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JP2000135460A - Reverse roll coater - Google Patents

Reverse roll coater

Info

Publication number
JP2000135460A
JP2000135460A JP10311144A JP31114498A JP2000135460A JP 2000135460 A JP2000135460 A JP 2000135460A JP 10311144 A JP10311144 A JP 10311144A JP 31114498 A JP31114498 A JP 31114498A JP 2000135460 A JP2000135460 A JP 2000135460A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
substrate
roll
backup roll
transport
backup
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP10311144A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yasuyuki Kurisu
保之 栗栖
Yasuhiro Kiyuuso
康弘 宮艸
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kyocera Display Corp
Original Assignee
Kyocera Display Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Kyocera Display Corp filed Critical Kyocera Display Corp
Priority to JP10311144A priority Critical patent/JP2000135460A/en
Publication of JP2000135460A publication Critical patent/JP2000135460A/en
Pending legal-status Critical Current

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  • Coating Apparatus (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To prevent a substrate from bending to be broken after bringing into contact with a backup roll, to properly transport the substrate by a backup roll and to form an excellent coating film by preventing the generation of the nonuniformity of a coating surface caused by raising the rear part of the substrate at the time of transporting. SOLUTION: The outside diameter of the backup roll 8 is formed to be larger than that of an applicator roll 5 and the transporting level of the substrate 6 by a transporting roller 7 is set to be almost equal to the transporting level of the substrate 6 by the backup roll 8. As a result, the substrate is prevented from the breaking caused by bending stress due to bending without raising the front end of the substrate in the transporting direction and the generation of the nonuniformity of the coating surface is prevented because the rear part of the substrate in the transporting direction is not raised on the middle of the transportation.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、液晶用ガラス基
板、フィルム液晶用基板、イメージセンサ用基板、プリ
ント配線用基板、半導体ウエハ等の各種基板を水平方向
に搬送しながらアプリケーターロールを基板の表面に接
触させて回転させることにより、アプリケーターロール
の周面を介して基板表面に塗布液を塗布して所定の膜厚
の塗膜を形成するためのリバースロールコータに関す
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a liquid crystal glass substrate, a film liquid crystal substrate, an image sensor substrate, a printed wiring substrate, a semiconductor wafer, etc., while horizontally transporting various substrates such as an applicator roll to the surface of the substrate. The present invention relates to a reverse roll coater for applying a coating liquid to a substrate surface through a peripheral surface of an applicator roll to form a coating film having a predetermined thickness by rotating the applicator roll by contacting the coating liquid.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来から、液晶用ガラス基板等の種々の
基板の表面にフォトレジスト液やポリイミド樹脂等の塗
布液を塗布して所定の膜厚の塗膜を形成する装置として
リバースロールコータが使用されている。
2. Description of the Related Art Conventionally, a reverse roll coater has been used as an apparatus for applying a coating liquid such as a photoresist liquid or a polyimide resin to the surface of various substrates such as a liquid crystal glass substrate to form a coating film having a predetermined thickness. It is used.

【0003】このような従来のリバースロールコータで
は、水平搬送路に沿って並設された複数本の搬送ローラ
により基板を搬送して、アプリケーターロールとその下
方のバックアップロールとの間へ基板を送り込み、塗布
液供給用ロールあるいは複数本のロールからなる塗布液
供給用ロールユニットを介してアプリケータロールの周
面に供給された塗布液を、アプリケーターロールがその
周面を基板の表面に接触させながら基板の搬送方向と逆
方向に回転することで基板表面に塗布し、この塗布液を
乾燥させることにより基板の表面に所定の膜厚の塗膜を
形成するようにしている。
In such a conventional reverse roll coater, a substrate is transported by a plurality of transport rollers arranged side by side along a horizontal transport path, and the substrate is fed between an applicator roll and a backup roll thereunder. The applicator roll contacts the peripheral surface of the applicator roll with the surface of the substrate while the coating liquid supplied to the peripheral surface of the applicator roll through a coating liquid supply roll or a coating liquid supply roll unit including a plurality of rolls. The coating is applied to the surface of the substrate by rotating in the direction opposite to the transport direction of the substrate, and the coating liquid is dried to form a coating film having a predetermined thickness on the surface of the substrate.

