JP2000266930A - 光学選択フイルター - Google Patents
光学選択フイルターInfo
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- JP2000266930A JP2000266930A JP11068519A JP6851999A JP2000266930A JP 2000266930 A JP2000266930 A JP 2000266930A JP 11068519 A JP11068519 A JP 11068519A JP 6851999 A JP6851999 A JP 6851999A JP 2000266930 A JP2000266930 A JP 2000266930A
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- JP
- Japan
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- layer
- refractive index
- optical filter
- range
- wavelength
- Prior art date
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- Pending
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- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
- Transforming Electric Information Into Light Information (AREA)
- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 色純度を低下させる波長の光を選択的にカッ
トし、色バランスを補正することのできる光学フィルタ
ーとそれを用いた画像表示装置を提供すること。 【解決手段】 2種類以上の物質の交互積層からなる計
6層以上の層状構造を有する光学フィルターであって、
560乃至620nmの間範囲に吸収極大を有してな
り、かつ該波長の極大における透過率が50%以下であ
る光学フィルター。
トし、色バランスを補正することのできる光学フィルタ
ーとそれを用いた画像表示装置を提供すること。 【解決手段】 2種類以上の物質の交互積層からなる計
6層以上の層状構造を有する光学フィルターであって、
560乃至620nmの間範囲に吸収極大を有してな
り、かつ該波長の極大における透過率が50%以下であ
る光学フィルター。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、透明支持体および
フィルター層を有する光学フィルターに関する。特に、
本発明は液晶表示装置(LCD)、プラズマディスプレ
イパネル(PDP)、エレクトロルミネッセンスディス
プレイ(ELD)、陰極管表示装置(CRT)、蛍光表
示管、電界放射型ディスプレイのような画像表示装置の
表面に、色再現性改良のため取り付けられる光学フィル
ターに関する。
フィルター層を有する光学フィルターに関する。特に、
本発明は液晶表示装置(LCD)、プラズマディスプレ
イパネル(PDP)、エレクトロルミネッセンスディス
プレイ(ELD)、陰極管表示装置(CRT)、蛍光表
示管、電界放射型ディスプレイのような画像表示装置の
表面に、色再現性改良のため取り付けられる光学フィル
ターに関する。
【0002】
【従来の技術】液晶表示装置(LCD)、プラズマディ
スプレイパネル(PDP)、エレクトロルミネッセンス
ディスプレイ(ELD)、陰極管表示装置(CRT)、
蛍光表示管、電界放射型ディスプレイのような画像表示
装置は、原則として、赤、青、緑の三原色の光の組み合
わせでカラー画像を表示する。しかし、表示のための光
を理想的な三原色にすることは、非常に難しい(実質的
には不可能である)。例えば、プラズマディスプレイパ
ネル(PDP)では、三原色蛍光体からの発光に余分な
光(波長が500乃至620nmの範囲)が含まれてい
ることが知られている。そこで、表示色の色バランスを
補正するため特定の波長の光を吸収するフィルターを用
いて、色補正を行うことが提案されている。フィルター
による色補正については、特開昭58−153904
号、同61−188501号、特開平3−231988
号、同5−205643号、同9−145918号、同
9−306366号、同10−26704号の各公報に
記載がある。
スプレイパネル(PDP)、エレクトロルミネッセンス
ディスプレイ(ELD)、陰極管表示装置(CRT)、
蛍光表示管、電界放射型ディスプレイのような画像表示
装置は、原則として、赤、青、緑の三原色の光の組み合
わせでカラー画像を表示する。しかし、表示のための光
を理想的な三原色にすることは、非常に難しい(実質的
には不可能である)。例えば、プラズマディスプレイパ
ネル(PDP)では、三原色蛍光体からの発光に余分な
光(波長が500乃至620nmの範囲)が含まれてい
ることが知られている。そこで、表示色の色バランスを
補正するため特定の波長の光を吸収するフィルターを用
いて、色補正を行うことが提案されている。フィルター
による色補正については、特開昭58−153904
号、同61−188501号、特開平3−231988
号、同5−205643号、同9−145918号、同
9−306366号、同10−26704号の各公報に
記載がある。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、色素あ
るいは顔料による吸収を利用したフィルターはその吸収
の半値幅がブロードなものが多く、特定の狭い波長領域
の光のみを選択的にカットすることが困難である場合が
多かった。上記の問題点に鑑み、本発明者が鋭意検討の
結果、光学屈折率の異なる層を交互積層した多層干渉膜
が本目的に対して好適な結果を与えることが判明した。
更に、交互積層する素材の光学屈折率および厚み、その
ばらつきを制御することで、選択反射フィルターの基本
性能である吸収の波長およびその半値幅を制御可能であ
ることが明らかになった。本発明の目的は、色純度を低
下させる波長の光を選択的にカットし、色バランスを補
正することのできる光学フィルターを提供すること、お
よびそれを用いた画像表示装置を提供することである。
るいは顔料による吸収を利用したフィルターはその吸収
の半値幅がブロードなものが多く、特定の狭い波長領域
の光のみを選択的にカットすることが困難である場合が
多かった。上記の問題点に鑑み、本発明者が鋭意検討の
結果、光学屈折率の異なる層を交互積層した多層干渉膜
が本目的に対して好適な結果を与えることが判明した。
更に、交互積層する素材の光学屈折率および厚み、その
ばらつきを制御することで、選択反射フィルターの基本
性能である吸収の波長およびその半値幅を制御可能であ
ることが明らかになった。本発明の目的は、色純度を低
下させる波長の光を選択的にカットし、色バランスを補
正することのできる光学フィルターを提供すること、お
よびそれを用いた画像表示装置を提供することである。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明の目的は下記
(1)〜(10)の光学フィルター、画像表示装置、お
よびプラズマディスプレイパネルによって達成された。 (1)2種類以上の物質の交互積層からなる計6層以上
の層状構造を有する光学フィルターであって、560乃
至620nmの間範囲に吸収極大を有してなり、かつ該
波長の極大における透過率が50%以下である光学フィ
ルター。 (2)560乃至620nmに加えて500乃至550
nmの範囲に吸収極大を有し、該波長の極大における透
過率が30%以上である(1)の光学フィルター。 (3)2種類以上の物質の交互積層からなる計6層以上
の層状構造を有し、560乃至620nmの間範囲に吸
収極大を有してなり、かつ該波長の極大における透過率
が50%以下である選択反射層と、2種類以上の物質の
交互積層からなる計4層以上の層状構造を有し、500
乃至550nmの間範囲に吸収極大を有してなり、かつ
該波長の極大における透過率が30%以上である選択反
射層からなることを特徴とする(1)、(2)の光学フ
ィルター。 (4)560乃至620nmの間範囲に吸収極大を有し
てなる層が光学屈折率n1の層と光学屈折率n2 の層の
交互積層で形成され、1.03<n2 /n1 ≦1.3の
範囲にあることを特徴とする、(1)、(2)、(3)
の光学フィルター。 (5)1.38≦n1 の関係を満足することを特徴とす
る(4)の光学フィルター。 (6)交互積層された光学屈折率n1 の層厚みd1 のば
らつき、光学屈折率n2層厚みd2 のばらつきが各々3
0%以下であり、1120≦n1 d1 +n2 d2≦12
40の範囲内にあることを特徴とする(4)または
(5)の光学フィルター。 (7)粘着剤、フィルター層、支持体、反射防止層を有
する(1)〜(6)の光学フィルター。 (8)プラズマディスプレイパネル(PDP)表示用に
用いられる(1)〜(7)の光学フィルター。 (9)(8)の光学フィルターを表面に保持することを
特徴とするPDP用前面板。 (10)(1)〜(9)の光学フィルターをPDPモジ
ュールの表面、前面板の表面、前面板の裏面の少なくと
も一面に設けたことを特徴とするPDP表示装置。
(1)〜(10)の光学フィルター、画像表示装置、お
よびプラズマディスプレイパネルによって達成された。 (1)2種類以上の物質の交互積層からなる計6層以上
の層状構造を有する光学フィルターであって、560乃
至620nmの間範囲に吸収極大を有してなり、かつ該
波長の極大における透過率が50%以下である光学フィ
ルター。 (2)560乃至620nmに加えて500乃至550
nmの範囲に吸収極大を有し、該波長の極大における透
過率が30%以上である(1)の光学フィルター。 (3)2種類以上の物質の交互積層からなる計6層以上
の層状構造を有し、560乃至620nmの間範囲に吸
収極大を有してなり、かつ該波長の極大における透過率
が50%以下である選択反射層と、2種類以上の物質の
交互積層からなる計4層以上の層状構造を有し、500
乃至550nmの間範囲に吸収極大を有してなり、かつ
該波長の極大における透過率が30%以上である選択反
射層からなることを特徴とする(1)、(2)の光学フ
ィルター。 (4)560乃至620nmの間範囲に吸収極大を有し
てなる層が光学屈折率n1の層と光学屈折率n2 の層の
交互積層で形成され、1.03<n2 /n1 ≦1.3の
範囲にあることを特徴とする、(1)、(2)、(3)
の光学フィルター。 (5)1.38≦n1 の関係を満足することを特徴とす
る(4)の光学フィルター。 (6)交互積層された光学屈折率n1 の層厚みd1 のば
らつき、光学屈折率n2層厚みd2 のばらつきが各々3
0%以下であり、1120≦n1 d1 +n2 d2≦12
40の範囲内にあることを特徴とする(4)または
(5)の光学フィルター。 (7)粘着剤、フィルター層、支持体、反射防止層を有
する(1)〜(6)の光学フィルター。 (8)プラズマディスプレイパネル(PDP)表示用に
用いられる(1)〜(7)の光学フィルター。 (9)(8)の光学フィルターを表面に保持することを
特徴とするPDP用前面板。 (10)(1)〜(9)の光学フィルターをPDPモジ
