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JP2000065685A - Method and apparatus for adjustment of position of light- source array - Google Patents

Method and apparatus for adjustment of position of light- source array

Info

Publication number
JP2000065685A
JP2000065685A JP10231346A JP23134698A JP2000065685A JP 2000065685 A JP2000065685 A JP 2000065685A JP 10231346 A JP10231346 A JP 10231346A JP 23134698 A JP23134698 A JP 23134698A JP 2000065685 A JP2000065685 A JP 2000065685A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
light
scanning direction
light source
source array
sub
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP10231346A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Tetsuya Kimura
哲也 木村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Business Innovation Corp
Original Assignee
Fuji Xerox Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Xerox Co Ltd filed Critical Fuji Xerox Co Ltd
Priority to JP10231346A priority Critical patent/JP2000065685A/en
Publication of JP2000065685A publication Critical patent/JP2000065685A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a method and an apparatus in which the position of a light-source array can be adjusted at high speed and with high accuracy and whose costs can be reduced by a method wherein the position is adjusted on the basis of quantities of light of light beams which are passed through a plurality of aperture which are formed in corresponding positions on a scanning face and whose aperture area is different. SOLUTION: Quantities of light of four semiconductor lasers near the center of a semiconductor laser array 111 are captured by a photodetector 30 via a square hole 20. Positions in the X-axis direction and the Z-axis direction of the array 111 are adjusted roughly. Then, quantities of light of two laser beams near both ends in the X-axis direction are captured in the center in the Z-axis direction of the array 111 by optical sensors 3A, 3B via slits 2a, 2b, and the array 111 is turned around the Y-axis. In the same manner, quantities of light of two laser beams at both ends in the X-axis (or Z-axis) direction are captured by optical sensors 3C, 3D and 3E, 3F in the center in the Z-axis (or X-axis) direction of the array 111, and the array 111 is turned around the Z-axis and the X-axis). Lastly, a prescribed quantity of light is captured by the optical sensors 3C to 3F via pinholes 2c to 2f, and the array 111 is moved to Y-axis direction.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、複数の光源が2次
元状に配列された光源アレイを有するプリンタや複写機
等の光走査装置における光源アレイ位置調整方法および
光源アレイ位置調整装置に関し、特に、コスト低減が図
れ、光源アレイの位置調整を高速かつ高精度に行うこと
ができるようにした光源アレイ位置調整方法および光源
アレイ位置調整装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a light source array position adjusting method and a light source array position adjusting device in an optical scanning device such as a printer or a copier having a light source array in which a plurality of light sources are two-dimensionally arranged. The present invention relates to a light source array position adjusting method and a light source array position adjusting device capable of reducing costs and performing high-speed and high-accuracy position adjustment of a light source array.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、2次元状に配列された複数の光源
を有する半導体レーザアレイを発光部として感光体等の
記録媒体を走査して画像を形成する光走査装置が提案さ
れている。
2. Description of the Related Art In recent years, there has been proposed an optical scanning device which forms an image by scanning a recording medium such as a photosensitive member using a semiconductor laser array having a plurality of light sources arranged two-dimensionally as a light emitting portion.

【0003】図11(a) ,(b) は、光走査装置の一例を
示す。なお、Xは主走査方向を示し、Yは副走査方向を
示す。この光走査装置100は、複数のレーザビームを
出射する半導体レーザアレイ111を備えるレーザアレ
イパッケージ111Aと、半導体レーザアレイ111か
ら出射された複数のレーザビームを集光する集光レンズ
112と、集光レンズ112によって集光された複数の
レーザビームを拡大して回転可能に支持された記録媒体
114の周面の走査面114a上に結像させる結像レン
ズ系113とを備えている。
FIGS. 11A and 11B show an example of an optical scanning device. Note that X indicates the main scanning direction, and Y indicates the sub-scanning direction. The optical scanning device 100 includes a laser array package 111A including a semiconductor laser array 111 that emits a plurality of laser beams, a focusing lens 112 that focuses the plurality of laser beams emitted from the semiconductor laser array 111, and a focusing lens 112. An image forming lens system 113 is provided for forming a plurality of laser beams condensed by the lens 112 and forming an image on a scanning surface 114 a on a peripheral surface of a recording medium 114 rotatably supported.

【0004】図12は、レーザアレイパッケージ111
Aを示す。レーザアレイパッケージ111Aの半導体レ
ーザアレイ111は、副走査方向Zの数をn個(例えば
12個)、主走査方向Xの数をm個(例えば1200
個)とするn×m個の半導体レーザ110がアレイ状に
配列されている。n×m個の半導体レーザ110で1ラ
インのドットを記録媒体114の走査面114a上に形
成するため、半導体レーザアレイ111の各レーザビー
ム出射点は、記録媒体114の走査面114a上への投
影画像が重ならないように配置されている。
FIG. 12 shows a laser array package 111.
A is shown. In the semiconductor laser array 111 of the laser array package 111A, the number in the sub-scanning direction Z is n (for example, 12), and the number in the main scanning direction X is m (for example, 1200).
N × m semiconductor lasers 110 are arranged in an array. Since one line of dots are formed on the scanning surface 114a of the recording medium 114 by the nxm semiconductor lasers 110, each laser beam emission point of the semiconductor laser array 111 is projected onto the scanning surface 114a of the recording medium 114. The images are arranged so that they do not overlap.

【0005】このように構成された光走査装置100に
おいて、画像信号に応じて半導体レーザアレイ111を
駆動すると、半導体レーザアレイ111から出射された
レーザビームは、集光レンズ112によって集光され、
結像レンズ系113によって拡大され、回転する記録媒
体114の走査面114a上に結像されることにより、
2次元的に画像が露光される。
When the semiconductor laser array 111 is driven in accordance with an image signal in the optical scanning device 100 configured as described above, a laser beam emitted from the semiconductor laser array 111 is condensed by a condensing lens 112,
By being enlarged by the imaging lens system 113 and being imaged on the scanning surface 114a of the rotating recording medium 114,
The image is exposed two-dimensionally.

【0006】ところで、高画質な画像露光を行うために
は、記録媒体114の走査面114a上の所定の位置に
所定の径のレーザビームを正確に照射する必要がある。
レーザビームのスポット径のばらつきやスポット位置ず
れは、画像のゆがみやぼけ等の不都合を生じ、高画質な
画像を得ることができない。このようなレーザビームの
スポット径のばらつきやスポット位置ずれには、レーザ
アレイパッケージ111Aの配置位置誤差、集光レンズ
112,結像レンズ系113のレンズアレイの配置位置
誤差や、記録媒体14の回転位置誤差等の種々な原因が
考えられるが、特に、半導体レーザアレイ111からの
レーザビームを拡大する光走査装置においては、レーザ
アレイパッケージ111Aの配置位置誤差が大きな原因
となる。従って、レーザアレイパッケージ111Aの配
置位置を調整して組み付けることが重要となってくる。
Incidentally, in order to perform high-quality image exposure, it is necessary to accurately irradiate a predetermined position on the scanning surface 114a of the recording medium 114 with a laser beam having a predetermined diameter.
Variations in the spot diameter of the laser beam and deviations in the spot position cause inconveniences such as image distortion and blurring, so that a high-quality image cannot be obtained. Such variations in spot diameter and spot position of the laser beam include errors in the position of the laser array package 111A, errors in the positions of the lens arrays of the condenser lens 112 and the imaging lens system 113, and rotation of the recording medium 14. Although various causes such as a position error can be considered, especially in an optical scanning device that expands the laser beam from the semiconductor laser array 111, an arrangement position error of the laser array package 111A is a major cause. Therefore, it is important to adjust the arrangement position of the laser array package 111A and assemble it.

【0007】図13(a) ,(b) は、このようなレーザア
レイパッケージ111Aの位置調整を行うための従来の
光源アレイ位置調整装置の一例を示す。この光源アレイ
位置調整装置10は、半導体レーザアレイ111から集
光レンズ112および結像レンズ系113を介して出射
されるレーザビームによって記録媒体114の走査面1
14aに相当する所定の高さと、所定の横幅を有するス
ポット形成面115上に形成される複数のレーザビーム
のスポットの像を10倍の拡大率で拡大する拡大光学系
11と、拡大光学系11によって拡大されたスポットの
像を光量に応じた電気信号である光量信号として取り込
む2次元CCDカメラ12と、拡大光学系11と2次元
CCDカメラ12を主走査方向Xに移動させるX軸ステ
ージ(不図示)と、同じく拡大光学系11と2次元CC
Dカメラ12を副走査方向Zに移動させるZ軸ステージ
(不図示)と、2次元CCDカメラ12によって取り込
まれた光量信号を処理する画像処理部13とから構成さ
れている。なお、図13において116は、半導体レー
ザアレイ111の中心と記録媒体114の中心とを結ぶ
光軸である。
FIGS. 13 (a) and 13 (b) show an example of a conventional light source array position adjusting device for adjusting the position of such a laser array package 111A. The light source array position adjusting device 10 scans a scanning surface 1 of a recording medium 114 with a laser beam emitted from a semiconductor laser array 111 via a condenser lens 112 and an imaging lens system 113.
A magnifying optical system 11 for magnifying a plurality of laser beam spot images formed on the spot forming surface 115 having a predetermined height corresponding to 14a and a predetermined horizontal width at a magnification of 10 times; A two-dimensional CCD camera 12 that captures an image of the spot enlarged by the light source as an electric signal corresponding to the amount of light, and an X-axis stage (not shown) that moves the magnifying optical system 11 and the two-dimensional CCD camera 12 in the main scanning direction X. (Shown), the magnifying optical system 11 and the two-dimensional CC
It comprises a Z-axis stage (not shown) for moving the D camera 12 in the sub-scanning direction Z, and an image processing unit 13 for processing a light amount signal captured by the two-dimensional CCD camera 12. In FIG. 13, reference numeral 116 denotes an optical axis connecting the center of the semiconductor laser array 111 and the center of the recording medium 114.

