JP2000103060A - インクジェットヘッド及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 短寿命化と、圧電定数の低下とを抑制しつ
つ、ノズルの高密度化を図ることができるインクジェッ
トヘッド及びその製造方法を提供することを目的とする
ものである。 【解決手段】 圧力室を備えた基板の一方の面には、イ
ンクを吐出させるための振動板３とペロブスカイト結晶
構造を有する圧電体７とを有する圧電素子が形成され、
上記基板の他方の面には、インク流路１０が設けられた
インクジェットヘッドにおいて、上記基板は、異方性エ
ッチングが可能な感光性ガラス基板１からなり、且つ上
記振動板３と上記圧電体７とが共に薄膜から成ることを
特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、圧力室を備えた基
板の一方の面にはインク流路が設けられ、上記基板の他
方の面には、インクを吐出させるための振動板とペロブ
スカイト結晶構造を有する圧電体とから成る圧電素子が
形成されたインクジェットヘッド及びその製造方法に関
する。

【０００２】

【従来の技術】近年、パソコン等の印刷装置としてイン
クジェット記録装置を用いたプリンタが印字性能がよ
く、取り扱いが簡単で、しかも低コスト等の理由から広
く普及している。このインクジェット記録装置には、熱
エネルギーによってインク中に気泡を発生させ、その気
泡による圧力波によりインク滴を吐出させるもの、静電
力によりインク滴を吸引吐出させるもの、圧電素子のよ
うな振動子による圧力波を利用したもの等、種々の方式
がある。

【０００３】上記インクジェット記録装置のうち、圧電
素子を用いたものは、例えば、インク吐出口に連通した
インク流路と、そのインク流路に連通した圧力室と、こ
の圧力室に設けられ、圧電体が接合された振動板等によ
り構成されている。そして、圧電体に所定の電圧を印加
すると、圧電体が伸縮することによって、圧電体と振動
板とが太鼓状の振動を起こして圧力室内のインクが圧縮
され、それによりインク吐出口からインク液滴が吐出す
るような構成である。

【０００４】ところで、昨今、白黒に代わりカラーのイ
ンクジェット記録装置が普及してきたが、当該インクジ
ェット記録装置においては印字性能の向上、特に高解像
度および高速印字が求められている。そのため、インク
ジェットヘッドの微細化しマルチノズルヘッド構造を用
いて高解像度および高速印字を実現することが試みられ
ており、上記インクジェットヘッドの微細化を達成する
ためには、インクを供給するための圧電素子の小型化が
強く求められる。圧電素子の小型化のためには圧電体の
厚みを薄くして、振動板を利用してたわみ振動を発生さ
せインクを吐出させる方法が構成上可能である。しか
し、電圧に対する圧電体自身の変位量は非常に小さく、
そのため圧電素子を小型化すると圧電性の低下から十分
は応力や振動が発生せずインクを吐出することができな
い。そこで、小型、マルチノズルヘッドを有した高解像
度、高速プリンタを実現するためには薄い膜厚において
も十分な圧電性を有する圧電薄膜材料を開発し、その製
造方法を確立することが必要である。

【０００５】しかしながら、上述のように厚みの薄い圧
電体を用いて、十分なインクの吐出に必要な特性を有す
る小型の圧電素子およびインクヘッドをこれまで実現す
ることができなかった。特に、従来から用いてきた焼結
体の圧電材料では、素子を切削等の機械的な加工により
小型化してきたが、機械的加工では小型化に限界がある
上、圧電特性の劣化を招き、小型化と高解像度を両立さ
せる事は困難であった。

【０００６】そこで、以下に示すように、圧電素子を構
成する圧電体や振動板等を薄膜化することで半導体プロ
セスで一般に用いられている微細加工な可能な形状とす
るようなものが提案されている。具体的には、（１１
０）の結晶方位を有するシリコン基板を用いて、シリコ
ンの（１１０）面と（１１１）面とのエッチングレート
の差を利用する異方性エッチングにより圧力室を形成す
ると共に、シリコン基板上にスパッタ蒸着法を用いてＰ
ＺＴ〔Ｐｂ（Ｔｉ_1-x Ｚｒ_x ）Ｏ₃ ：ｘ＝０．５３〕薄
膜等の圧電体を形成するような方法である。

