JP2019067848A - Substrate transfer apparatus and substrate processing apparatus provided with substrate transfer apparatus - Google Patents
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Abstract
Description
この発明は、複数のローラにより基板を搬送する基板搬送装置、および、この基板搬送装置を備えた基板処理装置に関する。 The present invention relates to a substrate transfer apparatus for transferring a substrate by a plurality of rollers, and a substrate processing apparatus provided with the substrate transfer apparatus.
基板を複数のローラにより搬送する搬送装置において、被搬送基板の厚みが0.3mm〜0.7mmと薄型の場合には、基板は自重で複数のローラに沿う形状となり、基板の搬送に必要なグリップ力を得ることができる。また、より確実にグリップ力を得る必要がある場合においては、基板を上下から挟持して搬送する搬送機構が採用されている。特許文献1においては、基板を端部支持ローラと上載せローラとにより挟持して搬送する基板の搬送装置が開示されている。また、特許文献2には、基板を一対の挟みローラにより挟持して薬液中を搬送する薬液処理装置が開示されている。 In a transport apparatus for transporting a substrate by a plurality of rollers, when the thickness of the substrate to be transported is as thin as 0.3 mm to 0.7 mm, the substrate has a shape along a plurality of rollers by its own weight, which is necessary for transporting the substrate. You can get grip. In addition, in the case where it is necessary to obtain a gripping force more reliably, a transport mechanism is employed which sandwiches and transports the substrate from above and below. Patent Document 1 discloses a substrate transport apparatus that transports a substrate by nipping the substrate between an end portion supporting roller and a loading roller. In addition, Patent Document 2 discloses a chemical processing apparatus that transports the inside of a chemical by holding a substrate between a pair of pinch rollers.
最新のパッケージ技術を適用した半導体パッケージ(Panel Level Package)で使用される基板は、その厚みが2mm程度であり、最大の反り量は15mm程度となっている。このため、このような基板を上下から挟持した場合には、基板が損傷してしまう。また、このような基板は、反りそのものを矯正することが困難であり、このような基板を複数のローラ上に載置して搬送した場合には、ローラによるグリップ力が不足して適正な搬送を実行することが不可能となる。 A substrate used in a semiconductor package (Panel Level Package) to which the latest package technology is applied has a thickness of about 2 mm, and the maximum amount of warpage is about 15 mm. Therefore, when such a substrate is held from above and below, the substrate is damaged. In addition, it is difficult to correct the warp itself of such a substrate, and when such a substrate is placed on a plurality of rollers and conveyed, the gripping force by the rollers is insufficient and the conveyance is appropriate. It becomes impossible to execute.
図11は、反りの大きな基板100を、複数のローラ91を有する搬送装置により搬送する状態を示す正面図である。なお、この図においては、基板100等を、その正面側から見た状態を示している。
FIG. 11 is a front view showing a state in which the
この搬送装置は、駆動軸90に一定のピッチで固定された複数のローラ91と、これらのローラ91により搬送される基板100の搬送方向と直交する方向(図11における左右方向)の両端より外側の位置に配設され、ローラ91より大きな外形を有する鍔型ローラ92とを備える。ここで、鍔型ローラ92は、基板100の搬送方向と直交する方向の基板100の両側の端縁と当接することにより、基板100における搬送方向と直交する方向の位置を規制するためのものである。
The transfer device includes a plurality of
この図に示すように、下側が凸となる大きな反りが発生した基板100をローラ91上に載置して搬送したときには、基板100とローラ91との接触面積が小さくなることから、ローラによるグリップ力が不足し、基板100を適正に搬送することが困難となる。また、このように反りの大きい基板100をローラ91上に載置して搬送したときには、図11において破線で示すように、基板100の傾動により基板100の搬送方向と直交する方向の端縁が鍔型ローラ92の上端より上部に配置されることになり、基板100における搬送方向と直交する方向の位置を規制することが不可能となる。
As shown in this figure, when the
この発明は上記課題を解決するためになされたものであり、反りの大きな基板を搬送する場合においても、基板を適正に搬送することが可能な基板搬送装置および基板処理装置を提供することを目的とする。 The present invention has been made to solve the above-described problems, and it is an object of the present invention to provide a substrate transfer apparatus and a substrate processing apparatus capable of properly transferring a substrate even when transferring a substrate with large warpage. I assume.