【0008】2次元CCDカメラ12は、画素ピッチ1
0μmの500×500個の画素からなる5000×5
000μmの視野を有している。分解能1μmで測定す
るため、拡大光学系11は拡大率10倍のものを用いて
いるので、スポット形成面115上に250μmピッチ
で径20μm程度のスポットが12×1200個形成さ
れ、2次元CCDカメラ12の視野には4つのスポット
の像が写る。
The two-dimensional CCD camera 12 has a pixel pitch of 1
5000 × 5 composed of 500 × 500 pixels of 0 μm
It has a visual field of 000 μm. Since the measurement is performed at a resolution of 1 μm, a magnifying optical system 11 having a magnification of 10 times is used. Images of four spots appear in twelve fields of view.

【0009】このように構成された光源アレイ位置調整
装置10によりレーザアレイパッケージ111Aの配置
位置を調整する場合は、スポット形成面115上のX軸
方向の両端、およびZ軸方向の両端に2次元CCDカメ
ラ12を移動させ、Y方向に所定ピッチ(例えば200
μm)ずらしながらスポット径を4つずつ測定してスポ
ット径の大きさの分布を得る。そして、X軸方向の両
端、およびZ軸方向の両端でスポット径がそれぞれ最小
となる、所謂ビームウェストの位置に半導体レーザアレ
イ111の6軸方向の位置をXステージ,Yステージ,
Zステージによって調整する。
When the arrangement position of the laser array package 111A is adjusted by the light source array position adjustment device 10 configured as described above, two-dimensionally arranged at both ends in the X-axis direction and both ends in the Z-axis direction on the spot forming surface 115. By moving the CCD camera 12, a predetermined pitch (for example, 200
(μm) The spot diameter is measured four by four while shifting, to obtain the distribution of the spot diameter. Then, the positions of the six-axis direction of the semiconductor laser array 111 in X-axis, Y-stage, and so-called beam waist positions where the spot diameter becomes minimum at both ends in the X-axis direction and both ends in the Z-axis direction,
Adjust by Z stage.

【0010】この従来の光源アレイ位置調整装置10に
よると、半導体レーザアレイ111のX軸方向、Y軸方
向、Z軸方向、X軸回りの回転方向、Y軸回りの回転方
向、Z軸回りの回転方向の6軸すべての調整を行うこと
が可能である。
According to the conventional light source array position adjusting device 10, the X-axis direction, Y-axis direction, Z-axis direction, rotation direction around the X-axis, rotation direction around the Y-axis, and rotation around the Z-axis of the semiconductor laser array 111 are provided. It is possible to make adjustments for all six axes in the rotational direction.

【0011】[0011]

【発明が解決しようとする課題】しかし、従来の光ビー
ム測定装置10によると、3軸のステージの移動とスポ
ット径の測定を繰り返し行いながら調整するため、調整
が複雑で時間がかかるという問題があった。また、ステ
ージの移動による誤差が蓄積されて精度が確保し難いと
いう問題があった。また、ステージの移動による誤差が
含まれるため、複数の半導体レーザアレイを調整する場
合、半導体レーザ間の誤差が大きく、同一の記録媒体上
に複数の半導体レーザアレイによって露光するような光
走査装置においては、複数の半導体レーザアレイによる
露光位置誤差を低減することが困難であった。また、2
次元CCDカメラ、およびビーム径を測定するための光
走査装置が必要であり、さらに高精度のステージ、特に
X軸方向のステージは300mm以上のストロークを持
つ高精度のステージが必要であるために、コスト高を招
くという問題があった。
However, according to the conventional light beam measuring apparatus 10, since the adjustment is performed while repeatedly moving the three-axis stage and measuring the spot diameter, the adjustment is complicated and takes a long time. there were. In addition, there is a problem that it is difficult to secure accuracy because errors due to the movement of the stage are accumulated. In addition, since an error due to the movement of the stage is included, when adjusting a plurality of semiconductor laser arrays, an error between the semiconductor lasers is large, and in an optical scanning device in which the same recording medium is exposed by the plurality of semiconductor laser arrays. However, it has been difficult to reduce exposure position errors caused by a plurality of semiconductor laser arrays. Also, 2
Because a three-dimensional CCD camera and an optical scanning device for measuring the beam diameter are required, and a high-precision stage, particularly a stage in the X-axis direction, requires a high-precision stage having a stroke of 300 mm or more, There was a problem that the cost was increased.

【0012】従って、本発明の目的は、コスト低減が図
れ、光源アレイの位置調整を高速かつ高精度に行うこと
ができる光源アレイ位置調整方法および光源アレイ位置
調整装置を提供することにある。
Accordingly, it is an object of the present invention to provide a light source array position adjusting method and a light source array position adjusting device which can reduce the cost and adjust the position of the light source array with high speed and high accuracy.

【0013】[0013]

【課題を解決するための手段】本発明は、上記目的を達
成するため、複数の光ビームを出射する複数の光源を主
走査方向および副走査方向に2次元状に配列してなる光
源アレイと、前記複数の光源から出射された前記複数の
光ビームによって走査される走査面とを備えた光走査装
置において、所定の開孔面積を有する第1の開孔を前記
走査面に相当する位置に設け、前記第1の開孔の中心に
対応する前記光源を点灯させて前記第1の開孔を通過し
た前記光ビームの光量を検出し、この検出結果に基づい
て前記光源アレイの第1の位置調整を行い、前記所定の
開孔面積より小なる開孔面積を有する第2の開孔を前記
走査面に相当する位置に設け、前記第2の開孔の中心に
対応する前記光源を点灯させて前記第2の開孔を通過し
た前記光ビームの光量を検出し、この検出結果に基づい
て前記光源アレイの第2の位置調整を行うことを特徴と
する光源アレイ位置調整方法を提供する。上記構成によ
れば、第1の開孔の光ビームの通過光量に基づいて光源
アレイの第1の位置調整を行った後、第1の開孔より小
なる開孔面積を有する第2の開孔の光ビームの通過光量
に基づいて光源アレイの第2の位置調整を行うことによ
り、位置調整が少ない誤差で短時間で済む。また、固定
の光センサを用いて光量の検出を行えるので、光センサ
を移動させるためのステージが不要になる。
According to the present invention, there is provided a light source array comprising a plurality of light sources for emitting a plurality of light beams arranged two-dimensionally in a main scanning direction and a sub-scanning direction. A scanning surface scanned by the plurality of light beams emitted from the plurality of light sources, wherein a first aperture having a predetermined aperture area is located at a position corresponding to the scanning surface. The light source corresponding to the center of the first aperture is turned on to detect the light amount of the light beam passing through the first aperture, and the first light source array of the light source array is detected based on the detection result. Position adjustment is performed, a second aperture having an aperture area smaller than the predetermined aperture area is provided at a position corresponding to the scanning surface, and the light source corresponding to the center of the second aperture is turned on. The light beam passing through the second aperture Detecting the amount, to provide a light source array position adjusting method and performing a second alignment of the light source arrays on the basis of the detection result. According to the above configuration, after performing the first position adjustment of the light source array based on the amount of light beam passing through the first aperture, the second aperture having an aperture area smaller than the first aperture. By performing the second position adjustment of the light source array based on the amount of light beam passing through the hole, the position adjustment can be performed in a short time with a small error. In addition, since the amount of light can be detected using a fixed optical sensor, a stage for moving the optical sensor is not required.