【０００７】しかしながら、単にスパッタ蒸着法を用い
て圧電体を形成するだけでは、ペロブスカイト結晶構造
の圧電体において、（００１）面が主成分とならないた
め、高い圧電定数を得ることができないという課題があ
る。また、シリコンの（１１０）面と（１１１）面との
エッチングレートの差を利用する異方性エッチングによ
り圧力室を形成すると、圧力室の断面形状が平行四辺形
となるため、インクジェットヘッドの作動時に振動板が
均一に加圧されず、振動板の寿命が短くなるという課題
を有していた。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、以上の事情
に鑑みなされたものであって、短寿命化と、圧電定数の
低下とを抑制しつつ、ノズルの高密度化を図ることがで
きるインクジェットヘッド及びその製造方法を提供する
ことを目的とするものである。

【０００９】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明のうちで請求項１記載の発明は、圧力室を備
えた基板の一方の面には、インクを吐出させるための振
動板とペロブスカイト結晶構造を有する圧電体とを有す
る圧電素子が形成され、上記基板の他方の面には、イン
ク流路が設けられたインクジェットヘッドにおいて、上
記基板は、異方性エッチングが可能な感光性ガラス基板
からなり、且つ上記振動板と上記圧電体とが共に薄膜か
ら成ることを特徴とする。

【００１０】上記構成の如く、基板として感光性ガラス
基板を用いれば、基板としてシリコン基板を用いた場合
の如く圧力室の断面形状が平行四辺形となることはな
い。したがって、振動板が均一に加圧されるので、振動
板の寿命が長くなって、インクジェットヘッドの寿命も
長くなる。加えて、振動板と圧電体とが共に薄膜から構
成されるので、微細加工が可能となって、ノズルの高密
度化を図ることができる。

【００１１】尚、特開平５−１７７８３１号公報に示さ
れるように、従来より、異方性エッチングが可能な基板
として感光性ガラス基板を用いることが提案されてい
る。但し、上記公報に示されるインクジェットヘッドは
薄膜化されたものではなくバルク積層構造であると考え
られるので、圧電体と振動板とを接着にて形成するか、
或いは振動板としてガラス振動板を用い、このガラス振
動板と圧電体とを融着等する必要がある。ところが、前
者の場合には、接着剤がはみ出すことがあるため高密度
化が困難であり、後者の場合にはガラス振動板のヤング
率が小さくて、インクの吐出パワーが小さくなり、この
結果インクの吐出速度が遅くなるという問題を生じる。
したがって、本発明のような効果を得ることはできな
い。

【００１２】また、請求項２記載の発明は、請求項１記
載の発明において、前記圧電体がＰＺＴ薄膜から成るこ
とを特徴とする。圧電体がＰＺＴ薄膜から構成されてい
れば、インクジェットヘッド機能が一層向上する。

【００１３】また、請求項３記載の発明は、請求項１又
は２記載の発明において、前記圧電体の結晶方位は（０
０１）面を主成分とすることを特徴とする。圧電体の結
晶方位は（００１）面を主成分としていれば、高い圧電
定数を得ることができる（圧電性が向上する）ので、振
動板に十分なたわみ振動を発生させることができる。

【００１４】また、請求項４記載の発明は、請求項３記
載の発明において、前記振動板と前記圧電体との間に
は、前記圧電体の結晶方位が（００１）面を主成分とし
易くなる補助膜が形成されていることを特徴とする。こ
のような補助膜が形成されていれば、上記請求項３に記
載の効果が一層発揮される。

【００１５】また、請求項５記載の発明は、請求項４記
載の発明において、前記補助膜として白金が用いられる
ことを特徴とする。補助膜として白金が用いられると、
圧電体の結晶方位が（００１）面を主成分とし易くなる
ということを実験により確認している。

【００１６】また、請求項６記載の発明は、請求項４又
は５記載の発明において、前記圧電体と前記補助膜との
間には、ＰＬＴ膜が設けられていることを特徴とする。
圧電体と前記補助膜との間にＰＬＴ膜が設けられている
と、より一層、圧電体の結晶方位が（００１）面を主成
分とし易くなる。これは、補助膜上に直接圧電体（ＰＺ
Ｔ膜）を形成すると、初期段階でＺｒが付着し易くなる
ため、圧電体の結晶方位において（１１１）の成分が若
干増大することになる。そこで、結晶方位が（００１）
でＺｒが入っていないＰＬＴ膜を圧電体と補助膜との間
に形成することにより、上記不都合が解消されるという
理由によるものである。