【0004】ところで、従来のリバースロールコータに
おいては、アプリケーターロールおよびバックアップロ
ールの外径は、いずれもほぼ等しい大きさに形成されて
いたため、基板を搬送する搬送ローラの搬送レベルをバ
ックアップロールの搬送レベルと同じにしてしまうと、
基板の搬送方向と逆方向に回転するアプリケーターロー
ルによって前記基板が跳ね返されてしまうおそれがあっ
た。これを回避するために、従来のリバースロールコー
タでは、図6に示すように、搬送ローラ17の搬送レベ
ルがバックアップロール18の搬送レベルよりも約1m
m程度低くなるように設定されており、これにより前記
基板16をまずバックアップロール18に当接させて搬
送状態にさせてから前記アプリケーターロール15に接
触させるようになっていた。
In the conventional reverse roll coater, since the outer diameters of the applicator roll and the backup roll are almost the same, the transport level of the transport rollers for transporting the substrate is changed to the transport level of the backup roll. If you make it the same as
The applicator roll rotating in the direction opposite to the substrate transport direction may cause the substrate to be rebounded. In order to avoid this, in the conventional reverse roll coater, as shown in FIG. 6, the transport level of the transport roller 17 is about 1 m higher than the transport level of the backup roll 18.
m, so that the substrate 16 is first brought into contact with the backup roll 18 to bring it into a transport state, and then is brought into contact with the applicator roll 15.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかし、従来のリバー
スロールコータにおいては、図7に示すように、基板1
6がバックアップロール18に当接した後にその搬送方
向前端16aが持ち上げられてたわんでしまうため、基
板16自体に曲げ応力が生じてしまい、特に薄型の基板
16においては基板割れが生じてしまう場合があった。
However, in the conventional reverse roll coater, as shown in FIG.
Since the front end 16a in the transport direction is lifted and bent after the sheet 6 comes into contact with the backup roll 18, a bending stress is generated in the substrate 16 itself, and a substrate crack may occur particularly in the thin substrate 16. there were.

【0006】また、基板16の搬送方向前端16aの形
状によっては、アプリケーターロール15との接触部分
の抵抗がバックアップロール18と基板16との摩擦力
より大きくなってしまい、適正に搬送されない場合があ
った。
Further, depending on the shape of the front end 16a of the substrate 16 in the transport direction, the resistance of the contact portion with the applicator roll 15 becomes larger than the frictional force between the backup roll 18 and the substrate 16, and the substrate 16 may not be transported properly. Was.

【0007】さらに、図8に示すように、基板16の中
央部分がアプリケーターロール15に接触する位置まで
搬送された際に、前記基板16の搬送方向後端16bが
持ち上げられるため、この持ち上げられた瞬間に塗布面
にむらが生じる場合があった。
Further, as shown in FIG. 8, when the substrate 16 is conveyed to a position where it comes into contact with the applicator roll 15, the rear end 16b of the substrate 16 in the conveying direction is lifted. In some cases, the coating surface was uneven at an instant.

