JP2000001448A - 新規な多核体ポリフェノール化合物 - Google Patents
新規な多核体ポリフェノール化合物Info
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Abstract
ヒドロキシメチル基を置換基として有する2つのフェノ
ール核がシクロヘキシリデン基を介して対称的に結合さ
れてなる構造を有する新規な2核体ポリフェノール化合
物と、更に、この2核体ポリフェノールのメチロール基
にアルコール化合物又は単核フェノール化合物を縮合さ
せてなる2核体又は4核体ポリフェノール化合物を提供
することを目的とする。 【解決手段】本発明による新規なポリフェノール化合物
は、一般式(I) 【化1】 (式中、Xは水酸基、炭素数1〜4のアルコキシル基、
炭素数5若しくは6のシクロアルキロキシル基又は一般
式(II) 【化2】 (式中、Rは炭素数1〜4のアルキル基、シクロヘキシ
ル基又はフェニル基を示し、mは1〜3の整数を示し、
nは0〜3の整数を示し、1≦m+n≦4である。)で
表わされる1価の置換フェニル基を示す。)で表わされ
る。
Description
のシクロヘキシルフェノール構造がシクロヘキシリデン
基を介して、対称的に結合されてなる構造上の特徴を有
する新規な多核体(芳香核)ポリフェノール化合物に関
する。
C封止材料、積層材料、電気絶縁材料等に用いられるエ
ポキシ樹脂の原料、エポキシ樹脂の硬化剤、感熱記録に
用いられる顕色剤や退色防止剤、感光剤等、電子材料の
原料等として広く用いられており、また、酸化防止剤、
殺菌剤、防菌防黴剤等の添加剤としても用いられてい
る。
の小型化と高性能化に伴って、用いられる樹脂に対して
も、機械的特性や熱的特性の向上のみならず、耐湿性、
電気絶縁性、低誘電性等の向上がますます強く求められ
るに至っており、それに伴って、上述したような種々の
樹脂についても、一つは、原料として用いられているポ
リフェノール化合物の面から、新たな化合物が求められ
るに至っている。
Eugen Mueller 編、METHODEN DERORGANISCHEN CHEMIE
(HOUBEN-WEYL), Band VI/1c, "Phenol", Teil 2, pp. 1
021-1061, Georg Thieme Verlag Stuttgart (1976) に
多数のものが記載されており、その後も、上述したよう
な樹脂の高性能化、高機能化の要請に応えるために、新
たなポリフェノール化合物が多数、提案されている。
フェノール核にシクロアルキル基を置換基として有する
ものは、そのシクロアルキル基が親油性基であるので、
これを原料として用いることによって、低吸水性や低吸
湿性等の耐水性にすぐれ、更に、高絶縁性、低誘電性で
あって、電気特性にもすぐれる樹脂を与えることが期待
される。
基を置換基として有するポリフェノール化合物として、
従来、トリスフェニルメタン型のポリフェノール化合物
としては、特公昭57−13571号公報に4,4',4" −
トリヒドロキシ−3,3'−ジシクロヘキシルトリフェニル
メタンが開示されており、また、特開平7−10449
号に2−シクロヘキシル−5−メチルフェノールを原料
の一成分として用いるトリスフェニルメタン型のトリス
フェノール化合物が記載されている。
置換基として有するポリフェノール化合物として、従
来、2つのシクロヘキシルフェノール核がシクロヘキシ
リデン基を介して対称的に結合されてなるビスフェノー
ル化合物が知られている。しかしながら、上記シクロヘ
キシルフェノール核がそれぞれ更に反応性に富むヒドロ
キシメチル基を有する化合物は、従来、知られておら
ず、まして、シクロヘキシリデン基を有する4核体ポリ
フェノール化合物は、従来、知られていない。
ール化合物における上述した事情に鑑みて、低吸水性、
低吸湿性等の耐水性や、絶縁性、低誘電性等の電気特性
にもすぐれる樹脂を与えることが期待され、更には、感
光性材料としても有用に用いられることが期待される新
規なポリフェノール化合物を提供することを目的とし、
特に、本発明は、それぞれ親油性に富むシクロアルキル
基と共にヒドロキシメチル基(メチロール基)又はアル
コキシル基を置換基として有する2つのフェノール核が
シクロヘキシリデン基を介して対称的に結合されてなる
