JP2000090693A - メモリ試験装置 - Google Patents
メモリ試験装置Info
- Publication number
- JP2000090693A JP2000090693A JP11203737A JP20373799A JP2000090693A JP 2000090693 A JP2000090693 A JP 2000090693A JP 11203737 A JP11203737 A JP 11203737A JP 20373799 A JP20373799 A JP 20373799A JP 2000090693 A JP2000090693 A JP 2000090693A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- test
- timing
- generating means
- pattern
- waveform
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Tests Of Electronic Circuits (AREA)
- For Increasing The Reliability Of Semiconductor Memories (AREA)
Abstract
とホールド・タイムTdhを試験するメモリ試験装置を
提供する。 【解決手段】 1動作周期内に2つのテストパターン・
データを生成する2パターンデータ発生部22をパター
ン発生器2に設け、1動作周期内に2つのタイミング・
クロックを生成する2タイミング・クロック発生部33
をタイミング発生器3に設け、さらに、上記パターン発
生器から与えられる2つのテストパターン・データと、
上記タイミング発生器から与えられる2つのタイミング
・クロックとによって2つのNRZ波形を生成し、MU
T9に印加する2NRZ波形生成部44を波形整形器4
に設ける。2つのNRZ波形を交互にMUTに印加し、
その読み出し応答信号と期待値パターン信号とを論理比
較してMUTのセットアップ・タイム及びホールド・タ
イムを交互に測定する。
Description
積回路(IC)によって構成されたメモリ(ICメモ
リ)や、その他の各種の半導体メモリを試験するための
メモリ試験装置に関し、詳しく言うと、一般の動作速度
の半導体メモリのセットアップ・タイム(以後、「Td
s」とも称す)及びホールド・タイム(以後、「Td
h」とも称す)のみならず、高速動作の半導体メモリの
セットアップ・タイム及びホールド・タイムをも正確に
測定することができるメモリ試験装置に関する。
めの従来のメモリ試験装置の基本的な構成について図8
を参照して説明する。図示するように、メモリ試験装置
は、基本的には、テスタプロセッサ1と、パターン発生
器2と、タイミング発生器3と、波形整形器4と、ドラ
イバ5と、アナログのレベル比較器6と、パターン比較
器7と、不良解析メモリ8とによって構成されている。
ムによって構成されており、ユーザ(プログラマ)が作
成したテストプログラムに従って試験装置全体の制御を
行う。例えば、テスタ・バスBUSを通じて試験装置の
各ユニット(装置又は回路)に制御信号(命令)を与え
る。パターン発生器2はテスタプロセッサ1から与えら
れる制御信号(この場合にはテスト開始命令)に応答し
てパターンの発生を開始し、被試験半導体メモリ(一般
にDUT又はMUTと呼ばれる)9に印加すべき所定の
パターンのテスト信号(テストパターン・データ)PT
ND、アドレス信号及び制御信号や、パターン比較器7
に与える所定のパターンの期待値信号(期待値パターン
信号)EXP等を発生する。このパターン発生器2に
は、一般に、ALPG(Algorithmic Pattern Generato
r)が用いられる。ALPGとは、半導体メモリ(例え
ばICメモリ)に印加するテストパターンを、内部の演
算機能を持ったレジスタを用いて、演算により発生する
パターン発生器のことである。
ストタイミングを取るために、パターン発生器2から与
えられるタイミング情報に基づいて、タイミング信号
(パルス)を発生して波形整形器4、レベル比較器6、
パターン比較器7等に与える。波形整形器4はパターン
発生器2から与えられるテストパターン・データPTN
Dと、タイミング発生器3から与えられるタイミング信
号とによって実波形を持つテストパターン信号PTNを
生成し、ドライバ5を通じて被試験半導体メモリ(以
後、MUTと称す)9にこのテストパターン信号PTN
を印加する。
Nを印加する状態(テストパターンの書き込みサイク
ル)を示している。図示するように、MUT9にテスト
パターン信号を書き込むときには、MUT9の書き込み
/読み出し(R/W)端子を書き込み状態(W)にし、
ドライバ5をアウトプット・イネーブル(出力可能)状
態にして(アウトプット・イネーブル信号“/OE"を
印加)その出力側に挿入されたスイッチSW1をオンに
すると共に、レベル比較器6の入力側のスイッチSW2
をオフにする。この状態でMUT9にドライバ5を通じ
てテストパターン信号を書き込む。なお、この明細書で
は極性を反転した信号にはその先頭部にスラッシュ符号
“/"を付けて表示することにする。例えばアウトプッ
ト・イネーブル信号“/OE"は信号“OE"の極性を反
転した信号を示す。
パターン信号の書き込みが終了した後、MUT9に書き
込んだテストパターン信号を読み出すときには(テスト
パターンの読み出しサイクルにおいては)、ドライバ5
の出力側のスイッチSW1をオフ(アウトプット・ディ
スエーブル状態)にし、MUT9のR/W端子を読み出
し状態(R)にし、レベル比較器6をインプット・イネ
ーブル(入力可能)状態にして(インプット・イネーブ
ル信号“/IE"を印加)その入力側のスイッチSW2
をオンにする。この状態でMUT9に書き込んだテスト
パターン信号を読み出す。
信号(以下、応答信号と称す)は、アナログのレベル比
較器6においてその信号レベル(通常は電圧レベル)が
比較基準電圧源(図示せず)から与えられる基準電圧と
比較され、所定の電圧レベルを有しているか否かが判定
される。この基準電圧としては、MUT9からの応答信
号が論理「1」のときに使用される基準電圧V0H(H
論理の基準電圧)と、MUT9からの応答信号が論理
「0」のときに使用される基準電圧V0L(L論理の基
準電圧)の2つがあり、図示の回路例では、いずれの場
合にも、レベル比較器6からはパスのときには論理
「1」信号が、フェイルのときには論理「0」信号が出
力される。
てレベル比較器6から出力された論理信号はパターン比
較器7に与えられる。パターン比較器7は、レベル比較
器6からの論理信号とパターン発生器2から与えられる
期待値パターン信号EXPとを論理比較し、両信号が一
致するか否かを検出する。パターン比較器7は、両信号
が不一致であると、その論理信号(応答信号)が読み出
されたMUT9のアドレスのメモリセルが不良であると
判定し、そのことを示すフェイル(FAIL)信号を発生す
る。通常、このフェイル信号は論理“1"信号で表さ
れ、不良解析メモリ8に記憶される。一般には、フェイ
ル信号はMUT9の不良メモリセルのアドレスと同じ不
良解析メモリ8のアドレスに記憶される。
号とが一致すると、パターン比較器7は、その論理信号
が読み出されたMUT9のアドレスのメモリセルは正常
であると判定し、そのことを示すパス(PASS)信号を発
生する。このパス信号は論理“0"信号で表され、通常
は不良解析メモリ8に記憶されない。試験が終了した時
点で不良解析メモリ8に記憶されたフェイル信号が読み
出され、例えば試験された半導体メモリの不良メモリセ
ルの救済が可能であるか否かが判定される。
生成するために、図示の例ではパターン発生器2、タイ
ミング発生器3及び波形整形器4はこの技術分野でテー
ブル・メモリと呼ばれているメモリ(以後、テーブルと
称す)2A、3A及び4Aを備えており、これらテーブ
ル2A、3A、4Aにはテスタプロセッサ1から予め所
要のデータが格納されている。
メモリの性能諸元に基づいてテストパターンを考察し、
テストプログラムを作成している。この際、ユーザはこ
の例ではパターン発生器2、タイミング発生器3及び波
形整形器4のテーブル2A、3A及び4Aに予め格納す
べきデータをこのテストプログラムに記載しており、こ
れらデータは、半導体メモリのテストを開始する前に、
テスタプロセッサ1からこれらテーブル2A、3A、4
Aに予めロードされている。
ト(RATE)設定テーブルメモリとクロック設定テー
ブルメモリとによって構成されており、レート設定テー
ブルメモリにはテスト周期(test rate or test cycl
e)に関するデータが格納されており、クロック設定テ
ーブルメモリにはドライバ波形(波形整形器4からドラ
イバ5に与えられるテストパターン信号PTNの波形)
に関する種々のタイミングデータが格納されている。こ
れらタイミングデータを組み合わせて複数のタイミング
データグループ、例えばTS1グループ、TS2グルー
プ、・・・、TSnグループを準備し、必要とするグル
ープを読み出してセット信号やリセット信号のタイミン
グパルスを生成している。
が用いられ、そのテーブル2AにはMUT9のピン1か
らピンn(nは正の整数)までの各ピンに印加すべきテ
ストパターン・データが格納されている。波形整形器4
のテーブル4Aには波形モードなどの波形設定に関する
データが格納されており、パターン発生器2から発生さ
れるテストパターン・データPTNDとタイミング発生
器3から発生されるセット及びリセット用のタイミング
パルスとを用いて所定の波形及びタイミングのテストパ
ターン信号PTNを生成し、ドライバ5に供給してい
る。
り、半導体メモリ、例えばICメモリのセットアップ・
タイムやホールド・タイムを測定し、適正な値であるか
否かを検査する方法について説明する。例えばICメモ
リの1つであるスタティックRAM(Static Random Ac
cess Memory、以後、SRAMと称す)をテストする際
に使用される各種のタイミング信号は、図5に示すよう
に、基準クロックに対して決められている。図5AはS
RAMに対する1書き込みサイクル(1ライトサイク
ル)時間Twcを示し、このライトサイクル時間Twc
は基準クロックによってその開始時間及び終了時間のタ
イミングが決められ、ライトサイクルの開始時点でアド
レス信号(ADR)が被試験SRAMに送出される。こ
のライトサイクル時間Twc中に所定のタイミングで、
図5Bに示すチップセレクト信号(/CS)が被試験S
RAMに与えられ、このチップセレクト信号の送出後
に、所定のタイミングで図5Cに示すライト・イネーブ
ル信号(/WE)が被試験SRAMに与えられる。そし
て、ライト・イネーブル信号の送出後に、所定のタイミ
ングで図5Dに示すように、入力データDinが被試験
SRAMに書き込まれる。
AMに書き込まれる有効データ(Valid Data)部分Dv
dの時間幅(time duration)は、入力データのセット
アップ・タイムTdsと、入力データのホールド・タイ
ムTdhとの和であり、ライト・イネーブル信号に対し
てそれらのタイミングが規定されている。ICメモリの
開発段階においては、このTdsやTdhが設計基準書
通りに開発されたか否かが検査され、製造段階において
は仕様書通りに製造されたか否かが検査される。
には、図6に示すように、3つのタイミング・クロック
A、B、Cを使用して生成したXOR波形(Exclusive
OR波形)を用いていた。XOR波形とは、1テストサ
イクル(1動作周期)内で論理“1"の両側の波形が必
ず論理“0"、或いは論理“0"の両側の波形が必ず論理
“1"になる波形をいう。
6AはTdsやTdhを測定する際の動作周期(この例
ではライトサイクルにおけるいくつかの動作周期)を示
し、1動作周期をRATEで表す。この動作周期に合わ
せて(同期させて)、図6Bに示すテストパターン・デ
ータPTND(P1、P2、P3、・・・)がパターン
発生器2から出力される。図6C、6D及び6Eは上述
した3つのタイミング・クロックA、B及びCをそれぞ
れ示し、図6Cのタイミング・クロックAは各動作周期
RATEの開始時点より時間Taだけ遅れて発生され、
図6Dのタイミング・クロックBは各動作周期の開始時
点より時間Tbだけ遅れて発生され、図6Eのタイミン
グ・クロックCは各動作周期の開始時点より時間Tcだ
け遅れて発生される。ここで、これら遅延時間の関係は
Ta<Tb<Tcであり、かつTc<RATEである。
また、この例ではTb−Ta=Tc−Tb=Ta+(R
ATE)−Tc=(RATE)/3に設定されている。
B、CによってMUT9に印加すべき図6Bの各動作周
期のテストパターン・データP1、P2、P3、・・・
にそれぞれ変化点を作り、図6Fに示すように、実際に
MUT9に書き込まれる有効データ部分Dvdの信号の
直前及び直後に、この有効データ部分Dvdの信号の反
転信号がそれぞれ存在するテストパターン信号PTNを
生成する。図6Gは、図6Bに示したテストパターン・
データP1=0、P2=1、P3=1の場合に、上述の
ようにして生成されたテストパターン信号PTNの波形
PTNWFを示す。図6Gから容易に理解できるよう
に、実際にMUT9に書き込まれる有効データ部分Dv
dの信号P1=0の前及び後には論理“1"信号がそれ
ぞれ生成され、信号P2=1の前及び後には論理“0"
信号がそれぞれ生成され、信号P3=1の前及び後には
論理“0"信号がそれぞれ生成されている。即ち、XO
R波形が生成されている。このXOR波形を用いてDU
T9のTdsやTdhを測定する。なお、これら3つの
タイミング・クロックA、B、Cによって生成したXO
R波形を、この明細書では、XORABC波形と称する
ことにする。
6Dのタイミング・クロックBの発生のタイミングを遅
らせて、つまり、遅延時間Tbを大きくして、有効デー
タ部分Dvdの時間幅(Tds+Tdh)を狭くし、こ
の時間幅の狭くされた有効データ部分DvdをMUT9
に書き込む。次に、MUT9からそれを読み出して期待
値パターン信号EXPと論理比較し、フェイル(両信号
の不一致状態)とパス(両信号の一致状態)の境目(例
えば論理比較結果がフェイルからパスに変わる境目)の
遅延時間Tbの値からTdsを測定している。
図6Eのタイミング・クロックCの発生のタイミングを
早くして、つまり、遅延時間Tcを小さくして、有効デ
ータ部分Dvdの時間幅を同じく狭くし、この時間幅の
狭くされた有効データ部分DvdをMUT9に書き込
む。次に、MUT9からそれを読み出して期待値パター
ン信号EXPと論理比較し、パスとフェイルの境目(例
えば論理比較結果がパスからフェイルに変わる境目)の
遅延時間Tcの値からTdhを測定している。
発展はめざましく、益々高速化されている。このため、
ライトサイクル時間Twcが速くなり、つまり、短くな
り、メモリ試験装置の性能によってはXORABC波形
を使用することができない場合が生じている。その理由
について説明する。
トパターン信号中の有効データ部分Dvdの論理信号P
i又は/Pi(iは整数、この例ではi=1、2、3、
・・・)の最小の時間幅、つまり、メモリ試験装置が発
生することができる最小のパルス幅をTpとすると、X
ORABC波形を発生させる場合のライトサイクル時間
Twcは約3Tpを必要とする。つまり、ライトサイク
ル時間Twcと最小パルス幅Tpとの関係式は、Twc
>3Tpでなければならない。従って、Twc<3Tp
の場合には、XORABC波形が使用できないことにな
る。
ns(約1/111MHz)のメモリ試験装置の場合に
は、最小パルス幅Tpは約3nsとなるから、仕様書に
示されたICメモリ、例えばSRAMのセットアップ・
タイムとホールド・タイムの和(Tds+Tdh)(有
効データ部分Dvdの信号Piの時間幅に等しい)が約
3ns以上のSRAMでないと、XORABC波形を用
いてSRAMのセットアップ・タイムとホールド・タイ
ムを測定することはできない。
した図6Cのタイミング・クロックAを省略し、図6B
のテストパターン・データPTNDに対して図6D及び
図6Eの2つのタイミング・クロックB及びCによって
MUT9に印加すべき図6Bのテストパターン・データ
PTNDに変化点を作り、図7Eに示すように、実際に
MUT9に書き込まれる有効データ部分Dvdの論理信
号Pi(この例ではP1、P2、P3)の直後に、この
有効データ部分Dvdの論理信号Piの反転信号/Pi
を生成した波形を使用すると、Twc<3Tpの場合で
も、ICメモリのホールド・タイムを測定することがで
きる。この明細書ではこの波形を、タイミング・クロッ
クAを用いないので、XORBC波形と称することにす
る。
されており、図7C及び図7Dの2つのタイミング・ク
ロックB及びC(図6D及び図6Eの2つのタイミング
・クロックB及びCと実質的に同じ)によってMUT9
に印加すべき図7Bのテストパターン・データ(図6B
のテストパターン・データと実質的に同じ)PTNDに
変化点を作り、図7Eに示すように、実際にMUT9に
書き込まれる有効データ部分Dvdの信号Piの直後
に、この有効データ部分Dvdの信号Piの反転信号/
Piを生成したものである。
タP1=0、P2=1、P3=1の場合に、上述のよう
にして生成されたテストパターン信号PTNの波形PT
NWFを示す。図7Fから容易に理解できるように、実
際にMUT9に印加される有効データ部分Dvdの信号
P1=0の後には論理“1"信号が生成され、信号P2
=1の後には論理“0"信号が生成され、信号P3=1
の後には論理“0"信号が生成されている。
MUT9のホールド・タイムを測定する場合には、書き
込みサイクル時間Twcと最小パルス幅Tpとの関係
が、Twc≧2Tpまで、測定が可能となる。即ち、仕
様書に示されたICメモリ、例えばSRAM、のセット
アップ・タイムとホールド・タイムの和(Tds+Td
h)が書き込みサイクル時間Twcの約1/2以上のS
RAMまで、XORBC波形を用いてSRAMのホール
ド・タイムを測定できる。
測定は、有効データ部分Dvdの論理信号Piの直前
に、この有効データ部分Dvdの信号Piの反転信号/
Piを生成することができないため、ICメモリのホー
ルド・タイムは測定できるが、ICメモリのセットアッ
プ・タイムTdsは測定できないという重大な欠点があ
る。換言すると、有効データ部分Dvdの論理信号Pi
の反転信号/Piが有効データ部分Dvdの論理信号P
iの直前に存在しない限り、タイミング・クロックBの
発生のタイミングをずらしても(遅延時間Tbを変化さ
せても)、有効データ部分Dvdの論理信号Piの開始
点は定まらないので(論理が反転する境目がないか
ら)、パターン比較器7では正確な論理の一致/不一致
の判定を行うことができないのである。
時間Twcと最小パルス幅Tpとの関係が、Twc≧2
Tpまで、各種の半導体メモリのセットアップ・タイム
及びホールド・タイムの両方を測定することができるメ
モリ試験装置を提供することである。この発明の他の目
的は、NRZ(non-return to zero)波形を使用して高
速動作の半導体メモリのセットアップ・タイム及びホー
ルド・タイムの両方を正確に測定することができるメモ
リ試験装置を提供することである。
に、請求項1に記載の発明においては、所定のテストパ
ターン信号を被試験半導体メモリに印加し、この被試験
半導体メモリから読み出した応答信号を期待値パターン
信号と論理比較して上記被試験半導体メモリのセットア
ップ・タイム及びホールド・タイムを試験するメモリ試
験装置において、1動作周期内に所定のパターンの少な
くとも2つのテスト信号データを生成するパターン発生
手段と、1動作周期内に少なくとも2つのタイミング・
クロックを生成するタイミング発生手段と、上記パター
ン発生手段から与えられる少なくとも2つのテスト信号
データと、上記タイミング発生手段から与えられる少な
くとも2つのタイミング・クロックとによって2つのN
RZ波形を生成し、被試験半導体メモリに印加する波形
生成手段とを具備することを特徴とするメモリ試験装置
が提供される。
いて、それらの論理が互いに反転している2つのテスト
信号データを出力する。好ましい一実施例においては、
上記パターン発生手段は、被試験半導体メモリのセット
アップ・タイムを試験する際には、各動作周期におい
て、それらの論理が互いに反転している第1及び第2の
2つのテスト信号データを出力し、被試験半導体メモリ
のホールド・タイムを試験する際には、これら第1及び
第2の2つのテスト信号データの論理状態をそれぞれ反
転した第3及び第4の2つのテスト信号データを出力す
る。
手段から与えられる2つのタイミング・クロックの一方
によって上記パターン発生手段から与えられる2つのテ
スト信号データの一方に変化点を作り、他方のタイミン
グ・クロックによって他方のテスト信号データに変化点
を作り、1つのNRZ波形を生成する。好ましい一実施
例においては、上記波形生成手段は、上記タイミング発
生手段から与えられる2つのタイミング・クロックの一
方によって上記パターン発生手段から与えられる上記第
1及び第4のテスト信号データにそれぞれ変化点を作
り、他方のタイミング・クロックによって上記第2及び
第3のテスト信号データにそれぞれ変化点を作り、2つ
のNRZ波形を生成する。
は、被試験半導体メモリのセットアップ・タイムを試験
する際には、上記タイミング発生手段から与えられる2
つのタイミング・クロックの一方によって上記パターン
発生手段から与えられる2つのテスト信号データの一方
に変化点を作り、他方のタイミング・クロックによって
他方のテスト信号データに変化点を作って1つのNRZ
波形を生成し、被試験半導体メモリのホールド・タイム
を試験する際には、上記一方のタイミング・クロックに
よって上記他方のテスト信号データに変化点を作り、上
記他方のタイミング・クロックによって上記一方のテス
ト信号データに変化点を作ってさらに1つのNRZ波形
を生成する。
なくとも2つのタイミング・クロックの発生タイミング
は可変である。請求項8に記載の発明においては、所定
のパターンのテスト信号データを出力するパターン発生
手段と、所要のタイミング信号を発生するタイミング発
生手段と、このタイミング発生手段から与えられるタイ
ミング信号と、上記パターン発生手段から与えられるテ
スト信号データとから、実波形を有するテストパターン
信号を生成する波形生成手段と、この波形生成手段から
出力されるテストパターン信号を被試験半導体メモリに
印加するドライバと、被試験半導体メモリから読み出さ
れた応答信号と上記パターン発生手段から与えられる期
待値パターン信号とを論理比較するパターン比較器とを
備え、被試験半導体メモリの良否を判断するメモリ試験
装置において、上記パターン発生手段に設けられた、1
動作周期内に所定のパターンの少なくとも2つのテスト
信号データを生成するパターンデータ発生手段と、上記
タイミング発生手段に設けられた、1動作周期内に少な
くとも2つのタイミング・クロックを生成するタイミン
グ・クロック発生手段と、上記波形生成手段に設けられ
た、上記パターンデータ発生手段から与えられる少なく
とも2つのテスト信号データと、上記タイミング・クロ
ック発生手段から与えられる少なくとも2つのタイミン
グ・クロックとによって2つのNRZ波形を生成するN
RZ波形生成手段とを具備し、被試験半導体メモリのセ
ットアップ・タイム及びホールド・タイムをも試験する
ことができるメモリ試験装置が提供される。
期において、それらの論理が互いに反転している2つの
テスト信号データを出力する。好ましい一実施例におい
ては、上記パターンデータ発生手段は、被試験半導体メ
モリのセットアップ・タイムを試験する際には、各動作
周期において、それらの論理が互いに反転している第1
及び第2の2つのテスト信号データを出力し、被試験半
導体メモリのホールド・タイムを試験する際には、これ
ら第1及び第2の2つのテスト信号データの論理状態を
それぞれ反転した第3及び第4の2つのテスト信号デー
タを出力する。
グ・クロック発生手段から与えられる2つのタイミング
・クロックの一方によって上記パターンデータ発生手段
から与えられる2つのテスト信号データの一方に変化点
を作り、他方のタイミング・クロックによって他方のテ
スト信号データに変化点を作り、1つのNRZ波形を生
成する。
波形生成手段は、上記タイミング・クロック発生手段か
ら与えられる2つのタイミング・クロックの一方によっ
て上記パターンデータ発生手段から与えられる上記第1
及び第4のテスト信号データにそれぞれ変化点を作り、
他方のタイミング・クロックによって上記第2及び第3
のテスト信号データにそれぞれ変化点を作り、2つのN
RZ波形を生成する。
手段は、被試験半導体メモリのセットアップ・タイムを
試験する際には、上記タイミング・クロック発生手段か
ら与えられる2つのタイミング・クロックの一方によっ
て上記パターンデータ発生手段から与えられる2つのテ
スト信号データの一方に変化点を作り、他方のタイミン
グ・クロックによって他方のテスト信号データに変化点
を作って1つのNRZ波形を生成し、被試験半導体メモ
リのホールド・タイムを試験する際には、上記一方のタ
イミング・クロックによって上記他方のテスト信号デー
タに変化点を作り、上記他方のタイミング・クロックに
よって上記一方のテスト信号データに変化点を作ってさ
らに1つのNRZ波形を生成する。
生される少なくとも2つのタイミング・クロックの発生
タイミングは可変である。
形態について図1乃至図4を参照して詳細に説明する。
なお、これら図面において、図6乃至図8に示した部
分、波形及び素子と対応するものには同一符号を付けて
示し、必要のない限りそれらの説明を省略する。
実施例の基本的な構成を示すブロック図であり、図2は
この発明に使用されたNRZBC波形の生成方法を説明
するためのタイミングチャートである。NRZ(non-re
turn to zero)波形とは、1つの動作周期RATE内で
一度状態が変化するとその周期内では元の状態には戻ら
ない波形を言う。
に、図1に示したメモリ試験装置も、基本的には、テス
タプロセッサ(図示せず)と、パターン発生器2と、タ
イミング発生器3と、波形整形器4と、ドライバ5と、
アナログのレベル比較器6と、パターン比較器7と、不
良解析メモリ(図示せず)とによって構成されている。
1動作周期RATE内に2つのテストパターン・データ
PTND1及びPTND2を波形整形器4に出力する2
パターン・データ発生部22を備えており、タイミング
発生器3は1動作周期RATE内に2つのタイミング・
クロックB及びCを波形整形器4に出力する2タイミン
グ・クロック発生部33を備えている。さらに、波形整
形器4は2つのNRZ波形を生成する2NRZ波形生成
部44を備えている。
られる2つのテストパターン・データPTND1及びP
TND2と、タイミング発生器3から与えられる2つの
タイミング・クロックB及びCとによって、その2NR
Z波形生成部44により2つのNRZ波形を生成するこ
とができる。図2を参照して波形整形器4の2NRZ波
形生成部44において2つのNRZ波形が生成される過
程を説明する。
作周期RATEを示し、この動作周期に合わせて(同期
させて)、図2B及び2Cに示すテストパターン・デー
タPTND1(P1b、P2b、P3b、・・・)及び
PTND2(P1c、P2c、P3c、・・・)がパタ
ーン発生器2から出力される。図2D及び2EはNRZ
波形を生成するための2つのタイミング・クロックB及
びCをそれぞれ示し、図2Dのタイミング・クロックB
は各動作周期の開始時点より時間Tbだけ遅れて発生さ
れ、図2Eのタイミング・クロックCは各動作周期の開
始時点より時間Tcだけ遅れて発生される。ここで、こ
れら遅延時間の関係はTb<Tcであり、かつTc<R
ATEである。
によって各動作周期RATEにおける図2B及び図2C
のテストパターン・データP1b、P2b、P3b、・
・・及びP1c、P2c、P3c・・・にそれぞれ変化
点を作り、図2Fに示すように、テストパターン・デー
タP1b、P2b、P3b、・・・とテストパターン・
データP1c、P2c、P3c、・・・とが交互に配列
されたMUT9に印加すべきテストパターン信号PTN
を生成する。図2Gは、図2Bに示したテストパターン
・データPTND1がP1b=0、P2b=1、P3b
=1であり、図2Cに示したテストパターン・データP
TND2がP1c=1、P2c=0、P3c=0である
場合に、上述のようにして生成されたテストパターン信
号PTNの波形PTNWFを示す。
では各動作周期RATEにおいて、タイミング・クロッ
クBによってテストパターン・データPTND1をセッ
トすると同時にテストパターン・データPTND2をリ
セットし、タイミング・クロックCによってテストパタ
ーン・データPTND1をリセットすると同時にテスト
パターン・データPTND2をセットし、MUT9に印
加すべきテストパターン信号PTNを生成している。そ
の結果、テストパターン信号PTNは、図2Fに示すよ
うに、1つの動作周期におけるテストパターン・データ
PTND1の1/2周期に相当する時間幅のデータの後
に同じ動作周期におけるテストパターン・データPTN
D2の1/2周期に相当する時間幅のデータが続いた信
号となる。即ち、1/2周期に相当する時間幅のテスト
パターン・データPTND1と1/2周期に相当する時
間幅のテストパターン・データPTND2とが同一動作
周期毎に交互に配列された信号となる。上記結果から、
テストパターン・データPTND1の論理とテストパタ
ーン・データPTND2の論理が各動作周期RATEに
おいて互いに反転状態にあるようにパターン発生器2の
2パターンデータ発生部22でテストパターン・データ
を生成し、これを波形整形器4に供給すれば、図2Gか
ら明瞭なように、一方のテストパターン・データPTN
D1の各動作周期におけるデータP1b、P2b、P3
b、・・・の直後のデータは他方のテストパターン・デ
ータPTND2の各動作周期におけるデータP1c、P
2c、P3c、・・・となるから各動作周期における2
つのデータは必ず論理が反転したデータとなる。従っ
て、パターン発生器2の2パターンデータ発生部22に
おいて互いに反転状態にあるテストパターン・データP
TND1の論理とテストパターン・データPTND2の
論理を逆にすることにより(テストパターン・データP
TND1及びテストパターン・データPTND2の論理
をそれぞれ反転した2つのテストパターン・データを生
成することにより)、各動作周期おいて、2つのNRZ
波形を生成することができる。例えば、図2の例ではテ
ストパターン・データP1b=0、P1c=1、P2b
=1、P2c=0、P3b=1、P3c=0であるか
ら、テストパターン信号波形PTNWFは“0"→“1"
→“1"→“0"→“1"→“0"となり、第1のNRZ波
形が生成される。次に、論理を逆にしてP1b=1、P
1c=0、P2b=0、P2c=1、P3b=0、P3
c=1とすれば、テストパターン信号波形PTNWFは
“1"→“0"→“0"→“1"→“0"→“1"となり、第
2のNRZ波形が生成される。かくして、各動作周期お
いて2つのNRZ波形を生成することができるのであ
る。
ン・データPTND1及びPTND2と2つのタイミン
グ・クロックB及びCとを使用して1動作周期RATE
内に生成した2つのNRZ波形をNRZBC波形と称す
ることにする。また、タイミング・クロックAを使用し
ないために、図7の場合と同様に、タイミング・クロッ
クB及びCと記載したが、タイミング・クロックの名称
はタイミング・クロックA及びBでもタイミング・クロ
ックD及びEでもよく、テストパターン・データの名称
も任意のものでよい。要は2つのタイミング・クロック
と2つのテストパターン・データを使用すれば同一の動
作を行なうことができるのである。さらに、実際にMU
T9に書き込む有効データ部分Dvdの信号としてはど
ちらのテストパターン・データを使用してもよい。 次
に、上記NRZBC波形を用いて半導体メモリ(例えば
SRAM)のセットアップ・タイムTds及びホールド
・タイムTdhを測定する動作について具体的に説明す
る。
測定する場合の動作を説明するためのタイミングチャー
トであり、図3Aは動作周期(この例ではライトサイク
ルにおけるいくつかの動作周期)を示し、1動作周期を
RATEで表す。Tdsを測定する場合には、既に述べ
たように、実際にMUT9に書き込む有効データ部分D
vdの論理信号の直前に、このDvd信号の論理を反転
した信号が存在する必要がある。よって、この場合には
パターン発生器2の2パターンデータ発生部22は図3
B及び図3Cに示す2つの互いに論理が反転状態にある
テストパターン・データPTND1及びPTND2を生
成する。
ターン・データが図3Cのテストパターン・データPT
ND2(P1、P2、P3)であるとすると、図3Bの
テストパターン・データPTND1として図3Cのテス
トパターン・データPTND2の論理を反転したデータ
(/P1、/P2、/P3)を生成し、これらテストパ
ターン・データPTND1及びPTND2を動作周期R
ATEに合わせて(同期させて)パターン発生器2から
出力させ、波形整形器4に与える。この波形整形器4の
2NRZ波形生成部44は、各動作周期の開始時点より
時間Tbだけ遅れて発生される図3Dのタイミング・ク
ロックBによりテストパターン・データPTND1をセ
ットして各動作周期のテストパターン・データP1、P
2、P3に変化点を作り、また、各動作周期の開始時点
より時間Tcだけ遅れて発生される図3Eのタイミング
・クロックCによりテストパターン・データPTND2
をセットして各動作周期のテストパターン・データ/P
1、/P2、/P3に変化点を作る。その結果、図3F
に示すように、1/2周期の時間幅のデータが/P1、
P1、/P2、P2、/P3、P3の順に整列された信
号よりなるテストパターン信号PTNが生成され、MU
T9に印加されることになる。即ち、MUT9に実際に
書き込まれる有効データ部分Dvd(1/2周期の時間
幅のデータP1、P2、P3)の直前のデータが論理反
転したデータ(1/2周期の時間幅のデータ/P1、/
P2、/P3)であるテストパターン信号PTNが生成
される。このテストパターン信号PTNの波形は、図3
Gに示すように、2つのNRZ波形(NRZBC波形)
の内の一方の波形である。なお、この例では遅延時間T
cから遅延時間Tbを減算した時間幅が1動作周期RA
TEの1/2に相当する時間に設定されている。
来例の場合と同様に、図3Dのタイミング・クロックB
の発生のタイミングを遅らせて、つまり、遅延時間Tb
を大きくして、有効データ部分Dvdの時間幅(Tds
+Tdh)を狭くし、この時間幅の狭くされた有効デー
タ部分DvdをMUT9に書き込む。次に、MUT9か
らそれを読み出してパターン発生器2から与えられる期
待値パターン信号EXPと論理比較し、フェイル(両信
号の不一致状態)とパス(両信号の一致状態)の境目
(例えば論理比較結果がフェイルからパスに変わる境
目)の遅延時間Tbの値を測定し、この測定値からTd
sを測定する。
Tdhを測定する場合には、既に述べたように、実際に
MUT9に書き込む有効データ部分Dvdの信号の直後
に、このDvd信号の論理を反転した信号が存在する必
要がある。図4はSRAMのTdhを測定する場合の動
作を説明するためのタイミングチャートであり、図4A
は動作周期(この例でもライトサイクルにおけるいくつ
かの動作周期)RATEを示し、図4B及び図4Cは2
つの互いに論理が反転状態にあるテストパターン・デー
タPTND1及びPTND2をそれぞれ示す。
9に書き込んだ有効データ部分DvdはP1、P2、P
3、・・・であるから、Tdhを測定する場合にも実際
にMUT9に書き込むテストパターン・データの有効デ
ータ部分Dvdは同じデータP1、P2、P3、・・・
でなければならない。よって、この場合にはパターン発
生器2の2パターンデータ発生部22は図4B及び図4
Cに示す2つの互いに論理が反転状態にあるテストパタ
ーン・データPTND1及びPTND2を生成する。即
ち、図4Bのテストパターン・データPTND1として
P1、P2、P3、・・・を生成し、図4Cのテストパ
ターン・データPTND2として図4Bのテストパター
ン・データPTND1の論理を反転したデータ/P1、
/P2、/P3、・・・を生成する。
及びPTND2を動作周期RATEに合わせて(同期さ
せて)パターン発生器2から出力させ、波形整形器4に
与える。この波形整形器4の2NRZ波形生成部44
は、各動作周期の開始時点より時間Tbだけ遅れて発生
される図4Dのタイミング・クロックBによりテストパ
ターン・データPTND1をセットして各動作周期のテ
ストパターン・データP1、P2、P3に変化点を作
り、また、各動作周期の開始時点より時間Tcだけ遅れ
て発生される図4Eのタイミング・クロックCによりテ
ストパターン・データPTND2をセットして各動作周
期のテストパターン・データ/P1、/P2、/P3に
変化点を作る。その結果、図4Fに示すように、1/2
周期の時間幅のデータがP1、/P1、P2、/P2、
P3、/P3の順に整列された信号よりなるテストパタ
ーン信号PTNが生成され、MUT9に印加されること
になる。即ち、MUT9に実際に書き込まれる有効デー
タ部分Dvd(1/2周期の時間幅のデータP1、P
2、P3)の直後のデータが論理反転したデータ(1/
2周期の時間幅のデータ/P1、/P2、/P3)であ
るテストパターン信号PTNが生成される。このテスト
パターン信号PTNの波形は、図4Gに示すように、2
つのNRZ波形(NRZBC波形)の内の他方の波形で
ある。なお、この例でも遅延時間Tcから遅延時間Tb
を減算した時間幅が1動作周期RATEの1/2に相当
する時間に設定されている。
のタイミング・クロックCの発生のタイミングを早くし
て、つまり、遅延時間Tcを小さくして、有効データ部
分Dvdの時間幅を狭くし、この時間幅の狭くされた有
効データ部分DvdをMUT9に書き込む。次に、MU
T9からそれを読み出して期待値パターン信号EXPと
論理比較し、パスとフェイルの境目(例えば論理比較結
果がパスからフェイルに変わる境目)の遅延時間Tcの
値を測定し、この測定値からTdhを測定する。
ると、書き込みサイクル時間Twcと最小パルス幅Tp
との関係が、Twc≧2Tpまで、MUT9のセットア
ップ・タイム及びホールド・タイムを測定することがで
きる。即ち、この発明によれば、仕様書に示された半導
体メモリのセットアップ・タイムとホールド・タイムの
和(Tds+Tdh)が書き込みサイクル時間Twcの
約1/2以上の半導体メモリまで、そのセットアップ・
タイム及びホールド・タイムをそれぞれ正確に測定する
ことができる。従って、Twcを2Tpにまで短くする
ことができるから、従来のメモリ試験装置では測定でき
なかった3Tp≧Twc≧2Tpの範囲の高速の半導体
メモリまで、そのTds及びTdhを正確に測定するこ
とができる。
ーンデータ発生部22において互いに反転状態にあるテ
ストパターン・データPTND1の論理とテストパター
ン・データPTND2の論理を逆にすることにより、他
方のNRZ波形を生成するように構成したが、この方法
に限定されるものではない。例えば、2パターンデータ
発生部22においてテストパターン・データPTND1
の論理とテストパターン・データPTND2の論理を逆
にせずに、波形整形器4の2NRZ波形生成部44にお
いてタイミング・クロックC(Tc)によってテストパ
ターン・データPTND1をセットし、タイミング・ク
ロックB(Tb)によってテストパターン・データPT
ND2をセットしても、他方のNRZ波形を生成するこ
とができる。具体的には、図3においてタイミング・ク
ロックCによってテストパターン・データPTND1を
セットし、タイミング・クロックBによってテストパタ
ーン・データPTND2をセットすれば、図4と全く同
じ結果が得られるので、各動作周期おいて2つのNRZ
波形を生成することができる。換言すると、2つのタイ
ミング・クロックによってセット/リセットする(変化
点を与える)テストパターン・データを逆にすることに
よっても各動作周期おいて2つのNRZ波形を生成する
ことができる。
Cメモリ(例えばSRAM)以外の各種の半導体メモリ
のセットアップ・タイム及びホールド・タイムの測定に
も同様に使用できることは勿論である。なお、この発明
を図示した好ましい実施例について記載したが、この発
明の精神及び範囲から逸脱することなしに、上述した実
施例に関して種々の変形、変更及び改良がなし得ること
はこの分野の技術者には明らかであろう。従って、この
発明は例示の実施例に限定されるものではなく、特許請
求の範囲によって定められるこの発明の範囲内に入る全
てのそのような変形、変更及び改良を包含するものであ
る。
よるメモリ試験装置は、各動作周期内に、実際に被試験
半導体メモリに書き込まれる有効データ部分の直前に、
この有効データ部分の反転信号を生成するNRZ波形
と、有効データ部分の直後に、この有効データ部分の反
転信号を生成するNRZ波形との2種類のNRZ波形を
生成することができる。よって、この2種類のNRZ波
形を使用することにより、ライトサイクル時間Twcと
最小パルス幅Tpとの関係がTwc≧2Tpまで、各種
の半導体メモリのセットアップ・タイム及びホールド・
タイムを正確に測定することができる。このように、T
wcを2Tpにまで短くすることができるから、従来の
メモリ試験装置では測定できなかった3Tp≧Twc≧
2Tpの範囲の高速の半導体メモリまで、そのTds及
びTdhを正確に測定することができるという顕著な利
点が得られる。
でおり、この発明によって得られる効果は実用に供して
頗る大である。
本的な構成を示すブロック図である。
法を説明するためのタイミングチャートである。
のセットアップ・タイムを測定する際に使用されるNR
ZBC波形の生成方法を説明するためのタイミングチャ
ートである。
のホールドタイムを測定する際に使用されるNRZBC
波形の生成方法を説明するためのタイミングチャートで
ある。
リにデータを書き込む動作を説明するためのタイミング
チャートである。
トアップ・タイム及びホールドタイムを測定する際に使
用されるXORABC波形の生成方法を説明するための
タイミングチャートである。
のホールドタイムを測定する際に使用されるXORBC
波形の生成方法を説明するためのタイミングチャートで
ある。
示すブロック図である。
Claims (14)
- 【請求項1】 所定のテストパターン信号を被試験半導
体メモリに印加し、この被試験半導体メモリから読み出
した応答信号を期待値パターン信号と論理比較して上記
被試験半導体メモリのセットアップ・タイム及びホール
ド・タイムを試験するメモリ試験装置において、 1動作周期内に所定のパターンの少なくとも2つのテス
ト信号データを生成するパターン発生手段と、 1動作周期内に少なくとも2つのタイミング・クロック
を生成するタイミング発生手段と、 上記パターン発生手段から与えられる少なくとも2つの
テスト信号データと、上記タイミング発生手段から与え
られる少なくとも2つのタイミング・クロックとによっ
て2つのNRZ波形を生成し、被試験半導体メモリに印
加する波形生成手段とを具備することを特徴とするメモ
リ試験装置。 - 【請求項2】 上記パターン発生手段は、各動作周期に
おいて、それらの論理が互いに反転している2つのテス
ト信号データを出力することを特徴とする請求項1に記
載のメモリ試験装置。 - 【請求項3】 上記パターン発生手段は、被試験半導体
メモリのセットアップ・タイムを試験する際には、各動
作周期において、それらの論理が互いに反転している第
1及び第2の2つのテスト信号データを出力し、被試験
半導体メモリのホールド・タイムを試験する際には、こ
れら第1及び第2の2つのテスト信号データの論理状態
をそれぞれ反転した第3及び第4の2つのテスト信号デ
ータを出力することを特徴とする請求項1に記載のメモ
リ試験装置。 - 【請求項4】 上記波形生成手段は、上記タイミング発
生手段から与えられる2つのタイミング・クロックの一
方によって上記パターン発生手段から与えられる2つの
テスト信号データの一方に変化点を作り、他方のタイミ
ング・クロックによって他方のテスト信号データに変化
点を作り、1つのNRZ波形を生成することを特徴とす
る請求項2に記載のメモリ試験装置。 - 【請求項5】 上記波形生成手段は、上記タイミング発
生手段から与えられる2つのタイミング・クロックの一
方によって上記パターン発生手段から与えられる上記第
1及び第4のテスト信号データにそれぞれ変化点を作
り、他方のタイミング・クロックによって上記第2及び
第3のテスト信号データにそれぞれ変化点を作り、2つ
のNRZ波形を生成することを特徴とする請求項3に記
載のメモリ試験装置。 - 【請求項6】 上記波形生成手段は、被試験半導体メモ
リのセットアップ・タイムを試験する際には、上記タイ
ミング発生手段から与えられる2つのタイミング・クロ
ックの一方によって上記パターン発生手段から与えられ
る2つのテスト信号データの一方に変化点を作り、他方
のタイミング・クロックによって他方のテスト信号デー
タに変化点を作って1つのNRZ波形を生成し、被試験
半導体メモリのホールド・タイムを試験する際には、上
記一方のタイミング・クロックによって上記他方のテス
ト信号データに変化点を作り、上記他方のタイミング・
クロックによって上記一方のテスト信号データに変化点
を作ってさらに1つのNRZ波形を生成することを特徴
とする請求項2に記載のメモリ試験装置。 - 【請求項7】 上記タイミング発生手段から発生される
少なくとも2つのタイミング・クロックの発生タイミン
グは可変であることを特徴とする請求項1に記載のメモ
リ試験装置。 - 【請求項8】 所定のパターンのテスト信号データを出
力するパターン発生手段と、所要のタイミング信号を発
生するタイミング発生手段と、このタイミング発生手段
から与えられるタイミング信号と、上記パターン発生手
段から与えられるテスト信号データとから、実波形を有
するテストパターン信号を生成する波形生成手段と、こ
の波形生成手段から出力されるテストパターン信号を被
試験半導体メモリに印加するドライバと、被試験半導体
メモリから読み出された応答信号と上記パターン発生手
段から与えられる期待値パターン信号とを論理比較する
パターン比較器とを備え、被試験半導体メモリの良否を
判断するメモリ試験装置において、 上記パターン発生手段に設けられた、1動作周期内に所
定のパターンの少なくとも2つのテスト信号データを生
成するパターンデータ発生手段と、 上記タイミング発生手段に設けられた、1動作周期内に
少なくとも2つのタイミング・クロックを生成するタイ
ミング・クロック発生手段と、 上記波形生成手段に設けられた、上記パターンデータ発
生手段から与えられる少なくとも2つのテスト信号デー
タと、上記タイミング・クロック発生手段から与えられ
る少なくとも2つのタイミング・クロックとによって2
つのNRZ波形を生成するNRZ波形生成手段とを具備
し、 被試験半導体メモリのセットアップ・タイム及びホール
ド・タイムをも試験することができることを特徴とする
メモリ試験装置。 - 【請求項9】 上記パターンデータ発生手段は、各動作
周期において、それらの論理が互いに反転している2つ
のテスト信号データを出力することを特徴とする請求項
8に記載のメモリ試験装置。 - 【請求項10】 上記パターンデータ発生手段は、被試
験半導体メモリのセットアップ・タイムを試験する際に
は、各動作周期において、それらの論理が互いに反転し
ている第1及び第2の2つのテスト信号データを出力
し、被試験半導体メモリのホールド・タイムを試験する
際には、これら第1及び第2の2つのテスト信号データ
の論理状態をそれぞれ反転した第3及び第4の2つのテ
スト信号データを出力することを特徴とする請求項8に
記載のメモリ試験装置。 - 【請求項11】 上記NRZ波形生成手段は、上記タイ
ミング・クロック発生手段から与えられる2つのタイミ
ング・クロックの一方によって上記パターンデータ発生
手段から与えられる2つのテスト信号データの一方に変
化点を作り、他方のタイミング・クロックによって他方
のテスト信号データに変化点を作り、1つのNRZ波形
を生成することを特徴とする請求項9に記載のメモリ試
験装置。 - 【請求項12】 上記NRZ波形生成手段は、上記タイ
ミング・クロック発生手段から与えられる2つのタイミ
ング・クロックの一方によって上記パターンデータ発生
手段から与えられる上記第1及び第4のテスト信号デー
タにそれぞれ変化点を作り、他方のタイミング・クロッ
クによって上記第2及び第3のテスト信号データにそれ
ぞれ変化点を作り、2つのNRZ波形を生成することを
特徴とする請求項10に記載のメモリ試験装置。 - 【請求項13】 上記NRZ波形生成手段は、被試験半
導体メモリのセットアップ・タイムを試験する際には、
上記タイミング・クロック発生手段から与えられる2つ
のタイミング・クロックの一方によって上記パターンデ
ータ発生手段から与えられる2つのテスト信号データの
一方に変化点を作り、他方のタイミング・クロックによ
って他方のテスト信号データに変化点を作って1つのN
RZ波形を生成し、被試験半導体メモリのホールド・タ
イムを試験する際には、上記一方のタイミング・クロッ
クによって上記他方のテスト信号データに変化点を作
り、上記他方のタイミング・クロックによって上記一方
のテスト信号データに変化点を作ってさらに1つのNR
Z波形を生成することを特徴とする請求項9に記載のメ
モリ試験装置。 - 【請求項14】 上記タイミング・クロック発生手段か
ら発生される少なくとも2つのタイミング・クロックの
発生タイミングは可変であることを特徴とする請求項8
に記載のメモリ試験装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11203737A JP2000090693A (ja) | 1998-07-17 | 1999-07-16 | メモリ試験装置 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10-203068 | 1998-07-17 | ||
| JP20306898 | 1998-07-17 | ||
| JP11203737A JP2000090693A (ja) | 1998-07-17 | 1999-07-16 | メモリ試験装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000090693A true JP2000090693A (ja) | 2000-03-31 |
Family
ID=26513729
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11203737A Pending JP2000090693A (ja) | 1998-07-17 | 1999-07-16 | メモリ試験装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000090693A (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002076855A (ja) * | 2000-08-29 | 2002-03-15 | Advantest Corp | 遅延回路、試験装置、コンデンサ |
| JP2003016799A (ja) * | 2001-06-29 | 2003-01-17 | Fujitsu Ltd | 半導体試験装置及び半導体装置 |
| KR100474958B1 (ko) * | 2001-07-19 | 2005-03-10 | 미쓰비시덴키 가부시키가이샤 | 반도체 집적 회로 장치 |
| US7114110B2 (en) | 2002-04-15 | 2006-09-26 | Renesas Technology Corp. | Semiconductor device, and the method of testing or making of the semiconductor device |
| KR100847913B1 (ko) * | 2005-09-30 | 2008-07-22 | 주식회사 아도반테스토 | 시험 장치, 및 시험 방법 |
| US7526688B2 (en) | 2004-05-11 | 2009-04-28 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Parallel bit testing device and method |
| KR100917616B1 (ko) | 2007-07-03 | 2009-09-17 | 주식회사 하이닉스반도체 | 고 집적 반도체 메모리 장치의 테스트를 위한 장치 및테스트 방법 |
-
1999
- 1999-07-16 JP JP11203737A patent/JP2000090693A/ja active Pending
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002076855A (ja) * | 2000-08-29 | 2002-03-15 | Advantest Corp | 遅延回路、試験装置、コンデンサ |
| JP2003016799A (ja) * | 2001-06-29 | 2003-01-17 | Fujitsu Ltd | 半導体試験装置及び半導体装置 |
| KR100474958B1 (ko) * | 2001-07-19 | 2005-03-10 | 미쓰비시덴키 가부시키가이샤 | 반도체 집적 회로 장치 |
| US7114110B2 (en) | 2002-04-15 | 2006-09-26 | Renesas Technology Corp. | Semiconductor device, and the method of testing or making of the semiconductor device |
| US7526688B2 (en) | 2004-05-11 | 2009-04-28 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Parallel bit testing device and method |
| KR100847913B1 (ko) * | 2005-09-30 | 2008-07-22 | 주식회사 아도반테스토 | 시험 장치, 및 시험 방법 |
| KR100917616B1 (ko) | 2007-07-03 | 2009-09-17 | 주식회사 하이닉스반도체 | 고 집적 반도체 메모리 장치의 테스트를 위한 장치 및테스트 방법 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US7721174B2 (en) | Full-speed BIST controller for testing embedded synchronous memories | |
| US6424583B1 (en) | System and measuring access time of embedded memories | |
| KR20010062640A (ko) | 반도체장치의 테스트방법 및 시스템과 기록매체 | |
| JPH0411960B2 (ja) | ||
| KR100295546B1 (ko) | 반도체디바이스시험장치 | |
| JP2000090693A (ja) | メモリ試験装置 | |
| KR100463969B1 (ko) | 이벤트 기반 테스트 시스템용 딜레이 시간 삽입 | |
| US6909301B2 (en) | Oscillation based access time measurement | |
| KR100336907B1 (ko) | 메모리 시험장치 | |
| KR19990005513A (ko) | 클록 사용 제한조건이 설정된 고속 메모리 소자 검사방법 | |
| JP3384272B2 (ja) | フェイルメモリ | |
| JPH09222463A (ja) | デバイス試験装置用のタイミング比較回路 | |
| JP4263810B2 (ja) | 半導体メモリ試験装置及び試験方法 | |
| US6734743B2 (en) | Oscillation based cycle time measurement | |
| JP2620072B2 (ja) | 論理回路試験装置 | |
| JP2001222897A (ja) | 半導体試験装置 | |
| JP3489742B2 (ja) | 半導体集積回路およびそのテスト方法 | |
| JPH04114400A (ja) | 組み込み自己テスト方式 | |
| JP3901825B2 (ja) | 波形生成装置及び方法 | |
| JPS632200A (ja) | メモリ試験方式 | |
| JP2864880B2 (ja) | 半導体メモリic試験装置 | |
| JP2769588B2 (ja) | Ic試験装置内のデータ出力タイミング同期方式 | |
| US7475300B2 (en) | Test circuit and test method | |
| JP3264812B2 (ja) | Ic試験装置のタイミング同期方式 | |
| JPH05281292A (ja) | Ad回路を使用するicテスタ |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20060418 |
|
| RD03 | Notification of appointment of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423 Effective date: 20060424 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20080905 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20080909 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20081003 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20090310 |