ュールの表面、前面板の表面、前面板の裏面の少なくと
も一面に設けたことを特徴とするPDP表示装置。
【0005】
【発明の実施の形態】本発明は下記に挙げるいくつかの
例により説明することができるが、特に断らない限りそ
れらの例に限定されるものではない。
例により説明することができるが、特に断らない限りそ
れらの例に限定されるものではない。
【0006】(透明支持体)透明支持体を形成する材料
の例には、セルロースエステル(例、ジアセチルセルロ
ース、トリアセチルセルロース(TAC)、プロピオニ
ルセルロース、ブチリルセルロース、アセチルプロピオ
ニルセルロース、ニトロセルロース)、ポリアミド、ポ
リカーボネート、ポリエステル(例、ポリエチレンテレ
フタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレン
テレフタレート、ポリ−1,4−シクロヘキサンジメチ
レンテレフタレート、ポリエチレン−1,2−ジフェノ
キシエタン−4,4’−ジカルボキシレート、ポリブチ
レンテレフタレート)、ポリスチレン(例、シンジオタ
クチックポリスチレン)、ポリオレフィン(例、ポリエ
チレン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン)、ポリ
メチルメタクリレート、シンジオタクチックポリスチレ
ン、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリエーテ
ルケトン、ポリエーテルイミドおよびポリオキシエチレ
ンが含まれる。トリアセチルセルロース、ポリカーボネ
ートおよびポリエチレンテレフタレートが好ましい。透
明支持体の透過率は80%以上であることが好ましく、
86%以上であることがさらに好ましい。ヘイズは、2
%以下であることが好ましく、1%以下であることがさ
らに好ましい。屈折率は、1.45乃至1.70である
ことが好ましい。透明支持体に、赤外線吸収剤あるいは
紫外線吸収剤を添加してもよい。赤外線吸収剤の添加量
は、透明支持体の0.01乃至20重量%であることが
好ましく、0.05乃至10重量%であることがさらに
好ましい。さらに滑り剤として、不活性無機化合物の粒
子を透明支持体に添加してもよい。無機化合物の例に
は、SiO2 、TiO2 、BaSO4 、CaCO3 、タ
ルクおよびカオリンが含まれる。透明支持体に、表面処
理を実施してもよい。表面処理の例には、薬品処理、機
械的処理、コロナ放電処理、火焔処理、紫外線照射処
理、高周波処理、グロー放電処理、活性プラズマ処理、
レーザー処理、混酸処理およびオゾン酸化処理が含まれ
る。グロー放電処理、紫外線照射処理、コロナ放電処理
および火焔処理が好ましく、グロー放電処理と紫外線処
理がさらに好ましい。さらに、上層との接着強化のため
の下塗り層を設置してもよい。
の例には、セルロースエステル(例、ジアセチルセルロ
ース、トリアセチルセルロース(TAC)、プロピオニ
ルセルロース、ブチリルセルロース、アセチルプロピオ
ニルセルロース、ニトロセルロース)、ポリアミド、ポ
リカーボネート、ポリエステル(例、ポリエチレンテレ
フタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレン
テレフタレート、ポリ−1,4−シクロヘキサンジメチ
レンテレフタレート、ポリエチレン−1,2−ジフェノ
キシエタン−4,4’−ジカルボキシレート、ポリブチ
レンテレフタレート)、ポリスチレン(例、シンジオタ
クチックポリスチレン)、ポリオレフィン(例、ポリエ
チレン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン)、ポリ
メチルメタクリレート、シンジオタクチックポリスチレ
ン、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリエーテ
ルケトン、ポリエーテルイミドおよびポリオキシエチレ
ンが含まれる。トリアセチルセルロース、ポリカーボネ
ートおよびポリエチレンテレフタレートが好ましい。透
明支持体の透過率は80%以上であることが好ましく、
86%以上であることがさらに好ましい。ヘイズは、2
%以下であることが好ましく、1%以下であることがさ
らに好ましい。屈折率は、1.45乃至1.70である
ことが好ましい。透明支持体に、赤外線吸収剤あるいは
紫外線吸収剤を添加してもよい。赤外線吸収剤の添加量
は、透明支持体の0.01乃至20重量%であることが
好ましく、0.05乃至10重量%であることがさらに
好ましい。さらに滑り剤として、不活性無機化合物の粒
子を透明支持体に添加してもよい。無機化合物の例に
は、SiO2 、TiO2 、BaSO4 、CaCO3 、タ
ルクおよびカオリンが含まれる。透明支持体に、表面処
理を実施してもよい。表面処理の例には、薬品処理、機
械的処理、コロナ放電処理、火焔処理、紫外線照射処
理、高周波処理、グロー放電処理、活性プラズマ処理、
レーザー処理、混酸処理およびオゾン酸化処理が含まれ
る。グロー放電処理、紫外線照射処理、コロナ放電処理
および火焔処理が好ましく、グロー放電処理と紫外線処
理がさらに好ましい。さらに、上層との接着強化のため
の下塗り層を設置してもよい。
【0007】(フィルター層)フィルター層は公知の多
層反射膜の原理に従って作成されたものであり、屈折率
の異なる2層以上の層を交互に積層した構造を持つ。フ
ィルター層の厚みには特に制限はないが、その厚み精
度、透明性の観点から概ね0.3乃至15μmの範囲の
ものが好ましい。フィルター層は、波長が560乃至6
20nmの範囲(緑と赤の間)に吸収極大を持つ。波長
が560乃至620nmの範囲の吸収極大での透過率
は、5乃至50%の範囲であることが好ましい。波長が
560乃至620nmの範囲の吸収極大は、赤色蛍光体
の色純度を低下させているサブバンドを選択的にカット
するために設定される。PDPにおいては、ネオンガス
の励起によって放出される595nm付近の不要な発光
もカットする。本発明に従い吸収極大を分離したこと
で、緑の蛍光体の色調に悪影響を与えることなく、選択
的に光をカットできる。緑の蛍光体の色調への影響をさ
らに低下させるため、吸収スペクトルのピークをシャー
プにすることが好ましい。具体的には、波長が560乃
至620nmの範囲の吸収極大での半値幅は、10乃至
50nmであることが好ましく、10乃至30nmであ
ることがより好ましく、10乃至20nmであることが
最も好ましい。半値幅が10nm以下になると実質的に
ネオンガスの励起による不要光の吸収が不完全になり、
効果が減少する。
層反射膜の原理に従って作成されたものであり、屈折率
の異なる2層以上の層を交互に積層した構造を持つ。フ
ィルター層の厚みには特に制限はないが、その厚み精
度、透明性の観点から概ね0.3乃至15μmの範囲の
ものが好ましい。フィルター層は、波長が560乃至6
20nmの範囲(緑と赤の間)に吸収極大を持つ。波長
が560乃至620nmの範囲の吸収極大での透過率
は、5乃至50%の範囲であることが好ましい。波長が
560乃至620nmの範囲の吸収極大は、赤色蛍光体
の色純度を低下させているサブバンドを選択的にカット
するために設定される。PDPにおいては、ネオンガス
の励起によって放出される595nm付近の不要な発光
もカットする。本発明に従い吸収極大を分離したこと
で、緑の蛍光体の色調に悪影響を与えることなく、選択
的に光をカットできる。緑の蛍光体の色調への影響をさ
らに低下させるため、吸収スペクトルのピークをシャー
プにすることが好ましい。具体的には、波長が560乃
至620nmの範囲の吸収極大での半値幅は、10乃至
50nmであることが好ましく、10乃至30nmであ
ることがより好ましく、10乃至20nmであることが
最も好ましい。半値幅が10nm以下になると実質的に
ネオンガスの励起による不要光の吸収が不完全になり、
効果が減少する。
【0008】また、フィルター層は560乃至620n
mの範囲の他に、波長が500乃至550nmの範囲に
吸収極大を持っていてもよい。波長が500乃至550
nmの範囲での透過率は、50乃至85%の範囲である
ことが好ましい。波長が500乃至550nmの範囲の
吸収極大は、視感度が高い緑の蛍光体の発光強度を調節
するために設定される。緑の蛍光体の発光域は、なだら
かにカットすることが好ましい。波長が500乃至55
0nmの範囲の吸収極大での半値幅(吸収極大での吸光
度の半分の吸光度を示す波長領域の幅)は、30乃至3
00nmであることが好ましく、40乃至300nmで
あることがより好ましく、50乃至150nmであるこ
とがさらに好ましく、60乃至150nmであることが
最も好ましい。
mの範囲の他に、波長が500乃至550nmの範囲に
吸収極大を持っていてもよい。波長が500乃至550
nmの範囲での透過率は、50乃至85%の範囲である
ことが好ましい。波長が500乃至550nmの範囲の
吸収極大は、視感度が高い緑の蛍光体の発光強度を調節
するために設定される。緑の蛍光体の発光域は、なだら
かにカットすることが好ましい。波長が500乃至55
0nmの範囲の吸収極大での半値幅(吸収極大での吸光
度の半分の吸光度を示す波長領域の幅)は、30乃至3
00nmであることが好ましく、40乃至300nmで
あることがより好ましく、50乃至150nmであるこ
とがさらに好ましく、60乃至150nmであることが
最も好ましい。
【0009】透明支持体に560乃至620nmの範囲
の吸収スペクトルを付与するためには2種類以上の物質
の交互積層からなる計6層以上の層状構造が必要である
が、それらを形成する手段については特に限定はない。
例えば多層塗布、多層蒸着、多層スパッタリング等のコ
ーティングによる方法、または多層並列紡糸法あるいは
複合紡糸法等の射出成形物の圧着による製膜等による方
法を挙げることができる。更には、多層塗布品、多層製
膜品を2軸延伸することにより配向させて面方向の屈折
率を調整することもできる。
の吸収スペクトルを付与するためには2種類以上の物質
の交互積層からなる計6層以上の層状構造が必要である
が、それらを形成する手段については特に限定はない。
例えば多層塗布、多層蒸着、多層スパッタリング等のコ
ーティングによる方法、または多層並列紡糸法あるいは
複合紡糸法等の射出成形物の圧着による製膜等による方
法を挙げることができる。更には、多層塗布品、多層製
膜品を2軸延伸することにより配向させて面方向の屈折
率を調整することもできる。
【0010】多層干渉においてシャープな吸収を得るた
めには、交互積層する素材の屈折率の比はより1に近い
ことが好ましいが、1に近すぎると干渉が有効に起こら
なくなるため、特定の波長での選択反射性を向上させる
ためにより多くの層数が必要となり、製造適性、コスト
の点で好ましくない。実際には交互積層する層の屈折率
の比は、最も高い層と最も低い層の比で1.03以上
1.3以下であることが好ましく、1.04以上1.2
以下であることがより好ましく、1.05以上1.1以
下であることが更に好ましい。
めには、交互積層する素材の屈折率の比はより1に近い
ことが好ましいが、1に近すぎると干渉が有効に起こら
なくなるため、特定の波長での選択反射性を向上させる
ためにより多くの層数が必要となり、製造適性、コスト
の点で好ましくない。実際には交互積層する層の屈折率
の比は、最も高い層と最も低い層の比で1.03以上
1.3以下であることが好ましく、1.04以上1.2
以下であることがより好ましく、1.05以上1.1以