構造を有する新規な2核体ポリフェノール化合物と、更
に、この2核体ポリフェノール化合物の有するそれぞれ
のメチロール基に単核フェノール化合物を縮合させてな
る4核体ポリフェノール化合物を提供することを目的と
する。
フェノール化合物は、一般式(I)
コキシル基、炭素数5若しくは6のシクロアルキロキシ
ル基又は一般式(II)
シクロヘキシル基又はフェニル基を示し、mは1〜3の
整数を示し、nは0〜3の整数を示し、1≦m+n≦4
である。)で表わされる1価の置換フェニル基を示
す。)で表わされる。
ル化合物のうち、2核体ポリフェノール化合物は、上記
一般式(I)において、Xが水酸基、炭素数1〜4のア
ルコキシル基、又は炭素数5若しくは6のシクロアルキ
ロキシル基である化合物である。ここに、上記アルコキ
シル基としては、例えば、メトキシル基、エトキシル
基、プロポキシル基又はブトキシル基を挙げることがで
き、これらアルコキシル基におけるアルキル基のうち、
プロピル基及びブチル基は、直鎖状又は分岐鎖状のいず
れでもよい。しかし、本発明によれば、アルコキシル基
は、好ましくは、メトキシル基である。また、上記シク
ロアルキロキシル基としては、例えば、シクロペンチロ
キシル基又はシクロヘキシロキシル基を挙げることがで
きる。
ル化合物の具体例として、1,1−ビス(3−シクロヘキ
シル−4−ヒドロキシ−5−ヒドロキシメチルフェニ
ル)シクロヘキサン、1,1−ビス(3−シクロヘキシル
−4−ヒドロキシ−5−メトキシメチルフェニル)シク
ロヘキサン等を挙げることができる。
のうち、4核体ポリフェノール化合物は、上記一般式
(I)において、Xが前記一般式(II)で表わされる基
であり、ここに、Rは炭素数1〜4のアルキル基、シク
ロヘキシル基又はフェニル基を示し、mは1〜3の整数
を示し、nは0〜3の整数を示し、1≦m+n≦4であ
る。
例えば、メチル基、エチル基、プロピル基又はブチル基
を挙げることができ、プロピル基及びブチル基は、直鎖
状又は分岐鎖状のいずれでもよい。しかし、本発明によ
れば、Rは、好ましくは、メチル基である。
ル化合物の具体例として、例えば、(i)1,1−ビス
〔3−シクロヘキシル−4−ヒドロキシ−5−(2−ヒ
ドロキシ−5−メチルベンジル)フェニル〕シクロヘキ
サン、(ii)1,1−ビス〔3−シクロヘキシル−4−ヒ
ドロキシ−5−(3,5−ジメチル−4−ヒドロキシベン
ジル)フェニル〕シクロヘキサン、(iii) 1,1−ビス
〔3−シクロヘキシル−4−ヒドロキシ−5−(2,3,4
−トリヒドロキシベンジル)フェニル〕シクロヘキサ
ン、(iv)1,1−ビス〔3−シクロヘキシル−4−ヒド
ロキシ−5−(3−シクロヘキシル−4−ヒドロキシ−
6−メチルベンジル)フェニル〕シクロヘキサン等を挙
げることができる。
体ポリフェノール化合物(2)(一般式(I)におい
て、Xが水酸基であるもの)は、反応溶剤中、1,1−ビ
ス(3−シクロヘキシル−4−ヒドロキシフェニル)シ
クロヘキサン(1)にアルカリ触媒の存在下にホルムア
ルデヒドを縮合させることによって得ることができる。
化合物(4)(一般式(I)において、Xがアルコキシ
ル基又はシクロアルキロキシル基であるもの)は、反応
溶剤中、酸触媒の存在下、上記2核体ポリフェノール化
合物(2)に、一般式(3) R−OH(3) (式中、Rは炭素数1〜4のアルキル基又は炭素数5若
しくは6のシクロアルキル基を示す。)で表わされる脂
肪族又は脂環式アルコール化合物を反応させることによ
って得ることができる。
(6)は、上記2核体ポリフェノール化合物(2)に有
機溶剤中、酸触媒の存在下に、一般式(5)
〜3の整数を示し、1≦m+n≦4である。)で表わさ
れる単核フェノール化合物を反応させることによって得
ることができる。
する。
成)2核体ポリフェノール化合物(2)は、塩基性触媒
の存在下、反応溶剤中にて、1,1−ビス(3−シクロヘ
キシル−4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン
(1)の1モル部にホルムアルデヒド2〜20モル部、
好ましくは、2.2〜10モル部を反応させた後、得られ
た反応生成物を中和することによって得ることができ
る。
ロヘキシル−4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン
(1)の1モル部に対して、ホルムアルデヒドを20モ
ル部を越えて用いるときは、反応における理論化学当量
を大幅に上回ることとなり、プロセス経済性が低下する
のみならず、後述する温度条件のうち、比較的高温域で
長時間反応を行なったときは、生成したヒドロキシメチ
ル体のヒドロキシメチル基相互の反応によって、望まし
くない高分子量物が生成しやすい。他方、1,1−ビス
(3−シクロヘキシル−4−ヒドロキシフェニル)シク
ロヘキサン(1)の1モル部に対して、ホルムアルデヒ
ドを2モル部よりも少ない量にて用いるときは、モノヒ
ドロキシメチル体又は未反応の1,1−ビス(3−シクロ
ヘキシル−4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン
(1)が多量に残るので好ましくない。
ヒドとしては、市販のホルマリンのようなホルムアルデ
ヒドの水溶液をそのまま利用できる。
ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム等のアル
カリ金属の水酸化物や酢酸塩、水酸化カルシウム、水酸
化亜鉛、水酸化マグネシウム等の2価金属、好ましく
は、アルカリ土類金属の水酸化物や酢酸塩、ピリジン、
トリメチルアミン、トリブチルアミン等の第3級アミン
類等のアルカリを挙げることができる。これらの中で
は、特に、水酸化ナトリウムや水酸化カリウム等のアル
カリが好ましく用いられる。
ロヘキシル−4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン
(1)の水酸基に対して、0.1〜5倍当量、好ましく
は、0.5〜1.5倍当量の範囲で用いられる。塩基性触媒
の使用量が1,1−ビス(3−シクロヘキシル−4−ヒド
ロキシフェニル)シクロヘキサン(1)の水酸基に対し
て、5倍当量を越えるときは、反応系の塩基性触媒の量
が不必要に過剰となり、反応終了後、反応系を中和し
て、反応生成物回収するのに、不必要に多量の酸を必要
とするので好ましくない。しかし、塩基性触媒の使用量
が1,1−ビス(3−シクロヘキシル−4−ヒドロキシフ
ェニル)シクロヘキサン(1)の水酸基に対して、0.1
倍当量よりも少ないときは、反応速度が極度に遅くなる
ので好ましくない。
クロヘキシル−4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサ
ン(1)とホルムアルデヒドとの反応は、通常、反応溶
剤中で行なわれる。反応溶剤は、通常、原料である1,1
−ビス(3−シクロヘキシル−4−ヒドロキシフェニ
ル)シクロヘキサン(1)に対して、重量比で、通常、
1〜5倍、好ましくは、1〜3倍程度の範囲で用いられ
る。
タノール、エタノール、n−プロピルアルコール、イソ
プロピルアルコール、n−ブタノール、エチレングリコ
ール、エチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチ
レングリコール、カルビトール等のアルコール性溶媒
や、また、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメチル
ホルムアミド、ジメチルアセトアミド、N−メチルピロ
リドン等の水溶性の有機溶剤が好ましく用いられる。
ドロキシフェニル)シクロヘキサン(1)とホルムアル
デヒドとの反応は、通常、0〜60℃、好ましくは、3
0〜50℃の範囲の温度にて、通常、1〜72時間、好
ましくは、4〜16時間程度にわたって行なわれる。反
応の温度が60℃よりも高いときは、前述したような高
分子量物等、種々の望ましくない副生物が多量に生成す
る。
チロール体、即ち、本発明による2核体ポリフェノール
化合物を分離回収するためには、反応終了後、得られた
反応混合物に適宜の有機溶媒を加えた後、これに有機
酸、無機酸等の酸性化合物を加えて、反応混合物全体を
中和処理し、析出した固形分を濾過することによって、
目的とするジメチロール体である2核体ポリフェノール
化合物(2)を得ることができる。
記酸性化合物を加えて中和した後、これに抽出溶媒を加
えてもよい。
リフェノール化合物(2)は、常温で固体であり、特
に、乾燥後は、粉末として得ることができ、接着性や粘
着性を全く示さない。