請求項1に記載の発明は、矩形状の基板を水平方向に搬送する基板搬送装置において、前記基板の下面に当接した状態で回転することにより前記基板を搬送する複数の下側ローラと、前記下側ローラにより搬送される基板の搬送方向と直交する方向の両端付近の上方に配設され、前記下側ローラと同期して回転する上側ローラと、を備え、前記下側ローラの上端と前記上側ローラの下端との距離を前記基板の厚さ以上の距離としたことを特徴とする。 The invention according to claim 1 is a substrate transfer apparatus for transferring a rectangular substrate in the horizontal direction, wherein the plurality of lower rollers transfer the substrate by rotating in a state of being in contact with the lower surface of the substrate; An upper roller disposed in the vicinity of both ends in a direction orthogonal to the transport direction of the substrate transported by the lower roller, the upper roller rotating in synchronization with the lower roller; The distance between the lower roller and the lower end of the upper roller may be equal to or larger than the thickness of the substrate.
請求項2に記載の発明は、請求項1に記載の発明において、前記下側ローラにより搬送される基板の搬送方向と直交する方向の両端より外側の位置に配設され、前記下側ローラより大きな外径を有する鍔型ローラをさらに備える。 The invention according to claim 2 is, in the invention according to claim 1, disposed at a position outside the both ends in the direction orthogonal to the conveyance direction of the substrate conveyed by the lower roller, and the lower roller It further comprises a vertical roller having a large outer diameter.
請求項3に記載の発明は、請求項2に記載の発明において、前記上側ローラと前記鍔型ローラとは、前記下側ローラにより搬送される基板の搬送方向に対して同一位置に配置される。 The invention according to claim 3 is the invention according to claim 2, wherein the upper roller and the wedge-shaped roller are disposed at the same position in the conveyance direction of the substrate conveyed by the lower roller. .
請求項4に記載の発明は、請求項2に記載の発明において、前記下側ローラと前記鍔型ローラとは、同一の駆動軸に固定されて互いに同期して回転する。 According to a fourth aspect of the present invention, in the second aspect, the lower roller and the wedge-shaped roller are fixed to the same drive shaft and rotate in synchronization with each other.
請求項5に記載の発明は、請求項2に記載の発明において、前記上側ローラは、前記下側ローラの上方に配置されるとともに、前記上側ローラの下端と前記鍔型ローラの上端とは、略同一高さ位置に配置される。 According to a fifth aspect of the present invention, in the second aspect, the upper roller is disposed above the lower roller, and the lower end of the upper roller and the upper end of the wedge-shaped roller are It is arranged at substantially the same height position.
請求項6に記載の発明は、矩形状の基板を水平方向に搬送する基板搬送装置において、前記基板の搬送方向に沿って一定ピッチで配設され、互いに同期して回転する複数の下側駆動軸と、前記複数の下側駆動軸に各々固定され、前記基板の下面に当接した状態で回転することにより、前記基板を搬送する複数の下側ローラと、前記複数の下側駆動軸における前記基板の搬送方向に対して一本おきの下側駆動軸に対して、前記基板の搬送方向と直交する方向の両端より外側の位置に各々固定され、前記複数の下側ローラより大きな外径を有する鍔型ローラと、前記鍔型ローラが固定された下側駆動軸の上方に配設され、前記複数の下側駆動軸と同期して回転する複数の上側駆動軸と、前記複数の上側駆動軸における前記基板の搬送方向と直交する方向の両端付近の上方に各々固定された複数の上側ローラと、を備え、前記複数の下側ローラの上端と前記複数の上側ローラの下端との距離を前記基板の厚さ以上の距離としたことを特徴とする。 The invention according to claim 6 is a substrate transfer apparatus for transferring a rectangular substrate in a horizontal direction, wherein a plurality of lower drives are disposed at a constant pitch along the transfer direction of the substrate and rotate in synchronization with each other. A plurality of lower rollers each of which is fixed to the shaft and the plurality of lower drive shafts and which transports the substrate by rotating in a state of being in contact with the lower surface of the substrate; The outer diameter is larger than that of the plurality of lower rollers, each being fixed at a position outside both ends in a direction orthogonal to the transport direction of the substrate with respect to every other lower drive shaft with respect to the transport direction of the substrate. And a plurality of upper drive shafts disposed above the lower drive shaft to which the wedge roller is fixed, the plurality of upper drive shafts rotating in synchronization with the plurality of lower drive shafts, and the plurality of upper sides Orthogonal to the transport direction of the substrate on the drive shaft A plurality of upper rollers respectively fixed at the upper side near both ends of the direction, and a distance between an upper end of the plurality of lower rollers and a lower end of the plurality of upper rollers is a distance greater than the thickness of the substrate It is characterized by
請求項7に記載の発明は、基板に処理液を供給する処理液供給機構と、請求項1から請求項6のいずれかに記載の基板搬送装置とを備えた基板処理装置である。 The invention according to claim 7 is a substrate processing apparatus comprising a treatment liquid supply mechanism for supplying a treatment liquid to a substrate, and the substrate transfer apparatus according to any one of claims 1 to 6.