【００１７】また、上記目的を達成するために、本発明
のうちで請求項７記載の発明は、異方性エッチングが可
能な感光性ガラス基板の一方の面に、薄膜から成りイン
クを吐出させるための振動板を形成する振動板形成工程
と、上記振動板上に、ペロブスカイト結晶構造を有する
薄膜を形成する薄膜形成工程と、上記感光性ガラス基板
の他方の面からエッチングして圧力室を形成する圧力室
形成工程と、上記ペロブスカイト結晶構造を有する薄膜
をエッチングして圧電体を形成する圧電体形成工程とを
有することを特徴とする。

【００１８】上記製造方法により、前記請求項１記載の
インクジェットヘッドを容易に製造することができる。
また、前記特開平５−１７７８３１号公報に示されるイ
ンクジェットヘッドの如く、圧電体と振動板とを接着或
いは溶着するという必要性がないので、ノズルの高密度
化が容易に達成される。加えて、感光性ガラス基板の厚
みは圧力室の高さと同等であれば良いので、感光性ガラ
ス基板の厚みを小さくすることができる。したがって、
インクジェットヘッドの材料コストを低減することがで
きる他、インクジェットヘッドの小型化を図ることもで
きる。

【００１９】また、請求項８記載の発明は、請求項７記
載の発明において、前記薄膜形成工程前に、前記圧力室
に対応する部位に露光を施す露光工程を備えると共に、
前記薄膜形成工程として、４５０℃〜５５０℃、特に好
ましくは５１０℃〜５４０℃の温度範囲内で行われる高
周波スパッタ蒸着法を用いることを特徴とする。このよ
うな方法であれば、露光工程において露光部のみが結晶
核が大きくなり、更に薄膜形成工程で当該露光部が結晶
化ガラスとなる（露光部以外は非晶質ガラス）。したが
って、圧力室形成工程のエッチング時に、結晶化ガラス
となった部位のみがエッチングされ、非晶質ガラス部は
殆どエッチングされないので、オーバーエッチングを生
じることなく円滑に圧力室を形成することができる。

【００２０】尚、高周波スパッタ蒸着法における温度を
４５０℃〜５５０℃の範囲に規制するのは、４５０℃未
満では圧電素子の圧電定数が悪くなる一方、５５０℃を
超えると露光部位以外の部位も結晶化ガラスになるとい
う欠点を生じるためである。

【００２１】また、請求項９記載の発明は、請求項８記
載の発明において、前記露光工程におけるエネルギー密
度が１．５〜２．０Ｊ／ｃｍ² の範囲であることを特徴
とする。このようにエネルギー密度を規制するのは、エ
ネルギー密度が１．５Ｊ／ｃｍ ² 未満であると露光が不
十分となって露光部の結晶化が不十分となる一方、エネ
ルギー密度が２．０Ｊ／ｃｍ² を超えるとオーバー露光
となって、圧力室形成工程のエッチング時にオーバーエ
ッチングを生じることがあるという理由による。

【００２２】また、請求項１０記載の発明は、請求項
７、８又は９記載の発明において、前記圧電体はＰＺＴ
薄膜から成ることを特徴とする。また、請求項１１記載
の発明は、請求項７、８、９又は１０記載の発明におい
て、前記圧電体の結晶方位は（００１）面を主成分とす
ることを特徴とする。また、請求項１２記載の発明は、
請求項１１記載の発明において、前記振動板形成工程と
前記薄膜形成工程との間には、前記圧電体の結晶方位が
（００１）面を主成分とし易くなる補助膜を形成する補
助膜形成工程が含まれることを特徴とする。

【００２３】また、請求項１３記載の発明は、請求項１
２記載の発明において、前記補助膜として白金が用いら
れることを特徴とする。また、請求項１４記載の発明
は、請求項１２又は１３記載の発明において、前記補助
膜形成工程と前記薄膜形成工程との間には、ＰＬＴ膜を
形成するＰＬＴ膜形成工程が含まれることを特徴とす
る。

【００２４】

【発明の実施の形態】本発明の実施の形態を、図１〜図
３に基づいて、以下に説明する。図１は本発明にかかる
実施の形態のインクジェットヘッドの平面図であり、図
２は図１のインクジェットヘッドの断面図であり、図３
（ａ）〜（ｈ）は図１のインクジェットヘッドの製造工
程を示す断面図である。

