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JP2000174079A - Probe cleaning method and apparatus - Google Patents

Probe cleaning method and apparatus

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JP2000174079A
JP2000174079A JP10348713A JP34871398A JP2000174079A JP 2000174079 A JP2000174079 A JP 2000174079A JP 10348713 A JP10348713 A JP 10348713A JP 34871398 A JP34871398 A JP 34871398A JP 2000174079 A JP2000174079 A JP 2000174079A
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Japan
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probe
tip
cleaning
air
cleaning device
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JP10348713A
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Japanese (ja)
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Yoshie Hasegawa
義栄 長谷川
Masayoshi Hasegawa
正義 長谷川
Tadashi Sugiyama
正 杉山
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Micronics Japan Co Ltd
Original Assignee
Micronics Japan Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 プローブへの付着物を確実に除去するこ
と 【解決手段】 プローブの清掃技術は、1以上のプロー
ブの先端部付近の空気を吸引しつつ、プローブ材料又は
プローブへの付着物の材料に応じた極性にイオン化した
空気をプローブの先端部付近に吹き付ける。
(57) [Summary] [Object] To surely remove deposits on a probe. [PROBLEMS] To clean a probe, a probe material or a probe is sucked in air near one or more probe tips. Is blown near the tip of the probe with ionized air having a polarity corresponding to the material of the deposit.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、集積回路のような
平板状被検査体の通電試験に用いるプローブカードのプ
ローブを清掃する方法及び装置に関する。
[0001] 1. Field of the Invention [0002] The present invention relates to a method and an apparatus for cleaning a probe of a probe card used for a conduction test of a flat test object such as an integrated circuit.

【0002】[0002]

【従来の技術】集積回路の通電試験に用いるプローブカ
ードにおいては、通電試験時にプローブの先端(針先)
が集積回路の電極部に押圧されて電極部を擦り、電極部
の一部を削り取ることから、電極部の削り屑のような異
物がプローブの先端に付着することを避けることができ
ない。
2. Description of the Related Art In a probe card used for an electricity test of an integrated circuit, a probe tip (needle tip) is used at the time of an electricity test.
Is pressed by the electrode part of the integrated circuit to rub the electrode part and scrape off a part of the electrode part. Therefore, it is unavoidable that foreign matter such as shavings of the electrode part adhere to the tip of the probe.

【0003】そのような異物がプローブの先端に付着し
ていると、プローブの先端と集積回路の電極部との間の
電気的接触状態が不確実になり、その結果検査自体が不
正確になる。このため、この種のプローブカードにおい
ては、プローブの先端に付着している除去する清掃作業
が行われている。
If such foreign matter adheres to the tip of the probe, the electrical contact between the tip of the probe and the electrode portion of the integrated circuit becomes uncertain, and as a result, the inspection itself becomes inaccurate. . For this reason, in this type of probe card, a cleaning operation for removing the probe attached to the tip of the probe is performed.

【0004】この種の清掃技術の1つとして、圧縮空気
をプローブの先端部に吹き付けるものがある。しかし、
この従来技術では、付着物の一部は除去されるが、大部
分の付着物は除去されない。
One of such cleaning techniques is to blow compressed air to the tip of a probe. But,
In this conventional technique, a part of the deposit is removed, but most of the deposit is not removed.

【0005】清掃技術の他の1つとして、シート材に砥
粒を塗布して研磨材層を形成したサンドペーパのような
研磨部材、スポンジのような基材の表面層に砥流を混入
して研磨材層を形成した研磨部材等を用い、プローブの
先端を研磨材層に押圧している。
As another cleaning technique, an abrasive flow is mixed with a polishing member such as sandpaper in which an abrasive layer is formed by applying abrasive grains to a sheet material, or a surface layer of a base material such as a sponge. The tip of the probe is pressed against the abrasive layer using an abrasive member or the like having the abrasive layer formed thereon.

【0006】しかし、この従来技術では、圧縮空気をプ
ローブの先端部に吹き付ける技術に比べると多量の付着
物を除去することはできるが、それでも多くの付着物が
除去されることなく残存する。
However, in this conventional technique, a large amount of deposits can be removed as compared with the technique in which compressed air is blown to the tip of the probe. However, many deposits remain without being removed.

