JP2000031648A - Manufacturing method of multilayer printed wiring board - Google Patents
Manufacturing method of multilayer printed wiring boardInfo
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 自在な層間接続が可能であり、接続ランドの
小径化、回路機器の軽薄短小化への対応が可能な多層プ
リント配線板の製造方法を提供する。
【解決手段】 皮膜形成工程で、積層基板120の下面
に剥離可能に皮膜132を形成し、孔開け工程で、皮膜
132を形成した積層基板120にスルーホール142
を形成する。次に、メッキ工程で、スルーホール142
を形成した積層基板120に銅メッキを施し、スルーホ
ール142内にメッキ材を充填させる。そして、剥離工
程で、皮膜132を剥離することで、スルーホール14
2に対応する領域のメッキ層を突起状の接触子160と
して残存させた状態に形成する。この後、積層工程で2
つの基板110、120を下面の接触子160と上面の
配線パターンとを重ねた状態で溶融樹脂により溶着し、
配線パターン形成工程で、基板120の上面のメッキ層
をエッチングして配線パターンを形成する。
(57) [Problem] To provide a method of manufacturing a multilayer printed wiring board capable of freely connecting between layers, reducing the diameter of connection lands, and reducing the weight and thickness of circuit devices. SOLUTION: In a film forming step, a film 132 is formed releasably on the lower surface of the laminated substrate 120, and in a hole making step, a through hole 142 is formed in the laminated substrate 120 on which the film 132 is formed.
To form Next, in the plating step, the through holes 142
Copper plating is applied to the laminated substrate 120 on which is formed, and the plating material is filled in the through holes 142. Then, in the peeling step, the film 132 is peeled off, so that the through holes 14 are removed.
The plating layer in the region corresponding to No. 2 is formed in a state where it is left as a protruding contact 160. After this, 2
The two substrates 110 and 120 are welded with a molten resin in a state where the contact 160 on the lower surface and the wiring pattern on the upper surface are overlapped,
In a wiring pattern forming step, the plating layer on the upper surface of the substrate 120 is etched to form a wiring pattern.
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、多層プリント配線
板の製造方法に関する。[0001] The present invention relates to a method for manufacturing a multilayer printed wiring board.
【0002】[0002]
【従来の技術】従来より、例えば4層構造の多層プリン
ト配線板は、以下のようにして製造される。まず、両面
配線板を形成する。すなわち、絶縁性基板の上下面に銅
等の金属箔を形成し、所定箇所に上下に貫通するスルー
ホールを形成する。そして、このスルーホールの内面及
び金属箔の上下面にメッキを施して上下に導通する金属
層を形成する。そして、金属箔をエッチングして絶縁性
基板の上下面に配線パターンを形成することで、両面配
線板を形成する。2. Description of the Related Art Conventionally, a multilayer printed wiring board having, for example, a four-layer structure is manufactured as follows. First, a double-sided wiring board is formed. That is, a metal foil such as copper is formed on the upper and lower surfaces of the insulating substrate, and through holes are formed at predetermined locations so as to penetrate vertically. Then, plating is performed on the inner surface of the through hole and the upper and lower surfaces of the metal foil to form a metal layer that is vertically conductive. Then, the metal foil is etched to form a wiring pattern on the upper and lower surfaces of the insulating substrate, thereby forming a double-sided wiring board.
【0003】次に、この両面配線板の上下両面にプリプ
レグを接着し、この上下の各プリプレグの外表面に再び
金属箔を積層した上、その所定箇所にプレス加工やドリ
ル加工等により上下に貫通するスルーホールを形成す
る。この後、金属メッキを施して、貫通孔の内面に導電
層を形成した後、上下の金属箔をエッチングして外側の
配線パターンを形成する。これにより、内部の配線パタ
ーンと外部の配線パターンがスルーホールのメッキ箇所
で接続された4層構造の多層プリント配線板を完成す
る。Next, prepregs are adhered to the upper and lower surfaces of the double-sided wiring board, metal foils are laminated again on the outer surfaces of the upper and lower prepregs, and a predetermined portion thereof is vertically penetrated by pressing or drilling. Forming a through hole. Thereafter, metal plating is performed to form a conductive layer on the inner surface of the through hole, and then upper and lower metal foils are etched to form an outer wiring pattern. Thus, a multilayer printed wiring board having a four-layer structure in which the internal wiring pattern and the external wiring pattern are connected at the plated portions of the through holes is completed.