【0008】本発明はこのような問題点に鑑みてなされ
たもので、バックアップロールに当接した後に基板がた
わんで割れてしまうのを防止することができるととも
に、バックアップロールにより適正に搬送でき、しかも
搬送途中に基板後方が持ち上げられることによる塗布面
のむらの発生を防止して良好な塗膜を形成することがで
きるリバースロールコータを提供することを目的とする
ものである。
The present invention has been made in view of such a problem, and it is possible to prevent a substrate from bending and breaking after contacting a backup roll, and to properly transport the substrate by the backup roll. In addition, it is an object of the present invention to provide a reverse roll coater capable of preventing the occurrence of unevenness on the coating surface due to the lifting of the rear portion of the substrate during the transportation and forming a good coating film.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
請求項1に係る本発明のリバースロールコータの特徴
は、バックアップロールの外径をアプリケーターロール
の外径よりも大径に形成するとともに、搬送ローラによ
る基板の搬送レベルを前記バックアップロールによる基
板の搬送レベルとほぼ等しくなるように設定した点にあ
る。そして、このような構成を採用したことにより、基
板がバックアップロールに当接してからバックアップロ
ールとアプリケーターロールとの隙間を搬送される際に
水平状態を維持しつつ搬送されるため、前記基板の搬送
方向前端が持ち上げられてたわんでしまうこともなく、
曲げ応力により基板割れが生じるのを防止できるし、搬
送途中で基板の後端が持ち上げられることもないため塗
布面むらの発生を防止することができる。また、前記基
板は水平状態を維持しつつバックアップロールに当接し
てこのバックアップロールによる搬送状態になってから
アプリケーターロールに接触されるため、基板の搬送方
向前端の形状にかかわらず、この前端とアプリケーター
ロールとの接触部における抵抗を小さくでき、バックア
ップロールの摩擦力により適正に基板を搬送することが
できる。
In order to achieve the above object, a reverse roll coater according to the present invention is characterized in that the outer diameter of the backup roll is formed to be larger than the outer diameter of the applicator roll. The point is that the transfer level of the substrate by the transfer roller is set to be substantially equal to the transfer level of the substrate by the backup roll. And by adopting such a configuration, the substrate is transported while maintaining a horizontal state when transported through the gap between the backup roll and the applicator roll after the substrate abuts on the backup roll. Without the front end being lifted and flexing,
It is possible to prevent the substrate from cracking due to bending stress, and to prevent the rear end of the substrate from being lifted during transport, thereby preventing the occurrence of unevenness in the application surface. Further, since the substrate abuts on the backup roll while being maintained in a horizontal state, and is brought into a transport state by the backup roll, and then comes into contact with the applicator roll, regardless of the shape of the front end in the transport direction of the substrate, this front end and the applicator The resistance at the contact portion with the roll can be reduced, and the substrate can be properly transported by the frictional force of the backup roll.

【0010】また、請求項2に係るリバースロールコー
タの特徴は、請求項1において、バックアップロールの
外径をアプリケーターロールの外径の約1.5倍以上4
倍以下に形成した点にある。そして、このような構成を
採用したことにより、バックアップロールの外径を適当
な大きさに形成してリバースロールコータ自体の大型化
を抑えつつ、より確実に搬送中の基板の損傷を防止して
基板の適正な搬送を実行することができる。
The reverse roll coater according to claim 2 is characterized in that, in claim 1, the outer diameter of the backup roll is at least about 1.5 times the outer diameter of the applicator roll.
The point is that it is formed twice or less. And, by adopting such a configuration, the outer diameter of the backup roll is formed to an appropriate size to suppress an increase in the size of the reverse roll coater itself, and to more reliably prevent damage to the substrate during transport. Appropriate transfer of the substrate can be performed.

【0011】[0011]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図1
乃至図5を参照して説明する。
FIG. 1 is a block diagram showing an embodiment of the present invention.
This will be described with reference to FIGS.

