JP2000075227A - マルチビーム光源装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 ２個の半導体レーザアレイを用いる方式にお
いて、半導体レーザアレイ間のビームスポット列の位置
合せ調整自在とし、この調整を容易かつ確実に行なえる
ようにする。 【解決手段】 各々直線上に複数個の発光点を有する第
１，２の半導体レーザアレイ１１，１２を各々対をなす
第１，２のコリメータレンズ１２，１３とともに一体に
保持して、各々主走査方向に所定角度隔てた第１，２の
射出軸ａ１，ａ２上に配置させる支持部材１５を設け、
この支持部材１５を走査光学系の光軸Ｃを回動中心とし
て回動調整自在なホルダ部材１９により保持すること
で、ホルダ部材１９を走査光学系の光軸Ｃを回動中心と
して回動調整するだけの単純な作業で第1，２の半導体
レーザアレイ１１，１２の各発光点によるビームスポッ
ト列間の副走査相対位置の調整を可能とした。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、デジタル複写機や
レーザプリンタ等の画像形成装置の光書込走査装置に適
用され、特に、複数のレーザビームにより感光体等の被
走査面上を同時に走査させるために用いられるマルチビ
ーム光源装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】一般に、光書込系に用いられる光走査装
置において記録速度を向上させる手法として、偏向手段
としてのポリゴンミラーの回転速度を上げる方法があ
る。しかし、この方法ではポリゴンモータの耐久性や騒
音、振動、及び、レーザの変調速度等が問題となり、か
つ、記録速度の向上にも限界がある。

【０００３】そこで、一度に複数本のレーザビームを走
査して複数の記録ラインを同時に記録させるマルチビー
ム走査装置が提案されている。例えば、特開昭５６−４
２２４８号公報に示されるように複数個の発光源（発光
点）をモノリシックにアレイ状に配列させた半導体レー
ザアレイを光源として用いるようにしている。

【０００４】通常、半導体レーザの光出力は１走査ライ
ン毎に画像領域外の走査時間を利用して、その光出力を
検出し、フィードバック制御により印加電流量の設定が
行われる。上述した公報例のような半導体レーザアレイ
では光源（発光点）は複数であるものの、光出力を検出
するセンサは共通であるため、光出力の検出〜フィード
バックによる出力設定を時系列的に行なわざるを得な
い。従って、半導体レーザアレイにおける光源数が多く
なるに従い、この処理に要する時間が増加し、１走査毎
の画像領域外の走査時間では間に合わなくなる可能性が
大きい。間に合わない場合には、ページ間の走査時間を
利用して上記の処理を行なうが、これでは、設定した印
加電流量を長時間に渡って保持しなければならず、その
間にレーザ出力が変動し画像濃度が変化してしまう可能
性がある。

【０００５】この点、特開平７−７２４０７号公報によ
れば、複数個の半導体レーザアレイの複数の発光源から
射出されるレーザ光をプリズム等のビーム合成手段を用
いて合成させ、恰も１つの光源から複数本のレーザ光が
射出される如く構成したマルチビーム光源ユニットが提
案されている。これによれば、１個の半導体レーザアレ
イに要求される発光点の数を半減させることができるの
で、これらの発光点の光出力の検出〜フィードバック制
御による光出力の設定処理に要する処理時間も半減させ
ることができる。よって、画像濃度の変動を最小限に抑
えて、高品質な画像を得ることができる。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】複数個の半導体レーザ
アレイの各々は、複数個の発光点に対して単一のコリメ
ータレンズが配設されて、各発光点からのレーザ光は平
行光束化して、走査光学系に入射させる構成とされる。
ここに、走査光学系全体の副走査倍率によりビームスポ
ット列の隣接ピッチが決定されることとなる。

【０００７】ところが、特開平７−７２４０７号公報方
式による場合、複数個の半導体レーザアレイ、対応する
コリメータレンズ、及び、ビーム合成手段の組合せにお
いて、プリズム中のビームスプリッタで合成した各半導
体レーザアレイ間のビームスポット列の相対位置のずれ
を許容値内に抑えるには、その射出軸のアライメント精
度やプリズムのビームスプリッタ面、反射面の角度精度
に依存するしかなく、量産性の点で問題がある。