【0004】[0004]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
た従来の製造方法では、自由設計が困難であり、また、
接続する層が規定されてしまうため、軽薄短小のニーズ
に応え切れない。また、新技術としてのフォトピア、レ
ーザピア、B2itにおいても、接続層が規定され、ア
リブでは高密度化に限界があると考えられる。However, in the above-mentioned conventional manufacturing method, free design is difficult, and
Since the layers to be connected are defined, it is not possible to meet the needs for light, thin and small. Further, Fotopia as new technology, Rezapia, also in B 2 it, connecting layer is defined, it is considered that there are limits to high density in Aribu.
【0005】そこで本発明の目的は、自在な層間接続が
可能であり、接続ランドの小径化、回路機器の軽薄短小
化への対応が可能な多層プリント配線板の製造方法を提
供することにある。SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a method of manufacturing a multilayer printed wiring board, which allows flexible interlayer connection, and is capable of reducing the diameter of connection lands and reducing the size and weight of circuit devices. .
【0006】[0006]
【課題を解決するための手段】本発明は前記目的を達成
するため、多数の積層基板を積層し、各積層基板間に配
線パターンを形成するとともに、各積層基板に形成した
スルーホールを介して各配線パターンを層間接続する多
層プリント配線板の製造方法において、前記積層基板の
第1の面に剥離可能に皮膜を形成する皮膜形成工程と、
前記皮膜を形成した積層基板に前記スルーホールを形成
する孔開け工程と、前記スルーホールを形成した積層基
板にメッキを施し、前記スルーホール内にメッキ材を充
填させるメッキ工程と、前記皮膜を剥離することによ
り、前記スルーホールに対応する領域のメッキ層を前記
積層基板の第1の面より突出した突起状の接触子として
残存させた状態に形成する剥離工程と、前記積層基板の
第2の面のメッキ層より配線パターンを形成するパター
ン形成工程と、互いに積層される一方の積層基板の接触
子と他方の積層基板の配線パターンとを重ね合わせた状
態で、各積層基板を接合する積層工程とを有することを
特徴とする。According to the present invention, in order to achieve the above object, a large number of laminated substrates are laminated, a wiring pattern is formed between the laminated substrates, and a through-hole formed in each laminated substrate is formed. In a method of manufacturing a multilayer printed wiring board for connecting each wiring pattern between layers, a film forming step of forming a peelable film on a first surface of the laminated substrate;
A hole forming step of forming the through hole in the laminated substrate on which the film is formed, a plating step of plating the laminated substrate on which the through hole is formed, filling a plating material in the through hole, and peeling the film. A peeling step of forming a plated layer in a region corresponding to the through hole as a protruding contact protruding from the first surface of the laminated substrate; A pattern forming step of forming a wiring pattern from a plating layer on the surface, and a laminating step of joining the respective laminated substrates in a state where the contacts of one laminated substrate and the wiring pattern of the other laminated substrate which are laminated on each other are superimposed. And characterized in that:
【0007】本発明の多層プリント配線板の製造方法に
おいて、皮膜形成工程では、積層基板の第1の面に剥離
可能に皮膜を形成する。孔開け工程では、皮膜を形成し
た積層基板に前記スルーホールを形成する。また、メッ
キ工程では、スルーホールを形成した積層基板にメッキ
を施し、スルーホール内にメッキ材を充填させる。剥離
工程では、前記皮膜を剥離することにより、スルーホー
ルに対応する領域のメッキ層を突起状の接触子として残
存させた状態に形成する。In the method of manufacturing a multilayer printed wiring board according to the present invention, in the film forming step, a film is formed on the first surface of the laminated substrate so as to be peelable. In the hole making step, the through hole is formed in the laminated substrate on which the film is formed. Further, in the plating step, plating is performed on the laminated substrate having the through-hole formed therein, and the through-hole is filled with a plating material. In the peeling step, the coating is peeled off to form a plating layer in a region corresponding to the through hole as a protruding contact.
