JP2000063308A - 新規な3核体ポリフェノール化合物 - Google Patents
新規な3核体ポリフェノール化合物Info
- Publication number
- JP2000063308A JP2000063308A JP10232887A JP23288798A JP2000063308A JP 2000063308 A JP2000063308 A JP 2000063308A JP 10232887 A JP10232887 A JP 10232887A JP 23288798 A JP23288798 A JP 23288798A JP 2000063308 A JP2000063308 A JP 2000063308A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- hydroxyphenyl
- polyphenol compound
- trinuclear
- reaction
- acid
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 235000013824 polyphenols Nutrition 0.000 title claims description 39
- -1 polyphenol compound Chemical class 0.000 title claims description 36
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims abstract description 11
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims abstract description 8
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 7
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 5
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 5
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 10
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N phenol group Chemical group C1(=CC=CC=C1)O ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 19
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 abstract description 11
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 10
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 9
- 239000000243 solution Substances 0.000 abstract description 7
- SLJYPZJZQIHNGU-UHFFFAOYSA-N 4-(4-hydroxyphenyl)cyclohexan-1-one Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1C1CCC(=O)CC1 SLJYPZJZQIHNGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 6
- 238000003756 stirring Methods 0.000 abstract description 6
- AVCFUELKMOEYSK-UHFFFAOYSA-N 4-[4,4-bis(4-hydroxyphenyl)cyclohexyl]phenol Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1C1CCC(C=2C=CC(O)=CC=2)(C=2C=CC(O)=CC=2)CC1 AVCFUELKMOEYSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 5
- 239000003377 acid catalyst Substances 0.000 abstract description 5
- 239000007789 gas Substances 0.000 abstract description 5
- IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N hydrogen chloride Substances Cl.Cl IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 5
- 229910000041 hydrogen chloride Inorganic materials 0.000 abstract description 5
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 abstract description 5
- 239000007810 chemical reaction solvent Substances 0.000 abstract description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 4
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 abstract description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 abstract description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 16
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 9
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 9
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 9
- QWVGKYWNOKOFNN-UHFFFAOYSA-N o-cresol Chemical compound CC1=CC=CC=C1O QWVGKYWNOKOFNN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 8
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- NXXYKOUNUYWIHA-UHFFFAOYSA-N 2,6-Dimethylphenol Chemical compound CC1=CC=CC(C)=C1O NXXYKOUNUYWIHA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 6
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 5
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 5
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 5
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 5
- RWGFKTVRMDUZSP-UHFFFAOYSA-N cumene Chemical compound CC(C)C1=CC=CC=C1 RWGFKTVRMDUZSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 4
- HXVNBWAKAOHACI-UHFFFAOYSA-N 2,4-dimethyl-3-pentanone Chemical compound CC(C)C(=O)C(C)C HXVNBWAKAOHACI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- AANJLHUEXXBOGQ-UHFFFAOYSA-N 4-[1-(4-hydroxy-3-methylphenyl)-4-(4-hydroxyphenyl)cyclohexyl]-2-methylphenol Chemical compound C1=C(O)C(C)=CC(C2(CCC(CC2)C=2C=CC(O)=CC=2)C=2C=C(C)C(O)=CC=2)=C1 AANJLHUEXXBOGQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000004203 4-hydroxyphenyl group Chemical group [H]OC1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 3