【0007】本発明者らは、種々の実験を行った結果、
多量の付着物が残存する原因は、プローブ又は付着物が
帯電しているためであることを見いだした。図4に示す
ように、一般的な集積回路の電極部用材料の酸化物であ
るアルミナは一般に正のイオンを有するのに対し、一般
的なプローブ用材料であるタングステンは一般に負のイ
オンを有する。このため、両者は付着しやすく、分離し
にくい。図4において、縦軸はぜーた電位を示し、横軸
はpHを示す。
The present inventors have conducted various experiments, and as a result,
It has been found that the reason why a large amount of attached matter remains is that the probe or the attached matter is charged. As shown in FIG. 4, alumina, which is an oxide of a general electrode material of an integrated circuit, generally has positive ions, while tungsten, which is a general probe material, generally has negative ions. . For this reason, both adhere easily and are hard to separate. In FIG. 4, the vertical axis indicates zeta potential, and the horizontal axis indicates pH.

【0008】[0008]

【解決しようとする課題】それゆえに、プローブの清掃
技術においては、付着物をプローブから確実に除去する
ことが重要である。
Therefore, in the probe cleaning technique, it is important to surely remove the deposit from the probe.

【0009】[0009]

【解決手段、作用及び効果】本発明の清掃方法は、イオ
ン化した空気を1以上のプローブの先端部付近に吹き付
けることを含む。また、本発明の清掃装置は、イオン化
した空気を1以上のプローブの先端部付近に吹き付ける
イオナイザとを含む。
The cleaning method of the present invention includes blowing ionized air near the tip of one or more probes. The cleaning device of the present invention also includes an ionizer that blows ionized air near the tip of one or more probes.

【0010】イオナイザは、空気をプローブの先端部へ
の付着物の電位と逆の電位にイオン化するように、予め
設定される。そのような設定は、プローブ材料により決
定することができる。そのような空気がプローブの先端
部に吹き付けられると、プローブの先端部への付着物
は、電気的に中和されるか、又はプローブ先端部の電位
の極性と同極性に帯電され、プローブ先端部から分離さ
れやすい。
The ionizer is preset to ionize the air to a potential opposite to that of the deposit on the probe tip. Such settings can be determined by the probe material. When such air is blown to the tip of the probe, the deposits on the tip of the probe are electrically neutralized or charged to the same polarity as the polarity of the potential of the probe tip. It is easy to be separated from the part.

【0011】上記の結果、本発明によれば、そのような
付着物は、自然に又は続いて吹き付けられる空気により
プローブの先端部から離される。
As a result, according to the present invention, such deposits are separated from the tip of the probe, either spontaneously or by subsequently blowing air.

【0012】本発明に係る清掃用方及び装置は、さら
に、前記イオン化した空気を前記プローブの先端部付近
に吹き付ける間、前記プローブの先端部付近の空気を吸
引することを含むことができる。このようにすれば、プ
ローブへの付着物は、プローブ先端部付近の空気と共に
吸引されて所定の箇所に集められる。
[0012] The cleaning method and apparatus according to the present invention may further include suctioning air near the tip of the probe while blowing the ionized air near the tip of the probe. In this way, the substances adhering to the probe are sucked together with the air near the tip of the probe and collected at a predetermined location.

【0013】本発明に係る清掃用方及び装置は、さら
に、研磨部材を設けてプローブの先端をその研磨部材に
押し付けることができる。イオン化した空気を吹き付け
る前にプローブ先端を研磨部材に押し付けるならば、多
少の付着物が研磨部材により除去されるから、残りの付
着物をプローブ先端部の電位の極性に容易に帯電させる
ことができる。イオン化した空気を吹き付けた後にプロ
ーブ先端を研磨部材に押し付けるならば、付着物をより
確実に除去することができる。
In the cleaning method and apparatus according to the present invention, a polishing member can be further provided, and the tip of the probe can be pressed against the polishing member. If the probe tip is pressed against the polishing member before the ionized air is blown, some of the deposits are removed by the polishing member, so that the remaining deposits can be easily charged to the polarity of the potential of the probe tip. . If the probe tip is pressed against the polishing member after the ionized air is blown, it is possible to more reliably remove the deposit.

【0014】[0014]

【発明の実施の形態】図1を参照するに、清掃装置10
は、集積回路の通電試験に用いるプローブカード12に
備えられた複数のプローブ14の先端部の清掃に用いら
れる。プローブカード12は、複数のプローブ14を配
線基板16に配置した既知のものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Referring to FIG.
Is used for cleaning the tips of a plurality of probes 14 provided on a probe card 12 used for an electrical test of an integrated circuit. The probe card 12 is a known one in which a plurality of probes 14 are arranged on a wiring board 16.