【0008】そして、パターン形成工程では、積層基板
の第2の面のメッキ層より配線パターンを形成し、積層
工程では、互いに積層される一方の積層基板の接触子と
他方の積層基板の配線パターンとを重ね合わせた状態
で、各積層基板を接合する。以上のような工程により、
スルーホールと配線パターンの位置を適宜選択すること
で、自在な層間接続を可能とするとともに、突起状の接
触子によって接続ランドの小径化を図ることができ、ま
た配線の高密度化が容易となり、回路機器の軽薄短小化
への対応が可能となる。In the pattern forming step, a wiring pattern is formed from the plating layer on the second surface of the laminated substrate, and in the laminating step, the contact of one laminated substrate and the wiring pattern of the other laminated substrate are laminated. Each of the laminated substrates is joined in a state where is overlapped. By the above steps,
By appropriately selecting the positions of the through-holes and the wiring patterns, a flexible interlayer connection is possible, and the diameter of the connection land can be reduced by the protruding contacts, and the wiring density can be easily increased. Accordingly, it is possible to cope with a reduction in the size and weight of circuit devices.
【0009】[0009]
【発明の実施の形態】以下、本発明による多層プリント
配線板の製造方法の実施の形態について説明する。図1
(A)〜(E)は、本発明による多層プリント配線板の
製造方法における各製造工程を示す断面図であり、図2
は、図1に示す製造方法によって製造された多層プリン
ト配線板の具体例を示す断面図である。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of a method for manufacturing a multilayer printed wiring board according to the present invention will be described below. FIG.
2 (A) to 2 (E) are cross-sectional views showing respective manufacturing steps in a method for manufacturing a multilayer printed wiring board according to the present invention, and FIG.
FIG. 2 is a sectional view showing a specific example of a multilayer printed wiring board manufactured by the manufacturing method shown in FIG. 1.
【0010】図2において、本例の多層プリント配線板
100は、最も下側に従来の方法を用いて配線パターン
を形成したベース基板110を有し、このベース基板1
00の上に本発明の製造方法を用いて複数の積層基板1
20A、120B、120C、120Dによる積層構造
を形成したものである。ベース基板110は、例えば以
下のような方法で形成したものである。まず、絶縁性基
板の上下面に銅等の金属箔を形成し、所定箇所に上下に
貫通するスルーホール114を形成する。そして、この
スルーホール114の内面及び金属箔の上下面に無電界
メッキを施して上下に導通する金属層を形成する。そし
て、金属箔をエッチングして絶縁性基板の上下面に配線
パターン112を形成する。In FIG. 2, a multilayer printed wiring board 100 of this embodiment has a base substrate 110 on the lowermost side of which a wiring pattern is formed by using a conventional method.
A plurality of laminated substrates 1 on the same substrate using the manufacturing method of the present invention.
The laminated structure is formed by 20A, 120B, 120C, and 120D. The base substrate 110 is formed, for example, by the following method. First, a metal foil such as copper is formed on the upper and lower surfaces of the insulating substrate, and through holes 114 penetrating vertically are formed at predetermined locations. Then, electroless plating is performed on the inner surface of the through hole 114 and the upper and lower surfaces of the metal foil to form a metal layer that is vertically conductive. Then, the metal foil is etched to form the wiring patterns 112 on the upper and lower surfaces of the insulating substrate.
【0011】次に、このベース基板110上に積層する
層の形成方法について説明する。まず、皮膜形成工程に
おいて、所定の積層基板の下面(第1の面)に剥離可能
に皮膜を形成する。ここで、積層基板としては、両面に
溶融樹脂等による溶着層を有するものであり、例えば、
樹脂層を有する絶縁コア、銅箔層を有するプレプレグ、
あるいはプレプレグより形成する。また、皮膜として
は、積層基板の下面にインク(塗料)を塗布して乾燥さ
せ膜状に形成したもの、あるいは、粘着性のあるシート
(樹脂等)を積層基板の下面に貼付したものを用いる。
次に、孔開け工程により、上述のような皮膜を形成した
積層基板にスルーホールを形成する。このスルーホール
の形成は、レーザ加工機やドリルによる工作によって行
う。Next, a method of forming a layer to be laminated on the base substrate 110 will be described. First, in a film forming step, a film is formed on the lower surface (first surface) of a predetermined laminated substrate so as to be peelable. Here, the laminated substrate has a welding layer made of a molten resin or the like on both surfaces, and for example,
An insulating core having a resin layer, a prepreg having a copper foil layer,
Alternatively, it is formed from a prepreg. Further, as the film, a film formed by applying and drying ink (paint) on the lower surface of the laminated substrate to form a film, or a film obtained by sticking an adhesive sheet (eg, resin) to the lower surface of the laminated substrate is used. .
