノ
基、デシルアミノ基などの炭素数1〜10のモノアルキ
ルアミノ基や、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、
メチルエチルアミノ基、ジプロピルアミノ基、ジブチル
アミノ基、ピロリジノ基、ピペリジノ基、モルホリノ
基、ビス(メトキシエチル)アミノ基、ビス(エトキシ
エチル)アミノ基、ビス(プロポキシエチル)アミノ
基、ビス(ブトキシエチル)アミノ基、ジ(アセチルオ
キシエチル)アミノ基、ジ(プロピオニルオキシエチ
ル)アミノ基などの炭素数2〜10のジアルキルアミノ
基が挙げられる。In the formula (1), R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 ,
Examples of the substituted or unsubstituted alkylamino group represented by R 6 , R 7 , and R 8 include an alkylamino group having the same substituent as the above-described alkyl group, preferably a methylamino group, Ethylamino group, propylamino group, butylamino group, pentylamino group, hexylamino group, heptylamino group, octylamino group, 2-ethylhexylamino group, cyclohexylamino group, 3,
A monoalkylamino group having 1 to 10 carbon atoms such as a 5,5-trimethylhexylamino group, a nonylamino group, a decylamino group, a dimethylamino group, a diethylamino group,
Methylethylamino, dipropylamino, dibutylamino, pyrrolidino, piperidino, morpholino, bis (methoxyethyl) amino, bis (ethoxyethyl) amino, bis (propoxyethyl) amino, bis (butoxy) Examples thereof include dialkylamino groups having 2 to 10 carbon atoms such as an ethyl) amino group, a di (acetyloxyethyl) amino group, and a di (propionyloxyethyl) amino group.
【0046】式(1)中、R1、R2、R3、R4、R5、
R6、R7、R8で示される置換または無置換のアラルキ
ルアミノ基の例としては、前記に挙げたアルキル基と同
様な置換基を有するアラルキルアミノ基であり、好まし
くは、ベンジルアミノ基、フェネチルアミノ基、3−フ
ェニルプロピルアミノ基、4−エチルベンジルアミノ
基、4−イソプロピルベンジルアミノ基、N−メチルベ
ンジルアミノ基、N−エチルベンジルアミノ基、N−ア
リルベンジルアミノ基、N−(2−シアノエチル)ベン
ジルアミノ基、N−(2−アセトキシエチル)ベンジル
アミノ基などの炭素数7〜10のモノアラルキルアミノ
基や、ジベンジルアミノ基、ジフェネチルアミノ基、ビ
ス(4−エチルベンジル)アミノ基、ビス(4−イソプ
ロピルベンジル)アミノ基などの炭素数14〜20のジ
アラルキルアミノ基が挙げられる。In the formula (1), R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 ,
Examples of the substituted or unsubstituted aralkylamino groups represented by R 6 , R 7 , and R 8 are aralkylamino groups having the same substituents as the above-mentioned alkyl groups, preferably a benzylamino group, Phenethylamino group, 3-phenylpropylamino group, 4-ethylbenzylamino group, 4-isopropylbenzylamino group, N-methylbenzylamino group, N-ethylbenzylamino group, N-allylbenzylamino group, N- (2 A monoaralkylamino group having 7 to 10 carbon atoms, such as -cyanoethyl) benzylamino group, N- (2-acetoxyethyl) benzylamino group, dibenzylamino group, diphenethylamino group, bis (4-ethylbenzyl) amino , A diaralkylamino having 14 to 20 carbon atoms such as a bis (4-isopropylbenzyl) amino group And the like.
【0047】式(1)中、R1、R2、R3、R4、R5、
R6、R7、R8で示される置換または無置換のアリール
アミノ基の例としては、前記に挙げたアルキル基と同様
な置換基を有するアリールアミノ基であり、好ましく
は、アニリノ基、ナフチルアミノ基、トルイジノ基、キ
シリジノ基、エチルアニリノ基、イソプロピルアニリノ
基、メトキシアニリノ基、エトキシアニリノ基、クロロ
アニリノ基、アセチルアニリノ基、メトキシカルボニル
アニリノ基、エトキシカルボニルアニリノ基、プロポキ
シカルボニルアニリノ基、N−メチルアニリノ基、N−
エチルアニリノ基、N−メチルトルイジノ基など、炭素
数6〜10のモノアリールアミノ基、ジフェニルアミノ
基、ジトリルアミノ基、N−フェニル−N−トリルアミ
ノ基などの炭素数12〜14のジアリールアミノ基が挙
げられる。In the formula (1), R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 ,
Examples of the substituted or unsubstituted arylamino groups represented by R 6 , R 7 and R 8 are arylamino groups having the same substituents as the above-mentioned alkyl groups, preferably an anilino group and naphthyl Amino group, toluidino group, xylidino group, ethylanilino group, isopropylanilino group, methoxyanilino group, ethoxyanilino group, chloroanilino group, acetylanilino group, methoxycarbonylanilino group, ethoxycarbonylanilino group, propoxycarbonylani Lino group, N-methylanilino group, N-
Examples thereof include diarylamino groups having 12 to 14 carbon atoms such as a monoarylamino group having 6 to 10 carbon atoms such as an ethylanilino group and an N-methyltoluidino group, diphenylamino group, ditolylamino group, and N-phenyl-N-tolylamino group.
【0048】式(1)中、R1、R2、R3、R4、R5、
R6、R7、R8で示される置換または無置換のアルケニ
ルアミノ基の例としては、前記に挙げたアルキル基と同
様な置換基を有するアルケニルアミノ基であり、好まし
くは、ビニルアミノ基、アリルアミノ基、ブテニルアミ
ノ基、ペンテニルアミノ基、ヘキセニルアミノ基、シク
ロヘキセニルアミノ基、オクタジエニルアミノ基、アダ
マンテニルアミノ基、N−メチルビニルアミノ基、N−
メチルアリルアミノ基、N−エチルビニルアミノ基、N
−エチルアリルアミノ基などの炭素数2〜10のモノア
ルケニルアミノ基、ジビニルアミノ基、ジアリルアミノ
基、ジブテニルアミノ基、ジペンテニルアミノ基、ジヘ
キセニルアミノ基などの炭素数4〜12のジアルケニル
アミノ基が挙げられる。In the formula (1), R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 ,
Examples of the substituted or unsubstituted alkenylamino group represented by R 6 , R 7 , and R 8 are alkenylamino groups having the same substituents as the alkyl groups described above, and are preferably a vinylamino group, Allylamino group, butenylamino group, pentenylamino group, hexenylamino group, cyclohexenylamino group, octadienylamino group, adamantenylamino group, N-methylvinylamino group, N-
Methylallylamino group, N-ethylvinylamino group, N
A monoalkenylamino group having 2 to 10 carbon atoms such as an ethylallylamino group, a dialkenylamino group having 4 to 12 carbon atoms such as a divinylamino group, a diallylamino group, a dibutenylamino group, a dipentenylamino group, and a dihexenylamino group; Is mentioned.
【0049】式(1)中、R1、R2、R3、R4、R5、
R6、R7、R8で示される置換または無置換のアシル基
の例としては、前記に挙げたアルキル基と同様な置換基
を有するアシル基であり、好ましくは、ホルミル基、メ
チルカルボニル基、エチルカルボニル基、n−プロピル
カルボニル基、iso−プロピルカルボニル基、n−ブ
チルカルボニル基、iso−ブチルカルボニル基、se
c−ブチルカルボニル基、t−ブチルカルボニル基、n
−ペンチルカルボニル基、iso−ペンチルカルボニル
基、ネオペンチルカルボニル基、2−メチルブチルカル
ボニル基、ベンゾイル基、メチルベンゾイル基、エチル
ベンゾイル基、トリルカルボニル基、プロピルベンゾイ
ル基、4−t−ブチルベンゾイル基、ニトロベンジルカ
ルボニル基、3−ブトキシ−2−ナフトイル基、シンナ
モイル基などの炭素数1〜15のアシル基が挙げられ
る。In the formula (1), R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 ,
Examples of the substituted or unsubstituted acyl groups represented by R 6 , R 7 and R 8 are acyl groups having the same substituents as the above-mentioned alkyl groups, and are preferably a formyl group, a methylcarbonyl group , Ethylcarbonyl group, n-propylcarbonyl group, iso-propylcarbonyl group, n-butylcarbonyl group, iso-butylcarbonyl group, se
c-butylcarbonyl group, t-butylcarbonyl group, n
-Pentylcarbonyl group, iso-pentylcarbonyl group, neopentylcarbonyl group, 2-methylbutylcarbonyl group, benzoyl group, methylbenzoyl group, ethylbenzoyl group, tolylcarbonyl group, propylbenzoyl group, 4-t-butylbenzoyl group, An acyl group having 1 to 15 carbon atoms such as a nitrobenzylcarbonyl group, a 3-butoxy-2-naphthoyl group, and a cinnamoyl group is exemplified.