ール化合物(2)を、酸触媒の存在下に、これと前記一
般式(3)で表わされる脂肪族又は脂環式アルコール化
合物とを縮合反応させることによって、本発明による2
核体ポリフェノール化合物(4)を得ることができる。
ここに、上記脂肪族アルコールとしては、例えば、メタ
ノール、エタノール、イソプロピルアルコール、n−プ
ロピルアルコール、イソブチルアルコール、n−ブチル
アルコール等を挙げることができ、また、脂環式アルコ
ールとしては、例えば、シクロペンチルアルコールやシ
クロヘキシルアルコールを挙げることができる。
(3)は、2核体ポリフェノール化合物(2)100重
量部に対して、通常、100〜3000重量部、好まし
くは、200〜1000重量部の範囲で用いられる。2
核体ポリフェノール化合物(2)と上記アルコール化合
物との反応においては、通常、このアルコール化合物が
反応溶剤を兼ねる。
酸、硫酸、無水硫酸、p−トルエンスルホン酸、メタン
スルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、リン酸、
トリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸等を好ましい具体例
として挙げることができる。このような酸触媒は、通
常、2核体ポリフェノール化合物(2)100重量部に
対して、0.1〜100重量部、好ましくは、0.1〜20
重量部の範囲で用いられる。
20〜60℃にて、窒素気流下に攪拌しながら、1〜4
8時間程度、通常、1〜20時間程度行なえばよい。反
応終了後、得られた反応混合物にアンモンニア水、水酸
化ナトリウム水溶液等の塩基を加えて、酸触媒を中和し
た後、反応混合物を冷却し、析出した結晶を濾別するこ
とによって、用いた脂肪族又は脂環式アルコール化合物
に対応して、目的とする2核体ポリフェノール化合物
(4)の粗結晶を得ることができる。
高純度品は、上記粗結晶をトルエン、キシレン等の芳香
族炭化水素類、アセトン、メチルエチルケトン、メチル
イソブチルケトン等の脂肪族ケトン類、メタノール、エ
タノール、イソプロピルアルコール、n−プロピルアル
コール、イソブチルアルコール、n−ブチルアルコール
等の脂肪族アルコール類や、これらの混合物を溶媒とし
て、再結晶することによって得ることができる。通常、
2核体ポリフェノール化合物(4)を得るために2核体
ポリフェノール化合物(2)との反応に用いたアルコー
ルを再結晶溶媒とすることが好ましい。
(2)を、必要に応じて、有機溶剤中で、酸触媒の存在
下に、前記一般式(5)で表わされる単核フェノール化
合物と縮合反応させることによって、本発明による4核
体ポリフェノール化合物(6)を得ることができる。こ
こに、単核フェノール化合物(5)は、2核体ポリフェ
ノール化合物(2)1モル部に対して、通常、2モル部
以上、好ましくは、2〜30モル部、特に好ましくは、
2.5〜20モル部の範囲で用いられる。
フェノール化合物(5)との縮合反応による上記4核体
ポリフェノール化合物(6)の合成に用いる上記有機溶
媒としては、原料や、反応生成物である本発明による上
記2核体又は4核体ポリフェノール化合物の溶解度、反
応条件、製造プロセスの経済性等を考慮して、トルエ
ン、キシレン等の芳香族炭化水素類、アセトン、メチル
エチルケトン、メチルイソブチルケトン等の脂肪族ケト
ン類、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコー
ル、n−プロピルアルコール、イソブチルアルコール、
n−ブチルアルコール等の脂肪族アルコール類、これら
の混合物等が好ましく用いられる。これらのなかでは、
特に、芳香族炭化水素類や脂肪族ケトン類が好ましく用
いられる。
脂環式アルコール(3)又は単核フェノール化合物
(5)100重量部に対して、10〜5000重量部、
好ましくは50〜1000重量部、特に好ましくは、5
0〜500重量部の範囲で用いられるが、これらに限定
されるものではない。
酸、無水硫酸、p−トルエンスルホン酸、メタンスルホ
ン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、リン酸、トリク
ロロ酢酸、トリフルオロ酢酸等を好ましい具体例として
挙げることができる。このような酸触媒は、通常、2核