Next, through holes are formed in the laminated substrate on which the above-described film is formed by a hole making step. The formation of the through hole is performed by a laser processing machine or a drill.
【0012】そして、メッキ工程により、上述のように
皮膜とスルーホールを形成した積層基板に、上面(第2
の面)または上下両面にメッキを施す。図1(A)は、
積層基板120の上面に例えば銅によるパネルメッキ作
業等により銅メッキ層150を形成したものである。図
1(A)において、積層基板120の下面には、銅メッ
キ層が付着しない状態で剥離可能な皮膜132が形成さ
れるとともに、積層基板120と皮膜132を貫通する
状態でスルーホール142が形成されている。そして、
メッキ工程において、銅の一部がスルーホール142に
充填されてロッド状部150Aとして形成され、その先
端が積層基板120の下面側に突出している。Then, the upper surface (the second substrate) is formed on the laminated substrate on which the film and the through hole are formed as described above by the plating process.
Side) or plating on both upper and lower sides. FIG. 1 (A)
The copper plating layer 150 is formed on the upper surface of the laminated substrate 120 by, for example, a panel plating operation using copper or the like. In FIG. 1A, a peelable film 132 is formed on the lower surface of the laminated substrate 120 in a state where the copper plating layer is not attached, and a through hole 142 is formed penetrating the laminated substrate 120 and the film 132. Have been. And
In the plating step, a part of the copper is filled in the through-hole 142 to form a rod-like portion 150A, and the tip of the rod-like portion 150A protrudes toward the lower surface of the laminated substrate 120.
【0013】一方、図1(B)は、積層基板120の上
下両面に例えば銅によるパネルメッキ作業等により銅メ
ッキ層150、152を形成したものである。図1
(B)において、積層基板120の下面には、銅メッキ
層152が付着した状態で剥離可能な皮膜134が形成
されるとともに、積層基板120と皮膜134を貫通す
る状態でスルーホール142が形成されている。そし
て、メッキ工程において、銅の一部がスルーホール14
2に充填されてロッド状部150Aとして形成され、上
下面の銅メッキ層150、152の間に連続している。On the other hand, FIG. 1B shows that the copper plating layers 150 and 152 are formed on the upper and lower surfaces of the laminated substrate 120 by, for example, a panel plating operation using copper. FIG.
In (B), a peelable film 134 is formed on the lower surface of the laminated substrate 120 with the copper plating layer 152 attached thereto, and a through hole 142 is formed to penetrate the laminated substrate 120 and the film 134. ing. Then, in the plating step, a part of the copper is
2 is formed as a rod-shaped portion 150A, and is continuous between the copper plating layers 150 and 152 on the upper and lower surfaces.
【0014】次に、以上のようにして銅メッキ層15
0、152を形成した積層基板120より、皮膜13
2、134を剥離する。これにより、図1(A)に示す
積層基板120では、下面から皮膜132が剥離され、
図1(C)に示すように、スルーホール142から積層
基板120の下面側にはみ出た銅(ロッド状部150A
の先端)が、皮膜132の厚みに対応した量だけ突出し
た突起状の接触子160として残存した状態に形成され
る。また、図1(B)に示す積層基板120でも同様
に、下面から皮膜134が剥離され、積層基板120の
下面の銅メッキ層152がスルーホール142に対応す
る領域を残して除去され、図1(C)に示すように、ス
ルーホール142に対応する銅メッキ層(ロッド状部1
50Aの先端)が、皮膜134の厚みに対応した量だけ
突出した突起状の接触子160として残存した状態に形
成される。Next, as described above, the copper plating layer 15 is formed.
0, 152, the film 13
2, 134 are peeled off. Thus, in the laminated substrate 120 shown in FIG.