【００２５】図１及び図２に示すように、本発明のイン
クジェットヘッドは厚みが０．２ｍｍの感光性ガラス基
板１を有しており、この感光性ガラス基板１には、イン
クの吐出口（図示せず）と連通すると共にインクを収容
する圧力室２が形成されている。上記感光性ガラス基板
１の一方の面には、Ｃｒから成り共通電極を兼ねる振動
板３（厚み：２．０μｍ）が形成されており、この振動
板３は後述の圧電体７により振動して、インクの吐出口
からインク滴を吐出する。また、振動板３を構成するＣ
ｒ膜のヤング率は１２×１０¹⁰Ｎ／ｍ² であるのに対し
て、後述の圧電体７を構成するＰＺＴ膜のヤング率は６
×１０Ｎ／ｍ² 程度であり、Ｃｒ膜のヤング率はＰＺＴ
膜のヤング率よりの２倍程度大きい。これによって圧電
素子が円滑に動作する。

【００２６】上記振動板３上には、Ｔｉ膜４（厚み：
０．１μｍ）と、補助膜であるＰｔ膜５（厚み：０．３
μｍ）と、ＰＬＴ膜６（厚み：０．１μｍ）とが、順に
形成されている。上記Ｔｉ膜４は、上記振動板３と上記
Ｐｔ膜５との密着性を向上させると共に、ＣｒとＰｔと
の拡散を防止するバリア層としての役割を有する。上記
Ｐｔ膜５とＰＬＴ膜６とは、圧電体７を構成するＰＺＴ
膜の結晶方位が（００１）面を主成分とするように作用
する。また、上記ＰＬＴ膜６上には、ペロブスカイト結
晶構造を有するＰＺＴから成り且つ上述したＰｔ膜５と
ＰＬＴ膜６との作用により結晶方位が（００１）面を主
成分とするよう構成された圧電体７が形成されており、
この圧電体７上には、Ｐｔから成る個別電極（上部電
極）８が形成されている。一方、前記感光性ガラス基板
１の他方の面には、前記圧力室２と連通したインク流路
９が形成された平板１０が接着されている。

【００２７】ここで、上記構造のインクジェットヘッド
を、以下のようにして作製した。先ず、所定の厚みの感
光性ガラスを、厚みが０．２ｍｍとなるまで研磨加工し
て圧力室の深さと同じ厚みを有する感光性ガラス基板１
を作製した後、図３（ａ）に示すように、この感光性ガ
ラス基板１の一方の面に、Ｃｒを高周波スパッタ蒸着法
（スパッタ条件：温度は常温、時間は１時間）にて２．
０μｍ堆積させて振動板３を形成した。次に、図３
（ｂ）に示すように、上記感光性ガラス基板１の他方の
面に、後工程で圧力室２を構成する部位（即ち、後工程
で感光性ガラス基板を貫通加工する部位）のみがＣｒで
覆われていない（即ち、圧力室２を構成する部位のみが
透明である）Ｃｒマスク１１を配置して、露光する。こ
のとき、露光部位１２のみが結晶核が大きくなり、後工
程である高周波スパッタリング蒸着法等を実施する際の
熱により結晶化ガラスとなる。尚、この際の露光条件
は、波長３６５ｎｍの光で１．８Ｊ／ｃｍ² のエネルギ
ーで露光するという条件である。

【００２８】次いで、図３（ｃ）に示すように、上記振
動板３上に、Ｔｉを高周波スパッタ蒸着法（スパッタ条
件：温度は常温、時間は１０分）にて０．１μｍ堆積さ
せてＴｉ膜４を形成した後、Ｐｔを高周波スパッタ蒸着
法（スパッタ条件：温度は５３０℃、時間は１０分）に
て０．３μｍ堆積させてＰｔ膜５を形成し、更にＰＬＴ
を高周波スパッタ蒸着法（スパッタ条件：温度は５３０
℃、時間は１０分）にて０．１μｍ堆積させてＰＬＴ膜
６を形成した。この後、図３（ｄ）に示すように、上記
ＰＬＴ膜６上に、ＰＺＴを高周波スパッタ蒸着法（スパ
ッタ条件：温度は５３０℃、時間は２時間）にて４．０
μｍ堆積させてＰＺＴ膜１３を形成した。尚、前記上記
Ｐｔ膜５及びＰＬＴ膜６の形成工程では、スパッタ温度
が５３０℃と高温であるため、前記露光工程における露
光部位１２が結晶化するが、スパッタ時間が短いため、
十分に結晶化することができない。しかし、ＰＺＴ膜１
３形成工程では、スパッタ温度が５３０℃と高温であ
り、しかもスパッタ時間が長いため、露光部位１２を確
実に結晶化することができる。