【0015】清掃装置10は、板状のベース部材20
と、ベース部材20の上に配置されたイオナイザ22
と、排気用空気通路24とを含む。
The cleaning device 10 includes a plate-like base member 20.
And an ionizer 22 disposed on the base member 20
And an exhaust air passage 24.

【0016】ベース部材20は、ベース部材20を貫通
する吸引口26を中央に有する。吸引口26の上部分
は、直径寸法が上方ほど大きい截頭円錐形の形状を有す
る。
The base member 20 has a suction port 26 at the center which penetrates the base member 20. The upper portion of the suction port 26 has a frusto-conical shape having a larger diameter as it goes upward.

【0017】イオナイザ22は、空気を正又は負にイオ
ン化する除電装置として市販されている既知のものであ
り、空気を吸引口26の上方の箇所に向けて斜め上方に
噴出する噴出口を有する。イオナイザ22は、高圧空気
を図示しない圧縮機からチューブ28を経て受け、その
空気をイオン化する。
The ionizer 22 is a known ionization device which ionizes air positively or negatively and is commercially available. The ionizer 22 has a jet port for jetting air obliquely upward toward a location above the suction port 26. The ionizer 22 receives high-pressure air from a compressor (not shown) via a tube 28 and ionizes the air.

【0018】排気用空気通路24は、チューブ、ホース
等により形成されており、また一端をベース部材20の
下側において吸引口26に連通され、他端を図示しない
排気装置に接続されている。
The exhaust air passage 24 is formed of a tube, a hose, or the like. One end of the exhaust air passage 24 communicates with the suction port 26 below the base member 20, and the other end is connected to an exhaust device (not shown).

【0019】図2に示すように、清掃装置10は、吸引
口26がプローブ14に向けて上方に開放するように、
検査装置30内に少なくとのX方向(図2において、左
右方向)へ移動可能に配置される。
As shown in FIG. 2, the cleaning device 10 is configured so that the suction port 26 opens upward toward the probe 14.
The inspection device 30 is disposed so as to be movable in at least the X direction (in FIG. 2, the left and right direction).

【0020】集積回路32は、検査ステージ34に配置
された検査テーブル36に配置されている。検査ステー
ジ34は、検査テーブル36及び集積回路32を、X方
向,Y方向(図2において、紙面に垂直の方向),Z方
向(図2において、上下方向)及びθ方向(上下方向に
伸びる軸線の周りの方向)へ移動させる既知の機構であ
る。
The integrated circuit 32 is arranged on an inspection table 36 arranged on an inspection stage 34. The inspection stage 34 moves the inspection table 36 and the integrated circuit 32 along the X direction, the Y direction (the direction perpendicular to the paper surface in FIG. 2), the Z direction (the vertical direction in FIG. 2), and the θ direction (the axis extending in the vertical direction). (A direction around).

【0021】イオナイザ22は、空気をプローブの先端
部への付着物の電位と逆の電位に、換言すればプローブ
材料の帯電と同じ極性にイオン化するように、予め設定
される。イオン化すべき極性は、プローブ14の材料の
種類、集積回路32の電極部の材料の種類等により決定
することができる。
The ionizer 22 is preset so as to ionize the air to a potential opposite to the potential of the substance adhering to the tip of the probe, in other words, to the same polarity as the charge of the probe material. The polarity to be ionized can be determined by the type of material of the probe 14, the type of material of the electrode portion of the integrated circuit 32, and the like.

【0022】集積回路32の通電試験の間、検査ステー
ジ34は検査テーブル36及び集積回路32をプローブ
カード12に下の検査位置に移動させており、清掃装置
10は、検査位置から離れた待機位置に移動されてい
る。
During the power-on test of the integrated circuit 32, the inspection stage 34 moves the inspection table 36 and the integrated circuit 32 to the inspection position below the probe card 12, and the cleaning device 10 moves to the standby position away from the inspection position. Has been moved to.

【0023】清掃時、検査ステージ34は検査テーブル
36及び集積回路32を検査位置から待機位置と異なる
位置、例えば集積回路の受け渡し位置に移動され、清掃
装置10は検査位置に移動される。
At the time of cleaning, the inspection stage 34 moves the inspection table 36 and the integrated circuit 32 from the inspection position to a position different from the standby position, for example, a transfer position of the integrated circuit, and the cleaning device 10 is moved to the inspection position.

【0024】清掃装置10は、検査位置において、チュ
ーブ28を介して圧縮空気をイオナイザ22に受け、そ
の空気をイオナイザ22においてプローブ14の先端部
への付着物の電位と逆の電位にイオン化した後イオナイ
ザ22からプローブ14の先端部に噴出する。
In the inspection position, the cleaning device 10 receives compressed air through the tube 28 into the ionizer 22 and ionizes the air to a potential opposite to the potential of the deposit on the tip of the probe 14 in the ionizer 22. It is ejected from the ionizer 22 to the tip of the probe 14.

