JP2000063309A - 新規なビスフェノール化合物 - Google Patents
新規なビスフェノール化合物Info
- Publication number
- JP2000063309A JP2000063309A JP10232888A JP23288898A JP2000063309A JP 2000063309 A JP2000063309 A JP 2000063309A JP 10232888 A JP10232888 A JP 10232888A JP 23288898 A JP23288898 A JP 23288898A JP 2000063309 A JP2000063309 A JP 2000063309A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- hydroxycyclohexyl
- bisphenol compound
- group
- acid
- reaction
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- -1 bisphenol compound Chemical class 0.000 title claims abstract description 41
- 229930185605 Bisphenol Natural products 0.000 title claims description 28
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims abstract description 9
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims abstract description 8
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 6
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 5
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 4
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 10
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N phenol group Chemical group C1(=CC=CC=C1)O ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 19
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 13
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 10
- 239000007789 gas Substances 0.000 abstract description 8
- IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N hydrogen chloride Substances Cl.Cl IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 8
- 229910000041 hydrogen chloride Inorganic materials 0.000 abstract description 8
- RHBYPVNVDQMSFG-UHFFFAOYSA-N 4-(4-hydroxycyclohexyl)cyclohexan-1-one Chemical compound C1CC(O)CCC1C1CCC(=O)CC1 RHBYPVNVDQMSFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 6
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 abstract description 6
- 239000003377 acid catalyst Substances 0.000 abstract description 5
- 239000007810 chemical reaction solvent Substances 0.000 abstract description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 4
- YVMCUMQKCSEKOT-UHFFFAOYSA-N 4-[4-(4-hydroxycyclohexyl)-1-(4-hydroxyphenyl)cyclohexyl]phenol Chemical compound C1CC(O)CCC1C1CCC(C=2C=CC(O)=CC=2)(C=2C=CC(O)=CC=2)CC1 YVMCUMQKCSEKOT-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 3
- 238000003756 stirring Methods 0.000 abstract description 3
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 abstract description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 abstract description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 17
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 9
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 9
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 8
- QWVGKYWNOKOFNN-UHFFFAOYSA-N o-cresol Chemical compound CC1=CC=CC=C1O QWVGKYWNOKOFNN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 235000013824 polyphenols Nutrition 0.000 description 8
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 8
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 7
- NXXYKOUNUYWIHA-UHFFFAOYSA-N 2,6-Dimethylphenol Chemical compound CC1=CC=CC(C)=C1O NXXYKOUNUYWIHA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 5