請求項1から請求項7に記載の発明によれば、上側ローラの作用によって、基板を下側ローラと確実に当接させることにより、基板を適正に搬送することが可能となる。 According to the first to seventh aspects of the present invention, the substrate can be properly transported by reliably bringing the substrate into contact with the lower roller by the action of the upper roller.
請求項2および請求項5に記載の発明によれば、上側ローラの作用により、基板の搬送方向と直交する方向の端縁が上昇することを防止することができ、基板における搬送方向と直交する方向の位置を鍔型ローラにより規制することによって、基板を適切に搬送することが可能となる。 According to the invention of the second and fifth aspects, the edge of the substrate in the direction orthogonal to the conveyance direction can be prevented from rising by the action of the upper roller, and it is orthogonal to the conveyance direction in the substrate By regulating the position of the direction by the wedge roller, it is possible to transport the substrate properly.
以下、この発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。図1は、この発明に係る基板搬送装置を適用した基板処理装置の部分側面概要図であり、図2は、その部分正面概要図である。図3は、下側ローラ11および鍔型ローラ12等を示す平面図である。図4は、上側ローラ21等を示す平面図である。図5は、下側ローラ11、鍔型ローラ12および上側ローラ21の配置を示す斜視図である。なお、図1から図4においては、駆動ギア13、23の図示を省略している。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described based on the drawings. FIG. 1 is a schematic partial side view of a substrate processing apparatus to which a substrate transfer apparatus according to the present invention is applied, and FIG. 2 is a schematic partial front view thereof. FIG. 3 is a plan view showing the
この基板搬送装置は、処理槽41内に貯留された処理液42内において、矩形状の基板100を水平方向に搬送することにより、基板100に処理液を供給して、この基板100を処理するための基板処理装置に適用されるものである。
The substrate transfer apparatus transfers the processing liquid to the
この基板搬送装置は、基板100の搬送方向(図1における左右方向であり、図2における紙面に垂直な方向であり、図3における上下方向)に沿って一定ピッチで配設され、側板31に軸支された状態で互いに同期して回転する複数の下側駆動軸10と、これらの複数の下側駆動軸10に各々一定ピッチとなる位置に固定され、基板100の下面に当接した状態で回転することにより基板100を搬送する複数の下側ローラ11と、複数の下側駆動軸10における基板100の搬送方向に対して一本おきの下側駆動軸10に対して、基板100の搬送方向と直交する方向(図1における紙面に垂直な方向であり、図2における左右方向であり、図3における左右方向)の両端より外側の位置に各々固定された一対の鍔型ローラ12と、各下側駆動軸10における左右両端の位置に配設された駆動ギア13とを備える。
The substrate transfer device is disposed at a constant pitch along the transfer direction of the substrate 100 (in the left-right direction in FIG. 1, in the direction perpendicular to the paper surface in FIG. A plurality of
また、この基板搬送装置は、鍔型ローラ12が固定された下側駆動軸10の上方に配設され、側板31に軸支された状態で複数の下側駆動軸10と同期して回転する複数の上側駆動軸20と、これらの複数の上側駆動軸20における基板100の搬送方向と直交する方向の両端付近の上方であり、下側ローラ11の上方となる位置、および、それらの間の位置に各々固定された複数の上側ローラ21と、各上側駆動軸20における左右両端の位置に配設された駆動ギア23とを備える。
In addition, the substrate transfer apparatus is disposed above the
複数の上側ローラ21のうち、上側駆動軸20の両端付近に配設された一対の上側ローラ21は、下側駆動軸10の両端部付近に固定されるとともに、基板100の搬送方向並ぶ下側ローラ11のうちの、一つおきの下側ローラ11の上方に配置されていることになる。また、複数の上側ローラ21のうち、上側駆動軸20の両端付近に配設された一対の上側ローラ21は、基板100の搬送方向に対して、鍔型ローラ12と同一位置に配置されていることになる。