【0025】このように付着物の電位と逆の電位にイオ
ン化された空気がプローブ14の先端部に吹き付けられ
ると、プローブ14の先端部への付着物は、電気的に中
和されるか、又はプローブ先端部の電位の極性と同極性
に帯電され、プローブ先端部から分離されやすくなり、
自然に又は続いて吹き付けられる空気によりプローブの
先端部から確実に離される。
When the air ionized to the potential opposite to the potential of the deposit is blown to the tip of the probe 14, the deposit on the tip of the probe 14 is electrically neutralized or Or it is charged to the same polarity as the polarity of the potential of the probe tip, it is easy to separate from the probe tip,
Naturally or subsequently blown air ensures separation from the probe tip.

【0026】イオン化した空気の噴出と同時に、清掃装
置10は、プローブ14の先端部付近の空気を吸引口2
6に吸引する。これにより、付着物は、プローブ先端部
付近の空気と共に吸引されて所定の箇所に集められる。
空気の流れを、図1及び図3において矢印で示す。
At the same time as the ejection of the ionized air, the cleaning device 10 removes the air near the tip of the probe 14 from the suction port 2.
Suction into 6. Thereby, the attached matter is sucked together with the air near the tip of the probe and collected at a predetermined location.
The flow of air is indicated by arrows in FIGS.

【0027】上記の結果として、清掃装置10によれ
ば、プローブ14への付着物を確実に除去することがで
きる。また、付着物を溶解させる薬品を用いる必要がな
いから、安全であり、そのような薬品により作業環境を
悪化させるおそれがない。
As a result of the above, according to the cleaning device 10, it is possible to surely remove the deposits on the probe 14. Further, since there is no need to use a chemical for dissolving the deposits, it is safe and there is no possibility that such a chemical will deteriorate the working environment.

【0028】図3を参照するに、清掃装置40は、研磨
部材42をベース部材20に配置している、研磨部材4
2は、シート材に砥粒を塗布して研磨材層を形成したも
の、又はスポンジのような基材の表面層に砥流を混入し
て研磨材層を形成したのもであり、プローブ14の真下
となる位置に配置されている。
Referring to FIG. 3, the cleaning device 40 includes a polishing member 4 having a polishing member 42 disposed on the base member 20.
No. 2 shows a polishing material layer formed by applying abrasive grains to a sheet material, or a polishing material layer formed by mixing an abrasive flow into a surface layer of a base material such as a sponge. Is located directly below.

【0029】ベース部材20の吸引口26は、清掃装置
40においては、プローブ14の先端部付近の空気を吸
引するように、研磨部材42の周りに開放している。
In the cleaning device 40, the suction port 26 of the base member 20 is opened around the polishing member 42 so as to suck air near the tip of the probe 14.

【0030】この清掃装置40を用いる場合、イオン化
した空気をプローブ14の先端部に吹き付ける前又は吹
き付けた後に、プローブ14の先端を研磨材42の研磨
材層に押し付ける。
When the cleaning device 40 is used, the tip of the probe 14 is pressed against the abrasive layer of the abrasive 42 before or after the ionized air is sprayed on the tip of the probe 14.

【0031】イオン化した空気をプローブ14の先端部
に吹き付ける前に、プローブ14の先端を研磨部材に押
し付けるならば、予め多少の付着物が研磨部材42によ
り除去されるから、残りの付着物をプローブ先端部の電
位の極性に容易に帯電させることができる。
If the tip of the probe 14 is pressed against the polishing member before the ionized air is blown against the tip of the probe 14, some of the deposits are removed in advance by the polishing member 42. The tip can be easily charged to the polarity of the potential.

【0032】これに対し、イオン化した空気をプローブ
14の先端部に吹き付けた後に、プローブ14の先端を
研磨部材42に押し付けるならば、付着物をより確実に
除去することができる。
On the other hand, if the tip of the probe 14 is pressed against the polishing member 42 after the ionized air is blown to the tip of the probe 14, the deposits can be more reliably removed.