As shown in FIG. 1C, the copper (rod-like portion 150A) protruding from the through hole 142 to the lower surface side of the laminated substrate 120
Is formed as a protrusion-like contact 160 protruding by an amount corresponding to the thickness of the film 132. Similarly, in the laminated substrate 120 shown in FIG. 1B, the coating 134 is peeled off from the lower surface, and the copper plating layer 152 on the lower surface of the laminated substrate 120 is removed leaving a region corresponding to the through hole 142. As shown in (C), a copper plating layer (rod-like portion 1) corresponding to through hole 142
50A) is formed in a state of remaining as a protruding contact 160 protruding by an amount corresponding to the thickness of the film 134.
【0015】そして、図1(D)に示すように、接触子
160を形成した積層基板120を上述したベース基板
110に重ね合わせ、積層基板120の接触子160と
ベース基板110の配線パターン112とを接触させた
状態で積層工程により、両基板110、120を接合す
る。これは、両基板110、120を重ねて成形プレス
等によって加圧圧着し、さらに加熱することで、両基板
110、120に設けた樹脂層を溶融し、両者を溶着固
定する。次に、図1(E)に示すように、パターン形成
工程により、積層基板120の上面の銅メッキ層にエッ
チング等を施し、配線パターン170を形成する。以上
のような作業を複数の積層基板について繰り返すことに
より、図2に示すような多層プリント配線板を形成する
ことができる。Then, as shown in FIG. 1D, the laminated substrate 120 on which the contact 160 is formed is superposed on the base substrate 110 described above, and the contact 160 of the laminated substrate 120 and the wiring pattern 112 of the base substrate 110 are The two substrates 110 and 120 are joined by a laminating step in a state where they are in contact with each other. In this method, the two substrates 110 and 120 are overlapped and pressed under pressure by a molding press or the like, and further heated, thereby melting the resin layers provided on the two substrates 110 and 120 and welding and fixing them. Next, as shown in FIG. 1E, a wiring pattern 170 is formed by etching or the like on the copper plating layer on the upper surface of the laminated substrate 120 in a pattern forming step. By repeating the above operation for a plurality of laminated substrates, a multilayer printed wiring board as shown in FIG. 2 can be formed.
【0016】以上のように、本例の多層プリント配線板
の製造方法では、皮膜形成工程、孔開け工程、メッキ工
程、剥離工程、積層工程、パターン形成工程により、容
易に多層プリント配線板を製造でき、スルーホールと配
線パターンの位置を適宜選択することで、自在な層間接
続を可能とするとともに、突起状の接触子によって接続
ランドの小径化を図ることができ、また配線の高密度化
が容易となり、回路機器の軽薄短小化への対応が可能と
なる。なお、本発明は、上述の例に限定されるものでは
なく、例えば、パターン形成工程の後に積層工程を行う
ことも可能である。また、上述の例で説明した個々の工
程で用いた作業方法や材料は適宜変更が可能である。As described above, in the method for manufacturing a multilayer printed wiring board according to the present embodiment, a multilayer printed wiring board is easily manufactured by a film forming step, a hole forming step, a plating step, a peeling step, a laminating step, and a pattern forming step. By appropriately selecting the positions of the through holes and the wiring patterns, it is possible to freely connect the layers, and the diameter of the connection land can be reduced by the protruding contacts, and the density of the wiring can be increased. It becomes easy and it is possible to cope with light and thin circuit devices. Note that the present invention is not limited to the above-described example. For example, a laminating step can be performed after the pattern forming step. Further, the working methods and materials used in the individual steps described in the above-described examples can be appropriately changed.