【0012】図1に示すように、本実施形態におけるリ
バースロールコータ1には、フォトレジスト液等の塗布
液を貯留している貯液槽2が設けられており、この貯液
槽2内のフォトレジスト液中にその周面の一部を浸潰す
るようにしてピックアップロール3が水平軸回りに回転
自在に軸支されている。このピックアップロール3には
図示しないモータが連結されており、水平軸回りに矢印
方向へ一定速度で回転駆動されるようになっている。前
記ピックアップロール3の近傍には、オフセットロール
4が水平軸回りに矢印方向へ回転自在に軸支されている
とともに、このオフセットロール4に対して前記ピック
アップロール3が接離自在とされ、両者間の周面の隙間
寸法を調節できるようになっている。また、前記オフセ
ットロール4には、アプリケーターロール5がその周面
を前記オフセットロール4の周面に接触させるようにし
て水平軸回りに回転自在に軸支されている。前記アプリ
ケーターロール5には、図示しないモータが連結されて
おり、水平軸回りに矢印方向へ一定速度で回転駆動され
るようになっている。このアプリケーターロール5は、
前記貯液槽2からピックアップロール3およびオフセッ
トロール4により供給される塗布液を基板6に塗布する
ようになっている。
As shown in FIG. 1, a reverse roll coater 1 according to the present embodiment is provided with a liquid storage tank 2 for storing a coating liquid such as a photoresist liquid. The pickup roll 3 is rotatably supported about a horizontal axis so that a part of the peripheral surface is immersed in the photoresist liquid. A motor (not shown) is connected to the pickup roll 3, and is driven to rotate around the horizontal axis at a constant speed in the direction of the arrow. In the vicinity of the pickup roll 3, an offset roll 4 is rotatably supported in a direction indicated by an arrow around a horizontal axis, and the pickup roll 3 is freely movable toward and away from the offset roll 4. The size of the gap on the peripheral surface of the device can be adjusted. The applicator roll 5 is rotatably supported on the offset roll 4 so as to be rotatable about a horizontal axis such that the peripheral surface of the applicator roll 5 contacts the peripheral surface of the offset roll 4. A motor (not shown) is connected to the applicator roll 5 so that the applicator roll 5 is driven to rotate around the horizontal axis at a constant speed in a direction indicated by an arrow. This applicator roll 5
The application liquid supplied from the liquid storage tank 2 by the pickup roll 3 and the offset roll 4 is applied to the substrate 6.

【0013】以上の貯液槽2、ピックアップロール3、
オフセットロール4およびアプリケーターロール5によ
り基板6に塗布液を供給して塗布するための塗布液供給
機構が構成されている。
The above-mentioned liquid storage tank 2, pickup roll 3,
A coating liquid supply mechanism for supplying and applying a coating liquid to the substrate 6 by the offset roll 4 and the applicator roll 5 is configured.

【0014】一方、本実施形態には、基板6をアプリケ
ーターロール5による塗布液塗布位置まで搬送するため
の基板搬送機構が設けられており、この基板搬送機構に
は、基板6を外周面に摺接させて水平方向に搬送する複
数本の搬送ローラ7が水平方向に並設されており、これ
らの搬送ローラ7の基板6の搬送方向前方側であって前
記アプリケーターロール5の直下には、基板6を塗布位
置へ搬送するためのバックアップロール8が配設されて
いる。このバックアップロール8の軸心は、基板6をよ
り安定的に搬送する観点から、アプリケーターロール5
の軸心と垂直方向に同一線上に位置するように配設され
るのが好ましいが、基板6の当接タイミングを早める目
的で前記基板6の搬入側に5mm程度ずらすようにして
もよい。
On the other hand, in the present embodiment, a substrate transport mechanism for transporting the substrate 6 to a coating liquid application position by the applicator roll 5 is provided, and the substrate transport mechanism slides the substrate 6 on the outer peripheral surface. A plurality of transport rollers 7 that are brought into contact and transported in the horizontal direction are arranged side by side in the horizontal direction, and the transport rollers 7 are located in front of the substrate 6 in the transport direction and directly below the applicator roll 5. A backup roll 8 for transporting the coating 6 to the application position is provided. From the viewpoint of more stably transporting the substrate 6, the axis of the backup roll 8 is
It is preferable that the substrate 6 is disposed so as to be located on the same line in the vertical direction with respect to the axis of the substrate 6, but may be shifted by about 5 mm to the carry-in side of the substrate 6 in order to accelerate the contact timing of the substrate 6.

