[go: up one dir, main page]

JP2000058568A - Semiconductor device manufacturing method and semiconductor device manufacturing apparatus - Google Patents

Semiconductor device manufacturing method and semiconductor device manufacturing apparatus

Info

Publication number
JP2000058568A
JP2000058568A JP10230487A JP23048798A JP2000058568A JP 2000058568 A JP2000058568 A JP 2000058568A JP 10230487 A JP10230487 A JP 10230487A JP 23048798 A JP23048798 A JP 23048798A JP 2000058568 A JP2000058568 A JP 2000058568A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
tape carrier
height
resin
nozzle
semiconductor chip
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP10230487A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Ayumi Kanemoto
亜由美 金本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sony Corp filed Critical Sony Corp
Priority to JP10230487A priority Critical patent/JP2000058568A/en
Publication of JP2000058568A publication Critical patent/JP2000058568A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • H10W72/0711
    • H10W72/701
    • H10W72/874

Landscapes

  • Wire Bonding (AREA)
  • Encapsulation Of And Coatings For Semiconductor Or Solid State Devices (AREA)
  • Length Measuring Devices With Unspecified Measuring Means (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 テープキャリアからノズルの先端までの高さ
を常に最適な一定の値に高精度に設定できるようにし、
作業安定性に優れた封止が行えるようにする。 【解決手段】 半導体チップ20がボンディングされた
テープキャリア11に対し、テープキャリア11の上方
に配置されたノズル3の先端から樹脂21を塗布して半
導体チップ20を樹脂封止する毎に、樹脂21を塗布す
るに先立ち、テープキャリア11をクランパー5にて上
方から押圧することにより処理台4に密着固定してこの
状態でテープキャリア11の高さを測定手段6により測
定し、次いで測定手段6が測定して得たテープキャリア
11の高さを基準にしてノズル3の先端の高さ位置を調
整するようにする。
(57) [Summary] [PROBLEMS] To enable the height from a tape carrier to the tip of a nozzle to be always set to an optimum constant value with high accuracy.
To enable sealing with excellent work stability. Each time a resin 21 is applied to a tape carrier 11 to which a semiconductor chip 20 is bonded from a tip of a nozzle 3 disposed above the tape carrier 11 and the semiconductor chip 20 is sealed with a resin, the resin 21 is applied. Prior to the application, the tape carrier 11 is pressed from above by the clamper 5 to be tightly fixed to the processing table 4 and the height of the tape carrier 11 is measured by the measuring means 6 in this state. The height position of the tip of the nozzle 3 is adjusted based on the height of the tape carrier 11 obtained by measurement.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体装置の製造
方法および半導体装置用製造装置に関し、特にTAB
(Tape Automated Bonding) 技術を用いた半導体装置の
製造において、その樹脂封止工程に適用される半導体装
置の製造方法および該方法に用いる半導体装置用製造装
置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor device manufacturing method and a semiconductor device manufacturing apparatus, and more particularly to a TAB manufacturing method.
The present invention relates to a method of manufacturing a semiconductor device applied to a resin encapsulation step in manufacturing a semiconductor device using (Tape Automated Bonding) technology, and a manufacturing apparatus for a semiconductor device used in the method.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来の半導体装置(半導体パッケージ)
の製造方法としては、例えばTAB技術を用いた製造方
法が知られている。この製造方法では、まず、図3
(a),(b)に示すように予め用意したテープキャリ
ア11の一素子単位に接着剤17を介して金属製の補強
プレート18を接着し、続いて図3(c)に示すように
テープキャリア11に半導体チップ(半導体素子)20
を接続(ボンディング)する工程を行う。
2. Description of the Related Art Conventional semiconductor devices (semiconductor packages)
As a manufacturing method of the method, for example, a manufacturing method using a TAB technique is known. In this manufacturing method, first, FIG.
As shown in FIGS. 3A and 3B, a metal reinforcing plate 18 is adhered to one element unit of the tape carrier 11 prepared in advance via an adhesive 17, and then the tape as shown in FIG. A semiconductor chip (semiconductor element) 20 is mounted on the carrier 11.
Are connected (bonded).

【0003】テープキャリア11は、例えば、ポリイミ
ド等の絶縁性の有機フィルム12上に銅回路からなる導
電パターン13が形成されたものである。有機フィルム
12には、半導体チップ20の搭載部分に矩形の貫通孔
(デバイスホール)14が形成され、かつ導電パターン
13を外部電極として取り出すための孔15が形成され
ている。また導電パターン13からは、貫通孔14の周
縁より内側にインナーリード16が延出形成されてい
る。
The tape carrier 11 is formed by forming a conductive pattern 13 made of a copper circuit on an insulating organic film 12 such as polyimide. In the organic film 12, a rectangular through hole (device hole) 14 is formed in a mounting portion of the semiconductor chip 20, and a hole 15 for taking out the conductive pattern 13 as an external electrode is formed. Further, from the conductive pattern 13, an inner lead 16 is formed to extend inside the periphery of the through hole 14.