【0033】本発明は、上記実施例に限定されない。本
発明は、集積回路の通電試験用プローブを清掃する技術
のみならず、液晶基板のような他の平板状非検査体の通
電試験用プローブを清掃する技術にも適用することがで
きる。本発明は、その趣旨を逸脱しない限り、種々変更
することができる。
The present invention is not limited to the above embodiment. The present invention can be applied not only to the technique for cleaning the probe for conducting test of the integrated circuit, but also to the technique for cleaning the probe for conducting test of another flat non-inspection body such as a liquid crystal substrate. The present invention can be variously modified without departing from the gist thereof.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明に係る清掃装置の一実施例を示す正面図
である。
FIG. 1 is a front view showing an embodiment of a cleaning device according to the present invention.

【図2】図1に示す清掃装置を配置した検査装置の一実
施例を示す図であって、(A)は通電試験時の清掃装置
とプローブカードとの位置関係を示し、(B)は清掃地
の清掃装置とプローブカードとの位置関係を示す。
FIGS. 2A and 2B are diagrams showing an embodiment of an inspection device in which the cleaning device shown in FIG. 1 is arranged, wherein FIG. 2A shows a positional relationship between the cleaning device and a probe card during an energization test, and FIG. 3 shows a positional relationship between a cleaning device of a cleaning site and a probe card.

【図3】本発明に係る清掃装置の他の実施例を示す正面
図である。
FIG. 3 is a front view showing another embodiment of the cleaning device according to the present invention.

【図4】各種の金属材料のゼータ電位とpHとの関係を
示す図である。
FIG. 4 is a diagram showing a relationship between zeta potential and pH of various metal materials.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10,40 清掃装置 12 プローブカード 14 プローブ 20 ベース部材 22 イオナイザ 24 排気用空気通路 26 吸引口 30 検査装置 32 集積回路 34 検査ステージ 36 検査テーブル 42 研磨部材 10, 40 Cleaning device 12 Probe card 14 Probe 20 Base member 22 Ionizer 24 Exhaust air passage 26 Suction port 30 Inspection device 32 Integrated circuit 34 Inspection stage 36 Inspection table 42 Polishing member

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 杉山 正 東京都武蔵野市吉祥寺本町2丁目6番8号 株式会社日本マイクロニクス内 Fターム(参考) 2G011 AA17 AC13 AC14 AE03 2G032 AA00 AF02 AL00 AL03 4M106 AA02 BA01 BA14 DD18 DD22 DD30 9A001 BB06 KK26 KK63 LL05  ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (72) Inventor Tadashi Sugiyama 2-6-8 Kichijoji Honcho, Musashino-shi, Tokyo F-term in Japan Micronics Co., Ltd. (reference) 2G011 AA17 AC13 AC14 AE03 2G032 AA00 AF02 AL00 AL03 4M106 AA02 BA01 BA14 DD18 DD22 DD30 9A001 BB06 KK26 KK63 LL05

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 イオン化した空気を1以上のプローブの
先端部付近に吹き付けることを含む、プローブの清掃方
法。
1. A method for cleaning a probe, comprising blowing ionized air near the tip of one or more probes.
【請求項2】 さらに、前記イオン化した空気を前記プ
ローブの先端部付近に吹き付ける間、前記プローブの先
端部付近の空気を吸引することを含む、請求項1に記載
の清掃方法。
2. The cleaning method according to claim 1, further comprising sucking air near the tip of the probe while blowing the ionized air near the tip of the probe.
【請求項3】 さらに、前記イオン化した空気を吹き付
ける前に又は吹き付けた後に前記プローブの先端を研磨
部材に押し付けることを含む、請求項1又は2に記載の
清掃方法。
3. The cleaning method according to claim 1, further comprising pressing the tip of the probe against a polishing member before or after blowing the ionized air.
【請求項4】 イオン化した空気を1以上のプローブの
先端部付近に吹き付けるイオナイザとを含む、プローブ
の清掃装置。
4. An apparatus for cleaning a probe, comprising: an ionizer for blowing ionized air near a tip of one or more probes.
【請求項5】 さらに、前記プローブの先端部に向けて
開放する吸引口を有するベース部材と、前記吸引口に連
通された排気用空気通路とを含み、前記イオナイザは前
記ベース部材に配置されている、請求項4に記載の清掃
装置。
5. The apparatus according to claim 1, further comprising: a base member having a suction port opened toward a distal end portion of the probe; and an exhaust air passage communicating with the suction port, wherein the ionizer is disposed on the base member. The cleaning device according to claim 4, wherein
【請求項6】 さらに、前記プローブの先端を押し付け
るべく前記ベース部材に配置された研磨部材を含む、請
求項4又は5に記載の清掃装置。
6. The cleaning device according to claim 4, further comprising a polishing member disposed on the base member to press a tip of the probe.
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