【0015】また、図2に示すように、前記バックアッ
プロールの外径は、前記アプリケーターロール5の外径
よりも大径に形成されているとともに、前記搬送ローラ
7による基板6の搬送レベルが前記バックアップロール
8による基板6の搬送レベルとほぼ等しいレベルになる
ように設定されている。本実施形態においては、基板6
の厚さが0.3〜1.1mm、塗布液としてフォトレジ
スト液を用いる場合に、前記バックアップロール8の外
径は、アプリケーターロール5の外径の約1.5倍〜4
倍程度が好ましく、本実施形態では、アプリケーターロ
ール5の外径が80〜100mmに形成されているのに
対して、バックアップロール8の外径が150mm以上
に形成されている。ただし、装置が大きくなりすぎない
ようにバックアップロール8の外径は400mmを越え
ないようにされている。
Further, as shown in FIG. 2, the outer diameter of the backup roll is formed to be larger than the outer diameter of the applicator roll 5, and the transfer level of the substrate 6 by the transfer rollers 7 The level is set so as to be substantially equal to the transport level of the substrate 6 by the backup roll 8. In the present embodiment, the substrate 6
When the thickness of the backup roll 8 is 0.3 to 1.1 mm and a photoresist liquid is used as a coating liquid, the outer diameter of the backup roll 8 is about 1.5 to 4 times the outer diameter of the applicator roll 5.
In this embodiment, the outer diameter of the applicator roll 5 is formed to be 80 to 100 mm, while the outer diameter of the backup roll 8 is formed to be 150 mm or more. However, the outer diameter of the backup roll 8 is set not to exceed 400 mm so that the apparatus does not become too large.

【0016】また、このようにバックアップロール8の
外径をアプリケーターロール5の外径よりも大径に形成
したことにより、搬送ローラ7による基板6の搬送レベ
ルを前記バックアップロール8による基板6の搬送レベ
ルとほぼ等しくなるように設定でき、基板6を水平状態
を維持しつつバックアップロール8により搬送させるよ
うになっている。
Since the outer diameter of the backup roll 8 is formed to be larger than the outer diameter of the applicator roll 5 as described above, the transfer level of the substrate 6 by the transfer roller 7 can be reduced by the transfer of the substrate 6 by the backup roll 8. The level can be set to be substantially equal to the level, and the substrate 6 is transported by the backup roll 8 while maintaining the horizontal state.

【0017】本実施形態では、アプリケーターロール5
の外径を100mm、バックアップロール8の外径を3
00mmに形成した場合には、搬送ローラ7の搬送レベ
ルをバックアップロール8の搬送レベルよりも0.2m
m程度低く設定すれば、基板6に作用する曲げ応力等の
影響を無視することができるようになっている。
In this embodiment, the applicator roll 5
Of the backup roll 8 is 3 mm.
When the transfer roller 7 is formed to have a thickness of 00 mm, the transfer level of the transfer roller 7 is set to be 0.2 m higher than the transfer level of the backup roll 8.
If the distance is set to be lower by about m, the influence of bending stress or the like acting on the substrate 6 can be neglected.

【0018】つぎに、本実施形態の作用について説明す
る。
Next, the operation of the present embodiment will be described.

【0019】本実施形態におけるリバースロールコータ
1は、まず、塗布液供給機構を構成するピックアップロ
ール3が、水平軸回りに図1の矢印方向へ図示しないモ
ータにより一定速度で回転駆動され塗布液を貯液槽2内
から掻き上げてその周面に膜状に塗布させる。そして、
このピックアップロール3は、近傍で水平軸回りに図1
の矢印方向へ一定速度で回転駆動しているオフセットロ
ール4に対し周面を接触させて、その周面から塗布液を
オフセットロール4の周面に適量だけ転写する。また、
前記オフセットロール4には、アプリケーターロール5
がその周面を接触させつつ水平軸回りに図1の矢印で示
す基板6の搬送方向と逆方向へ図示しないモータにより
回転しているため、前記オフセットロール4の周面に転
写されて膜状に付着している塗布液がアプリケーターロ
ール5の周面に再転写される。
In the reverse roll coater 1 of the present embodiment, first, a pickup roll 3 constituting a coating liquid supply mechanism is driven to rotate around a horizontal axis in a direction indicated by an arrow in FIG. It is scraped up from the inside of the liquid storage tank 2 and applied on its peripheral surface in the form of a film. And
The pick-up roll 3 moves around the horizontal axis in the vicinity as shown in FIG.
The peripheral surface is brought into contact with the offset roll 4 that is rotatingly driven at a constant speed in the direction of the arrow, and an appropriate amount of the coating liquid is transferred onto the peripheral surface of the offset roll 4 from the peripheral surface. Also,
The offset roll 4 includes an applicator roll 5
Is rotated by a motor (not shown) in the direction opposite to the transport direction of the substrate 6 indicated by the arrow in FIG. 1 around the horizontal axis while contacting the peripheral surface thereof. Is transferred to the peripheral surface of the applicator roll 5 again.