【００２９】しかる後、図３（ｅ）に示すように、基板
温度を室温にまで温度を低下させて、上記ＰＺＴ膜１３
上にＰｔをスパッタ蒸着法にて１．０μｍ堆積させてＰ
ｔ膜１４を形成した。次に、図３（ｆ）に示すように、
感光性ガラス基板１の下面側（図中Ａ方向）から、３０
％のフッ酸溶液をスプレーし、上記結晶化した露光部位
１２をエッチングして圧力室２を形成した。次いで、図
３（ｇ）に示すように、前記Ｐｔ膜１４上にレジストパ
ターンを形成した後、ＲＩＥ（リアクティブ・イオン・
エッチング）法でエッチングを行い、個別電極（上部電
極）８を形成した。この後、ＰＺＴ膜１３を個別化する
ためのレジストパターンを形成し、更にＨＦとＨＮＯ₃
との混合水溶液でエッチングを行うことにより圧電体７
を形成した。これにより、インクジェットヘッドのアク
チュエータを得ることができる。最後に、ＳＵＳ薄板を
エッチングやプレス加工してインク流路９が形成された
平板１０を感光性ガラス基板１の下面に接着することに
よりインクジェットヘッドを製造した。

【００３０】ここで、振動板３としては上記Ｃｒ膜に限
定するものではなく、ＳＵＳや、Ｔｉ、Ｗ、Ｍｏやポリ
シリコン等を用いることができる。更に、ａ−Ｓｉ₃ Ｎ
_4-xＯ_x （０．０２＞Ｘ＞３．５）をプラズマＣＶＤ法
で成膜することによって作製することが可能である。ま
た、振動板３の厚みは上記の如く２．０μｍに限定する
ものではないが、１．０〜５．０μｍの範囲であるのが
望ましい。これは、振動板３の厚みが１．０μｍ未満で
あると十分な応力や振動が発生しない一方、振動板３の
厚みが５．０μｍを超えるとこれに伴って圧電体７の厚
みも大きくする必要が生じてインクジェットヘッドの大
型化を招くという課題を有するからである。

【００３１】更に、Ｔｉ膜４、Ｐｔ膜５及びＰＬＴ膜６
の厚みは上記に示す値に限定するものではなく、各々、
Ｔｉ膜４は０．０５〜０．１μｍの範囲、Ｐｔ膜５は
０．１〜０．５μｍの範囲、ＰＬＴ膜６は０．０５〜
０．１μｍの範囲であれば、上記と同様の効果がある。
尚、このような範囲が好ましい理由は、各膜４・５・６
が最低値未満であると各膜４・５・６の有する機能を十
分に発揮することができない一方、各膜４・５・６が最
高値を超えるとインクジェットヘッドの大型化を招くと
いう課題を有するからである。加えて、上部電極８とし
てはＰｔに限定するものではなくＡｕであっても良い。
また、上部電極８の形成方法としては、真空蒸着法を用
いることも可能である。

【００３２】また、感光性ガラス基板１のエッチングと
しては前記スプレー法に限定するものではなく、ディッ
プ法で行っても良い。但し、ディップ法で行った場合に
は、作業時間が長くなり、しかもオーバーエッチングす
る可能性が高くなるということから、スプレー法で行う
のが望ましい。更に、感光性ガラス基板１をエッチング
する際には、ＰＺＴ膜１３等の堆積面（側面）はレジス
ト等で覆ってＨＦ溶液から保護するのが望ましい。加え
て、ＰＺＴ膜１３の成膜時間は２時間に限定するもので
はなく、１．５〜３時間の範囲であれば上記と同様の効
果を有する。

【００３３】

【実施例】〔実施例１〕実施例１としては上記発明の実
施の形態に示す方法により作製したインクジェットヘッ
ドを用いた。このようにして作製したインクジェットヘ
ッドを、以下、本発明ヘッドＡと称する。

【００３４】〔比較例〕シリコン基板上に、高周波スパ
ッタ蒸着法にてＰＺＴから成る圧電体（Ｐｔ膜とＰＬＴ
膜は存在しない圧電体）を形成することにより、インク
ジェットヘッドを作製した。このようにして作製したイ
ンクジェットヘッドを、以下、比較ヘッドＸと称する。

【００３５】〔実験〕上記本発明ヘッドＡと比較ヘッド
Ｘとにおける圧電定数（ｄ₃₁）を調べたところ、本発明
ヘッドＡではｄ₃₁＝１００ｐＣ／Ｎであり非常に高い値
であるのに対して、比較ヘッドＸではｄ₃₁＝４５ｐＣ／
Ｎであり非常に低い値であることが認められた。