Among the plurality of
駆動ギア13および駆動ギア23は、図示しない駆動モータを備えた歯車駆動機構と連結されており、互いに同期して回転する。これにより、下側駆動軸10と上側駆動軸20とが互いに同期して回転する。
The
各下側駆動軸10は、各下側ローラ11が基板100の搬送方向に対して互いに近接する位置となるように配置されている。これにより、基板100に対して間隔をあけることなく下方から支持することが可能となり、基板100を好適に搬送することができる。そして、下側ローラ11より大きな外径(下側ローラ11の倍程度の外径)を有する鍔型ローラ12を、一本おきの下側駆動軸10に配設することから、下側駆動軸10の駆動により下側ローラ11と鍔型ローラ12とを同期して駆動することができるとともに、下側ローラ11どうし、また、鍔型ローラ12どうしを、互いに近接して配置することが可能となる。
The
下側ローラ11は、処理槽41内に貯留された処理液42中にその全体が浸漬されている。このため、下側ローラ11の上端は、処理液42の液面より下方に配置される。一方、上側ローラ21は、その下方の約半分の領域が処理液中に浸漬される。このため、下側ローラ11の下端は、処理液42の液面より下方に配置される。そして、下側ローラ11の上端と上側ローラ21の下端との距離が、基板100の厚さ以上の距離となるように、下側ローラ11および上側ローラ21の外径と、下側駆動軸10および上側駆動軸20の配置とが決定されている。
The
下側ローラ11の上端と上側ローラ21の下端との距離が、基板100の厚さ以上の距離とされていることから、基板100が下側ローラ11の上端と上側ローラ21とにより挟持されることはない。この下側ローラ11の上端と上側ローラ21の下端との距離は、後述するように、基板100に対して下が凸となる方向の反りが生じた場合に、下側ローラ11上に載置されて搬送される基板100における搬送方向と直交する方向の両端部に対して、上側ローラ21の下端部が当接し、上側ローラ21により基板100の両端部が押圧されるような距離とすることが好ましい。
Since the distance between the upper end of the
すなわち、下側ローラ11の上端と上側ローラ21の下端との距離は、基板100の厚さ以上であり、かつ、下が凸となる方向の反りが生じた基板100の両端部と当接して,当該基板100の両端部を押圧する距離である。
That is, the distance between the upper end of the
また、図1および図2に示すように、上側ローラ21の下端と鍔型ローラ12の上端とは、略同一高さ位置に配置されるように、上側ローラ21および鍔型ローラ12の外径と、下側駆動軸10および上側駆動軸20の配置とが決定されている。
Further, as shown in FIGS. 1 and 2, the outer diameters of the
図6は、この発明に係る基板搬送装置により反りのない基板100を搬送する状態を示す斜視図である。
FIG. 6 is a perspective view showing a state in which a
図6に示すように、基板100に反りが生じていない場合においては、基板100は、その下面全体を、複数の下側ローラ11に支持された状態で搬送される。そして、基板100における搬送方向と直交する方向については、基板100の端縁が鍔型ローラ12と当接することにより、その位置が規制される。このため、基板100に蛇行を生じることなく、基板100を処理液42中において搬送することが可能となる。
As shown in FIG. 6, in the case where the
図7は、この発明に係る基板搬送装置により下が凸となる反りが生じた基板100を搬送する状態を示す斜視図であり、図8は、その正面図である。なお、図8においては、駆動ギア13、23の図示を省略している。
FIG. 7 is a perspective view showing a state in which a
図7および図8に示すように、基板100に下が凸となる反りが生じている場合においては、基板100は、搬送方向と直交する方向の両端部において下側ローラ11から離隔する状態となる。このため、基板100と下側ローラ11との接触面積が小さくなることから、下側ローラ11によるグリップ力が不足し、基板100を適正に搬送することが困難となる。また、このように反りの大きい基板100を下側ローラ11上に載置して搬送したときには、図11において破線で示したように、基板100の傾動により基板100の搬送方向と直交する方向の端縁が鍔型ローラ12の上端より上部に配置されることになることから、基板100における搬送方向と直交する方向の位置を規制することが不可能となる。
As shown in FIGS. 7 and 8, in the case where the
しかしながら、この発明に係る基板搬送装置においては、基板100の端縁の位置となる鍔型ローラ12の内側の位置で、かつ、下側ローラ11の上方となる位置には、上側ローラ21が配置されていることから、基板100の端縁が上側ローラ21と当接する。これにより、基板100全体が下側ローラ11に向けて押しつけられ、下側ローラ11によるグリップ力が増加し、基板100を適正に搬送することが可能となる。このとき、図1に示すように、上側ローラ21の下端部は処理液42中に浸漬していることから、基板100の全体を処理液42中浸漬した状態で搬送することが可能となる。
However, in the substrate transfer apparatus according to the present invention, the