【0014】本発明は、上記目的を達成するため、複数
の光ビームを出射する複数の光源を主走査方向および副
走査方向に2次元状に配列してなる光源アレイと、前記
複数の光源から出射された前記複数の光ビームによって
走査される走査面とを備えた光走査装置において、前記
光源アレイを前記主走査方向、前記副走査方向、前記主
走査方向および前記副走査方向に直交する方向、前記主
走査方向の軸の回りの回転方向、前記副走査方向の軸の
回りの回転方向、および前記主走査方向および前記副走
査方向に直交する方向の軸の回りの回転方向に位置調整
可能に保持する前記光源アレイ保持手段と、前記走査面
に相当する位置に設けられ、所定の開孔面積を有する第
1の開孔、および前記所定の開孔面積より小なる開孔面
積を有する第2の開孔を備えた遮光手段と、前記第1の
開孔の中心に対応する前記光源を点灯させて前記第1の
開孔を通過した前記光ビームの光量を検出する第1の光
検出手段と、前記第2の開孔の中心に対応する前記光源
を点灯させて前記第2の開孔を通過した前記光ビームの
光量を検出する第2の光検出手段とを備えたことを特徴
とする光源アレイ位置調整装置を提供する。上記構成に
よれば、第1の開孔の光ビームの通過光量に基づいて光
源アレイの位置調整を行った後、第1の開孔より小なる
開孔面積を有する第2の開孔の光ビームの通過光量に基
づいて光源アレイの位置調整を行うことにより、位置調
整が少ない誤差で短時間で済む。また、固定の第1およ
び第2の光検出手段を用いて光量の検出を行えるので、
第1および第2の光検出手段を移動させるためのステー
ジが不要になる。
In order to achieve the above object, the present invention provides a light source array in which a plurality of light sources for emitting a plurality of light beams are two-dimensionally arranged in a main scanning direction and a sub-scanning direction; An optical scanning device having a scanning surface scanned by the plurality of emitted light beams, wherein the light source array is arranged in a direction orthogonal to the main scanning direction, the sub-scanning direction, the main scanning direction, and the sub-scanning direction. Position can be adjusted in a rotation direction around the axis in the main scanning direction, a rotation direction around the axis in the sub-scanning direction, and a rotation direction around an axis orthogonal to the main scanning direction and the sub-scanning direction. A first aperture having a predetermined aperture area, and a first aperture having a predetermined aperture area provided at a position corresponding to the scanning surface, and a first aperture having a smaller aperture area than the predetermined aperture area. Two Light shielding means having a hole, first light detection means for turning on the light source corresponding to the center of the first opening and detecting the amount of light of the light beam passing through the first opening; And a second light detecting means for turning on the light source corresponding to the center of the second opening and detecting the light amount of the light beam passing through the second opening. An array position adjusting device is provided. According to the above configuration, after adjusting the position of the light source array based on the amount of light beam passing through the first aperture, the light of the second aperture having an aperture area smaller than that of the first aperture. By adjusting the position of the light source array based on the amount of light passing through the beam, the position adjustment can be performed in a short time with a small error. Also, since the amount of light can be detected using the fixed first and second light detection means,
A stage for moving the first and second light detecting means is not required.

【0015】本発明は、上記目的を達成するため、複数
の光ビームを出射する複数の光源を主走査方向および副
走査方向に2次元状に配列してなる光源アレイと、前記
複数の光源から出射された前記複数の光ビームによって
走査される走査面とを備えた光走査装置において、前記
光源アレイを前記主走査方向、前記副走査方向、前記主
走査方向および前記副走査方向に直交する方向、前記主
走査方向の軸の回りの回転方向、前記副走査方向の軸の
回りの回転方向、および前記主走査方向および前記副走
査方向に直交する方向の軸の回りの回転方向に位置調整
可能に保持する前記光源アレイ保持手段と、前記走査面
に相当する位置に設けられ、所定の開孔面積を有する第
1の開孔、および前記所定の開孔面積より小なる開孔面
積を有する第2の開孔を備えた遮光手段と、前記第1の
開孔の中心に対応する前記光源を点灯させて前記第1の
開孔を通過した前記光ビームの光量を検出する第1の光
検出手段と、前記第2の開孔の中心に対応する前記光源
を点灯させて前記第2の開孔を通過した前記光ビームの
光量を検出する第2の光検出手段と、前記第1の光検出
手段および前記第2の光検出手段が検出した前記光量に
基づいて前記光源アレイ保持手段を制御して前記光源ア
レイを最適な位置に調整する制御手段とを備えたことを
特徴とする光源アレイ位置調整装置を提供する。上記構
成によれば、第1および第2の光検出手段が検出した前
記光量に基づく制御手段の制御によって光源アレイを最
適な位置に調整することにより、調整作業が自動化され
る。
In order to achieve the above object, the present invention provides a light source array in which a plurality of light sources for emitting a plurality of light beams are two-dimensionally arranged in a main scanning direction and a sub-scanning direction; An optical scanning device having a scanning surface scanned by the plurality of emitted light beams, wherein the light source array is arranged in a direction orthogonal to the main scanning direction, the sub-scanning direction, the main scanning direction, and the sub-scanning direction. Position can be adjusted in a rotation direction around the axis in the main scanning direction, a rotation direction around the axis in the sub-scanning direction, and a rotation direction around an axis orthogonal to the main scanning direction and the sub-scanning direction. A first aperture having a predetermined aperture area, and a first aperture having a predetermined aperture area provided at a position corresponding to the scanning surface, and a first aperture having a smaller aperture area than the predetermined aperture area. Two Light shielding means having a hole, first light detection means for turning on the light source corresponding to the center of the first opening and detecting the amount of light of the light beam passing through the first opening; A second light detection unit that turns on the light source corresponding to the center of the second opening and detects the light amount of the light beam that has passed through the second opening; and the first light detection unit and Control means for controlling the light source array holding means based on the amount of light detected by the second light detection means to adjust the light source array to an optimum position. I will provide a. According to the above configuration, the adjustment operation is automated by adjusting the light source array to an optimal position under the control of the control unit based on the light amounts detected by the first and second light detection units.

【0016】[0016]

【発明の実施の形態】図1(a) ,(b) ,(c) は、本発明
の実施の形態に係る光源アレイ位置調整装置を示す。な
お、従来の技術で説明したのと同一のものには、同一の
符号を用いてその詳細な説明は省略する。この光源アレ
イ位置調整装置1は、図11に示す記録媒体114の走
査面114aに相当する位置に設けられ、走査面114
aに相当する所定の高さ、および所定の幅を有するスポ
ット形成部2と、同図(c) に示すように、スポット形成
部2の所定の位置に形成された角穴20、スリット2
a,2b、ピンホール2c,2d,2e,2fの背面に
各々配置された検出器30、および複数の光センサ3
A,3B,3C,3D,3E,3Fとを有する。
1 (a), 1 (b) and 1 (c) show a light source array position adjusting apparatus according to an embodiment of the present invention. Note that the same components as those described in the related art are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof is omitted. The light source array position adjusting device 1 is provided at a position corresponding to the scanning surface 114a of the recording medium 114 shown in FIG.
a, a spot forming portion 2 having a predetermined height and a predetermined width corresponding to a square hole 20 and a slit 2 formed at a predetermined position of the spot forming portion 2 as shown in FIG.
a, 2b, detectors 30 respectively arranged on the back of pinholes 2c, 2d, 2e, 2f, and a plurality of optical sensors 3
A, 3B, 3C, 3D, 3E, and 3F.

【0017】光検出器30は、半導体レーザアレイ11
1の中心に位置する4つのレーザビームのスポットを別
々に捕らえるように構成されている。光センサ3Aは、
Z軸方向の中心であってX軸方向の一方の端部付近に位
置する1つの半導体レーザ110からのレーザビームの
スポットをスリット2aを介して捕らえるように配置さ
れ、光センサ3Bは、Z軸方向の中心であってX軸方向
の他方の端部付近に位置する1つの半導体レーザ110
からのレーザビームのスポットをスリット2bを介して
捕らえるように配置されている。光センサ3Cは、Z軸
方向の中心であってX軸方向の一方の端部付近に位置す
る1つの半導体レーザ110からのレーザビームのスポ
ットをピンホール2cを介して捕らえるように配置さ
れ、光センサ3Dは、Z軸方向の中心であってX軸方向
の他方の端部付近に位置する1つの半導体レーザ110
からのレーザビームのスポットをピンホール2dを介し
て捕らえるように配置されている。光センサ3Eは、X
軸方向の中心であってZ軸方向の一方の端部付近に位置
する1つの半導体レーザ110からのレーザビームのス
ポットをピンホール2eを介して捕らえるように配置さ
れ、光センサ3Fは、X軸方向の中心であってZ軸方向
の他方の端部付近に位置する1つの半導体レーザ110
からのレーザビームのスポットをピンホール2fを介し
て捕らえるように配置されている。
The photodetector 30 includes the semiconductor laser array 11
It is configured to separately catch spots of four laser beams located at the center of one. The optical sensor 3A is
A laser beam spot from one semiconductor laser 110 located at the center in the Z-axis direction and near one end in the X-axis direction is arranged to catch through the slit 2a. Semiconductor laser 110 located at the center in the X direction and near the other end in the X axis direction
It is arranged so that the spot of the laser beam from the camera is captured through the slit 2b. The optical sensor 3C is arranged so as to catch a spot of a laser beam from one semiconductor laser 110 located at the center in the Z-axis direction and near one end in the X-axis direction via the pinhole 2c. The sensor 3D has one semiconductor laser 110 located at the center in the Z-axis direction and near the other end in the X-axis direction.
It is arranged to catch the spot of the laser beam from the camera via the pinhole 2d. The optical sensor 3E is X
The optical sensor 3F is arranged so as to catch the spot of the laser beam from one semiconductor laser 110 located near the one end in the Z-axis direction at the center in the axial direction via the pinhole 2e. Semiconductor laser 110 located at the center of the direction and near the other end in the Z-axis direction
It is arranged so that the spot of the laser beam from is captured through the pinhole 2f.

【0018】図2は、半導体レーザアレイ111を示
す。半導体レーザアレイ111には、同図に示すよう
に、例えば、主走査方向XにピッチPX 40μmで12
00個、副走査方向Zに対して所定の角度θをなす方向
Z’にピッチPZ 30μmで12個の合計14400個
の半導体レーザ110(1,1) 〜110(12,1200) が配列
されている。
FIG. 2 shows the semiconductor laser array 111. As shown in the figure, the semiconductor laser array 111 has, for example, 12 pixels at a pitch P X of 40 μm in the main scanning direction X.
A total of 14,400 semiconductor lasers 110 (1,1) to 110 (12,1200) are arranged at a pitch P Z of 30 μm in a direction Z ′ forming a predetermined angle θ with respect to the sub-scanning direction Z. ing.