下であることが更に好ましい。
【0011】多層干渉層の層数は多いほど選択反射性が
高まるが、層数が増えるに従い各層の平均厚みのばらつ
き、層内での厚みのばらつきの寄与が大きくなり、ま
た、製造適性、コストの点で好ましくない。逆に層数が
少なすぎると特定波長での選択反射性が低下するため、
不要光を効率よくカットすることができなくなり、好ま
しくない。実際のトータルの層数は4層から800層の
範囲にあることが好ましく、6層から200層の範囲に
あることがより好ましく、6層から50層の範囲にある
ことが更に好ましい。
高まるが、層数が増えるに従い各層の平均厚みのばらつ
き、層内での厚みのばらつきの寄与が大きくなり、ま
た、製造適性、コストの点で好ましくない。逆に層数が
少なすぎると特定波長での選択反射性が低下するため、
不要光を効率よくカットすることができなくなり、好ま
しくない。実際のトータルの層数は4層から800層の
範囲にあることが好ましく、6層から200層の範囲に
あることがより好ましく、6層から50層の範囲にある
ことが更に好ましい。
【0012】塗布または製膜により多層干渉層を形成す
る場合に用いる素材は特に限定されないが、例えばゼラ
チン、ポリアクリル酸、ポリアクリルアミド、ポリビニ
ルアルコール等の水溶性バインダー、ポリビニルブチラ
ール、ポリメタクリル酸メチル、ポリビニルピロリド
ン、ポリスチレン、ポリビニルナフタレン等の有機溶剤
可溶性バインダー、SBR、ポリアクリル酸エステル、
ポリ塩化ビニリデン等の水分散性ラテックスを単独また
は混合して用いることができる。上記の素材には部分フ
ッ素化または完全フッ素化することで屈折率を低下させ
た素材(ポリアクリル酸パーフルオロプロピル等)、逆
に芳香環またはBr、S等のヘテロ原子を導入して屈折
率を高めた素材(ポリビニル−(2,6)ブロモナフタ
レン等)が知られており、特に限定なく屈折率を調整す
るために用いることが可能である。また、これらの素材
中には屈折率調整のためにSiO2 (屈折率1.4
4)、MgF2 (屈折率1.38)、非晶性含フッ素ポ
リマー粒子(屈折率1.29〜)等の有機または無機の
低屈折微粒子、CeF3 (屈折率1.63)、Al2 O
3(屈折率1.62)、ポリスチレン(屈折率1.5
8)、ポリチオフェン(屈折率1.72)等の有機また
は無機の中屈折粒子、ZrO2 (屈折率2.08)、T
iO2 (屈折率2.42)、ポリフェニレンサルファイ
ド(屈折率1.82)等の有機または無機の高屈折率微
粒子を混合することができる。
る場合に用いる素材は特に限定されないが、例えばゼラ
チン、ポリアクリル酸、ポリアクリルアミド、ポリビニ
ルアルコール等の水溶性バインダー、ポリビニルブチラ
ール、ポリメタクリル酸メチル、ポリビニルピロリド
ン、ポリスチレン、ポリビニルナフタレン等の有機溶剤
可溶性バインダー、SBR、ポリアクリル酸エステル、
ポリ塩化ビニリデン等の水分散性ラテックスを単独また
は混合して用いることができる。上記の素材には部分フ
ッ素化または完全フッ素化することで屈折率を低下させ
た素材(ポリアクリル酸パーフルオロプロピル等)、逆
に芳香環またはBr、S等のヘテロ原子を導入して屈折
率を高めた素材(ポリビニル−(2,6)ブロモナフタ
レン等)が知られており、特に限定なく屈折率を調整す
るために用いることが可能である。また、これらの素材
中には屈折率調整のためにSiO2 (屈折率1.4
4)、MgF2 (屈折率1.38)、非晶性含フッ素ポ
リマー粒子(屈折率1.29〜)等の有機または無機の
低屈折微粒子、CeF3 (屈折率1.63)、Al2 O
3(屈折率1.62)、ポリスチレン(屈折率1.5
8)、ポリチオフェン(屈折率1.72)等の有機また
は無機の中屈折粒子、ZrO2 (屈折率2.08)、T
iO2 (屈折率2.42)、ポリフェニレンサルファイ
ド(屈折率1.82)等の有機または無機の高屈折率微
粒子を混合することができる。
【0013】上記の塗布膜または溶融製膜品を2軸延伸
することで素材を配向させ、面方向の屈折率を高めるこ
とも可能である。屈折率は例えばポリエチレンナフタレ
ートは屈折率1.60程度であるが、4倍程度2軸延伸
した膜では面方向の屈折率が1.75程度であり、延伸
度によって屈折率を調整することが可能である。但し、
実際に発現する屈折率は延伸倍率のほか延伸温度、延伸
速度によって異なってくるため一概に決められるもので
はない。
することで素材を配向させ、面方向の屈折率を高めるこ
とも可能である。屈折率は例えばポリエチレンナフタレ
ートは屈折率1.60程度であるが、4倍程度2軸延伸
した膜では面方向の屈折率が1.75程度であり、延伸
度によって屈折率を調整することが可能である。但し、
実際に発現する屈折率は延伸倍率のほか延伸温度、延伸
速度によって異なってくるため一概に決められるもので
はない。
【0014】多層蒸着あるいは多層スパッタリングによ
り本選択反射層を形成する場合、そのソースとしては通
常の蒸着またはスパッタリングの場合と同様に、MgF
2 、SiO2 、TiO2 、ZnO2 等を用いることがで
きる。また、蒸着あるいはスパッタリング後に酸素、窒
素雰囲気下で層を酸化あるいは窒化することにより目的
の層を得ることもできる。また、含フッ素ポリマーのス
パッタリング、あるいは in situでのポリマー
重合によるコーティングも有効である。ただし、含フッ
素ポリマーを用いると上下層との密着性が悪化するた
め、実際の使用には適さず、低屈折率素材としてはMg
F2 が好ましく用いられる。
り本選択反射層を形成する場合、そのソースとしては通
常の蒸着またはスパッタリングの場合と同様に、MgF
2 、SiO2 、TiO2 、ZnO2 等を用いることがで
きる。また、蒸着あるいはスパッタリング後に酸素、窒
素雰囲気下で層を酸化あるいは窒化することにより目的
の層を得ることもできる。また、含フッ素ポリマーのス
パッタリング、あるいは in situでのポリマー
重合によるコーティングも有効である。ただし、含フッ
素ポリマーを用いると上下層との密着性が悪化するた
め、実際の使用には適さず、低屈折率素材としてはMg
F2 が好ましく用いられる。
【0015】波長が500乃至550nmの範囲の吸収
は特にシャープである必要はないため、上記の方法のほ
か染料による吸収で付与することも可能である。500
乃至550nmの範囲に吸収を持つ染料としては、スク
アリリウム系、アゾメチン系、シアニン系、オキソノー
ル系、アゾ系、ベンジリデン系、キサンテン系、または
メロシアニン系の化合物が好ましく用いられる。波長が
500乃至550nmの範囲に吸収極大を持つ染料の具
体例を以下に示すが、これに限定されない。
は特にシャープである必要はないため、上記の方法のほ
か染料による吸収で付与することも可能である。500
乃至550nmの範囲に吸収を持つ染料としては、スク
アリリウム系、アゾメチン系、シアニン系、オキソノー
ル系、アゾ系、ベンジリデン系、キサンテン系、または
メロシアニン系の化合物が好ましく用いられる。波長が
500乃至550nmの範囲に吸収極大を持つ染料の具
体例を以下に示すが、これに限定されない。
【0016】
【化1】
【0017】
【化2】
【0018】
【化3】
【0019】
【化4】
【0020】
【化5】
【0021】
【化6】
【0022】
【化7】
【0023】
【化8】
【0024】
【化9】
【0025】
【化10】
【0026】
【化11】
【0027】上記色素を用いて500乃至550nmの
吸収を付与する場合、フィルター層は、色素単独でも形
成可能だが、色素の安定性および反射率特性の制御のた
めポリマーバインダーを含むことができる。
吸収を付与する場合、フィルター層は、色素単独でも形
成可能だが、色素の安定性および反射率特性の制御のた
めポリマーバインダーを含むことができる。
【0028】本発明のマトリクスとしてはゼラチンが好
ましいが、そのほかにアクリル系、ウレタン系、SBR
系、オレフィン系、塩化ビニリデン系、酢酸ビニル系、
ポリエステル系、またはこれらの共重合体が好ましく用
いられる。ポリマーとしては直鎖のポリマーでも枝分か
れしたポリマーでも、また架橋されたポリマーでも良
い。またポリマーとしては単一のモノマーが重合したい
わゆるホモポリマーでも良いし、2種以上のモノマーが
重合したコポリマーでも良い。コポリマーの場合はラン
ダムコポリマーでもブロックコポリマーでも良い。ポリ
マーの分子量は数平均分子量で5000〜1000000、好まし
くは10000〜100000程度が好ましい。分子量が小さすぎ
るものは膜強度が不十分であり、大きすぎるものは製膜
性が悪く好ましくない。
ましいが、そのほかにアクリル系、ウレタン系、SBR
系、オレフィン系、塩化ビニリデン系、酢酸ビニル系、
ポリエステル系、またはこれらの共重合体が好ましく用
いられる。ポリマーとしては直鎖のポリマーでも枝分か
れしたポリマーでも、また架橋されたポリマーでも良
い。またポリマーとしては単一のモノマーが重合したい
わゆるホモポリマーでも良いし、2種以上のモノマーが
重合したコポリマーでも良い。コポリマーの場合はラン
ダムコポリマーでもブロックコポリマーでも良い。ポリ
マーの分子量は数平均分子量で5000〜1000000、好まし
くは10000〜100000程度が好ましい。分子量が小さすぎ
るものは膜強度が不十分であり、大きすぎるものは製膜
性が悪く好ましくない。
【0029】本発明で使用できる高分子ラテックスの具
体例としては以下のようなものがある。メチルメタクリ
レート/エチルアクリレート/メタクリル酸コポリマー
のラテックス、メチルメタクリレート/2-エチルヘキシ
ルアクリレート/スチレン/アクリル酸コポリマーのラ
テックス、スチレン/ブタジエン/アクリル酸コポリマ
ーのラテックス、スチレン/ブタジエン/ジビニルベン
ゼン/メタクリル酸コポリマーのラテックス、メチルメ
タクリレート/塩化ビニル/アクリル酸コポリマーのラ
テックス、塩化ビニリデン/エチルアクリレート/アク
リロニトリル/メタクリル酸コポリマーのラテックスな
ど。また、このようなポリマーは市販もされていて、以
下のようなポリマーが利用できる。
体例としては以下のようなものがある。メチルメタクリ
レート/エチルアクリレート/メタクリル酸コポリマー
のラテックス、メチルメタクリレート/2-エチルヘキシ
ルアクリレート/スチレン/アクリル酸コポリマーのラ
テックス、スチレン/ブタジエン/アクリル酸コポリマ
ーのラテックス、スチレン/ブタジエン/ジビニルベン
ゼン/メタクリル酸コポリマーのラテックス、メチルメ
タクリレート/塩化ビニル/アクリル酸コポリマーのラ
テックス、塩化ビニリデン/エチルアクリレート/アク
リロニトリル/メタクリル酸コポリマーのラテックスな
ど。また、このようなポリマーは市販もされていて、以
下のようなポリマーが利用できる。
【0030】フイルター層に、褪色防止剤を添加しても
よい。染料の安定化剤として機能する褪色防止剤の例に
は、ハイドロキノン誘導体(米国特許3935016
号、同3982944号の各明細書記載)、ハイドロキ
ノンジエーテル誘導体(米国特許4254216号明細
書および特開昭55−21004号公報記載)、フェノ
ール誘導体(特開昭54−145530号公報記載)、
スピロインダンまたはメチレンジオキシベンゼンの誘導
体(英国特許公開2077455号、同2062888
号の各明細書および特開昭61−90155号公報記
載)、クロマン、スピロクロマンまたはクマランの誘導
体(米国特許3432300号、同3573050号、