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 5
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 5
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 5
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 4
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 4
- RWGFKTVRMDUZSP-UHFFFAOYSA-N cumene Chemical compound CC(C)C1=CC=CC=C1 RWGFKTVRMDUZSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 4
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 4
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 4
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 4
- HXVNBWAKAOHACI-UHFFFAOYSA-N 2,4-dimethyl-3-pentanone Chemical compound CC(C)C(=O)C(C)C HXVNBWAKAOHACI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WFDIJRYMOXRFFG-UHFFFAOYSA-N Acetic anhydride Chemical compound CC(=O)OC(C)=O WFDIJRYMOXRFFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MAXQSPLCXYDTLB-UHFFFAOYSA-N CC1=CC(=CC(=C1O)C)C2(CCC(CC2)C3CCC(CC3)O)C4=CC(=C(C(=C4)C)O)C Chemical compound CC1=CC(=CC(=C1O)C)C2(CCC(CC2)C3CCC(CC3)O)C4=CC(=C(C(=C4)C)O)C MAXQSPLCXYDTLB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000000862 absorption spectrum Methods 0.000 description 3
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 3
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 238000005984 hydrogenation reaction Methods 0.000 description 3
- 238000001819 mass spectrum Methods 0.000 description 3
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 3
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 3
- 238000000425 proton nuclear magnetic resonance spectrum Methods 0.000 description 3
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 3
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 3
- OGRAOKJKVGDSFR-UHFFFAOYSA-N 2,3,5-trimethylphenol Chemical compound CC1=CC(C)=C(C)C(O)=C1 OGRAOKJKVGDSFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CRBJBYGJVIBWIY-UHFFFAOYSA-N 2-isopropylphenol Chemical compound CC(C)C1=CC=CC=C1O CRBJBYGJVIBWIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- TUAMRELNJMMDMT-UHFFFAOYSA-N 3,5-xylenol Chemical compound CC1=CC(C)=CC(O)=C1 TUAMRELNJMMDMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SLJYPZJZQIHNGU-UHFFFAOYSA-N 4-(4-hydroxyphenyl)cyclohexan-1-one Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1C1CCC(=O)CC1 SLJYPZJZQIHNGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N Epichlorohydrin Chemical compound ClCC1CO1 BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VQTUBCCKSQIDNK-UHFFFAOYSA-N Isobutene Chemical compound CC(C)=C VQTUBCCKSQIDNK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N Methanesulfonic acid Chemical compound CS(O)(=O)=O AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N Tert-Butanol Chemical compound CC(C)(C)O DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-N Trifluoroacetic acid Chemical compound OC(=O)C(F)(F)F DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000008065 acid anhydrides Chemical class 0.000 description 2
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 2
- 150000001350 alkyl halides Chemical class 0.000 description 2