【0050】式(1)中、R1、R2、R3、R4、R5、
R6、R7、R8で示される置換または無置換のアルコキ
シカルボニル基の例としては、前記に挙げたアルキル基
と同様な置換基を有するアルコキシカルボニル基であ
り、好ましくはメトキシカルボニル基、エトキシカルボ
ニル基、n−プロポキシカルボニル基、iso−プロポ
キシカルボニル基、n−ブトキシカルボニル基、iso
−ブトキシカルボニル基、sec−ブトキシカルボニル
基、t−ブトキシカルボニル基、n−ペントキシカルボ
ニル基、iso−ペントキシカルボニル基、ネオペント
キシカルボニル基、2−ペントキシカルボニル基、2−
エチルヘキシルオキシカルボニル基、3,5,5−トリ
メチルヘキシルオキシカルボニル基、デカリルオキシカ
ルボニル基、シクロヘキシルオキシカルボニル基、クロ
ロエトキシカルボニル基、ヒドロキシメトキシカルボニ
ル基、ヒドロキシエトキシカルボニル基などの炭素数2
〜11のアルコキシカルボニル基;メトキシメトキシカ
ルボニル基、メトキシエトキシカルボニル基、エトキシ
エトキシカルボニル基、プロポキシエトキシカルボニル
基、ブトキシエトキシカルボニル基、ペントキシエトキ
シカルボニル基、ヘキシルオキシエトキシカルボニル
基、ブトキシブトキシカルボニル基、ヘキシルオキシブ
トキシカルボニル基、ヒドロキシメトキシメトキシカル
ボニル基、ヒドロキシエトキシエトキシカルボニル基な
どのアルコキシ基が置換した炭素数3〜11のアルコキ
シカルボニル基;メトキシメトキシメトキシカルボニル
基、メトキシエトキシエトキシカルボニル基、エトキシ
エトキシエトキシカルボニル基、プロポキシエトキシエ
トキシカルボニル基、ブトキシエトキシエトキシカルボ
ニル基、ペントキシエトキシエトキシカルボニル基、ヘ
キシルオキシエトキシエトキシカルボニル基などのアル
コキシアルコキシ基が置換した炭素数4〜11のアルコ
キシカルボニル基が挙げられる。In the formula (1), R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 ,
Examples of the substituted or unsubstituted alkoxycarbonyl groups represented by R 6 , R 7 and R 8 are alkoxycarbonyl groups having the same substituents as the above-mentioned alkyl groups, preferably methoxycarbonyl groups and ethoxy groups. Carbonyl group, n-propoxycarbonyl group, iso-propoxycarbonyl group, n-butoxycarbonyl group, iso
-Butoxycarbonyl group, sec-butoxycarbonyl group, t-butoxycarbonyl group, n-pentoxycarbonyl group, iso-pentoxycarbonyl group, neopentoxycarbonyl group, 2-pentoxycarbonyl group, 2-
Carbon number 2 such as ethylhexyloxycarbonyl group, 3,5,5-trimethylhexyloxycarbonyl group, decalyloxycarbonyl group, cyclohexyloxycarbonyl group, chloroethoxycarbonyl group, hydroxymethoxycarbonyl group, hydroxyethoxycarbonyl group, etc.
To 11 alkoxycarbonyl groups; methoxymethoxycarbonyl group, methoxyethoxycarbonyl group, ethoxyethoxycarbonyl group, propoxyethoxycarbonyl group, butoxyethoxycarbonyl group, pentoxyethoxycarbonyl group, hexyloxyethoxycarbonyl group, butoxybutoxycarbonyl group, hexyl An alkoxycarbonyl group having 3 to 11 carbon atoms substituted by an alkoxy group such as an oxybutoxycarbonyl group, a hydroxymethoxymethoxycarbonyl group, or a hydroxyethoxyethoxycarbonyl group; a methoxymethoxymethoxycarbonyl group, a methoxyethoxyethoxycarbonyl group, an ethoxyethoxyethoxycarbonyl group , Propoxyethoxyethoxycarbonyl, butoxyethoxyethoxycarbonyl, pentoxy Butoxy ethoxycarbonyl group, alkoxyalkoxy groups such as hexyloxy ethoxyethoxy group is an alkoxycarbonyl group having a carbon number of 4-11 substituted.
【0051】式(1)中、R1、R2、R3、R4、R5、
R6、R7、R8で示される置換または無置換のアラルキ
ルオキシカルボニル基の例としては、前記に挙げたアル
キル基と同様な置換基を有するアラルキルオキシカルボ
ニル基であり、好ましくは、ベンジルオキシカルボニル
基、ニトロベンジルオキシカルボニル基、シアノベンジ
ルオキシカルボニル基、ヒドロキシベンジルオキシカル
ボニル基、メチルベンジルオキシカルボニル基、トリフ
ルオロメチルベンジルオキシカルボニル基、ナフチルメ
トキシカルボニル基、ニトロナフチルメトキシカルボニ
ル基、シアノナフチルメトキシカルボニル基、ヒドロキ
シナフチルメトキシカルボニル基、メチルナフチルメト
キシカルボニル基、トリフルオロメチルナフチルメトキ
シカルボニル基、フルオレン−9−イルエトキシカルボ
ニル基などの炭素数8〜16のアラルキルオキシカルボ
ニル基等が挙げられる。In the formula (1), R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 ,
Examples of the substituted or unsubstituted aralkyloxycarbonyl groups represented by R 6 , R 7 and R 8 are aralkyloxycarbonyl groups having the same substituents as the above-mentioned alkyl groups, and preferably benzyloxy Carbonyl, nitrobenzyloxycarbonyl, cyanobenzyloxycarbonyl, hydroxybenzyloxycarbonyl, methylbenzyloxycarbonyl, trifluoromethylbenzyloxycarbonyl, naphthylmethoxycarbonyl, nitronaphthylmethoxycarbonyl, cyanonaphthylmethoxycarbonyl Charcoal, such as a hydroxynaphthylmethoxycarbonyl group, a methylnaphthylmethoxycarbonyl group, a trifluoromethylnaphthylmethoxycarbonyl group, a fluoren-9-ylethoxycarbonyl group, Number 8-16 aralkyloxycarbonyl groups such like.
【0052】式(1)中、R1、R2、R3、R4、R5、
R6、R7、R8で示される置換または無置換のアリール
オキシカルボニル基の例としては、前記に挙げたアリー
ル基と同様な置換基を有するアリールオキシカルボニル
基であり、好ましくは、フェノキシカルボニル基、2−
メチルフェノキシカルボニル基、4−メチルフェノキシ
カルボニル基、4−t−ブチルフェノキシカルボニル
基、2−メトキシフェノキシカルボニル基、4−iso
−プロピルフェノキシカルボニル基、ナフトキシカルボ
ニル基などの炭素数7〜11のアリールオキシカルボニ
ル基が挙げられる。In the formula (1), R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 ,
Examples of the substituted or unsubstituted aryloxycarbonyl groups represented by R 6 , R 7 and R 8 are aryloxycarbonyl groups having the same substituents as the above-mentioned aryl groups, and preferably phenoxycarbonyl Group, 2-
Methylphenoxycarbonyl group, 4-methylphenoxycarbonyl group, 4-t-butylphenoxycarbonyl group, 2-methoxyphenoxycarbonyl group, 4-iso
And an aryloxycarbonyl group having 7 to 11 carbon atoms such as -propylphenoxycarbonyl group and naphthoxycarbonyl group.
【0053】式(1)中、R1、R2、R3、R4、R5、
R6、R7、R8で示される置換または無置換のアルケニ
ルオキシカルボニル基の例としては、前記に挙げたアル
キル基と同様な置換基を有するアルケニルオキシカルボ
ニル基であり、好ましくは、ビニルオキシカルボニル
基、プロペニルオキシカルボニル基、1−ブテニルオキ
シカルボニル基、iso−ブテニルオキシカルボニル
基、1−ペンテニルオキシカルボニル基、2−ペンテニ
ルオキシカルボニル基、2−メチル−1−ブテニルオキ
シカルボニル基、3−メチル−1−ブテニルオキシカル
ボニル基、2−メチル−2−ブテニルオキシカルボニル
基、2,2−ジシアノビニルオキシカルボニル基、2−
シアノ−2−メチルカルボキシルビニルオキシカルボニ
ル基、2−シアノ−2−メチルスルホンビニルオキシカ
ルボニル基、スチリルオキシカルボニル基、4−フェニ
ル−2−ブテニルオキシカルボニル基などの炭素数3〜
11のアルケニルオキシカルボニル基が挙げられる。In the formula (1), R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 ,
Examples of the substituted or unsubstituted alkenyloxycarbonyl groups represented by R 6 , R 7 and R 8 are alkenyloxycarbonyl groups having the same substituents as the above-mentioned alkyl groups, and are preferably vinyloxy Carbonyl group, propenyloxycarbonyl group, 1-butenyloxycarbonyl group, iso-butenyloxycarbonyl group, 1-pentenyloxycarbonyl group, 2-pentenyloxycarbonyl group, 2-methyl-1-butenyloxycarbonyl group, 3-methyl-1-butenyloxycarbonyl group, 2-methyl-2-butenyloxycarbonyl group, 2,2-dicyanovinyloxycarbonyl group, 2-
A carbon number of 3 to 3 such as a cyano-2-methylcarboxylvinyloxycarbonyl group, a 2-cyano-2-methylsulfonevinyloxycarbonyl group, a styryloxycarbonyl group, and a 4-phenyl-2-butenyloxycarbonyl group;
And 11 alkenyloxycarbonyl groups.
【0054】式(1)中、R1、R2、R3、R4、R5、
R6、R7、R8で示される置換または無置換のアルキル
アミノカルボニル基の例としては、前記に挙げたアルキ
ル基と同様な置換基を有するアルキルアミノカルボニル
基であり、好ましくはメチルアミノカルボニル基、エチ
ルアミノカルボニル基、プロピルアミノカルボニル基、
ブチルアミノカルボニル基、ペンチルアミノカルボニル
基、ヘキシルアミノカルボニル基、ヘプチルアミノカル
ボニル基、オクチルアミノカルボニル基、ノニルアミノ
カルボニル基、3,5,5−トリメチルヘキシルアミノ
カルボニル基、2−エチルヘキシルアミノカルボニル基
等の炭素数2〜10のモノアルキルアミノカルボニル
基;ジメチルアミノカルボニル基、ジエチルアミノカル
ボニル基、ジプロピルアミノカルボニル基、ジブチルア
ミノカルボニル基、ジペンチルアミノカルボニル基、ジ
ヘキシルアミノカルボニル基、ジヘプチルアミノカルボ
ニル基、ジオクチルアミノカルボニル基、ピペリジノカ
ルボニル基、モルホリノカルボニル基、4−メチルピペ
ラジノカルボニル基、4−エチルピペラジノカルボニル
基等の炭素数3〜20のジアルキルアミノカルボニル基
が挙げられる。In the formula (1), R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 ,
Examples of the substituted or unsubstituted alkylaminocarbonyl groups represented by R 6 , R 7 and R 8 are alkylaminocarbonyl groups having the same substituents as the above-mentioned alkyl groups, preferably methylaminocarbonyl Group, ethylaminocarbonyl group, propylaminocarbonyl group,
Butylaminocarbonyl group, pentylaminocarbonyl group, hexylaminocarbonyl group, heptylaminocarbonyl group, octylaminocarbonyl group, nonylaminocarbonyl group, 3,5,5-trimethylhexylaminocarbonyl group, 2-ethylhexylaminocarbonyl group, etc. Monoalkylaminocarbonyl group having 2 to 10 carbon atoms; dimethylaminocarbonyl group, diethylaminocarbonyl group, dipropylaminocarbonyl group, dibutylaminocarbonyl group, dipentylaminocarbonyl group, dihexylaminocarbonyl group, diheptylaminocarbonyl group, dioctylamino 3 to 2 carbon atoms such as a carbonyl group, a piperidinocarbonyl group, a morpholinocarbonyl group, a 4-methylpiperazinocarbonyl group, and a 4-ethylpiperazinocarbonyl group. Include dialkylaminocarbonyl groups of.