- WFDIJRYMOXRFFG-UHFFFAOYSA-N Acetic anhydride Chemical compound CC(=O)OC(C)=O WFDIJRYMOXRFFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000000862 absorption spectrum Methods 0.000 description 3
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 3
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 3
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 3
- 238000001819 mass spectrum Methods 0.000 description 3
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 3
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 3
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 3
- 238000000425 proton nuclear magnetic resonance spectrum Methods 0.000 description 3
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 3
- OGRAOKJKVGDSFR-UHFFFAOYSA-N 2,3,5-trimethylphenol Chemical compound CC1=CC(C)=C(C)C(O)=C1 OGRAOKJKVGDSFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CRBJBYGJVIBWIY-UHFFFAOYSA-N 2-isopropylphenol Chemical compound CC(C)C1=CC=CC=C1O CRBJBYGJVIBWIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- TUAMRELNJMMDMT-UHFFFAOYSA-N 3,5-xylenol Chemical compound CC1=CC(C)=CC(O)=C1 TUAMRELNJMMDMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N Epichlorohydrin Chemical compound ClCC1CO1 BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VQTUBCCKSQIDNK-UHFFFAOYSA-N Isobutene Chemical compound CC(C)=C VQTUBCCKSQIDNK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N Methanesulfonic acid Chemical compound CS(O)(=O)=O AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N Tert-Butanol Chemical compound CC(C)(C)O DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-N Trifluoroacetic acid Chemical compound OC(=O)C(F)(F)F DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000008065 acid anhydrides Chemical class 0.000 description 2
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 2
- 150000001350 alkyl halides Chemical class 0.000 description 2
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 2
- 239000002585 base Substances 0.000 description 2
- LLEMOWNGBBNAJR-UHFFFAOYSA-N biphenyl-2-ol Chemical compound OC1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 LLEMOWNGBBNAJR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 2
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 2
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N diglycidyl ether Chemical compound C1OC1COCC1CO1 GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 2
- 230000000855 fungicidal effect Effects 0.000 description 2
- 239000000417 fungicide Substances 0.000 description 2
- 230000002140 halogenating effect Effects 0.000 description 2
- 238000005984 hydrogenation reaction Methods 0.000 description 2
- ZXEKIIBDNHEJCQ-UHFFFAOYSA-N isobutanol Chemical compound CC(C)CO ZXEKIIBDNHEJCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- RLSSMJSEOOYNOY-UHFFFAOYSA-N m-cresol Chemical compound CC1=CC=CC(O)=C1 RLSSMJSEOOYNOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N methanoic acid Natural products OC=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000006386 neutralization reaction Methods 0.000 description 2
- IWDCLRJOBJJRNH-UHFFFAOYSA-N p-cresol Chemical compound CC1=CC=C(O)C=C1 IWDCLRJOBJJRNH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 2
- BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L potassium carbonate Chemical compound [K+].[K+].[O-]C([O-])=O BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 2
- JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N toluene-4-sulfonic acid Chemical compound CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 2
- DNIAPMSPPWPWGF-GSVOUGTGSA-N (R)-(-)-Propylene glycol Chemical compound C[C@@H](O)CO DNIAPMSPPWPWGF-GSVOUGTGSA-N 0.000 description 1