- 239000002585 base Substances 0.000 description 2
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical class C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 2
- GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N diglycidyl ether Chemical compound C1OC1COCC1CO1 GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 2
- 230000000855 fungicidal effect Effects 0.000 description 2
- 239000000417 fungicide Substances 0.000 description 2
- 230000002140 halogenating effect Effects 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- ZXEKIIBDNHEJCQ-UHFFFAOYSA-N isobutanol Chemical compound CC(C)CO ZXEKIIBDNHEJCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- RLSSMJSEOOYNOY-UHFFFAOYSA-N m-cresol Chemical compound CC1=CC=CC(O)=C1 RLSSMJSEOOYNOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N methanoic acid Natural products OC=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 2
- IWDCLRJOBJJRNH-UHFFFAOYSA-N p-cresol Chemical compound CC1=CC=C(O)C=C1 IWDCLRJOBJJRNH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 2
- BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L potassium carbonate Chemical compound [K+].[K+].[O-]C([O-])=O BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 2
- JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N toluene-4-sulfonic acid Chemical compound CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 2
- DNIAPMSPPWPWGF-GSVOUGTGSA-N (R)-(-)-Propylene glycol Chemical compound C[C@@H](O)CO DNIAPMSPPWPWGF-GSVOUGTGSA-N 0.000 description 1
- JEFSTMHERNSDBC-UHFFFAOYSA-N 1,2-dimethylcyclohexa-2,4-dien-1-ol Chemical compound CC1=CC=CCC1(C)O JEFSTMHERNSDBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BANXSYOXVMOCKA-UHFFFAOYSA-N 2-(4-hydroxycyclohexyl)cyclohexan-1-one Chemical compound O=C1C(CCCC1)C1CCC(CC1)O BANXSYOXVMOCKA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NGNBDVOYPDDBFK-UHFFFAOYSA-N 2-[2,4-di(pentan-2-yl)phenoxy]acetyl chloride Chemical compound CCCC(C)C1=CC=C(OCC(Cl)=O)C(C(C)CCC)=C1 NGNBDVOYPDDBFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SRGATTGYDONWOU-UHFFFAOYSA-N 2-cyclohexyl-5-methylphenol Chemical compound OC1=CC(C)=CC=C1C1CCCCC1 SRGATTGYDONWOU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MVRPPTGLVPEMPI-UHFFFAOYSA-N 2-cyclohexylphenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1C1CCCCC1 MVRPPTGLVPEMPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XOUQAVYLRNOXDO-UHFFFAOYSA-N 2-tert-butyl-5-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(C(C)(C)C)C(O)=C1 XOUQAVYLRNOXDO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HXVMQDBXJZKLEV-UHFFFAOYSA-N 2-tert-butyl-6-phenylphenol Chemical compound CC(C)(C)C1=CC=CC(C=2C=CC=CC=2)=C1O HXVMQDBXJZKLEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QQOMQLYQAXGHSU-UHFFFAOYSA-N 236TMPh Natural products CC1=CC=C(C)C(O)=C1C QQOMQLYQAXGHSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 4-(3-methoxyphenyl)aniline Chemical compound COC1=CC=CC(C=2C=CC(N)=CC=2)=C1 OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- 239000002841 Lewis acid Substances 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LSDPWZHWYPCBBB-UHFFFAOYSA-N Methanethiol Chemical compound SC LSDPWZHWYPCBBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IOVCWXUNBOPUCH-UHFFFAOYSA-N Nitrous acid Chemical compound ON=O IOVCWXUNBOPUCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PQOJVZCBFDYEEI-UHFFFAOYSA-N OC1CCC(CC1)C1CCC(CC1)(C1=CC(=C(C=C1)O)C)C1=CC(=C(C=C1)O)C Chemical compound OC1CCC(CC1)C1CCC(CC1)(C1=CC(=C(C=C1)O)C)C1=CC(=C(C=C1)O)C PQOJVZCBFDYEEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006085 Schmidt reaction Methods 0.000 description 1
- 239000002250 absorbent Substances 0.000 description 1
- 230000002745 absorbent Effects 0.000 description 1
- GPFIZJURHXINSQ-UHFFFAOYSA-N acetic acid;nitric acid Chemical compound CC(O)=O.O[N+]([O-])=O GPFIZJURHXINSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WETWJCDKMRHUPV-UHFFFAOYSA-N acetyl chloride Chemical compound CC(Cl)=O WETWJCDKMRHUPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012346 acetyl chloride Substances 0.000 description 1
- 230000021736 acetylation Effects 0.000 description 1
- 238000006640 acetylation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 description 1
- 238000005804 alkylation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000000844 anti-bacterial effect Effects 0.000 description 1
- 239000003899 bactericide agent Substances 0.000 description 1
- LLEMOWNGBBNAJR-UHFFFAOYSA-N biphenyl-2-ol Chemical compound OC1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 LLEMOWNGBBNAJR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 1
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001728 carbonyl compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 1
- 239000003426 co-catalyst Substances 0.000 description 1
- 150000004292 cyclic ethers Chemical class 0.000 description 1
- 125000001511 cyclopentyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 1
- 239000012954 diazonium Substances 0.000 description 1
- 150000001989 diazonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000003989 dielectric material Substances 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000005562 fading Methods 0.000 description 1
- 235000019253 formic acid Nutrition 0.000 description 1
- 230000022244 formylation Effects 0.000 description 1
- 238000006170 formylation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000010574 gas phase reaction Methods 0.000 description 1
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 1
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940035429 isobutyl alcohol Drugs 0.000 description 1
- 150000007517 lewis acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 229940098779 methanesulfonic acid Drugs 0.000 description 1
- WSFSSNUMVMOOMR-NJFSPNSNSA-N methanone Chemical compound O=[14CH2] WSFSSNUMVMOOMR-NJFSPNSNSA-N 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 1
- 230000000802 nitrating effect Effects 0.000 description 1
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 1
- KZCOBXFFBQJQHH-UHFFFAOYSA-N octane-1-thiol Chemical compound CCCCCCCCS KZCOBXFFBQJQHH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N olefin Natural products CCCCCCCC=C JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 1