【0019】図3は、中央の光検出器30を示す。光検
出器30は、独立した4つの光センサ30a,30b,
30c,30dからなる。光センサ30a〜30dの大
きさは、それぞれ4つのレーザビームのスポットが一度
に捕らえられる大きさが望ましく、例えば、スポット径
が35μmで隣り合うスポット間隔が250μmの場合
は、285μm×285μmより大きな値が望ましい。
光センサ30a〜30d間の距離は、光センサ30a〜
30d上でスポット径よりも小さい値が望ましく、例え
ば、スポット径が35μmの場合は、35μmより小さ
い値が望ましい。
FIG. 3 shows the central photodetector 30. The light detector 30 includes four independent light sensors 30a, 30b,
30c and 30d. The size of each of the optical sensors 30a to 30d is desirably large enough to capture four laser beam spots at a time. For example, when the spot diameter is 35 μm and the interval between adjacent spots is 250 μm, the value is larger than 285 μm × 285 μm. Is desirable.
The distance between the optical sensors 30a to 30d is
A value smaller than the spot diameter on 30d is desirable. For example, when the spot diameter is 35 μm, a value smaller than 35 μm is desirable.

【0020】図4(a) ,(b) は、半導体レーザ110の
点灯位置と光センサ30a〜30dとの位置関係を示
す。4つの光センサ30a〜30dの位置は、半導体レ
ーザアレイ111が規定の位置にあるとき、半導体レー
ザアレイ111の中心付近の4つの半導体レーザ11
0、例えば、半導体レーザ110(6,600) ,110
(6,601 ) ,110(7,600) ,110(7,601) からのレー
ザビームが均等に照射される位置とする。なお、中央の
光検出器30は、検出領域が4分割された光検出器でも
よい。また、4分割の光検出器を用いる場合は、その外
形は矩形に限らず、円等でもよい。
FIGS. 4A and 4B show the positional relationship between the lighting position of the semiconductor laser 110 and the optical sensors 30a to 30d. The positions of the four optical sensors 30a to 30d are such that the four semiconductor lasers 11 near the center of the semiconductor laser array 111 when the semiconductor laser array 111 is at a prescribed position.
0, for example, semiconductor laser 110 (6,600) , 110
The position where the laser beams from (6,601 ) , 110 (7,600) , and 110 (7,601) are evenly irradiated. Note that the central photodetector 30 may be a photodetector in which the detection area is divided into four. When a four-divided photodetector is used, its outer shape is not limited to a rectangle but may be a circle or the like.

【0021】図5(a) ,(b) は、半導体レーザ110の
点灯位置とスリット2a,2bとの位置関係を示す。ス
リット2a,2bの長辺の長さは、スリット2a,2b
上で長辺方向の隣り合う2つのスポット4の間隔より大
きい値が望ましく、例えば、隣り合うスポット4の間隔
が250μmの場合は、250μm以上が望ましい。ス
リット2a,2bの短辺の長さは、スリット2a,2b
上でスポット径Dより大きく、短辺方向の隣り合う2つ
のスポット4の間隔より小さい値が望ましく、例えば、
スポット径Dが30μmで隣り合うスポット4の間隔が
250μmの場合は、30μm以上250μm以下が望
ましく、調整し易さを考慮するならば、なるべく大きな
値とすることが望ましく、調整位置精度を考慮するなら
ば、なるべく小さな値とすることが望ましい。本実施の
形態では、精度に重点を置いて50μm程度とした。ス
リット2a,2bの位置は、半導体レーザアレイ111
が規定の位置にあるとき、Z軸方向の中心でX軸方向の
両端付近の2つの半導体レーザ110、例えば、半導体
レーザ110(6,1) ,110(6,1200)からのレーザビー
ムのスポット4が2つのスリット2a,2bの中心を通
過する位置とする。
FIGS. 5A and 5B show the positional relationship between the lighting position of the semiconductor laser 110 and the slits 2a and 2b. The length of the long side of the slits 2a, 2b is
A value larger than the distance between two adjacent spots 4 in the long side direction is desirable. For example, when the distance between the adjacent spots 4 is 250 μm, the value is preferably 250 μm or more. The length of the short side of the slits 2a, 2b is
A value larger than the spot diameter D above and smaller than the interval between two adjacent spots 4 in the short side direction is desirable.
In the case where the spot diameter D is 30 μm and the interval between adjacent spots 4 is 250 μm, it is preferable that the value be 30 μm or more and 250 μm or less. Then, it is desirable to make the value as small as possible. In the present embodiment, the thickness is set to about 50 μm with emphasis on accuracy. The positions of the slits 2a and 2b are
Is at a prescribed position, the spots of laser beams from two semiconductor lasers 110 near the center in the Z-axis direction and both ends in the X-axis direction, for example, the semiconductor lasers 110 (6,1) and 110 (6,1200) 4 is a position passing through the centers of the two slits 2a and 2b.

【0022】図6(a) ,(b) は、半導体レーザ110の
点灯位置とピンホール2c〜2fとの位置関係を示す。
ピンホール2c〜2fの径は、ピンホール2c〜2f上
でスポット径Dよりやや大きな値が望ましく、例えば、
スポット径Dが35μmの場合は、35μmよりやや大
きな値が望ましい。調整し易さを考慮するならば、大き
めの値とすることが望ましく、調整位置精度を考慮する
ならば、スポット径Dに近い値とすることが望ましい。
本実施の形態では、精度に重点を置いて40μm程度と
した。ピンホール2c〜2fの位置は、半導体レーザア
レイ111が規定の位置にあるとき、それぞれZ軸方向
の中心であってX軸方向の両端付近の2つの半導体レー
ザ110からのレーザビームのスポット4が2つのピン
ホール2c,2dの中心を通過する位置、および、X軸
方向の中心であってZ軸方向の両端付近の2つの半導体
レーザ110からのレーザビームのスポット4が2つの
ピンホール2e,2fの中心を通過する位置とする。例
えば、半導体レーザ110 (6,3) ,110 (1,600),1
10(12,600),110(6,1198)からのレーザビームのス
ポット4が、同図(a) に示すように、4つのピンホール
2c〜2fの中心をそれぞれ通過する位置とする。
FIGS. 6A and 6B show the semiconductor laser 110.
The positional relationship between the lighting position and the pinholes 2c to 2f is shown.
The diameter of the pinholes 2c to 2f is above the pinholes 2c to 2f.
And a value slightly larger than the spot diameter D is desirable. For example,
When the spot diameter D is 35 μm, it is slightly larger than 35 μm.
Is desirable. If you consider the ease of adjustment,
It is desirable to consider the adjustment position accuracy
Then, a value close to the spot diameter D is desirable.
In the present embodiment, the emphasis is placed on accuracy and it is about 40 μm.
did. The positions of the pinholes 2c to 2f are
When the ray 111 is at the specified position,
Semiconductor lasers near the center of the
The spot 4 of the laser beam from the
Position passing through the center of the holes 2c and 2d, and the X axis
Semiconductors at the center of the direction and near both ends in the Z-axis direction
The spot 4 of the laser beam from the laser 110 has two spots.
The position passes through the centers of the pinholes 2e and 2f. An example
For example, the semiconductor laser 110 (6,3), 110(1,600), 1
10(12,600), 110(6,1198)Laser beam from
Pot 4 has four pinholes as shown in FIG.
The positions pass through the centers of 2c to 2f, respectively.

【0023】なお、光センサ30a〜30d、3A〜3
F、および角穴20、2つのスリット2a,2b、およ
び4つのピンホール2c〜2fは、同一の基板上に形成
されていてもよく、いくつかに分割した基板上に形成さ
れていてもよく、それぞれ別々の基板に形成されていて
もよい。
The optical sensors 30a-30d, 3A-3
F and the square hole 20, the two slits 2a and 2b, and the four pinholes 2c to 2f may be formed on the same substrate, or may be formed on a substrate divided into several parts. May be formed on separate substrates.

【0024】図7は、本装置1の制御系を示す。この装
置1は、装置1全体を制御する制御部4を有し、制御部
4に、半導体レーザアレイ111をX軸方向に移動させ
るXテーブル5aと、半導体レーザアレイ111をY軸
方向に移動させるYテーブル5bと、半導体レーザアレ
イ111をZ軸方向に移動させるZテーブル5cと半導
体レーザアレイ111をX軸回りに回転させるθX テー
ブル5dと、半導体レーザアレイ111をY軸回りに回
転させるθY テーブル5eと、半導体レーザアレイ11
1をZ軸回りに回転させるθZ テーブル5fと、半導体
レーザアレイ111を駆動するレーザ駆動部6と、光セ
ンサ30a〜30d、3A〜3Fの検出信号に基づいて
光量を検出する光量検出部7とを各々接続している。
FIG. 7 shows a control system of the apparatus 1. The device 1 has a control unit 4 for controlling the entire device 1. The control unit 4 causes the X table 5 a to move the semiconductor laser array 111 in the X-axis direction and the semiconductor laser array 111 to move in the Y-axis direction. Y table 5b, Z table 5c for moving semiconductor laser array 111 in the Z-axis direction, θ X table 5d for rotating semiconductor laser array 111 around the X axis, and θ Y for rotating semiconductor laser array 111 around the Y axis. Table 5e and semiconductor laser array 11
1 and theta Z table 5f is rotated about the Z axis, and a laser driving unit 6 for driving the semiconductor laser array 111, the light amount detection unit 7 for detecting the amount based optical sensors 30 a to 30 d, the detection signals of 3A~3F And are connected respectively.