- JEFSTMHERNSDBC-UHFFFAOYSA-N 1,2-dimethylcyclohexa-2,4-dien-1-ol Chemical compound CC1=CC=CCC1(C)O JEFSTMHERNSDBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DKDGXKRCMHXTKM-UHFFFAOYSA-N 2-(2-hydroxyphenyl)cyclohexan-1-one Chemical compound OC1=CC=CC=C1C1C(=O)CCCC1 DKDGXKRCMHXTKM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FWAHEVVMELQPIJ-UHFFFAOYSA-N 2-(4-hydroxyphenyl)cyclohexan-1-one Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1C1C(=O)CCCC1 FWAHEVVMELQPIJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NGNBDVOYPDDBFK-UHFFFAOYSA-N 2-[2,4-di(pentan-2-yl)phenoxy]acetyl chloride Chemical compound CCCC(C)C1=CC=C(OCC(Cl)=O)C(C(C)CCC)=C1 NGNBDVOYPDDBFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SRGATTGYDONWOU-UHFFFAOYSA-N 2-cyclohexyl-5-methylphenol Chemical compound OC1=CC(C)=CC=C1C1CCCCC1 SRGATTGYDONWOU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MVRPPTGLVPEMPI-UHFFFAOYSA-N 2-cyclohexylphenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1C1CCCCC1 MVRPPTGLVPEMPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940061334 2-phenylphenol Drugs 0.000 description 1
- XOUQAVYLRNOXDO-UHFFFAOYSA-N 2-tert-butyl-5-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(C(C)(C)C)C(O)=C1 XOUQAVYLRNOXDO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HXVMQDBXJZKLEV-UHFFFAOYSA-N 2-tert-butyl-6-phenylphenol Chemical compound CC(C)(C)C1=CC=CC(C=2C=CC=CC=2)=C1O HXVMQDBXJZKLEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QQOMQLYQAXGHSU-UHFFFAOYSA-N 236TMPh Natural products CC1=CC=C(C)C(O)=C1C QQOMQLYQAXGHSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 4-(3-methoxyphenyl)aniline Chemical compound COC1=CC=CC(C=2C=CC(N)=CC=2)=C1 OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SBTIXQBFZVIJPM-UHFFFAOYSA-N 4-[1-(4-hydroxy-3,5-dimethylphenyl)-4-(4-hydroxyphenyl)cyclohexyl]-2,6-dimethylphenol Chemical compound CC1=C(O)C(C)=CC(C2(CCC(CC2)C=2C=CC(O)=CC=2)C=2C=C(C)C(O)=C(C)C=2)=C1 SBTIXQBFZVIJPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BWCAVNWKMVHLFW-UHFFFAOYSA-N 4-[1-(4-hydroxy-3,5-dimethylphenyl)cyclohexyl]-2,6-dimethylphenol Chemical compound CC1=C(O)C(C)=CC(C2(CCCCC2)C=2C=C(C)C(O)=C(C)C=2)=C1 BWCAVNWKMVHLFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- 239000002841 Lewis acid Substances 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LSDPWZHWYPCBBB-UHFFFAOYSA-N Methanethiol Chemical compound SC LSDPWZHWYPCBBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IOVCWXUNBOPUCH-UHFFFAOYSA-N Nitrous acid Chemical compound ON=O IOVCWXUNBOPUCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006085 Schmidt reaction Methods 0.000 description 1
- GPFIZJURHXINSQ-UHFFFAOYSA-N acetic acid;nitric acid Chemical compound CC(O)=O.O[N+]([O-])=O GPFIZJURHXINSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WETWJCDKMRHUPV-UHFFFAOYSA-N acetyl chloride Chemical compound CC(Cl)=O WETWJCDKMRHUPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012346 acetyl chloride Substances 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 description 1
- 238000005804 alkylation reaction Methods 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000844 anti-bacterial effect Effects 0.000 description 1
- 239000003899 bactericide agent Substances 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 1
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001728 carbonyl compounds Chemical class 0.000 description 1
- 150000004292 cyclic ethers Chemical class 0.000 description 1
- 125000001511 cyclopentyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 1
- 239000012954 diazonium Substances 0.000 description 1
- 150000001989 diazonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000003989 dielectric material Substances 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000005562 fading Methods 0.000 description 1
- 235000019253 formic acid Nutrition 0.000 description 1
- 238000010574 gas phase reaction Methods 0.000 description 1
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 1
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 229940035429 isobutyl alcohol Drugs 0.000 description 1
- 150000007517 lewis acids Chemical class 0.000 description 1
- 150000002634 lipophilic molecules Chemical class 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 229940098779 methanesulfonic acid Drugs 0.000 description 1
- WSFSSNUMVMOOMR-NJFSPNSNSA-N methanone Chemical compound O=[14CH2] WSFSSNUMVMOOMR-NJFSPNSNSA-N 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 1
- 230000000802 nitrating effect Effects 0.000 description 1
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 1
- KZCOBXFFBQJQHH-UHFFFAOYSA-N octane-1-thiol Chemical compound CCCCCCCCS KZCOBXFFBQJQHH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N olefin Natural products CCCCCCCC=C JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000010292 orthophenyl phenol Nutrition 0.000 description 1