【０００８】そこで、本発明は、２個の半導体レーザア
レイを用いる方式において、半導体レーザアレイ間のビ
ームスポット列の位置合せ調整自在とし、この調整を容
易かつ確実に行なうことができ、組立効率が向上するマ
ルチビーム光源装置を提供することを目的とする。

【０００９】また、本発明は、上記目的をより高精度に
行なえるマルチビーム光源装置を提供する。

【００１０】

【課題を解決するための手段】請求項１記載の発明は、
直線上に複数個の発光点を有する第１の半導体レーザア
レイと、この第１の半導体レーザと同一構造の第２の半
導体レーザアレイと、前記第１の半導体レーザアレイか
ら射出されるレーザ光をカップリングする第１のコリメ
ータレンズと、前記第２の半導体レーザアレイから射出
されるレーザ光をカップリングする第２のコリメータレ
ンズと、前記第１の半導体レーザアレイと前記第１のカ
ップリングレンズとを第１の射出軸上に配置させるとと
もに前記第２の半導体レーザアレイと前記第２のカップ
リングレンズとを前記第１の射出軸に対して主走査方向
に所定角度隔てた第２の射出軸上に配置させてこれらの
部材を一体に保持する支持部材と、前記第１及び第２の
半導体レーザアレイから出射される複数のレーザ光を走
査して被走査面にビームスポットを形成するための走査
光学系の光軸を回動中心として回動調整自在に設けられ
て前記支持部材を保持するホルダ部材と、を備える。

【００１１】従って、ホルダ部材を走査光学系の光軸を
回動中心として回動調整するだけの単純な作業で第１，
２の半導体レーザアレイの各発光点によるビームスポッ
ト列間の副走査相対位置の調整が可能となり、組立効率
が向上する。

【００１２】請求項２記載の発明は、直線上に複数個の
発光点を有する第１の半導体レーザアレイと、この第１
の半導体レーザと同一構造の第２の半導体レーザアレイ
と、前記第１の半導体レーザアレイから射出されるレー
ザ光をカップリングする第１のコリメータレンズと、前
記第２の半導体レーザアレイから射出されるレーザ光を
カップリングする第２のコリメータレンズと、前記第１
の半導体レーザアレイと前記第１のカップリングレンズ
とを第１の射出軸上に配置させて一体に保持して第1の
光源部を形成する第1の支持部材と、前記第２の半導体
レーザアレイと前記第２のカップリングレンズとを第２
の射出軸上に配置させて一体に保持して第２の光源部を
形成する第２の支持部材と、前記第１及び第２の半導体
レーザアレイから出射される複数のレーザ光を走査して
被走査面にビームスポットを形成するための走査光学系
の光軸に対して、前記複数のレーザ光を副走査方向に近
接させて射出させるビーム合成手段と、前記走査光学系
の光軸を回動中心として回動調整自在に設けられて、前
記第１の射出軸と前記第２の射出軸とを主走査方向に対
して所定角度隔てて前記第１の支持部材と前記第２の支
持部材と前記ビーム合成手段とを一体に保持するホルダ
部材と、を備える。

【００１３】従って、ビーム合成手段を利用した方式に
あっても、ホルダ部材を走査光学系の光軸を回動中心と
して回動調整するだけの単純な作業で第１，２の半導体
レーザアレイの各発光点によるビームスポット列間の副
走査相対位置の調整が可能となり、組立効率が向上す
る。

【００１４】請求項３記載の発明は、請求項２記載のマ
ルチビーム光源装置において、前記第１及び第２の支持
部材は各々対応する前記第１及び第２の射出軸を回動中
心として回動調整自在に前記ホルダ部材に保持されてい
る。

【００１５】従って、第１，２の半導体レーザアレイの
ビームスポット列における副走査ピッチを個別に調整で
き、高精度化を図れるため、より高品位な画像記録が可
能となる。

【００１６】請求項４記載の発明は、請求項１又は２記
載のマルチビーム光源装置において、前記第１及び第２
の半導体レーザアレイにおける複数個の発光点を各々副
走査方向に配列し、前記被走査面上での前記第１及び第
２の射出軸間隔を隣接する記録ラインピッチの２倍以上
に設定してなる。

【００１７】従って、半導体レーザアレイのビームスポ
ット列間の副走査方向の相対位置を調整した後に、ビー
ムスポット列における副走査ピッチの変化を許容値に抑
えることができ、高精度化を図れるため、高品位な画像
記録が可能となる。

【００１８】

【発明の実施の形態】本発明の第一の実施の形態を図１
ないし図５に基づいて説明する。まず、本実施の形態の
前提として、半導体レーザアレイを用いた場合の結像関
係について図１及び図２を参照して説明する。図１は２
つの発光点１ａ，１ｂを有する半導体レーザアレイ１の
発光点ピッチＰｓと被走査面（感光体面等の像面）２に
おける副走査ピッチＰｓ′との関係を示す光学系説明図
である。ｆはコリメータレンズ３の焦点距離を示す。４
は副走査倍率βｓの走査光学系である。ここに、被走査
面２において所定の副走査ピッチＰｓ′を得るには、半
導体レーザアレイ１の光源面ではＰｓ＝Ｐｓ′／βｓと
なり、記録ピッチに応じて副走査倍率βｓを設定するこ
とになる。

【００１９】ここで、半導体レーザアレイ１に関して
は、２つの発光点１ａ，１ｂ間のピッチＰｓ＝Ｐなる比
較的狭い発光点ピッチのものを用い、これを図２（ａ）
に示すように副走査方向に配列させる方式と、２つの発
光点１ａ，１ｂ間のピッチＰｓが比較的広いものを用
い、これを図２（ｂ）に示すように光軸Ｃ回り（発光点
１ａ，１ｂ間中心）に角度θ傾けることでＰ・sinθ＝
Ｐｓとなるように配列させる方式とがある。本発明は、
何れの方式にも適用できるが、ここでは、説明を簡単に
するため前者方式への適用例とする。

【００２０】このような前提の下、本実施の形態の構成
例を図３及び図４により説明する。図３は本実施の形態
のマルチビーム光源装置の分解斜視図、図４はその組立
状態における縦断側面図である。本実施の形態は、各々
２個の発光点を有する２個の半導体レーザアレイ１１，
１２（第１，２の半導体レーザアレイ）を用いる４ビー
ム光源装置として構成されている。これらの半導体レー
ザアレイ１１，１２は同一構造で形成されている。ま
た、これらの半導体レーザアレイ１１，１２に対して対
をなし、射出光を平行光として走査光学系にカップリン
グさせるためのコリメータレンズ１３，１４（第１，２
のコリメータレンズ）も設けられている。

【００２１】また、これらの部材（半導体レーザアレイ
１１，１２、コリメータレンズ１３，１４）を一体に保
持する支持部材１５が設けられている。この支持部材１
５はアルミダイキャスト製のもので、その背面側には主
走査方向に８ｍｍ間隔で並列させて半導体レーザアレイ
１１，１２を圧入支持させるための２個の段差付きの嵌
合穴１６が形成されている。ここに、半導体レーザアレ
イ１１，１２はこれらの嵌合穴１６に対して各々の２個
の発光点が副走査方向に配列されるように方向付けられ
て取付けられる。また、支持部材１５の前面側中央部に
はこれらの嵌合穴１６に連続的にレンズ支持用のＵ字状
支持部１７ａ，１７ｂが突出形成されている。ここで
は、各々の射出軸ａ１，ａ２（第１，２の射出軸＝レン
ズ中心軸）に対して２個の発光点が対称に配置されるよ
うに副走査方向の位置合せがなされ、かつ、その射出光
が平行光束となるように光軸方向の位置合せがなされ
て、これらのＵ字状支持部１７ａ，１７ｂに対して紫外
線硬化接着剤１８を充填し硬化させることによりコリメ
ータレンズ１３，１４が固定される。

【００２２】この際、特に図４に示すように、２個の嵌
合穴１６を各々主走査方向に角度をつけて形成すること
で、半導体レーザアレイ１１及びコリメータレンズ１
３、半導体レーザアレイ１２及びコリメータレンズ１４
の全系を傾けて配置させることにより、各々の射出軸ａ
１，ａ２がポリゴンミラー（図示せず）の近傍で交差す
るように形成しているので、被走査面では、図５に示す
ように、ビームスポット列が主走査方向に間隔ｘをもっ
て分離形成される。図５中、１１ａ，１１ｂは半導体レ
ーザアレイ１１の２個の発光点により形成されるビーム
スポットを示し、１２ａ，１２ｂは半導体レーザアレイ
１２の２個の発光点により形成されるビームスポットを
示す。

【００２３】また、半導体レーザアレイ１１，１２及び
コリメータレンズ１３，１４を一体に保持した支持部材
１５を保持するホルダ部材１９が設けられている。この
ホルダ部材１９は走査光学系の光軸Ｃを回動中心として
所定の支持部に回動調整自在に位置決めされるための円
筒部２０を前面側中央に有し、背面側にはＵ字状支持部
１７ａ，１７ｂ部分やコリメータレンズ１３，１４部分
を挿入させるための逃げ開口２１が形成されており、ね
じ穴２２にねじ着されるねじ２３により支持部材１５が
固定されている。ここに、支持部材１５は各半導体レー
ザアレイ１１，１２、コリメータレンズ１３，１４が光
軸Ｃに対して対称配置となるようにホルダ部材１９に位
置決め固定される。

【００２４】このような構成によれば、走査光学系の光
軸Ｃを回動中心としてホルダ部材１９を回動調整して傾
け量γを適宜設定するだけで、各々の半導体レーザアレ
イ１１，１２のビームスポット１１ａ，１１ｂ列、ビー
ムスポット１２ａ，１２ｂ列の副走査方向の相対位置を
所定値に簡単かつ正確に合せることができる。よって、
組立効率が向上する。

【００２５】図５に示す例では、ビームスポット１１
ａ，１１ｂ列、ビームスポット１２ａ，１２ｂ列が１１
ａ，１２ａ，１１ｂ，１２ｂの順に千鳥配列状となるよ
うに画像記録ピッチｐ（＝Ｐ／２＝ｘ・cosγ）だけず
らして配置させている。このとき、傾け量γによりビー
ムスポット列の最短スポットの副走査ピッチｐは、ビー
ム数をｎとすると、δ＝（ｎ−１）Ｐ・（１−cosγ）
だけ変化してしまう。ビームスポット列の副走査相対位
置を図５に示すようにｐだけずらすことを想定すると、
間隔ｘによる補正によりsinγ＞ｐ／ｘとなる。従っ
て、最短スポットの副走査ピッチの変化量δを画像品質
に影響を与えない（ｎ−１）Ｐ／８以下とするために
は、間隔ｘは少なくとも２ｐ以上とする必要がある。

【００２６】本発明の第二の実施の形態を図６ないし図
９に基づいて説明する。図６は本実施の形態のマルチビ
ーム光源装置を示す分解斜視図、図７はその組立状態に
おける縦断側面図である。本実施の形態は、前述した特
開平７−７２４０７号公報の場合のようなビーム合成手
段を用いるマルチビーム光源装置に適用されている。ま
た、各々２個の発光点を有する２個の半導体レーザアレ
イ３１，３２（第１，２の半導体レーザアレイ）を用い
る４ビーム光源装置として構成されている。これらの半
導体レーザアレイ３１，３２は同一構造で形成されてい
る。また、これらの半導体レーザアレイ３１，３２に対
して対をなし、射出光を平行光として走査光学系にカッ
プリングさせるためのコリメータレンズ３３，３４（第
１，２のコリメータレンズ）も設けられている。

【００２７】また、半導体レーザアレイ３１とコリメー
タレンズ３３とを一体に保持する第１の保持部材３５
と、半導体レーザアレイ３２とコリメータレンズ３４と
を一体に保持する第２の保持部材３６とが設けられてい
る。これらの保持部材３５，３６は何れもアルミダイキ
ャスト製のもので、同一形状に形成されている。これら
の保持部材３５，３６の背面側には半導体レーザアレイ
３１，３２を圧入支持させるための段差付きの嵌合穴３
７が各々形成されている。コリメータレンズ３３，３４
は各々半導体レーザアレイ３１，３２の複数個の発光点
を副走査方向に配列させるとともに、射出軸ａ１，ａ２
（第１，２の射出軸＝レンズ中心軸）に対して２個の発
光点が対称に配置されるように副走査方向の位置合せが
なされ、かつ、その射出光が平行光束となるように光軸
方向の位置合せがなされて、各々の支持部材３５，３６
に形成されたＵ字状支持部３７，３８に対して紫外線硬
化接着剤３９を充填し硬化させることにより固定され
る。このようにして、半導体レーザアレイ３１、コリメ
ータレンズ３３及び支持部材３５により第１の光源部４
０が構成され、半導体レーザアレイ３２、コリメータレ
ンズ３４及び支持部材３６により第２の光源部４１が構
成されている。

【００２８】また、前述の特開平７−７２４０７号公報
に示されるような平行四辺形柱部４２ａと三角柱部４２
ｂとを組合せたプリズム４２によるビーム合成手段が設
けられている。このプリズム４２は第１，２の半導体レ
ーザアレイ３１，３２の各発光点から出射される複数の
レーザ光を走査光学系の光軸Ｃに対して副走査方向に近
接させて射出させるもので、第２の半導体レーザアレイ
３２側からの入射部分には１／２波長板４３が設けられ
ている。即ち、第２の半導体レーザアレイ３２側からの
射出光は平行四辺形柱部４２ａの斜辺で反射された後、
三角柱部４２ｂとの境界面でさらに反射されることによ
り、この三角柱部４２部分を透過する第１の半導体レー
ザアレイ３１側からの射出光と副走査方向に近接した状
態でプリズム４２から射出される。

【００２９】さらに、ユニット化されたこれらの第１，
２の光源部４０，４１及びプリズム４２を保持するホル
ダ部材４２が設けられている。ここに、このホルダ部材
４２は走査光学系の光軸Ｃを回動中心として所定の支持
部に回動調整自在に位置決めされるための円筒部４５を
前面側中央に有し、背面側にはプリズム４２が入り込む
プリズム収納部４６に連続させてＵ字状支持部３７，３
８部分やコリメータレンズ３３，３４部分を挿入させる
ための逃げ開口４７が形成されており、ねじ穴４８にね
じ着されるねじ４９により支持部材３５，３６が固定さ
れている。この際、第１，２の支持部材３５，３６が取
付けられるホルダ部材４２の取付面４２ａ，４２ｂを図
７に示すように各々主走査方向に角度を付けることによ
り、各々の射出軸ａ１，ａ２が被走査面に向かって徐々
に広がっていくように形成されている。よって、被走査
面では、図８に示すように、ビームスポット列が主走査
方向に間隔ｘをもって分離形成される。図８中、３１
ａ，３１ｂは半導体レーザアレイ３１の２個の発光点に
より形成されるビームスポットを示し、３２ａ，３２ｂ
は半導体レーザアレイ３２の２個の発光点により形成さ
れるビームスポットを示す。

【００３０】このような構成によれば、走査光学系の光
軸Ｃを回動中心としてホルダ部材４４を回動調整して傾
け量γを適宜設定するだけで、各々の半導体レーザアレ
イ３１，３２のビームスポット３１ａ，３１ｂ列、ビー
ムスポット３２ａ，３２ｂ列の副走査方向の相対位置を
所定値に簡単かつ正確に合せることができる。よって、
組立効率が向上する。

【００３１】また、本実施の形態では、支持部材３５，
３６に関してホルダ部材４４の取付面上で各射出軸ａ
１，ａ２を回転中心として位置決めを可能とする円筒部
３５ａ，３６ａが形成されており、ホルダ部材４４に対
して各々独立して回動調整自在とされている。これによ
り、各ビームスポット３１ａ，３１ｂ列、ビームスポッ
ト３２ａ，３２ｂ列における隣接ピッチＰを予めＰ＞２
ｐとなるように走査光学系の副走査倍率βｓを設定する
ことで、各射出軸ａ１，ａ２を回動中心とした傾け量α
の調整により各ビームスポット３１ａ，３１ｂ列、ビー
ムスポット３２ａ，３２ｂ列の副走査方向の間隔ｄ（＝
Ｐ／２＝Ｐ・cosα）を正確に合せることが可能とな
る。さらに、傾け量γによっても各ビームスポット３１
ａ，３１ｂ列、ビームスポット３２ａ，３２ｂ列は常に
一定姿勢に維持することができ、副走査ピッチを正確に
保つことが可能となる。

【００３２】このように構成された４ビーム光源ユニッ
ト４８から射出される４本のレーザ光は、図９に示すよ
うに、シリンダレンズ４９を介してポリゴンミラー５０
で偏向走査され、結像用の走査光学系５１を構成するｆ
θレンズ５２及びトロイダルレンズ５３により被走査面
である感光体５４面上に結像されることで、４ライン同
時記録が行われる。５５は反射ミラーである。また、５
６は画像領域外で検知用ミラー５７で反射されるレーザ
光を受光して主走査ライン方向の同期をとるたの同期検
知センサである。

【００３３】なお、これらの実施の形態では、２つの発
光点を持つ半導体レーザアレイを用いた構成例とした
が、２つの発光点に限らず、３つ以上の発光点を持つ半
導体レーザアレイを用いるようにしてもよい。要は、複
数個の発光点が同一直線上に等ピッチで配列されていれ
ばよい。また、第１，２の射出軸ａ１，ａ２の設定に関
して、第一の実施の形態ではポリゴンミラーの近傍で交
差するように、第二の実施の形態では被走査面に向かっ
て徐々に広がっていくようにしたが、これらに限らず、
要は、主走査方向に所定角度隔てられていればよい。

【００３４】

【発明の効果】請求項１記載の発明によれば、ホルダ部
材を走査光学系の光軸を回動中心として回動調整するだ
けの単純な作業で第１，２の半導体レーザアレイの各発
光点によるビームスポット列間の副走査相対位置の調整
が可能となり、組立効率を向上させることができる。

【００３５】請求項２記載の発明によれば、ビーム合成
手段を利用した方式にあっても、ホルダ部材を走査光学
系の光軸を回動中心として回動調整するだけの単純な作
業で第1，２の半導体レーザアレイの各発光点によるビ
ームスポット列間の副走査相対位置の調整が可能とな
り、組立効率を向上させることができる。

【００３６】請求項３記載の発明によれば、ビーム合成
手段を利用する請求項２記載のマルチビーム光源装置に
おいて、第１，２の半導体レーザアレイのビームスポッ
ト列における副走査ピッチを個別に調整でき、高精度化
を図れるため、より高品位な画像記録が可能となる。

【００３７】請求項４記載の発明によれば、請求項１又
は２記載のマルチビーム光源装置において、半導体レー
ザアレイのビームスポット列間の副走査方向の相対位置
を調整した後に、ビームスポット列における副走査ピッ
チの変化を許容値に抑えることができ、高精度化を図れ
るため、高品位な画像記録が可能となる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の前提として、２つの発光点を有する半
導体レーザアレイの発光点ピッチＰｓと被走査面におけ
る副走査ピッチＰｓ′との関係を示す光学系説明図であ
る。

【図２】複数個の発光点の配列方式を示す説明図であ
る。

【図３】本発明の第一の実施の形態のマルチビーム光源
装置を示す分解斜視図である。

【図４】その組立状態における縦断側面図である。

【図５】被走査面上でのビームスポット配列を示す説明
図である。

【図６】本発明の第二の実施の形態のマルチビーム光源
装置を示す分解斜視図である。

【図７】その組立状態における縦断側面図である。

【図８】被走査面上でのビームスポット配列を示す説明
図である。

【図９】レーザプリンタ構成例を示す斜視図である。

【符号の説明】

１１ 第１の半導体レーザアレイ １２ 第２の半導体レーザアレイ １３ 第１のコリメータレンズ １４ 第２のコリメータレンズ １５ 支持部材 １９ ホルダ部材 ３１ 第１の半導体レーザアレイ ３２ 第２の半導体レーザアレイ ３３ 第１のコリメータレンズ ３４ 第２のコリメータレンズ ３５ 第１の支持部材 ３６ 第２の支持部材 ４０ 第１の光源部 ４１ 第２の光源部 ４２ ビーム合成手段 ４４ ホルダ部材

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 直線上に複数個の発光点を有する第１の
   半導体レーザアレイと、 この第1の半導体レーザと同一構造の第２の半導体レー
   ザアレイと、 前記第１の半導体レーザアレイから射出されるレーザ光
   をカップリングする第１のコリメータレンズと、 前記第２の半導体レーザアレイから射出されるレーザ光
   をカップリングする第２のコリメータレンズと、 前記第１の半導体レーザアレイと前記第１のカップリン
   グレンズとを第１の射出軸上に配置させるとともに前記
   第２の半導体レーザアレイと前記第２のカップリングレ
   ンズとを前記第１の射出軸に対して主走査方向に所定角
   度隔てた第２の射出軸上に配置させてこれらの部材を一
   体に保持する支持部材と、 前記第１及び第２の半導体レーザアレイから出射される
   複数のレーザ光を走査して被走査面にビームスポットを
   形成するための走査光学系の光軸を回動中心として回動
   調整自在に設けられて前記支持部材を保持するホルダ部
   材と、を備えるマルチビーム光源装置。
2. 【請求項２】 直線上に複数個の発光点を有する第１の
   半導体レーザアレイと、 この第１の半導体レーザと同一構造の第２の半導体レー
   ザアレイと、 前記第１の半導体レーザアレイから射出されるレーザ光
   をカップリングする第１のコリメータレンズと、 前記第２の半導体レーザアレイから射出されるレーザ光
   をカップリングする第２のコリメータレンズと、 前記第１の半導体レーザアレイと前記第１のカップリン
   グレンズとを第１の射出軸上に配置させて一体に保持し
   て第1の光源部を形成する第1の支持部材と、 前記第２の半導体レーザアレイと前記第２のカップリン
   グレンズとを第２の射出軸上に配置させて一体に保持し
   て第２の光源部を形成する第２の支持部材と、 前記第１及び第２の半導体レーザアレイから出射される
   複数のレーザ光を走査して被走査面にビームスポットを
   形成するための走査光学系の光軸に対して、前記複数の
   レーザ光を副走査方向に近接させて射出させるビーム合
   成手段と、 前記走査光学系の光軸を回動中心として回動調整自在に
   設けられて、前記第１の射出軸と前記第２の射出軸とを
   主走査方向に対して所定角度隔てて前記第１の支持部材
   と前記第２の支持部材と前記ビーム合成手段とを一体に
   保持するホルダ部材と、を備えるマルチビーム光源装
   置。
3. 【請求項３】 前記第１及び第２の支持部材は各々対応
   する前記第１及び第２の射出軸を回動中心として回動調
   整自在に前記ホルダ部材に保持されている請求項２記載
   のマルチビーム光源装置。
4. 【請求項４】 前記第１及び第２の半導体レーザアレイ
   における複数個の発光点を各々副走査方向に配列し、前
   記被走査面上での前記第１及び第２の射出軸間隔を隣接
   する記録ラインピッチの２倍以上に設定してなる請求項
   １又は２記載のマルチビーム光源装置。