また、図11において破線で示したように、基板100の傾動により基板100の搬送方向と直交する方向の端縁が鍔型ローラ12の上端より上部に移動しようとしても、この基板100の移動が上側ローラ21により規制される。このため、基板100における搬送方向と直交する方向の位置が適正に規制されることになる。
Further, as shown by the broken line in FIG. 11, even if the edge of the
このとき、下側ローラ11の上端と上側ローラ21の下端との距離が、基板100の厚さ以上の距離となるように、下側ローラ11および上側ローラ21の外径と下側駆動軸10および上側駆動軸20の配置とが決定されていることから、基板100の端縁が下側ローラ11の上端と上側ローラ21の下端との間に挟持されることがない。このため、反りを生じた基板100を搬送する場合においても、基板100が損傷することを防止することが可能となる。
At this time, the outer diameters of the
図9は、この発明に係る基板搬送装置により上が凸となる反りが生じた基板100を搬送する状態を示す斜視図であり、図10は、その正面図である。なお、図10においては、駆動ギア13、23の図示を省略している。
FIG. 9 is a perspective view showing a state in which a
図9および図10に示すように、基板100に上が凸となる反りが生じている場合においては、基板100は、搬送方向と直交する方向の中央部において下側ローラ11から離隔する状態となる。この場合においても、基板100と下側ローラ11との接触面積が小さくなることから、下側ローラ11によるグリップ力が不足し、基板100を適正に搬送することが困難となる。
As shown in FIGS. 9 and 10, when the
しかしながら、この発明に係る基板搬送装置においては、基板100の中央部の上方にも、上側ローラ21が配置されていることから、基板100の中央部が上側ローラ21に当接する。これにより、基板100の両端が下側ローラ11に向けて押しつけられ、下側ローラ11によるグリップ力が増加し、基板100を適正に搬送することが可能となる。このときにも、図1に示すように、上側ローラ21の下端部は処理液42中に浸漬していることから、基板100の全体を処理液42中浸漬した状態で搬送することが可能となる。
However, in the substrate transfer apparatus according to the present invention, since the
なお、このように基板100に上が凸となる反りが生じたときに、半導体パッケージで使用される基板100を搬送する場合においては、基板100の上方に形成されたデバイス領域が上側ローラ21と当接することになる。このため、上側ローラ21が基板100の上面におけるデバイス部分の間の領域と当接するように、上側ローラ21を上側駆動軸20の軸線方向に移動可能とすることが好ましい。
In the case where the
以上のように、この発明に係る基板搬送装置によれば、上側ローラ21の作用によって、基板100を下側ローラ11と確実に当接させることにより、基板100を適正に搬送することが可能となる。また、上側ローラ21の作用により、基板100の搬送方向と直交する方向の端縁が上昇することを防止することができ、基板100における搬送方向と直交する方向の位置を鍔型ローラ12により規制することによって、基板100を適切に搬送することが可能となる。
As described above, according to the substrate transfer apparatus of the present invention, the
10 下側駆動軸
11 下側ローラ
12 鍔型ローラ
13 駆動ギア
20 上側駆動軸
21 上側ローラ
23 駆動ギア
41 処理槽
42 処理液
100 基板
10
Claims (7)
前記基板の下面に当接した状態で回転することにより前記基板を搬送する複数の下側ローラと、
前記下側ローラにより搬送される基板の搬送方向と直交する方向の両端付近の上方に配設され、前記下側ローラと同期して回転する上側ローラと、
を備え、
前記下側ローラの上端と前記上側ローラの下端との距離を前記基板の厚さ以上の距離としたことを特徴とする基板搬送装置。 In a substrate transfer apparatus for transferring a rectangular substrate in the horizontal direction,
A plurality of lower rollers for transporting the substrate by rotating in a state of being in contact with the lower surface of the substrate;
An upper roller which is disposed above both ends in the direction orthogonal to the transport direction of the substrate transported by the lower roller, and rotates in synchronization with the lower roller;
Equipped with
The distance between the upper end of the lower roller and the lower end of the upper roller is equal to or greater than the thickness of the substrate.