- 235000011007 phosphoric acid Nutrition 0.000 description 1
- 125000003367 polycyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 229910000027 potassium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003449 preventive effect Effects 0.000 description 1
- 238000007670 refining Methods 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 239000003566 sealing material Substances 0.000 description 1
- 125000000467 secondary amino group Chemical class [H]N([*:1])[*:2] 0.000 description 1
- AKEJUJNQAAGONA-UHFFFAOYSA-N sulfur trioxide Inorganic materials O=S(=O)=O AKEJUJNQAAGONA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OQJMGZJRJMANIW-UHFFFAOYSA-N tert-butyl 2-[2-[(2-methylpropan-2-yl)oxy]-2-oxoethoxy]acetate Chemical group CC(C)(C)OC(=O)COCC(=O)OC(C)(C)C OQJMGZJRJMANIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KUYMVWXKHQSIAS-UHFFFAOYSA-N tert-butyl 2-chloroacetate Chemical compound CC(C)(C)OC(=O)CCl KUYMVWXKHQSIAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YNJBWRMUSHSURL-UHFFFAOYSA-N trichloroacetic acid Chemical compound OC(=O)C(Cl)(Cl)Cl YNJBWRMUSHSURL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-N triflic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C(F)(F)F ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C37/00—Preparation of compounds having hydroxy or O-metal groups bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring
- C07C37/11—Preparation of compounds having hydroxy or O-metal groups bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring by reactions increasing the number of carbon atoms
- C07C37/20—Preparation of compounds having hydroxy or O-metal groups bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring by reactions increasing the number of carbon atoms using aldehydes or ketones
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C2601/00—Systems containing only non-condensed rings
- C07C2601/12—Systems containing only non-condensed rings with a six-membered ring
- C07C2601/14—The ring being saturated
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
なビスフェノール化合物を提供することにある。 【解決手段】本発明によれば、一般式(I) 【化1】 (式中、Arは一般式(II) 【化2】 (式中、R1 は炭素数1〜4のアルキル基を示し、R2
は炭素数5若しくは6のシクロアルキル基を示し、R3
はフェニル基を示し、mは0〜3の整数を示し、n及び
kはそれぞれ、0〜2の整数を示し、m+n+k≦3で
ある。)で表わされるアリール基を示す。)で表わされ
るビスフェノール化合物が提供される。
Description
キシシクロヘキシル)シクロヘキシリデン基を介して2
つのフェノール構造が結合されてなる親油性の高い新規
なビスフェノール化合物に関する。このような多核体ポ
リフェノール化合物は、半導体用フォトレジスト等の感
光性材料の基材、電子光学表示要素用の液晶誘電体化合
物の原料、集積回路の封止材料等に用いられるエポキシ
樹脂の原料や硬化剤、感熱記録材料記録に用いられる顕
色剤や退色防止剤、このほか、殺菌剤、防菌防カビ剤等
の添加剤としても有用である。 【0002】 【従来の技術】本発明者らは、分子中にシクロヘキサン
環を有するために高い親油性を有し、しかも、分子構造
が非対称であるために、一層、親油性が高いビスフェノ
ール化合物を得るべく、鋭意研究した結果、4−(4'−
ヒドロキシシクロヘキシル)シクロヘキシリデン基を介
して2つのフェノール構造が結合されてなる新規なビス
フェノール化合物を得て、本発明に至ったものである。 【0003】 【発明が解決しようとする課題】従って、本発明は、親
油性の高いシクロヘキサン骨格を有する新規なビスフェ
ノール化合物を提供することを目的とする。 【0004】 【課題を解決するための手段】本発明によれば、一般式
(I) 【0005】 【化3】 【0006】(式中、Arは一般式(II) 【0007】 【化4】 【0008】(式中、R1 は炭素数1〜4のアルキル基
を示し、R2 は炭素数5若しくは6のシクロアルキル基
を示し、R3 はフェニル基を示し、mは0〜3の整数を
示し、n及びkはそれぞれ、0〜2の整数を示し、m+
n+k≦3である。)で表わされるアリール基を示
す。)で表わされるビスフェノール化合物が提供され
る。 【0009】 【発明の実施の形態】本発明によるビスフェノール化合
物は、上記一般式(I)で表わされ、上記一般式(II)
で表わされるアリール基において、R1 は炭素数1〜4
のアルキル基を示し、具体的には、メチル基、エチル
基、プロピル基又はブチル基であり、プロピル基又はブ