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 1
- 235000011007 phosphoric acid Nutrition 0.000 description 1
- 150000008442 polyphenolic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910000027 potassium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003449 preventive effect Effects 0.000 description 1
- 238000007670 refining Methods 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 239000003566 sealing material Substances 0.000 description 1
- 125000000467 secondary amino group Chemical class [H]N([*:1])[*:2] 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- AKEJUJNQAAGONA-UHFFFAOYSA-N sulfur trioxide Inorganic materials O=S(=O)=O AKEJUJNQAAGONA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KUYMVWXKHQSIAS-UHFFFAOYSA-N tert-butyl 2-chloroacetate Chemical compound CC(C)(C)OC(=O)CCl KUYMVWXKHQSIAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QRKULNUXBVSTBL-UHFFFAOYSA-N tert-butyl methyl carbonate Chemical group COC(=O)OC(C)(C)C QRKULNUXBVSTBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YNJBWRMUSHSURL-UHFFFAOYSA-N trichloroacetic acid Chemical compound OC(=O)C(Cl)(Cl)Cl YNJBWRMUSHSURL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-N triflic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C(F)(F)F ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C37/00—Preparation of compounds having hydroxy or O-metal groups bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring
- C07C37/11—Preparation of compounds having hydroxy or O-metal groups bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring by reactions increasing the number of carbon atoms
- C07C37/20—Preparation of compounds having hydroxy or O-metal groups bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring by reactions increasing the number of carbon atoms using aldehydes or ketones
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C2601/00—Systems containing only non-condensed rings
- C07C2601/12—Systems containing only non-condensed rings with a six-membered ring
- C07C2601/14—The ring being saturated
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】親油性の高いシクロヘキサン骨格を有する新規
な3核(芳香核)体ポリフェノール化合物を提供するこ
とにある。 【解決手段】本発明によれば、一般式(I) 【化1】 (式中、Arは一般式(II) 【化2】 (式中、R1 は炭素数1〜4のアルキル基を示し、R2
は炭素数5若しくは6のシクロアルキル基を示し、R3
はフェニル基を示し、mは0〜3の整数を示し、n及び
kはそれぞれ、0〜2の整数を示し、m+n+k≦3で
ある。)で表わされるアリール基を示す。)で表わされ
る3核体ポリフェノール化合物が提供される。
な3核(芳香核)体ポリフェノール化合物を提供するこ
とにある。 【解決手段】本発明によれば、一般式(I) 【化1】 (式中、Arは一般式(II) 【化2】 (式中、R1 は炭素数1〜4のアルキル基を示し、R2
は炭素数5若しくは6のシクロアルキル基を示し、R3
はフェニル基を示し、mは0〜3の整数を示し、n及び
kはそれぞれ、0〜2の整数を示し、m+n+k≦3で
ある。)で表わされるアリール基を示す。)で表わされ
る3核体ポリフェノール化合物が提供される。
Description
【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、シクロヘキサン環
にフェノール構造を結合してなる親油性の高い新規な3
核(芳香核)体ポリフェノール化合物に関する。このよ
うな多核体ポリフェノール化合物は、半導体用フォトレ
ジスト等の感光性材料の基材、電子光学表示要素用の液
晶誘電体化合物の原料、集積回路の封止材料等に用いら
れるエポキシ樹脂の原料や硬化剤、感熱記録材料記録に
用いられる顕色剤や退色防止剤、このほか、殺菌剤、防
菌防カビ剤等の添加剤としても有用である。 【0002】 【従来の技術】本発明者らは、分子中にシクロヘキサン
環を有するために高い親油性を有し、しかも、分子構造
が非対称であるために、一層、親油性が高い多核体ポリ
フェノール化合物を得るべく、鋭意研究した結果、シク
ロヘキサン環に非対称的に3つのフェノール構造を結合
させてなる新規な3核(芳香核)体ポリフェノール化合
物を得て、本発明に至ったものである。 【0003】 【発明が解決しようとする課題】従って、本発明は、親
油性の高いシクロヘキサン骨格を有する新規な3核(芳
香核)体ポリフェノール化合物を提供することを目的と
する。 【0004】 【課題を解決するための手段】本発明によれば、一般式
(I) 【0005】 【化3】 【0006】(式中、Arは一般式(II) 【0007】 【化4】 【0008】(式中、R1 は炭素数1〜4のアルキル基
を示し、R2 は炭素数5若しくは6のシクロアルキル基
を示し、R3 はフェニル基を示し、mは0〜3の整数を
示し、n及びkはそれぞれ、0〜2の整数を示し、m+
n+k≦3である。)で表わされるアリール基を示
す。)で表わされる3核体ポリフェノール化合物が提供
される。 【0009】 【発明の実施の形態】本発明による3核体ポリフェノー
ル化合物は、上記一般式(I)で表わされ、上記一般式
(II)で表わされるアリール基において、R1 は炭素数
1〜4のアルキル基を示し、具体的には、メチル基、エ
チル基、プロピル基又はブチル基であり、プロピル基又
はブチル基は、直鎖状でも、分岐鎖状でもよい。R2 は
炭素数5又は6のシクロアルキル基であり、具体的に
は、シクロペンチル基又はシクロヘキシル基であり、好
ましくは、シクロヘキシル基である。R3 はフェニル基
を示す。mは0〜3の整数を示し、n及びkはそれぞ
れ、0〜2の整数を示し、m+n+k≦3である。ま
た、上記一般式(II)で表わされるアリール基は、アル
キル置換−4−ヒドロキシフェニル基であることが好ま
しい。 【0010】従って、本発明による好ましい4核体ポリ
フェノール化合物の具体例として、例えば、(1)1,4,
4−トリス(4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサ
ン、(2)1−(4−ヒドロキシフェニル)−4,4−ビ
ス(3−メチル−4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキ
サン、(3)1−(4−ヒドロキシフェニル)−4,4−
ビス(3,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)シク
ロヘキサン等を挙げることができるが、しかし、これら