【0017】[0017]
【発明の効果】以上説明したように本発明の多層プリン
ト配線板の製造方法では、積層基板の第1の面に剥離可
能に皮膜を設け、スルーホールを形成した後、メッキ工
程によりスルーホールにメッキ材を充填させ、前記皮膜
を剥離することにより、スルーホールに対応する領域の
メッキ層を突起状の接触子として残存させ、これを他の
基板の配線パターンに接触させて両基板を接合するよう
にした。このため、スルーホールと配線パターンの位置
を適宜選択することで、自在な層間接続が可能となる。
また、突起状の接触子によって接続ランドの小径化を図
ることができ、また配線の高密度化が容易となり、回路
機器の軽薄短小化への対応が可能となる。As described above, in the method for manufacturing a multilayer printed wiring board according to the present invention, a film is provided on the first surface of the laminated substrate so as to be peelable, a through hole is formed, and the through hole is formed by a plating step. By filling the plating material and peeling the film, the plating layer in the region corresponding to the through hole is left as a protruding contact, and this is brought into contact with the wiring pattern of another substrate to join the two substrates. I did it. Therefore, by appropriately selecting the positions of the through holes and the wiring patterns, a flexible interlayer connection is possible.
In addition, the diameter of the connection land can be reduced by the protruding contact, the density of the wiring can be easily increased, and it is possible to cope with the reduction in the weight and thickness of the circuit device.
【図1】本発明による多層プリント配線板の製造方法に
おける各製造工程を示す断面図である。FIG. 1 is a cross-sectional view showing each manufacturing step in a method for manufacturing a multilayer printed wiring board according to the present invention.
【図2】本発明による多層プリント配線板の製造方法に
よって製造された多層プリント配線板の具体例を示す断
面図である。FIG. 2 is a cross-sectional view showing a specific example of a multilayer printed wiring board manufactured by the method for manufacturing a multilayer printed wiring board according to the present invention.
100……多層プリント配線板、110……ベース基
板、112、170……配線パターン、114、142
……スルーホール、120、120A、120B、12
0C、120D……積層基板、132、134……皮
膜、150、152……銅メッキ層、160……突起状
の接触子。100 multilayer printed wiring board, 110 base substrate, 112, 170 wiring pattern, 114, 142
...... Through-hole, 120, 120A, 120B, 12
0C, 120D ... laminated substrate, 132, 134 ... film, 150, 152 ... copper plating layer, 160 ... projecting contact.
Claims (12)
に配線パターンを形成するとともに、各積層基板に形成
したスルーホールを介して各配線パターンを層間接続す
る多層プリント配線板の製造方法において、 前記積層基板の第1の面に剥離可能に皮膜を形成する皮
膜形成工程と、 前記皮膜を形成した積層基板に前記スルーホールを形成
する孔開け工程と、 前記スルーホールを形成した積層基板にメッキを施し、
前記スルーホール内にメッキ材を充填させるメッキ工程
と、 前記皮膜を剥離することにより、前記スルーホールに対
応する領域のメッキ層を前記積層基板の第1の面より突
出した突起状の接触子として残存させた状態に形成する
剥離工程と、 前記積層基板の第2の面のメッキ層より配線パターンを
形成するパターン形成工程と、 互いに積層される一方の積層基板の接触子と他方の積層
基板の配線パターンとを重ね合わせた状態で、各積層基
板を接合する積層工程と、 を有することを特徴とする多層プリント配線板の製造方
法。1. A method of manufacturing a multilayer printed wiring board in which a large number of laminated substrates are laminated, a wiring pattern is formed between the laminated substrates, and each wiring pattern is connected between layers via through holes formed in each laminated substrate. In the above, a film forming step of forming a film releasably on a first surface of the laminated substrate, a hole forming step of forming the through hole in the laminated substrate on which the film is formed, and a laminated substrate formed with the through hole Plating on
A plating step of filling a plating material in the through-hole, and peeling off the film to form a plating layer in a region corresponding to the through-hole as a protruding contact protruding from the first surface of the laminated substrate. A peeling step of forming a wiring pattern in a state of being left; a pattern forming step of forming a wiring pattern from a plating layer on the second surface of the laminated substrate; and a contact of one laminated substrate and the other laminated substrate laminated together. A method for manufacturing a multilayer printed wiring board, comprising: a laminating step of joining respective laminated substrates in a state where a wiring pattern is superimposed.
の面側からメッキを行い、前記スルーホールにメッキ材
を充填させ、さらに前記積層基板の第1の面側に突出さ
せるようにしたことを特徴とする請求項1記載の多層プ
リント配線板の製造方法。2. The method according to claim 1, wherein the plating is performed on the second substrate.
2. The method for manufacturing a multilayer printed wiring board according to claim 1, wherein plating is performed from a surface side of the multilayer substrate, the through hole is filled with a plating material, and further, the projection is protruded toward a first surface side of the laminated substrate. Method.