前記下側ローラにより搬送される基板の搬送方向と直交する方向の両端より外側の位置に配設され、前記下側ローラより大きな外径を有する鍔型ローラをさらに備える基板搬送装置。 In the substrate transfer apparatus according to claim 1,
The substrate transfer apparatus further comprising a wedge-shaped roller disposed at a position outside the both ends in a direction orthogonal to the transfer direction of the substrate transferred by the lower roller and having an outer diameter larger than that of the lower roller.
前記上側ローラと前記鍔型ローラとは、前記下側ローラにより搬送される基板の搬送方向に対して同一位置に配置される基板搬送装置。 In the substrate transfer apparatus according to claim 2,
The substrate transfer device, wherein the upper roller and the wedge-shaped roller are disposed at the same position in the transfer direction of the substrate transferred by the lower roller.
前記下側ローラと前記鍔型ローラとは、同一の駆動軸に固定されて互いに同期して回転する基板搬送装置。 In the substrate transfer apparatus according to claim 2,
The lower roller and the wedge-shaped roller are fixed to the same drive shaft and rotate in synchronization with each other.
前記上側ローラは、前記下側ローラの上方に配置されるとともに、
前記上側ローラの下端と前記鍔型ローラの上端とは、略同一高さ位置に配置される基板搬送装置。 In the substrate transfer apparatus according to claim 2,
The upper roller is disposed above the lower roller,
A substrate transfer apparatus, wherein the lower end of the upper roller and the upper end of the wedge-shaped roller are disposed at substantially the same height position.
前記基板の搬送方向に沿って一定ピッチで配設され、互いに同期して回転する複数の下側駆動軸と、
前記複数の下側駆動軸に各々固定され、前記基板の下面に当接した状態で回転することにより、前記基板を搬送する複数の下側ローラと、
前記複数の下側駆動軸における前記基板の搬送方向に対して一本おきの下側駆動軸に対して、前記基板の搬送方向と直交する方向の両端より外側の位置に各々固定され、前記複数の下側ローラより大きな外径を有する鍔型ローラと、
前記鍔型ローラが固定された下側駆動軸の上方に配設され、前記複数の下側駆動軸と同期して回転する複数の上側駆動軸と、
前記複数の上側駆動軸における前記基板の搬送方向と直交する方向の両端付近の上方に各々固定された複数の上側ローラと、
を備え、
前記複数の下側ローラの上端と前記複数の上側ローラの下端との距離を前記基板の厚さ以上の距離としたことを特徴とする基板搬送装置。 In a substrate transfer apparatus for transferring a rectangular substrate in the horizontal direction,
A plurality of lower drive shafts disposed at a constant pitch along the transport direction of the substrate and rotating in synchronization with each other;
A plurality of lower rollers each of which is fixed to the plurality of lower drive shafts and which conveys the substrate by rotating in a state of being in contact with the lower surface of the substrate;
The plurality of lower drive shafts are fixed at positions outside of both ends of the lower drive shaft in a direction orthogonal to the transfer direction of the substrate with respect to every other lower drive shaft with respect to the transfer direction of the substrates in the plurality of lower drive shafts. A vertical roller having an outer diameter larger than the lower roller;
A plurality of upper drive shafts disposed above the lower drive shaft to which the wedge-shaped roller is fixed and rotating in synchronization with the plurality of lower drive shafts;
A plurality of upper rollers respectively fixed in the vicinity of both ends of the plurality of upper drive shafts in the direction orthogonal to the transport direction of the substrate;
Equipped with
A substrate transfer apparatus, wherein a distance between upper ends of the plurality of lower rollers and lower ends of the plurality of upper rollers is equal to or larger than a thickness of the substrate.
請求項1から請求項6のいずれかに記載の基板搬送装置と、
を備えたことを特徴とする基板処理装置。
A processing liquid supply mechanism that supplies the processing liquid to the substrate;
A substrate transfer apparatus according to any one of claims 1 to 6,
A substrate processing apparatus comprising:
Priority Applications (1)
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Applications Claiming Priority (1)
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|---|---|---|---|---|
| CN114864436A (en) * | 2021-02-04 | 2022-08-05 | 芝浦机械电子装置株式会社 | Substrate processing apparatus |
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-
2017
- 2017-09-29 JP JP2017189672A patent/JP2019067848A/en active Pending
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| JP2022119534A (en) * | 2021-02-04 | 2022-08-17 | 芝浦メカトロニクス株式会社 | Substrate processing device |
| JP7324788B2 (en) | 2021-02-04 | 2023-08-10 | 芝浦メカトロニクス株式会社 | Substrate processing equipment |
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