に限定されるものではない。 【0011】このような本発明による3核体ポリフェノ
ール化合物は、必要に応じて、反応溶剤中、酸触媒の存
在下に、4−(4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサ
ノンに一般式(III) 【0012】 【化5】【0013】(式中、R1 は炭素数1〜4のアルキル基
を示し、R2 は炭素数5若しくは6のシクロアルキル基
を示し、R3 はフェニル基を示し、mは0〜3の整数を
示し、n及びkはそれぞれ、0〜2の整数を示し、m+
n+k≦3である。)で表わされるフェノール類を反応
させることによって得ることができる。このフェノール
類において、R1 、R2 及びR3 は前述したとおりであ
り、好ましくは、水酸基のp位は非置換である。 【0014】従って、本発明による3核体ポリフェノー
ル化合物の製造において、上記一般式(III)で表わされ
るフェノール類の具体例として、例えば、フェノール、
o−、m−又はp−クレゾール、2,3−、2,4−、2,5
−、2,6−又は3,5−キシレノール、2,3,5−トリメチ
ルフェノール、3−メチル−6−t−ブチルフェノー
ル、2−イソプロピルフェノール、2−シクロヘキシル
フェノール、3−メチル−6−シクロヘキシルフェノー
ル、2−フェニルフェノール、2−t−ブチル−6−フ
ェニルフェノール等を挙げることができる。これらのな
かでは、特に、フェノール、o−クレゾール又は2,6−
キシレノールが好ましく用いられる。 【0015】上記フェノール類と4−(4−ヒドロキシ
フェニル)シクロヘキサノンとの反応において、フェノ
ール類は、4−(4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキ
サノン1モル部に対して、通常、4〜20モル部の範囲
で用いられる。 【0016】上記フェノール類と4−(4−ヒドロキシ
フェニル)シクロヘキサノンとの反応において、反応溶
剤は用いてもよく、また、用いなくてもよい。反応溶剤
を用いる場合、例えば、脂肪族アルコール、芳香族炭化
水素又はこれらの混合溶剤が用いられる。アルコールと
しては、用いる反応原料、得られる生成物の溶解度、反
応条件、反応の経済性等を考慮して、メタノール、エタ
ノール、イソプロピルアルコール、n−プロピルアルコ
ール、t−ブチルアルコール、イソブチルアルコール、
n−ブチルアルコール等を挙げることができる。また、
芳香族炭化水素溶剤としては、例えば、トルエン、キシ
レン、クメン等を挙げることができる。 【0017】このような溶剤は、通常、用いる4−(4
−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサノン100重量部
に対して、100〜500重量部の範囲で用いられる
が、これに限定されるものではない。 【0018】本発明において、上記酸触媒としては、乾
燥塩化水素ガスが好ましく用いられるが、しかし、これ
に限定されるものではなく、例えば、塩酸、硫酸、無水
硫酸、p−トルエンスルホン酸、メタンスルホン酸、ト
リフルオロメタンスルホン酸、シュウ酸、ギ酸、リン
酸、トリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸等も用いられ
る。このような酸触媒は、例えば、乾燥塩化水素ガスの
場合は、好ましくは、反応系内を飽和させる量にて用い
られる。更に、本発明によれば、反応を促進するため
に、メルカプタン等(例えば、オクチルメルカプタン)
の助触媒を用いることができる。 【0019】反応は、通常、20℃から80℃、好まし
くは、20〜50℃にて、反応器中の反応混合物に乾燥
塩化水素ガスを吹き込みながら、攪拌下、2〜48時間
程度、通常、6〜24時間程度行なえばよい。 【0020】反応終了後、通常、得られた反応混合物に
アルカリを加えて、酸触媒を中和した後、水層に適宜の
晶析溶剤を加えるか、又は水層を分離除去し、必要に応
じて、得られた有機層を常圧又は減圧下に蒸留した後、
これに適宜の晶析溶剤を加えるかして、粗結晶を析出さ
せ、次いで、この粗結晶を濾取し、これを更に適宜の晶
析溶剤から晶析させることによって、目的とする3核体
ポリフェノール化合物の高純度品を容易に得ることがで
きる。 【0021】上記晶析溶剤としては、具体的には、晶析
条件、精製効果、経済性等を考慮して、適宜に選ばれる
が、芳香族炭化水素としては、例えば、トルエン、キシ
レン、クメン等を挙げることができ、また、脂肪族アル
コールとしては、メタノール、エタノール等、脂肪族ケ
トンとしては、例えば、アセトン、イソプロピルケト
ン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジ
イソプロピルケトン等、環状エーテルとしては、テトラ
ヒドロフラン、ジオキサン等を挙げることができる。 【0022】 【発明の効果】本発明による新規な3核体ポリフェノー
ル化合物は、分子中にシクロヘキサン環を有するために
高い親油性を有し、しかも、分子構造が非対称であるた
めに、一層、高い親油性を有する。 【0023】更に、本発明による3核体ポリフェノール
化合物は、これを原料として用いて、種々の反応、例え
ば、フェノール性芳香環に対する置換反応や水添反応、
フェノール水酸基に対する反応等を行なうことによっ
て、種々の誘導体とすることができる。 【0024】先ず、フェノール性芳香環に対する置換反
応によって誘導体を得る具体例としては、例えば、本発
明による3核体ポリフェノール化合物にイソブテン等の
オレフィン類、アルコール類、カルボニル化合物、ハロ
ゲン化アルキル等を酸又は塩基触媒の存在下にアルキル
化反応させることによって、種々のアルキル置換誘導体
を得ることができる。 【0025】例えば、塩化アセチル等のような酸ハロゲ
ン化物や酸無水物をルイス酸の存在下で反応させて、ア
シル置換3核体ポリフェノール化合物を得ることができ
る。二酸化炭素を加圧、加熱下で反応させるコルベ・シ
ュミット反応によれば、カルボキシル置換3核体ポリフ
ェノール化合物を得ることができる。硝酸−酢酸等のニ
トロ化剤を反応させれば、ニトロ置換3核体ポリフェノ
ール化合物を得ることができる。ホルムアルデヒドによ
ってメチロール化反応させれば、メチロール基を有する
3核体ポリフェノール化合物を得ることができる。アル
カリ性水溶液中、無水酢酸によってアセチル化すれば、
アセチル置換3核体ポリフェノール化合物を、また、ア
ルカリ性水溶液中、クロロホルムによってホルミル化す
れば、アルデヒド置換3核体ポリフェノール化合物を得
ることができる。ハロゲン化試剤によってハロゲン化す
れば、ハロゲン置換3核体ポリフェノール化合物を得る
ことができ、ジアゾニウム塩を反応させれば、アゾ置換
3核体ポリフェノール化合物を得ることができる。ホル
ムアルデヒドと第2級アミンとを反応させれば、アミノ
メチル置換3核体ポリフェノール化合物を得ることがで
きる。亜硝酸との反応によれば、ニトロソ置換3核体ポ
リフェノール化合物を得ることができる。酸又はアルカ
リ触媒の存在下、他のフェノール類と反応させることに
よって、ノボラック樹脂を得ることができる。 【0026】次に、フェノール性水酸基に対する反応に
よって誘導体を得る具体例としては、例えば、フェノー
ル性水酸基にハロゲン化アルキル、ハロゲン化アリル、
エピクロロヒドリン等を反応させることによって、それ
ぞれ対応する3核体ポリフェノールエーテル化合物を得
ることができる。 【0027】特に、フェノール性水酸基をt−ブトキシ
カルボニルメチルエーテルとするには、本発明による3
核体ポリフェノール化合物を適当な溶媒に溶解させた
後、得られた溶液にクロロ酢酸t−ブチルと炭酸カリウ
ムを加え、攪拌下に加熱することによって得ることがで
きる。また、本発明による3核体ポリフェノール化合物
を適当な溶媒に溶解させ、エピクロロヒドリンを反応さ
せて得られるグリシジルエーテルは、エポキシ樹脂とし
て利用することができる。このようなグリシジルエーテ
ルに更にアクリル酸やメタクリル酸を反応させれば、エ
ポキシ(メタ)アクリレートを得ることもできる。フェ
ノール性水酸基に酸無水物、酸塩化物等を反応させるこ
とによって、3核体ポリフェノールエステルを得ること
ができる。特に、フェノール水酸基に、例えば、1,2−
ナフトキノンジアジド−4−スルホニルクロライドを反
応させれば、3核体ポリフェノール化合物のナフトキノ
ンジアジドスルホン酸エステルを得ることができる。 【0028】上記以外にも、本発明による3核体ポリフ
ェノール化合物を、例えば、加圧下、気相反応によっ
て、芳香環を完全水素化又は部分環水素化することによ
って、種々の多環芳香環水素化化合物を得ることができ
る。 【0029】 【実施例】以下に実施例を挙げて以下に本発明を説明す
るが、本発明はこれら実施例により何ら限定されるもの
ではない。 【0030】実施例1 (1,4,4−トリス(4−ヒドロキシフェニル)シクロヘ
キサンの合成)フェノール47.0gと35%塩酸7.8g
とを500mL容量四つ口フラスコに仕込み、液温を5
5℃に昇温した後、4−(4−ヒドロキシフェニル)シ
クロヘキサノン19.0gとフェノール47.0gの混合溶
液を3時間で滴下し、滴下終了後、55℃で4時間、攪
拌した。 【0031】反応終了後、55℃において、反応混合物
を攪拌しながら、これに16%水酸化ナトリウム水溶液
19.1gを加え、pHを5〜6まで中和し、これにトル
エン94gを加えた後、析出した結晶を室温で濾別し、