【００３６】

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
インクジェットヘッドの短寿命化と、圧電定数の低下と
を抑制しつつ、ノズルの高密度化を図ることができ、且
つこのような優れたインクジェットヘッドを容易に製造
することができるといった効果を奏する。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明にかかる実施の形態のインクジェットヘ
ッドの平面図である。

【図２】図１のインクジェットヘッドの断面図である。

【図３】図３（ａ）〜（ｈ）は図１のインクジェットヘ
ッドの製造工程を示す断面図である。

【符号の説明】

１：感光性ガラス基板 ２：圧力室 ３：振動板 ４：Ｔｉ膜 ５：Ｐｔ膜 ６：ＰＬＴ膜 ７：圧電体 ８：個別電極 ９：インク流路 １０：平板 １１：Ｃｒマスク １２：露光部位 １３：ＰＺＴ膜 １４：Ｐｔ膜

Claims (14)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 圧力室を備えた基板の一方の面には、イ
   ンクを吐出させるための振動板とペロブスカイト結晶構
   造を有する圧電体とを有する圧電素子が形成され、上記
   基板の他方の面には、インク流路が設けられたインクジ
   ェットヘッドにおいて、 上記基板は、異方性エッチングが可能な感光性ガラス基
   板からなり、且つ上記振動板と上記圧電体とが共に薄膜
   から成ることを特徴とするインクジェットヘッド。
2. 【請求項２】 前記圧電体がＰＺＴ薄膜から成る請求項
   １記載のインクジェットヘッド。
3. 【請求項３】 前記圧電体の結晶方位は（００１）面を
   主成分とする、請求項１又は２記載のインクジェットヘ
   ッド。
4. 【請求項４】 前記振動板と前記圧電体との間には、前
   記圧電体の結晶方位が（００１）面を主成分とし易くな
   る補助膜が形成されている、請求項３記載のインクジェ
   ットヘッド。
5. 【請求項５】 前記補助膜として白金が用いられる、請
   求項４記載のインクジェットヘッド。
6. 【請求項６】 前記圧電体と前記補助膜との間には、Ｐ
   ＬＴ膜が設けられている、請求項４又は５記載のインク
   ジェットヘッド。
7. 【請求項７】 異方性エッチングが可能な感光性ガラス
   基板の一方の面に、薄膜から成りインクを吐出させるた
   めの振動板を形成する振動板形成工程と、 上記振動板上に、ペロブスカイト結晶構造を有する薄膜
   を形成する薄膜形成工程と、 上記感光性ガラス基板の他方の面から感光性ガラス基板
   をエッチングして圧力室を形成する圧力室形成工程と、 上記ペロブスカイト結晶構造を有する薄膜をエッチング
   して圧電体を形成する圧電体形成工程と、 を有することを特徴とするインクジェットヘッドの製造
   方法。
8. 【請求項８】 前記薄膜形成工程前に、前記圧力室に対
   応する部位に露光を施す露光工程を備えると共に、前記
   薄膜形成工程として、４５０℃〜５５０℃、特に好まし
   くは５１０℃〜５４０℃の温度範囲内で行われる高周波
   スパッタ蒸着法を用いる、請求項７記載のインクジェッ
   トヘッドの製造方法。
9. 【請求項９】 前記露光工程におけるエネルギー密度が
   １．５〜２．０Ｊ／ｃｍ² の範囲である、請求項８記載
   のインクジェットヘッドの製造方法。
10. 【請求項１０】 前記圧電体はＰＺＴ薄膜から成る、請
    求項７、８又は９記載のインクジェットヘッドの製造方
    法。
11. 【請求項１１】 前記圧電体の結晶方位は（００１）面
    を主成分とする、請求項７、８、９又は１０記載のイン
    クジェットヘッドの製造方法。
12. 【請求項１２】 前記振動板形成工程と前記薄膜形成工
    程との間には、前記圧電体の結晶方位が（００１）面を
    主成分とし易くなる補助膜を形成する補助膜形成工程が
    含まれる、請求項１１記載のインクジェットヘッドの製
    造方法。
13. 【請求項１３】 前記補助膜として白金が用いられる、
    請求項１２記載のインクジェットヘッドの製造方法。
14. 【請求項１４】 前記補助膜形成工程と前記薄膜形成工
    程との間には、ＰＬＴ膜を形成するＰＬＴ膜形成工程が
    含まれる、請求項１２又は１３記載のインクジェットヘ
    ッドの製造方法。