【0055】式(1)中、R1、R2、R3、R4、R5、
R6、R7、R8で示される置換または無置換のアラルキ
ルアミノカルボニル基の例としては、前記に挙げたアル
キル基と同様な置換基を有するアラルキルアミノカルボ
ニル基であり、好ましくは、ベンジルアミノカルボニル
基、フェネチルアミノカルボニル基、3−フェニルプロ
ピルアミノカルボニル基、4−エチルベンジルアミノカ
ルボニル基、4−イソプロピルベンジルアミノカルボニ
ル基、N−メチルベンジルアミノカルボニル基、N−エ
チルベンジルアミノカルボニル基、N−アリルベンジル
アミノカルボニル基、N−(2−シアノエチル)ベンジ
ルアミノカルボニル基、N−(2−アセトキシエチル)
ベンジルアミノカルボニル基などの炭素数8〜11のモ
ノアラルキルアミノカルボニル基や、ジベンジルアミノ
カルボニル基、ジフェネチルアミノカルボニル基、ビス
(4−エチルベンジル)アミノカルボニル基、ビス(4
−イソプロピルベンジル)アミノカルボニル基などの炭
素数15〜21のジアラルキルアミノカルボニル基が挙
げられる。In the formula (1), R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 ,
Examples of the substituted or unsubstituted aralkylaminocarbonyl groups represented by R 6 , R 7 and R 8 are aralkylaminocarbonyl groups having the same substituents as the above-mentioned alkyl groups, and preferably benzylamino Carbonyl group, phenethylaminocarbonyl group, 3-phenylpropylaminocarbonyl group, 4-ethylbenzylaminocarbonyl group, 4-isopropylbenzylaminocarbonyl group, N-methylbenzylaminocarbonyl group, N-ethylbenzylaminocarbonyl group, N- Allylbenzylaminocarbonyl group, N- (2-cyanoethyl) benzylaminocarbonyl group, N- (2-acetoxyethyl)
A monoaralkylaminocarbonyl group having 8 to 11 carbon atoms such as a benzylaminocarbonyl group, a dibenzylaminocarbonyl group, a diphenethylaminocarbonyl group, a bis (4-ethylbenzyl) aminocarbonyl group, a bis (4
Diisopropylaminocarbonyl group having 15 to 21 carbon atoms such as -isopropylbenzyl) aminocarbonyl group.
【0056】式(1)中、R1、R2、R3、R4、R5、
R6、R7、R8で示される置換または無置換のアリール
アミノカルボニル基の例としては、前記に挙げたアルキ
ル基と同様な置換基を有するアリールアミノカルボニル
基であり、好ましくは、アニリノカルボニル基、ナフチ
ルアミノカルボニル基、トルイジノカルボニル基、キシ
リジノカルボニル基、エチルアニリノカルボニル基、イ
ソプロピルアニリノカルボニル基、メトキシアニリノカ
ルボニル基、エトキシアニリノカルボニル基、クロロア
ニリノカルボニル基、アセチルアニリノカルボニル基、
メトキシカルボニルアニリノカルボニル基、エトキシカ
ルボニルアニリノカルボニル基、プロポキシカルボニル
アニリノカルボニル基、N−メチルアニリノカルボニル
基、N−エチルアニリノカルボニル基、N−メチルトル
イジノカルボニル基など、炭素数7〜11のモノアリー
ルアミノカルボニル基、ジフェニルアミノカルボニル
基、ジトリルアミノカルボニル基、N−フェニル−N−
トリルアミノカルボニル基などの炭素数13〜15のジ
アリールアミノカルボニル基が挙げられる。In the formula (1), R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 ,
Examples of the substituted or unsubstituted arylaminocarbonyl groups represented by R 6 , R 7 and R 8 are arylaminocarbonyl groups having the same substituents as the above-mentioned alkyl groups. Carbonyl group, naphthylaminocarbonyl group, toluidinocarbonyl group, xylidinocarbonyl group, ethylanilinocarbonyl group, isopropylanilinocarbonyl group, methoxyanilinocarbonyl group, ethoxyanilinocarbonyl group, chloroanilinocarbonyl group, acetyl Anilino carbonyl group,
A methoxycarbonylanilinocarbonyl group, an ethoxycarbonylanilinocarbonyl group, a propoxycarbonylanilinocarbonyl group, an N-methylanilinocarbonyl group, an N-ethylanilinocarbonyl group, an N-methyltoluidinocarbonyl group; To 11 monoarylaminocarbonyl group, diphenylaminocarbonyl group, ditolylaminocarbonyl group, N-phenyl-N-
A diarylaminocarbonyl group having 13 to 15 carbon atoms such as a tolylaminocarbonyl group is exemplified.
【0057】式(1)中、R1、R2、R3、R4、R5、
R6、R7、R8で示される置換または無置換のアルケニ
ルアミノカルボニル基の例としては、前記に挙げたアル
キル基と同様な置換基を有するアルケニルアミノカルボ
ニル基であり、好ましくは、ビニルアミノカルボニル
基、アリルアミノカルボニル基、ブテニルアミノカルボ
ニル基、ペンテニルアミノカルボニル基、ヘキセニルア
ミノカルボニル基、シクロヘキセニルアミノカルボニル
基、オクタジエニルアミノカルボニル基、アダマンテニ
ルアミノカルボニル基、N−メチルビニルアミノカルボ
ニル基、N−メチルアリルアミノカルボニル基、N−エ
チルビニルアミノカルボニル基、N−エチルビニルアミ
ノカルボニル基などの炭素数3〜11のモノアルケニル
アミノカルボニル基、ジビニルアミノカルボニル基、ジ
アリルアミノカルボニル基、ジブテニルアミノカルボニ
ル基、ジペンテニルアミノカルボニル基、ジヘキセニル
アミノカルボニル基などの炭素数5〜13のジアルケニ
ルアミノカルボニル基が挙げられる。In the formula (1), R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 ,
Examples of the substituted or unsubstituted alkenylaminocarbonyl groups represented by R 6 , R 7 and R 8 are alkenylaminocarbonyl groups having the same substituents as the above-mentioned alkyl groups, and are preferably vinylamino Carbonyl group, allylaminocarbonyl group, butenylaminocarbonyl group, pentenylaminocarbonyl group, hexenylaminocarbonyl group, cyclohexenylaminocarbonyl group, octadienylaminocarbonyl group, adamantenylaminocarbonyl group, N-methylvinylaminocarbonyl group C3-11 monoalkenylaminocarbonyl groups such as N-methylallylaminocarbonyl group, N-ethylvinylaminocarbonyl group, N-ethylvinylaminocarbonyl group, divinylaminocarbonyl group, diallylaminocarb Group, jib pantothenyl aminocarbonyl group, di-pentenyl aminocarbonyl groups include dialkenylamino aminocarbonyl group 5-13 carbon atoms such as di-hexenyl aminocarbonyl group.
【0058】式(1)中、R1、R2、R3、R4、R5、
R6、R7、R8で示される置換または無置換の複素環基
の例としては、前記に挙げたアルキル基と同様な置換基
を有する複素環基であり、好ましくは、フラニル基、ピ
ロリル基、3−ピロリノ基、ピロリジノ基、1,3−オ
キソラニル基、ピラゾリル基、2−ピラゾリニル基、ピ
ラゾリジニル基、イミダゾリル基、オキサゾリル基、チ
アゾリル基、1,2,3−オキサジアゾリル基、1,
2,3−トリアゾリル基、1,2,4−トリアゾリル
基、1,3,4−チアジアゾリル基、4H−ピラニル
基、ピリジニル基、ピペリジニル基、ジオキサニル基、
モルホリニル基、ピリダジニル基、ピリミジニル基、ピ
ラジニル基、ピペラジニル基、トリアジニル基、ベンゾ
フラニル基、インドーリル基、チオナフセニル基、ベン
ズイミダゾリル基、ベンゾチアゾリル基、プリニル基、
キノリニル基、イソキノリニル基、クマリニル基、シン
ノリニル基、キノキサリニル基、ジベンゾフラニル基、
カルバゾリル基、フェナントロニリル基、フェノチアジ
ニル基、フラボニル基、フタルイミド基、ナフチルイミ
ド基などの無置換複素環基、あるいは以下の置換基、即
ち、In the formula (1), R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 ,
Examples of the substituted or unsubstituted heterocyclic group represented by R 6 , R 7 , and R 8 include a heterocyclic group having the same substituent as the above-mentioned alkyl group, preferably a furanyl group, a pyrrolyl group. Group, 3-pyrrolino group, pyrrolidino group, 1,3-oxolanyl group, pyrazolyl group, 2-pyrazolinyl group, pyrazolidinyl group, imidazolyl group, oxazolyl group, thiazolyl group, 1,2,3-oxadiazolyl group, 1,
2,3-triazolyl group, 1,2,4-triazolyl group, 1,3,4-thiadiazolyl group, 4H-pyranyl group, pyridinyl group, piperidinyl group, dioxanyl group,
Morpholinyl group, pyridazinyl group, pyrimidinyl group, pyrazinyl group, piperazinyl group, triazinyl group, benzofuranyl group, indoleyl group, thionaphthenyl group, benzimidazolyl group, benzothiazolyl group, purinyl group,
Quinolinyl group, isoquinolinyl group, coumarinyl group, cinnolinyl group, quinoxalinyl group, dibenzofuranyl group,
Carbazolyl group, phenanthronylyl group, phenothiazinyl group, flavonyl group, phthalimido group, unsubstituted heterocyclic group such as naphthylimido group, or the following substituents:
【0059】フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素
原子等のハロゲン原子;シアノ基;メチル基、エチル
基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、
ヘプチル基、オクチル基、デシル基、メトキシメチル
基、エトキシエチル基、エトキシエチル基、トリフルオ
ロメチル基等のアルキル基;ベンジル基、フェネチル基
などのアラルキル基;フェニル基、トリル基、ナフチル
基、キシリル基、メシル基、クロロフェニル基、メトキ
シフェニル基等のアリール基;メトキシ基、エトキシ
基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペントキシ基、ヘキシ
ルオキシ基、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ基、ノ
ニルオキシ基、デシルオキシ基、2−エチルヘキシル
基、3,5,5−トリメチルヘキシルオキシ基等のアル
コキシ基;ベンジルオキシ基、フェネチルオキシ基など
のアラルキルオキシ基;フェノキシ基、トリルオキシ
基、ナフトキシ基、キシリルオキシ基、メシルオキシ
基、クロロフェノキシ基、メトキシフェノキシ基等のア
リールオキシ基;ビニル基、アリル基、ブテニル基、ブ
タジエニル基、ペンテニル基、オクテニル基等のアルケ
ニル基;ビニルオキシ基、アリルオキシ基、ブテニルオ
キシ基、ブタジエニルオキシ基、ペンテニルオキシ基、
オクテニルオキシ基等のアルケニルオキシ基;メチルチ
オ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、ブチルチオ基、
ペンチルチオ基、ヘキシルチオ基、ヘプチルチオ基、オ
クチルチオ基、デシルチオ基、メトキシメチルチオ基、
エトキシエチルチオ基、エトキシエチルチオ基、トリフ
ルオロメチルチオ基等のアルキルチオ基;ベンジルチオ
基、フェネチルチオ基などのアラルキルチオ基;フェニ
ルチオ基、トリルチオ基、ナフチルチオ基、キシリルチ
オ基、メシルチオ基、クロロフェニルチオ基、メトキシ
フェニルチオ基等のアリールチオ基;ジメチルアミノ
基、ジエチルアミノ基、ジプロピルアミノ基、ジブチル
アミノ基等のジアルキルアミノ基;Halogen atoms such as fluorine, chlorine, bromine and iodine; cyano; methyl, ethyl, propyl, butyl, pentyl, hexyl,
Alkyl groups such as heptyl group, octyl group, decyl group, methoxymethyl group, ethoxyethyl group, ethoxyethyl group and trifluoromethyl group; aralkyl groups such as benzyl group and phenethyl group; phenyl group, tolyl group, naphthyl group and xylyl Aryl groups such as methoxy, ethoxy, propoxy, butoxy, pentoxy, hexyloxy, heptyloxy, octyloxy, nonyloxy, decyloxy, 2 Alkoxy groups such as -ethylhexyl group and 3,5,5-trimethylhexyloxy group; aralkyloxy groups such as benzyloxy group and phenethyloxy group; phenoxy group, tolyloxy group, naphthoxy group, xyloxy group, mesyloxy group, and chlorophenoxy group , Aryloxy groups such as Kishifenokishi group; vinyl group, allyl group, butenyl group, butadienyl group, pentenyl group, alkenyl groups such as octenyl group; vinyloxy group, allyloxy group, butenyloxy group, butadienyl group, pentenyl group,
Alkenyloxy groups such as octenyloxy group; methylthio group, ethylthio group, propylthio group, butylthio group,
Pentylthio, hexylthio, heptylthio, octylthio, decylthio, methoxymethylthio,
Alkylthio groups such as ethoxyethylthio, ethoxyethylthio, and trifluoromethylthio; aralkylthio such as benzylthio and phenethylthio; phenylthio, tolylthio, naphthylthio, xylylthio, mesylthio, chlorophenylthio, Arylthio groups such as methoxyphenylthio group; dialkylamino groups such as dimethylamino group, diethylamino group, dipropylamino group, dibutylamino group;
【0060】アセチル基、プロピオニル基、ブタノイル
基等のアシル基;メトキシカルボニル基、エトキシカル
ボニル基等のアルコキシカルボニル基;ベンジルオキシ
カルボニル基、フェネチルオキシカルボニル基等のアラ
ルキルオキシカルボニル基;フェノキシカルボニル基、
トリルオキシカルボニル基、ナフトキシカルボニル基、
キシリルオキシカルボニル基、メシルオキシカルボニル
基、クロロフェノキシカルボニル基、メトキシフェノキ
シカルボニル基等のアリールオキシカルボニル基;ビニ
ルオキシカルボニル基、アリルオキシカルボニル基、ブ
テニルオキシカルボニル基、ブタジエニルオキシカルボ
ニル基、ペンテニルオキシカルボニル基、オクテニルオ
キシカルボニル基等のアルケニルオキシカルボニル基;
メチルアミノカルボニル基、エチルアミノカルボニル
基、プロピルアミノカルボニル基、ブチルアミノカルボ
ニル基、ペンチルアミノカルボニル基、ヘキシルアミノ
カルボニル基、ヘプチルアミノカルボニル基、オクチル
アミノカルボニル基、ノニルアミノカルボニル基、3,
5,5−トリメチルヘキシルアミノカルボニル基、2−
エチルヘキシルアミノカルボニル基等の炭素数2〜10
のモノアルキルアミノカルボニル基や、ジメチルアミノ
カルボニル基、ジエチルアミノカルボニル基、ジプロピ
ルアミノカルボニル基、ジブチルアミノカルボニル基、
ジペンチルアミノカルボニル基、ジヘキシルアミノカル
ボニル基、ジヘプチルアミノカルボニル基、ジオクチル
アミノカルボニル基、ピペリジノカルボニル基、モルホ
リノカルボニル基、4−メチルピペラジノカルボニル
基、4−エチルピペラジノカルボニル基等の炭素数3〜
20のジアルキルアミノカルボニル基等のアルキルアミ
ノカルボニル基;Acyl groups such as acetyl group, propionyl group and butanoyl group; alkoxycarbonyl groups such as methoxycarbonyl group and ethoxycarbonyl group; aralkyloxycarbonyl groups such as benzyloxycarbonyl group and phenethyloxycarbonyl group;
Tolyloxycarbonyl group, naphthoxycarbonyl group,
Aryloxycarbonyl groups such as xylyloxycarbonyl group, mesyloxycarbonyl group, chlorophenoxycarbonyl group and methoxyphenoxycarbonyl group; vinyloxycarbonyl group, allyloxycarbonyl group, butenyloxycarbonyl group, butadienyloxycarbonyl group, Alkenyloxycarbonyl groups such as pentenyloxycarbonyl and octenyloxycarbonyl;
Methylaminocarbonyl group, ethylaminocarbonyl group, propylaminocarbonyl group, butylaminocarbonyl group, pentylaminocarbonyl group, hexylaminocarbonyl group, heptylaminocarbonyl group, octylaminocarbonyl group, nonylaminocarbonyl group, 3,
5,5-trimethylhexylaminocarbonyl group, 2-
2 to 10 carbon atoms such as an ethylhexylaminocarbonyl group
A monoalkylaminocarbonyl group, a dimethylaminocarbonyl group, a diethylaminocarbonyl group, a dipropylaminocarbonyl group, a dibutylaminocarbonyl group,
Dipentylaminocarbonyl group, dihexylaminocarbonyl group, diheptylaminocarbonyl group, dioctylaminocarbonyl group, piperidinocarbonyl group, morpholinocarbonyl group, 4-methylpiperazinocarbonyl group, 4-ethylpiperazinocarbonyl group, etc. Carbon number 3 ~
20 alkylaminocarbonyl groups such as 20 dialkylaminocarbonyl groups;
【0061】フラニル基、ピロリル基、3−ピロリノ
基、ピロリジノ基、1,3−オキソラニル基、ピラゾリ
ル基、2−ピラゾリニル基、ピラゾリジニル基、イミダ
ゾリル基、オキサゾリル基、チアゾリル基、1,2,3
−オキサジアゾリル基、1,2,3−トリアゾリル基、
1,2,4−トリアゾリル基、1,3,4−チアジアゾ
リル基、4H−ピラニル基、ピリジニル基、ピペリジニ
ル基、ジオキサニル基、モルホリニル基、ピリダジニル
基、ピリミジニル基、ピラジニル基、ピペラジニル基、
トリアジニル基、ベンゾフラニル基、インドーリル基、
チオナフセニル基、ベンズイミダゾリル基、ベンゾチア
ゾリル基、プリニル基、キノリニル基、イソキノリニル
基、クマリニル基、シンノリニル基、キノキサリニル
基、ジベンゾフラニル基、カルバゾリル基、フェナント
ロニリル基、フェノチアジニル基、フラボニル基等の複
素環基;などの置換基により置換した複素環基が挙げら
れる。Furanyl, pyrrolyl, 3-pyrrolino, pyrrolidino, 1,3-oxolanyl, pyrazolyl, 2-pyrazolinyl, pyrazolidinyl, imidazolyl, oxazolyl, thiazolyl, 1,2,3
-Oxadiazolyl group, 1,2,3-triazolyl group,
1,2,4-triazolyl group, 1,3,4-thiadiazolyl group, 4H-pyranyl group, pyridinyl group, piperidinyl group, dioxanyl group, morpholinyl group, pyridazinyl group, pyrimidinyl group, pyrazinyl group, piperazinyl group,
Triazinyl group, benzofuranyl group, indolyl group,
Thionaphthenyl group, benzimidazolyl group, benzothiazolyl group, prenyl group, quinolinyl group, isoquinolinyl group, coumarinyl group, cinnolinyl group, quinoxalinyl group, dibenzofuranyl group, carbazolyl group, phenanthronylyl group, phenothiazinyl group, flavonyl group, etc. And a heterocyclic group substituted with a substituent such as a heterocyclic group.
【0062】式(1)中、R1、R2、R3、R4、R5、
R6、R7、R8で示される置換または無置換のアルキル
スルホニル基の例としては、前記に挙げたアルキル基と
同様な置換基を有するアルキルスルホニル基であり、好
ましくは、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、
n−プロピルスルホニル基、イソプロピルスルホニル
基、n−ブチルスルホニル基、イソブチルスルホニル
基、t−ブチルスルホニル基、n−ペンチルスルホニル
基、イソアミルスルホニル基、t−アミルスルホニル
基、シクロペンチルスルホニル基、n−ヘキシルスルホ
ニル基、シクロヘキシルスルホニル基、n−ヘプチルス
ルホニル基、n−オクチルスルホニル基、2−エチルヘ
キシルスルホニル基、3,5,5−トリメチルシクロヘ
キシルスルホニル基、n−ノニルスルホニル基、n−デ
シルスルホニル基、デカリルスルホニル基、アダマンチ
ルスルホニル基、トリフルオロメチルスルホニル基、な
どの炭素数1〜10のアルキルスルホニル基が挙げられ
る。In the formula (1), R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 ,
Examples of the substituted or unsubstituted alkylsulfonyl groups represented by R 6 , R 7 and R 8 are the alkylsulfonyl groups having the same substituents as the above-mentioned alkyl groups, and are preferably methylsulfonyl groups, Ethylsulfonyl group,
n-propylsulfonyl, isopropylsulfonyl, n-butylsulfonyl, isobutylsulfonyl, t-butylsulfonyl, n-pentylsulfonyl, isoamylsulfonyl, t-amylsulfonyl, cyclopentylsulfonyl, n-hexylsulfonyl Group, cyclohexylsulfonyl group, n-heptylsulfonyl group, n-octylsulfonyl group, 2-ethylhexylsulfonyl group, 3,5,5-trimethylcyclohexylsulfonyl group, n-nonylsulfonyl group, n-decylsulfonyl group, decalylsulfonyl Groups, an adamantylsulfonyl group, a trifluoromethylsulfonyl group, and the like, and an alkylsulfonyl group having 1 to 10 carbon atoms.
【0063】式(1)中、R1、R2、R3、R4、R5、
R6、R7、R8で示される置換または無置換のアリール
スルホニル基の例としては、前記に挙げたアルキル基と
同様な置換基を有するアリールスルホニル基であり、好
ましくは、フェニルスルホニル基、トリルスルホニル
基、キシリルスルホニル基、イソプロピルフェニルスル
ホニル基、t−ブチルフェニルスルホニル基、フルオロ
フェニルスルホニル基、クロロフェニルスルホニル基、
トリフルオロメチルフェニルスルホニル基などの炭素数
6〜10のアリールスルホニル基が挙げられる。In the formula (1), R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 ,
Examples of the substituted or unsubstituted arylsulfonyl groups represented by R 6 , R 7 and R 8 are the arylsulfonyl groups having the same substituents as the above-mentioned alkyl groups, and preferably a phenylsulfonyl group, Tolylsulfonyl group, xylylsulfonyl group, isopropylphenylsulfonyl group, t-butylphenylsulfonyl group, fluorophenylsulfonyl group, chlorophenylsulfonyl group,
An arylsulfonyl group having 6 to 10 carbon atoms such as a trifluoromethylphenylsulfonyl group is exemplified.
【0064】本発明に用いる一般式(1)で示される化
合物は、互変可能な構造を有しており、互変異性体を有
することが可能である。具体的には、式(2−1)乃至
式(5−2)The compound represented by formula (1) used in the present invention has a tautomeric structure and can have a tautomer. Specifically, equations (2-1) to (5-2)
【0065】[0065]
【化3】 Embedded image
【0066】[0066]
【化4】 Embedded image
【0067】[0067]
【化5】 Embedded image
【0068】[0068]
【化6】 Embedded image
【0069】[0069]
【化7】 Embedded image
【0070】[0070]
【化8】 に示される構造であり、本発明では、便宜上一般式
(1)の構造を示しているが、一般式(2−1)、一般
式(2−2)、一般式(3)、一般式(4)、一般式
(5−1)、または一般式(5−2)の構造を持つ化合
物であっても良く、一般式(1)乃至一般式(5−2)
の各構造の混合体であっても一向に構わず、自由に用い
ることができる。Embedded image In the present invention, the structure of the general formula (1) is shown for convenience, but the general formula (2-1), the general formula (2-2), the general formula (3), the general formula (3) 4) or a compound having the structure of the general formula (5-1) or the general formula (5-2), and may be a compound represented by the general formulas (1) to (5-2)
A mixture of the above structures may be used arbitrarily and can be used freely.
【0071】本発明の一般式(1)で示される化合物の
合成法としては、例えば、式(6)As a method for synthesizing the compound represented by the general formula (1) of the present invention, for example, the compound represented by the formula (6)
【0072】[0072]
【化9】 Embedded image
【0073】〔式中のR1、R2、R3、R4は、式(1)
中のR1、R2、R3、R4と同一の意を表す。〕で示され
る化合物を、式(7)[Wherein R 1 , R 2 , R 3 , and R 4 represent the formula (1)
It has the same meaning as R 1 , R 2 , R 3 and R 4 in the formula. A compound represented by the formula (7)
【0074】[0074]
【化10】 Embedded image
【0075】〔式中のR5、R6、R7、R8は、式(1)
中のR5、R6、R7、R8と同一の意を表す。〕で示され
る化合物とともに、溶媒の存在下もしくは無溶媒下で加
熱反応することで、一般式(1)の化合物を得ることが
できる。また、反応の際、必要に応じて触媒を用いるこ
ともできる。[Wherein R 5 , R 6 , R 7 , and R 8 represent the formula (1)
Represents the same meaning as R 5 , R 6 , R 7 , and R 8 in FIG . The compound of the general formula (1) can be obtained by performing a heat reaction in the presence or absence of a solvent together with the compound of the formula (1). In the reaction, a catalyst can be used if necessary.
【0076】加熱反応の際に使用する溶媒としては、ス
ルホランなどの含硫溶媒、N−メチル−2−ピロリジノ
ン、N,N−ジメチルイミダゾリジン−2−オンなどの
アミド系溶媒、1−クロロナフタレン、ジクロロベンゼ
ン、トリクロロベンゼンなどのハロゲン化芳香族炭化水
素溶媒、ニトロベンゼンなどのニトロ化芳香族炭化水素
溶媒等が挙げられる。また、触媒としては、イソキノリ
ン、1,8−ジアザビシクロ〔5.4.0〕−7−ウン
デセン、1,5−ジアザビシクロ〔4.3.0〕−5−
ノネンなどのアミン化合物が挙げられる。Solvents used in the heating reaction include sulfur-containing solvents such as sulfolane, amide solvents such as N-methyl-2-pyrrolidinone and N, N-dimethylimidazolidin-2-one, and 1-chloronaphthalene. And halogenated aromatic hydrocarbon solvents such as dichlorobenzene and trichlorobenzene, and nitrated aromatic hydrocarbon solvents such as nitrobenzene. As the catalyst, isoquinoline, 1,8-diazabicyclo [5.4.0] -7-undecene, 1,5-diazabicyclo [4.3.0] -5-
Examples include amine compounds such as nonene.
【0077】一般式(1)で示される化合物の具体例に
ついては、表1に記載する化合物(1−1)〜(1−2
0)のものが挙げられる。Specific examples of the compound represented by the general formula (1) include compounds (1-1) to (1-2) shown in Table 1.
0).
【0078】[0078]
【表1】 [Table 1]
【0079】[0079]
【表2】 [Table 2]
【0080】[0080]
【表3】 [Table 3]
【0081】[0081]
【表4】 [Table 4]
【0082】また、記録特性などの改善のために、波長
350nm〜550nmに吸収極大を持ち、400nm
〜500nmでの屈折率が大きい前記以外の化合物と混
合しても良い。具体的には、シアニン化合物、スクアリ
リウム系化合物、ナフトキノン系化合物、アントラキノ
ン系化合物、テトラピラポルフィラジン系化合物、イン
ドフェノール系化合物、ピリリウム系化合物、チオピリ
リウム系化合物、アズレニウム系化合物、トリフェニル
メタン系化合物、キサンテン系化合物、インダスレン系
化合物、インジゴ系化合物、チオインジゴ系化合物、メ
ロシアニン系化合物、チアジン系化合物、アクリジン系
化合物、オキサジン系化合物、ジピロメテン系化合物な
どがあり、複数の化合物の混合であっても良い。これら
の化合物の混合割合は、0.1〜30%程度である。In order to improve the recording characteristics, etc., it has an absorption maximum at a wavelength of 350 nm to 550 nm,
You may mix with compounds other than the above which have a large refractive index in 500 nm. Specifically, cyanine compounds, squarylium-based compounds, naphthoquinone-based compounds, anthraquinone-based compounds, tetrapyraporphyrazine-based compounds, indophenol-based compounds, pyrylium-based compounds, thiopyrylium-based compounds, azurenium-based compounds, triphenylmethane-based compounds, There are xanthene compounds, indasulen compounds, indigo compounds, thioindigo compounds, merocyanine compounds, thiazine compounds, acridine compounds, oxazine compounds, dipyrromethene compounds, and the like, and a mixture of a plurality of compounds may be used. . The mixing ratio of these compounds is about 0.1 to 30%.
【0083】記録層を成膜する際に、必要に応じて前記
の化合物に、クエンチャー、化合物熱分解促進剤、紫外
線吸収剤、接着剤などを混合するか、あるいは、そのよ
うな効果を有する化合物を前記化合物の置換基として導
入することも可能である。At the time of forming the recording layer, a quencher, a compound thermal decomposition accelerator, an ultraviolet absorber, an adhesive or the like may be mixed with the above-mentioned compound, if necessary, or may have such an effect. It is also possible to introduce compounds as substituents of said compounds.
【0084】クエンチャーの具体例としては、アセチル
アセトナート系、ビスジチオ−α−ジケトン系やビスフ
ェニルジチオール系などのビスジチオール系、チオカテ
コナール系、サリチルアルデヒドオキシム系、チオビス
フェノレート系などの金属錯体が好ましい。また、アミ
ン系も好適である。Specific examples of the quencher include bisacetylthionates, bisdithio-α-diketones, bisdithiols such as bisphenyldithiols, thiocateconals, salicylaldehyde oximes, and thiobisphenolates. Metal complexes are preferred. Also, amines are suitable.
【0085】化合物熱分解促進剤としては、熱減量分析
(TG分析)などにより、化合物の熱分解の促進が確認
できるものであれば特に限定されず、例えば、金属系ア
ンチノッキング剤、メタロセン化合物、アセチルアセト
ナート系金属錯体などの金属化合物が挙げられる。金属
系アンチノッキング剤の例としては、四エチル鉛、その
他の鉛系化合物、シマントレン[Mn(C5H5)(C
O)3]などのMn系化合物、また、メタロセン化合物
の例としては、鉄ビスシクロペンタジエニル錯体(フェ
ロセン)をはじめ、Ti、V、Mn、Cr、Co、N
i、Mo、Ru、Rh、Zr、Lu、Ta、W、Os、
Ir、Sc、Yなどのビスシクロペンタジエニル錯体が
ある。なかでもフェロセン、ルテノセン、オスモセン、
ニッケロセン、チタノセンおよびそれらの誘導体は良好
な熱分解促進効果がある。The compound thermal decomposition accelerator is not particularly limited as long as it can confirm the promotion of the thermal decomposition of the compound by thermal weight loss analysis (TG analysis) and the like. Metal compounds such as acetylacetonate-based metal complexes are exemplified. Examples of metal-based anti-knocking agents include tetraethyl lead, other lead-based compounds, and Simantrene [Mn (C 5 H 5 ) (C
O) 3 ], and examples of metallocene compounds include iron biscyclopentadienyl complex (ferrocene), Ti, V, Mn, Cr, Co, N
i, Mo, Ru, Rh, Zr, Lu, Ta, W, Os,
There are biscyclopentadienyl complexes such as Ir, Sc, and Y. Above all, ferrocene, ruthenocene, osmocene,
Nickelocene, titanocene and their derivatives have good thermal decomposition promoting effects.
【0086】その他、鉄系金属化合物として、メタロセ
ンの他に、ギ酸鉄、シュウ酸鉄、ラウリル酸鉄、ナフテ
ン酸鉄、ステアリン酸鉄、酢酸鉄などの有機酸鉄化合
物、アセチルアセトナート鉄錯体、フェナントロリン鉄
錯体、ビスピリジン鉄錯体、エチレンジアミン鉄錯体、
エチレンジアミン四酢酸鉄錯体、ジエチレントリアミン
鉄錯体、ジエチレングリコールジメチルエーテル鉄錯
体、ジホスフィノ鉄錯体、ジメチルグリオキシマート鉄
錯体などのキレート鉄錯体、カルボニル鉄錯体、シアノ
鉄錯体、アンミン鉄錯体などの鉄錯体、塩化第一鉄、塩
化第二鉄、臭化第一鉄、臭化第二鉄などのハロゲン化
鉄、あるいは、硝酸鉄、硫酸鉄などの無機鉄塩類、さら
には、酸化鉄などが挙げられる。ここで用いる熱分解促
進剤は有機溶剤に可溶で、かつ、耐湿熱性及び耐光性の
良好なものが望ましい。Other iron-based metal compounds include, in addition to metallocene, organic acid iron compounds such as iron formate, iron oxalate, iron laurate, iron naphthenate, iron stearate and iron acetate; iron acetylacetonate complex; Phenanthroline iron complex, bispyridine iron complex, ethylenediamine iron complex,
Iron complexes such as iron complexes of ethylenediaminetetraacetate, iron complexes of diethylenetriamine, iron complexes of diethyleneglycol dimethylether, iron complexes of diphosphino and iron dimethylglyoximate, iron complexes such as carbonyl iron complexes, cyanoiron complexes and ammineiron complexes, Examples include iron halides such as iron, ferric chloride, ferrous bromide, and ferric bromide; inorganic iron salts such as iron nitrate and iron sulfate; and iron oxide. The thermal decomposition accelerator used here is desirably one that is soluble in an organic solvent and has good wet heat resistance and light resistance.
【0087】上述した各種のクエンチャー及び化合物熱
分解促進剤は、必要に応じて、1種類で用いても、他種
類を混合して用いても良い。The various quenchers and the compound thermal decomposition accelerators described above may be used singly or as a mixture of other types as necessary.
【0088】さらに、必要に応じて、バインダー、レベ
リング剤、消泡剤などの添加物質を加えても良い。好ま
しいバインダーとしては、ポリビニルアルコール、ポリ
ビニルピロリドン、ニトロセルロース、酢酸セルロー
ス、ケトン樹脂、アクリル樹脂、ポリスチレン樹脂、ウ
レタン樹脂、ポリビニルブチラール、ポリカーボネー
ト、ポリオレフィンなどが挙げられる。Further, if necessary, additional substances such as a binder, a leveling agent, and an antifoaming agent may be added. Preferred binders include polyvinyl alcohol, polyvinylpyrrolidone, nitrocellulose, cellulose acetate, ketone resin, acrylic resin, polystyrene resin, urethane resin, polyvinyl butyral, polycarbonate, polyolefin and the like.
【0089】記録層を基板の上に成膜する際に、基板の
耐溶剤性や反射率、記録感度などを向上させるために、
基板の上に無機物やポリマーからなる層を設けても良
い。When a recording layer is formed on a substrate, in order to improve the solvent resistance, reflectance, recording sensitivity, etc. of the substrate,
A layer made of an inorganic substance or a polymer may be provided on the substrate.
【0090】ここで、記録層における一般式(1)で示
される化合物の含有量は、30%以上、好ましくは60
%以上である。尚、実質的に100%であることも好ま
しい。Here, the content of the compound represented by the general formula (1) in the recording layer is 30% or more, preferably 60% or more.
% Or more. In addition, it is also preferable that it is substantially 100%.
【0091】記録層を設ける方法は、例えば、スピンコ
ート法、スプレー法、キャスト法、浸漬法などの塗布
法、スパッタ法、化学蒸着法、真空蒸着法などが挙げら
れるが、スピンコート法が簡便で好ましい。The method for providing the recording layer includes, for example, a coating method such as a spin coating method, a spraying method, a casting method, and a dipping method, a sputtering method, a chemical vapor deposition method, and a vacuum vapor deposition method. Is preferred.
【0092】スピンコート法などの塗布法を用いる場合
には、一般式(1)で示される化合物を1〜40重量
%、好ましくは3〜30重量%となるように溶媒に溶解
あるいは分散させた塗布液を用いるが、この際、溶媒は
基板にダメージを与えないものを選ぶことが好ましい。
例えば、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコ
ール、オクタフルオロペンタノール、アリルアルコー
ル、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、テトラフル
オロプロパノールなどのアルコール系溶媒、ヘキサン、
ヘプタン、オクタン、デカン、シクロヘキサン、メチル
シクロヘキサン、エチルシクロヘキサン、ジメチルシク
ロヘキサンなどの脂肪族または脂環式炭化水素系溶媒、
トルエン、キシレン、ベンゼンなどの芳香族炭化水素系
溶媒、四塩化炭素、クロロホルム、テトラクロロエタ
ン、ジブロモエタンなどのハロゲン化炭化水素系溶媒、
ジエチルエーテル、ジブチルエーテル、ジイソプロピル
エーテル、ジオキサンなどのエーテル系溶媒、アセト
ン、3−ヒドロキシ−3−メチル−2−ブタノンなどの
ケトン系溶媒、酢酸エチル、乳酸メチルなどのエステル
系溶媒、水などが挙げられる。これらは単独で用いても
良く、あるいは、複数混合しても良い。なお、必要に応
じて、記録層の化合物を高分子薄膜などに分散して用い
たりすることもできる。When a coating method such as a spin coating method is used, the compound represented by the general formula (1) is dissolved or dispersed in a solvent in an amount of 1 to 40% by weight, preferably 3 to 30% by weight. A coating solution is used, and at this time, it is preferable to select a solvent that does not damage the substrate.
For example, methanol, ethanol, isopropyl alcohol, octafluoropentanol, allyl alcohol, methyl cellosolve, ethyl cellosolve, alcohol solvents such as tetrafluoropropanol, hexane,
Aliphatic or alicyclic hydrocarbon solvents such as heptane, octane, decane, cyclohexane, methylcyclohexane, ethylcyclohexane, dimethylcyclohexane,
Aromatic hydrocarbon solvents such as toluene, xylene and benzene, halogenated hydrocarbon solvents such as carbon tetrachloride, chloroform, tetrachloroethane and dibromoethane,
Ether solvents such as diethyl ether, dibutyl ether, diisopropyl ether and dioxane; ketone solvents such as acetone and 3-hydroxy-3-methyl-2-butanone; ester solvents such as ethyl acetate and methyl lactate; and water. Can be These may be used alone or in combination. If necessary, the compound of the recording layer can be used by dispersing it in a polymer thin film or the like.
【0093】また、基板にダメージを与えない溶媒を選
択できない場合は、スパッタ法、化学蒸着法や真空蒸着
法などが有効である。If a solvent that does not damage the substrate cannot be selected, a sputtering method, a chemical vapor deposition method, a vacuum vapor deposition method, or the like is effective.
【0094】記録層の膜厚は、30nm〜1000nm
であるが、好ましくは50nm〜300nmである。記
録層の膜厚を50nmより薄くすると、熱拡散が大きい
ため記録できないか、記録信号に歪が発生する上、信号
振幅が小さくなる場合がある。また、膜厚が300nm
より厚い場合は反射率が低下し、再生信号特性が悪化す
る場合がある。The thickness of the recording layer is 30 nm to 1000 nm.
However, it is preferably 50 nm to 300 nm. If the thickness of the recording layer is less than 50 nm, recording may not be performed due to large thermal diffusion, or a recording signal may be distorted and the signal amplitude may be reduced. The thickness is 300 nm.
If the thickness is larger, the reflectance may decrease, and the reproduction signal characteristics may deteriorate.
【0095】次に記録層の上に、好ましくは50nm〜
300nmの厚さの反射層を形成する。反射率を高める
ためや密着性をよくするために、記録層と反射層の間に
反射増幅層や接着層を設けることができる。反射層の材
料としては、再生光の波長で反射率の十分高いもの、例
えば、Au、Al、Ag、Cu、Ti、Cr、Ni、P
t、Ta、CrおよびPdの金属を単独あるいは合金に
して用いることが可能である。この中でもAu、Al、
Agは反射率が高く反射層の材料として適している。こ
れ以外でも下記のものを含んでいても良い。例えば、M
g、Se、Hf、V、Nb、Ru、W、Mn、Re、F
e、Co、Rh、Ir、Zn、Cd、Ga、In、S
i、Ge、Te、Pb、Po、Sn、Biなどの金属お
よび半金属を挙げることができる。また、Auを主成分
とするものは反射率の高い反射層が容易に得られるため
好適である。ここで主成分というのは含有率が50%以
上のものをいう。金属以外の材料で低屈折率薄膜と高屈
折率薄膜を交互に積み重ねて多層膜を形成し、反射層と
して用いることも可能である。Next, on the recording layer, preferably 50 nm
A reflective layer having a thickness of 300 nm is formed. A reflection amplification layer or an adhesive layer can be provided between the recording layer and the reflection layer in order to increase the reflectance and improve the adhesion. As a material of the reflection layer, one having a sufficiently high reflectance at the wavelength of the reproduction light, for example, Au, Al, Ag, Cu, Ti, Cr, Ni, P
The metals t, Ta, Cr and Pd can be used alone or as an alloy. Among them, Au, Al,
Ag has a high reflectance and is suitable as a material for the reflective layer. In addition, the following may be included. For example, M
g, Se, Hf, V, Nb, Ru, W, Mn, Re, F
e, Co, Rh, Ir, Zn, Cd, Ga, In, S
Metals and metalloids such as i, Ge, Te, Pb, Po, Sn, Bi and the like can be mentioned. Further, those containing Au as a main component are preferable because a reflection layer having high reflectance can be easily obtained. Here, the main component means a component having a content of 50% or more. It is also possible to form a multilayer film by alternately stacking low-refractive-index thin films and high-refractive-index thin films with a material other than a metal, and use it as a reflective layer.