乾燥して、1,4,4−トリス(4−ヒドロキシフェニル)
シクロヘキサン(純度88.8%)を得た。 【0032】融点:228.3℃ 赤外線吸収スペクトル(cm-1): 水酸基:3265.3 ベンゼン環:1601.8〜1510.2 シクロヘキサン環:1448.4 マス・スペクトル: M+ =360 プロトンNMRスペクトル: 【0033】 【化6】 【0034】 【表1】【0035】実施例2 (1−(4−ヒドロキシフェニル)−4,4−ビス(3−
メチル−4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサンの合
成)o−クレゾール54.0gを500mL容量四つ口フ
ラスコに仕込み、液温を40℃に昇温した後、フラスコ
内に乾燥塩化水素ガスを吹き込みながら、4−(4−ヒ
ドロキシフェニル)シクロヘキサノン19.0gとo−ク
レゾール54.0gの混合溶液を3時間で滴下し、滴下終
了後、40℃で4時間、攪拌した。 【0036】反応終了後、70℃において、反応混合物
を攪拌しながら、これに水10gを加え、次いで、16
%水酸化ナトリウム水溶液25.0gを加え、pHを5〜
6まで中和した後、水層を分液し、有機層を得た。この
有機層に水30gとトルエン100gを加え、水洗し、
水層を分液、除去した。有機層から析出した結晶を室温
で濾別し、乾燥して、1−(4−ヒドロキシフェニル)
−4,4−ビス(3−メチル−4−ヒドロキシフェニル)
シクロヘキサン(純度89.7%)を得た。 【0037】融点:188.6℃ 赤外線吸収スペクトル(cm-1): 水酸基:3258.5 ベンゼン環:1607.6〜1506.3 シクロヘキサン環:1449.4 マス・スペクトル: M+ =388 プロトンNMRスペクトル: 【0038】 【化7】 【0039】 【表2】【0040】実施例3 (1−(4−ヒドロキシフェニル)−4,4−ビス(3,5
−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン
の合成)2,6−キシレノール48.8gを500mL容量
四つ口フラスコに仕込み、液温を55℃に昇温した後、
フラスコ内に乾燥塩化水素ガスを吹き込みながら、4−
(4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサノン19.0g
と2,6−キシレノール61.0gの混合溶液を2時間で滴
下し、滴下終了後、55℃で21時間、攪拌した。 【0041】反応終了後、70℃において、反応混合物
を攪拌しながら、これに水20gを加え、次いで、16
%水酸化ナトリウム水溶液19.3gを加え、pHを5〜
6まで中和した後、水層を分液し、有機層を得た。この
有機層に水30gとトルエン100gを加え、水洗し、
水層を分液、除去した。有機層から析出した結晶を室温
で濾別し、乾燥して、1−(4−ヒドロキシフェニル)
−4,4−ビス(3,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェニ
ル)シクロヘキサン(純度97.2%)を得た。 【0042】融点:205.7℃ 赤外線吸収スペクトル(cm-1): 水酸基:3319.3 ベンゼン環:1610.4〜1489.9 シクロヘキサン環:1451.3 マス・スペクトル: M+ =416 プロトンNMRスペクトル: 【0043】 【化8】 【0044】 【表3】
にフェノール構造を結合してなる親油性の高い新規な3
核(芳香核)体ポリフェノール化合物に関する。このよ
うな多核体ポリフェノール化合物は、半導体用フォトレ
ジスト等の感光性材料の基材、電子光学表示要素用の液
晶誘電体化合物の原料、集積回路の封止材料等に用いら
れるエポキシ樹脂の原料や硬化剤、感熱記録材料記録に
用いられる顕色剤や退色防止剤、このほか、殺菌剤、防
菌防カビ剤等の添加剤としても有用である。 【0002】 【従来の技術】本発明者らは、分子中にシクロヘキサン
環を有するために高い親油性を有し、しかも、分子構造
が非対称であるために、一層、親油性が高い多核体ポリ
フェノール化合物を得るべく、鋭意研究した結果、シク
ロヘキサン環に非対称的に3つのフェノール構造を結合
させてなる新規な3核(芳香核)体ポリフェノール化合
物を得て、本発明に至ったものである。 【0003】 【発明が解決しようとする課題】従って、本発明は、親
油性の高いシクロヘキサン骨格を有する新規な3核(芳
香核)体ポリフェノール化合物を提供することを目的と
する。 【0004】 【課題を解決するための手段】本発明によれば、一般式
(I) 【0005】 【化3】 【0006】(式中、Arは一般式(II) 【0007】 【化4】 【0008】(式中、R1 は炭素数1〜4のアルキル基
を示し、R2 は炭素数5若しくは6のシクロアルキル基
を示し、R3 はフェニル基を示し、mは0〜3の整数を
示し、n及びkはそれぞれ、0〜2の整数を示し、m+
n+k≦3である。)で表わされるアリール基を示
す。)で表わされる3核体ポリフェノール化合物が提供
される。 【0009】 【発明の実施の形態】本発明による3核体ポリフェノー
ル化合物は、上記一般式(I)で表わされ、上記一般式
(II)で表わされるアリール基において、R1 は炭素数
1〜4のアルキル基を示し、具体的には、メチル基、エ
チル基、プロピル基又はブチル基であり、プロピル基又
はブチル基は、直鎖状でも、分岐鎖状でもよい。R2 は
炭素数5又は6のシクロアルキル基であり、具体的に
は、シクロペンチル基又はシクロヘキシル基であり、好
ましくは、シクロヘキシル基である。R3 はフェニル基
を示す。mは0〜3の整数を示し、n及びkはそれぞ
れ、0〜2の整数を示し、m+n+k≦3である。ま
た、上記一般式(II)で表わされるアリール基は、アル
キル置換−4−ヒドロキシフェニル基であることが好ま
しい。 【0010】従って、本発明による好ましい4核体ポリ
フェノール化合物の具体例として、例えば、(1)1,4,
4−トリス(4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサ
ン、(2)1−(4−ヒドロキシフェニル)−4,4−ビ
ス(3−メチル−4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキ
サン、(3)1−(4−ヒドロキシフェニル)−4,4−
ビス(3,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)シク
ロヘキサン等を挙げることができるが、しかし、これら
に限定されるものではない。 【0011】このような本発明による3核体ポリフェノ
ール化合物は、必要に応じて、反応溶剤中、酸触媒の存
在下に、4−(4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサ
ノンに一般式(III) 【0012】 【化5】【0013】(式中、R1 は炭素数1〜4のアルキル基
を示し、R2 は炭素数5若しくは6のシクロアルキル基
を示し、R3 はフェニル基を示し、mは0〜3の整数を
示し、n及びkはそれぞれ、0〜2の整数を示し、m+
n+k≦3である。)で表わされるフェノール類を反応
させることによって得ることができる。このフェノール
類において、R1 、R2 及びR3 は前述したとおりであ
り、好ましくは、水酸基のp位は非置換である。 【0014】従って、本発明による3核体ポリフェノー
ル化合物の製造において、上記一般式(III)で表わされ
るフェノール類の具体例として、例えば、フェノール、
o−、m−又はp−クレゾール、2,3−、2,4−、2,5
−、2,6−又は3,5−キシレノール、2,3,5−トリメチ
ルフェノール、3−メチル−6−t−ブチルフェノー
ル、2−イソプロピルフェノール、2−シクロヘキシル
フェノール、3−メチル−6−シクロヘキシルフェノー
ル、2−フェニルフェノール、2−t−ブチル−6−フ
ェニルフェノール等を挙げることができる。これらのな
かでは、特に、フェノール、o−クレゾール又は2,6−
キシレノールが好ましく用いられる。 【0015】上記フェノール類と4−(4−ヒドロキシ
フェニル)シクロヘキサノンとの反応において、フェノ
ール類は、4−(4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキ
サノン1モル部に対して、通常、4〜20モル部の範囲
で用いられる。 【0016】上記フェノール類と4−(4−ヒドロキシ
フェニル)シクロヘキサノンとの反応において、反応溶
剤は用いてもよく、また、用いなくてもよい。反応溶剤
を用いる場合、例えば、脂肪族アルコール、芳香族炭化
水素又はこれらの混合溶剤が用いられる。アルコールと
しては、用いる反応原料、得られる生成物の溶解度、反
応条件、反応の経済性等を考慮して、メタノール、エタ
ノール、イソプロピルアルコール、n−プロピルアルコ
ール、t−ブチルアルコール、イソブチルアルコール、
n−ブチルアルコール等を挙げることができる。また、
芳香族炭化水素溶剤としては、例えば、トルエン、キシ
レン、クメン等を挙げることができる。 【0017】このような溶剤は、通常、用いる4−(4
−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサノン100重量部
に対して、100〜500重量部の範囲で用いられる
が、これに限定されるものではない。 【0018】本発明において、上記酸触媒としては、乾