【0020】そして、基板6は、基板搬送機構を構成す
る複数の搬送ローラ7により一定速度で水平方向へ搬送
され、基板6の搬送方向前端6aがバックアップロール
8に当接してこのバックアップロール8による搬送状態
になった後、アプリケーターロール5の周面が基板6の
表面に接触し、前記基板6はアプリケーターロール5と
バックアップロール8との間の隙間を通過して前方へ搬
送される。このとき、バックアップロール8の外径がア
プリケーターロール5の外径よりも大径に形成されてい
るため、基板6の搬送方向前端6aは最初にバックアッ
プロール8の周面に当接し、このバックアップロール8
の回転駆動に従ってその摩擦力により搬送されていく。
また、搬送ローラ7の搬送レベルはバックアップロール
8の搬送レベルとほぼ等しく設定されているため、基板
6はその搬送方向前端6aを持ち上げられることなく、
ほぼ水平状態を維持しつつ搬送される。そして、基板6
がアプリケーターロール5とバックアップロール8との
隙間を搬送される間に、アプリケーターロール5の周面
に付着されている塗布液が、アプリケーターロール5の
周面から基板6の表面へ転写され、基板6の表面に所定
の膜厚の塗布膜が被着形成される。
The substrate 6 is transported in a horizontal direction at a constant speed by a plurality of transport rollers 7 constituting a substrate transport mechanism. After entering the transport state, the peripheral surface of the applicator roll 5 comes into contact with the surface of the substrate 6, and the substrate 6 is transported forward through the gap between the applicator roll 5 and the backup roll 8. At this time, since the outer diameter of the backup roll 8 is formed to be larger than the outer diameter of the applicator roll 5, the front end 6a of the substrate 6 in the transport direction first comes into contact with the peripheral surface of the backup roll 8, and 8
Is transported by the frictional force in accordance with the rotational drive of.
Further, since the transport level of the transport roller 7 is set substantially equal to the transport level of the backup roll 8, the substrate 6 cannot be lifted at the front end 6a in the transport direction.
It is transported while maintaining a substantially horizontal state. And the substrate 6
Is transported through the gap between the applicator roll 5 and the backup roll 8, the coating liquid attached to the peripheral surface of the applicator roll 5 is transferred from the peripheral surface of the applicator roll 5 to the surface of the substrate 6, and A coating film having a predetermined thickness is formed on the surface of the substrate.

【0021】したがって、本実施形態によれば、バック
アップロール8の外径がアプリケーターロール5の外径
よりも大径に形成されているとともに、搬送ローラ7に
よる基板6の搬送レベルがバックアップロール8による
基板6の搬送レベルとほぼ等しく設定されているため、
基板6がバックアップロール8に当接してからバックア
ップロール8とアプリケーターロール5との隙間を搬送
されている際に水平状態を維持しつつ搬送され、前記基
板6がたわんで曲げ応力により割れてしまうのを防止す
ることができるし、搬送途中に基板後端6bが持ち上げ
られることによる塗布面むらの発生を防止することがで
きる。
Therefore, according to the present embodiment, the outer diameter of the backup roll 8 is formed to be larger than the outer diameter of the applicator roll 5, and the transport level of the substrate 6 by the transport roller 7 is controlled by the backup roll 8. Since it is set almost equal to the transport level of the substrate 6,
When the substrate 6 is conveyed while maintaining a horizontal state while being conveyed in the gap between the backup roll 8 and the applicator roll 5 after the substrate 6 abuts on the backup roll 8, the substrate 6 is bent and cracked by bending stress. Can be prevented, and the occurrence of uneven coating surface due to the lifting of the substrate rear end 6b during the transfer can be prevented.