体ポリフェノール化合物100重量部に対して、0.1〜
100重量部、好ましくは、0.1〜20重量部の範囲で
用いられる。
20〜60℃にて、窒素気流下に攪拌しながら、1〜4
8時間程度、通常、1〜20時間程度行なえばよい。反
応終了後、得られた反応混合物にアンモンニア水、水酸
化ナトリウム水溶液等の塩基を加えて、酸触媒を中和し
た後、反応混合物を冷却し、析出した結晶を濾別するこ
とによって、用いた単核フェノール化合物に対応して、
目的とする4核体ポリフェノール化合物の粗結晶を得る
ことができる。
によって精製するか、又はトルエン、キシレン等の芳香
族炭化水素類、アセトン、メチルエチルケトン、メチル
イソブチルケトン等の脂肪族ケトン類、メタノール、エ
タノール、イソプロピルアルコール、n−プロピルアル
コール、イソブチルアルコール、n−ブチルアルコール
等の脂肪族アルコール類や、これらの混合物を溶媒とし
て、再結晶することによって得ることができる。
の晶析によって、本発明による4核体ポリフェノール化
合物の高純度品を得ることができるが、用途等によって
は、反応終了後、反応混合物を中和し、更に、必要に応
じて、水を加え、攪拌した後、静置して、水層を分離す
る方法によって、洗浄した後、蒸留による濃縮や乾燥に
よって、反応物の全量を回収してもよい。
1,1−ビス(3−シクロヘキシル−4−ヒドロキシフェ
ニル)シクロヘキサン(1)とホルムアルデヒドとの反
応によって、2核体ポリフェノール化合物(2)を生成
させた後、これを単離することなく、単核フェノール化
合物との縮合反応に供して、本発明による4核体ポリフ
ェノール化合物を得ることもできる。
触媒の存在下、反応溶剤中において、1,1−ビス(3−
シクロヘキシル−4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキ
サン(1)とホルムアルデヒドとを反応させて、2核体
ポリフェノール化合物(2)を生成させた後、上記塩基
性触媒を前記酸性化合物によって中和し、次いで、この
ような反応混合物に前記芳香族炭化水素や脂肪族ケト
ン、脂肪族アルコール、エステル類等の非水混和性有機
溶媒を加え、上記中和によって生成した塩を含む水層を
反応混合物から分離して、反応生成物である2核体ポリ
フェノール化合物(2)を有機層に抽出する。次いで、
後段の工程として、この2核体ポリフェノール化合物
(2)を含む有機層に単核フェノール化合物(4)を酸
触媒と共に加え、この酸触媒の存在下に、前述したよう
にして、2核体ポリフェノール化合物(2)と上記単核
フェノール化合物(4)との縮合反応を行なわせて、4
核体ポリフェノール化合物を得るのである。
物は、2つのフェノール核が親油性に富むシクロヘキシ
ル基を置換基として有し、しかも、このような2つのフ
ェノール核がシクロヘキシリデン基を介して結合されて
いるために、フェノール核にアルキル基を置換基として
有する従来のポリフェノール化合物に比べて、有機溶剤
に対する溶解度が著しく高く、広範な用途に有利に用い
ることができる。更に、本発明による2核体ポリフェノ
ール化合物のうち、反応性に富むメチロール基を有する
ものは、これに単核フェノール化合物を反応させること
によって、一層、親油性に富む4核体ポリフェノール化
合物を与える。
化合物は、シクロヘキシリデン基を介して、ビスフェノ
ール構造が2つ、対称的に結合されてなる構造を有し、
一層、親油性にすぐれる。
体ポリフェノール化合物は、上述したような構造上の特
徴に由来して、これを原料として用いることによって、
低吸水性、低吸湿性のような耐水性にすぐれ、更に、高
絶縁性、低誘電性であって、電気特性にもすぐれる樹脂
を与える。また、本発明による2核体及び4核体ポリフ
ェノール化合物は、酸化防止機能や防菌防かび性能をも
有するので、種々の溶液の保存安定剤、添加剤等として
も、用いることができる。
化合物は、これを原料として用いて、種々の反応、例え
ば、フェノール性芳香環に対する置換反応や水添反応、
フェノール水酸基に対する反応等を行なうことによっ
て、種々の誘導体とすることができる。
応によって誘導体を得る具体例としては、例えば、本発
明による多核体ポリフェノール化合物にイソブテン等の
オレフィン類、アルコール類、カルボニル化合物、ハロ
ゲン化アルキル等を酸又は塩基触媒の存在下にアルキル