燥塩化水素ガスが好ましく用いられるが、しかし、これ
に限定されるものではなく、例えば、塩酸、硫酸、無水
硫酸、p−トルエンスルホン酸、メタンスルホン酸、ト
リフルオロメタンスルホン酸、シュウ酸、ギ酸、リン
酸、トリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸等も用いられ
る。このような酸触媒は、例えば、乾燥塩化水素ガスの
場合は、好ましくは、反応系内を飽和させる量にて用い
られる。更に、本発明によれば、反応を促進するため
に、メルカプタン等(例えば、オクチルメルカプタン)
の助触媒を用いることができる。 【0019】反応は、通常、20℃から80℃、好まし
くは、20〜50℃にて、反応器中の反応混合物に乾燥
塩化水素ガスを吹き込みながら、攪拌下、2〜48時間
程度、通常、6〜24時間程度行なえばよい。 【0020】反応終了後、通常、得られた反応混合物に
アルカリを加えて、酸触媒を中和した後、水層に適宜の
晶析溶剤を加えるか、又は水層を分離除去し、必要に応
じて、得られた有機層を常圧又は減圧下に蒸留した後、
これに適宜の晶析溶剤を加えるかして、粗結晶を析出さ
せ、次いで、この粗結晶を濾取し、これを更に適宜の晶
析溶剤から晶析させることによって、目的とする3核体
ポリフェノール化合物の高純度品を容易に得ることがで
きる。 【0021】上記晶析溶剤としては、具体的には、晶析
条件、精製効果、経済性等を考慮して、適宜に選ばれる
が、芳香族炭化水素としては、例えば、トルエン、キシ
レン、クメン等を挙げることができ、また、脂肪族アル
コールとしては、メタノール、エタノール等、脂肪族ケ
トンとしては、例えば、アセトン、イソプロピルケト
ン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジ
イソプロピルケトン等、環状エーテルとしては、テトラ
ヒドロフラン、ジオキサン等を挙げることができる。 【0022】 【発明の効果】本発明による新規な3核体ポリフェノー
ル化合物は、分子中にシクロヘキサン環を有するために
高い親油性を有し、しかも、分子構造が非対称であるた
めに、一層、高い親油性を有する。 【0023】更に、本発明による3核体ポリフェノール
化合物は、これを原料として用いて、種々の反応、例え
ば、フェノール性芳香環に対する置換反応や水添反応、
フェノール水酸基に対する反応等を行なうことによっ
て、種々の誘導体とすることができる。 【0024】先ず、フェノール性芳香環に対する置換反
応によって誘導体を得る具体例としては、例えば、本発
明による3核体ポリフェノール化合物にイソブテン等の
オレフィン類、アルコール類、カルボニル化合物、ハロ
ゲン化アルキル等を酸又は塩基触媒の存在下にアルキル
化反応させることによって、種々のアルキル置換誘導体
を得ることができる。 【0025】例えば、塩化アセチル等のような酸ハロゲ
ン化物や酸無水物をルイス酸の存在下で反応させて、ア
シル置換3核体ポリフェノール化合物を得ることができ
る。二酸化炭素を加圧、加熱下で反応させるコルベ・シ
ュミット反応によれば、カルボキシル置換3核体ポリフ
ェノール化合物を得ることができる。硝酸−酢酸等のニ
トロ化剤を反応させれば、ニトロ置換3核体ポリフェノ
ール化合物を得ることができる。ホルムアルデヒドによ
ってメチロール化反応させれば、メチロール基を有する
3核体ポリフェノール化合物を得ることができる。アル
カリ性水溶液中、無水酢酸によってアセチル化すれば、
アセチル置換3核体ポリフェノール化合物を、また、ア
ルカリ性水溶液中、クロロホルムによってホルミル化す
れば、アルデヒド置換3核体ポリフェノール化合物を得
ることができる。ハロゲン化試剤によってハロゲン化す
れば、ハロゲン置換3核体ポリフェノール化合物を得る
ことができ、ジアゾニウム塩を反応させれば、アゾ置換
3核体ポリフェノール化合物を得ることができる。ホル
ムアルデヒドと第2級アミンとを反応させれば、アミノ
メチル置換3核体ポリフェノール化合物を得ることがで
きる。亜硝酸との反応によれば、ニトロソ置換3核体ポ
リフェノール化合物を得ることができる。酸又はアルカ
リ触媒の存在下、他のフェノール類と反応させることに
よって、ノボラック樹脂を得ることができる。 【0026】次に、フェノール性水酸基に対する反応に
よって誘導体を得る具体例としては、例えば、フェノー
ル性水酸基にハロゲン化アルキル、ハロゲン化アリル、
エピクロロヒドリン等を反応させることによって、それ
ぞれ対応する3核体ポリフェノールエーテル化合物を得
ることができる。 【0027】特に、フェノール性水酸基をt−ブトキシ
カルボニルメチルエーテルとするには、本発明による3
核体ポリフェノール化合物を適当な溶媒に溶解させた
後、得られた溶液にクロロ酢酸t−ブチルと炭酸カリウ
ムを加え、攪拌下に加熱することによって得ることがで
きる。また、本発明による3核体ポリフェノール化合物
を適当な溶媒に溶解させ、エピクロロヒドリンを反応さ
せて得られるグリシジルエーテルは、エポキシ樹脂とし
て利用することができる。このようなグリシジルエーテ
ルに更にアクリル酸やメタクリル酸を反応させれば、エ
ポキシ(メタ)アクリレートを得ることもできる。フェ
ノール性水酸基に酸無水物、酸塩化物等を反応させるこ
とによって、3核体ポリフェノールエステルを得ること
ができる。特に、フェノール水酸基に、例えば、1,2−
ナフトキノンジアジド−4−スルホニルクロライドを反
応させれば、3核体ポリフェノール化合物のナフトキノ
ンジアジドスルホン酸エステルを得ることができる。 【0028】上記以外にも、本発明による3核体ポリフ
ェノール化合物を、例えば、加圧下、気相反応によっ
て、芳香環を完全水素化又は部分環水素化することによ
って、種々の多環芳香環水素化化合物を得ることができ
る。 【0029】 【実施例】以下に実施例を挙げて以下に本発明を説明す
るが、本発明はこれら実施例により何ら限定されるもの
ではない。 【0030】実施例1 (1,4,4−トリス(4−ヒドロキシフェニル)シクロヘ
キサンの合成)フェノール47.0gと35%塩酸7.8g
とを500mL容量四つ口フラスコに仕込み、液温を5
5℃に昇温した後、4−(4−ヒドロキシフェニル)シ
クロヘキサノン19.0gとフェノール47.0gの混合溶
液を3時間で滴下し、滴下終了後、55℃で4時間、攪
拌した。 【0031】反応終了後、55℃において、反応混合物
を攪拌しながら、これに16%水酸化ナトリウム水溶液
19.1gを加え、pHを5〜6まで中和し、これにトル
エン94gを加えた後、析出した結晶を室温で濾別し、
乾燥して、1,4,4−トリス(4−ヒドロキシフェニル)
シクロヘキサン(純度88.8%)を得た。 【0032】融点:228.3℃ 赤外線吸収スペクトル(cm-1): 水酸基:3265.3 ベンゼン環:1601.8〜1510.2 シクロヘキサン環:1448.4 マス・スペクトル: M+ =360 プロトンNMRスペクトル: 【0033】 【化6】 【0034】 【表1】【0035】実施例2 (1−(4−ヒドロキシフェニル)−4,4−ビス(3−
メチル−4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサンの合
成)o−クレゾール54.0gを500mL容量四つ口フ
ラスコに仕込み、液温を40℃に昇温した後、フラスコ
内に乾燥塩化水素ガスを吹き込みながら、4−(4−ヒ
ドロキシフェニル)シクロヘキサノン19.0gとo−ク
レゾール54.0gの混合溶液を3時間で滴下し、滴下終
了後、40℃で4時間、攪拌した。 【0036】反応終了後、70℃において、反応混合物
を攪拌しながら、これに水10gを加え、次いで、16
%水酸化ナトリウム水溶液25.0gを加え、pHを5〜
6まで中和した後、水層を分液し、有機層を得た。この
有機層に水30gとトルエン100gを加え、水洗し、
水層を分液、除去した。有機層から析出した結晶を室温
で濾別し、乾燥して、1−(4−ヒドロキシフェニル)
−4,4−ビス(3−メチル−4−ヒドロキシフェニル)
シクロヘキサン(純度89.7%)を得た。 【0037】融点:188.6℃ 赤外線吸収スペクトル(cm-1): 水酸基:3258.5 ベンゼン環:1607.6〜1506.3 シクロヘキサン環:1449.4 マス・スペクトル: M+ =388 プロトンNMRスペクトル: 【0038】 【化7】 【0039】 【表2】【0040】実施例3 (1−(4−ヒドロキシフェニル)−4,4−ビス(3,5
−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン
の合成)2,6−キシレノール48.8gを500mL容量
四つ口フラスコに仕込み、液温を55℃に昇温した後、
フラスコ内に乾燥塩化水素ガスを吹き込みながら、4−
(4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサノン19.0g
と2,6−キシレノール61.0gの混合溶液を2時間で滴
下し、滴下終了後、55℃で21時間、攪拌した。 【0041】反応終了後、70℃において、反応混合物
を攪拌しながら、これに水20gを加え、次いで、16
%水酸化ナトリウム水溶液19.3gを加え、pHを5〜
6まで中和した後、水層を分液し、有機層を得た。この
有機層に水30gとトルエン100gを加え、水洗し、
水層を分液、除去した。有機層から析出した結晶を室温
で濾別し、乾燥して、1−(4−ヒドロキシフェニル)