【0025】次に、この光源アレイ位置調整装置1の動
作を説明する。
Next, the operation of the light source array position adjusting device 1 will be described.

【0026】図9および図10は、光源アレイ位置調整
装置1の動作を説明するためのフローチャートである。
FIG. 9 and FIG. 10 are flowcharts for explaining the operation of the light source array position adjusting device 1.

【0027】制御部4は、レーザ駆動部6を制御して半
導体レーザアレイ111の中心に位置する4つの半導体
レーザ110(6,600) ,110(6,601) ,110
(7,600) ,110(7,601) を同じ発光光量で発光させ
る。制御部4は、光量検出部7からの光量検出信号に基
づいて中央の4つの光センサ30a,30b,30c,
30dが、4つの半導体レーザ110(6,600) ,110
(6,601) ,110(7,600) ,110(7,601) からのレー
ザビームのスポット4をそれぞれ捕らえるように、Xテ
ーブル5aおよびZテーブル5cによって半導体レーザ
アレイ101のX軸方向とZ軸方向の位置を粗調整する
(手順1) 。
The controller 4 controls the laser driver 6 to control the four semiconductor lasers 110 (6,600) , 110 (6,601) , 110 located at the center of the semiconductor laser array 111.
(7,600) and 110 (7,601) are caused to emit light with the same light emission amount. The control unit 4 controls the four central optical sensors 30a, 30b, 30c, based on the light amount detection signal from the light amount detection unit 7.
30d includes four semiconductor lasers 110 (6,600) , 110
The X table 5a and the Z table 5c roughly position the semiconductor laser array 101 in the X-axis direction and the Z-axis direction so as to capture the spots 4 of the laser beams from (6,601 ) , 110 (7,600) , and 110 (7,601) , respectively. Adjust (Procedure 1).

【0028】図8は、光センサ30a〜30dに入射す
るレーザビームのスポット4を示す。本実施の形態で
は、1つの光センサ30a〜30dの大きさを発光した
4つのレーザビームのスポット4をすべて捕らえられる
大きさにし、かつ、光センサ30a〜30d間の距離を
光センサ30a〜30d上でスポット径Dより小さい値
としているので、4つの光センサ30a〜30dのいず
れかで4つのレーザビームのスポット4のいずれかを捕
らえるように半導体レーザアレイ111の位置を調整で
きれば、半導体レーザアレイ111のX軸方向とZ軸方
向の調整方向が一意的に求まる。例えば、図8(a) に示
すように、4つの光センサ30a〜30dのうち1つの
光センサ30aで発光した4つのレーザビームのスポッ
ト4の1つ分の光量だけを捕らえ、他の3つの光センサ
30b,30c,30dでは光量を捕らえていない場合
は、4つのレーザビームのスポット4の位置は、図8
(a) に示す位置以外にはない。4つの光センサ30a〜
30dのうち1つの光センサ30aで発光した4つのレ
ーザビームのスポット4のうち2つ分の光量だけを捕ら
え、他の3つの光センサ30b,30c,30dでは光
量を捕らえていない場合は、同図(b) と同図(c) の2通
りの状態が考えられるが、半導体レーザアレイ111を
X軸方向に移動させたとき、同図(d) のように1つの光
センサ30aで発光した4つのレーザビームのスポット
4の4つ分の光量を捕らえたときは、同図(b) の状態に
あったと考えられ、半導体レーザアレイ111をZ軸方
向に移動させたとき、同図(d) のように1つの光センサ
30aで4つ分の光量を捕らえたときは、同図(c) の状
態にあったと考えられる。このように光センサ30a〜
30dが検出した光量に基づいてX軸方向とY軸方向の
位置調整を容易に行え、自動化にも容易に対応できる。
FIG. 8 shows a spot 4 of a laser beam incident on the optical sensors 30a to 30d. In the present embodiment, the size of one optical sensor 30a to 30d is set to a size that can capture all the spots 4 of the four laser beams emitted, and the distance between the optical sensors 30a to 30d is set to the optical sensor 30a to 30d. Since the value is smaller than the spot diameter D, if the position of the semiconductor laser array 111 can be adjusted so that any of the four laser beam spots 4 can be captured by any of the four optical sensors 30a to 30d, the semiconductor laser array can be adjusted. The adjustment directions of the X-axis direction and the Z-axis direction of the 111 are uniquely determined. For example, as shown in FIG. 8A, only the light amount of one of the spots 4 of the four laser beams emitted by one of the four optical sensors 30a to 30d is captured, and the other three are detected. When the optical sensors 30b, 30c, and 30d do not capture the light amount, the position of the spot 4 of the four laser beams is as shown in FIG.
There is no position other than the position shown in (a). Four optical sensors 30a-
In the case where only two of the spots 4 of the four laser beams emitted by one of the optical sensors 30a out of 30d are captured, and the other three optical sensors 30b, 30c, and 30d do not capture the amounts of light, the same applies. The two states shown in FIG. 2B and FIG. 2C can be considered. When the semiconductor laser array 111 is moved in the X-axis direction, light is emitted by one optical sensor 30 a as shown in FIG. It is considered that the state shown in FIG. 4B was obtained when the four light beams of the spot 4 of the four laser beams were captured, and when the semiconductor laser array 111 was moved in the Z-axis direction, the state shown in FIG. When one light sensor 30a captures four light quantities as in ()), it is considered that the state shown in FIG. Thus, the optical sensors 30a to
The position adjustment in the X-axis direction and the Y-axis direction can be easily performed based on the light amount detected by 30d, and automation can be easily supported.

【0029】手順1での調整を保ったまま、さらに、レ
ーザ駆動部6を制御して半導体レーザアレイ111のZ
軸方向の中心であってX軸方向の両端付近の2つの半導
体レーザ110(6,1) ,110(6,1200)を同じ規定の発
光光量で発光させる。まず、光センサ3Aが一方の半導
体レーザ110(6,1) からのレーザビームのスポット4
をスリット2aを介して規定光量を捕らえるようにZテ
ーブル5cによって半導体レーザアレイ111を移動さ
せる。次に、光センサ3Aが規定光量を捕らえたまま、
光センサ3Bが半導体レーザ110(6,1200)からのレー
ザビームのスポット4をスリット2bを介して規定光量
を捕らえるように半導体レーザアレイ111をX軸方向
に移動させるが、半導体レーザアレイ111をX軸方向
に移動させたとき、光センサ3Aで捕らえる光量が規定
値以下になった場合は既定値になるようにθY テーブル
5eによって半導体レーザアレイ101をY軸回りの回
転方向に回転させる(手順2)。ここでは、半導体レー
ザアレイ111をZ軸方向に移動調整してから、X軸方
向に移動調整しているが、先にX軸方向に移動調整して
から、Z軸方向に移動調整してもよい。
While maintaining the adjustment in the procedure 1, the laser driver 6 is further controlled to control the Z of the semiconductor laser array 111.
Two semiconductor lasers 110 (6,1) and 110 (6,1200) near the center in the axial direction and both ends in the X-axis direction emit light with the same prescribed light emission amount. First, the optical sensor 3A detects the spot 4 of the laser beam from one of the semiconductor lasers 110 (6, 1).
The semiconductor laser array 111 is moved by the Z table 5c so as to capture a specified amount of light through the slit 2a. Next, with the optical sensor 3A capturing the specified light amount,
The optical sensor 3B moves the semiconductor laser array 111 in the X-axis direction so that the spot 4 of the laser beam from the semiconductor laser 110 (6,1200) captures a specified amount of light through the slit 2b. If the amount of light captured by the optical sensor 3A becomes less than or equal to a specified value when the semiconductor laser array 101 is moved in the axial direction, the semiconductor laser array 101 is rotated in the rotation direction around the Y axis by the θ Y table 5e so as to become a predetermined value (procedure). 2). Here, the semiconductor laser array 111 is moved and adjusted in the Z-axis direction, and then moved and adjusted in the X-axis direction. Good.

【0030】手順1での調整を保ったまま、および、手
順2での光センサ3Aで規定光量を捕らえたまま、さら
に、レーザ駆動部6を制御して半導体レーザアレイ11
1のZ軸方向の中心でX軸方向の両端付近の2つのレー
ザ半導体レーザ110(6,3),110(6,1198)を同じ規
定の発光光量で発光させる。光センサ3C,3Dがレー
ザ半導体レーザ110(6,3) ,110(6,1198)からのレ
ーザビームのスポット4をピンホール2c,2dを介し
て規定光量を捕らえるように、θZ テーブル5fによっ
て半導体レーザアレイ111をZ軸回りの回転方向に回
転させるが、半導体レーザアレイ111をZ軸回りの回
転方向に回転するとき、光センサ3Bで捕らえる光量が
規定値以下になった場合は、既定値になるようにXテー
ブル5aによって半導体レーザアレイ111をX軸方向
に移動させる(手順3) 。
The laser drive unit 6 is controlled to maintain the semiconductor laser array 11 while maintaining the adjustment in the procedure 1 and capturing the specified amount of light with the optical sensor 3A in the procedure 2.
The two laser semiconductor lasers 110 (6,3) and 110 (6,1198) near the both ends in the X-axis direction at the center of the first Z-axis direction emit light with the same prescribed light emission amount. The θ Z table 5f is used so that the optical sensors 3C and 3D capture the spot 4 of the laser beam from the laser semiconductor lasers 110 (6,3) and 110 (6,1198) via the pinholes 2c and 2d at a specified light amount. The semiconductor laser array 111 is rotated in the direction of rotation about the Z axis. When the semiconductor laser array 111 is rotated in the direction of rotation about the Z axis, if the amount of light captured by the optical sensor 3B falls below a specified value, a default value is set. Then, the semiconductor laser array 111 is moved in the X-axis direction by the X table 5a so as to obtain (Step 3).