チル基は、直鎖状でも、分岐鎖状でもよい。R2 は炭素
数5又は6のシクロアルキル基であり、具体的には、シ
クロペンチル基又はシクロヘキシル基であり、好ましく
は、シクロヘキシル基である。R3 はフェニル基を示
す。mは0〜3の整数を示し、n及びkはそれぞれ、0
〜2の整数を示し、m+n+k≦3である。また、上記
一般式(II)で表わされるアリール基は、アルキル置換
−4−ヒドロキシフェニル基であることが好ましい。 【0010】従って、本発明による好ましいビスフェノ
ール化合物の具体例として、例えば、(1)4−(4'−
ヒドロキシシクロヘキシル)−1,1−ビス(4−ヒドロ
キシフェニル)シクロヘキサン、(2)4−(4'−ヒド
ロキシシクロヘキシル)−1,1−ビス(3−メチル−4
−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン、(3)4−
(4'−ヒドロキシシクロヘキシル)−1,1−ビス(3,5
−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン
等を挙げることができるが、しかし、これらに限定され
るものではない。 【0011】このような本発明によるビスフェノール化
合物は、必要に応じて、反応溶剤中、酸触媒の存在下
に、4−(4−ヒドロキシシクロヘキシル)シクロヘキ
サノンに一般式(III) 【0012】 【化5】【0013】(式中、R1 は炭素数1〜4のアルキル基
を示し、R2 は炭素数5若しくは6のシクロアルキル基
を示し、R3 はフェニル基を示し、mは0〜3の整数を
示し、n及びkはそれぞれ、0〜2の整数を示し、m+
n+k≦3である。)で表わされるフェノール類を反応
させることによって得ることができる。このフェノール
類において、R1 、R2 及びR3 は前述したとおりであ
り、好ましくは、水酸基のp位は非置換である。 【0014】従って、本発明によるビスフェノール化合
物の製造において、上記一般式(III)で表わされるフェ
ノール類の具体例として、例えば、フェノール、o−、
m−又はp−クレゾール、2,3−、2,4−、2,5−、2,
6−又は3,5−キシレノール、2,3,5−トリメチルフェ
ノール、3−メチル−6−t−ブチルフェノール、2−
イソプロピルフェノール、2−シクロヘキシルフェノー
ル、3−メチル−6−シクロヘキシルフェノール、2−
フェニルフェノール、2−t−ブチル−6−フェニルフ
ェノール等を挙げることができる。これらのなかでは、
特に、フェノール、o−クレゾール又は2,6−キシレノ
ールが好ましく用いられる。 【0015】上記フェノール類と4−(4−ヒドロキシ
フェニル)シクロヘキサノンとの反応において、フェノ
ール類は、4−(4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキ
サノン1モル部に対して、通常、4〜20モル部の範囲
で用いられる。 【0016】上記フェノール類と4−(4−ヒドロキシ
シクロヘキシル)シクロヘキサノンとの反応において、
反応溶剤は用いてもよく、また、用いなくてもよい。反
応溶剤を用いる場合、例えば、脂肪族アルコール、芳香
族炭化水素又はこれらの混合溶剤が用いられる。アルコ
ールとしては、用いる反応原料、得られる生成物の溶解
度、反応条件、反応の経済性等を考慮して、メタノー
ル、エタノール、イソプロピルアルコール、n−プロピ
ルアルコール、t−ブチルアルコール、イソブチルアル
コール、n−ブチルアルコール等を挙げることができ
る。また、芳香族炭化水素溶剤としては、例えば、トル
エン、キシレン、クメン等を挙げることができる。 こ
のような溶剤は、通常、用いる4−(4−ヒドロキシシ
クロヘキシル)シクロヘキサノン100重量部に対し
て、100〜500重量部の範囲で用いられるが、これ
に限定されるものではない。 【0017】本発明において、上記酸触媒としては、乾
燥塩化水素ガスが好ましく用いられるが、しかし、これ
に限定されるものではなく、例えば、塩酸、硫酸、無水
硫酸、p−トルエンスルホン酸、メタンスルホン酸、ト
リフルオロメタンスルホン酸、シュウ酸、ギ酸、リン
酸、トリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸等も用いられ
る。酸触媒として、乾燥塩化水素ガスを用いる場合は、
好ましくは、反応系内を飽和させる量にて用いられる。
また、好ましくは、反応系内に塩化水素ガスを吸収する
吸収剤、例えば、水やメタノールを少量、存在させるこ
とが好ましい。更に、本発明によれば、反応を促進する
ために、メルカプタン等(例えば、オクチルメルカプタ
ン)の助触媒を用いることができる。 【0018】反応は、通常、20℃から80℃、好まし
くは、20〜50℃にて、反応器中の反応混合物に乾燥
塩化水素ガスを吹き込みながら、攪拌下、2〜48時間
程度、通常、6〜24時間程度行なえばよい。 【0019】反応終了後、通常、得られた反応混合物に
晶析溶剤と共にアルカリを加えて、酸触媒を中和した
後、水層を分離除去し、必要に応じて、得られた有機層
を常圧又は減圧下に蒸留した後、これに適宜の晶析溶剤
を加えて、粗結晶を析出させ、次いで、この粗結晶を濾
取し、これを更に適宜の晶析溶剤から晶析させることに
よって、目的とするビスフェノール化合物の高純度品を
容易に得ることができる。 【0020】上記晶析溶剤としては、具体的には、晶析
条件、精製効果、経済性等を考慮して、適宜に選ばれる
が、芳香族炭化水素としては、例えば、トルエン、キシ
レン、クメン等を挙げることができ、また、脂肪族アル
コールとしては、メタノール、エタノール等、脂肪族ケ
トンとしては、例えば、アセトン、イソプロピルケト
ン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジ
イソプロピルケトン等、環状エーテルとしては、テトラ
ヒドロフラン、ジオキサン等を挙げることができる。 【0021】 【発明の効果】本発明による新規なビスフェノール化合
物は、分子中にシクロヘキサン環を有し、厳密には、4
−(4'−ヒドロキシシクロヘキシル)シクロヘキシリデ
ン基を介して2つのフェノール構造が結合されてなる非
対称な分子構造を有し、高い親油性を有する。 【0022】更に、本発明によるビスフェノール化合物
は、これを原料として用いて、種々の反応、例えば、フ
ェノール性芳香環に対する置換反応や水添反応、フェノ
ール水酸基に対する反応等を行なうことによって、種々
の誘導体とすることができる。 【0023】先ず、フェノール性芳香環に対する置換反
応によって誘導体を得る具体例としては、例えば、本発
明によるビスフェノール化合物にイソブテン等のオレフ
ィン類、アルコール類、カルボニル化合物、ハロゲン化
アルキル等を酸又は塩基触媒の存在下にアルキル化反応
させることによって、種々のアルキル置換誘導体を得る
ことができる。 【0024】例えば、塩化アセチル等のような酸ハロゲ
ン化物や酸無水物をルイス酸の存在下で反応させて、ア
シル置換ビスフェノール化合物を得ることができる。二
酸化炭素を加圧、加熱下で反応させるコルベ・シュミッ
ト反応によれば、カルボキシル置換ビスフェノール化合