化反応させることによって、種々のアルキル置換誘導体
を得ることができる。
ン化物や酸無水物をルイス酸の存在下で反応させて、ア
シル置換多核体ポリフェノール化合物を得ることができ
る。二酸化炭素を加圧、加熱下で反応させるコルベ・シ
ュミット反応によれば、カルボキシル置換多核体ポリフ
ェノール化合物を得ることができる。硝酸−酢酸等のニ
トロ化剤を反応させれば、ニトロ置換多核体ポリフェノ
ール化合物を得ることができる。ホルムアルデヒドによ
ってメチロール化反応させれば、メチロール基を有する
多核体ポリフェノール化合物を得ることができる。アル
カリ性水溶液中、無水酢酸によってアセチル化すれば、
アセチル置換多核体ポリフェノール化合物を、また、ア
ルカリ性水溶液中、クロロホルムによってホルミル化す
れば、アルデヒド置換多核体ポリフェノール化合物を得
ることができる。ハロゲン化試剤によってハロゲン化す
れば、ハロゲン置換多核体ポリフェノール化合物を得る
ことができ、ジアゾニウム塩を反応させれば、アゾ置換
多核体ポリフェノール化合物を得ることができる。ホル
ムアルデヒドと第2級アミンとを反応させれば、アミノ
メチル置換多核体ポリフェノール化合物を得ることがで
きる。亜硝酸との反応によれば、ニトロソ置換多核体ポ
リフェノール化合物を得ることができる。酸又はアルカ
リ触媒の存在下、他のフェノール類と反応させることに
よって、ノボラック樹脂を得ることができる。
よって誘導体を得る具体例としては、例えば、フェノー
ル性水酸基にハロゲン化アルキル、ハロゲン化アリル、
エピクロロヒドリン等を反応させることによって、それ
ぞれ対応する多核体ポリフェノールエーテル化合物を得
ることができる。
カルボニルメチルエーテルとするには、本発明による多
核体ポリフェノール化合物を適当な溶媒に溶解させた
後、得られた溶液にクロロ酢酸t−ブチルと炭酸カリウ
ムを加え、攪拌下に加熱することによって得ることがで
きる。また、本発明による多核体ポリフェノール化合物
を適当な溶媒に溶解させ、エピクロロヒドリンを反応さ
せて得られるグリシジルエーテルは、エポキシ樹脂とし
て利用することができる。このようなグリシジルエーテ
ルに更にアクリル酸やメタクリル酸を反応させれば、エ
ポキシ(メタ)アクリレートを得ることもできる。フェ
ノール性水酸基に酸無水物、酸塩化物等を反応させるこ
とによって、多核体ポリフェノールエステルを得ること
ができる。特に、フェノール水酸基に、例えば、1,2−
ナフトキノンジアジド−4−スルホニルクロライドを反
応させれば、多核体ポリフェノール化合物のナフトキノ
ンジアジドスルホン酸エステルを得ることができる。
ェノール化合物を、例えば、加圧下、気相反応によっ
て、芳香環を完全水素化又は部分環水素化することによ
って、種々の多環芳香環水素化化合物を得ることができ
る。
本発明はこれら実施例により何ら限定されるものではな
い。
5−ヒドロキシメチルフェニル)シクロヘキサンの合
成)1,1−ビス(3−シクロヘキシル−4−ヒドロキシ
フェニル)シクロヘキサン216.5gをメタノール21
6.5gと共に2L容量4つ口フラスコに仕込み、40℃
で攪拌しながら、これに24%水酸化ナトリウム水溶液
92.0gを5分かけて滴下した。この後、50℃で攪拌
しながら、35%ホルムアルデヒド水溶液129.0gを
30分かけて滴下し、引続き、同じ温度で5時間、反応
させた。
ン433gを加えた後、12%酢酸水溶液300gを1
0分かけて滴下して、反応混合物を中和した。次いで、
分液操作を行なって、水層を除去し、室温まで冷却し、
一晩、攪拌した後、濾過し、得られたケーキをトルエン
54.1gにてリンスした。50℃で乾燥して、目的物1
59.3g(液体クロマトグラフィーによる純度94.6
%)を得た。収率64.7%。
に示す。
5−(2−ヒドロキシ−5−メチルベンジル)フェニ
ル〕シクロヘキサンの合成)p−クレゾール54gをp
−トルエンスルホン酸1.23gとトルエン13.5gと共
に500mL容量四つ口フラスコに仕込み、40℃で攪
拌しながら、これに実施例1で得た1,1−ビス(3−シ
クロヘキシル−4−ヒドロキシ−5−ヒドロキシメチル
フェニル)シクロヘキサンの粉末24.6gを30分かけ
て加えた。引続き、同じ温度で2.5時間、反応させた。
この後、反応混合物に16%水酸化ナトリウム水溶液1.