【0031】手順1、2、3での調整を保ったまま、さ
らに、レーザ駆動部6を制御して半導体レーザアレイ1
11のX軸方向の中心であってZ軸方向の両端付近の2
つの半導体レーザ110 (1,600),110(12,600)を同
じ規定の発光光量で発光させる。光センサ3E,3Fが
半導体レーザ110 (1,600),110(12,600)からのレ
ーザビームのスポット4をピンホール2e,2fを介し
て同じ光量を捕らえるように半導体レーザアレイ111
をθX テーブル5dによってX軸回りの回転方向に回転
させる(手順4) 。
While maintaining the adjustments in steps 1, 2, and 3, the laser drive section 6 is further controlled to control the semiconductor laser array 1
11 near the center in the X-axis direction and both ends in the Z-axis direction.
The two semiconductor lasers 110 (1,600) and 110 (12,600) emit light with the same prescribed light emission amount. The semiconductor laser array 111 is arranged so that the optical sensors 3E and 3F capture the same amount of light from the laser beam spot 4 from the semiconductor lasers 110 (1,600) and 110 (12,600) via the pinholes 2e and 2f.
Is rotated in the rotation direction around the X axis by the θ X table 5d (procedure 4).

【0032】手順1、2、3、4での調整を保ったま
ま、さらに、光センサ3C〜3Fがレーザビームのスポ
ット4をピンホール2c〜2fを介して規定光量を捕ら
えるようにYテーブル5bによって半導体レーザアレイ
111をY軸方向に移動させる(手順5)。半導体レー
ザアレイ111のY軸方向位置が既定値のときは、レー
ザビーム径が最小となる所謂ビームウェストの位置がピ
ンホール2c〜2fの位置となるために、ピンホール2
c〜2fによってけられる光量が最小となり、光センサ
3C〜3Fが捕らえる光量は最大の既定光量となる。
While maintaining the adjustments in the steps 1, 2, 3, and 4, the optical sensors 3C to 3F further adjust the Y table 5b so that the laser beam spot 4 captures the specified light amount via the pinholes 2c to 2f. Moves the semiconductor laser array 111 in the Y-axis direction (step 5). When the position of the semiconductor laser array 111 in the Y-axis direction is a predetermined value, the position of the so-called beam waist at which the laser beam diameter becomes minimum is the position of the pinholes 2c to 2f.
The amount of light emitted by c to 2f is minimized, and the amount of light captured by the optical sensors 3C to 3F is the maximum predetermined amount of light.

【0033】上述した光源アレイ位置調整装置1によれ
ば、以下の効果が得られる。 (イ) 半導体レーザアレイ111のX軸方向とZ軸方向(
手順1、2) 、Y軸回りの回転方向(手順2)、Z軸回
りの回転方向(手順3) 、X軸回りの回転方向(手順
4) 、Y軸方向(手順5) の6軸すべての調整を容易に
行うことが可能になる。 (ロ) 固定された光検出器30、光センサ3A〜3F、お
よびスポット形成部2によって調整するため、ステージ
の移動等による誤差を排除できることから、調整の精度
が向上し、高速に調整が行える。 (ハ) 同一の固定された光検出器30、光センサ3A〜3
F、およびスポット形成部2によって複数の半導体レー
ザアレイ111を調整することが可能であるため、複数
の半導体レーザアレイ111を同一の位置に調整するこ
とができる。よって、複数の記録媒体上に複数の半導体
レーザアレイによって露光することにより同一の画像を
形成するような光走査装置において、複数の半導体レー
ザアレイによる露光位置誤差を低減することができる。 (ニ) 高価な、2次元CCDカメラ、画像処理装置、高精
度ステージを用いることがないため、コスト低減が図れ
る。
According to the light source array position adjusting device 1 described above, the following effects can be obtained. (A) X-axis direction and Z-axis direction of the semiconductor laser array 111 (
Procedures 1 and 2), all rotation directions around the Y axis (procedure 2), rotation directions around the Z axis (procedure 3), rotation directions around the X axis (procedure 4), and Y axis directions (procedure 5) Can be easily adjusted. (B) Since adjustment is performed by the fixed photodetector 30, the optical sensors 3A to 3F, and the spot forming unit 2, an error due to movement of the stage or the like can be eliminated, so that the accuracy of the adjustment is improved and the adjustment can be performed at high speed. . (C) The same fixed photodetector 30, photosensors 3A to 3A
Since the plurality of semiconductor laser arrays 111 can be adjusted by F and the spot forming unit 2, the plurality of semiconductor laser arrays 111 can be adjusted to the same position. Therefore, in an optical scanning device that forms the same image by exposing a plurality of recording media with a plurality of semiconductor laser arrays, an exposure position error caused by the plurality of semiconductor laser arrays can be reduced. (D) Costs can be reduced because expensive two-dimensional CCD cameras, image processing devices, and high-precision stages are not used.

【0034】なお、本発明は上記実施の形態に限定され
ず、様々な実施の形態が可能である。例えば、光セン
サ、スリット、ピンホールは、それぞれ記載されている
形状、個数に限定するものではなく、同様の働きをする
もので置き換えが可能である。
Note that the present invention is not limited to the above embodiment, and various embodiments are possible. For example, the optical sensor, the slit, and the pinhole are not limited to the shapes and the numbers described, but can be replaced with those having the same function.

【0035】[0035]

【発明の効果】以上説明した通り、本発明の光源アレイ
位置調整方法および光源アレイ位置調整装置によれば、
第1の開孔の光ビームの通過光量に基づいて光源アレイ
の第1の位置調整を行った後、第1の開孔より大きい開
孔面積を有する第2の開孔の光ビームの通過光量に基づ
いて光源アレイの第2の位置調整を行っているので、高
速かつ高精度に位置調整を行うことができる。また、固
定の光センサを用いて光量の検出を行えるので、光セン
サを移動させるためのステージが不要になることから、
コスト低減が図れる。
As described above, according to the light source array position adjusting method and the light source array position adjusting apparatus of the present invention,
After performing the first position adjustment of the light source array based on the amount of light beam passing through the first aperture, the amount of light beam passing through the second aperture having an aperture area larger than the first aperture. , The second position adjustment of the light source array is performed, so that the position can be adjusted at high speed and with high accuracy. In addition, since the amount of light can be detected using a fixed optical sensor, a stage for moving the optical sensor is not required.
Cost reduction can be achieved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の実施の形態に係る光源アレイ位置調整
装置に関し、(a) はX−Y面図、(b) はY−Z面図、
(c) はスポット形成部の半導体レーザアレイ側から見た
正面図である。
1 (a) is an XY plane view, FIG. 1 (b) is a YZ plane view, relating to a light source array position adjusting apparatus according to an embodiment of the present invention.
(c) is a front view of the spot forming portion as viewed from the semiconductor laser array side.

【図2】本実施の形態に係る半導体レーザの配列状態を
示す図である。
FIG. 2 is a diagram showing an arrangement state of the semiconductor laser according to the present embodiment.

【図3】本実施の形態に係る光検出器を示す図である。FIG. 3 is a diagram showing a photodetector according to the present embodiment.

【図4】(a) は、半導体レーザの点灯位置を示し、(b)
は、スポットと光センサとの位置関係を示す図である。
FIG. 4A shows a lighting position of a semiconductor laser, and FIG.
FIG. 3 is a diagram showing a positional relationship between a spot and an optical sensor.

【図5】(a) は、半導体レーザの点灯位置を示し、(b)
は、スポットとスリットとの位置関係を示す図である。
FIG. 5A shows a lighting position of a semiconductor laser, and FIG.
FIG. 4 is a diagram showing a positional relationship between a spot and a slit.

【図6】(a) は、半導体レーザの点灯位置を示し、(b)
は、スポットとピンホールとの位置関係を示す図であ
る。
FIG. 6A shows a lighting position of a semiconductor laser, and FIG.
FIG. 3 is a diagram showing a positional relationship between a spot and a pinhole.

【図7】本実施の形態に係る光源アレイ位置調整装置の
制御系を示すブロック図である。
FIG. 7 is a block diagram showing a control system of the light source array position adjusting device according to the present embodiment.

【図8】(a) 〜(d) は本実施の形態に係る光検出器の光
センサに入射するレーザビームのスポットを示す図であ
る。
FIGS. 8A to 8D are views showing spots of a laser beam incident on an optical sensor of a photodetector according to the present embodiment.

【図9】本実施の形態に係る光源アレイ位置調整装置の
動作を説明するためのフローチャートである。
FIG. 9 is a flowchart for explaining the operation of the light source array position adjusting device according to the present embodiment.

【図10】本実施の形態に係る光源アレイ位置調整装置
の動作を説明するためのフローチャートである。
FIG. 10 is a flowchart for explaining the operation of the light source array position adjusting device according to the present embodiment.

【図11】光走査装置の一例を示し、(a) はX−Y面
図、(b) はY−Z面図である。
FIGS. 11A and 11B show an example of the optical scanning device, wherein FIG. 11A is an XY plane view, and FIG. 11B is a YZ plane view.