物を得ることができる。硝酸−酢酸等のニトロ化剤を反
応させれば、ニトロ置換ビスフェノール化合物を得るこ
とができる。ホルムアルデヒドによってメチロール化反
応させれば、メチロール基を有するビスフェノール化合
物を得ることができる。アルカリ性水溶液中、無水酢酸
によってアセチル化すれば、アセチル置換ビスフェノー
ル化合物を、また、アルカリ性水溶液中、クロロホルム
によってホルミル化すれば、アルデヒド置換ビスフェノ
ール化合物を得ることができる。ハロゲン化試剤によっ
てハロゲン化すれば、ハロゲン置換ビスフェノール化合
物を得ることができ、ジアゾニウム塩を反応させれば、
アゾ置換ビスフェノール化合物を得ることができる。ホ
ルムアルデヒドと第2級アミンとを反応させれば、アミ
ノメチル置換ビスフェノール化合物を得ることができ
る。亜硝酸との反応によれば、ニトロソ置換ビスフェノ
ール化合物を得ることができる。酸又はアルカリ触媒の
存在下、他のフェノール類と反応させることによって、
ノボラック樹脂を得ることができる。 【0025】次に、フェノール性水酸基に対する反応に
よって誘導体を得る具体例としては、例えば、フェノー
ル性水酸基にハロゲン化アルキル、ハロゲン化アリル、
エピクロロヒドリン等を反応させることによって、それ
ぞれ対応するビスフェノールエーテル化合物を得ること
ができる。 【0026】特に、フェノール性水酸基をt−ブトキシ
カルボニルメチルエーテルとするには、本発明によるビ
スフェノール化合物を適当な溶媒に溶解させた後、得ら
れた溶液にクロロ酢酸t−ブチルと炭酸カリウムを加
え、攪拌下に加熱することによって得ることができる。
また、本発明によるビスフェノール化合物を適当な溶媒
に溶解させ、エピクロロヒドリンを反応させて得られる
グリシジルエーテルは、エポキシ樹脂として利用するこ
とができる。このようなグリシジルエーテルに更にアク
リル酸やメタクリル酸を反応させれば、エポキシ(メ
タ)アクリレートを得ることもできる。フェノール性水
酸基に酸無水物、酸塩化物等を反応させることによっ
て、ビスフェノールエステルを得ることができる。特
に、フェノール水酸基に、例えば、1,2−ナフトキノン
ジアジド−4−スルホニルクロライドを反応させれば、
ビスフェノール化合物のナフトキノンジアジドスルホン
酸エステルを得ることができる。 【0027】上記以外にも、本発明によるビスフェノー
ル化合物を、例えば、加圧下、気相反応によって、芳香
環を完全水素化又は部分環水素化することによって、種
々の多環芳香環水素化化合物を得ることができる。 【0028】 【実施例】以下に実施例を挙げて以下に本発明を説明す
るが、本発明はこれら実施例により何ら限定されるもの
ではない。 【0029】実施例1 (4−(4'−ヒドロキシシクロヘキシル)−1,1−ビス
(4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサンの合成)フ
ェノール32.9gと水0.6gを500mL容量四つ口フ
ラスコに仕込み、液温を40℃に昇温した後、フラスコ
内に乾燥塩化水素ガスを吹き込みながら、4−(4−ヒ
ドロキシシクロヘキシル)シクロヘキサノン15.4gと
フェノール19.7gの混合溶液を3時間で滴下し、滴下
終了後、40℃で2時間、攪拌した。 【0030】反応終了後、80℃において、反応混合物
を攪拌しながら、これにメチルイソブチルケトン200
g、水50g及び16%水酸化ナトリウム水溶液25g
を加え、更に、75%リン酸5.1gを加えて、pHを4
〜5まで中和した。水層を分液除去し、有機層を水50
gで洗浄し、水層を分液除去する操作を2回、繰り返し
た後、有機層から蒸留によってメチルイソブチルケトン
150gを回収し、残渣にトルエン100gを加え、析
出した結晶を室温で濾別し、乾燥して、4−(4'−ヒド
ロキシシクロヘキシル)−1,1−ビス(4−ヒドロキシ
フェニル)シクロヘキサン(純度97.8%)を得た。 【0031】融点:242.7℃ 赤外線吸収スペクトル(cm-1): 水酸基:3394.5〜3178.5 ベンゼン環:1612.4〜1511.1 シクロヘキサン環:1451.3 マス・スペクトル: M+ =366 プロトンNMRスペクトル: 【0032】 【化6】 【0033】 【表1】【0034】実施例2 (4−(4'−ヒドロキシシクロヘキシル)−1,1−ビス
(3−メチル−4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサ
ンの合成)o−クレゾール37.5gと水0.8gを500
mL容量四つ口フラスコに仕込み、液温を40℃に昇温
した後、フラスコ内に乾燥塩化水素ガスを吹き込みなが
ら、4−(4−ヒドロキシシクロヘキシル)シクロヘキ
サノン15.4gとo−クレゾール22.7gの混合溶液を
3時間で滴下し、滴下終了後、40℃で2時間、攪拌し
た。 【0035】反応終了後、80℃において、反応混合物
を攪拌しながら、これにメチルイソブチルケトン400
g、水50g及び16%水酸化ナトリウム水溶液33g
を加え、更に、75%リン酸1.0gを加えて、pHを4
〜5まで中和した。水層を分液除去し、有機層を水50
gで洗浄し、水層を分液除去する操作を2回、繰り返し
た後、有機層から蒸留によってメチルイソブチルケトン
250gを回収し、析出した結晶を室温で濾別し、乾燥
して、4−(4'−ヒドロキシシクロヘキシル)−1,1−
ビス(3−メチル−4−ヒドロキシフェニル)シクロヘ
キサン(純度99.0%)を得た。 【0036】融点:272.8℃ 赤外線吸収スペクトル(cm-1): 水酸基:3514.1〜3159.2 ベンゼン環:1609.5〜1508.2 シクロヘキサン環:1451.3 マス・スペクトル: M+ =394 プロトンNMRスペクトル: 【0037】 【化7】 【0038】 【表2】【0039】実施例2 (4−(4'−ヒドロキシシクロヘキシル)−1,1−ビス
(3,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)シクロヘ
キサンの合成)2,6−キシレノール42.7gを500m
L容量四つ口フラスコに仕込み、50℃に昇温した後、
フラスコ内に乾燥塩化水素ガスを吹き込みながら、4−
(4−ヒドロキシシクロヘキシル)シクロヘキサノン1
5.4gと2,6−キシレノール42.7gの混合溶液を2時
間で滴下し、滴下終了後、50℃で6時間、攪拌した。 【0040】反応終了後、80℃において、反応混合物
を攪拌しながら、これにメチルイソブチルケトン50
g、水50g及び16%水酸化ナトリウム水溶液26g
を加え、更に、75%リン酸0.8gを加えて、pHを4
〜5まで中和した。水層を分液除去し、有機層を水50
gで洗浄し、水層を分液除去する操作を2回、繰り返し
た後、有機層から蒸留によってメチルイソブチルケトン
250gを回収し、残渣にトルエン150gを加え、析
出した結晶を室温で濾別し、乾燥して、4−(4'−ヒド
ロキシシクロヘキシル)−1,1−ビス(3,5−ジメチル
−4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン(純度95.