からメッキを行い、前記スルーホールにメッキ材を充填
させ、前記剥離工程は、前記積層基板の第1の面のメッ
キを、前記スルーホールに対応する領域を残して除去す
るようにしたことを特徴とする請求項1記載の多層プリ
ント配線板の製造方法。3. The plating step includes plating from both sides of the laminated substrate to fill the through hole with a plating material, and the peeling step includes plating the first surface of the laminated substrate with the through hole. 2. The method for manufacturing a multilayer printed wiring board according to claim 1, wherein the region corresponding to the above is removed.
溶着層を有し、前記積層工程においては、各積層基板を
圧着、加熱することにより、前記溶着層を溶融させて各
積層基板を接合することを特徴とする請求項1記載の多
層プリント配線板の製造方法。4. The laminated substrate has a welding layer on at least one surface, and in the laminating step, the laminated layers are pressed and heated to melt the welded layer and join the laminated substrates. The method for manufacturing a multilayer printed wiring board according to claim 1, wherein
け、前記ベース基板の配線パターン上に前記積層基板を
順次積層していくことを特徴とする請求項1記載の多層
プリント配線板の製造方法。5. The method for manufacturing a multilayer printed wiring board according to claim 1, wherein a base substrate on which a wiring pattern is formed is provided, and the laminated substrate is sequentially laminated on the wiring pattern of the base substrate.
の後に行うことを特徴とする請求項1記載の多層プリン
ト配線板の製造方法。6. The method according to claim 1, wherein the pattern forming step is performed after the laminating step.
アよりなることを特徴とする請求項1記載の多層プリン
ト配線板の製造方法。7. The method according to claim 1, wherein the laminated substrate is formed of an insulating core having a resin layer.
レグよりなることを特徴とする請求項1記載の多層プリ
ント配線板の製造方法。8. The method according to claim 1, wherein the laminated substrate is made of a prepreg having a copper foil layer.
とを特徴とする請求項1記載の多層プリント配線板の製
造方法。9. The method according to claim 1, wherein the laminated substrate is made of prepreg.
布して乾燥させることにより形成することを特徴とする
請求項1記載の多層プリント配線板の製造方法。10. The method according to claim 1, wherein the coating is formed by applying a paint to the laminated substrate and drying the coating.
貼付することにより形成することを特徴とする請求項1
記載の多層プリント配線板の製造方法。11. The film according to claim 1, wherein the film is formed by attaching a sheet to the laminated substrate.
A method for producing the multilayer printed wiring board according to the above.
ていることを特徴とする請求項4記載の多層プリント配
線板の製造方法。12. The method according to claim 4, wherein the welding layer is formed of a welding resin.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19351998A JP2000031648A (en) | 1998-07-09 | 1998-07-09 | Manufacturing method of multilayer printed wiring board |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19351998A JP2000031648A (en) | 1998-07-09 | 1998-07-09 | Manufacturing method of multilayer printed wiring board |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000031648A true JP2000031648A (en) | 2000-01-28 |
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ID=16309427
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19351998A Pending JP2000031648A (en) | 1998-07-09 | 1998-07-09 | Manufacturing method of multilayer printed wiring board |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000031648A (en) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100522385B1 (en) * | 2001-07-10 | 2005-10-19 | 가부시키가이샤후지쿠라 | Multilayer wiring board assembly, multilayer wiring board assembly component and method of manufacture thereof |
| KR100573999B1 (en) * | 2001-03-23 | 2006-04-25 | 가부시끼가이샤 후지꾸라 | Multilayer wiring board, base material for multilayer wiring board, and its manufacturing method |
-
1998
- 1998-07-09 JP JP19351998A patent/JP2000031648A/en active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100573999B1 (en) * | 2001-03-23 | 2006-04-25 | 가부시끼가이샤 후지꾸라 | Multilayer wiring board, base material for multilayer wiring board, and its manufacturing method |
| KR100522385B1 (en) * | 2001-07-10 | 2005-10-19 | 가부시키가이샤후지쿠라 | Multilayer wiring board assembly, multilayer wiring board assembly component and method of manufacture thereof |
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