同3574627号、同3764337号の各明細書お
よび特開昭52−152225号、同53−20327
号、同53−17729号、同61−90156号の各
公報記載)、ハイドロキノンモノエーテルまたはパラア
ミノフェノールの誘導体(英国特許1347556号、
同2066975号の各明細書および特公昭54−12
337号、特開昭55−6321号の各公報記載)およ
びビスフェノール誘導体(米国特許3700455号明
細書および特公昭48−31625号公報記載)が含ま
れる。
よい。染料の安定化剤として機能する褪色防止剤の例に
は、ハイドロキノン誘導体(米国特許3935016
号、同3982944号の各明細書記載)、ハイドロキ
ノンジエーテル誘導体(米国特許4254216号明細
書および特開昭55−21004号公報記載)、フェノ
ール誘導体(特開昭54−145530号公報記載)、
スピロインダンまたはメチレンジオキシベンゼンの誘導
体(英国特許公開2077455号、同2062888
号の各明細書および特開昭61−90155号公報記
載)、クロマン、スピロクロマンまたはクマランの誘導
体(米国特許3432300号、同3573050号、
同3574627号、同3764337号の各明細書お
よび特開昭52−152225号、同53−20327
号、同53−17729号、同61−90156号の各
公報記載)、ハイドロキノンモノエーテルまたはパラア
ミノフェノールの誘導体(英国特許1347556号、
同2066975号の各明細書および特公昭54−12
337号、特開昭55−6321号の各公報記載)およ
びビスフェノール誘導体(米国特許3700455号明
細書および特公昭48−31625号公報記載)が含ま
れる。
【0031】光あるいは熱に対する色素の安定性を向上
させるため、金属錯体(米国特許4245018号明細
書および特開昭60−97353号公報記載)を褪色防
止剤として用いてもよい。さらに色素の耐光性を改良す
るために、一重項酸素クエンチャーを褪色防止剤として
用いてもよい。一重項酸素クエンチャーの例には、ニト
ロソ化合物(特開平2−300288号公報記載)、ジ
インモニウム化合物(米国特許465612号明細書記
載)、ニッケル錯体(特開平4−146189号公報記
載)および酸化防止剤(欧州特許公開820057A1
号明細書記載)が含まれる。
させるため、金属錯体(米国特許4245018号明細
書および特開昭60−97353号公報記載)を褪色防
止剤として用いてもよい。さらに色素の耐光性を改良す
るために、一重項酸素クエンチャーを褪色防止剤として
用いてもよい。一重項酸素クエンチャーの例には、ニト
ロソ化合物(特開平2−300288号公報記載)、ジ
インモニウム化合物(米国特許465612号明細書記
載)、ニッケル錯体(特開平4−146189号公報記
載)および酸化防止剤(欧州特許公開820057A1
号明細書記載)が含まれる。
【0032】(下塗り層)透明支持体とフィルター層と
の間に、下塗り層を設けることもできる。下塗り層は、
ガラス転移温度が25℃以下のポリマーを含む層、フィ
ルター層側の表面が粗面である層またはフィルター層の
ポリマーと親和性を有するポリマーを含む層として形成
する。なお、フィルター層が設けられていない透明支持
体の面に下塗り層を設けて、透明支持体とその上に設け
られる層(例えば、反射防止層、ハードコート層)との
接着力を改善してもよい。また、下塗り層は、光学フィ
ルターと画像形成装置とを接着するための接着剤と光学
フィルターとの親和性を改善するために設けてもよい。
下塗り層の厚みは、20nm乃至1000nmが好まし
く、80nm乃至300nmがより好ましい。ガラス転
移温度が25℃以下のポリマーを含む下塗り層は、ポリ
マーの粘着性で、透明支持体とフィルター層とを接着す
る。ガラス転移温度が25℃以下のポリマーは、塩化ビ
ニル、塩化ビニリデン、酢酸ビニル、ブタジエン、ネオ
プレン、スチレン、クロロプレン、アクリル酸エステ
ル、メタクリル酸エステル、アクリロニトリルまたはメ
チルビニルエーテルの重合または共重合により得ること
ができる。ガラス転移温度は、20℃以下であることが
好ましく、15℃以下であることがより好ましく、10
℃以下であることがさらに好ましく、5℃以下であるこ
とがさらにまた好ましく、0℃以下であることが最も好
ましい。表面が粗面である下塗り層は、粗面の上にフィ
ルター層を形成することで、透明支持体とフィルター層
とを接着する。表面が粗面である下塗り層は、高分子ラ
テックスの塗布により容易に形成することができる。ラ
テックスの平均粒径は、0.02乃至3μmであること
が好ましく、0.05乃至1μmであることがさらに好
ましい。フィルター層のバインダーポリマーと親和性を
有するポリマーの例には、アクリル樹脂、セルロース誘
導体、ゼラチン、カゼイン、でんぷん、ポリビニルアル
コール、可溶性ナイロンおよび高分子ラテックスが含ま
れる。二以上の下塗り層を設けてもよい。下塗り層に
は、透明支持体を膨潤させる溶剤、マット剤、界面活性
剤、帯電防止剤、塗布助剤や硬膜剤を添加してもよい。
の間に、下塗り層を設けることもできる。下塗り層は、
ガラス転移温度が25℃以下のポリマーを含む層、フィ
ルター層側の表面が粗面である層またはフィルター層の
ポリマーと親和性を有するポリマーを含む層として形成
する。なお、フィルター層が設けられていない透明支持
体の面に下塗り層を設けて、透明支持体とその上に設け
られる層(例えば、反射防止層、ハードコート層)との
接着力を改善してもよい。また、下塗り層は、光学フィ
ルターと画像形成装置とを接着するための接着剤と光学
フィルターとの親和性を改善するために設けてもよい。
下塗り層の厚みは、20nm乃至1000nmが好まし
く、80nm乃至300nmがより好ましい。ガラス転
移温度が25℃以下のポリマーを含む下塗り層は、ポリ
マーの粘着性で、透明支持体とフィルター層とを接着す
る。ガラス転移温度が25℃以下のポリマーは、塩化ビ
ニル、塩化ビニリデン、酢酸ビニル、ブタジエン、ネオ
プレン、スチレン、クロロプレン、アクリル酸エステ
ル、メタクリル酸エステル、アクリロニトリルまたはメ
チルビニルエーテルの重合または共重合により得ること
ができる。ガラス転移温度は、20℃以下であることが
好ましく、15℃以下であることがより好ましく、10
℃以下であることがさらに好ましく、5℃以下であるこ
とがさらにまた好ましく、0℃以下であることが最も好
ましい。表面が粗面である下塗り層は、粗面の上にフィ
ルター層を形成することで、透明支持体とフィルター層
とを接着する。表面が粗面である下塗り層は、高分子ラ
テックスの塗布により容易に形成することができる。ラ
テックスの平均粒径は、0.02乃至3μmであること
が好ましく、0.05乃至1μmであることがさらに好
ましい。フィルター層のバインダーポリマーと親和性を
有するポリマーの例には、アクリル樹脂、セルロース誘
導体、ゼラチン、カゼイン、でんぷん、ポリビニルアル
コール、可溶性ナイロンおよび高分子ラテックスが含ま
れる。二以上の下塗り層を設けてもよい。下塗り層に
は、透明支持体を膨潤させる溶剤、マット剤、界面活性
剤、帯電防止剤、塗布助剤や硬膜剤を添加してもよい。
【0033】(反射防止層)光学フィルターに反射防止
層を設けて、光学フィルターに反射防止機能を付与して
もよい。反射防止層としては、低屈折率層が必須であ
る。低屈折率層の屈折率は、上記透明支持体の屈折率よ
りも低い。低屈折率層の屈折率は、1.20乃至1.5
5であることが好ましく、1.30乃至1.55である
ことがさらに好ましい。低屈折率層の厚さは、50乃至
400nmであることが好ましく、50乃至200nm
であることがさらに好ましい。低屈折率層は、屈折率の
低い含フッ素ポリマーからなる層(特開昭57−345
26号、特開平3−130103号、同6−11502
3号、同8−313702号、同7−168004号の
各公報記載)、ゾルゲル法により得られる層(特開平5
−208811号、同6−299091号、同7−16
8003号の各公報記載)、あるいは微粒子含む層(特
公昭60−59250号、特開平5−13021号、同
6−56478号、同7−92306号、同9−288
201号の各公報に記載)として形成することができ
る。微粒子を含む層では、微粒子間または微粒子内のミ
クロボイドとして、低屈折率層に空隙を形成することが
できる。微粒子を含む層は、3乃至50体積%の空隙率
を有することが好ましく、5乃至35体積%の空隙率を
有することがさらに好ましい。
層を設けて、光学フィルターに反射防止機能を付与して
もよい。反射防止層としては、低屈折率層が必須であ
る。低屈折率層の屈折率は、上記透明支持体の屈折率よ
りも低い。低屈折率層の屈折率は、1.20乃至1.5
5であることが好ましく、1.30乃至1.55である
ことがさらに好ましい。低屈折率層の厚さは、50乃至
400nmであることが好ましく、50乃至200nm
であることがさらに好ましい。低屈折率層は、屈折率の
低い含フッ素ポリマーからなる層(特開昭57−345
26号、特開平3−130103号、同6−11502
3号、同8−313702号、同7−168004号の
各公報記載)、ゾルゲル法により得られる層(特開平5
−208811号、同6−299091号、同7−16
8003号の各公報記載)、あるいは微粒子含む層(特
公昭60−59250号、特開平5−13021号、同
6−56478号、同7−92306号、同9−288
201号の各公報に記載)として形成することができ
る。微粒子を含む層では、微粒子間または微粒子内のミ
クロボイドとして、低屈折率層に空隙を形成することが
できる。微粒子を含む層は、3乃至50体積%の空隙率
を有することが好ましく、5乃至35体積%の空隙率を
有することがさらに好ましい。
【0034】広い波長領域の反射を防止するためには、
低屈折率層に加えて、屈折率の高い層(中・高屈折率
層)を積層することが好ましい。高屈折率層の屈折率
は、1.65乃至2.40であることが好ましく、1.
70乃至2.20であることがさらに好ましい。中屈折
率層の屈折率は、低屈折率層の屈折率と高屈折率層の屈
折率との中間の値となるように調整する。中屈折率層の
屈折率は、1.55乃至1.70であることが好まし
い。中・高屈折率層の厚さは、5nm乃至100μmで
あることが好ましく、10nm乃至10μmであること
がさらに好ましく、30nm乃至1μmであることが最
も好ましい。中・高屈折率層のヘイズは、5%以下であ
ることが好ましく、3%以下であることがさらに好まし
く、1%以下であることが最も好ましい。中・高屈折率
層は、比較的高い屈折率を有するポリマーバインダーを
用いて形成することができる。屈折率が高いポリマーの
例には、ポリスチレン、スチレン共重合体、ポリカーボ
ネート、メラミン樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂
および環状(脂環式または芳香族)イソシアネートとポ
リオールとの反応で得られるポリウレタンが含まれる。
その他の環状(芳香族、複素環式、脂環式)基を有する
ポリマーや、フッ素以外のハロゲン原子を置換基として
有するポリマーも、屈折率が高い。二重結合を導入して
ラジカル硬化を可能にしたモノマーの重合反応によりポ
リマーを形成してもよい。
低屈折率層に加えて、屈折率の高い層(中・高屈折率
層)を積層することが好ましい。高屈折率層の屈折率
は、1.65乃至2.40であることが好ましく、1.