7%)を得た。 【0041】融点:202.7℃ 赤外線吸収スペクトル(cm-1): 水酸基:3425.3〜3313.5 ベンゼン環:1602.7〜1488.9 シクロヘキサン環:1450.4 マス・スペクトル: M+ =422 プロトンNMRスペクトル: 【0042】 【化8】 【0043】 【表3】
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 【請求項1】一般式(I) 【化1】 (式中、Arは一般式(II) 【化2】 (式中、R1 は炭素数1〜4のアルキル基を示し、R2
は炭素数5若しくは6のシクロアルキル基を示し、R3
はフェニル基を示し、mは0〜3の整数を示し、n及び
kはそれぞれ、0〜2の整数を示し、m+n+k≦3で
ある。)で表わされるアリール基を示す。)で表わされ
るビスフェノール化合物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23288898A JP3797799B2 (ja) | 1998-08-19 | 1998-08-19 | 新規なビスフェノール化合物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23288898A JP3797799B2 (ja) | 1998-08-19 | 1998-08-19 | 新規なビスフェノール化合物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000063309A true JP2000063309A (ja) | 2000-02-29 |
| JP3797799B2 JP3797799B2 (ja) | 2006-07-19 |
Family
ID=16946424
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23288898A Expired - Fee Related JP3797799B2 (ja) | 1998-08-19 | 1998-08-19 | 新規なビスフェノール化合物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3797799B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006213634A (ja) * | 2005-02-03 | 2006-08-17 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | フェナントレンキノン誘導体及びその製造方法 |
| JP2009035495A (ja) * | 2007-07-31 | 2009-02-19 | Honshu Chem Ind Co Ltd | ビス(4−オキソシクロヘキシル)化合物及びそれから誘導されるテトラキスフェノール化合物 |
-
1998
- 1998-08-19 JP JP23288898A patent/JP3797799B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006213634A (ja) * | 2005-02-03 | 2006-08-17 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | フェナントレンキノン誘導体及びその製造方法 |
| JP2009035495A (ja) * | 2007-07-31 | 2009-02-19 | Honshu Chem Ind Co Ltd | ビス(4−オキソシクロヘキシル)化合物及びそれから誘導されるテトラキスフェノール化合物 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3797799B2 (ja) | 2006-07-19 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP5744740B2 (ja) | 新規なトリスフェノール化合物 | |
| JP2007326847A (ja) | 新規な多核体ポリフェノール化合物 | |
| JP4132302B2 (ja) | 新規なポリフェノール化合物 | |
| JP2000086584A (ja) | 新規なトリスフェノ―ルエ―テル類 | |
| JP2000063308A (ja) | 新規な3核体ポリフェノール化合物 | |
| KR101607717B1 (ko) | 신규한 테트라키스(에테르 치환-포르밀페닐)류 및 그것으로부터 유도되는 신규한 다핵 폴리(페놀)류 | |
| JP3830666B2 (ja) | 新規な4核体ポリフェノール化合物 | |
| JP2000063309A (ja) | 新規なビスフェノール化合物 | |
| JP6068204B2 (ja) | 新規なトリスフェノール化合物 | |
| JP4395184B2 (ja) | 新規なビス(ヒドロキシベンズアルデヒド)化合物及びそれらから誘導される新規な多核体ポリフェノール化合物及びその製造方法 | |
| JP2008230984A (ja) | 新規なテトラキス(sec−ブチルフェノール)化合物 | |
| JP3924387B2 (ja) | 新規なモノアルコキシカルボニルメチル化トリスフェノール類とその製造方法 | |
| KR101200619B1 (ko) | 1,3?비스(3?포르밀?4?히드록시페닐)아다만탄류및 그로부터 유도되는 다핵체 폴리페놀류 | |
| JP4022314B2 (ja) | 新規な多核体ポリフェノール化合物 | |
| JP3850596B2 (ja) | 新規な部分保護トリスフェノール類とその製造方法 | |
| CN104203889A (zh) | 新型双(4-羟基苯基)环己烯类 | |
| JP2009107991A (ja) | 新規なヒドロキシメチル置換又はアルコキシメチル置換ビスフェノール化合物 | |
| JP5064405B2 (ja) | 新規なビス(ホルミルフェニル)アルカン類及びそれから誘導される新規な多核フェノール類 | |
| JP2003306460A (ja) | 1,3−ビス(ヒドロキシフェニル)アダマンタン類及びその製造方法 | |
| JP2000063310A (ja) | 新規なビスフェノール化合物 | |
| KR101828095B1 (ko) | 신규한 다핵 폴리(페놀)류 | |
| JP2000239206A (ja) | 非対称アルキリデン多価フェノール類とその製造方法 | |
| JP4093528B2 (ja) | 非対称エチリデン多価フェノール類とその製造方法 | |
| JP2008163032A (ja) | 新規なポリフェノール類 | |
| JP2003306461A (ja) | 1,3,5−トリス(4−ヒドロキシフェニル)アダマンタン類及びその製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20050927 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20051118 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20051121 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20060404 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20060418 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120428 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120428 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130428 Year of fee payment: 7 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |