JP2000113504A - Optical recording medium - Google Patents
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Landscapes
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、光記録媒体に関す
るものであり、特に青色レーザー光により記録・再生可
能である化合物含有の追記型光記録媒体に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an optical recording medium, and more particularly to a recordable optical recording medium containing a compound which can be recorded and reproduced by a blue laser beam.
【0002】[0002]
【従来の技術】基板上に反射層を有する光記録媒体とし
てコンパクトディスク(以下、CDと略す)規格に対応
した追記可能なCD−R(CD−Recordabl
e)が広く普及している。CD−Rの記録容量は0.6
5GB程度であるが、情報量の飛躍的増加に伴い、情報
記録媒体に対する高密度化および大容量化への要求は高
まっている。2. Description of the Related Art As an optical recording medium having a reflective layer on a substrate, a recordable CD-R (CD-Recordable) conforming to the compact disk (hereinafter abbreviated as CD) standard is used.
e) is widespread. CD-R recording capacity is 0.6
Although it is about 5 GB, with the dramatic increase in the amount of information, demands for higher density and larger capacity of information recording media are increasing.
【0003】記録および再生用レーザーの短波長化によ
りビームスポットを小さくすることができ、高密度な光
記録が可能になる。最近では、光ディスクシステムに利
用される短波長半導体レーザーの開発が進み、波長68
0nm、650nmおよび635nmの赤色半導体レー
ザーが実用化されている〔例えば、日経エレクトロニク
ス、No.592、p.65、1993年10月11日
号〕。これらの半導体レーザーを用い、2時間以上の動
画をデジタル記録したDVDが実用化されている。DV
Dは再生専用媒体であるため、この容量に対応する追記
型光記録媒体(DVD−R)の開発も進んでいる。[0003] By shortening the wavelength of a recording and reproducing laser, a beam spot can be reduced, and high-density optical recording can be performed. Recently, the development of short wavelength semiconductor lasers used in optical disk systems has been advanced,
Red semiconductor lasers of 0 nm, 650 nm and 635 nm have been put into practical use [for example, Nikkei Electronics, No. 592, p. 65, October 11, 1993]. DVDs using these semiconductor lasers and digitally recording moving images of 2 hours or more have been put to practical use. DV
Since D is a read-only medium, a write-once optical recording medium (DVD-R) corresponding to this capacity is also being developed.
【0004】さらに、超高密度の記録が可能となる波長
400nm〜500nmの青色半導体レーザーの開発も
急速に進んでおり〔例えば、日経エレクトロニクス、N
o.708、p.117、1998年1月26日号〕、
それに対応した追記型光記録媒体の開発も行われてい
る。[0004] Further, development of blue semiconductor lasers having a wavelength of 400 nm to 500 nm capable of recording at a very high density has been rapidly progressing [for example, Nikkei Electronics, N.
o. 708, p. 117, January 26, 1998 issue],
A write-once optical recording medium corresponding to this is also being developed.
【0005】追記型光記録媒体の記録層にレーザー光を
照射し、記録層に物理変化や化学変化を生じさせること
でピットを形成させるとき、化合物の光学定数、分解挙
動が良好なピットを形成させるための重要な要素とな
る。分解しづらいものは感度が低下し、分解が激しいか
または変化しやすいものはピット間および半径方向への
影響が大きくなり、信頼性のあるピット形成が困難にな
る。従来のCD−R媒体は、超高密度記録で用いられる
青色半導体レーザー波長では、記録層の屈折率も低く、
消衰係数も適度な値ではないため、反射率の低下、エラ
ーレートの増大、ジッターの増大により、良好な記録・
再生ができない。従って、記録層に用いる化合物には青
色半導体レーザーに対する光学的性質、分解挙動の適切
な化合物を選択する必要がある。しかし、実際に提案さ
れている化合物の例は、特開平7−304256などに
記載のポルフィリン化合物など、ごく限られた例しかな
いため、その開発が急務となっている。When pits are formed by irradiating a laser beam to a recording layer of a write-once optical recording medium to cause a physical change or a chemical change in the recording layer, a pit having good optical constants and decomposition behavior of the compound is formed. It is an important factor to make it happen. Those that are difficult to decompose have reduced sensitivity, while those that are severely decomposed or are subject to change have a greater effect between pits and in the radial direction, making reliable pit formation difficult. Conventional CD-R media have a low refractive index of the recording layer at the wavelength of the blue semiconductor laser used in ultra-high density recording,
Since the extinction coefficient is not an appropriate value, good recording and recording can be achieved by lowering the reflectance, increasing the error rate, and increasing the jitter.
Cannot play. Therefore, it is necessary to select an appropriate compound having an optical property and a decomposition behavior for a blue semiconductor laser as the compound used for the recording layer. However, there are only a few examples of compounds actually proposed, such as porphyrin compounds described in JP-A-7-304256 and the like, and their development is urgently needed.
【0006】[0006]
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、波長
400nm〜500nmの範囲から選択されるレーザー
光で良好な記録および再生が可能な超高密度記録に適し
た化合物を記録層に有する光記録媒体を提供することに
ある。SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide a recording layer having a compound suitable for ultra-high-density recording capable of performing good recording and reproduction with a laser beam having a wavelength of 400 nm to 500 nm. It is to provide a recording medium.
【0007】[0007]
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
を解決すべく鋭意検討を重ねた結果、本発明を完成する
に至った。すなわち、本発明は、基板上に少なくとも記
録層および反射層を有する光記録媒体において、記録層
中に一般式(1)Means for Solving the Problems The present inventors have made intensive studies to solve the above-mentioned problems, and as a result, completed the present invention. That is, the present invention relates to an optical recording medium having at least a recording layer and a reflective layer on a substrate, wherein the recording layer has the general formula (1)
【0008】[0008]
【化3】 Embedded image
【0009】〔式中、A、Bはそれぞれ置換基を有して
いても良い芳香族炭化水素基、複素環基を表す。〕で示
されるナフタレン化合物を含有する光記録媒体であり、
特には、波長400nm〜500nmの範囲から選択さ
れるレーザー光に対して記録および再生が可能である新
規な光記録媒体に関するものである。[In the formula, A and B each represent an aromatic hydrocarbon group or a heterocyclic group which may have a substituent. An optical recording medium containing a naphthalene compound represented by
In particular, the present invention relates to a novel optical recording medium capable of recording and reproducing with respect to a laser beam selected from a wavelength range of 400 nm to 500 nm.
【0010】[0010]
【発明の実施の形態】本発明の具体的構成について以下
に説明する。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The concrete constitution of the present invention will be described below.
【0011】この光記録媒体は基板1、記録層2、反射
層3および保護層4が順次積層している4層構造を有し
ている。これを図1に示すように単板で用いてもよく、
図2に示すようにDVDのように接着層5で貼り合わせ
ても良い。This optical recording medium has a four-layer structure in which a substrate 1, a recording layer 2, a reflective layer 3, and a protective layer 4 are sequentially laminated. This may be used as a single plate as shown in FIG.
As shown in FIG. 2, the bonding may be performed with an adhesive layer 5 like a DVD.
【0012】基板の材質としては、基本的には記録光お
よび再生光の波長で透明であればよい。例えば、ポリカ
ーボネート樹脂、塩化ビニル樹脂、ポリメタクリル酸メ
チル等のアクリル樹脂、ポリスチレン樹脂、エポキシ樹
脂等の高分子材料やガラス等の無機材料が利用される。
これらの基板材料は射出成形法等により円盤状に基板に
成形される。必要に応じて、基板表面に案内溝やピット
を形成することもある。このような案内溝やピットは、
基板の成形時に付与することが望ましいが、基板の上に
紫外線硬化樹脂層を用いて付与することもできる。Basically, the material of the substrate may be any material as long as it is transparent at the wavelength of the recording light and the reproducing light. For example, polymer materials such as acrylic resins such as polycarbonate resin, vinyl chloride resin and polymethyl methacrylate, polystyrene resins and epoxy resins, and inorganic materials such as glass are used.
These substrate materials are formed into a disk shape by injection molding or the like. If necessary, guide grooves or pits may be formed on the substrate surface. Such guide grooves and pits
It is desirable to apply it at the time of molding the substrate, but it can also be applied using an ultraviolet curable resin layer on the substrate.
【0013】本発明においては、基板上に記録層を設け
るが、本発明の記録層は、一般式(1)で示されるナフ
タレン化合物を含有するものであり、好ましくは、一般
式(2)で表されるナフタレン化合物を含有するもので
ある。In the present invention, a recording layer is provided on a substrate. The recording layer of the present invention contains a naphthalene compound represented by the general formula (1). It contains the represented naphthalene compound.
【0014】本発明の記録層に含有される一般式(1)
で示されるナフタレン化合物について、以下に具体例を
述べる。The general formula (1) contained in the recording layer of the present invention
Specific examples of the naphthalene compound represented by are described below.
【0015】本発明の記録層に含有される一般式(1)
で示されるナフタレン化合物について、式(1)中、
A、Bで示される置換基を有していても良い芳香族炭化
水素基としては、フェニル基などの単環式炭化水素基、
ナフチル基、インデニル基、アントラセニル基、フルオ
レニル基、アズレニル基、ナフタセニル基、クリセニル
基、ピレニル基、ペリレニル基などの多環式炭化水素基
等の無置換芳香族炭化水素基;ハロゲン原子、シアノ
基、置換または無置換のアルキル基、アラルキル基、ア
リール基、アルコキシ基、アラルキルオキシ基、アリー
ルオキシ基、アルケニル基、アルケニルオキシ基、アル
キルチオ基、アラルキルチオ基、アリールチオ基、アル
キルアミノ基、アラルキルアミノ基、アリールアミノ
基、アルケニルアミノ基、アシル基、アルコキシカルボ
ニル基、アラルキルオキシカルボニル基、アリールオキ
シカルボニル基、アルケニルオキシカルボニル基、アル
キルアミノカルボニル基、複素環基により置換したナフ
チル基、インデニル基、アントラセニル基、フルオレニ
ル基、アズレニル基、ナフタセニル基、クリセニル基、
ピレニル基、ペリレニル基などの置換基を有する芳香族
炭化水素基等が挙げられる。The general formula (1) contained in the recording layer of the present invention
For the naphthalene compound represented by the formula (1),
Examples of the aromatic hydrocarbon group which may have a substituent represented by A or B include a monocyclic hydrocarbon group such as a phenyl group,
Unsubstituted aromatic hydrocarbon groups such as polycyclic hydrocarbon groups such as naphthyl group, indenyl group, anthracenyl group, fluorenyl group, azulenyl group, naphthacenyl group, chrysenyl group, pyrenyl group, perylenyl group; halogen atom, cyano group, A substituted or unsubstituted alkyl group, an aralkyl group, an aryl group, an alkoxy group, an aralkyloxy group, an aryloxy group, an alkenyl group, an alkenyloxy group, an alkylthio group, an aralkylthio group, an arylthio group, an alkylamino group, an aralkylamino group, Arylamino group, alkenylamino group, acyl group, alkoxycarbonyl group, aralkyloxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, alkenyloxycarbonyl group, alkylaminocarbonyl group, naphthyl group substituted by heterocyclic group, indenyl group Anthracenyl group, a fluorenyl group, an azulenyl group, naphthacenyl group, chrysenyl group,
Examples include an aromatic hydrocarbon group having a substituent such as a pyrenyl group and a perylenyl group.
【0016】本発明の記録層に含有される一般式(1)
で示されるナフタレン化合物について、式(1)中、
A、Bで示される置換基を有していても良い複素環基と
しては、フラニル基、ピロリル基、3−ピロリニル基、
ピロリジニル基、1,3−オキソラニル基、ピラゾリル
基、2−ピラゾリニル基、ピラゾリジニル基、イミダゾ
リル基、オキサゾリル基、チアゾリル基、1,2,3−
オキサジアゾリル基、1,2,3−トリアゾリル基、
1,2,4−トリアゾリル基、1,3,4−チアジアゾ
リル基、4H−ピラニル基、ピリジニル基、ピペリジニ
ル基、ジオキサニル基、モルホリニル基、ピリダジニル
基、ピリミジニル基、ピラジニル基、ピペラジニル基、
トリアジニル基、ベンゾフラニル基、インドーリル基、
チオナフセニル基、ベンズイミダゾリル基、ベンゾチア
ゾリル基、プリニル基、キノリニル基、イソキノリニル
基、クマリニル基、シンノリニル基、キノキサリニル
基、ジベンゾフラニル基、カルバゾリル基、フェナント
ロニリル基、フェノチアジニル基、フラボニル基などの
無置換複素環基;ハロゲン原子、シアノ基、置換または
無置換のアルキル基、アラルキル基、アリール基、アル
コキシ基、アラルキルオキシ基、アリールオキシ基、ア
ルケニル基、アルケニルオキシ基、アルキルチオ基、ア
ラルキルチオ基、アリールチオ基、ジアルキルアミノ
基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アラルキルオ
キシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アル
ケニルオキシカルボニル基、アルキルアミノカルボニル
基、複素環基により置換したフラニル基、ピロリル基、
3−ピロリニル基、ピロリジニル基、1,3−オキソラ
ニル基、ピラゾリル基、2−ピラゾリニル基、ピラゾリ
ジニル基、イミダゾリル基、オキサゾリル基、チアゾリ
ル基、1,2,3−オキサジアゾリル基、1,2,3−
トリアゾリル基、1,2,4−トリアゾリル基、1,
3,4−チアジアゾリル基、4H−ピラニル基、ピリジ
ニル基、ピペリジニル基、ジオキサニル基、モルホリニ
ル基、ピリダジニル基、ピリミジニル基、ピラジニル
基、ピペラジニル基、トリアジニル基、ベンゾフラニル
基、インドーリル基、チオナフセニル基、ベンズイミダ
ゾリル基、ベンゾチアゾリル基、プリニル基、キノリニ
ル基、イソキノリニル基、クマリニル基、シンノリニル
基、キノキサリニル基、ジベンゾフラニル基、カルバゾ
リル基、フェナントロニリル基、フェノチアジニル基、
フラボニル基、ペリミジノ基などの置換基を有する複素
環基等が挙げられる。The general formula (1) contained in the recording layer of the present invention
For the naphthalene compound represented by the formula (1),
The heterocyclic group which may have a substituent represented by A or B includes a furanyl group, a pyrrolyl group, a 3-pyrolinyl group,
Pyrrolidinyl, 1,3-oxolanyl, pyrazolyl, 2-pyrazolinyl, pyrazolidinyl, imidazolyl, oxazolyl, thiazolyl, 1,2,3-
An oxadiazolyl group, a 1,2,3-triazolyl group,
1,2,4-triazolyl group, 1,3,4-thiadiazolyl group, 4H-pyranyl group, pyridinyl group, piperidinyl group, dioxanyl group, morpholinyl group, pyridazinyl group, pyrimidinyl group, pyrazinyl group, piperazinyl group,
Triazinyl group, benzofuranyl group, indolyl group,
Such as a thionaphthenyl group, a benzimidazolyl group, a benzothiazolyl group, a prenyl group, a quinolinyl group, an isoquinolinyl group, a coumarinyl group, a cinnolinyl group, a quinoxalinyl group, a dibenzofuranyl group, a carbazolyl group, a phenanthronylyl group, a phenothiazinyl group, and a flavonyl group. Unsubstituted heterocyclic group; halogen atom, cyano group, substituted or unsubstituted alkyl group, aralkyl group, aryl group, alkoxy group, aralkyloxy group, aryloxy group, alkenyl group, alkenyloxy group, alkylthio group, aralkylthio group , Arylthio, dialkylamino, acyl, alkoxycarbonyl, aralkyloxycarbonyl, aryloxycarbonyl, alkenyloxycarbonyl, alkylaminocarbonyl, heterocyclic groups The furanyl group, a pyrrolyl group,
3-pyrrolinyl group, pyrrolidinyl group, 1,3-oxolanyl group, pyrazolyl group, 2-pyrazolinyl group, pyrazolidinyl group, imidazolyl group, oxazolyl group, thiazolyl group, 1,2,3-oxadiazolyl group, 1,2,3-
Triazolyl group, 1,2,4-triazolyl group, 1,
3,4-thiadiazolyl group, 4H-pyranyl group, pyridinyl group, piperidinyl group, dioxanyl group, morpholinyl group, pyridazinyl group, pyrimidinyl group, pyrazinyl group, piperazinyl group, triazinyl group, benzofuranyl group, indoleyl group, thionafenyl group, benzimidazolyl Group, benzothiazolyl group, purinyl group, quinolinyl group, isoquinolinyl group, coumarinyl group, cinnolinyl group, quinoxalinyl group, dibenzofuranyl group, carbazolyl group, phenanthronylyl group, phenothiazinyl group,
Examples include a heterocyclic group having a substituent such as a flavonyl group and a perimidino group.
【0017】本発明の記録層に含有される一般式(1)
で示されるナフタレン化合物について、好ましい化合物
である一般式(2)で示されるナフタレン化合物につい
て、以下に具体例を詳細に述べる。The general formula (1) contained in the recording layer of the present invention
Specific examples of the naphthalene compound represented by the general formula (2), which is a preferable compound, are described below in detail.
【0018】[0018]
【化4】 Embedded image
【0019】〔式中、Z1、Z2はそれぞれ独立に、水素
原子、ハロゲン原子、シアノ基、置換または無置換のア
ルキル基、アラルキル基、アリール基、アルコキシ基、
アラルキルオキシ基、アリールオキシ基、アルケニル
基、アルケニルオキシ基、アルキルチオ基、アラルキル
チオ基、アリールチオ基、アルキルアミノ基、アラルキ
ルアミノ基、アリールアミノ基、アルケニルアミノ基、
アシル基、アルコキシカルボニル基、アラルキルオキシ
カルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アルケニ
ルオキシカルボニル基、アルキルアミノカルボニル基、
複素環基により置換した単環式あるいは多環式の芳香族
炭化水素基、あるいは複素環基である。〕[In the formula, Z 1 and Z 2 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group, a substituted or unsubstituted alkyl group, an aralkyl group, an aryl group, an alkoxy group,
Aralkyloxy group, aryloxy group, alkenyl group, alkenyloxy group, alkylthio group, aralkylthio group, arylthio group, alkylamino group, aralkylamino group, arylamino group, alkenylamino group,
Acyl group, alkoxycarbonyl group, aralkyloxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, alkenyloxycarbonyl group, alkylaminocarbonyl group,
A monocyclic or polycyclic aromatic hydrocarbon group substituted with a heterocyclic group, or a heterocyclic group. ]
【0020】式(2)中、Z1、Z2で示される無置換の
単環式あるいは多環式の芳香族炭化水素基としてはフェ
ニル基などの単環式炭化水素基、ナフチル基、インデニ
ル基、アントラセニル基、フルオレニル基、アズレニル
基、ナフタセニル基、クリセニル基、ピレニル基、ペリ
レニル基などの多環式炭化水素基等の無置換芳香族炭化
水素基等が挙げられる。In the formula (2), examples of the unsubstituted monocyclic or polycyclic aromatic hydrocarbon groups represented by Z 1 and Z 2 include a monocyclic hydrocarbon group such as a phenyl group, a naphthyl group and an indenyl group. And unsubstituted aromatic hydrocarbon groups such as polycyclic hydrocarbon groups such as a group, anthracenyl group, fluorenyl group, azulenyl group, naphthacenyl group, chrysenyl group, pyrenyl group, and perylenyl group.
【0021】式(2)中、Z1、Z2で示される無置換の
単環式あるいは多環式の複素環基としてはフラニル基、
ピロリル基、3−ピロリニル基、ピロリジニル基、1,
3−オキソラニル基、ピラゾリル基、2−ピラゾリニル
基、ピラゾリジニル基、イミダゾリル基、オキサゾリル
基、チアゾリル基、1,2,3−オキサジアゾリル基、
1,2,3−トリアゾリル基、1,2,4−トリアゾリ
ル基、1,3,4−チアジアゾリル基、4H−ピラニル
基、ピリジニル基、ピペリジニル基、ジオキサニル基、
モルホリニル基、ピリダジニル基、ピリミジニル基、ピ
ラジニル基、ピペラジニル基、トリアジニル基、ベンゾ
フラニル基、インドーリル基、チオナフセニル基、ベン
ズイミダゾリル基、ベンゾチアゾリル基、プリニル基、
キノリニル基、イソキノリニル基、クマリニル基、シン
ノリニル基、キノキサリニル基、ジベンゾフラニル基、
カルバゾリル基、フェナントロニリル基、フェノチアジ
ニル基、フラボニル基、ペリミジノ基などの無置換複素
環基等が挙げられる。In the formula (2), the unsubstituted monocyclic or polycyclic heterocyclic group represented by Z 1 and Z 2 is a furanyl group;
Pyrrolyl group, 3-pyrrolinyl group, pyrrolidinyl group, 1,
3-oxolanyl group, pyrazolyl group, 2-pyrazolinyl group, pyrazolidinyl group, imidazolyl group, oxazolyl group, thiazolyl group, 1,2,3-oxadiazolyl group,
1,2,3-triazolyl group, 1,2,4-triazolyl group, 1,3,4-thiadiazolyl group, 4H-pyranyl group, pyridinyl group, piperidinyl group, dioxanyl group,
Morpholinyl group, pyridazinyl group, pyrimidinyl group, pyrazinyl group, piperazinyl group, triazinyl group, benzofuranyl group, indoleyl group, thionaphthenyl group, benzimidazolyl group, benzothiazolyl group, purinyl group,
Quinolinyl group, isoquinolinyl group, coumarinyl group, cinnolinyl group, quinoxalinyl group, dibenzofuranyl group,
Examples include unsubstituted heterocyclic groups such as a carbazolyl group, a phenanthronyl group, a phenothiazinyl group, a flavonyl group, and a perimidino group.
【0022】式(2)中、Z1、Z2で示される単環式ま
たは多環式の芳香族炭化水素基、あるいは複素環基に置
換する基としては、ポリカーボネート、アクリル、エポ
キシ、ポリオレフィン基板などへの塗布による加工性の
良好な基を選択して用いることができる。In the formula (2), the monocyclic or polycyclic aromatic hydrocarbon group represented by Z 1 or Z 2 or the group substituted with the heterocyclic group may be a polycarbonate, acrylic, epoxy or polyolefin substrate. It is possible to select and use a group having a good processability by coating on the substrate.
【0023】式(2)中、Z1、Z2で示される単環式あ
るいは多環式の芳香族炭化水素基あるいは複素環基に置
換する基として、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨ
ウ素原子などのハロゲン原子またはシアノ基が挙げられ
る。In the formula (2), the monocyclic or polycyclic aromatic hydrocarbon group or heterocyclic group represented by Z 1 or Z 2 may be a fluorine, chlorine, bromine or iodine group. Examples include a halogen atom such as an atom or a cyano group.
【0024】置換または無置換のアルキル基としては、
直鎖または分岐または環状の無置換アルキル基、ハロゲ
ン原子、ヒドロキシ基、シアノ基、アルコキシ基、アシ
ル基、アシルオキシ基、アルコキシカルボニル基、アリ
ールオキシカルボニル基、アラルキルオキシカルボニル
基、アルケニルオキシカルボニル基、アルコキシカルボ
ニルオキシ基、ジアルキルアミノ基、アシルアミノ基、
アルキルスルホンアミノ基、アルキルスルホン基、複素
環基等の置換基群より選択した置換基が置換したアルキ
ル基などが挙げられる。As the substituted or unsubstituted alkyl group,
Linear or branched or cyclic unsubstituted alkyl group, halogen atom, hydroxy group, cyano group, alkoxy group, acyl group, acyloxy group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, aralkyloxycarbonyl group, alkenyloxycarbonyl group, alkoxy Carbonyloxy group, dialkylamino group, acylamino group,
Examples include an alkyl group substituted with a substituent selected from a group of substituents such as an alkylsulfoneamino group, an alkylsulfone group, and a heterocyclic group.
【0025】置換または無置換の直鎖または分岐または
環状のアルキル基としては、メチル基、エチル基、n−
プロピル基、iso−プロピル基、n−ブチル基、is
o−ブチル基、sec−ブチル基、t−ブチル基、n−
ペンチル基、iso−ペンチル基、2−メチルブチル
基、1−メチルブチル基、ネオペンチル基、1,2−ジ
メチルプロピル基、1,1−ジメチルプロピル基、シク
ロペンチル基、n−ヘキシル基、4−メチルペンチル
基、3−メチルペンチル基、2−メチルペンチル基、1
−メチルペンチル基、3,3−ジメチルブチル基、2,
3−ジメチルブチル基、1,3−ジメチルブチル基、
2,2−ジメチルブチル基、1,2−ジメチルブチル
基、1,1−ジメチルブチル基、3−エチルブチル基、
2−エチルブチル基、1−エチルブチル基、1,2,2
−トリメチルブチル基、1,1,2−トリメチルブチル
基、1−エチル−2−メチルプロピル基、シクロヘキシ
ル基、n−ヘプチル基、2−メチルヘキシル基、3−メ
チルヘキシル基、4−メチルヘキシル基、5−メチルヘ
キシル基、2,4−ジメチルペンチル基、n−オクチル
基、2−エチルヘキシル基、2,5−ジメチルヘキシル
基、2,5,5−トリメチルペンチル基、2,4−ジメ
チルヘキシル基、2,2,4−トリメチルペンチル基、
3,5,5−トリメチルヘキシル基、n−ノニル基、n
−デシル基、4−エチルオクチル基、4−エチル−4,
5−メチルヘキシル基、n−ウンデシル基、n−ドデシ
ル基、1,3,5,7−テトラエチルオクチル基、4−
ブチルオクチル基、6,6−ジエチルオクチル基、n−
トリデシル基、6−メチル−4−ブチルオクチル基、n
−テトラデシル基、n−ペンタデシル基、3,5−ジメ
チルヘプチル基、2,6−ジメチルヘプチル基、2,4
−ジメチルヘプチル基、2,2,5,5−テトラメチル
ヘキシル基、1−シクロペンチル−2,2−ジメチルプ
ロピル基、1−シクロヘキシル−2,2−ジメチルプロ
ピル基などの炭素数1〜15の無置換アルキル基;The substituted or unsubstituted linear, branched or cyclic alkyl group includes a methyl group, an ethyl group, an n-
Propyl group, iso-propyl group, n-butyl group, is
o-butyl group, sec-butyl group, t-butyl group, n-
Pentyl group, iso-pentyl group, 2-methylbutyl group, 1-methylbutyl group, neopentyl group, 1,2-dimethylpropyl group, 1,1-dimethylpropyl group, cyclopentyl group, n-hexyl group, 4-methylpentyl group , 3-methylpentyl group, 2-methylpentyl group, 1
-Methylpentyl group, 3,3-dimethylbutyl group, 2,
3-dimethylbutyl group, 1,3-dimethylbutyl group,
2,2-dimethylbutyl group, 1,2-dimethylbutyl group, 1,1-dimethylbutyl group, 3-ethylbutyl group,
2-ethylbutyl group, 1-ethylbutyl group, 1,2,2
-Trimethylbutyl group, 1,1,2-trimethylbutyl group, 1-ethyl-2-methylpropyl group, cyclohexyl group, n-heptyl group, 2-methylhexyl group, 3-methylhexyl group, 4-methylhexyl group , 5-methylhexyl, 2,4-dimethylpentyl, n-octyl, 2-ethylhexyl, 2,5-dimethylhexyl, 2,5,5-trimethylpentyl, 2,4-dimethylhexyl A 2,2,4-trimethylpentyl group,
3,5,5-trimethylhexyl group, n-nonyl group, n
-Decyl group, 4-ethyloctyl group, 4-ethyl-4,
5-methylhexyl group, n-undecyl group, n-dodecyl group, 1,3,5,7-tetraethyloctyl group, 4-
Butyloctyl group, 6,6-diethyloctyl group, n-
Tridecyl group, 6-methyl-4-butyloctyl group, n
-Tetradecyl group, n-pentadecyl group, 3,5-dimethylheptyl group, 2,6-dimethylheptyl group, 2,4
C1-C15-free groups such as -dimethylheptyl group, 2,2,5,5-tetramethylhexyl group, 1-cyclopentyl-2,2-dimethylpropyl group, 1-cyclohexyl-2,2-dimethylpropyl group; A substituted alkyl group;
【0026】クロロメチル基、クロロエチル基、ブロモ
エチル基、ヨードエチル基、ジクロロメチル基、フルオ
ロメチル基、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエ
チル基、2,2,2−トリフルオロエチル基、2,2,
2−トリクロロエチル基、1,1,1,3,3,3−ヘ
キサフルオロ−2−プロピル基、ノナフルオロブチル
基、パーフルオロデシル基等のハロゲン原子で置換した
炭素数1〜10のアルキル基;Chloromethyl, chloroethyl, bromoethyl, iodoethyl, dichloromethyl, fluoromethyl, trifluoromethyl, pentafluoroethyl, 2,2,2-trifluoroethyl, 2,2,2
C1-C10 alkyl groups substituted by halogen atoms such as 2-trichloroethyl group, 1,1,1,3,3,3-hexafluoro-2-propyl group, nonafluorobutyl group and perfluorodecyl group ;
【0027】2−ヒドロキシエチル基、2−ヒドロキシ
メチル基、4−ヒドロキシエチル基、2−ヒドロキシ−
3−メトキシプロピル基、2−ヒドロキシ−3−クロロ
プロピル基、2−ヒドロキシ−3−エトキシプロピル
基、3−ブトキシ−2−ヒドロキシプロピル基、2−ヒ
ドロキシ−3−シクロヘキシルオキシプロピル基、2−
ヒドロキシプロピル基、2−ヒドロキシブチル基、4−
ヒドロキシデカリル−2−オキシ基などのヒドロキシ基
が置換した炭素数1〜10のアルキル基;ヒドロキシメ
トキシメチル基、ヒドロキシエトキシエチル基、2−
(2’−ヒドロキシ−1’−メチルエトキシ)−1−メ
チルエチル基、2−(3’−フルオロ−2’−ヒドロキ
シプロポキシ)エチル基、2−(3’−クロロ−2’−
ヒドロキシプロポキシ)エチル基、ヒドロキシブトキシ
シクロヘキシルオキシ基などのヒドロキシアルコキシ基
が置換した炭素数2〜10のアルキル基;ヒドロキシメ
トキシメトキシメチル基、ヒドロキシエトキシエトキシ
エチル基、[2’−(2’−ヒドロキ−1’−メチルエ
トキシ)−1’−メチルエトキシ]エトキシエチル基、
[2’−(2’−フルオロ−1’−ヒドロキシエトキ
シ)−1’−メチルエトキシ]エトキシエチル基、
[2’−(2’−クロロ−1’−ヒドロキシエトキシ)
−1’−メチルエトキシ]エトキシエチル基などのヒド
ロキシアルコキシアルコキシ基が置換した炭素数3〜1
0のアルキル基;2-hydroxyethyl group, 2-hydroxymethyl group, 4-hydroxyethyl group, 2-hydroxy-
3-methoxypropyl group, 2-hydroxy-3-chloropropyl group, 2-hydroxy-3-ethoxypropyl group, 3-butoxy-2-hydroxypropyl group, 2-hydroxy-3-cyclohexyloxypropyl group, 2-
Hydroxypropyl group, 2-hydroxybutyl group, 4-
An alkyl group having 1 to 10 carbon atoms substituted by a hydroxy group such as a hydroxydecalyl-2-oxy group; a hydroxymethoxymethyl group, a hydroxyethoxyethyl group,
(2′-hydroxy-1′-methylethoxy) -1-methylethyl group, 2- (3′-fluoro-2′-hydroxypropoxy) ethyl group, 2- (3′-chloro-2′-
An alkyl group having 2 to 10 carbon atoms substituted by a hydroxyalkoxy group such as hydroxypropoxy) ethyl group or hydroxybutoxycyclohexyloxy group; hydroxymethoxymethoxymethyl group, hydroxyethoxyethoxyethyl group, [2 ′-(2′-hydroxy- 1′-methylethoxy) -1′-methylethoxy] ethoxyethyl group,
[2 ′-(2′-fluoro-1′-hydroxyethoxy) -1′-methylethoxy] ethoxyethyl group,
[2 ′-(2′-chloro-1′-hydroxyethoxy)
-1'-methylethoxy] ethoxyethyl group and other hydroxyalkoxyalkoxy-substituted C3-C1
An alkyl group of 0;
【0028】シアノメチル基、2−シアノエチル基、4
−シアノエチル基、2−シアノ−3−メトキシプロピル
基、2−シアノ−3−クロロプロピル基、2−シアノ−
3−エトキシプロピル基、3−ブトキシ−2−シアノプ
ロピル基、2−シアノ−3−シクロヘキシルプロピル
基、2−シアノプロピル基、2−シアノブチル基などの
シアノ基が置換した炭素数2〜10のアルキル基;Cyanomethyl group, 2-cyanoethyl group, 4
-Cyanoethyl group, 2-cyano-3-methoxypropyl group, 2-cyano-3-chloropropyl group, 2-cyano-
C2-C10 alkyl substituted by cyano groups such as 3-ethoxypropyl group, 3-butoxy-2-cyanopropyl group, 2-cyano-3-cyclohexylpropyl group, 2-cyanopropyl group and 2-cyanobutyl group Group;
【0029】メトキシメチル基、エトキシメチル基、プ
ロポキシメチル基、ブトキシメチル基、メトキシエチル
基、エトキシエチル基、プロポキシエチル基、ブトキシ
エチル基、n−ヘキシルオキシエチル基、4−メチルペ
ントキシエチル基、1,3−ジメチルブトキシエチル
基、2−エチルヘキシルオキシエチル基、n−オクチル
オキシエチル基、3,5,5−トリメチルヘキシルオキ
シエチル基、2−メチル−1−iso−プロピルプロポ
キシエチル基、3−メチル−1−iso−プロピルブチ
ルオキシエチル基、2−エトキシ−1−メチルエチル
基、3−メトキシブチル基、3,3,3−トリフルオロ
プロポキシエチル基、3,3,3−トリクロロプロポキ
シエチル基などのアルコキシ基が置換した炭素数2〜1
5のアルキル基;メトキシメトキシメチル基、メトキシ
エトキシエチル基、エトキシエトキシエチル基、プロポ
キシエトキシエチル基、ブトキシエトキシエチル基、シ
クロヘキシルオキシエトキシエチル基、デカリルオキシ
プロポキシエトキシ基、1,2−ジメチルプロポキシエ
トキシエチル基、3−メチル−1−iso−ブチルブト
キシエトキシエチル基、2−メトキシ−1−メチルエト
キシエチル基、2−ブトキシ−1−メチルエトキシエチ
ル基、2−(2’−エトキシ−1’−メチルエトキシ)
−1−メチルエチル基、3,3,3−トリフルオロプロ
ポキシエトキシエチル基、3,3,3−トリクロロプロ
ポキシエトキシエチル基などのアルコキシアルコキシ基
が置換した炭素数3〜15のアルキル基;メトキシメト
キシメトキシメチル基、メトキシエトキシエトキシエチ
ル基、エトキシエトキシエトキシエチル基、ブトキシエ
トキシエトキシエチル基、シクロヘキシルオキシ、プロ
ポキシプロポキシプロポキシ基、2,2,2−トリフル
オロエトキシエトキシエトキシエチル基、2,2,2−
トリクロロエトキシエトキシエトキシエチル基などのア
ルコキシアルコキシアルコキシが置換した炭素数4〜1
5のアルキル基;Methoxymethyl, ethoxymethyl, propoxymethyl, butoxymethyl, methoxyethyl, ethoxyethyl, propoxyethyl, butoxyethyl, n-hexyloxyethyl, 4-methylpentoxyethyl, 1,3-dimethylbutoxyethyl group, 2-ethylhexyloxyethyl group, n-octyloxyethyl group, 3,5,5-trimethylhexyloxyethyl group, 2-methyl-1-iso-propylpropoxyethyl group, 3- Methyl-1-iso-propylbutyloxyethyl group, 2-ethoxy-1-methylethyl group, 3-methoxybutyl group, 3,3,3-trifluoropropoxyethyl group, 3,3,3-trichloropropoxyethyl group Having 2 to 1 carbon atoms substituted by an alkoxy group such as
5 alkyl groups: methoxymethoxymethyl group, methoxyethoxyethyl group, ethoxyethoxyethyl group, propoxyethoxyethyl group, butoxyethoxyethyl group, cyclohexyloxyethoxyethyl group, decalyloxypropoxyethoxy group, 1,2-dimethylpropoxyethoxy Ethyl group, 3-methyl-1-iso-butylbutoxyethoxyethyl group, 2-methoxy-1-methylethoxyethyl group, 2-butoxy-1-methylethoxyethyl group, 2- (2′-ethoxy-1′- Methyl ethoxy)
An alkyl group having 3 to 15 carbon atoms, which is substituted by an alkoxyalkoxy group such as -1-methylethyl group, 3,3,3-trifluoropropoxyethoxyethyl group, 3,3,3-trichloropropoxyethoxyethyl group; methoxymethoxy Methoxymethyl group, methoxyethoxyethoxyethyl group, ethoxyethoxyethoxyethyl group, butoxyethoxyethoxyethyl group, cyclohexyloxy, propoxypropoxypropoxy group, 2,2,2-trifluoroethoxyethoxyethoxyethyl group, 2,2,2-
4-1 carbon atoms substituted by alkoxyalkoxyalkoxy such as trichloroethoxyethoxyethoxyethyl group
5 alkyl groups;
【0030】ホルミルメチル基、2−オキソブチル基、
3−オキソブチル基、4−オキソブチル基、1,3−ジ
オキソ−2−シクロヘキシル基、2−オキソ−5−t−
ブチル−1−シクロヘキシル基等のアシル基が置換した
炭素数2〜10のアルキル基;ホルミルオキシメチル
基、アセトキシエチル基、プロピオニルオキシエチル
基、ブタノイルオキシエチル基、バレリルオキシエチル
基、2−エチルヘキサノイルオキシエチル基、3,5,
5−トリメチルヘキサノイルオキシエチル基、3,5,
5−トリメチルヘキサノイルオキシヘキシル基、3−フ
ルオロブチリルオキシエチル基、3−クロロブチリルオ
キシエチル基などのアシルオキシ基が置換した炭素数2
〜15のアルキル基;ホルミルオキシメトキシメチル
基、アセトキシエトキシエチル基、プロピオニルオキシ
エトキシエチル基、バレリルオキシエトキシエチル基、
2−エチルヘキサノイルオキシエトキシエチル基、3,
5,5−トリメチルヘキサノイルオキシブトキシエチル
基、3,5,5−トリメチルヘキサノイルオキシエトキ
シエチル基、2−フルオロプロピオニルオキシエトキシ
エチル基、2−クロロプロピオニルオキシエトキシエチ
ル基などのアシルオキシアルコキシ基が置換した炭素数
3〜15のアルキル基;A formylmethyl group, a 2-oxobutyl group,
3-oxobutyl group, 4-oxobutyl group, 1,3-dioxo-2-cyclohexyl group, 2-oxo-5-t-
An alkyl group having 2 to 10 carbon atoms substituted by an acyl group such as a butyl-1-cyclohexyl group; formyloxymethyl group, acetoxyethyl group, propionyloxyethyl group, butanoyloxyethyl group, valeryloxyethyl group, 2- Ethylhexanoyloxyethyl group, 3,5
5-trimethylhexanoyloxyethyl group, 3,5
Carbon number 2 substituted with an acyloxy group such as a 5-trimethylhexanoyloxyhexyl group, a 3-fluorobutyryloxyethyl group, or a 3-chlorobutyryloxyethyl group;
To 15 alkyl groups; formyloxymethoxymethyl group, acetoxyethoxyethyl group, propionyloxyethoxyethyl group, valeryloxyethoxyethyl group,
2-ethylhexanoyloxyethoxyethyl group, 3,
Acyloxyalkoxy groups such as 5,5-trimethylhexanoyloxybutoxyethyl group, 3,5,5-trimethylhexanoyloxyethoxyethyl group, 2-fluoropropionyloxyethoxyethyl group, 2-chloropropionyloxyethoxyethyl group are substituted An alkyl group having 3 to 15 carbon atoms;
【0031】アセトキシメトキシメトキシメチル基、ア
セトキシエトキシエトキシエチル基、プロピオニルオキ
シエトキシエトキシエチル基、バレリルオキシエトキシ
エトキシエチル基、2−エチルヘキサノイルオキシエト
キシエトキシエチル基、3,5,5−トリメチルヘキサ
ノイルオキシオキシエトキシエトキシエチル基、2−フ
ルオロプロピオニルオキシエトキシエトキシエチル基、
2−クロロプロピオニルオキシエトキシエトキシエチル
基などのアシルオキシアルコキシアルコキシ基が置換し
た炭素数5〜15のアルキル基;Acetoxymethoxymethoxymethyl group, acetoxyethoxyethoxyethyl group, propionyloxyethoxyethoxyethyl group, valeryloxyethoxyethoxyethyl group, 2-ethylhexanoyloxyethoxyethoxyethyl group, 3,5,5-trimethylhexanoyl Oxyoxyethoxyethoxyethyl group, 2-fluoropropionyloxyethoxyethoxyethyl group,
An alkyl group having 5 to 15 carbon atoms substituted with an acyloxyalkoxyalkoxy group such as a 2-chloropropionyloxyethoxyethoxyethyl group;
【0032】メトキシカルボニルメチル基、エトキシカ
ルボニルメチル基、ブトキシカルボニルメチル基、メト
キシカルボニルエチル基、エトキシカルボニルエチル
基、ブトキシカルボニルエチル基、p−エチルシクロヘ
キシルオキシカルボニルシクロヘキシル基、2,2,
3,3−テトラフルオロプロポキシカルボニルメチル
基、2,2,3,3−テトラクロロプロポキシカルボニ
ルメチル基などのアルコキシカルボニル基が置換した炭
素数3〜15のアルキル基;フェノキシカルボニルメチ
ル基、フェノキシカルボニルエチル基、4−t−ブチル
フェノキシカルボニルエチル基、ナフチルオキシカルボ
ニルメチル基、ビフェニルオキシカルボニルエチル基な
どのアリールオキシカルボニル基が置換した炭素数8〜
15のアルキル基;ベンジルオキシカルボニルメチル
基、ベンジルオキシカルボニルエチル基、フェネチルオ
キシカルボニルメチル基、4−シクロヘキシルオキシベ
ンジルオキシカルボニルメチル基などのアラルキルオキ
シカルボニル基が置換した炭素数9〜15のアルキル
基;Methoxycarbonylmethyl, ethoxycarbonylmethyl, butoxycarbonylmethyl, methoxycarbonylethyl, ethoxycarbonylethyl, butoxycarbonylethyl, p-ethylcyclohexyloxycarbonylcyclohexyl, 2,2
An alkyl group having 3 to 15 carbon atoms substituted by an alkoxycarbonyl group such as a 3,3-tetrafluoropropoxycarbonylmethyl group or a 2,2,3,3-tetrachloropropoxycarbonylmethyl group; a phenoxycarbonylmethyl group or a phenoxycarbonylethyl Group, a carbon number of 8 to 8 substituted with an aryloxycarbonyl group such as a 4-t-butylphenoxycarbonylethyl group, a naphthyloxycarbonylmethyl group, a biphenyloxycarbonylethyl group, etc.
An alkyl group having 9 to 15 carbon atoms substituted by an aralkyloxycarbonyl group such as a benzyloxycarbonylmethyl group, a benzyloxycarbonylethyl group, a phenethyloxycarbonylmethyl group, and a 4-cyclohexyloxybenzyloxycarbonylmethyl group;
【0033】ビニルオキシカルボニルメチル基、ビニル
オキシカルボニルエチル基、アリルオキシカルボニルメ
チル基、オクテノキシカルボニルメチル基などのアルケ
ニルオキシカルボニル基が置換した炭素数4〜10のア
ルキル基;メトキシカルボニルオキシメチル基、メトキ
シカルボニルオキシエチル基、エトキシカルボニルオキ
シエチル基、ブトキシカルボニルオキシエチル基、2,
2,2−トリフルオロエトキシカルボニルオキシエチル
基、2,2,2−トリクロロエトキシカルボニルオキシ
エチル基などのアルコキシカルボニルオキシ基が置換し
た炭素数3〜15のアルキル基;メトキシメトキシカル
ボニルオキシメチル基、メトキシエトキシカルボニルオ
キシエチル基、エトキシエトキシカルボニルオキシエチ
ル基、ブトキシエトキシカルボニルオキシエチル基、
2,2,2−トリフルオロエトキシエトキシカルボニル
オキシエチル基、2,2,2−トリクロロエトキシエト
キシカルボニルオキシエチル基などのアルコキシアルコ
キシカルボニルオキシ基が置換した炭素数4〜15のア
ルキル基;An alkyl group having 4 to 10 carbon atoms substituted by an alkenyloxycarbonyl group such as a vinyloxycarbonylmethyl group, a vinyloxycarbonylethyl group, an allyloxycarbonylmethyl group, an octenoxycarbonylmethyl group; a methoxycarbonyloxymethyl group Methoxycarbonyloxyethyl group, ethoxycarbonyloxyethyl group, butoxycarbonyloxyethyl group, 2,
An alkyl group having 3 to 15 carbon atoms substituted by an alkoxycarbonyloxy group such as a 2,2-trifluoroethoxycarbonyloxyethyl group or a 2,2,2-trichloroethoxycarbonyloxyethyl group; a methoxymethoxycarbonyloxymethyl group, a methoxy group Ethoxycarbonyloxyethyl group, ethoxyethoxycarbonyloxyethyl group, butoxyethoxycarbonyloxyethyl group,
An alkyl group having 4 to 15 carbon atoms substituted by an alkoxyalkoxycarbonyloxy group such as a 2,2,2-trifluoroethoxyethoxycarbonyloxyethyl group and a 2,2,2-trichloroethoxyethoxycarbonyloxyethyl group;
【0034】ジメチルアミノメチル基、ジエチルアミノ
メチル基、ジ−n−ブチルアミノメチル基、ジ−n−ヘ
キシルアミノメチル基、ジ−n−オクチルアミノメチル
基、ジ−n−デシルアミノメチル基、N−イソアミル−
N−メチルアミノメチル基、ピペリジノメチル基、ジ
(メトキシメチル)アミノメチル基、ジ(メトキシエチ
ル)アミノメチル基、ジ(エトキシメチル)アミノメチ
ル基、ジ(エトキシエチル)アミノメチル基、ジ(プロ
ポキシエチル)アミノメチル基、ジ(ブトキシエチル)
アミノメチル基、ビス(2−シクロヘキシルオキシエチ
ル)アミノメチル基;ジメチルアミノエチル基、ジエチ
ルアミノエチル基、ジ−n−ブチルアミノエチル基、ジ
−n−ヘキシルアミノエチル基、ジ−n−オクチルアミ
ノエチル基、ジ−n−デシルアミノエチル基、N−イソ
アミル−N−メチルアミノエチル基、ピペリジノエチル
基、ジ(メトキシメチル)アミノエチル基、ジ(メトキ
シエチル)アミノエチル基、ジ(エトキシメチル)アミ
ノエチル基、ジ(エトキシエチル)アミノエチル基、ジ
(プロポキシエチル)アミノエチル基、ジ(ブトキシエ
チル)アミノエチル基、ビス(2−シクロヘキシルオキ
シエチル)アミノエチル基;ジメチルアミノプロピル
基、ジエチルアミノプロピル基、ジ−n−ブチルアミノ
プロピル基、ジ−n−ヘキシルアミノプロピル基、ジ−
n−オクチルアミノプロピル基、ジ−n−デシルアミノ
プロピル基、N−イソアミル−N−メチルアミノプロピ
ル基、ピペリジノプロピル基、ジ(メトキシメチル)ア
ミノプロピル基、ジ(メトキシエチル)アミノプロピル
基、ジ(エトキシメチル)アミノプロピル基、ジ(エト
キシエチル)アミノプロピル基、ジ(プロポキシエチ
ル)アミノプロピル基、ジ(ブトキシエチル)アミノプ
ロピル基、ビス(2−シクロヘキシルオキシエチル)ア
ミノプロピル基;ジメチルアミノブチル基、ジエチルア
ミノブチル基、ジ−n−ブチルアミノブチル基、ジ−n
−ヘキシルアミノブチル基、ジ−n−オクチルアミノブ
チル基、ジ−n−デシルアミノブチル基、N−イソアミ
ル−N−メチルアミノブチル基、ピペリジノブチル基、
ジ(メトキシメチル)アミノブチル基、ジ(メトキシエ
チル)アミノブチル基、ジ(エトキシメチル)アミノブ
チル基、ジ(エトキシエチル)アミノブチル基、ジ(プ
ロポキシエチル)アミノブチル基、ジ(ブトキシエチ
ル)アミノブチル基、ビス(2−シクロヘキシルオキシ
エチル)アミノブチル基等のジアルキルアミノ基が置換
した炭素数3〜20のアルキル基;アセチルアミノメチ
ル基、アセチルアミノエチル基、プロピオニルアミノエ
チル基、ブタノイルアミノエチル基、シクロヘキサンカ
ルボニルアミノエチル基、p−メチルシクロヘキサンカ
ルボニルアミノエチル基、スクシンイミノエチル基など
のアシルアミノ基が置換した炭素数3〜10のアルキル
基;Dimethylaminomethyl, diethylaminomethyl, di-n-butylaminomethyl, di-n-hexylaminomethyl, di-n-octylaminomethyl, di-n-decylaminomethyl, N- Isoamyl-
N-methylaminomethyl group, piperidinomethyl group, di (methoxymethyl) aminomethyl group, di (methoxyethyl) aminomethyl group, di (ethoxymethyl) aminomethyl group, di (ethoxyethyl) aminomethyl group, di (propoxyethyl) ) Aminomethyl group, di (butoxyethyl)
Aminomethyl group, bis (2-cyclohexyloxyethyl) aminomethyl group; dimethylaminoethyl group, diethylaminoethyl group, di-n-butylaminoethyl group, di-n-hexylaminoethyl group, di-n-octylaminoethyl Group, di-n-decylaminoethyl group, N-isoamyl-N-methylaminoethyl group, piperidinoethyl group, di (methoxymethyl) aminoethyl group, di (methoxyethyl) aminoethyl group, di (ethoxymethyl) aminoethyl A di (ethoxyethyl) aminoethyl group, a di (propoxyethyl) aminoethyl group, a di (butoxyethyl) aminoethyl group, a bis (2-cyclohexyloxyethyl) aminoethyl group; a dimethylaminopropyl group, a diethylaminopropyl group, Di-n-butylaminopropyl group, di-n Hexyl aminopropyl group, di -
n-octylaminopropyl group, di-n-decylaminopropyl group, N-isoamyl-N-methylaminopropyl group, piperidinopropyl group, di (methoxymethyl) aminopropyl group, di (methoxyethyl) aminopropyl group Di (ethoxymethyl) aminopropyl group, di (ethoxyethyl) aminopropyl group, di (propoxyethyl) aminopropyl group, di (butoxyethyl) aminopropyl group, bis (2-cyclohexyloxyethyl) aminopropyl group; dimethyl Aminobutyl group, diethylaminobutyl group, di-n-butylaminobutyl group, di-n
-Hexylaminobutyl group, di-n-octylaminobutyl group, di-n-decylaminobutyl group, N-isoamyl-N-methylaminobutyl group, piperidinobutyl group,
Di (methoxymethyl) aminobutyl group, di (methoxyethyl) aminobutyl group, di (ethoxymethyl) aminobutyl group, di (ethoxyethyl) aminobutyl group, di (propoxyethyl) aminobutyl group, di (butoxyethyl) An alkyl group having 3 to 20 carbon atoms substituted by a dialkylamino group such as an aminobutyl group or a bis (2-cyclohexyloxyethyl) aminobutyl group; an acetylaminomethyl group, an acetylaminoethyl group, a propionylaminoethyl group, a butanoylamino An alkyl group having 3 to 10 carbon atoms substituted by an acylamino group such as an ethyl group, a cyclohexanecarbonylaminoethyl group, a p-methylcyclohexanecarbonylaminoethyl group, a succiniminoethyl group;
【0035】メチルスルホンアミノメチル基、メチルス
ルホンアミノエチル基、エチルスルホンアミノエチル
基、プロピルスルホンアミノエチル基、オクチルスルホ
ンアミノエチル基などのアルキルスルホンアミノ基が置
換した炭素数2〜10のアルキル基;メチルスルホンメ
チル基、エチルスルホンメチル基、ブチルスルホンメチ
ル基、メチルスルホンエチル基、エチルスルホンエチル
基、ブチルスルホンエチル基、2−エチルヘキシルスル
ホンエチル基、2,2,3,3−テトラフルオロプロピ
ルスルホンメチル基、2,2,3,3−テトラクロロプ
ロピルスルホンメチル基などのアルキルスルホン基が置
換した炭素数2〜10のアルキル基;ピロリノメチル
基、ピロリジノメチル基、ピラゾリジノメチル基、イミ
ダゾリジノメチル基、オキサゾリル基、トリアゾリノメ
チル基、モルホリノメチル基、インドーリノメチル基、
ベンズイミダゾリノメチル基、カルバゾリノメチル基な
どの複素環基が置換したアルキル基等が挙げられる。An alkyl group having 2 to 10 carbon atoms substituted by an alkylsulfonamino group such as a methylsulfonaminomethyl group, a methylsulfonaminoethyl group, an ethylsulfonaminoethyl group, a propylsulfonaminoethyl group, an octylsulfonaminoethyl group; Methyl sulfone methyl group, ethyl sulfone methyl group, butyl sulfone methyl group, methyl sulfone ethyl group, ethyl sulfone ethyl group, butyl sulfone ethyl group, 2-ethylhexyl sulfone ethyl group, 2,2,3,3-tetrafluoropropyl sulfone methyl An alkyl group having 2 to 10 carbon atoms substituted by an alkylsulfone group such as a 2,2,3,3-tetrachloropropylsulfonmethyl group; a pyrrinomethyl group, a pyrrolidinomethyl group, a pyrazolidinomethyl group, an imidazolidino Methyl group, Kisazoriru group, triazolylmethyl Roh methyl group, morpholinomethyl group, India over Reno methyl group,
Examples include an alkyl group substituted with a heterocyclic group such as a benzimidazolinomethyl group and a carbazolinomethyl group.
【0036】置換または無置換のアラルキル基の例とし
ては、前記に挙げたアルキル基と同様な置換基を有する
アラルキル基であり、好ましくは、ベンジル基、ニトロ
ベンジル基、シアノベンジル基、ヒドロキシベンジル
基、メチルベンジル基、トリフルオロメチルベンジル
基、ナフチルメチル基、ニトロナフチルメチル基、シア
ノナフチルメチル基、ヒドロキシナフチルメチル基、メ
チルナフチルメチル基、トリフルオロメチルナフチルメ
チル基、フルオレン−9−イルエチル基などの炭素数7
〜15のアラルキル基等が挙げられる。Examples of the substituted or unsubstituted aralkyl groups are aralkyl groups having the same substituents as the above-mentioned alkyl groups, preferably benzyl, nitrobenzyl, cyanobenzyl and hydroxybenzyl. A methylbenzyl group, a trifluoromethylbenzyl group, a naphthylmethyl group, a nitronaphthylmethyl group, a cyanonaphthylmethyl group, a hydroxynaphthylmethyl group, a methylnaphthylmethyl group, a trifluoromethylnaphthylmethyl group, a fluoren-9-ylethyl group and the like. Carbon number 7
To 15 aralkyl groups and the like.
【0037】置換または無置換のアリール基の例として
は、前記に挙げたアルキル基と同様な置換基を有するア
リール基であり、好ましくは、フェニル基、ニトロフェ
ニル基、シアノフェニル基、ヒドロキシフェニル基、メ
チルフェニル基、トリフルオロメチルフェニル基、ナフ
チル基、ニトロナフチル基、シアノナフチル基、ヒドロ
キシナフチル基、メチルナフチル基、トリフルオロメチ
ルナフチル基、めときしカルボニルフェニル基、4−
(5’−メチルベンゾキサゾール−2’−イル)フェニ
ル基、ジブチルアミノカルボニルフェニル基などの炭素
数6〜15のアリール基等が挙げられる。Examples of the substituted or unsubstituted aryl group are aryl groups having the same substituents as the above-mentioned alkyl groups, preferably phenyl, nitrophenyl, cyanophenyl and hydroxyphenyl. A methylphenyl group, a trifluoromethylphenyl group, a naphthyl group, a nitronaphthyl group, a cyanonaphthyl group, a hydroxynaphthyl group, a methylnaphthyl group, a trifluoromethylnaphthyl group, a methylcarbonylcarbonyl group,
An aryl group having 6 to 15 carbon atoms such as a (5′-methylbenzoxazol-2′-yl) phenyl group and a dibutylaminocarbonylphenyl group are exemplified.
【0038】置換または無置換のアルコキシ基の例とし
ては、メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、イ
ソプロポキシ基、n−ブトキシ基、イソブトキシ基、t
ert−ブトキシ基、sec−ブトキシ基、n−ペンチ
ルオキシ基、イソペンチルオキシ基、tert−ペンチ
ルオキシ基、sec−ペンチルオキシ基、シクロペンチ
ルオキシ基、n−ヘキシルオキシ基、1−メチルペンチ
ルオキシ基、2−メチルペンチルオキシ基、3−メチル
ペンチルオキシ基、4−メチルペンチルオキシ基、1,
1−ジメチルブトキシ基、1,2−ジメチルブトキシ
基、1,3−ジメチルブトキシ基、2,3−ジメチルブ
トキシ基、1,1,2−トリメチルプロポキシ基、1,
2,2−トリメチルプロポキシ基、1−エチルブトキシ
基、2−エチルブトキシ基、1−エチル−2−メチルプ
ロポキシ基、シクロヘキシルオキシ基、メチルシクロペ
ンチルオキシ基、n−へプチルオキシ基、1−メチルヘ
キシルオキシ基、2−メチルヘキシルオキシ基、3−メ
チルヘキシルオキシ基、4−メチルヘキシルオキシ基、
5−メチルヘキシルオキシ基、1,1−ジメチルペンチ
ルオキシ基、1,2−ジメチルペンチルオキシ基、1,
3−ジメチルペンチルオキシ基、1,4−ジメチルペン
チルオキシ基、2,2−ジメチルペンチルオキシ基、
2,3−ジメチルペンチルオキシ基、2,4−ジメチル
ペンチルオキシ基、3,3−ジメチルペンチルオキシ
基、3,4−ジメチルペンチルオキシ基、1−エチルペ
ンチルオキシ基、2−エチルペンチルオキシ基、3−エ
チルペンチルオキシ基、1,1,2−トリメチルブトキ
シ基、1,1,3−トリメチルブトキシ基、1,2,3
−トリメチルブトキシ基、1,2,2−トリメチルブト
キシ基、1,3,3−トリメチルブトキシ基、2,3,
3−トリメチルブトキシ基、1−エチル−1−メチルブ
トキシ基、1−エチル−2−メチルブトキシ基、1−エ
チル−3−メチルブトキシ基、2−エチル−1−メチル
ブトキシ基、2−エチル−3−メチルブトキシ基、1−
n−プロピルブトキシ基、1−イソプロピルブトキシ
基、1−イソプロピル−2−メチルプロポキシ基、メチ
ルシクロヘキシルオキシ基、n−オクチルオキシ基、1
−メチルヘプチルオキシ基、2−メチルヘプチルオキシ
基、3−メチルヘプチルオキシ基、4−メチルヘプチル
オキシ基、5−メチルヘプチルオキシ基、6−メチルヘ
プチルオキシ基、1,1−ジメチルヘキシルオキシ基、
1,2−ジメチルヘキシルオキシ基、1,3−ジメチル
ヘキシルオキシ基、1,4−ジメチルヘキシルオキシ
基、1,5−ジメチルヘキシルオキシ基、2,2−ジメ
チルヘキシルオキシ基、2,3−ジメチルヘキシルオキ
シ基、2,4−ジメチルヘキシルオキシ基、2,5−ジ
メチルヘキシルオキシ基、3,3−ジメチルヘキシルオ
キシ基、3,4−ジメチルヘキシルオキシ基、3,5−
ジメチルヘキシルオキシ基、4,4−ジメチルヘキシル
オキシ基、4,5−ジメチルヘキシルオキシ基、1−エ
チルヘキシルオキシ基、2−エチルヘキシルオキシ基、
3−エチルヘキシルオキシ基、4−エチルヘキシルオキ
シ基、1−n−プロピルペンチルオキシ基、2−n−プ
ロピルペンチルオキシ基、1−イソプロピルペンチルオ
キシ基、2−イソプロピルペンチルオキシ基、1−エチ
ル−1−メチルペンチルオキシ基、1−エチル−2−メ
チルペンチルオキシ基、1−エチル−3−メチルペンチ
ルオキシ基、1−エチル−4−メチルペンチルオキシ
基、2−エチル−1−メチルペンチルオキシ基、2−エ
チル−2−メチルペンチルオキシ基、2−エチル−3−
メチルペンチルオキシ基、2−エチル−4−メチルペン
チルオキシ基、3−エチル−1−メチルペンチルオキシ
基、3−エチル−2−メチルペンチルオキシ基、3−エ
チル−3−メチルペンチルオキシ基、3−エチル−4−
メチルペンチルオキシ基、1,1,2−トリメチルペン
チルオキシ基、1,1,3−トリメチルペンチルオキシ
基、1,1,4−トリメチルペンチルオキシ基、1,
2,2−トリメチルペンチルオキシ基、1,2,3−ト
リメチルペンチルオキシ基、1,2,4−トリメチルペ
ンチルオキシ基、1,3,4−トリメチルペンチルオキ
シ基、2,2,3−トリメチルペンチルオキシ基、2,
2,4−トリメチルペンチルオキシ基、2,3,4−ト
リメチルペンチルオキシ基、1,3,3−トリメチルペ
ンチルオキシ基、2,3,3−トリメチルペンチルオキ
シ基、3,3,4−トリメチルペンチルオキシ基、1,
4,4−トリメチルペンチルオキシ基、2,4,4−ト
リメチルペンチルオキシ基、3,4,4−トリメチルペ
ンチルオキシ基、1−n−ブチルブトキシ基、1−イソ
ブチルブトキシ基、1−sec−ブチルブトキシ基、1
−tert−ブチルブトキシ基、2−tert−ブチル
ブトキシ基、1−n−プロピル−1−メチルブトキシ
基、1−n−プロピル−2−メチルブトキシ基、1−n
−プロピル−3−メチルブトキシ基、1−イソプロピル
−1−メチルブトキシ基、1−イソプロピル−2−メチ
ルブトキシ基、1−イソプロピル−3−メチルブトキシ
基、1,1−ジエチルブトキシ基、1,2−ジエチルブ
トキシ基、1−エチル−1,2−ジメチルブトキシ基、
1−エチル−1,3−ジメチルブトキシ基、1−エチル
−2,3−ジメチルブトキシ基、2−エチル−1,1−
ジメチルブトキシ基、2−エチル−1,2−ジメチルブ
トキシ基、2−エチル−1,3−ジメチルブトキシ基、
2−エチル−2,3−ジメチルブトキシ基、1,2−ジ
メチルシクロヘキシルオキシ基、1,3−ジメチルシク
ロヘキシルオキシ基、1,4−ジメチルシクロヘキシル
オキシ基、エチルシクロヘキシルオキシ基、n−ノニル
オキシ基、3,5,5−トリメチルヘキシルオキシ基、
n−デシルオキシ基、n−ウンデシルオキシ基、n−ド
デシルオキシ基、1−アダマンチルオキシ基、n−ペン
タデカニルオキシ基等の炭素数1〜15の直鎖、分岐又
は環状の無置換アルコキシ基;Examples of substituted or unsubstituted alkoxy groups include methoxy, ethoxy, n-propoxy, isopropoxy, n-butoxy, isobutoxy, t
tert-butoxy group, sec-butoxy group, n-pentyloxy group, isopentyloxy group, tert-pentyloxy group, sec-pentyloxy group, cyclopentyloxy group, n-hexyloxy group, 1-methylpentyloxy group, 2-methylpentyloxy group, 3-methylpentyloxy group, 4-methylpentyloxy group, 1,
1-dimethylbutoxy group, 1,2-dimethylbutoxy group, 1,3-dimethylbutoxy group, 2,3-dimethylbutoxy group, 1,1,2-trimethylpropoxy group, 1,
2,2-trimethylpropoxy group, 1-ethylbutoxy group, 2-ethylbutoxy group, 1-ethyl-2-methylpropoxy group, cyclohexyloxy group, methylcyclopentyloxy group, n-heptyloxy group, 1-methylhexyloxy Group, 2-methylhexyloxy group, 3-methylhexyloxy group, 4-methylhexyloxy group,
5-methylhexyloxy group, 1,1-dimethylpentyloxy group, 1,2-dimethylpentyloxy group, 1,
3-dimethylpentyloxy group, 1,4-dimethylpentyloxy group, 2,2-dimethylpentyloxy group,
2,3-dimethylpentyloxy group, 2,4-dimethylpentyloxy group, 3,3-dimethylpentyloxy group, 3,4-dimethylpentyloxy group, 1-ethylpentyloxy group, 2-ethylpentyloxy group, 3-ethylpentyloxy group, 1,1,2-trimethylbutoxy group, 1,1,3-trimethylbutoxy group, 1,2,3
-Trimethylbutoxy, 1,2,2-trimethylbutoxy, 1,3,3-trimethylbutoxy, 2,3
3-trimethylbutoxy group, 1-ethyl-1-methylbutoxy group, 1-ethyl-2-methylbutoxy group, 1-ethyl-3-methylbutoxy group, 2-ethyl-1-methylbutoxy group, 2-ethyl- 3-methylbutoxy group, 1-
n-propylbutoxy group, 1-isopropylbutoxy group, 1-isopropyl-2-methylpropoxy group, methylcyclohexyloxy group, n-octyloxy group, 1
-Methylheptyloxy group, 2-methylheptyloxy group, 3-methylheptyloxy group, 4-methylheptyloxy group, 5-methylheptyloxy group, 6-methylheptyloxy group, 1,1-dimethylhexyloxy group,
1,2-dimethylhexyloxy group, 1,3-dimethylhexyloxy group, 1,4-dimethylhexyloxy group, 1,5-dimethylhexyloxy group, 2,2-dimethylhexyloxy group, 2,3-dimethyl Hexyloxy group, 2,4-dimethylhexyloxy group, 2,5-dimethylhexyloxy group, 3,3-dimethylhexyloxy group, 3,4-dimethylhexyloxy group, 3,5-
Dimethylhexyloxy group, 4,4-dimethylhexyloxy group, 4,5-dimethylhexyloxy group, 1-ethylhexyloxy group, 2-ethylhexyloxy group,
3-ethylhexyloxy group, 4-ethylhexyloxy group, 1-n-propylpentyloxy group, 2-n-propylpentyloxy group, 1-isopropylpentyloxy group, 2-isopropylpentyloxy group, 1-ethyl-1- Methylpentyloxy group, 1-ethyl-2-methylpentyloxy group, 1-ethyl-3-methylpentyloxy group, 1-ethyl-4-methylpentyloxy group, 2-ethyl-1-methylpentyloxy group, 2 -Ethyl-2-methylpentyloxy group, 2-ethyl-3-
Methylpentyloxy group, 2-ethyl-4-methylpentyloxy group, 3-ethyl-1-methylpentyloxy group, 3-ethyl-2-methylpentyloxy group, 3-ethyl-3-methylpentyloxy group, 3 -Ethyl-4-
Methylpentyloxy group, 1,1,2-trimethylpentyloxy group, 1,1,3-trimethylpentyloxy group, 1,1,4-trimethylpentyloxy group, 1,
2,2-trimethylpentyloxy group, 1,2,3-trimethylpentyloxy group, 1,2,4-trimethylpentyloxy group, 1,3,4-trimethylpentyloxy group, 2,2,3-trimethylpentyl Oxy group, 2,
2,4-trimethylpentyloxy group, 2,3,4-trimethylpentyloxy group, 1,3,3-trimethylpentyloxy group, 2,3,3-trimethylpentyloxy group, 3,3,4-trimethylpentyl Oxy group, 1,
4,4-trimethylpentyloxy group, 2,4,4-trimethylpentyloxy group, 3,4,4-trimethylpentyloxy group, 1-n-butylbutoxy group, 1-isobutylbutoxy group, 1-sec-butyl Butoxy group, 1
-Tert-butylbutoxy group, 2-tert-butylbutoxy group, 1-n-propyl-1-methylbutoxy group, 1-n-propyl-2-methylbutoxy group, 1-n
-Propyl-3-methylbutoxy group, 1-isopropyl-1-methylbutoxy group, 1-isopropyl-2-methylbutoxy group, 1-isopropyl-3-methylbutoxy group, 1,1-diethylbutoxy group, 1,2 -Diethylbutoxy group, 1-ethyl-1,2-dimethylbutoxy group,
1-ethyl-1,3-dimethylbutoxy group, 1-ethyl-2,3-dimethylbutoxy group, 2-ethyl-1,1-
Dimethylbutoxy group, 2-ethyl-1,2-dimethylbutoxy group, 2-ethyl-1,3-dimethylbutoxy group,
2-ethyl-2,3-dimethylbutoxy group, 1,2-dimethylcyclohexyloxy group, 1,3-dimethylcyclohexyloxy group, 1,4-dimethylcyclohexyloxy group, ethylcyclohexyloxy group, n-nonyloxy group, 3 , 5,5-trimethylhexyloxy group,
a linear, branched or cyclic unsubstituted alkoxy group having 1 to 15 carbon atoms such as an n-decyloxy group, an n-undecyloxy group, an n-dodecyloxy group, a 1-adamantyloxy group, and an n-pentadecanyloxy group. ;
【0039】メトキシメトキシ基、メトキシエトキシ
基、エトキシエトキシ基、n−プロポキシエトキシ基、
イソプロポキシエトキシ基、n−ブトキシエトキシ基、
イソブトキシエトキシ基、tert−ブトキシエトキシ
基、sec−ブトキシエトキシ基、n−ペンチルオキシ
エトキシ基、イソペンチルオキシエトキシ基、tert
−ペンチルオキシエトキシ基、sec−ペンチルオキシ
エトキシ基、シクロペンチルオキシエトキシ基、n−ヘ
キシルオキシエトキシ基、エチルシクロヘキシルオキシ
エトキシ基、n−ノニルオキシエトキシ基、3,5,5
−トリメチルヘキシルオキシエトキシ基、3,5,5−
トリメチルヘキシルオキシブトキシ基、n−デシルオキ
シエトキシ基、n−ウンデシルオキシエトキシ基、n−
ドデシルオキシエトキシ基、3−メトキシプロポキシ
基、3−エトキシプロポキシ基、3−(n−プロポキ
シ)プロポキシ基、2−イソプロポキシプロポキシ基、
2−メトキシブトキシ基、2−エトキシブトキシ基、2
−(n−プロポキシ)ブトキシ基、4−イソプロポキシ
ブトキシ基、デカリルオキシエトキシ基、アダマンチル
オキシエトキシ基等の、アルコキシ基で置換した炭素数
2〜15のアルコキシ基;Methoxymethoxy, methoxyethoxy, ethoxyethoxy, n-propoxyethoxy,
Isopropoxyethoxy group, n-butoxyethoxy group,
Isobutoxyethoxy group, tert-butoxyethoxy group, sec-butoxyethoxy group, n-pentyloxyethoxy group, isopentyloxyethoxy group, tert
-Pentyloxyethoxy group, sec-pentyloxyethoxy group, cyclopentyloxyethoxy group, n-hexyloxyethoxy group, ethylcyclohexyloxyethoxy group, n-nonyloxyethoxy group, 3,5,5
-Trimethylhexyloxyethoxy group, 3,5,5-
Trimethylhexyloxybutoxy group, n-decyloxyethoxy group, n-undecyloxyethoxy group, n-
Dodecyloxyethoxy group, 3-methoxypropoxy group, 3-ethoxypropoxy group, 3- (n-propoxy) propoxy group, 2-isopropoxypropoxy group,
2-methoxybutoxy group, 2-ethoxybutoxy group, 2
An alkoxy group having 2 to 15 carbon atoms, which is substituted with an alkoxy group, such as-(n-propoxy) butoxy group, 4-isopropoxybutoxy group, decalyloxyethoxy group, adamantyloxyethoxy group;
【0040】メトキシメトキシメトキシ基、エトキシメ
トキシメトキシ基、プロポキシメトキシメトキシ基、ブ
トキシメトキシメトキシ基、メトキシエトキシメトキシ
基、エトキシエトキシメトキシ基、プロポキシエトキシ
メトキシ基、ブトキシエトキシメトキシ基、メトキシプ
ロポキシメトキシ基、エトキシプロポキシメトキシ基、
プロポキシプロポキシメトキシ基、ブトキシプロポキシ
メトキシ基、メトキシブトキシメトキシ基、エトキシブ
トキシメトキシ基、プロポキシブトキシメトキシ基、ブ
トキシブトキシメトキシ基、メトキシメトキシエトキシ
基、エトキシメトキシエトキシ基、プロポキシメトキシ
エトキシ基、ブトキシメトキシエトキシ基、メトキシエ
トキシエトキシ基、エトキシエトキシエトキシ基、プロ
ポキシエトキシエトキシ基、ブトキシエトキシエトキシ
基、メトキシプロポキシエトキシ基、エトキシプロポキ
シエトキシ基、プロポキシプロポキシエトキシ基、ブト
キシプロポキシエトキシ基、メトキシブトキシエトキシ
基、エトキシブトキシエトキシ基、プロポキシブトキシ
エトキシ基、ブトキシブトキシエトキシ基、メトキシメ
トキシプロポキシ基、エトキシメトキシプロポキシ基、
プロポキシメトキシプロポキシ基、ブトキシメトキシプ
ロポキシ基、メトキシエトキシプロポキシ基、エトキシ
エトキシプロポキシ基、プロポキシエトキシプロポキシ
基、ブトキシエトキシプロポキシ基、メトキシプロポキ
シプロポキシ基、エトキシプロポキシプロポキシ基、プ
ロポキシプロポキシプロポキシ基、ブトキシプロポキシ
プロポキシ基、メトキシブトキシプロポキシ基、エトキ
シブトキシプロポキシ基、プロポキシブトキシプロポキ
シ基、ブトキシブトキシプロポキシ基、メトキシメトキ
シブトキシ基、エトキシメトキシブトキシ基、プロポキ
シメトキシブトキシ基、ブトキシメトキシブトキシ基、
メトキシエトキシブトキシ基、エトキシエトキシブトキ
シ基、プロポキシシエトキシブトキシ基、ブトキシエト
キシブトキシ碁、メトキシプロポキシブトキシ基、エト
キシプロポキシブトキシ基、プロポキシプロポキシブト
キシ基、ブトキシプロポキシブトキシ基、メトキシブト
キシブトキシ基、エトキシブトキシブトキシ基、プロポ
キシブトキシブトキシ基、ブトキシブトキシブトキシ
基、4−エチルシクロへキシルオキシエトキシエトキシ
基、(2−エチル−1−へキシルオキシ)エトキシプロ
ポキシ基、4−(3,5,5−トリメチルヘキシルオキ
シブトキシエトキシ基等の、アルコキシアルコキシ基で
置換した直鎖、分岐または環状の炭素数3〜15のアル
コキシ基;Methoxymethoxymethoxy, ethoxymethoxymethoxy, propoxymethoxymethoxy, butoxymethoxymethoxy, methoxyethoxymethoxy, ethoxyethoxymethoxy, propoxyethoxymethoxy, butoxyethoxymethoxy, methoxypropoxymethoxy, ethoxypropoxy Methoxy group,
Propoxypropoxymethoxy group, butoxypropoxymethoxy group, methoxybutoxymethoxy group, ethoxybutoxymethoxy group, propoxybutoxymethoxy group, butoxybutoxymethoxy group, methoxymethoxyethoxy group, ethoxymethoxyethoxy group, propoxymethoxyethoxy group, butoxymethoxyethoxy group, Methoxyethoxyethoxy, ethoxyethoxyethoxy, propoxyethoxyethoxy, butoxyethoxyethoxy, methoxypropoxyethoxy, ethoxypropoxyethoxy, propoxypropoxyethoxy, butoxypropoxyethoxy, methoxybutoxyethoxy, methoxybutoxyethoxy, methoxybutoxyethoxy Propoxybutoxyethoxy, butoxybutoxyethoxy, methoxymethoxypropoxy , Ethoxy methoxypropoxy group,
Propoxymethoxypropoxy, butoxymethoxypropoxy, methoxyethoxypropoxy, ethoxyethoxypropoxy, propoxyethoxypropoxy, butoxyethoxypropoxy, methoxypropoxypropoxy, ethoxypropoxypropoxy, propoxypropoxy, butoxypropoxy, butoxypropoxy Methoxybutoxypropoxy group, ethoxybutoxypropoxy group, propoxybutoxypropoxy group, butoxybutoxypropoxy group, methoxymethoxybutoxy group, ethoxymethoxybutoxy group, propoxymethoxybutoxy group, butoxymethoxybutoxy group,
Methoxyethoxybutoxy, ethoxyethoxybutoxy, propoxycyethoxybutoxy, butoxyethoxybutoxy, methoxypropoxybutoxy, ethoxypropoxybutoxy, propoxypropoxybutoxy, butoxypropoxybutoxy, methoxybutoxybutoxy, methoxybutoxybutoxy , Propoxybutoxybutoxy group, butoxybutoxybutoxy group, 4-ethylcyclohexyloxyethoxyethoxy group, (2-ethyl-1-hexyloxy) ethoxypropoxy group, 4- (3,5,5-trimethylhexyloxybutoxyethoxy group Linear, branched or cyclic C3-C15 alkoxy groups substituted with alkoxyalkoxy groups;
【0041】メトキシカルボニルメトキシ基、エトキシ
カルボニルメトキシ基、n−プロポキシカルボニルメト
キシ基、イソプロポキシカルボニルメトキシ基、4’−
エチルシクロヘキシルオキシカルボニルメトキシ基等の
アルコキシカルボニル基で置換した炭素数3〜10のア
ルコキシ基;ホルミルメトキシ基、アセチルメトキシ
基、エチルカルボニルメトキシ基、オクチルカルボニル
メトキシ基等の炭素数1〜10のアシル基で置換したア
ルコキシ基;アセチルオキシメチル基、アセチルオキシ
エチル基、アセチルオキシヘキシルオキシ基、ブタノイ
ルオキシシクロヘキシルオキシ基などのアシルオキシ基
で置換した炭素数3〜10のアルコキシ基;ジメチルア
ミノメトキシ基、2−ジメチルアミノエトキシ基、2−
(2−ジメチルアミノエトキシ)エトキシ基、4−ジメ
チルアミノブトキシ基、1−ジメチルアミノプロパン−
2−イルオキシ基、3−ジメチルアミノプロポキシ基、
2−ジメチルアミノ−2−メチルプロポキシ基、2−ジ
エチルアミノエトキシ基、2−(2−ジエチルアミノエ
トキシ)エトキシ基、3−ジエチルアミノプロポキシ
基、1−ジエチルアミノプロポキシ基、2−ジイソプロ
ピルアミノエトキシ基、2−(ジ−n−ブチルアミノ)
エトキシ基、2−ピペリジルエトキシ基、4−(ジ−n
−ヘキシルアミノ)プロピル基等の、ジアルキルアミノ
基で置換した炭素数3〜15のアルコキシ基;Methoxycarbonylmethoxy, ethoxycarbonylmethoxy, n-propoxycarbonylmethoxy, isopropoxycarbonylmethoxy, 4'-
An alkoxy group having 3 to 10 carbon atoms substituted by an alkoxycarbonyl group such as an ethylcyclohexyloxycarbonylmethoxy group; an acyl group having 1 to 10 carbon atoms such as a formylmethoxy group, an acetylmethoxy group, an ethylcarbonylmethoxy group, and an octylcarbonylmethoxy group An alkoxy group having 3 to 10 carbon atoms substituted with an acyloxy group such as an acetyloxymethyl group, an acetyloxyethyl group, an acetyloxyhexyloxy group, a butanoyloxycyclohexyloxy group; a dimethylaminomethoxy group; -Dimethylaminoethoxy group, 2-
(2-dimethylaminoethoxy) ethoxy group, 4-dimethylaminobutoxy group, 1-dimethylaminopropane-
2-yloxy group, 3-dimethylaminopropoxy group,
2-dimethylamino-2-methylpropoxy group, 2-diethylaminoethoxy group, 2- (2-diethylaminoethoxy) ethoxy group, 3-diethylaminopropoxy group, 1-diethylaminopropoxy group, 2-diisopropylaminoethoxy group, 2- ( Di-n-butylamino)
Ethoxy group, 2-piperidylethoxy group, 4- (di-n
An alkoxy group having 3 to 15 carbon atoms and substituted with a dialkylamino group, such as -hexylamino) propyl group;
【0042】ジメチルアミノメトキシメトキシ基、ジメ
チルアミノエトキシエトキシ基、ジメチルアミノエトキ
シプロポキシ基、ジエチルアミノエトキシプロポキシ
基、4−(2’−ジイソブチルアミノプロポキシ)ブト
キシオキシ基等の、ジアルキルアミノアルコキシ基で置
換した炭素数4〜15のアルコキシ基;2−メチルチオ
メトキシ基、2−メチルチオエトキシ基、2−エチルチ
オエトキシ基、2−n−プロピルチオエトキシ基、2−
イソプロピルチオエトキシ基、2−n−ブチルチオエト
キシ基、2−イソブチルチオエトキシ基、3,5,5−
トリメチルヘキシルオキシヘキシルオキシ基等の、アル
キルチオ基で置換した炭素数2〜15のアルコキシ基;
等が挙げられ、好ましくは、メトキシ基、エトキシ基、
n−プロポキシ基、iso−プロポキシ基、n−ブトキ
シ基、iso−ブトキシ基、sec−ブトキシ基、t−
ブトキシ基、n−ペントキシ基、iso−ペントキシ
基、ネオペントキシ基、2−メチルブトキシ基、2−エ
チルヘキシルオキシ基、3,5,5−トリメチルヘキシ
ルオキシ基、デカリル基などの炭素数1〜10のアルコ
キシ基が挙げられる。Carbon substituted with a dialkylaminoalkoxy group such as a dimethylaminomethoxymethoxy group, a dimethylaminoethoxyethoxy group, a dimethylaminoethoxypropoxy group, a diethylaminoethoxypropoxy group, and a 4- (2'-diisobutylaminopropoxy) butoxyoxy group. An alkoxy group of the formulas 4 to 15; 2-methylthiomethoxy group, 2-methylthioethoxy group, 2-ethylthioethoxy group, 2-n-propylthioethoxy group, 2-
Isopropylthioethoxy group, 2-n-butylthioethoxy group, 2-isobutylthioethoxy group, 3,5,5-
An alkoxy group having 2 to 15 carbon atoms and substituted with an alkylthio group, such as a trimethylhexyloxyhexyloxy group;
And the like, preferably a methoxy group, an ethoxy group,
n-propoxy group, iso-propoxy group, n-butoxy group, iso-butoxy group, sec-butoxy group, t-
Alkoxy having 1 to 10 carbon atoms such as butoxy group, n-pentoxy group, iso-pentoxy group, neopentoxy group, 2-methylbutoxy group, 2-ethylhexyloxy group, 3,5,5-trimethylhexyloxy group, and decalyl group Groups.
【0043】置換または無置換のアラルキルオキシ基の
例としては、前記に挙げたアルキル基と同様な置換基を
有するアラルキルオキシ基であり、好ましくは、ベンジ
ルオキシ基、ニトロベンジルオキシ基、シアノベンジル
オキシ基、ヒドロキシベンジルオキシ基、メチルベンジ
ルオキシ基、トリフルオロメチルベンジルオキシ基、ナ
フチルメトキシ基、ニトロナフチルメトキシ基、シアノ
ナフチルメトキシ基、ヒドロキシナフチルメトキシ基、
メチルナフチルメトキシ基、トリフルオロメチルナフチ
ルメトキシ基、フルオレン−9−イルエトキシ基などの
炭素数7〜15のアラルキルオキシ基等が挙げられる。Examples of the substituted or unsubstituted aralkyloxy groups are aralkyloxy groups having the same substituents as the above-mentioned alkyl groups, preferably benzyloxy, nitrobenzyloxy, cyanobenzyloxy. Group, hydroxybenzyloxy group, methylbenzyloxy group, trifluoromethylbenzyloxy group, naphthylmethoxy group, nitronaphthylmethoxy group, cyanonaphthylmethoxy group, hydroxynaphthylmethoxy group,
Examples thereof include an aralkyloxy group having 7 to 15 carbon atoms, such as a methylnaphthylmethoxy group, a trifluoromethylnaphthylmethoxy group, and a fluoren-9-ylethoxy group.
【0044】置換または無置換のアリールオキシ基の例
としては、前記に挙げたアルキル基と同様な置換基を有
するアリールオキシ基であり、好ましくは、フェノキシ
基、2−メチルフェノキシ基、4−メチルフェノキシ
基、4−t−ブチルフェノキシ基、2−メトキシフェノ
キシ基、4−iso−プロピルフェノキシ基、ナフトキ
シ基などの炭素数6〜10のが挙げられる。Examples of the substituted or unsubstituted aryloxy group include aryloxy groups having the same substituents as the above-mentioned alkyl groups, preferably phenoxy, 2-methylphenoxy, 4-methyl Examples thereof include those having 6 to 10 carbon atoms such as a phenoxy group, a 4-t-butylphenoxy group, a 2-methoxyphenoxy group, a 4-iso-propylphenoxy group, and a naphthoxy group.
【0045】置換または無置換のアルケニル基の例とし
ては、前記に挙げたアルキル基と同様な置換基を有する
アルケニル基であり、好ましくは、ビニル基、プロペニ
ル基、1−ブテニル基、iso−ブテニル基、1−ペン
テニル基、2−ペンテニル基、2−メチル−1−ブテニ
ル基、3−メチル−1−ブテニル基、2−メチル−2−
ブテニル基、2,2−ジシアノビニル基、2−シアノ−
2−メチルカルボキシルビニル基、2−シアノ−2−メ
チルスルホンビニル基、スチリル基、4−フェニル−2
−ブテニル基などの炭素数2〜10のアルケニル基が挙
げられる。Examples of the substituted or unsubstituted alkenyl groups are alkenyl groups having the same substituents as the above-mentioned alkyl groups, and are preferably vinyl, propenyl, 1-butenyl, iso-butenyl. Group, 1-pentenyl group, 2-pentenyl group, 2-methyl-1-butenyl group, 3-methyl-1-butenyl group, 2-methyl-2-
Butenyl group, 2,2-dicyanovinyl group, 2-cyano-
2-methylcarboxylvinyl group, 2-cyano-2-methylsulfonevinyl group, styryl group, 4-phenyl-2
An alkenyl group having 2 to 10 carbon atoms such as -butenyl group.
【0046】置換または無置換のアルケニルオキシ基の
例としては、前記に挙げたアルキル基と同様な置換基を
有するアルケニルオキシ基であり、好ましくは、ビニル
オキシ基、プロペニルオキシ基、1−ブテニルオキシ
基、iso−ブテニルオキシ基、1−ペンテニルオキシ
基、2−ペンテニルオキシ基、2−メチル−1−ブテニ
ルオキシ基、3−メチル−1−ブテニルオキシ基、2−
メチル−2−ブテニルオキシ基、2,2−ジシアノビニ
ルオキシ基、2−シアノ−2−メチルカルボキシルビニ
ルオキシ基、2−シアノ−2−メチルスルホンビニルオ
キシ基、スチリルオキシ基、4−フェニル−2−ブテニ
ルオキシ基などの炭素数2〜10のアルケニルオキシ基
が挙げられる。Examples of the substituted or unsubstituted alkenyloxy group include alkenyloxy groups having the same substituents as the above-mentioned alkyl groups, and are preferably a vinyloxy group, a propenyloxy group, a 1-butenyloxy group, iso-butenyloxy group, 1-pentenyloxy group, 2-pentenyloxy group, 2-methyl-1-butenyloxy group, 3-methyl-1-butenyloxy group, 2-
Methyl-2-butenyloxy group, 2,2-dicyanovinyloxy group, 2-cyano-2-methylcarboxylvinyloxy group, 2-cyano-2-methylsulfonvinyloxy group, styryloxy group, 4-phenyl-2- An alkenyloxy group having 2 to 10 carbon atoms such as a butenyloxy group is exemplified.
【0047】置換または無置換のアルキルチオ基の例と
しては、前記に挙げたアルキル基と同様な置換基を有す
るアルキルチオ基であり、好ましくは、メチルチオ基、
エチルチオ基、n−プロピルチオ基、iso−プロピル
チオ基、n−ブチルチオ基、iso−ブチルチオ基、s
ec−ブチルチオ基、t−ブチルチオ基、n−ペンチル
チオ基、iso−ペンチルチオ基、ネオペンチルチオ
基、2−メチルブチルチオ基、メチルカルボキシルエチ
ルチオ基、2−エチルヘキシル基、3,5,5−トリメ
チルヘキシルチオ基、デカリルチオ基などの炭素数1〜
10のアルキルチオ基が挙げられる。Examples of the substituted or unsubstituted alkylthio group include an alkylthio group having the same substituent as the above-mentioned alkyl group, preferably a methylthio group,
Ethylthio group, n-propylthio group, iso-propylthio group, n-butylthio group, iso-butylthio group, s
ec-butylthio group, t-butylthio group, n-pentylthio group, iso-pentylthio group, neopentylthio group, 2-methylbutylthio group, methylcarboxylethylthio group, 2-ethylhexyl group, 3,5,5-trimethyl 1 to 1 carbon atoms such as hexylthio and decalylthio
And 10 alkylthio groups.
【0048】置換または無置換のアラルキルチオ基の例
としては、前記に挙げたアルキル基と同様な置換基を有
するアラルキルチオ基であり、好ましくは、ベンジルチ
オ基、ニトロベンジルチオ基、シアノベンジルチオ基、
ヒドロキシベンジルチオ基、メチルベンジルチオ基、ト
リフルオロメチルベンジルチオ基、ナフチルメチルチオ
基、ニトロナフチルメチルチオ基、シアノナフチルメチ
ルチオ基、ヒドロキシナフチルメチルチオ基、メチルナ
フチルメチルチオ基、トリフルオロメチルナフチルメチ
ルチオ基、フルオレン−9−イルエチルチオ基などの炭
素数7〜15のアラルキルチオ基等が挙げられる。Examples of the substituted or unsubstituted aralkylthio groups are aralkylthio groups having the same substituents as the above-mentioned alkyl groups, preferably benzylthio, nitrobenzylthio, cyanobenzylthio and the like. ,
Hydroxybenzylthio, methylbenzylthio, trifluoromethylbenzylthio, naphthylmethylthio, nitronaphthylmethylthio, cyanonaphthylmethylthio, hydroxynaphthylmethylthio, methylnaphthylmethylthio, trifluoromethylnaphthylmethylthio, fluorene- And an aralkylthio group having 7 to 15 carbon atoms such as a 9-ylethylthio group.
【0049】置換または無置換のアリールチオ基の例と
しては、前記に挙げたアルキル基と同様な置換基を有す
るアリールチオ基であり、好ましくは、フェニルチオ
基、4−メチルフェニルチオ基、2−メトキシフェニル
チオ基、4−t−ブチルフェニルチオ基、ナフチルチオ
基等の炭素数6〜10のアリールチオ基などが挙げられ
る。Examples of the substituted or unsubstituted arylthio groups are the arylthio groups having the same substituents as the above-mentioned alkyl groups, and are preferably phenylthio, 4-methylphenylthio, 2-methoxyphenyl Examples thereof include an arylthio group having 6 to 10 carbon atoms such as a thio group, a 4-t-butylphenylthio group, and a naphthylthio group.
【0050】置換または無置換のアルキルアミノ基の例
としては、前記に挙げたアルキル基と同様な置換基を有
するアルキルアミノ基であり、好ましくは、メチルアミ
ノ基、エチルアミノ基、プロピルアミノ基、ブチルアミ
ノ基、ペンチルアミノ基、ヘキシルアミノ基、ヘプチル
アミノ基、オクチルアミノ基、2−エチルヘキシルアミ
ノ基、シクロヘキシルアミノ基、3,5,5−トリメチ
ルヘキシルアミノ基、ノニルアミノ基、デシルアミノ基
などの炭素数1〜10のモノアルキルアミノ基や、ジメ
チルアミノ基、ジエチルアミノ基、メチルエチルアミノ
基、ブチルアミノ基、ピペリジノ基、モルホリノ基、ジ
(アセチルオキシエチル)アミノ基、ジ(プロピオニル
オキシエチル)アミノ基などの炭素数2〜10のジアル
キルアミノ基が挙げられる。Examples of the substituted or unsubstituted alkylamino group include an alkylamino group having the same substituent as the above-mentioned alkyl group, preferably a methylamino group, an ethylamino group, a propylamino group, Carbon number of butylamino group, pentylamino group, hexylamino group, heptylamino group, octylamino group, 2-ethylhexylamino group, cyclohexylamino group, 3,5,5-trimethylhexylamino group, nonylamino group, decylamino group, etc. 1 to 10 monoalkylamino groups, dimethylamino groups, diethylamino groups, methylethylamino groups, butylamino groups, piperidino groups, morpholino groups, di (acetyloxyethyl) amino groups, di (propionyloxyethyl) amino groups, and the like Dialkylamino groups having 2 to 10 carbon atoms It is.
【0051】置換または無置換のアラルキルアミノ基の
例としては、前記に挙げたアルキル基と同様な置換基を
有するアラルキルアミノ基であり、好ましくは、ベンジ
ルアミノ基、フェネチルアミノ基、3−フェニルプロピ
ルアミノ基、4−エチルベンジルアミノ基、4−イソプ
ロピルベンジルアミノ基などの炭素数7〜10のモノア
ラルキルアミノ基や、ジベンジルアミノ基、ジフェネチ
ルアミノ基、ビス(4−エチルベンジル)アミノ基、ビ
ス(4−イソプロピルベンジル)アミノ基などの炭素数
14〜20のジアラルキルアミノ基が挙げられる。Examples of the substituted or unsubstituted aralkylamino groups are aralkylamino groups having the same substituents as the above-mentioned alkyl groups, preferably benzylamino, phenethylamino, 3-phenylpropyl A monoaralkylamino group having 7 to 10 carbon atoms such as an amino group, a 4-ethylbenzylamino group, a 4-isopropylbenzylamino group, a dibenzylamino group, a diphenethylamino group, a bis (4-ethylbenzyl) amino group; Examples thereof include a diaralkylamino group having 14 to 20 carbon atoms such as a bis (4-isopropylbenzyl) amino group.
【0052】置換または無置換のアリールアミノ基の例
としては、前記に挙げたアルキル基と同様な置換基を有
するアリールアミノ基であり、好ましくは、アニリノ
基、ナフチルアミノ基、トルイジノ基、キシリジノ基、
エチルフェニルアミノ基、イソプロピルフェニルアミノ
基、メトキシフェニルアミノ基、エトキシエチルアミノ
基、クロロアニリノ基、アセチルアニリノ基、メトキシ
カルボニルアニリノ基、エトキシカルボニルアニリノ
基、プロポキシカルボニルアニリノ基など、炭素数6〜
10のモノアリールアミノ基、ジフェニルアミノ基、ジ
トリルアミノ基、N−フェニル−N−トリルアミノ基な
どの炭素数12〜14のジアリールアミノ基が挙げられ
る。Examples of the substituted or unsubstituted arylamino group are arylamino groups having the same substituents as the above-mentioned alkyl groups, preferably an anilino group, a naphthylamino group, a toluidino group, a xylidino group. ,
6 carbon atoms such as ethylphenylamino, isopropylphenylamino, methoxyphenylamino, ethoxyethylamino, chloroanilino, acetylanilino, methoxycarbonylanilino, ethoxycarbonylanilino, and propoxycarbonylanilino; ~
Examples thereof include diarylamino groups having 12 to 14 carbon atoms, such as a monoarylamino group having 10 carbon atoms, a diphenylamino group, a ditolylamino group, and an N-phenyl-N-tolylamino group.
【0053】置換または無置換のアルケニルアミノ基の
例としては、前記に挙げたアルキル基と同様な置換基を
有するアルケニルアミノ基であり、好ましくは、アリル
アミノ基、ブテニルアミノ基、ペンテニルアミノ基、ヘ
キセニルアミノ基、シクロヘキセニルアミノ基、オクタ
ジエニルアミノ基、アダマンテニルアミノ基などの炭素
数3〜10のモノアルケニルアミノ基、ジアリルアミノ
基、ジブテニルアミノ基、ジペンテニルアミノ基、ジヘ
キセニルアミノ基などの炭素数6〜12のジアルケニル
アミノ基が挙げられる。Examples of the substituted or unsubstituted alkenylamino group are alkenylamino groups having the same substituents as the above-mentioned alkyl groups, preferably allylamino, butenylamino, pentenylamino, hexenylamino. Group, a cyclohexenylamino group, an octadienylamino group, a C3-10 monoalkenylamino group such as an adamantenylamino group, a diallylamino group, a dibutenylamino group, a dipentenylamino group, a carbon number such as a dihexenylamino group 6 to 12 dialkenylamino groups.
【0054】置換または無置換のアシル基の例として
は、前記に挙げたアルキル基と同様な置換基を有するア
シル基であり、好ましくは、ホルミル基、メチルカルボ
ニル基、エチルカルボニル基、n−プロピルカルボニル
基、iso−プロピルカルボニル基、n−ブチルカルボ
ニル基、iso−ブチルカルボニル基、sec−ブチル
カルボニル基、t−ブチルカルボニル基、n−ペンチル
カルボニル基、iso−ペンチルカルボニル基、ネオペ
ンチルカルボニル基、2−メチルブチルカルボニル基、
フェナシル基、メチルフェナシル基、エチルフェナシル
基、トリルカルボニル基、プロピルフェナシル基、4−
t−ブチルフェナシル基、ニトロベンジルカルボニル
基、3−ブトキシ−2−ナフトイル基、シンナモイル基
などの炭素数7〜15のアシル基が挙げられる。Examples of the substituted or unsubstituted acyl group include acyl groups having the same substituents as the above-mentioned alkyl groups, preferably formyl group, methylcarbonyl group, ethylcarbonyl group, n-propyl group. Carbonyl group, iso-propylcarbonyl group, n-butylcarbonyl group, iso-butylcarbonyl group, sec-butylcarbonyl group, t-butylcarbonyl group, n-pentylcarbonyl group, iso-pentylcarbonyl group, neopentylcarbonyl group, 2-methylbutylcarbonyl group,
Phenacyl group, methylphenacyl group, ethylphenacyl group, tolylcarbonyl group, propylphenacyl group, 4-
An acyl group having 7 to 15 carbon atoms such as a t-butylphenacyl group, a nitrobenzylcarbonyl group, a 3-butoxy-2-naphthoyl group, and a cinnamoyl group is exemplified.
【0055】置換または無置換のアルコキシカルボニル
基の例としては、前記に挙げたアルキル基と同様な置換
基を有するアルコキシカルボニル基であり、好ましく
は、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、n
−プロポキシカルボニル基、iso−プロポキシカルボ
ニル基、n−ブトキシカルボニル基、iso−ブトキシ
カルボニル基、sec−ブトキシカルボニル基、t−ブ
トキシカルボニル基、n−ペントキシカルボニル基、i
so−ペントキシカルボニル基、ネオペントキシカルボ
ニル基、2−ペントキシカルボニル基、2−エチルヘキ
シルオキシカルボニル基、3,5,5−トリメチルヘキ
シルオキシカルボニル基、シクロヘキシルオキシカルボ
ニル基、デカリルオキシカルボニル基などの炭素数2〜
11のアルコキシカルボニル基が挙げられる。Examples of the substituted or unsubstituted alkoxycarbonyl group include alkoxycarbonyl groups having the same substituents as the above-mentioned alkyl groups, preferably methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl, n
-Propoxycarbonyl group, iso-propoxycarbonyl group, n-butoxycarbonyl group, iso-butoxycarbonyl group, sec-butoxycarbonyl group, t-butoxycarbonyl group, n-pentoxycarbonyl group, i
so-pentoxycarbonyl group, neopentoxycarbonyl group, 2-pentoxycarbonyl group, 2-ethylhexyloxycarbonyl group, 3,5,5-trimethylhexyloxycarbonyl group, cyclohexyloxycarbonyl group, decalyloxycarbonyl group, etc. 2 to 2 carbon atoms
And 11 alkoxycarbonyl groups.
【0056】置換または無置換のアラルキルオキシカル
ボニル基の例としては、前記に挙げたアルキル基と同様
な置換基を有するアラルキルオキシカルボニル基であ
り、好ましくは、ベンジルオキシカルボニル基、ニトロ
ベンジルオキシカルボニル基、シアノベンジルオキシカ
ルボニル基、ヒドロキシベンジルオキシカルボニル基、
メチルベンジルオキシカルボニル基、トリフルオロメチ
ルベンジルオキシカルボニル基、ナフチルメトキシカル
ボニル基、ニトロナフチルメトキシカルボニル基、シア
ノナフチルメトキシカルボニル基、ヒドロキシナフチル
メトキシカルボニル基、メチルナフチルメトキシカルボ
ニル基、トリフルオロメチルナフチルメトキシカルボニ
ル基、フルオレン−9−イルエトキシカルボニル基など
の炭素数8〜16のアラルキルオキシカルボニル基等が
挙げられる。Examples of the substituted or unsubstituted aralkyloxycarbonyl group include aralkyloxycarbonyl groups having the same substituents as the above-mentioned alkyl groups, preferably benzyloxycarbonyl group and nitrobenzyloxycarbonyl group. A cyanobenzyloxycarbonyl group, a hydroxybenzyloxycarbonyl group,
Methylbenzyloxycarbonyl group, trifluoromethylbenzyloxycarbonyl group, naphthylmethoxycarbonyl group, nitronaphthylmethoxycarbonyl group, cyanonaphthylmethoxycarbonyl group, hydroxynaphthylmethoxycarbonyl group, methylnaphthylmethoxycarbonyl group, trifluoromethylnaphthylmethoxycarbonyl group And an aralkyloxycarbonyl group having 8 to 16 carbon atoms, such as fluorene-9-ylethoxycarbonyl group.
【0057】置換または無置換のアリールオキシカルボ
ニル基の例としては、前記に挙げたアリール基と同様な
置換基を有するアリールオキシカルボニル基であり、好
ましくは、フェノキシカルボニル基、2−メチルフェノ
キシカルボニル基、4−メチルフェノキシカルボニル
基、4−t−ブチルフェノキシカルボニル基、2−メト
キシフェノキシカルボニル基、4−iso−プロピルフ
ェノキシカルボニル基、ナフトキシカルボニル基などの
炭素数7〜11のが挙げられる。Examples of the substituted or unsubstituted aryloxycarbonyl group include an aryloxycarbonyl group having the same substituent as the above-mentioned aryl group, preferably a phenoxycarbonyl group and a 2-methylphenoxycarbonyl group. And 4-methylphenoxycarbonyl, 4-t-butylphenoxycarbonyl, 2-methoxyphenoxycarbonyl, 4-iso-propylphenoxycarbonyl, and naphthoxycarbonyl.
【0058】置換または無置換のアルケニルオキシカル
ボニル基の例としては、前記に挙げたアルキル基と同様
な置換基を有するアルケニルオキシカルボニル基であ
り、好ましくは、ビニルオキシカルボニル基、プロペニ
ルオキシカルボニル基、1−ブテニルオキシカルボニル
基、iso−ブテニルオキシカルボニル基、1−ペンテ
ニルオキシカルボニル基、2−ペンテニルオキシカルボ
ニル基、2−メチル−1−ブテニルオキシカルボニル
基、3−メチル−1−ブテニルオキシカルボニル基、2
−メチル−2−ブテニルオキシカルボニル基、2,2−
ジシアノビニルオキシカルボニル基、2−シアノ−2−
メチルカルボキシルビニルオキシカルボニル基、2−シ
アノ−2−メチルスルホンビニルオキシカルボニル基、
スチリルオキシカルボニル基、4−フェニル−2ブテニ
ルオキシカルボニル基などの炭素数3〜11のアルケニ
ルオキシカルボニル基が挙げられる。Examples of the substituted or unsubstituted alkenyloxycarbonyl group include an alkenyloxycarbonyl group having the same substituent as the above-mentioned alkyl group, preferably a vinyloxycarbonyl group, a propenyloxycarbonyl group, 1-butenyloxycarbonyl group, iso-butenyloxycarbonyl group, 1-pentenyloxycarbonyl group, 2-pentenyloxycarbonyl group, 2-methyl-1-butenyloxycarbonyl group, 3-methyl-1-butenyl Oxycarbonyl group, 2
-Methyl-2-butenyloxycarbonyl group, 2,2-
Dicyanovinyloxycarbonyl group, 2-cyano-2-
Methyl carboxylvinyloxycarbonyl group, 2-cyano-2-methylsulfonevinyloxycarbonyl group,
Examples thereof include an alkenyloxycarbonyl group having 3 to 11 carbon atoms such as a styryloxycarbonyl group and a 4-phenyl-2-butenyloxycarbonyl group.
【0059】置換または無置換のアルキルアミノカルボ
ニル基の例としては、前記に挙げたアルキル基と同様な
置換基を有するアルキルアミノカルボニル基であり、好
ましくは、メチルアミノカルボニル基、エチルアミノカ
ルボニル基、プロピルアミノカルボニル基、ブチルアミ
ノカルボニル基、ペンチルアミノカルボニル基、ヘキシ
ルアミノカルボニル基、ヘプチルアミノカルボニル基、
オクチルアミノカルボニル基、ノニルアミノカルボニル
基、3,5,5−トリメチルヘキシルアミノカルボニル
基、2−エチルヘキシルアミノカルボニル基等の炭素数
2〜11のモノアルキルアミノカルボニル基;ジメチル
アミノカルボニル基、ジエチルアミノカルボニル基、ジ
プロピルアミノカルボニル基、ジブチルアミノカルボニ
ル基、ジペンチルアミノカルボニル基、ジヘキシルアミ
ノカルボニル基、ジヘプチルアミノカルボニル基、ジオ
クチルアミノカルボニル基、ピペリジノカルボニル基、
モルホリノカルボニル基、4−メチルピペラジノカルボ
ニル基、4−エチルピペラジノカルボニル基等の炭素数
3〜17のジアルキルアミノカルボニル基が挙げられ
る。Examples of the substituted or unsubstituted alkylaminocarbonyl group include an alkylaminocarbonyl group having the same substituent as the above-mentioned alkyl group, preferably a methylaminocarbonyl group, an ethylaminocarbonyl group, Propylaminocarbonyl group, butylaminocarbonyl group, pentylaminocarbonyl group, hexylaminocarbonyl group, heptylaminocarbonyl group,
C2-11 monoalkylaminocarbonyl groups such as octylaminocarbonyl group, nonylaminocarbonyl group, 3,5,5-trimethylhexylaminocarbonyl group and 2-ethylhexylaminocarbonyl group; dimethylaminocarbonyl group, diethylaminocarbonyl group , Dipropylaminocarbonyl group, dibutylaminocarbonyl group, dipentylaminocarbonyl group, dihexylaminocarbonyl group, diheptylaminocarbonyl group, dioctylaminocarbonyl group, piperidinocarbonyl group,
Examples thereof include a dialkylaminocarbonyl group having 3 to 17 carbon atoms such as a morpholinocarbonyl group, a 4-methylpiperazinocarbonyl group, and a 4-ethylpiperazinocarbonyl group.
【0060】置換または無置換の複素環基の例として
は、前記に挙げたアルキル基と同様な置換基を有する複
素環基であり、好ましくは、フラニル基、ピロリル基、
3−ピロリノ基、ピロリジノ基、1,3−オキソラニル
基、ピラゾリル基、2−ピラゾリニル基、ピラゾリジニ
ル基、イミダゾリル基、オキサゾリル基、チアゾリル
基、1,2,3−オキサジアゾリル基、1,2,3−ト
リアゾリル基、1,2,4−トリアゾリル基、1,3,
4−チアジアゾリル基、4H−ピラニル基、ピリジニル
基、ピペリジニル基、ジオキサニル基、モルホリニル
基、ピリダジニル基、ピリミジニル基、ピラジニル基、
ピペラジニル基、トリアジニル基、ベンゾフラニル基、
インドーリル基、チオナフセニル基、ベンズイミダゾリ
ル基、ベンゾチアゾリル基、プリニル基、キノリニル
基、イソキノリニル基、クマリニル基、シンノリニル
基、キノキサリニル基、ジベンゾフラニル基、カルバゾ
リル基、フェナントロニリル基、フェノチアジニル基、
フラボニル基などの無置換複素環基;Examples of the substituted or unsubstituted heterocyclic group include a heterocyclic group having the same substituent as the above-mentioned alkyl group, preferably a furanyl group, a pyrrolyl group,
3-pyrrolino group, pyrrolidino group, 1,3-oxolanyl group, pyrazolyl group, 2-pyrazolinyl group, pyrazolidinyl group, imidazolyl group, oxazolyl group, thiazolyl group, 1,2,3-oxadiazolyl group, 1,2,3- Triazolyl group, 1,2,4-triazolyl group, 1,3
4-thiadiazolyl group, 4H-pyranyl group, pyridinyl group, piperidinyl group, dioxanyl group, morpholinyl group, pyridazinyl group, pyrimidinyl group, pyrazinyl group,
Piperazinyl group, triazinyl group, benzofuranyl group,
Indolyl group, thionaphthenyl group, benzimidazolyl group, benzothiazolyl group, purinyl group, quinolinyl group, isoquinolinyl group, coumarinyl group, cinnolinyl group, quinoxalinyl group, dibenzofuranyl group, carbazolyl group, phenanthronylyl group, phenothiazinyl group,
An unsubstituted heterocyclic group such as a flavonyl group;
【0061】ハロゲン原子、シアノ基;メチル基、エチ
ル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル
基、ヘプチル基、オクチル基、デシル基、メトキシメチ
ル基、エトキシエチル基、エトキシエチル基、トリフル
オロメチル基等のアルキル基;ベンジル基、フェネチル
基などのアラルキル基;フェニル基、トリル基、ナフチ
ル基、キシリル基、メシル基、クロロフェニル基、メト
キシフェニル基等のアリール基;メトキシ基、エトキシ
基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペントキシ基、ヘキシ
ルオキシ基、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ基、ノ
ニルオキシ基、デシルオキシ基、2−エチルヘキシル
基、3,5,5−トリメチルヘキシルオキシ基等のアル
コキシ基;ベンジルオキシ基、フェネチルオキシ基など
のアラルキル基;フェノキシ基、トリルオキシ基、ナフ
トキシ基、キシリルオキシ基、メシルオキシ基、クロロ
フェノキシ基、メトキシフェノキシ基等のアリールオキ
シ基;ビニル基、アリル基、ブテニル基、ブタジエニル
基、ペンテニル基、オクテニル基等のアルケニル基;ビ
ニルオキシ基、アリルオキシ基、ブテニルオキシ基、ブ
タジエニルオキシ基、ペンテニルオキシ基、オクテニル
オキシ基等のアルケニルオキシ基;メチルチオ基、エチ
ルチオ基、プロピルチオ基、ブチルチオ基、ペンチルチ
オ基、ヘキシルチオ基、ヘプチルチオ基、オクチルチオ
基、デシルチオ基、メトキシメチルチオ基、エトキシエ
チルチオ基、エトキシエチルチオ基、トリフルオロメチ
ルチオ基等のアルキルチオ基;ベンジルチオ基、フェネ
チルチオ基などのアラルキルチオ基;フェニルチオ基、
トリルチオ基、ナフチルチオ基、キシリルチオ基、メシ
ルチオ基、クロロフェニルチオ基、メトキシフェニルチ
オ基等のアリールチオ基;ジメチルアミノ基、ジエチル
アミノ基、ジプロピルアミノ基、ジブチルアミノ基等の
ジアルキルアミノ基;アセチル基、プロピオニル基、ブ
タノイル基等のアシル基;メトキシカルボニル基、エト
キシカルボニル基等のアルコキシカルボニル基;ベンジ
ルオキシカルボニル基、フェネチルオキシカルボニル基
等のアラルキルオキシカルボニル基;フェノキシカルボ
ニル基、トリルオキシカルボニル基、ナフトキシカルボ
ニル基、キシリルオキシカルボニル基、メシルオキシカ
ルボニル基、クロロフェノキシカルボニル基、メトキシ
フェノキシカルボニル基等のアリールオキシカルボニル
基;ビニルオキシカルボニル基、アリルオキシカルボニ
ル基、ブテニルオキシカルボニル基、ブタジエニルオキ
シカルボニル基、ペンテニルオキシカルボニル基、オク
テニルオキシカルボニル基等のアルケニルオキシカルボ
ニル基;メチルアミノカルボニル基、エチルアミノカル
ボニル基、プロピルアミノカルボニル基、ブチルアミノ
カルボニル基、ペンチルアミノカルボニル基、ヘキシル
アミノカルボニル基、ヘプチルアミノカルボニル基、オ
クチルアミノカルボニル基、ノニルアミノカルボニル
基、3,5,5−トリメチルヘキシルアミノカルボニル
基、2−エチルヘキシルアミノカルボニル基等の炭素数
1〜10のモノアルキルアミノカルボニル基や、ジメチ
ルアミノカルボニル基、ジエチルアミノカルボニル基、
ジプロピルアミノカルボニル基、ジブチルアミノカルボ
ニル基、ジペンチルアミノカルボニル基、ジヘキシルア
ミノカルボニル基、ジヘプチルアミノカルボニル基、ジ
オクチルアミノカルボニル基、ピペリジノカルボニル
基、モルホリノカルボニル基、4−メチルピペラジノカ
ルボニル基、4−エチルピペラジノカルボニル基等の炭
素数1〜20のジアルキルアミノカルボニル基等のアル
キルアミノカルボニル基;フラニル基、ピロリル基、3
−ピロリノ基、ピロリジノ基、1,3−オキソラニル
基、ピラゾリル基、2−ピラゾリニル基、ピラゾリジニ
ル基、イミダゾリル基、オキサゾリル基、チアゾリル
基、1,2,3−オキサジアゾリル基、1,2,3−ト
リアゾリル基、1,2,4−トリアゾリル基、1,3,
4−チアジアゾリル基、4H−ピラニル基、ピリジニル
基、ピペリジニル基、ジオキサニル基、モルホリニル
基、ピリダジニル基、ピリミジニル基、ピラジニル基、
ピペラジニル基、トリアジニル基、ベンゾフラニル基、
インドーリル基、チオナフセニル基、ベンズイミダゾリ
ル基、ベンゾチアゾリル基、プリニル基、キノリニル
基、イソキノリニル基、クマリニル基、シンノリニル
基、キノキサリニル基、ジベンゾフラニル基、カルバゾ
リル基、フェナントロニリル基、フェノチアジニル基、
フラボニル基等の複素環基などの置換基により置換した
複素環基が挙げられる。Halogen, cyano; methyl, ethyl, propyl, butyl, pentyl, hexyl, heptyl, octyl, decyl, methoxymethyl, ethoxyethyl, ethoxyethyl, trifluoro Alkyl groups such as methyl group; aralkyl groups such as benzyl group and phenethyl group; aryl groups such as phenyl group, tolyl group, naphthyl group, xylyl group, mesyl group, chlorophenyl group and methoxyphenyl group; methoxy group, ethoxy group and propoxy group Group, butoxy group, pentoxy group, hexyloxy group, heptyloxy group, octyloxy group, nonyloxy group, decyloxy group, 2-ethylhexyl group, alkoxy group such as 3,5,5-trimethylhexyloxy group; benzyloxy group, Aralkyl groups such as phenethyloxy groups; Aryloxy groups such as xy group, tolyloxy group, naphthoxy group, xylyloxy group, mesyloxy group, chlorophenoxy group and methoxyphenoxy group; alkenyl groups such as vinyl group, allyl group, butenyl group, butadienyl group, pentenyl group and octenyl group; Alkenyloxy groups such as vinyloxy group, allyloxy group, butenyloxy group, butadienyloxy group, pentenyloxy group, octenyloxy group; methylthio group, ethylthio group, propylthio group, butylthio group, pentylthio group, hexylthio group, heptylthio group, Alkylthio groups such as octylthio, decylthio, methoxymethylthio, ethoxyethylthio, ethoxyethylthio and trifluoromethylthio; aralkylthio such as benzylthio and phenethylthio; Niruchio group,
Arylthio groups such as tolylthio group, naphthylthio group, xylylthio group, mesylthio group, chlorophenylthio group and methoxyphenylthio group; dialkylamino groups such as dimethylamino group, diethylamino group, dipropylamino group and dibutylamino group; acetyl group and propionyl Acyl groups such as methoxycarbonyl and ethoxycarbonyl; aralkyloxycarbonyl such as benzyloxycarbonyl and phenethyloxycarbonyl; phenoxycarbonyl, tolyloxycarbonyl, naphthoxycarbonyl An aryloxycarbonyl group such as a group, a xylyloxycarbonyl group, a mesyloxycarbonyl group, a chlorophenoxycarbonyl group, a methoxyphenoxycarbonyl group; vinyloxy Alkenyloxycarbonyl groups such as rubonyl group, allyloxycarbonyl group, butenyloxycarbonyl group, butadienyloxycarbonyl group, pentenyloxycarbonyl group, octenyloxycarbonyl group; methylaminocarbonyl group, ethylaminocarbonyl group, propylamino Carbonyl group, butylaminocarbonyl group, pentylaminocarbonyl group, hexylaminocarbonyl group, heptylaminocarbonyl group, octylaminocarbonyl group, nonylaminocarbonyl group, 3,5,5-trimethylhexylaminocarbonyl group, 2-ethylhexylaminocarbonyl A monoalkylaminocarbonyl group having 1 to 10 carbon atoms such as a group, a dimethylaminocarbonyl group, a diethylaminocarbonyl group,
Dipropylaminocarbonyl group, dibutylaminocarbonyl group, dipentylaminocarbonyl group, dihexylaminocarbonyl group, diheptylaminocarbonyl group, dioctylaminocarbonyl group, piperidinocarbonyl group, morpholinocarbonyl group, 4-methylpiperazinocarbonyl group Alkylaminocarbonyl groups such as dialkylaminocarbonyl groups having 1 to 20 carbon atoms, such as 4-, 4-ethylpiperazinocarbonyl group; furanyl group, pyrrolyl group, 3
-Pyrrolino, pyrrolidino, 1,3-oxolanyl, pyrazolyl, 2-pyrazolinyl, pyrazolidinyl, imidazolyl, oxazolyl, thiazolyl, 1,2,3-oxadiazolyl, 1,2,3-triazolyl Group, 1,2,4-triazolyl group, 1,3
4-thiadiazolyl group, 4H-pyranyl group, pyridinyl group, piperidinyl group, dioxanyl group, morpholinyl group, pyridazinyl group, pyrimidinyl group, pyrazinyl group,
Piperazinyl group, triazinyl group, benzofuranyl group,
Indolyl group, thionaphthenyl group, benzimidazolyl group, benzothiazolyl group, purinyl group, quinolinyl group, isoquinolinyl group, coumarinyl group, cinnolinyl group, quinoxalinyl group, dibenzofuranyl group, carbazolyl group, phenanthronylyl group, phenothiazinyl group,
A heterocyclic group substituted by a substituent such as a heterocyclic group such as a flavonyl group is exemplified.
【0062】本発明の一般式(1)で示されるナフタレ
ン化合物は、1,4,5,8−ナフタレンテトラカルボ
ン酸および/またはその無水物と、式(3)および/ま
たは式(4) A−NH2 (3), B−NH2 (4) 〔式中のAおよびBは、式(1)中のAおよびBと同一
の意味を表す。〕で示されるアミンとを溶媒の存在/あ
るいは非存在下で加熱反応することで容易に得ることが
できる。The naphthalene compound represented by the general formula (1) of the present invention comprises 1,4,5,8-naphthalenetetracarboxylic acid and / or an anhydride thereof, and a compound represented by the formula (3) and / or the formula (4) —NH 2 (3), B—NH 2 (4) [A and B in the formula represent the same meaning as A and B in the formula (1). Can be easily obtained by a heat reaction with the amine represented by the formula (1) in the presence / absence of a solvent.
【0063】また、1,4,5,8−ナフタレンテトラ
カルボン酸および/またはその無水物と、式(5) Q−NH2 (5) 〔式中のQは、式(1)中のAまたはBのいずれかの意
味を表す。〕で示されるアミンとを溶媒の存在/あるい
は非存在下で加熱反応して、式(6)[0063] Further, a 1,4,5,8-naphthalene tetracarboxylic acid and / or anhydride thereof, Q of formula (5) Q-NH 2 ( 5) wherein is, A in the formula (1) Or the meaning of either of B. With an amine represented by the formula (6):
【0064】[0064]
【化5】 Embedded image
【0065】〔式中のQは、式(5)中のQと同一の意
を表す。〕で示されるイミド化合物を生成した後に、式
(7) Q’−NH2 (7) 〔式中のQ’は、式(1)中のAまたはBのいずれかの
意を表す。〕で示されるアミンとを溶媒の存在/あるい
は非存在下で加熱反応して、式(8)[Q in the formula represents the same meaning as Q in the formula (5). After producing the imide compound represented by the formula (1), Q′-NH 2 (7) wherein Q ′ represents either A or B in the formula (1). With an amine represented by the formula (8)
【0066】[0066]
【化6】 Embedded image
【0067】〔式中のQおよびQ’は、式(1)中のA
またはBのいずれかの意味を表す。〕の化合物、すなわ
ち式(1)の化合物を容易に得ることができる。[Q and Q ′ in the formula represent A in the formula (1)
Or B represents any meaning. ], That is, the compound of the formula (1) can be easily obtained.
【0068】一般式(1)で示されるナフタレン化合物
の具体例については、表1に記載する化合物(1−1)
〜(1−55)のものが挙げられる。Specific examples of the naphthalene compound represented by the general formula (1) include compounds (1-1) shown in Table 1.
To (1-55).
【0069】[0069]
【表1】 [Table 1]
【0070】[0070]
【表2】 [Table 2]
【0071】[0071]
【表3】 [Table 3]
【0072】[0072]
【表4】 [Table 4]
【0073】[0073]
【表5】 [Table 5]
【0074】[0074]
【表6】 [Table 6]
【0075】また、記録特性などの改善のために、波長
350nm〜550nmに吸収極大を持ち、400nm
〜500nmでの屈折率が大きい前記以外の化合物と混
合しても良い。具体的には、シアニン化合物、スクアリ
リウム系化合物、ナフトキノン系化合物、アントラキノ
ン系化合物、テトラピラポルフィラジン系化合物、イン
ドフェノール系化合物、ピリリウム系化合物、チオピリ
リウム系化合物、アズレニウム系化合物、トリフェニル
メタン系化合物、キサンテン系化合物、インダスレン系
化合物、インジゴ系化合物、チオインジゴ系化合物、メ
ロシアニン系化合物、チアジン系化合物、アクリジン系
化合物、オキサジン系化合物、ジピロメテン系化合物な
どがあり、複数の化合物の混合であっても良い。これら
の化合物の混合割合は、0.1〜30%程度である。In order to improve the recording characteristics and the like, the absorption maximum at a wavelength of 350 nm to 550 nm is obtained.
You may mix with compounds other than the above which have a large refractive index in 500 nm. Specifically, cyanine compounds, squarylium-based compounds, naphthoquinone-based compounds, anthraquinone-based compounds, tetrapyraporphyrazine-based compounds, indophenol-based compounds, pyrylium-based compounds, thiopyrylium-based compounds, azurenium-based compounds, triphenylmethane-based compounds, There are xanthene compounds, indasulen compounds, indigo compounds, thioindigo compounds, merocyanine compounds, thiazine compounds, acridine compounds, oxazine compounds, dipyrromethene compounds, and the like, and a mixture of a plurality of compounds may be used. . The mixing ratio of these compounds is about 0.1 to 30%.
【0076】記録層を成膜する際に、必要に応じて前記
の化合物に、クエンチャー、化合物熱分解促進剤、紫外
線吸収剤、接着剤などを混合するか、あるいは、そのよ
うな効果を有する化合物を前記化合物の置換基として導
入することも可能である。When forming the recording layer, a quencher, a compound thermal decomposition accelerator, an ultraviolet absorber, an adhesive, or the like may be mixed with the above-mentioned compound, if necessary, or may have such an effect. It is also possible to introduce compounds as substituents of said compounds.
【0077】クエンチャーの具体例としては、アセチル
アセトナート系、ビスジチオ−α−ジケトン系やビスフ
ェニルジチオール系などのビスジチオール系、チオカテ
コナール系、サリチルアルデヒドオキシム系、チオビス
フェノレート系などの金属錯体が好ましい。また、アミ
ン系も好適である。Specific examples of the quencher include acetylacetonate-based, bisdithio-α-diketone-based and bisphenyldithiol-based bisdithiol-based, thiocateconal-based, salicylaldehyde oxime-based, and thiobisphenolate-based. Metal complexes are preferred. Also, amines are suitable.
【0078】化合物熱分解促進剤としては、熱減量分析
(TG分析)などにより、化合物の熱分解の促進が確認
できるのもであれば特に限定されず、例えば、金属系ア
ンチノッキング剤、メタロセン化合物、アセチルアセト
ナト系金属錯体などの金属化合物が挙げられる。金属系
アンチノッキング剤の例としては、四エチル鉛、その他
の鉛系化合物、シマントレン[Mn(C5H5)(CO)
3]などのMn系化合物、また、メタロセン化合物の例
としては、鉄ビスシクロペンタジエニル錯体(フェロセ
ン)をはじめ、Ti、V、Mn、Cr、Co、Ni、M
o、Ru、Rh、Zr、Lu、Ta、W、Os、Ir、
Sc、Yなどのビスシクロペンタジエニル錯体がある。
なかでもフェロセン、ルテノセン、オスモセン、ニッケ
ロセン、チタノセンおよびそれらの誘導体は良好な熱分
解促進効果がある。The compound thermal decomposition accelerator is not particularly limited as long as it can confirm the promotion of thermal decomposition of the compound by thermal weight loss analysis (TG analysis). Examples thereof include a metal-based anti-knocking agent and a metallocene compound. And metal compounds such as acetylacetonate-based metal complexes. Examples of the metal anti-knocking agent include tetraethyl lead, other lead compounds, and Simantrene [Mn (C 5 H 5 ) (CO)
Examples of Mn-based compounds such as [ 3 ] and metallocene compounds include iron biscyclopentadienyl complex (ferrocene), Ti, V, Mn, Cr, Co, Ni, M
o, Ru, Rh, Zr, Lu, Ta, W, Os, Ir,
There are biscyclopentadienyl complexes such as Sc and Y.
Among them, ferrocene, ruthenocene, osmocene, nickelocene, titanocene and derivatives thereof have good thermal decomposition promoting effects.
【0079】その他、鉄系金属化合物として、メタロセ
ンの他に、ギ酸鉄、シュウ酸鉄、ラウリル酸鉄、ナフテ
ン酸鉄、ステアリン酸鉄、酢酸鉄などの有機酸鉄化合
物、アセチルアセトナート鉄錯体、フェナントロリン鉄
錯体、ビスピリジン鉄錯体、エチレンジアミン鉄錯体、
エチレンジアミン四酢酸鉄錯体、ジエチレントリアミン
鉄錯体、ジエチレングリコールジメチルエーテル鉄錯
体、ジホスフィノ鉄錯体、ジメチルグリオキシマート鉄
錯体などのキレート鉄錯体、カルボニル鉄錯体、シアノ
鉄錯体、アンミン鉄錯体などの鉄錯体、塩化第一鉄、塩
化第二鉄、臭化第一鉄、臭化第二鉄などのハロゲン化
鉄、あるいは、硝酸鉄、硫酸鉄などの無機鉄塩類、さら
には、酸化鉄などが挙げられる。ここで用いる熱分解促
進剤は有機溶剤に可溶で、かつ、耐湿熱性及び耐光性の
良好なものが望ましい。Other iron-based metal compounds include metallocenes, organic acid iron compounds such as iron formate, iron oxalate, iron laurate, iron naphthenate, iron stearate and iron acetate; iron acetylacetonate complex; Phenanthroline iron complex, bispyridine iron complex, ethylenediamine iron complex,
Iron complexes such as iron complexes of ethylenediaminetetraacetate, iron complexes of diethylenetriamine, iron complexes of diethyleneglycol dimethylether, iron complexes of diphosphino and iron dimethylglyoximate, iron complexes such as carbonyl iron complexes, cyanoiron complexes and ammineiron complexes, Examples thereof include iron halides such as iron, ferric chloride, ferrous bromide, and ferric bromide; inorganic iron salts such as iron nitrate and iron sulfate; and iron oxide. The thermal decomposition accelerator used here is desirably one that is soluble in an organic solvent and has good wet heat resistance and light resistance.
【0080】上述した各種のクエンチャー及び化合物熱
分解促進剤は、必要に応じて、1種類で用いても、他種
類を混合して用いても良い。The various quencher and the compound thermal decomposition accelerator described above may be used singly or as a mixture of other types as required.
【0081】さらに、必要に応じて、バインダー、レベ
リング剤、消泡剤などの添加物質を加えても良い。好ま
しいバインダーとしては、ポリビニルアルコール、ポリ
ビニルピロリドン、ニトロセルロース、酢酸セルロー
ス、ケトン樹脂、アクリル樹脂、ポリスチレン樹脂、ウ
レタン樹脂、ポリビニルブチラール、ポリカーボネー
ト、ポリオレフィンなどが挙げられる。Further, if necessary, additional substances such as a binder, a leveling agent and an antifoaming agent may be added. Preferred binders include polyvinyl alcohol, polyvinyl pyrrolidone, nitrocellulose, cellulose acetate, ketone resin, acrylic resin, polystyrene resin, urethane resin, polyvinyl butyral, polycarbonate, polyolefin and the like.
【0082】記録層を基板の上に製膜する際に、基板の
耐溶剤性や反射率、記録感度などを向上させるために、
基板の上に無機物やポリマーからなる層を設けても良
い。When the recording layer is formed on the substrate, in order to improve the solvent resistance, the reflectance, the recording sensitivity, etc. of the substrate,
A layer made of an inorganic substance or a polymer may be provided on the substrate.
【0083】ここで、記録層における一般式(1)で示
される化合物の含有量は、30%以上、好ましくは60
%以上である。尚、実質的に100%であることも好ま
しい。Here, the content of the compound represented by the general formula (1) in the recording layer is 30% or more, preferably 60% or more.
% Or more. In addition, it is also preferable that it is substantially 100%.
【0084】記録層を設ける方法は、例えば、スピンコ
ート法、スプレー法、キャスト法、浸漬法などの塗布
法、スパッタ法、化学蒸着法、真空蒸着法などが挙げら
れるが、スピンコート法が簡便で好ましい。The method for providing the recording layer includes, for example, a coating method such as a spin coating method, a spraying method, a casting method, and a dipping method, a sputtering method, a chemical vapor deposition method, and a vacuum vapor deposition method. Is preferred.
【0085】スピンコート法などの塗布法を用いる場合
には、一般式(1)で示される化合物を1〜40重量
%、好ましくは3〜30重量%となるように溶媒に溶解
あるいは分散させた塗布液を用いるが、この際、溶媒は
基板にダメージを与えないものを選ぶことが好ましい。
例えば、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコ
ール、オクタフルオロペンタノール、アリルアルコー
ル、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、テトラフル
オロプロパノールなどのアルコール系溶媒、ヘキサン、
ヘプタン、オクタン、デカン、シクロヘキサン、メチル
シクロヘキサン、エチルシクロヘキサン、ジメチルシク
ロヘキサンなどの脂肪族または脂環式炭化水素系溶媒、
トルエン、キシレン、ベンゼンなどの芳香族炭化水素系
溶媒、四塩化炭素、クロロホルム、テトラクロロエタ
ン、ジブロモエタンなどのハロゲン化炭化水素系溶媒、
ジエチルエーテル、ジブチルエーテル、ジイソプロピル
エーテル、ジオキサンなどのエーテル系溶媒、アセト
ン、3−ヒドロキシ−3−メチル−2−ブタノンなどの
ケトン系溶媒、酢酸エチル、乳酸メチルなどのエステル
系溶媒、水などが挙げられる。これらは単独で用いても
良く、あるいは、複数混合しても良い。なお、必要に応
じて、記録層の化合物を高分子薄膜などに分散して用い
たりすることもできる。When a coating method such as a spin coating method is used, the compound represented by the general formula (1) is dissolved or dispersed in a solvent in an amount of 1 to 40% by weight, preferably 3 to 30% by weight. A coating solution is used, and at this time, it is preferable to select a solvent that does not damage the substrate.
For example, methanol, ethanol, isopropyl alcohol, octafluoropentanol, allyl alcohol, methyl cellosolve, ethyl cellosolve, alcohol solvents such as tetrafluoropropanol, hexane,
Aliphatic or alicyclic hydrocarbon solvents such as heptane, octane, decane, cyclohexane, methylcyclohexane, ethylcyclohexane, dimethylcyclohexane,
Aromatic hydrocarbon solvents such as toluene, xylene and benzene, halogenated hydrocarbon solvents such as carbon tetrachloride, chloroform, tetrachloroethane and dibromoethane,
Ether solvents such as diethyl ether, dibutyl ether, diisopropyl ether and dioxane; ketone solvents such as acetone and 3-hydroxy-3-methyl-2-butanone; ester solvents such as ethyl acetate and methyl lactate; and water. Can be These may be used alone or in combination. If necessary, the compound of the recording layer can be used by dispersing it in a polymer thin film or the like.
【0086】また、基板にダメージを与えない溶媒を選
択できない場合は、スパッタ法、化学蒸着法や真空蒸着
法などが有効である。When a solvent that does not damage the substrate cannot be selected, a sputtering method, a chemical vapor deposition method, a vacuum vapor deposition method, or the like is effective.
【0087】記録層の膜厚は、30nm〜1000nm
であるが、好ましくは50nm〜300nmである。記
録層の膜厚を50nmより薄くすると、熱拡散が大きい
ため記録できないか、記録信号に歪が発生する上、信号
振幅が小さくなる場合がある。また、膜厚が300nm
より厚い場合は反射率が低下し、再生信号特性が悪化す
る場合がある。The thickness of the recording layer is 30 nm to 1000 nm.
However, it is preferably 50 nm to 300 nm. If the thickness of the recording layer is less than 50 nm, recording may not be performed due to large thermal diffusion, or a recording signal may be distorted and the signal amplitude may be reduced. The thickness is 300 nm.
If the thickness is larger, the reflectance may decrease, and the reproduction signal characteristics may deteriorate.
【0088】次に記録層の上に、好ましくは50nm〜
300nmの厚さの反射層を形成する。反射率を高める
ためや密着性をよくするために、記録層と反射層の間に
反射増幅層や接着層を設けることができる。反射層の材
料としては、再生光の波長で反射率の十分高いもの、例
えば、Au、Al、Ag、Cu、Ti、Cr、Ni、P
t、Ta、CrおよびPdの金属を単独あるいは合金に
して用いることが可能である。この中でもAu、Al、
Agは反射率が高く反射層の材料として適している。こ
れ以外でも下記のものを含んでいても良い。例えば、M
g、Se、Hf、V、Nb、Ru、W、Mn、Re、F
e、Co、Rh、Ir、Zn、Cd、Ga、In、S
i、Ge、Te、Pb、Po、Sn、Biなどの金属お
よび半金属を挙げることができる。また、Auを主成分
とするものは反射率の高い反射層が容易に得られるため
好適である。ここで主成分というのは含有率が50%以
上のものをいう。金属以外の材料で低屈折率薄膜と高屈
折率薄膜を交互に積み重ねて多層膜を形成し、反射層と
して用いることも可能である。Next, on the recording layer, preferably,
A reflective layer having a thickness of 300 nm is formed. A reflection amplification layer or an adhesive layer can be provided between the recording layer and the reflection layer in order to increase the reflectance and improve the adhesion. As a material of the reflection layer, a material having sufficiently high reflectance at the wavelength of the reproduction light, for example, Au, Al, Ag, Cu, Ti, Cr, Ni, P
The metals t, Ta, Cr and Pd can be used alone or as an alloy. Among them, Au, Al,
Ag has a high reflectance and is suitable as a material for the reflective layer. In addition, the following may be included. For example, M
g, Se, Hf, V, Nb, Ru, W, Mn, Re, F
e, Co, Rh, Ir, Zn, Cd, Ga, In, S
Metals and metalloids such as i, Ge, Te, Pb, Po, Sn, Bi and the like can be mentioned. Further, those containing Au as a main component are preferable because a reflection layer having high reflectance can be easily obtained. Here, the main component means a component having a content of 50% or more. It is also possible to form a multilayer film by alternately stacking low-refractive-index thin films and high-refractive-index thin films with a material other than a metal, and use it as a reflective layer.
【0089】反射層を形成する方法としては、例えば、
スパッタ法、イオンプレーティング法、化学蒸着法、真
空蒸着法などが挙げられる。また、基板の上や反射層の
下に反射率の向上、記録特性の改善、密着性の向上など
のために公知の無機系または有機系の中間層、接着層を
設けることもできる。As a method of forming the reflection layer, for example,
Examples include a sputtering method, an ion plating method, a chemical vapor deposition method, and a vacuum vapor deposition method. In addition, a known inorganic or organic intermediate layer or adhesive layer may be provided on the substrate or below the reflective layer to improve the reflectance, the recording characteristics, and the adhesion.
【0090】さらに、反射層の上に形成する保護層の材
料としては反射層を外力から保護するものであれば特に
限定しない。有機物質としては、熱可塑性樹脂、熱硬化
性樹脂、電子線硬化性樹脂、紫外線硬化性樹脂などを挙
げることができる。また、無機物質としては、Si
O2、SiO、Si3N4、MgF2、AlN、SnO2な
どが挙げられる。熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂などは適
当な溶媒に溶解して塗布液を塗布し、乾燥することによ
って形成することができる。紫外線硬化性樹脂はそのま
まもしくは適当な溶媒に溶解して塗布液を調製した後に
この塗布液を塗布し、紫外線を照射して硬化させること
によって形成することができる。紫外線硬化性樹脂とし
ては、例えば、ウレタンアクリレート、エポキシアクリ
レート、ポリエステルアクリレートなどのアクリレート
樹脂を用いることができる。これらの材料は単独である
いは混合して用いても良く、1層だけでなく多層膜にし
て用いても良い。The material of the protective layer formed on the reflective layer is not particularly limited as long as it protects the reflective layer from external force. Examples of the organic substance include a thermoplastic resin, a thermosetting resin, an electron beam curable resin, and an ultraviolet curable resin. Further, as the inorganic substance, Si
O 2 , SiO, Si 3 N 4 , MgF 2 , AlN, SnO 2 and the like can be mentioned. A thermoplastic resin, a thermosetting resin, or the like can be formed by dissolving in a suitable solvent, applying a coating solution, and drying. The ultraviolet-curable resin can be formed by applying a coating solution after preparing the coating solution as it is or by dissolving it in an appropriate solvent, and irradiating with ultraviolet rays to cure the resin. As the ultraviolet curable resin, for example, acrylate resins such as urethane acrylate, epoxy acrylate, and polyester acrylate can be used. These materials may be used alone or as a mixture, and may be used not only as a single layer but also as a multilayer film.
【0091】保護層の形成の方法としては、記録層と同
様にスピンコート法やキャスト法などの塗布法やスパッ
タ法や化学蒸着法などの方法が用いられるが、この中で
もスピンコート法が好ましい。As a method of forming the protective layer, a coating method such as a spin coating method or a casting method, a sputtering method, a chemical vapor deposition method, or the like is used as in the case of the recording layer. Among them, the spin coating method is preferable.
【0092】保護層の膜厚は、一般には0.1μm〜1
00μmの範囲であるが、本発明においては、3μm〜
30μmであり、より好ましくは、5μm〜20μmで
ある。The thickness of the protective layer is generally 0.1 μm to 1 μm.
In the present invention, the range is from 3 μm to
It is 30 μm, more preferably 5 μm to 20 μm.
【0093】保護層の上にさらにレーベルなどの印刷を
行うこともできる。A label or the like can be further printed on the protective layer.
【0094】また、反射層面に保護シートまたは基板を
貼り合わせる、あるいは反射層面相互を内側とし対向さ
せ、光記録媒体2枚を貼り合わせるなどの手段を用いて
も良い。Further, a means such as bonding a protective sheet or substrate to the reflective layer surface, or bonding two optical recording media with the reflective layer surfaces facing each other inside may be used.
【0095】基板鏡面側に、表面保護やごみ等の付着防
止のために紫外線硬化性樹脂、無機系薄膜等を成膜して
も良い。On the mirror side of the substrate, an ultraviolet curable resin, an inorganic thin film, or the like may be formed to protect the surface or prevent adhesion of dust and the like.
【0096】ここで、本発明で言う波長400nm〜5
00nmのレーザーは、特に制限はないが、例えば、可
視光領域の広範囲で波長選択のできる色素レーザーや波
長445nmのヘリウムカドミウムレーザー、波長48
8nmのアルゴンレーザー、波長約410nmのGaN
系半導体レーザー、波長約850nmの赤外線レーザー
の第2高調波425nmを発振する半導体レーザーなど
があげられる。本発明では、これらから選択される1波
長または複数波長において高密度記録および再生が可能
となる。Here, the wavelength of 400 nm to 5
The laser having a wavelength of 00 nm is not particularly limited. For example, a dye laser capable of selecting a wavelength in a wide range of the visible light region, a helium cadmium laser having a wavelength of 445 nm, and a wavelength of 48 nm.
8nm argon laser, wavelength 410nm GaN
And a semiconductor laser that oscillates a second harmonic of 425 nm of an infrared laser having a wavelength of about 850 nm. According to the present invention, high-density recording and reproduction can be performed at one wavelength or a plurality of wavelengths selected from these.
【0097】[0097]
【実施例】以下に本発明の実施例を示すが、本発明はこ
れによりなんら限定されるものではない。EXAMPLES Examples of the present invention will be shown below, but the present invention is not limited by these examples.
【0098】実施例1 一般式(1)で表される化合物のうち、化合物(1−
1)0.2gをジアセトンアルコール10mlに溶解
し、化合物溶液を調製した。Example 1 Among the compounds represented by the general formula (1), the compound (1-
1) 0.2 g was dissolved in 10 ml of diacetone alcohol to prepare a compound solution.
【0099】ポリカーボネート樹脂製で連続した案内溝
(トラックピッチ:0.7μm)を有する外径120m
m、厚さ0.6mmの円盤状の基板上に、この化合物溶
液を回転数2000rpmでスピンコートし、70℃で
3時間乾燥して記録層を形成した。Outer diameter 120 m made of polycarbonate resin and having continuous guide grooves (track pitch: 0.7 μm)
This compound solution was spin-coated at 2,000 rpm on a disk-shaped substrate having a thickness of 0.6 mm and a thickness of 0.6 mm, and dried at 70 ° C. for 3 hours to form a recording layer.
【0100】この記録層の上に島津製作所製スパッタ装
置を用いてAuをスパッタし、厚さ100nmの反射層
を形成した。スパッタガスには、アルゴンガスを用い
た。スパッタ条件は、スパッタパワー0.5A、スパッ
タガス圧1.0×10-3Torrで行った。Au was sputtered on the recording layer using a sputtering apparatus manufactured by Shimadzu Corporation to form a reflective layer having a thickness of 100 nm. Argon gas was used as a sputtering gas. The sputtering was performed at a sputtering power of 0.5 A and a sputtering gas pressure of 1.0 × 10 −3 Torr.
【0101】さらに、反射層の上に、紫外線硬化樹脂S
D−301(大日本インキ化学工業製)をスピンコート
した後、前記基板と同様な案内溝のない基板をのせ、紫
外線照射して基板を貼り合わせ、光記録媒体を作製し
た。Further, an ultraviolet curable resin S
After spin-coating D-301 (manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.), a substrate without a guide groove similar to the above-mentioned substrate was placed thereon, and the substrates were bonded by irradiating ultraviolet rays to produce an optical recording medium.
【0102】以上のようにして記録層が形成された光記
録媒体について、以下のようにピットの書き込みを行っ
た。The pits were written on the optical recording medium having the recording layer formed as described above as follows.
【0103】430nmの青色高調波変換レーザーヘッ
ド(NA=0.65)を搭載したパルステック工業製光
ディスク評価装置(DDU−1000)及びKENWO
OD製EFMエンコーダーを用いて、最短ピットが0.
4μmのEFM変調信号を、線速度5.6m/s、レー
ザーパワー10mWで記録した。記録後、同評価装置を
用いてレーザー出力を0.5mWにして信号を再生し
た。なお、再生の際はイコライゼーション処理を施し
た。An optical disk evaluation device (DDU-1000) manufactured by Pulstec Industrial equipped with a 430 nm blue harmonic conversion laser head (NA = 0.65) and KENWO
Using the OD EFM encoder, the shortest pit is 0.
A 4 μm EFM modulated signal was recorded at a linear velocity of 5.6 m / s and a laser power of 10 mW. After recording, a signal was reproduced with the laser output set to 0.5 mW using the same evaluation apparatus. At the time of reproduction, an equalization process was performed.
【0104】反射率、エラーレート及びジッターを測定
した結果、反射率50%、エラーレート8cps、ジッ
ター9.0%であり、良好な値を示した。As a result of measuring the reflectance, the error rate, and the jitter, the reflectance was 50%, the error rate was 8 cps, and the jitter was 9.0%.
【0105】また、この記録した媒体について、加速劣
化試験(湿度85%RH、80℃で100時間)を行
い、試験後の反射率及びエラーレートを測定した結果、
初期値よりの反射率変化1%、エラーレート変化1cp
s、ジッター変化0.5%と変化は小さく、優れた耐久
性を有することが確認された。The recorded medium was subjected to an accelerated deterioration test (humidity: 85% RH, 80 ° C. for 100 hours), and the reflectance and error rate after the test were measured.
1% change in reflectance from initial value, 1cp change in error rate
s, the jitter change was as small as 0.5%, and it was confirmed to have excellent durability.
【0106】実施例2〜9 記録層に化合物(1−2)〜(1−9)を用いること以
外は実施例1と同様にして光記録媒体を作製し、ピット
を書き込んで記録した後、信号再生を行った。いずれの
場合も、反射率40%以上、エラーレート11cps以
下、ジッター10%以下と良好な値を示した。Examples 2 to 9 An optical recording medium was produced in the same manner as in Example 1 except that the compounds (1-2) to (1-9) were used for the recording layer. The signal was reproduced. In each case, a good value was obtained with a reflectance of 40% or more, an error rate of 11 cps or less, and a jitter of 10% or less.
【0107】また、加速劣化試験後の反射率の変化は2
%以下、エラーレートの変化は2cps以下、ジッター
の変化は1%以下と小さく、優れた耐久性を有すること
が確認された。The change in reflectance after the accelerated deterioration test was 2%.
% Or less, the change in error rate is 2 cps or less, and the change in jitter is as small as 1% or less, confirming that it has excellent durability.
【0108】実施例10 実施例(1)で用いた化合物(1−1)0.2gの代わ
りに、化合物(1−3)0.1gおよび(1−8)0.
1gを用いること以外は実施例1と同様にして光記録媒
体を作製し、ピットを書き込んで記録した後、信号再生
を行った。その結果、反射率43%、エラーレート10
cps、ジッター9.6%と良好な値を示した。Example 10 Instead of 0.2 g of the compound (1-1) used in Example (1), 0.1 g of the compound (1-3) and 0.1 g of the compound (1-8) 0.
An optical recording medium was manufactured in the same manner as in Example 1 except that 1 g was used, and pits were written and recorded, and then signal reproduction was performed. As a result, the reflectance was 43% and the error rate was 10
It showed good values of cps and jitter of 9.6%.
【0109】また、加速劣化試験後の反射率の変化は1
%、エラーレートの変化は1cps、ジッターの変化は
0.4%と小さく、優れた耐久性を有することが確認さ
れた。The change in reflectance after the accelerated deterioration test was 1
%, The change in error rate was 1 cps, and the change in jitter was as small as 0.4%, confirming that the device had excellent durability.
【0110】表2に実施例1〜10における加速劣化試
験前後の反射率、エラーレート及びジッター値を示し
た。Table 2 shows the reflectance, error rate, and jitter values before and after the accelerated deterioration test in Examples 1 to 10.
【0111】[0111]
【表7】 [Table 7]
【0112】実施例11 実施例(1)で用いた化合物(1−1)0.2gの代わ
りに、化合物(1−10)0.1g、化合物(1−2
4)0.05gおよび化合物(1−39)0.05gを
用いた以外は実施例1と同様にして光記録媒体を作製
し、ピットを書き込んで記録した後、信号再生を行っ
た。その結果、反射率45%、エラーレート9cps、
ジッター9.3%と良好な値を示した。Example 11 Instead of 0.2 g of the compound (1-1) used in Example (1), 0.1 g of the compound (1-10) and the compound (1-2)
4) An optical recording medium was prepared in the same manner as in Example 1 except that 0.05 g of the compound (1-39) and 0.05 g of the compound (1-39) were used. As a result, the reflectance is 45%, the error rate is 9 cps,
A good value of 9.3% was exhibited.
【0113】また、加速劣化試験後の反射率の変化は1
%、エラーレートの変化は1cps、ジッターの変化は
0.3%と小さく、優れた耐久性を有することが確認さ
れた。The change in reflectance after the accelerated deterioration test was 1
%, The change in the error rate was 1 cps, and the change in the jitter was as small as 0.3%.
【0114】実施例12 実施例(1)で用いた化合物(1−1)0.2gの代わ
りに、化合物(1−47)0.1gおよび化合物(1−
48)0.1gを用いた以外は実施例1と同様にして光
記録媒体を作製し、ピットを書き込んで記録した後、信
号再生を行った。その結果、反射率48%、エラーレー
ト8cps、ジッター9.2%と良好な値を示した。Example 12 Instead of 0.2 g of the compound (1-1) used in Example (1), 0.1 g of the compound (1-47) and the compound (1-47)
48) An optical recording medium was manufactured in the same manner as in Example 1 except that 0.1 g was used, and pits were written and recorded, and then signal reproduction was performed. As a result, good values were obtained with a reflectance of 48%, an error rate of 8 cps, and a jitter of 9.2%.
【0115】また、加速劣化試験後の反射率の変化は1
%、エラーレートの変化は1cps、ジッターの変化は
0.2%と小さく、優れた耐久性を有することが確認さ
れた。The change in reflectance after the accelerated deterioration test was 1
%, The change in error rate was 1 cps, and the change in jitter was as small as 0.2%, confirming that it had excellent durability.
【0116】実施例13〜58 記録層にナフタレン化合物(1−10)〜(1−55)
を用いること以外は実施例1と同様にして光記録媒体を
作製し、ピットを書き込んで記録した後、信号再生を行
った。その結果、反射率40%以上、エラーレート11
cps以下、ジッター10%以下と良好な値を示した。Examples 13 to 58 Naphthalene compounds (1-10) to (1-55) were added to the recording layer.
An optical recording medium was manufactured in the same manner as in Example 1, except that pits were used, and pits were written and recorded, and then signal reproduction was performed. As a result, the reflectance was 40% or more, and the error rate was 11
Good values were obtained, that is, cps or less and jitter of 10% or less.
【0117】また実施例1と同様に加速劣化試験を行っ
た結果、初期値よりの反射率変化2%以下、エラーレー
ト変化2cps以下、ジッター変化1%以下と小さく、
優れた耐久性を有することが確認された。As a result of the accelerated deterioration test performed in the same manner as in Example 1, the change in reflectance from the initial value was 2% or less, the change in error rate was 2 cps or less, and the change in jitter was 1% or less.
It was confirmed that it had excellent durability.
【0118】表2および実施例11〜58に記載される
ように、本発明の光記録媒体は、いずれも高反射率を有
し、記録特性および耐久性に優れている。As shown in Table 2 and Examples 11 to 58, the optical recording media of the present invention all have high reflectivity and are excellent in recording characteristics and durability.
【0119】このことから、本発明で規定する構造のナ
フタレン化合物を含有する記録層は、青色レーザーによ
る信号記録が可能であり、本発明の光記録媒体は青色レ
ーザーを記録再生に用いる光記録媒体に用いることがで
きる。Thus, the recording layer containing the naphthalene compound having the structure defined in the present invention can record signals with a blue laser. Can be used.
【0120】[0120]
【発明の効果】本発明によれば、一般式(1)で示され
る化合物を記録層として用いることにより、高密度光記
録媒体として非常に注目されている波長400nm〜5
00nmのレーザーで記録および再生が可能な追記型光
記録媒体を提供することが可能となる。According to the present invention, by using the compound represented by the general formula (1) as a recording layer, the wavelength of 400 nm to 5 nm, which is attracting much attention as a high-density optical recording medium, is obtained.
It is possible to provide a write-once optical recording medium that can record and reproduce with a 00 nm laser.
【図1】本発明に係る光記録媒体の層構成の一例を示す
断面構造図である。FIG. 1 is a sectional structural view showing an example of a layer configuration of an optical recording medium according to the present invention.
【図2】本発明に係る光記録媒体の層構成の一例を示す
断面構造図である。FIG. 2 is a sectional structural view showing an example of a layer configuration of the optical recording medium according to the present invention.
1 :基板 2 :記録層 3 :反射層 4 :保護層 5 :接着層 1: substrate 2: recording layer 3: reflective layer 4: protective layer 5: adhesive layer
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 塚原 宇 神奈川県横浜市栄区笠間町1190番地 三井 化学株式会社内 (72)発明者 西本 泰三 神奈川県横浜市栄区笠間町1190番地 三井 化学株式会社内 (72)発明者 三沢 伝美 神奈川県横浜市栄区笠間町1190番地 三井 化学株式会社内 (72)発明者 詫摩 啓輔 神奈川県横浜市栄区笠間町1190番地 三井 化学株式会社内 Fターム(参考) 2H111 EA03 EA12 EA22 EA25 EA32 EA43 FA01 FA12 FB42 4C065 AA07 AA18 BB09 CC09 DD02 EE02 HH09 JJ04 KK09 LL04 PP03 PP06 PP09 PP10 PP12 PP13 PP14 PP16 PP17 5D029 JA04 JC03 JC17 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (72) Inventor Tsukahara U 1190 Kasama-cho, Sakae-ku, Yokohama-shi, Kanagawa Prefecture Inside (72) Inventor Taizo Nishimoto 1190 Kasama-cho, Sakae-ku, Yokohama-shi, Kanagawa Mitsui Chemical Co., Ltd. 72) Inventor Densumi Misawa 1190 Kasama-cho, Sakae-ku, Yokohama-shi, Kanagawa Prefecture Inside of Mitsui Chemicals Co., Ltd. EA22 EA25 EA32 EA43 FA01 FA12 FB42 4C065 AA07 AA18 BB09 CC09 DD02 EE02 HH09 JJ04 KK09 LL04 PP03 PP06 PP09 PP10 PP12 PP13 PP14 PP16 PP17 5D029 JA04 JC03 JC17
Claims (3)
を有する光記録媒体において、記録層中に一般式(1)
で示されるナフタレン化合物を含有する光記録媒体。 【化1】 〔式中、A、Bはそれぞれ独立に、置換基を有していて
も良い芳香族炭化水素基、複素環基を表す。〕1. An optical recording medium having at least a recording layer and a reflective layer on a substrate, wherein the recording layer has a general formula (1)
An optical recording medium containing a naphthalene compound represented by the formula: Embedded image [Wherein, A and B each independently represent an aromatic hydrocarbon group or a heterocyclic group which may have a substituent. ]
る請求項1の光記録媒体。 【化2】 〔式中、Z1、Z2はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲ
ン原子、シアノ基、置換または無置換のアルキル基、ア
ラルキル基、アリール基、アルコキシ基、アラルキルオ
キシ基、アリールオキシ基、アルケニル基、アルケニル
オキシ基、アルキルチオ基、アラルキルチオ基、アリー
ルチオ基、アルキルアミノ基、アラルキルアミノ基、ア
リールアミノ基、アルケニルアミノ基、アシル基、アル
コキシカルボニル基、アラルキルオキシカルボニル基、
アリールオキシカルボニル基、アルケニルオキシカルボ
ニル基、アルキルアミノカルボニル基、複素環基により
置換した単環式あるいは多環式の芳香族炭化水素基、あ
るいは複素環基である。〕2. The optical recording medium according to claim 1, wherein the naphthalene compound is represented by the following formula (2). Embedded image [Wherein, Z 1 and Z 2 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group, a substituted or unsubstituted alkyl group, an aralkyl group, an aryl group, an alkoxy group, an aralkyloxy group, an aryloxy group, an alkenyl group. An alkenyloxy group, an alkylthio group, an aralkylthio group, an arylthio group, an alkylamino group, an aralkylamino group, an arylamino group, an alkenylamino group, an acyl group, an alkoxycarbonyl group, an aralkyloxycarbonyl group,
An aryloxycarbonyl group, an alkenyloxycarbonyl group, an alkylaminocarbonyl group, a monocyclic or polycyclic aromatic hydrocarbon group substituted with a heterocyclic group, or a heterocyclic group. ]
選択されるレーザー光に対して記録および再生が可能で
ある請求項1または請求項2の光記録媒体。3. The optical recording medium according to claim 1, wherein recording and reproduction can be performed with respect to a laser beam selected from a wavelength range of 400 nm to 500 nm.
Priority Applications (1)
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|---|---|---|---|
| JP10282662A JP2000113504A (en) | 1998-10-05 | 1998-10-05 | Optical recording medium |
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| JP10282662A JP2000113504A (en) | 1998-10-05 | 1998-10-05 | Optical recording medium |
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