【図12】レーザアレイパッケージを示す図である。FIG. 12 is a diagram showing a laser array package.

【図13】従来の光源アレイ位置調整装置の一例を示
し、(a) はX−Y面図、(b) はY−Z面図である。
13A and 13B show an example of a conventional light source array position adjusting device, wherein FIG. 13A is an XY plane view, and FIG. 13B is a YZ plane view.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 光源アレイ位置調整装置 2 スポット形成部 2a,2b スリット 2c〜2f ピンホール 3A〜3F 光センサ 4 スポット 20 角穴 30 光検出器 30a〜30d 光センサ 100 画像露光装置 101 半導体レーザアレイ 110 半導体レーザ 111A レーザアレイパッケージ 112 集光レンズ 113 結像レンズ 114 記録媒体 114a 記録媒体の周面(結像面) 116 光軸 D スポット径 Reference Signs List 1 light source array position adjusting device 2 spot forming unit 2a, 2b slit 2c-2f pinhole 3A-3F optical sensor 4 spot 20 square hole 30 photodetector 30a-30d optical sensor 100 image exposure apparatus 101 semiconductor laser array 110 semiconductor laser 111A Laser array package 112 Condensing lens 113 Imaging lens 114 Recording medium 114a Peripheral surface (imaging plane) of recording medium 116 Optical axis D Spot diameter