−4,4−ビス(3,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェニ
ル)シクロヘキサン(純度97.2%)を得た。 【0042】融点:205.7℃ 赤外線吸収スペクトル(cm-1): 水酸基:3319.3 ベンゼン環:1610.4〜1489.9 シクロヘキサン環:1451.3 マス・スペクトル: M+ =416 プロトンNMRスペクトル: 【0043】 【化8】 【0044】 【表3】
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(72)発明者 江川 健志
和歌山市小雑賀二丁目5番115号 本州化
学工業株式会社総合研究所内
Fターム(参考) 4H006 AA01 AB03 AB49 AB76 AB92
FC22 FC52 FE13
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 【請求項1】一般式(I) 【化1】 (式中、Arは一般式(II) 【化2】 (式中、R1 は炭素数1〜4のアルキル基を示し、R2
は炭素数5若しくは6のシクロアルキル基を示し、R3
はフェニル基を示し、mは0〜3の整数を示し、n及び
kはそれぞれ、0〜2の整数を示し、m+n+k≦3で
ある。)で表わされるアリール基を示す。)で表わされ
る3核体ポリフェノール化合物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10232887A JP2000063308A (ja) | 1998-08-19 | 1998-08-19 | 新規な3核体ポリフェノール化合物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10232887A JP2000063308A (ja) | 1998-08-19 | 1998-08-19 | 新規な3核体ポリフェノール化合物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000063308A true JP2000063308A (ja) | 2000-02-29 |
Family
ID=16946407
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10232887A Pending JP2000063308A (ja) | 1998-08-19 | 1998-08-19 | 新規な3核体ポリフェノール化合物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000063308A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2002062736A1 (en) * | 2001-02-08 | 2002-08-15 | Honshu Chemical Industry Co., Ltd. | Diphenol and process for producing the same |
| US7011922B2 (en) | 2003-02-19 | 2006-03-14 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Thermal recording material |
| JP2011213603A (ja) * | 2010-03-31 | 2011-10-27 | Honshu Chem Ind Co Ltd | 1−(4−ヒドロキシフェニル)−1−シクロヘキセン類の製造方法 |
| JP2013227280A (ja) * | 2012-03-30 | 2013-11-07 | Honshu Chem Ind Co Ltd | 新規なトリスフェノール化合物 |
| JP2014208635A (ja) * | 2013-03-28 | 2014-11-06 | 本州化学工業株式会社 | トリスフェノール化合物 |
| WO2025121035A1 (ja) * | 2023-12-06 | 2025-06-12 | 本州化学工業株式会社 | 2,2-ビス-(4,4-ビス-(3,5-ジメチル-4-ヒドロキシフェニル)シクロヘキシル)プロパンの結晶及びその製造方法 |
-
1998
- 1998-08-19 JP JP10232887A patent/JP2000063308A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2002062736A1 (en) * | 2001-02-08 | 2002-08-15 | Honshu Chemical Industry Co., Ltd. | Diphenol and process for producing the same |
| US7011922B2 (en) | 2003-02-19 | 2006-03-14 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Thermal recording material |
| JP2011213603A (ja) * | 2010-03-31 | 2011-10-27 | Honshu Chem Ind Co Ltd | 1−(4−ヒドロキシフェニル)−1−シクロヘキセン類の製造方法 |
| JP2013227280A (ja) * | 2012-03-30 | 2013-11-07 | Honshu Chem Ind Co Ltd | 新規なトリスフェノール化合物 |
| JP2014208635A (ja) * | 2013-03-28 | 2014-11-06 | 本州化学工業株式会社 | トリスフェノール化合物 |
| WO2025121035A1 (ja) * | 2023-12-06 | 2025-06-12 | 本州化学工業株式会社 | 2,2-ビス-(4,4-ビス-(3,5-ジメチル-4-ヒドロキシフェニル)シクロヘキシル)プロパンの結晶及びその製造方法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2007326847A (ja) | 新規な多核体ポリフェノール化合物 | |
| JP5744740B2 (ja) | 新規なトリスフェノール化合物 | |
| JP4132302B2 (ja) | 新規なポリフェノール化合物 | |
| JP2000086584A (ja) | 新規なトリスフェノ―ルエ―テル類 | |
| JP2000063308A (ja) | 新規な3核体ポリフェノール化合物 | |
| KR101607717B1 (ko) | 신규한 테트라키스(에테르 치환-포르밀페닐)류 및 그것으로부터 유도되는 신규한 다핵 폴리(페놀)류 | |
| JP3830666B2 (ja) | 新規な4核体ポリフェノール化合物 | |
| JP4395184B2 (ja) | 新規なビス(ヒドロキシベンズアルデヒド)化合物及びそれらから誘導される新規な多核体ポリフェノール化合物及びその製造方法 | |
| JPH09278695A (ja) | 新規なトリスフェノール化合物 | |
| JP3797799B2 (ja) | 新規なビスフェノール化合物 | |
| KR101200619B1 (ko) | 1,3?비스(3?포르밀?4?히드록시페닐)아다만탄류및 그로부터 유도되는 다핵체 폴리페놀류 | |
| JP3924387B2 (ja) | 新規なモノアルコキシカルボニルメチル化トリスフェノール類とその製造方法 | |
| JP2003306460A (ja) | 1,3−ビス(ヒドロキシフェニル)アダマンタン類及びその製造方法 | |
| JP2009107991A (ja) | 新規なヒドロキシメチル置換又はアルコキシメチル置換ビスフェノール化合物 | |
| JP3850596B2 (ja) | 新規な部分保護トリスフェノール類とその製造方法 | |
| KR101828095B1 (ko) | 신규한 다핵 폴리(페놀)류 | |
| JP2000001448A (ja) | 新規な多核体ポリフェノール化合物 | |
| JP2003306461A (ja) | 1,3,5−トリス(4−ヒドロキシフェニル)アダマンタン類及びその製造方法 | |
| JP3799643B2 (ja) | ペンタフェノール系化合物、その製法及び用途 | |
| JP2008163032A (ja) | 新規なポリフェノール類 | |
| WO2008044568A1 (fr) | Nouveau bis(formylphényl)alcane et nouveau phénol polynucléaire dérivé de celui-ci | |
| JP2000063310A (ja) | 新規なビスフェノール化合物 | |
| JPH10218815A (ja) | 新規なトリスフェノール化合物 | |
| JP4093528B2 (ja) | 非対称エチリデン多価フェノール類とその製造方法 | |
| JP2004067664A (ja) | 新規な4,4’−(ヘキサヒドロ−4,7−メタノインダン−5−イリデン)ビス(置換フェノール)類 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20050927 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20060228 |