【0022】また、本実施形態における基板6は、水平
状態を維持しつつバックアップロール8に当接してこの
バックアップロール8による搬送状態になってからアプ
リケーターロール5に接触されるため、基板6の搬送方
向前端6aの形状にかかわらず、この前端6aとアプリ
ケーターロール5との接触部における抵抗を小さくで
き、バックアップロール8の摩擦力により適正に基板6
を搬送することができる。例えば、図3乃至図5に示す
ような形状の端部6aを有する基板6であっても、確実
に搬送することができる。
Further, the substrate 6 in the present embodiment comes into contact with the applicator roll 5 after being brought into contact with the backup roll 8 while being kept in a horizontal state and being brought into a state of being transported by the backup roll 8, so that the substrate 6 is transported. Regardless of the shape of the front end 6a in the direction, the resistance at the contact portion between the front end 6a and the applicator roll 5 can be reduced, and the friction between the backup roll 8 and the substrate
Can be transported. For example, even a substrate 6 having an end 6a shaped as shown in FIGS. 3 to 5 can be transported reliably.

【0023】なお、本発明は前記実施の形態のものに限
定されるものではなく、必要に応じて種々変更すること
が可能である。
The present invention is not limited to the above-described embodiment, but can be variously modified as needed.

【0024】[0024]

【発明の効果】以上述べたように請求項1に係る本発明
のリバースロールコータによれば、基板の搬送方向前端
が持ち上げられることもなく、たわみによる曲げ応力に
よって基板割れが生じるのを防止できるし、搬送途中に
おいて基板の搬送方向後端が持ち上げられることもない
ため塗布面むらの発生を防止することができる。また、
基板の搬送方向前端の形状にかかわらず、この前端とア
プリケーターロールとの接触部における抵抗を小さくで
き、バックアップロールの摩擦力により適正に基板を搬
送することができる。
As described above, according to the reverse roll coater of the present invention according to the first aspect, the front end of the substrate in the transport direction is not lifted, and it is possible to prevent the substrate from being cracked by bending stress due to bending. However, since the rear end of the substrate in the transport direction is not lifted during the transport, it is possible to prevent the application surface from being uneven. Also,
Regardless of the shape of the front end in the transport direction of the substrate, the resistance at the contact portion between the front end and the applicator roll can be reduced, and the substrate can be properly transported by the frictional force of the backup roll.

【0025】また、請求項2に係るリバースロールコー
タによれば、請求項1に記載の発明の効果に加えて、リ
バースロールコータ自体の大型化を抑えつつ、より確実
に搬送中の基板の損傷を防止して基板の適正な搬送を実
行することができる。
Further, according to the reverse roll coater according to the second aspect, in addition to the effect of the first aspect, damage to the substrate during transport is more reliably achieved while suppressing the size of the reverse roll coater itself. , And proper conveyance of the substrate can be executed.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 本発明に係るリバースロールコータの実施形
態を示す概略斜視図
FIG. 1 is a schematic perspective view showing an embodiment of a reverse roll coater according to the present invention.

【図2】 本実施形態におけるバックアップロールとア
プリケーターロールとの外径の比較を示す側面図
FIG. 2 is a side view showing a comparison between the outer diameter of a backup roll and the outer diameter of an applicator roll in the present embodiment.