【0096】反射層を形成する方法としては、例えば、
スパッタ法、イオンプレーティング法、化学蒸着法、真
空蒸着法などが挙げられる。また、基板の上や反射層の
下に反射率の向上、記録特性の改善、密着性の向上など
のために公知の無機系または有機系の中間層、接着層を
設けることもできる。As a method of forming the reflection layer, for example,
Examples include a sputtering method, an ion plating method, a chemical vapor deposition method, and a vacuum vapor deposition method. In addition, a known inorganic or organic intermediate layer or adhesive layer may be provided on the substrate or below the reflective layer to improve the reflectance, the recording characteristics, and the adhesion.
【0097】さらに、反射層の上に形成する保護層の材
料としては反射層を外力から保護するものであれば特に
限定しない。有機物質としては、熱可塑性樹脂、熱硬化
性樹脂、電子線硬化性樹脂、紫外線硬化性樹脂などを挙
げることができる。また、無機物質としては、Si
O2、SiO、Si3N4、MgF2、AlN、SnO2な
どが挙げられる。熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂などは適
当な溶媒に溶解して塗布液を塗布し、乾燥することによ
って形成することができる。紫外線硬化性樹脂はそのま
まもしくは適当な溶媒に溶解して塗布液を調製した後に
この塗布液を塗布し、紫外線を照射して硬化させること
によって形成することができる。紫外線硬化性樹脂とし
ては、例えば、ウレタンアクリレート、エポキシアクリ
レート、ポリエステルアクリレートなどのアクリレート
樹脂を用いることができる。これらの材料は単独である
いは混合して用いても良く、1層だけでなく多層膜にし
て用いても良い。The material of the protective layer formed on the reflective layer is not particularly limited as long as it protects the reflective layer from external force. Examples of the organic substance include a thermoplastic resin, a thermosetting resin, an electron beam curable resin, and an ultraviolet curable resin. Further, as the inorganic substance, Si
O 2 , SiO, Si 3 N 4 , MgF 2 , AlN, SnO 2 and the like can be mentioned. A thermoplastic resin, a thermosetting resin, or the like can be formed by dissolving in a suitable solvent, applying a coating solution, and drying. The UV-curable resin can be formed by applying the coating solution after it has been prepared as it is or by dissolving it in a suitable solvent, and then irradiating the coating with ultraviolet rays to cure the resin. As the ultraviolet curable resin, for example, acrylate resins such as urethane acrylate, epoxy acrylate, and polyester acrylate can be used. These materials may be used alone or as a mixture, and may be used not only as a single layer but also as a multilayer film.
【0098】保護層の形成の方法としては、記録層と同
様にスピンコート法やキャスト法などの塗布法やスパッ
タ法や化学蒸着法などの方法が用いられるが、この中で
もスピンコート法が好ましい。As a method for forming the protective layer, a coating method such as a spin coating method or a casting method, a sputtering method or a chemical vapor deposition method is used as in the recording layer, and among them, the spin coating method is preferable.
【0099】保護層の膜厚は、一般には0.1μm〜1
00μmの範囲であるが、本発明においては、3μm〜
30μmであり、より好ましくは、5μm〜20μmで
ある。保護層の上にさらにレーベルなどの印刷を行うこ
ともできる。また、反射層面に保護シートまたは基板を
貼り合わせる、あるいは反射層面相互を内側とし対向さ
せ、光記録媒体2枚を貼り合わせるなどの手段を用いて
も良い。The thickness of the protective layer is generally from 0.1 μm to 1 μm.
In the present invention, the range is from 3 μm to
It is 30 μm, more preferably 5 μm to 20 μm. Printing of a label or the like can be further performed on the protective layer. Alternatively, means such as bonding a protective sheet or a substrate to the reflective layer surface, or bonding two optical recording media with the reflective layer surfaces facing each other and facing each other may be used.
【0100】基板鏡面側に、表面保護やごみ等の付着防
止のために紫外線硬化性樹脂、無機系薄膜等を成膜して
も良い。On the mirror side of the substrate, an ultraviolet curable resin, an inorganic thin film or the like may be formed to protect the surface or prevent adhesion of dust and the like.
【0101】ここで、本発明で言う波長400nm〜5
00nmのレーザーは、特に制限はないが、例えば、可
視光領域の広範囲で波長選択のできる色素レーザーや波
長445nmのヘリウムカドミウムレーザー、波長48
8nmのアルゴンレーザー、波長約390〜410nm
のGaN系半導体レーザー、波長約850〜860nm
の赤外線レーザーの第2高調波約425〜430nmを
発振する半導体レーザーなどがあげられる。本発明で
は、これらから選択される1波長または複数波長におい
て高密度記録および再生が可能となる。Here, the wavelength of 400 nm to 5
The laser of 00 nm is not particularly limited. For example, a dye laser capable of selecting a wavelength in a wide range of the visible light region, a helium cadmium laser having a wavelength of 445 nm, and a laser having a wavelength of 48
8nm argon laser, wavelength about 390-410nm
GaN based semiconductor laser, wavelength about 850-860nm
And a semiconductor laser that oscillates a second harmonic of about 425 to 430 nm of the infrared laser. According to the present invention, high-density recording and reproduction can be performed at one wavelength or a plurality of wavelengths selected from these.
【0102】[0102]
【実施例】以下に本発明の実施例を示すが、本発明はこ
れによりなんら限定されるものではない。EXAMPLES Examples of the present invention will be shown below, but the present invention is not limited by these examples.
【0103】実施例1 一般式(1)で表される化合物のうち、化合物(1−
1)0.2gをジアセトンアルコール10mlに溶解
し、化合物溶液を調製した。Example 1 Among the compounds represented by the general formula (1), the compound (1-
1) 0.2 g was dissolved in 10 ml of diacetone alcohol to prepare a compound solution.
【0104】ポリカーボネート樹脂製で連続した案内溝
(トラックピッチ:0.7μm)を有する外径120m
m、厚さ0.6mmの円盤状の基板上に、この化合物溶
液を回転数2000rpmでスピンコートし、70℃で
3時間乾燥して記録層を形成した。Outer diameter 120 m made of polycarbonate resin and having continuous guide grooves (track pitch: 0.7 μm)
This compound solution was spin-coated on a disc-shaped substrate having a thickness of 0.6 mm and a thickness of 0.6 mm at a rotation speed of 2000 rpm, and dried at 70 ° C. for 3 hours to form a recording layer.
【0105】この記録層の上に島津製作所製スパッタ装
置を用いてAuをスパッタし、厚さ100nmの反射層
を形成した。スパッタガスには、アルゴンガスを用い
た。スパッタ条件は、スパッタパワー0.5A、スパッ
タガス圧1.0×10-3torrで行った。Au was sputtered on the recording layer using a sputtering apparatus manufactured by Shimadzu Corporation to form a reflective layer having a thickness of 100 nm. Argon gas was used as a sputtering gas. The sputtering conditions were a sputtering power of 0.5 A and a sputtering gas pressure of 1.0 × 10 −3 torr.
【0106】さらに、反射層の上に、紫外線硬化樹脂S
D−301(大日本インキ化学工業製)をスピンコート
した後、前記基板と同様な案内溝のない基板をのせ、紫
外線照射して基板を貼り合わせ、光記録媒体を作製し
た。Further, an ultraviolet curable resin S
After spin-coating D-301 (manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.), a substrate without a guide groove similar to the above-mentioned substrate was placed thereon, and the substrates were bonded by irradiating ultraviolet rays to produce an optical recording medium.
【0107】以上のようにして記録層が形成された光記
録媒体について、以下のようにピットの書き込みを行っ
た。The pits were written on the optical recording medium having the recording layer formed as described above as follows.
【0108】430nmの青色高調波変換レーザーヘッ
ド(NA=0.65)を搭載したパルステック工業製光
ディスク評価装置(DDU−1000)及びKENWO
OD製EFMエンコーダーを用いて、最短ピットが0.
4μmのEFM変調信号を、線速度5.6m/s、レー
ザーパワー10mWで記録した。記録後、同評価装置を
用いてレーザー出力を0.5mWにして信号を再生し
た。なお、再生の際はイコライゼーション処理を施し
た。An optical disk evaluation device (DDU-1000) manufactured by Pulstec Industrial equipped with a 430 nm blue harmonic conversion laser head (NA = 0.65) and KENWO
Using the OD EFM encoder, the shortest pit is 0.
A 4 μm EFM modulated signal was recorded at a linear velocity of 5.6 m / s and a laser power of 10 mW. After recording, a signal was reproduced with the laser output set to 0.5 mW using the same evaluation apparatus. At the time of reproduction, an equalization process was performed.
【0109】反射率、エラーレート及びジッターを測定
した結果、反射率46%、エラーレート9cps、ジッ
ター9.6%であり、良好な値を示した。As a result of measuring the reflectance, the error rate, and the jitter, the reflectance was 46%, the error rate was 9 cps, and the jitter was 9.6%.
【0110】また、この記録した媒体について、加速劣
化試験(湿度85%RH、80℃で100時間)を行
い、試験後の反射率、エラーレート及びジッターを測定
した結果、初期値よりの反射率変化1%、エラーレート
変化1cps、ジッター変化0.6%と変化は小さく、
優れた耐久性を有することが確認された。Further, the recorded medium was subjected to an accelerated deterioration test (humidity: 85% RH, 80 ° C. for 100 hours), and the reflectance, error rate, and jitter after the test were measured. The change is as small as 1% change, 1cps error rate change, and 0.6% jitter change.
It was confirmed that it had excellent durability.