70乃至2.20であることがさらに好ましい。中屈折
率層の屈折率は、低屈折率層の屈折率と高屈折率層の屈
折率との中間の値となるように調整する。中屈折率層の
屈折率は、1.55乃至1.70であることが好まし
い。中・高屈折率層の厚さは、5nm乃至100μmで
あることが好ましく、10nm乃至10μmであること
がさらに好ましく、30nm乃至1μmであることが最
も好ましい。中・高屈折率層のヘイズは、5%以下であ
ることが好ましく、3%以下であることがさらに好まし
く、1%以下であることが最も好ましい。中・高屈折率
層は、比較的高い屈折率を有するポリマーバインダーを
用いて形成することができる。屈折率が高いポリマーの
例には、ポリスチレン、スチレン共重合体、ポリカーボ
ネート、メラミン樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂
および環状(脂環式または芳香族)イソシアネートとポ
リオールとの反応で得られるポリウレタンが含まれる。
その他の環状(芳香族、複素環式、脂環式)基を有する
ポリマーや、フッ素以外のハロゲン原子を置換基として
有するポリマーも、屈折率が高い。二重結合を導入して
ラジカル硬化を可能にしたモノマーの重合反応によりポ
リマーを形成してもよい。
【0035】さらに高い屈折率を得るため、ポリマーバ
インダー中に無機微粒子を分散してもよい。無機微粒子
の屈折率は、1.80乃至2.80であることが好まし
い。無機微粒子は、金属の酸化物または硫化物から形成
することが好ましい。金属の酸化物または硫化物の例に
は、二酸化チタン(例、ルチル、ルチル/アナターゼの
混晶、アナターゼ、アモルファス構造)、酸化錫、酸化
インジウム、酸化亜鉛、酸化ジルコニウムおよび硫化亜
鉛が含まれる。酸化チタン、酸化錫および酸化インジウ
ムが特に好ましい。無機微粒子は、これらの金属の酸化
物または硫化物を主成分とし、さらに他の元素を含むこ
とができる。主成分とは、粒子を構成する成分の中で最
も含有量(重量%)が多い成分を意味する。他の元素の
例には、Ti、Zr、Sn、Sb、Cu、Fe、Mn、
Pb、Cd、As、Cr、Hg、Zn、Al、Mg、S
i、PおよびSが含まれる。被膜形成性で溶剤に分散し
得るか、それ自身が液状である無機材料、例えば、各種
元素のアルコキシド、有機酸の塩、配位性化合物と結合
した配位化合物(例、キレート化合物)、活性無機ポリ
マーを用いて、中・高屈折率層を形成することもでき
る。
インダー中に無機微粒子を分散してもよい。無機微粒子
の屈折率は、1.80乃至2.80であることが好まし
い。無機微粒子は、金属の酸化物または硫化物から形成
することが好ましい。金属の酸化物または硫化物の例に
は、二酸化チタン(例、ルチル、ルチル/アナターゼの
混晶、アナターゼ、アモルファス構造)、酸化錫、酸化
インジウム、酸化亜鉛、酸化ジルコニウムおよび硫化亜
鉛が含まれる。酸化チタン、酸化錫および酸化インジウ
ムが特に好ましい。無機微粒子は、これらの金属の酸化
物または硫化物を主成分とし、さらに他の元素を含むこ
とができる。主成分とは、粒子を構成する成分の中で最
も含有量(重量%)が多い成分を意味する。他の元素の
例には、Ti、Zr、Sn、Sb、Cu、Fe、Mn、
Pb、Cd、As、Cr、Hg、Zn、Al、Mg、S
i、PおよびSが含まれる。被膜形成性で溶剤に分散し
得るか、それ自身が液状である無機材料、例えば、各種
元素のアルコキシド、有機酸の塩、配位性化合物と結合
した配位化合物(例、キレート化合物)、活性無機ポリ
マーを用いて、中・高屈折率層を形成することもでき
る。
【0036】反射防止層は、表面をアンチグレア機能
(入射光を表面で散乱させて、膜周囲の景色が膜表面に
移るのを防止する機能)を付与することができる。例え
ば、透明フィルムの表面に微細な凹凸を形成し、そして
その表面に反射防止層を形成するか、あるいは反射防止
層を形成後、エンボスロールにより表面に凹凸を形成す
ることにより、アンチグレア機能を得ることができる。
アンチグレア機能を有する反射防止層は、一般に3乃至
30%のヘイズを有する。
(入射光を表面で散乱させて、膜周囲の景色が膜表面に
移るのを防止する機能)を付与することができる。例え
ば、透明フィルムの表面に微細な凹凸を形成し、そして
その表面に反射防止層を形成するか、あるいは反射防止
層を形成後、エンボスロールにより表面に凹凸を形成す
ることにより、アンチグレア機能を得ることができる。
アンチグレア機能を有する反射防止層は、一般に3乃至
30%のヘイズを有する。
【0037】(その他の層)光学フィルターには、ハー
ドコート層、潤滑層、帯電防止層あるいは中間層を設け
ることもできる。ハードコート層は、架橋しているポリ
マーを含むことが好ましい。ハードコート層は、アクリ
ル系、ウレタン系、エポキシ系のポリマー、オリゴマー
またはモノマー(例、紫外線硬化型樹脂)を用いて形成
することができる。シリカ系材料からハードコート層を
形成することもできる。反射防止層(低屈折率層)の表
面に潤滑層を形成してもよい。潤滑層は、低屈折率層表
面に滑り性を付与し、耐傷性を改善する機能を有する。
潤滑層は、ポリオルガノシロキサン(例、シリコンオイ
ル)、天然ワックス、石油ワックス、高級脂肪酸金属
塩、フッ素系潤滑剤またはその誘導体を用いて形成する
ことができる。潤滑層の厚さは、2乃至20nmである
ことが好ましい。
ドコート層、潤滑層、帯電防止層あるいは中間層を設け
ることもできる。ハードコート層は、架橋しているポリ
マーを含むことが好ましい。ハードコート層は、アクリ
ル系、ウレタン系、エポキシ系のポリマー、オリゴマー
またはモノマー(例、紫外線硬化型樹脂)を用いて形成
することができる。シリカ系材料からハードコート層を
形成することもできる。反射防止層(低屈折率層)の表
面に潤滑層を形成してもよい。潤滑層は、低屈折率層表
面に滑り性を付与し、耐傷性を改善する機能を有する。
潤滑層は、ポリオルガノシロキサン(例、シリコンオイ
ル)、天然ワックス、石油ワックス、高級脂肪酸金属
塩、フッ素系潤滑剤またはその誘導体を用いて形成する
ことができる。潤滑層の厚さは、2乃至20nmである
ことが好ましい。
【0038】フィルター層(蒸着、スパッタリング、紡
糸法等による場合を除く)、下塗り層、反射防止層(中
屈折率層、高屈折率層、低屈折率層)、ハードコート
層、潤滑層、その他の層は、一般的な塗布方法により形
成することができる。塗布方法の例には、ディップコー
ト法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ロー
ラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート
法およびホッパーを使用するエクストルージョンコート
法(米国特許2681294号明細書記載)が含まれ
る。二以上の層を同時塗布により形成してもよい。同時
塗布法については、米国特許2761791号、同29
41898号、同3508947号、同3526528
号の各明細書および原崎勇次著「コーティング工学」2
53頁(1973年朝倉書店発行)に記載がある。
糸法等による場合を除く)、下塗り層、反射防止層(中
屈折率層、高屈折率層、低屈折率層)、ハードコート
層、潤滑層、その他の層は、一般的な塗布方法により形
成することができる。塗布方法の例には、ディップコー
ト法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ロー
ラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート
法およびホッパーを使用するエクストルージョンコート
法(米国特許2681294号明細書記載)が含まれ
る。二以上の層を同時塗布により形成してもよい。同時
塗布法については、米国特許2761791号、同29
41898号、同3508947号、同3526528
号の各明細書および原崎勇次著「コーティング工学」2
53頁(1973年朝倉書店発行)に記載がある。
【0039】(光学フィルターの用途)光学フィルター
は、液晶表示装置(LCD)、プラズマディスプレイパ
ネル(PDP)、エレクトロルミネッセンスディスプレ
イ(ELD)や陰極管表示装置(CRT)のような画像
表示装置に適用する。低屈折率層を設ける場合は、低屈
折率層が設けられていない側の面が画像表示装置の画像
表示面と対向するように配置する。本発明の光学フィル
ターは、プラズマディスプレイパネル(PDP)のフィ
ルターとして使用すると、特に顕著な効果が得られる。
プラズマディスプレイパネル(PDP)は、ガス、ガラ
ス基板、電極、電極リード材料、厚膜印刷材料および蛍
光体により構成される。ガラス基板は、前面ガラス基板
と後面ガラス基板の二枚である。二枚のガラス基板には
電極と絶縁層を形成する。後面ガラス基板には、さらに
蛍光体層を形成する。二枚のガラス基板を組み立てて、
その間にガスを封入する。このプラズマディスプレイパ
ネルはPDPモジュールとも呼ばれる。プラズマディス
プレイパネル(PDP)は、既に市販されている。プラ
ズマディスプレイパネルについては、特開平5−205
643号、同9−306366号の各公報に記載があ
る。本発明で言う前面板とはこのプラズマディスプレイ
パネルの前面に設置され筐体に組み込まれた透明な板で
あり、”光学フィルター”と呼ばれることもある。
は、液晶表示装置(LCD)、プラズマディスプレイパ
ネル(PDP)、エレクトロルミネッセンスディスプレ
イ(ELD)や陰極管表示装置(CRT)のような画像
表示装置に適用する。低屈折率層を設ける場合は、低屈
折率層が設けられていない側の面が画像表示装置の画像
表示面と対向するように配置する。本発明の光学フィル
ターは、プラズマディスプレイパネル(PDP)のフィ
ルターとして使用すると、特に顕著な効果が得られる。
プラズマディスプレイパネル(PDP)は、ガス、ガラ
ス基板、電極、電極リード材料、厚膜印刷材料および蛍
光体により構成される。ガラス基板は、前面ガラス基板
と後面ガラス基板の二枚である。二枚のガラス基板には
電極と絶縁層を形成する。後面ガラス基板には、さらに
蛍光体層を形成する。二枚のガラス基板を組み立てて、
その間にガスを封入する。このプラズマディスプレイパ
ネルはPDPモジュールとも呼ばれる。プラズマディス
プレイパネル(PDP)は、既に市販されている。プラ
ズマディスプレイパネルについては、特開平5−205
643号、同9−306366号の各公報に記載があ
る。本発明で言う前面板とはこのプラズマディスプレイ
パネルの前面に設置され筐体に組み込まれた透明な板で
あり、”光学フィルター”と呼ばれることもある。
【0040】
【実施例】実施例1 (多層干渉膜の形成)厚さ100μmの透明なポリエチ
レンテレフタレートフイルムの両面をコロナ処理した
後、真空蒸着法を用いて酸化チタン薄膜と酸化アルミニ
ウム薄膜を交互に積層して、選択反射性を有する透明膜