5gを加えて、反応混合物を中和し、この後、トルエン
35.7gを加え、65℃まで昇温し、次いで、室温まで
冷却して、攪拌した後、濾過して、トルエンを含む目的
物の粗結晶30.9g(液体クロマトグラフィーによる純
度94.2%)を得た。
gの混合溶液に59℃にて溶解させた後、この溶液から
溶媒を留去し、室温まで冷却した。生成した固形分を濾
過し、110℃にて12時間乾燥して、目的物17.8g
(液体クロマトグラフィーによる純度98.2%)を得
た。収率52.0%。
に示す。
5−メトキシメチル)フェニル〕シクロヘキサンの合
成)メタノール123gを35%塩酸1.2gと共に50
0mL容量四つ口フラスコに仕込み、40℃で攪拌しな
がら、これに実施例1で得た1,1−ビス(3−シクロヘ
キシル−4−ヒドロキシ−5−ヒドロキシメチルフェニ
ル)シクロヘキサンの粉末24.6gを1時間かけて加え
た。引続き、同じ温度で17.5時間、反応させた。この
間に、結晶が析出した。反応終了後、反応混合物に16
%水酸化ナトリウム水溶液2.8gを加えて、反応混合物
を中和し、析出している結晶を30℃で濾過して、目的
物の粗結晶26.8g(液体クロマトグラフィーによる純
度86.2%)を得た。
と共に1L容量四つ口フラスコに仕込み、60℃に加熱
して溶解させた後、常圧下にこの溶液からメタノール2
01gを留去し、室温まで冷却した。生成した結晶を1
5℃で濾過し、乾燥して、目的物の90.0%純度品を得
た。これを更にメタノールから同様に再結晶して、目的
物13.8g(液体クロマトグラフィーによる純度96.1
%)を得た。
に示す。
5−(3,5−ジメチル−4−ヒドロキシベンジル〕フェ
ニル)シクロヘキサンの合成)2,6−キシレノール61
gをp−トルエンスルホン酸一水和物1.2gとトルエン
13.5gと共に500mL容量四つ口フラスコに仕込
み、40℃で攪拌しながら、これに実施例1で得た1,1
−ビス(3−シクロヘキシル−4−ヒドロキシ−5−ヒ
ドロキシメチルフェニル)シクロヘキサンの粉末24.6
gを1時間かけて加えた。引続き、同じ温度で4.5時
間、反応させた。
トリウム水溶液1.6gを加えて、反応混合物を中和し、
更に、水49.2gを加えて、40℃で1時間攪拌した
後、水層を分液して、p−トルエンスルホン酸ナトリウ
ム塩を除去した。次いで、トルエンと未反応2,6−キシ
レノールを減圧蒸留して除去した後、得られた残液にト
ルエン24.6gとヘプタン24.6gとからなる混合溶剤
を加え、冷却し、結晶を析出させた。このようにして得
られた結晶を濾過し、減圧乾燥して、目的物の97.3%
純度品27gを得た。
に示す。
5−(2,3,4−トリヒドロキシベンジル)フェニル〕シ
クロヘキサンの合成)ピロガロール63gをp−トルエ
ンスルホン酸一水和物0.7gとメチルイソブチルケトン
73.8gと共に500mL容量四つ口フラスコに仕込
み、30℃で攪拌しながら、これに実施例1で得た1,1
−ビス(3−シクロヘキシル−4−ヒドロキシ−5−ヒ
ドロキシメチルフェニル)シクロヘキサンの粉末24.6
gを1時間かけて加えた。引続き、同じ温度で5.5時
間、反応させた。反応終了後、反応混合物に16%水酸
化ナトリウム水溶液0.9gを加えて、反応混合物を中和
した。次いで、反応混合物に水49.2gを加え、50℃
で1時間攪拌した後、水層を分液して、反応混合物から
未反応のピロガロールを除去した。このような水洗の操
作を5回繰り返した。得られた油状物を減圧蒸留し、溶
剤を留去して、目的物の粗製品30.1g(液体クロマト
グラフィーによる純度70.0%)を得た。
(展開溶媒:酢酸エチル・シクロヘキサン混合溶媒)に
て精製して、目的物(純度95%)を得た。
に示す。
5−(2−メチル−4−ヒドロキシ−5−シクロヘキシ
ルベンジル〕フェニル〕シクロヘキサンの合成)3−メ
チル−6−シクロヘキシルフェノール95gを35%塩
酸1.2gとトルエン73.8gと共に500mL容量四つ
口フラスコに仕込み、40℃で攪拌しながら、これに実
施例1で得た1,1−ビス(3−シクロヘキシル−4−ヒ
ドロキシ−5−ヒドロキシメチルフェニル)シクロヘキ
サンの粉末24.6gを1時間かけて加え、引続き、同じ
温度で19時間、反応させた。反応終了後、反応混合物
に16%水酸化ナトリウム水溶液2.8gを加えて、反応
混合物を中和した。次いで、反応混合物に水49.2gを
加え、50℃で1時間攪拌した後、水層を分液し、得ら
れた油状物を減圧蒸留し、蒸留残液68.4gを得た。こ
の蒸留残液3gをカラムクロマトグラフ法(展開溶媒:
酢酸エチル・シクロヘキサン混合溶媒)にて精製して、
目的物(純度97.1%)を得た。
に示す。
Claims (1)
- 【請求項1】一般式(I) 【化1】 (式中、Xは水酸基、炭素数1〜4のアルコキシル基、
炭素数5若しくは6のシクロアルキロキシル基又は一般
式(II) 【化2】 (式中、Rは炭素数1〜4のアルキル基、シクロヘキシ
ル基又はフェニル基を示し、mは1〜3の整数を示し、
nは0〜3の整数を示し、1≦m+n≦4である。)で
表わされる1価の置換フェニル基を示す。)で表わされ
る多核体ポリフェノール化合物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16694398A JP4022314B2 (ja) | 1998-06-15 | 1998-06-15 | 新規な多核体ポリフェノール化合物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16694398A JP4022314B2 (ja) | 1998-06-15 | 1998-06-15 | 新規な多核体ポリフェノール化合物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000001448A true JP2000001448A (ja) | 2000-01-07 |
| JP4022314B2 JP4022314B2 (ja) | 2007-12-19 |