【図3】 本実施形態により搬送可能な基板の搬送方向
前端の形状の一例を示す概略側面図
FIG. 3 is a schematic side view illustrating an example of a shape of a front end in a transport direction of a substrate that can be transported according to the present embodiment.

【図4】 本実施形態により搬送可能な基板の搬送方向
前端の形状の他の一例を示す概略側面図
FIG. 4 is a schematic side view showing another example of the shape of the front end in the transport direction of a substrate that can be transported according to the present embodiment.

【図5】 本実施形態により搬送可能な基板の搬送方向
前端の形状の他の一例を示す概略側面図
FIG. 5 is a schematic side view showing another example of the shape of the front end in the transport direction of the substrate that can be transported according to the present embodiment.

【図6】 従来のリバースロールコータにおけるバック
アップロールによる基板の搬送レベルと搬送ローラによ
る基板の搬送レベルとの位置関係を示す概略側面図
FIG. 6 is a schematic side view showing a positional relationship between a substrate transport level of a backup roll and a substrate transport level of a transport roller in a conventional reverse roll coater.

【図7】 図6において、基板がバックアップロールに
当接してその搬送方向前端を持ち上げられた状態を示す
概略側面図
FIG. 7 is a schematic side view showing a state in which the substrate abuts on a backup roll and the front end in the transport direction is lifted in FIG. 6;

【図8】 図6において、基板の搬送方向中央部分がバ
ックアップロールに接触して搬送方向高端が持ち上げら
れる状態を示す概略側面図
FIG. 8 is a schematic side view showing a state in which a central portion in the transport direction of the substrate comes into contact with a backup roll and a high end in the transport direction is lifted in FIG. 6;

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 リバースロールコータ 5 アプリケーターロール 6 基板 7 搬送ローラ 8 バックアップロール DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Reverse roll coater 5 Applicator roll 6 Substrate 7 Transport roller 8 Backup roll

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 基板を搬送する複数の搬送ローラを水平
方向に並設し、これらの搬送ローラから搬送される基板
を塗布液塗布位置へ搬送するバックアップロールを前記
搬送ローラの搬送方向前方に配設し、このバックアップ
ロールの上方に前記基板の搬送方向と逆方向に回転しつ
つその周面を前記基板の表面に当接させて前記周面から
前記基板の表面へ塗布液を転写するアプリケーターロー
ルを配設したリバースロールコータにおいて、前記バッ
クアップロールの外径を前記アプリケーターロールの外
径よりも大径に形成するとともに、前記搬送ローラによ
る基板の搬送レベルを前記バックアップロールによる基
板の搬送レベルとほぼ等しくなるように設定したことを
特徴とするリバースロールコータ。
A plurality of transport rollers for transporting a substrate are arranged in parallel in a horizontal direction, and a backup roll for transporting a substrate transported from these transport rollers to a coating liquid application position is disposed forward of the transport rollers in the transport direction. An applicator roll for transferring a coating liquid from the peripheral surface to the surface of the substrate by rotating the substrate in a direction opposite to the transport direction of the substrate and bringing the peripheral surface into contact with the surface of the substrate above the backup roll In the reverse roll coater, the outer diameter of the backup roll is formed to be larger than the outer diameter of the applicator roll, and the transfer level of the substrate by the transfer roller is substantially equal to the transfer level of the substrate by the backup roll. A reverse roll coater characterized by being set to be equal.
【請求項2】 前記バックアップロールの外径を前記ア
プリケーターロールの外径の約1.5倍以上4倍以下に
形成したことを特徴とする請求項1に記載のリバースロ
ールコータ。
2. The reverse roll coater according to claim 1, wherein the outer diameter of the backup roll is formed to be about 1.5 times to 4 times the outer diameter of the applicator roll.
JP10311144A 1998-10-30 1998-10-30 Reverse roll coater Pending JP2000135460A (en)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN112657781A (en) * 2020-12-14 2021-04-16 湖南零零柒环保科技有限公司 Stainless steel wire film coating device for medical instrument

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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