を形成した。この反射膜の層構成は以下の通りである。
レンテレフタレートフイルムの両面をコロナ処理した
後、真空蒸着法を用いて酸化チタン薄膜と酸化アルミニ
ウム薄膜を交互に積層して、選択反射性を有する透明膜
を形成した。この反射膜の層構成は以下の通りである。
【0041】酸化チタン(94nm)/酸化アルミニウ
ム(112nm)/酸化チタン(75nm)/酸化アル
ミニウム(112nm)/酸化チタン(75nm)/酸
化アルミニウム(112nm)/酸化チタン(75n
m)/酸化アルミニウム(112nm)/酸化チタン
(75nm)/酸化アルミニウム(112nm)/酸化
チタン(75nm)/酸化アルミニウム(112nm)
/酸化チタン(94nm)/酸化アルミニウム(112
nm)/ポリエチレンテレフタレートフィルム
ム(112nm)/酸化チタン(75nm)/酸化アル
ミニウム(112nm)/酸化チタン(75nm)/酸
化アルミニウム(112nm)/酸化チタン(75n
m)/酸化アルミニウム(112nm)/酸化チタン
(75nm)/酸化アルミニウム(112nm)/酸化
チタン(75nm)/酸化アルミニウム(112nm)
/酸化チタン(94nm)/酸化アルミニウム(112
nm)/ポリエチレンテレフタレートフィルム
【0042】光学フィルターの分光透過率を調べたとこ
ろ、590nmに吸収極大を有し、吸収極大での透過率
は25%であり、吸収極大波長での半値幅は37nmで
あった。
ろ、590nmに吸収極大を有し、吸収極大での透過率
は25%であり、吸収極大波長での半値幅は37nmで
あった。
【0043】実施例2 (多層干渉膜の形成)厚さ100μmの透明なポリエチ
レンテレフタレートフイルムの両面をコロナ処理した
後、真空蒸着法を用いて酸化チタン薄膜と酸化アルミニ
ウム薄膜を交互に積層して、選択反射性を有する透明膜
を形成した。この膜上に中間層としてポリビニルアルコ
ールを厚みが1.0μmになるように塗布し、再度真空
蒸着法により酸化チタンと酸化アルミニウムを交互に積
層して、目的の選択反射性を有する透明膜を形成した。
作成した膜の層構成を以下に示す。
レンテレフタレートフイルムの両面をコロナ処理した
後、真空蒸着法を用いて酸化チタン薄膜と酸化アルミニ
ウム薄膜を交互に積層して、選択反射性を有する透明膜
を形成した。この膜上に中間層としてポリビニルアルコ
ールを厚みが1.0μmになるように塗布し、再度真空
蒸着法により酸化チタンと酸化アルミニウムを交互に積
層して、目的の選択反射性を有する透明膜を形成した。
作成した膜の層構成を以下に示す。
【0044】二酸化ケイ素(161nm)/酸化アルミ
ニウム(112nm)/二酸化ケイ素(161nm)/
酸化アルミニウム(112nm)/二酸化ケイ素(16
1nm)/酸化アルミニウム(112nm)/二酸化ケ
イ素(161nm)/酸化アルミニウム(112nm)
/二酸化ケイ素(161nm)/酸化アルミニウム(1
12nm)/ポリビニルアルコール層(1.0μm)/
酸化チタン(80nm)/二酸化ケイ素(35nm)/
酸化チタン(105nm)/二酸化ケイ素(35nm)
/酸化チタン(105nm)/二酸化ケイ素(35n
m)/酸化チタン(180nm)/ポリエチレンテレフ
タレートフィルム
ニウム(112nm)/二酸化ケイ素(161nm)/
酸化アルミニウム(112nm)/二酸化ケイ素(16
1nm)/酸化アルミニウム(112nm)/二酸化ケ
イ素(161nm)/酸化アルミニウム(112nm)
/二酸化ケイ素(161nm)/酸化アルミニウム(1
12nm)/ポリビニルアルコール層(1.0μm)/
酸化チタン(80nm)/二酸化ケイ素(35nm)/
酸化チタン(105nm)/二酸化ケイ素(35nm)
/酸化チタン(105nm)/二酸化ケイ素(35n
m)/酸化チタン(180nm)/ポリエチレンテレフ
タレートフィルム
【0045】光学フィルターの分光透過率を調べたとこ
ろ、530nmと591nmに吸収極大を有し、吸収極
大での透過率は、530nmの吸収極大が69%、59
3nmの吸収極大が30%であった。また、591nm
の吸収極大波長における半値幅は47nmであった。
ろ、530nmと591nmに吸収極大を有し、吸収極
大での透過率は、530nmの吸収極大が69%、59
3nmの吸収極大が30%であった。また、591nm
の吸収極大波長における半値幅は47nmであった。
【0046】実施例3 (下塗り層の形成)厚さ100μmの透明なポリエチレ
ンテレフタレートフィルムの両面をコロナ処理した後、
片面にスチレンーブタジエンコポリマーからなるラテッ
クスを厚さ130nmとなるよう塗布し、下塗り層を形
成した。
ンテレフタレートフィルムの両面をコロナ処理した後、
片面にスチレンーブタジエンコポリマーからなるラテッ
クスを厚さ130nmとなるよう塗布し、下塗り層を形
成した。
【0047】(第2下塗り層の形成)下塗り層の上に、
酢酸とグルタルアルデヒドを含むゼラチン水溶液を、厚
さ50nmとなるよう塗布し、第2下塗り層を形成し
た。
酢酸とグルタルアルデヒドを含むゼラチン水溶液を、厚
さ50nmとなるよう塗布し、第2下塗り層を形成し
た。
【0048】(低屈折率層の形成)反応性フッ素ポリマ
ー(JN−7219、日本合成ゴム(株)製)2.50
gにt−ブタノール1.3gを加え、室温で10分間攪
拌し、1μmのポリプロピレンフィルターで濾過した。
得られた低屈折率層用塗布液を、透明支持体の下塗り面
とは反対側の面に、バーコーターを用いて乾燥膜厚が1
10nmとなるように塗布し、120℃で30分間乾燥
して硬化させ低屈折率層を形成した。
ー(JN−7219、日本合成ゴム(株)製)2.50
gにt−ブタノール1.3gを加え、室温で10分間攪
拌し、1μmのポリプロピレンフィルターで濾過した。
得られた低屈折率層用塗布液を、透明支持体の下塗り面
とは反対側の面に、バーコーターを用いて乾燥膜厚が1
10nmとなるように塗布し、120℃で30分間乾燥
して硬化させ低屈折率層を形成した。
【0049】(フィルター層の形成)ポリメタクリル酸
ブチルのラテックス(10重量%分散液)180gに、
およびポリメタクリル酸ブチルのラテックス(10重量
%分散液)180gに二酸化チタン微粒子を混合して塗
膜の屈折率がそれぞれ1.51、1.62となるように
調整した。得られたフィルター層用塗布液を、第2下塗
り層の上に、交互に計8層塗布して、120℃で10分
間乾燥してフィルター層の一部を形成した。更にゼラチ
ンの10重量%分散液180gに、染料(a1)0.0
6gを溶解させ、40℃で30分間攪拌した後、2μm
のポリプロピレンフィルターで濾過した。得られたフィ
ルター層用塗布液を、第2下塗り層の上に、乾燥膜厚が
3.5μmとなるように塗布し、120℃で10分間乾
燥してフィルター層を形成し、光学フィルターを作成し
た。得られたフィルターの層構成を以下に示す。
ブチルのラテックス(10重量%分散液)180gに、
およびポリメタクリル酸ブチルのラテックス(10重量
%分散液)180gに二酸化チタン微粒子を混合して塗
膜の屈折率がそれぞれ1.51、1.62となるように
調整した。得られたフィルター層用塗布液を、第2下塗
り層の上に、交互に計8層塗布して、120℃で10分
間乾燥してフィルター層の一部を形成した。更にゼラチ
ンの10重量%分散液180gに、染料(a1)0.0
6gを溶解させ、40℃で30分間攪拌した後、2μm
のポリプロピレンフィルターで濾過した。得られたフィ
ルター層用塗布液を、第2下塗り層の上に、乾燥膜厚が
3.5μmとなるように塗布し、120℃で10分間乾
燥してフィルター層を形成し、光学フィルターを作成し
た。得られたフィルターの層構成を以下に示す。
【0050】色素混合ゼラチン層(3.5μm)/ポリ
メタクリル酸ブチルのラテックス(201nm、a1
層)/二酸化チタン粒子混合ポリメタクリル酸ブチルラ
テックス層(180nm、a2層)/a1層(201n
m)/a2層(180nm)/a1層(201nm)/
a2層(180nm)/a1層(201nm)/a2層
(180nm)/下塗り層/ポリエチレンテレフタレー
トフィルム/反射防止層
メタクリル酸ブチルのラテックス(201nm、a1
層)/二酸化チタン粒子混合ポリメタクリル酸ブチルラ
テックス層(180nm、a2層)/a1層(201n
m)/a2層(180nm)/a1層(201nm)/
a2層(180nm)/a1層(201nm)/a2層
(180nm)/下塗り層/ポリエチレンテレフタレー
トフィルム/反射防止層
【0051】光学フィルターの分光透過率を調べたとこ
ろ、530nmと593nmに吸収極大を有し、吸収極
大での透過率は、530nmの吸収極大が70%、59
3nmの吸収極大が25%であった。また、593nm
における吸収の半値幅は50nmであった。
ろ、530nmと593nmに吸収極大を有し、吸収極
大での透過率は、530nmの吸収極大が70%、59
3nmの吸収極大が25%であった。また、593nm
における吸収の半値幅は50nmであった。
【0052】比較例1 (フィルター層の形成)部分加水分解したポリ酢酸ビニ
ル6.0gをイソプロピルアルコール:水=1:1(重
量)160gに溶解し、市販の染料(ホスパタームピン
クE)6.0gおよび染料(a1)0.05gを溶解さ
せ、40℃で20分間攪拌した後、2μmのポリプロピ
レンフィルターで濾過した。得られたフィルター層用塗
布液を、第2下塗り層の上に、乾燥膜厚が3.5μmと
なるように塗布し、120℃で10分間乾燥してフィル
ター層を形成し、光学フィルターを作成した。
ル6.0gをイソプロピルアルコール:水=1:1(重
量)160gに溶解し、市販の染料(ホスパタームピン
クE)6.0gおよび染料(a1)0.05gを溶解さ
せ、40℃で20分間攪拌した後、2μmのポリプロピ
レンフィルターで濾過した。得られたフィルター層用塗
布液を、第2下塗り層の上に、乾燥膜厚が3.5μmと
なるように塗布し、120℃で10分間乾燥してフィル
ター層を形成し、光学フィルターを作成した。
【0053】光学フィルターの分光透過率を調べたとこ
ろ、530nmと570nmに吸収極大を有し、吸収極
大での透過率は、530nmの吸収極大が69%、57
0nmの吸収極大が65%であった。
ろ、530nmと570nmに吸収極大を有し、吸収極
大での透過率は、530nmの吸収極大が69%、57
0nmの吸収極大が65%であった。
【0054】(フィルター機能の評価)プラズマディス
プレイパネル(PDS4202J−H、富士通(株)
製)の前面板の最表面のフイルムを剥がし、その代わり
に実施例1、2および比較例1で作成した光学フィルタ
ー(低屈折率層が設けられていない側の面)を接着剤で
貼り付けた。表示される画像について、コントラスト、
輝度(実施例1に対する相対値)の測定および目視によ
る白色光と赤色光の評価を行った。結果を第1表、第2
表に示す。
プレイパネル(PDS4202J−H、富士通(株)
製)の前面板の最表面のフイルムを剥がし、その代わり
に実施例1、2および比較例1で作成した光学フィルタ
ー(低屈折率層が設けられていない側の面)を接着剤で
貼り付けた。表示される画像について、コントラスト、
輝度(実施例1に対する相対値)の測定および目視によ
る白色光と赤色光の評価を行った。結果を第1表、第2
表に示す。
【0055】 第1表 フィルターの特性 透過率(%) 光学フィルター 460nm 620nm 半値幅nm の番号 での透過率 での透過率 (560〜620nmの吸収) 実施例1 89% 91% 37 実施例2 86% 91% 47 実施例3 86% 90% 50 比較例 85% 76% 150
【0056】 第2表 表示特性 光学フィルター コントラスト 輝度 白色光 赤色光 実施例1 16:1 110 わずかに緑の白 綺麗な赤 (改善) (改善) 実施例2 15:1 100 白(改善) 綺麗な赤(改善) 実施例3 15:1 105 白(改善) 綺麗な赤(改善) 比較例1 12:1 85 マゼンタ色 弱い橙色を含む を帯びた白 赤(少し改善) フィルターなし 10:1 130 緑色を帯びた白 橙色を帯びた赤
【0057】表1の結果から明らかなように多層干渉の
原理を利用したシャープな選択波長特性を有するフィル
ターを用いることでPDPのコントラスト、白色光およ
び赤色光の色味が大幅に改善できることがわかる。一
方、半値幅の広い顔料を用いたフィルターでは色味改良
効果が小さいだけでなく、実際に必要な青または赤の強
度が低下し色味の不整合が起きるだけでなく、輝度の低
下の幅が大きくなり大幅な画質の低下が避けられない。
原理を利用したシャープな選択波長特性を有するフィル
ターを用いることでPDPのコントラスト、白色光およ
び赤色光の色味が大幅に改善できることがわかる。一
方、半値幅の広い顔料を用いたフィルターでは色味改良
効果が小さいだけでなく、実際に必要な青または赤の強
度が低下し色味の不整合が起きるだけでなく、輝度の低
下の幅が大きくなり大幅な画質の低下が避けられない。
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成11年4月27日(1999.4.2
7)
7)
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0007
【補正方法】変更
【補正内容】
【0007】(フィルター層)フィルター層は公知の多
層反射膜の原理に従って作成されたものであり、屈折率
の異なる2層以上の層を交互に積層した構造を持つ。フ
ィルター層の厚みには特に制限はないが、その厚み精
度、透明性の観点から概ね0.1μm乃至5cmの範囲
のものが好ましい。更に好ましくは1μm乃至1cmで
ある。フィルター層は、波長が560乃至620nmの
範囲(緑と赤の間)に吸収極大を持つ。波長が560乃
至620nmの範囲の吸収極大での透過率は、5乃至5
0%の範囲であることが好ましい。波長が560乃至6
20nmの範囲の吸収極大は、赤色蛍光体の色純度を低
下させているサブバンドを選択的にカットするために設
定される。PDPにおいては、ネオンガスの励起によっ
て放出される585nm付近の不要な発光もカットす
る。本発明に従い吸収極大を分離したことで、緑の蛍光
体の色調に悪影響を与えることなく、選択的に光をカッ
トできる。緑の蛍光体の色調への影響をさらに低下させ
るため、吸収スペクトルのピークをシャープにすること
が好ましい。具体的には、波長が560乃至620nm
の範囲の吸収極大での半値幅は、1.5乃至200nm
であることが好ましく、20乃至100nmであること
がより好ましく、22乃至80nmであることが最も好
ましい。半値幅が10nm以下になると実質的にネオン
ガスの励起による不要光の吸収が不完全になり、効果が
減少する。
層反射膜の原理に従って作成されたものであり、屈折率
の異なる2層以上の層を交互に積層した構造を持つ。フ
ィルター層の厚みには特に制限はないが、その厚み精
度、透明性の観点から概ね0.1μm乃至5cmの範囲
のものが好ましい。更に好ましくは1μm乃至1cmで
ある。フィルター層は、波長が560乃至620nmの
範囲(緑と赤の間)に吸収極大を持つ。波長が560乃
至620nmの範囲の吸収極大での透過率は、5乃至5
0%の範囲であることが好ましい。波長が560乃至6
20nmの範囲の吸収極大は、赤色蛍光体の色純度を低
下させているサブバンドを選択的にカットするために設
定される。PDPにおいては、ネオンガスの励起によっ
て放出される585nm付近の不要な発光もカットす
る。本発明に従い吸収極大を分離したことで、緑の蛍光
体の色調に悪影響を与えることなく、選択的に光をカッ
トできる。緑の蛍光体の色調への影響をさらに低下させ
るため、吸収スペクトルのピークをシャープにすること
が好ましい。具体的には、波長が560乃至620nm
の範囲の吸収極大での半値幅は、1.5乃至200nm
であることが好ましく、20乃至100nmであること
がより好ましく、22乃至80nmであることが最も好
ましい。半値幅が10nm以下になると実質的にネオン
ガスの励起による不要光の吸収が不完全になり、効果が
減少する。
【手続補正2】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0008
【補正方法】変更
【補正内容】
【0008】また、フィルター層は560乃至620n
mの範囲の他に、波長が500乃至550nmの範囲に
吸収極大を持っていてもよい。波長が500乃至550
nmの範囲での透過率は、20乃至85%の範囲である
ことが好ましい。波長が500乃至550nmの範囲の
吸収極大は、視感度が高い緑の蛍光体の発光強度を調節
するために設定される。緑の蛍光体の発光域は、なだら
かにカットすることが好ましい。波長が500乃至55
0nmの範囲の吸収極大での半値幅(吸収極大での吸光
度の半分の吸光度を示す波長領域の幅)は、30乃至3
00nmであることが好ましく、40乃至300nmで
あることがより好ましく、50乃至150nmであるこ
とがさらに好ましく、60乃至150nmであることが
最も好ましい。
mの範囲の他に、波長が500乃至550nmの範囲に
吸収極大を持っていてもよい。波長が500乃至550
nmの範囲での透過率は、20乃至85%の範囲である
ことが好ましい。波長が500乃至550nmの範囲の
吸収極大は、視感度が高い緑の蛍光体の発光強度を調節
するために設定される。緑の蛍光体の発光域は、なだら
かにカットすることが好ましい。波長が500乃至55
0nmの範囲の吸収極大での半値幅(吸収極大での吸光
度の半分の吸光度を示す波長領域の幅)は、30乃至3
00nmであることが好ましく、40乃至300nmで
あることがより好ましく、50乃至150nmであるこ
とがさらに好ましく、60乃至150nmであることが
最も好ましい。
【手続補正3】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0032
【補正方法】変更
【補正内容】
【0032】(下塗り層)透明支持体とフィルター層と
の間に、下塗り層を設けることもできる。下塗り層は、
ガラス転移温度が60℃以下−60℃以上のポリマーを
含む層、フィルター層側の表面が粗面である層またはフ
ィルター層のポリマーと親和性を有するポリマーを含む
層として形成する。なお、フィルター層が設けられてい
ない透明支持体の面に下塗り層を設けて、透明支持体と
その上に設けられる層(例えば、反射防止層、ハードコ
ート層)との接着力を改善してもよい。また、下塗り層
は、光学フィルターと画像形成装置とを接着するための
接着剤と光学フィルターとの親和性を改善するために設
けてもよい。下塗り層の厚みは、20nm乃至1000
nmが好ましく、80nm乃至300nmがより好まし
い。ガラス転移温度が60℃以下−60℃以上のポリマ
ーを含む下塗り層は、ポリマーの粘着性で、透明支持体
とフィルター層とを接着する。ガラス転移温度が60℃
以下−60℃以上のポリマーは、塩化ビニル、塩化ビニ
リデン、酢酸ビニル、ブタジエン、ネオプレン、スチレ
ン、クロロプレン、アクリル酸エステル、メタクリル酸
エステル、アクリロニトリルまたはメチルビニルエーテ
ルの重合または共重合により得ることができる。ガラス
転移温度は、20℃以下であることが好ましく、15℃
以下であることがより好ましく、10℃以下であること
がさらに好ましく、5℃以下であることがさらにまた好
ましく、0℃以下であることが最も好ましい。表面が粗
面である下塗り層は、粗面の上にフィルター層を形成す
ることで、透明支持体とフィルター層とを接着する。表
面が粗面である下塗り層は、高分子ラテックスの塗布に
より容易に形成することができる。ラテックスの平均粒
径は、0.02乃至3μmであることが好ましく、0.
05乃至1μmであることがさらに好ましい。フィルタ
ー層のバインダーポリマーと親和性を有するポリマーの
例には、アクリル樹脂、セルロース誘導体、ゼラチン、
カゼイン、でんぷん、ポリビニルアルコール、可溶性ナ
イロンおよび高分子ラテックスが含まれる。二以上の下
塗り層を設けてもよい。下塗り層には、透明支持体を膨
潤させる溶剤、マット剤、界面活性剤、帯電防止剤、塗
布助剤や硬膜剤を添加してもよい。
の間に、下塗り層を設けることもできる。下塗り層は、
ガラス転移温度が60℃以下−60℃以上のポリマーを
含む層、フィルター層側の表面が粗面である層またはフ
ィルター層のポリマーと親和性を有するポリマーを含む
層として形成する。なお、フィルター層が設けられてい
ない透明支持体の面に下塗り層を設けて、透明支持体と
その上に設けられる層(例えば、反射防止層、ハードコ
ート層)との接着力を改善してもよい。また、下塗り層
は、光学フィルターと画像形成装置とを接着するための
接着剤と光学フィルターとの親和性を改善するために設
けてもよい。下塗り層の厚みは、20nm乃至1000
nmが好ましく、80nm乃至300nmがより好まし
い。ガラス転移温度が60℃以下−60℃以上のポリマ
ーを含む下塗り層は、ポリマーの粘着性で、透明支持体
とフィルター層とを接着する。ガラス転移温度が60℃
以下−60℃以上のポリマーは、塩化ビニル、塩化ビニ
リデン、酢酸ビニル、ブタジエン、ネオプレン、スチレ
ン、クロロプレン、アクリル酸エステル、メタクリル酸
エステル、アクリロニトリルまたはメチルビニルエーテ
ルの重合または共重合により得ることができる。ガラス
転移温度は、20℃以下であることが好ましく、15℃
以下であることがより好ましく、10℃以下であること
がさらに好ましく、5℃以下であることがさらにまた好
ましく、0℃以下であることが最も好ましい。表面が粗
面である下塗り層は、粗面の上にフィルター層を形成す
ることで、透明支持体とフィルター層とを接着する。表
面が粗面である下塗り層は、高分子ラテックスの塗布に
より容易に形成することができる。ラテックスの平均粒
径は、0.02乃至3μmであることが好ましく、0.
05乃至1μmであることがさらに好ましい。フィルタ
ー層のバインダーポリマーと親和性を有するポリマーの
例には、アクリル樹脂、セルロース誘導体、ゼラチン、
カゼイン、でんぷん、ポリビニルアルコール、可溶性ナ
イロンおよび高分子ラテックスが含まれる。二以上の下
塗り層を設けてもよい。下塗り層には、透明支持体を膨
潤させる溶剤、マット剤、界面活性剤、帯電防止剤、塗
布助剤や硬膜剤を添加してもよい。
【手続補正4】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0033
【補正方法】変更
【補正内容】
【0033】(反射防止層)光学フィルターに反射防止
層を設けて、光学フィルターに反射防止機能を付与して
もよい。反射防止層としては、低屈折率層が必須であ
る。低屈折率層の屈折率は、上記透明支持体の屈折率よ
りも低い。低屈折率層の屈折率は、1.20乃至1.5
5であることが好ましく、1.30乃至1.50である
ことがさらに好ましい。低屈折率層の厚さは、50乃至
400nmであることが好ましく、50乃至200nm
であることがさらに好ましい。低屈折率層は、屈折率の
低い含フッ素ポリマーからなる層(特開昭57−345
26号、特開平3−130103号、同6−11502
3号、同8−313702号、同7−168004号の
各公報記載)、ゾルゲル法により得られる層(特開平5
−208811号、同6−299091号、同7−16
8003号の各公報記載)、あるいは微粒子含む層(特
公昭60−59250号、特開平5−13021号、同
6−56478号、同7−92306号、同9−288
201号の各公報に記載)として形成することができ
る。微粒子を含む層では、微粒子間または微粒子内のミ
クロボイドとして、低屈折率層に空隙を形成することが
できる。微粒子を含む層は、3乃至50体積%の空隙率
を有することが好ましく、5乃至35体積%の空隙率を
有することがさらに好ましい。
層を設けて、光学フィルターに反射防止機能を付与して
もよい。反射防止層としては、低屈折率層が必須であ
る。低屈折率層の屈折率は、上記透明支持体の屈折率よ
りも低い。低屈折率層の屈折率は、1.20乃至1.5
5であることが好ましく、1.30乃至1.50である
ことがさらに好ましい。低屈折率層の厚さは、50乃至
400nmであることが好ましく、50乃至200nm
であることがさらに好ましい。低屈折率層は、屈折率の
低い含フッ素ポリマーからなる層(特開昭57−345
26号、特開平3−130103号、同6−11502
3号、同8−313702号、同7−168004号の
各公報記載)、ゾルゲル法により得られる層(特開平5
−208811号、同6−299091号、同7−16
8003号の各公報記載)、あるいは微粒子含む層(特
公昭60−59250号、特開平5−13021号、同
6−56478号、同7−92306号、同9−288
201号の各公報に記載)として形成することができ
る。微粒子を含む層では、微粒子間または微粒子内のミ
クロボイドとして、低屈折率層に空隙を形成することが
できる。微粒子を含む層は、3乃至50体積%の空隙率
を有することが好ましく、5乃至35体積%の空隙率を
有することがさらに好ましい。
【手続補正5】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0034
【補正方法】変更
【補正内容】
【0034】広い波長領域の反射を防止するためには、
低屈折率層に加えて、屈折率の高い層(中・高屈折率
層)を積層することが好ましい。高屈折率層の屈折率
は、1.65乃至2.40であることが好ましく、1.
70乃至2.20であることがさらに好ましい。中屈折
率層の屈折率は、低屈折率層の屈折率と高屈折率層の屈
折率との中間の値となるように調整する。中屈折率層の
屈折率は、1.50乃至1.90であることが好まし
い。中・高屈折率層の厚さは、5nm乃至100μmで
あることが好ましく、10nm乃至10μmであること
がさらに好ましく、30nm乃至1μmであることが最
も好ましい。中・高屈折率層のヘイズは、5%以下であ
ることが好ましく、3%以下であることがさらに好まし
く、1%以下であることが最も好ましい。中・高屈折率
層は、比較的高い屈折率を有するポリマーバインダーを
用いて形成することができる。屈折率が高いポリマーの
例には、ポリスチレン、スチレン共重合体、ポリカーボ
ネート、メラミン樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂
および環状(脂環式または芳香族)イソシアネートとポ
リオールとの反応で得られるポリウレタンが含まれる。
その他の環状(芳香族、複素環式、脂環式)基を有する
ポリマーや、フッ素以外のハロゲン原子を置換基として
有するポリマーも、屈折率が高い。二重結合を導入して
ラジカル硬化を可能にしたモノマーの重合反応によりポ
リマーを形成してもよい。
低屈折率層に加えて、屈折率の高い層(中・高屈折率
層)を積層することが好ましい。高屈折率層の屈折率
は、1.65乃至2.40であることが好ましく、1.
70乃至2.20であることがさらに好ましい。中屈折
率層の屈折率は、低屈折率層の屈折率と高屈折率層の屈
折率との中間の値となるように調整する。中屈折率層の
屈折率は、1.50乃至1.90であることが好まし
い。中・高屈折率層の厚さは、5nm乃至100μmで
あることが好ましく、10nm乃至10μmであること
がさらに好ましく、30nm乃至1μmであることが最
も好ましい。中・高屈折率層のヘイズは、5%以下であ
ることが好ましく、3%以下であることがさらに好まし
く、1%以下であることが最も好ましい。中・高屈折率
層は、比較的高い屈折率を有するポリマーバインダーを
用いて形成することができる。屈折率が高いポリマーの
例には、ポリスチレン、スチレン共重合体、ポリカーボ
ネート、メラミン樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂
および環状(脂環式または芳香族)イソシアネートとポ
リオールとの反応で得られるポリウレタンが含まれる。
その他の環状(芳香族、複素環式、脂環式)基を有する
ポリマーや、フッ素以外のハロゲン原子を置換基として
有するポリマーも、屈折率が高い。二重結合を導入して
ラジカル硬化を可能にしたモノマーの重合反応によりポ
リマーを形成してもよい。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) H04N 5/72 G02B 1/10 A Fターム(参考) 2H048 CA04 CA14 CA19 CA24 CA26 CA29 GA05 GA07 GA12 GA27 GA33 GA52 GA56 2K009 AA06 AA15 BB13 BB14 BB24 BB28 CC03 CC09 CC23 CC26 CC34 CC35 DD02 5C058 AA01 AA06 AA11 AA12 AA13 AA14 AB05 DA15 5G435 AA04 BB02 BB03 BB05 BB06 BB12 FF02 GG11 GG16 HH03 KK07
Claims (10)
- 【請求項1】 2種類以上の物質の交互積層からなる計
6層以上の層状構造を有する光学フィルターであって、
560乃至620nmの間範囲に吸収極大を有してな
り、かつ該波長の極大における透過率が50%以下であ
る光学フィルター。 - 【請求項2】 560乃至620nmに加えて500乃
至550nmの範囲に吸収極大を有し、該波長の極大に
おける透過率が30%以上である請求項1に記載の光学
フィルター。 - 【請求項3】 2種類以上の物質の交互積層からなる計
6層以上の層状構造を有し、560乃至620nmの間
範囲に吸収極大を有してなり、かつ該波長の極大におけ
る透過率が50%以下である選択反射層と、2種類以上
の物質の交互積層からなる計4層以上の層状構造を有
し、500乃至550nmの間範囲に吸収極大を有して
なり、かつ該波長の極大における透過率が30%以上で
ある選択反射層からなることを特徴とする請求項1、2
に記載の光学フィルター。 - 【請求項4】 560乃至620nmの間範囲に吸収極
大を有してなる層が光学屈折率n1 の層と光学屈折率n
2 の層の交互積層で形成され、1.03<n 2 /n1 ≦
1.3の範囲にあることを特徴とする、請求項1、2、
または3に記載の光学フィルター。 - 【請求項5】 1.38≦n1 の関係を満足することを
特徴とする請求項4に記載の光学フィルター。 - 【請求項6】 交互積層された光学屈折率n1 の層厚み
d1 のばらつき、光学屈折率n2 層厚みd2 のばらつき
が各々30%以下であり、1120≦n1 d 1 +n2 d
2 ≦1240の範囲内にあることを特徴とする請求項4
または5に記載の光学フィルター。 - 【請求項7】 粘着剤、フィルター層、支持体、反射防
止層を有する請求項1〜6に記載の光学フィルター。 - 【請求項8】 プラズマディスプレイパネル(PDP)
表示用に用いられる請求項1〜7に記載の光学フィルタ
ー。 - 【請求項9】 請求項8に記載の光学フィルターを表面
に保持することを特徴とするPDP用前面板。 - 【請求項10】 請求項1〜9に記載の光学フィルター
をPDPモジュールの表面、前面板の表面、前面板の裏
面の少なくとも一面に設けたことを特徴とするPDP表
示装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11068519A JP2000266930A (ja) | 1999-03-15 | 1999-03-15 | 光学選択フイルター |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11068519A JP2000266930A (ja) | 1999-03-15 | 1999-03-15 | 光学選択フイルター |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000266930A true JP2000266930A (ja) | 2000-09-29 |
Family
ID=13376063
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11068519A Pending JP2000266930A (ja) | 1999-03-15 | 1999-03-15 | 光学選択フイルター |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000266930A (ja) |
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2002052531A1 (en) * | 2000-12-19 | 2002-07-04 | Bridgestone Corporation | Plasma display filmand protection filter, and plasma display |
| JP2002189422A (ja) * | 2000-12-19 | 2002-07-05 | Bridgestone Corp | プラズマディスプレイ用フィルム及び保護フィルター |
| JP2006505092A (ja) * | 2001-11-06 | 2006-02-09 | ユニバーサル ディスプレイ コーポレイション | 多層ミラーとして機能する封止構造を有する有機発光デバイス構造体 |
| JP2007529094A (ja) * | 2004-03-11 | 2007-10-18 | バイエル・ベタイリグングスフェアヴァルトゥング・ゴスラー・ゲゼルシャフト・ミット・ベシュレンクテル・ハフツング | ポリチオフェンに基づく光学用途のための機能層 |
| US7948584B2 (en) | 2002-05-09 | 2011-05-24 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Color filter for transflective type liquid crystal display |
| WO2012014607A1 (ja) * | 2010-07-24 | 2012-02-02 | コニカミノルタホールディングス株式会社 | 近赤外反射フィルム及びそれを設けた近赤外反射体 |
| JP2014032851A (ja) * | 2012-08-03 | 2014-02-20 | Yamagata Univ | 有機光学デバイス及びこれを用いた有機電子デバイス |
| EP2650706A4 (en) * | 2010-12-09 | 2015-08-19 | Konica Minolta Inc | NEAR INFRARED REFLECTIVE FILM AND NEAR INFRARED REFLECTIVE BODY EQUIPPED WITH THE SAME |
| US9366788B2 (en) | 2011-03-18 | 2016-06-14 | Konica Minolta, Inc. | Heat radiation reflective film and method for producing the same, and heat radiation reflector |
-
1999
- 1999-03-15 JP JP11068519A patent/JP2000266930A/ja active Pending
Cited By (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| KR100923086B1 (ko) | 2001-11-06 | 2009-10-22 | 유니버셜 디스플레이 코포레이션 | 다중층 거울로 동작하는 밀폐 구조 |
| US8130343B2 (en) | 2002-05-09 | 2012-03-06 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Color filter for transflective type liquid crystal display |
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| US9001418B2 (en) | 2010-07-24 | 2015-04-07 | Konica Minolta Holdings, Inc. | Near-infrared reflecting film and near-infrared reflecting body provided with same |
| EP2650706A4 (en) * | 2010-12-09 | 2015-08-19 | Konica Minolta Inc | NEAR INFRARED REFLECTIVE FILM AND NEAR INFRARED REFLECTIVE BODY EQUIPPED WITH THE SAME |
| US9804308B2 (en) | 2010-12-09 | 2017-10-31 | Konica Minolta, Inc. | Near-infrared reflective film and near-infrared reflector provided with the same |
| US9366788B2 (en) | 2011-03-18 | 2016-06-14 | Konica Minolta, Inc. | Heat radiation reflective film and method for producing the same, and heat radiation reflector |
| EP2687878B1 (en) * | 2011-03-18 | 2017-08-16 | Konica Minolta, Inc. | Heat-ray reflecting film, method for producing same, and heat-ray reflecting body |
| JP2014032851A (ja) * | 2012-08-03 | 2014-02-20 | Yamagata Univ | 有機光学デバイス及びこれを用いた有機電子デバイス |
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