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ID=15840520
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16694398A Expired - Fee Related JP4022314B2 (ja) | 1998-06-15 | 1998-06-15 | 新規な多核体ポリフェノール化合物 |
Country Status (1)
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|---|---|
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Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7586009B2 (en) | 2005-02-25 | 2009-09-08 | Honshu Chemical Industry Co., Ltd. | Bis-(hydroxybenzaldehyde) compound and novel polynuclear polyphenol compound derived therefrom and method for production thereof |
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| KR20160083938A (ko) | 2014-02-05 | 2016-07-12 | 후지필름 가부시키가이샤 | 감활성광선성 또는 감방사선성 수지 조성물, 감활성광선성 또는 감방사선성막, 감활성광선성 또는 감방사선성막을 구비한 마스크 블랭크, 포토마스크, 패턴 형성 방법, 전자 디바이스의 제조 방법, 전자 디바이스, 화합물, 및 화합물의 제조 방법 |
| KR20160090352A (ko) | 2014-02-05 | 2016-07-29 | 후지필름 가부시키가이샤 | 감활성광선성 또는 감방사선성 수지 조성물, 감활성광선성 또는 감방사선성막, 감활성광선성 또는 감방사선성막을 구비한 마스크 블랭크, 포토마스크, 패턴 형성 방법, 전자 디바이스의 제조 방법, 및 전자 디바이스 |
-
1998
- 1998-06-15 JP JP16694398A patent/JP4022314B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| WO2015002146A1 (ja) * | 2013-07-03 | 2015-01-08 | 本州化学工業株式会社 | 1,1-ビス(4-(2-ヒドロキシエトキシ)フェニル)-3,3,5-トリメチルシクロヘキサンの結晶体及びその製造方法 |
| CN105339335A (zh) * | 2013-07-03 | 2016-02-17 | 本州化学工业株式会社 | 1,1-双(4-(2-羟乙氧基)苯基)-3,3,5-三甲基环己烷的结晶体及其制造方法 |
| JPWO2015002146A1 (ja) * | 2013-07-03 | 2017-02-23 | 本州化学工業株式会社 | 1,1−ビス(4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル)−3,3,5−トリメチルシクロヘキサンの結晶体及びその製造方法 |
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| KR20160090352A (ko) | 2014-02-05 | 2016-07-29 | 후지필름 가부시키가이샤 | 감활성광선성 또는 감방사선성 수지 조성물, 감활성광선성 또는 감방사선성막, 감활성광선성 또는 감방사선성막을 구비한 마스크 블랭크, 포토마스크, 패턴 형성 방법, 전자 디바이스의 제조 방법, 및 전자 디바이스 |
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| US10120281B2 (en) | 2014-02-05 | 2018-11-06 | Fujifilm Corporation | Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, actinic ray-sensitive or radiation-sensitive film, mask blank provided with actinic ray-sensitive or radiation-sensitive film, photomask, pattern forming method, method for manufacturing electronic device, and electronic device |
| US10526266B2 (en) | 2014-02-05 | 2020-01-07 | Fujifilm Corporation | Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, actinic ray-sensitive or radiation-sensitive film, mask blank provided with actinic ray-sensitive or radiation-sensitive film, photomask, pattern forming method, method for manufacturing electronic device, electronic device, compound, and method for producing compound |
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