【0111】実施例2〜10 記録層に化合物(1−2)〜(1−10)を用いること
以外は実施例1と同様にして光記録媒体を作製し、ピッ
トを書き込んで記録した後、信号再生を行った。いずれ
の場合も、初期の反射率40%以上、エラーレート11
cps以下、ジッター10%以下と良好な値を示した。Examples 2 to 10 Optical recording media were prepared in the same manner as in Example 1 except that the compounds (1-2) to (1-10) were used for the recording layer, and pits were written and recorded. The signal was reproduced. In each case, the initial reflectance is 40% or more, and the error rate is 11
Good values were obtained, that is, cps or less and jitter of 10% or less.
【0112】また、加速劣化試験後の反射率の変化は2
%以下、エラーレートの変化は2cps以下、ジッター
の変化は1%以下と小さく、優れた耐久性を有すること
が確認された。The change in reflectance after the accelerated deterioration test was 2%.
% Or less, the change in error rate is 2 cps or less, and the change in jitter is as small as 1% or less, confirming that it has excellent durability.
【0113】表2に実施例1〜10における加速劣化試
験前後の反射率、エラーレート及びジッター値を示し
た。Table 2 shows the reflectance, error rate, and jitter before and after the accelerated deterioration test in Examples 1 to 10.
【0114】[0114]
【表5】 [Table 5]
【0115】実施例11〜20 記録層に化合物(1−11)〜(1−20)を用いるこ
と以外は実施例1と同様にして光記録媒体を作製し、ピ
ットを書き込んで記録した後、信号再生を行った。いず
れの場合も、反射率40%以上、エラーレート11cp
s以下、ジッター10%以下と良好な値を示した。Examples 11 to 20 An optical recording medium was produced in the same manner as in Example 1 except that the compounds (1-11) to (1-20) were used for the recording layer. The signal was reproduced. In each case, the reflectance is 40% or more, and the error rate is 11 cp.
s or less, and a good value of jitter of 10% or less.
【0116】また、加速劣化試験後の反射率の変化は2
%以下、エラーレートの変化は2cps以下、ジッター
の変化は1%以下と小さく、優れた耐久性を有すること
が確認された。The change in reflectance after the accelerated deterioration test was 2%.
% Or less, the change in error rate is 2 cps or less, and the change in jitter is as small as 1% or less, confirming that it has excellent durability.
【0117】表3に実施例11〜20における加速劣化
試験前後の反射率、エラーレート及びジッター値を示し
た。Table 3 shows the reflectance, error rate, and jitter value before and after the accelerated deterioration test in Examples 11 to 20.
【0118】[0118]
【表6】 [Table 6]
【0119】実施例21 実施例(1)で用いた化合物(1−1)0.2gの代わ
りに、化合物(1−1)0.1g、化合物(1−15)
0.1gを用いた以外は実施例1と同様にして光記録媒
体を作製し、ピットを書き込んで記録した後、信号再生
を行った。その結果、反射率45%、エラーレート9c
ps、ジッター9.7%と良好な値を示した。Example 21 Instead of 0.2 g of the compound (1-1) used in Example (1), 0.1 g of the compound (1-1) and the compound (1-15)
An optical recording medium was manufactured in the same manner as in Example 1 except that 0.1 g was used, and pits were written and recorded, and then signal reproduction was performed. As a result, the reflectance is 45% and the error rate is 9c.
It showed good values of ps and jitter of 9.7%.
【0120】また、加速劣化試験後の反射率の変化は1
%、エラーレートの変化は1cps、ジッターの変化は
0.7%と小さく、優れた耐久性を有することが確認さ
れた。The change in reflectance after the accelerated deterioration test was 1
%, The change in the error rate was 1 cps, and the change in the jitter was as small as 0.7%, confirming that it had excellent durability.
【0121】実施例1〜21に記載されるように、本発
明の光記録媒体は、いずれも高反射率を有し、記録特性
および耐久性に優れている。As described in Examples 1 to 21, each of the optical recording media of the present invention has a high reflectance and is excellent in recording characteristics and durability.
【0122】このことから、本発明で規定する構造の化
合物を含有する記録層は、青色レーザーによる信号記録
が可能であり、本発明の光記録媒体は青色レーザーを記
録再生に用いる光記録媒体に用いることができる。From this, the recording layer containing the compound having the structure defined in the present invention can record a signal with a blue laser. Can be used.
【0123】比較例1 化合物(1−1)の代わりに、式(a)Comparative Example 1 Instead of the compound (1-1), a compound of the formula (a)
【0124】[0124]
【化11】 Embedded image
【0125】を用いた以外は、実施例1と同様にして、
光記録媒体を作製し、ピットの書き込みを行い、続いて
加速劣化試験を行った。その結果、記録層が褪色して再
生不能となり、この媒体は保存安定性に欠くことが判明
した。The same procedures as in Example 1 were carried out except that
An optical recording medium was manufactured, pit writing was performed, and then an accelerated deterioration test was performed. As a result, it was found that the recording layer was discolored and became unreproducible, and this medium lacked storage stability.
【0126】比較例2 化合物(1−1)の代わりに、式(b)Comparative Example 2 Instead of the compound (1-1), a compound of the formula (b)
【0127】[0127]
【化12】 Embedded image
【0128】を用いた以外は、実施例1と同様にして、
光記録媒体を作製した。この媒体の記録層には、結晶析
出が認められ、ピットの書き込みができず、記録不能で
あり、再生も不能であった。[0128] Except for using the same procedures as in Example 1,
An optical recording medium was manufactured. Crystal precipitation was observed in the recording layer of this medium, pits could not be written, recording was impossible, and reproduction was impossible.
【0129】[0129]
【発明の効果】本発明によれば、一般式(1)で示され
る化合物を記録層として用いることにより、高密度光記
録媒体として非常に注目されている波長400nm〜5
00nmのレーザーで記録および再生が可能な追記型光
記録媒体を提供することが可能となる。According to the present invention, by using the compound represented by the general formula (1) as a recording layer, the wavelength of 400 nm to 5 nm, which is attracting much attention as a high-density optical recording medium, is obtained.
It is possible to provide a write-once optical recording medium that can be recorded and reproduced with a laser of 00 nm.
【図1】本発明に係る光記録媒体の層構成の一例を示す
断面構造図である。FIG. 1 is a sectional structural view showing an example of a layer configuration of an optical recording medium according to the present invention.
【図2】本発明に係る光記録媒体の層構成の一例を示す
断面構造図である。FIG. 2 is a sectional structural view showing an example of a layer configuration of an optical recording medium according to the present invention.
1 :基板 2 :記録層 3 :反射層 4 :保護層 5 :接着層 1: substrate 2: recording layer 3: reflective layer 4: protective layer 5: adhesive layer
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 塚原 宇 神奈川県横浜市栄区笠間町1190番地 三井 化学株式会社内 (72)発明者 西本 泰三 神奈川県横浜市栄区笠間町1190番地 三井 化学株式会社内 (72)発明者 三沢 伝美 神奈川県横浜市栄区笠間町1190番地 三井 化学株式会社内 (72)発明者 詫摩 啓輔 神奈川県横浜市栄区笠間町1190番地 三井 化学株式会社内 Fターム(参考) 2H111 EA03 EA12 EA22 EA32 FA01 FA12 FB42 5D029 JA04 JC17 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (72) Inventor Tsukahara U 1190 Kasama-cho, Sakae-ku, Yokohama-shi, Kanagawa Prefecture Inside (72) Inventor Taizo Nishimoto 1190 Kasama-cho, Sakae-ku, Yokohama-shi, Kanagawa Mitsui Chemical Co., Ltd. 72) Inventor Densumi Misawa 1190 Kasama-cho, Sakae-ku, Yokohama-shi, Kanagawa Pref. (72) Inventor Keisuke Takuma 1190 Kasama-cho, Sakae-ku, Yokohama-shi, Kanagawa F-term in Mitsui Chemicals Co., Ltd. 2H111 EA03 EA12 EA22 EA32 FA01 FA12 FB42 5D029 JA04 JC17
Claims (2)
を有する光記録媒体において、記録層中に、互変可能な
構造の一つとして一般式(1)で示される化合物を含有
する光記録媒体。 【化1】 〔式中、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8はそ
れぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、置
換または無置換のアルキル基、アラルキル基、アリール
基、アルコキシ基、アラルキルオキシ基、アリールオキ
シ基、アルケニル基、アルケニルオキシ基、アルキルチ
オ基、アラルキルチオ基、アリールチオ基、アルケニル
チオ基、アルキルアミノ基、アラルキルアミノ基、アリ
ールアミノ基、アルケニルアミノ基、アシル基、アルコ
キシカルボニル基、アラルキルオキシカルボニル基、ア
リールオキシカルボニル基、アルケニルオキシカルボニ
ル基、アルキルアミノカルボニル基、アラルキルアミノ
カルボニル基、アリールアミノカルボニル基、アルケニ
ルアミノカルボニル基、複素環基、アルキルスルホニル
基、アリールスルホニル基を表す。〕1. An optical recording medium having at least a recording layer and a reflective layer on a substrate, wherein the recording layer contains a compound represented by the general formula (1) as one of the tautomeric structures in the recording layer. . Embedded image [Wherein, R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 and R 8 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group, a substituted or unsubstituted alkyl group, an aralkyl Group, aryl group, alkoxy group, aralkyloxy group, aryloxy group, alkenyl group, alkenyloxy group, alkylthio group, aralkylthio group, arylthio group, alkenylthio group, alkylamino group, aralkylamino group, arylamino group, alkenyl Amino group, acyl group, alkoxycarbonyl group, aralkyloxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, alkenyloxycarbonyl group, alkylaminocarbonyl group, aralkylaminocarbonyl group, arylaminocarbonyl group, alkenylaminocarbonyl group, heterocyclic group, alkyl Sulfonyl group, ant It represents a Rusuruhoniru group. ]
選択されるレーザー光に対して記録および再生が可能で
ある請求項1の光記録媒体。2. The optical recording medium according to claim 1, wherein recording and reproduction can be performed with respect to a laser beam selected from a wavelength range of 400 nm to 500 nm.
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|---|---|---|---|
| JP11089012A JP2000280620A (en) | 1999-03-30 | 1999-03-30 | Optical recording medium |
Applications Claiming Priority (1)
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|---|---|---|---|
| JP11089012A JP2000280620A (en) | 1999-03-30 | 1999-03-30 | Optical recording medium |
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| Country | Link |
|---|---|
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1999
- 1999-03-30 JP JP11089012A patent/JP2000280620A/en not_active Withdrawn
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