Claims (18)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】複数の光ビームを出射する複数の光源を主
走査方向および副走査方向に2次元状に配列してなる光
源アレイと、前記複数の光源から出射された前記複数の
光ビームによって走査される走査面とを備えた光走査装
置において、 所定の開孔面積を有する第1の開孔を前記走査面に相当
する位置に設け、前記第1の開孔の中心に対応する前記
光源を点灯させて前記第1の開孔を通過した前記光ビー
ムの光量を検出し、この検出結果に基づいて前記光源ア
レイの第1の位置調整を行い、 前記所定の開孔面積より小なる開孔面積を有する第2の
開孔を前記走査面に相当する位置に設け、前記第2の開
孔の中心に対応する前記光源を点灯させて前記第2の開
孔を通過した前記光ビームの光量を検出し、この検出結
果に基づいて前記光源アレイの第2の位置調整を行うこ
とを特徴とする光源アレイ位置調整方法。
A light source array in which a plurality of light sources for emitting a plurality of light beams are two-dimensionally arranged in a main scanning direction and a sub-scanning direction; and a plurality of light beams emitted from the plurality of light sources. An optical scanning device having a scanning surface to be scanned, a first aperture having a predetermined aperture area provided at a position corresponding to the scanning surface, and the light source corresponding to a center of the first aperture. Is turned on to detect the light amount of the light beam that has passed through the first opening, and a first position adjustment of the light source array is performed based on the detection result, and an opening smaller than the predetermined opening area is performed. A second aperture having a hole area is provided at a position corresponding to the scanning surface, and the light source corresponding to the center of the second aperture is turned on to light the light beam passing through the second aperture. The light amount is detected, and the light source array is detected based on the detection result. Source array position adjusting method and performing a second alignment of.
【請求項2】前記第1の位置調整は、前記第1の開孔と
してスリットを用いて行う構成の請求項1記載の光源ア
レイ位置調整方法。
2. The light source array position adjusting method according to claim 1, wherein said first position adjustment is performed using a slit as said first opening.
【請求項3】前記第1の位置調整は、前記第1の開孔と
して前記主走査方向に長い第1のスリット、および前記
副走査方向に長い第2のスリットを用いて行う構成の請
求項1記載の光源アレイ位置調整方法。
3. The structure according to claim 1, wherein said first position adjustment is performed using a first slit long in said main scanning direction and a second slit long in said sub-scanning direction as said first aperture. 2. The light source array position adjusting method according to 1.
【請求項4】前記第1の位置調整は、前記第1のスリッ
トおよび前記第2のスリットの各中心に対応する2つの
前記光源を点灯させて前記第1のスリットおよび前記第
2のスリットを通過した2つの前記光ビームの光量を検
出し、この検出結果に基づいて前記主走査方向、前記副
走査方向、前記主走査方向および前記副走査方向に直交
する方向の軸の回りの回転方向について前記光源アレイ
の位置調整を行う構成の請求項3記載の光源アレイ位置
調整方法。
4. The first position adjustment includes turning on the two light sources corresponding to the respective centers of the first slit and the second slit, thereby turning on the first slit and the second slit. The light amounts of the two light beams that have passed are detected, and based on the detection results, the main scanning direction, the sub-scanning direction, and the rotation direction about an axis orthogonal to the main scanning direction and the sub-scanning direction. 4. The light source array position adjusting method according to claim 3, wherein the position of the light source array is adjusted.
【請求項5】前記第2の位置調整は、前記第2の開孔と
してピンホールを用いて行う構成の請求項1記載の光源
アレイ位置調整方法。
5. The light source array position adjusting method according to claim 1, wherein said second position adjustment is performed using a pinhole as said second opening.
【請求項6】前記第2の位置調整は、前記第2の開孔と
して前記主走査方向に所定の距離を設けて配置された第
1および第2のピンホール、および前記副走査方向に所
定の距離を設けて配置された第3および第4のピンホー
ルを用いて行う構成の請求項1記載の光源アレイ位置調
整方法。
6. The second position adjustment includes: a first and a second pinhole arranged as the second opening at a predetermined distance in the main scanning direction; and a predetermined position in the sub-scanning direction. 2. The light source array position adjusting method according to claim 1, wherein the third and fourth pinholes are provided at a distance from each other.
【請求項7】前記第2の位置調整は、前記第1乃至第4
のピンホールに対応する4つの前記光源を点灯させて前
記第1乃至第4のピンホールを通過した4つの前記光ビ
ームの光量を検出し、この検出結果に基づいて前記主走
査方向および前記副走査方向に直交する方向、前記主走
査方向の軸の回りの回転方向、および前記副走査方向の
軸の回りの回転方向について前記光源アレイの位置調整
を行う構成の請求項6記載の光源アレイ位置調整方法。
7. The method according to claim 1, wherein the second position adjustment is performed by using the first to fourth positions.
The four light sources corresponding to the pinholes are turned on to detect the light amounts of the four light beams passing through the first to fourth pinholes, and the main scanning direction and the sub-scanning direction are determined based on the detection results. 7. The light source array position according to claim 6, wherein the position of the light source array is adjusted in a direction orthogonal to a scanning direction, a rotation direction around an axis in the main scanning direction, and a rotation direction around an axis in the sub-scanning direction. Adjustment method.
【請求項8】前記第1の位置調整は、前記光源アレイの
中央付近の4つの前記光源を点灯させ、前記4つの光源
から出射された4つの前記光ビームの光量を4つの光セ
ンサによりそれぞれ検出し、この検出結果に基づいて前
記主走査方向および前記副走査方向の前記光源アレイの
位置調整を行った後に行う構成の請求項1記載の光源ア
レイ位置調整方法。
8. The first position adjustment includes turning on the four light sources near the center of the light source array, and controlling the light amounts of the four light beams emitted from the four light sources by four light sensors, respectively. 2. The light source array position adjusting method according to claim 1, wherein the light source array position adjusting method is performed after detecting and performing position adjustment of the light source array in the main scanning direction and the sub-scanning direction based on the detection result.
【請求項9】複数の光ビームを出射する複数の光源を主
走査方向および副走査方向に2次元状に配列してなる光
源アレイと、前記複数の光源から出射された前記複数の
光ビームによって走査される走査面とを備えた光走査装
置において、 前記光源アレイを前記主走査方向、前記副走査方向、前
記主走査方向および前記副走査方向に直交する方向、前
記主走査方向の軸の回りの回転方向、前記副走査方向の
軸の回りの回転方向、および前記主走査方向および前記
副走査方向に直交する方向の軸の回りの回転方向に位置
調整可能に保持する前記光源アレイ保持手段と、 前記走査面に相当する位置に設けられ、所定の開孔面積
を有する第1の開孔、および前記所定の開孔面積より小
なる開孔面積を有する第2の開孔を備えた遮光手段と、 前記第1の開孔の中心に対応する前記光源を点灯させて
前記第1の開孔を通過した前記光ビームの光量を検出す
る第1の光検出手段と、 前記第2の開孔の中心に対応する前記光源を点灯させて
前記第2の開孔を通過した前記光ビームの光量を検出す
る第2の光検出手段とを備えたことを特徴とする光源ア
レイ位置調整装置。
9. A light source array in which a plurality of light sources for emitting a plurality of light beams are two-dimensionally arranged in a main scanning direction and a sub-scanning direction, and a plurality of light beams emitted from the plurality of light sources are provided. An optical scanning device having a scanning surface to be scanned, wherein the light source array is arranged in the main scanning direction, the sub-scanning direction, a direction orthogonal to the main scanning direction and the sub-scanning direction, and around an axis in the main scanning direction. The light source array holding means for holding the position so as to be adjustable in the rotation direction, the rotation direction about the axis in the sub-scanning direction, and the rotation direction about an axis orthogonal to the main scanning direction and the sub-scanning direction. A light-shielding means provided at a position corresponding to the scanning surface and provided with a first opening having a predetermined opening area and a second opening having an opening area smaller than the predetermined opening area; And the first First light detection means for turning on the light source corresponding to the center of the aperture to detect the amount of the light beam passing through the first aperture, and the light source corresponding to the center of the second aperture; And a second light detecting means for turning on the light source and detecting the light amount of the light beam passing through the second opening.
【請求項10】前記遮光手段は、前記第1の開孔として
スリットを備えた構成の請求項9記載の光源アレイ位置
調整装置。
10. The light source array position adjusting device according to claim 9, wherein said light shielding means has a slit as said first opening.
【請求項11】前記スリットは、長辺は前記スリット上
で隣り合う2つの光ビームのスポツト間隔より大なる長
さを有し、短辺は前記スリット上で光ビームのスポット
径より大きく隣り合う2つのスポット間隔より小なる長
さを有する構成の請求項10記載の光ビーム位置調整装
置。
11. The slit has a longer side longer than a spot interval between two adjacent light beams on the slit, and a shorter side adjacent to the slit larger than the spot diameter of the light beam on the slit. 11. The light beam position adjusting device according to claim 10, wherein the light beam position adjusting device has a length smaller than a distance between two spots.
【請求項12】前記遮光手段は、前記第1の開孔として
前記主走査方向に長い第1のスリット、および前記副走
査方向に長い第2のスリットを備え、 前記第1の光検出手段は、前記第1のスリットの中心に
対応する1つの前記光源を点灯させて前記第1のスリッ
トを通過した1つの前記光ビームの光量を検出する第1
の光センサと、前記第2のスリットの中心に対応する1
つの前記光源を点灯させて前記第2のスリットを通過し
た1つの前記光ビームの光量を検出する第2の光センサ
とを備えた構成の請求項9記載の光源アレイ位置調整装
置。
12. The light-shielding means includes a first slit which is long in the main scanning direction and a second slit which is long in the sub-scanning direction, as the first opening. Illuminating one light source corresponding to the center of the first slit to detect the amount of light of one light beam passing through the first slit;
And a light sensor corresponding to the center of the second slit.
The light source array position adjusting device according to claim 9, further comprising: a second light sensor configured to turn on the light sources and detect a light amount of the one light beam that has passed through the second slit.
【請求項13】前記遮光手段は、前記第2の開孔として
ピンホールを備えた構成の請求項9記載の光源アレイ位
置調整装置。
13. The light source array position adjusting device according to claim 9, wherein said light shielding means has a pinhole as said second opening.
【請求項14】前記ピンホールは、前記ピンホール上で
前記光ビームの径より大なる径を有する構成の請求項1
3記載の光源アレイ位置調整装置。
14. A structure according to claim 1, wherein said pinhole has a diameter on said pinhole larger than a diameter of said light beam.
3. The light source array position adjusting device according to 3.
【請求項15】前記遮光手段は、前記第2の開孔として
前記主走査方向に所定の距離を設けて配置された第1お
よび第2のピンホール、および前記副走査方向に所定の
距離を設けて配置された第3および第4のピンホールを
備え、 前記第2の光検出手段は、前記第1乃至第4のピンホー
ルに対応する4つの前記光源を点灯させて前記第1乃至
第4のピンホールを通過した4つの前記光ビームの光量
をそれぞれ検出する第1乃至第4の光センサとを備えた
構成の請求項9記載の光源アレイ位置調整装置。
15. The light-shielding means includes first and second pinholes provided as the second apertures at a predetermined distance in the main scanning direction, and a predetermined distance in the sub-scanning direction. And third and fourth pinholes provided and arranged, wherein the second light detection means turns on the four light sources corresponding to the first to fourth pinholes and turns on the first to fourth pinholes. 10. The light source array position adjusting device according to claim 9, comprising first to fourth optical sensors for respectively detecting the light amounts of the four light beams passing through the four pinholes.
【請求項16】複数の光ビームを出射する複数の光源を
主走査方向および副走査方向に2次元状に配列してなる
光源アレイと、前記複数の光源から出射された前記複数
の光ビームによって走査される走査面とを備えた光走査
装置において、 前記光源アレイを前記主走査方向、前記副走査方向、前
記主走査方向および前記副走査方向に直交する方向、前
記主走査方向の軸の回りの回転方向、前記副走査方向の
軸の回りの回転方向、および前記主走査方向および前記
副走査方向に直交する方向の軸の回りの回転方向に位置
調整可能に保持する前記光源アレイ保持手段と、 前記走査面に相当する位置に設けられ、所定の開孔面積
を有する第1の開孔、および前記所定の開孔面積より小
なる開孔面積を有する第2の開孔を備えた遮光手段と、 前記光源アレイの中央付近の4つの前記光源を点灯させ
て前記4つの光源から出射された4つの前記光ビームの
光量を検出する4つの光センサと、 前記第1の開孔の中心に対応する前記光源を点灯させて
前記第1の開孔を通過した前記光ビームの光量を検出す
る第1の光検出手段と、 前記第2の開孔の中心に対応する前記光源を点灯させて
前記第2の開孔を通過した前記光ビームの光量を検出す
る第2の光検出手段とを備えたことを特徴とする光源ア
レイ位置調整装置。
16. A light source array in which a plurality of light sources for emitting a plurality of light beams are two-dimensionally arranged in a main scanning direction and a sub-scanning direction, and a plurality of light beams emitted from the plurality of light sources are provided. An optical scanning device having a scanning surface to be scanned, wherein the light source array is arranged in the main scanning direction, the sub-scanning direction, a direction orthogonal to the main scanning direction and the sub-scanning direction, and around an axis in the main scanning direction. The light source array holding means for holding the position so as to be adjustable in the rotation direction, the rotation direction about the axis in the sub-scanning direction, and the rotation direction about an axis orthogonal to the main scanning direction and the sub-scanning direction. A light-shielding means provided at a position corresponding to the scanning surface and provided with a first opening having a predetermined opening area and a second opening having an opening area smaller than the predetermined opening area; And the light Four light sensors for turning on the four light sources near the center of the array and detecting the light amounts of the four light beams emitted from the four light sources, and the light source corresponding to the center of the first aperture A first light detecting means for turning on a light source to detect a light amount of the light beam passing through the first opening; and turning on the second light source by turning on the light source corresponding to the center of the second opening. A light source array position adjusting device, comprising: a second light detecting means for detecting a light amount of the light beam having passed through the aperture.
【請求項17】前記4つの光センサは、1つの前記光セ
ンサが前記4つの光ビームを受光し得る受光面積を有す
る構成の請求項16記載の光源アレイ位置調整装置。
17. The light source array position adjusting device according to claim 16, wherein said four light sensors have a light receiving area capable of receiving one of said four light beams.
【請求項18】複数の光ビームを出射する複数の光源を
主走査方向および副走査方向に2次元状に配列してなる
光源アレイと、前記複数の光源から出射された前記複数
の光ビームによって走査される走査面とを備えた光走査
装置において、 前記光源アレイを前記主走査方向、前記副走査方向、前
記主走査方向および前記副走査方向に直交する方向、前
記主走査方向の軸の回りの回転方向、前記副走査方向の
軸の回りの回転方向、および前記主走査方向および前記
副走査方向に直交する方向の軸の回りの回転方向に位置
調整可能に保持する前記光源アレイ保持手段と、 前記走査面に相当する位置に設けられ、所定の開孔面積
を有する第1の開孔、および前記所定の開孔面積より小
なる開孔面積を有する第2の開孔を備えた遮光手段と、 前記第1の開孔の中心に対応する前記光源を点灯させて
前記第1の開孔を通過した前記光ビームの光量を検出す
る第1の光検出手段と、 前記第2の開孔の中心に対応する前記光源を点灯させて
前記第2の開孔を通過した前記光ビームの光量を検出す
る第2の光検出手段と、 前記第1の光検出手段および前記第2の光検出手段が検
出した前記光量に基づいて前記光源アレイ保持手段を制
御して前記光源アレイを最適な位置に調整する制御手段
とを備えたことを特徴とする光源アレイ位置調整装置。
18. A light source array in which a plurality of light sources for emitting a plurality of light beams are two-dimensionally arranged in a main scanning direction and a sub-scanning direction, and a plurality of light beams emitted from the plurality of light sources are provided. An optical scanning device having a scanning surface to be scanned, wherein the light source array is arranged in the main scanning direction, the sub-scanning direction, a direction orthogonal to the main scanning direction and the sub-scanning direction, and around an axis in the main scanning direction. The light source array holding means for holding the position so as to be adjustable in the rotation direction, the rotation direction about the axis in the sub-scanning direction, and the rotation direction about an axis orthogonal to the main scanning direction and the sub-scanning direction. A light-shielding means provided at a position corresponding to the scanning surface and provided with a first opening having a predetermined opening area and a second opening having an opening area smaller than the predetermined opening area; And the second First light detecting means for turning on the light source corresponding to the center of the aperture and detecting the light amount of the light beam passing through the first aperture; and corresponding to the center of the second aperture A second light detection unit that turns on the light source and detects a light amount of the light beam that has passed through the second opening; and the first light detection unit and the second light detection unit detect the light amount. Control means for controlling the light source array holding means based on the amount of light to adjust the light source array to an optimum position.
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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100903900B1 (en) 2007-11-07 2009-06-19 삼성중공업 주식회사 Alignment method and apparatus of multi laser vision system
KR20230127789A (en) * 2022-02-25 2023-09-01 국방과학연구소 Apparatus and method for aligning a divergence angle of a laser signal in a system of identification of a friend or foe using laser

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