【0004】上記の補強プレート18は、半導体チップ
20の搭載部分に矩形の孔19が穿設されたもので、テ
ープキャリア11の導電パターン13側に接着剤17を
介して接着される。そして、テープキャリア11の貫通
孔14および補強プレート18の孔19の位置に半導体
チップ20を配置してインナーリード16と半導体チッ
プ20の上面に形成された電極パッド(図示略)とをボ
ンディングする。
The reinforcing plate 18 has a rectangular hole 19 formed in a mounting portion of the semiconductor chip 20 and is adhered to the conductive pattern 13 side of the tape carrier 11 via an adhesive 17. Then, the semiconductor chip 20 is arranged at the positions of the through hole 14 of the tape carrier 11 and the hole 19 of the reinforcing plate 18, and the inner leads 16 are bonded to the electrode pads (not shown) formed on the upper surface of the semiconductor chip 20.

【0005】テープキャリア11に半導体チップ20を
ボンディングした後は、半導体チップ20を外部環境の
湿気や塵埃等から保護するために、少なくとも半導体チ
ップ20の上面およびインナーリード16全体をエポキ
シ系樹脂等によって樹脂封止しパッケージ化する工程を
行う。樹脂封止する方法としては、例えば液状樹脂を流
し込む方法が知られている。この方法は、テープキャリ
ア11を保持している銅製の外枠を台の上に固定し、図
4に示すように液状樹脂21をノズル3より定圧で吐出
して少なくとも半導体チップ20の上面およびインナー
リード16全体を覆うように塗布し、加熱処理等によっ
て硬化することにより封止する方法である。液状樹脂
は、トランスファー成形法に比べて樹脂の廃棄分が少な
く、塗布方法の自由度も高いので、BGA(Ball Grid
Array)やCSP(Chip Size Package)等の高密度実装向
け半導体装置の製造に多く用いられている。
After the semiconductor chip 20 is bonded to the tape carrier 11, at least the upper surface of the semiconductor chip 20 and the entire inner leads 16 are covered with an epoxy resin or the like in order to protect the semiconductor chip 20 from moisture and dust in the external environment. A process of resin sealing and packaging is performed. As a resin sealing method, for example, a method of pouring a liquid resin is known. In this method, a copper outer frame holding a tape carrier 11 is fixed on a table, and a liquid resin 21 is discharged from a nozzle 3 at a constant pressure as shown in FIG. This is a method of applying a coating so as to cover the entire lead 16 and curing it by a heat treatment or the like to seal it. Since liquid resin has less resin waste compared to transfer molding and has a high degree of freedom in coating method, BGA (Ball Grid)
It is widely used in the manufacture of semiconductor devices for high-density packaging such as Arrays and CSPs (Chip Size Packages).

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】前述した従来の半導体
装置の製造方法では、樹脂封止工程において安定した樹
脂塗布量、塗布状態を得るために定圧で樹脂を吐出して
いる。そのため、テープキャリアからノズル先端までの
高さ、具体的にはテープキャリアにボンディングされた
半導体チップからノズルの先端までの高さや、半導体チ
ップの電極パッドにボンディングされたインナーリード
からノズルの先端までの高さを高精度に一定に保つこと
が必要となっており、特に後者のインナーリードからノ
ズルの先端までの高さを高精度に一定に保つことが必須
となっている。そこで、従来では、樹脂を塗布する前に
予め、各テープキャリアを保持する外枠の上面またはテ
ープキャリアのポリイミド上面を基準に、最も安定して
塗布作業が行える一定の高さにノズルの先端を設定して
いる。
In the above-described conventional method for manufacturing a semiconductor device, the resin is discharged at a constant pressure in order to obtain a stable resin coating amount and coating state in the resin sealing step. Therefore, the height from the tape carrier to the tip of the nozzle, specifically, the height from the semiconductor chip bonded to the tape carrier to the tip of the nozzle, and the height from the inner lead bonded to the electrode pad of the semiconductor chip to the tip of the nozzle It is necessary to keep the height constant with high precision. In particular, it is essential to keep the height from the inner lead to the tip of the nozzle constant with high precision. Therefore, conventionally, before applying the resin, the tip of the nozzle is set to a certain height at which the coating operation can be performed most stably with reference to the upper surface of the outer frame holding each tape carrier or the upper surface of the polyimide of the tape carrier. You have set.

【0007】しかしながら、半導体チップがボンディン
グされたテープキャリア側では、テープキャリアをこれ
を保持する外枠によって台の上に固定しているものの、
テープキャリアの高さが安定しないという不具合が生じ
る。すなわち、テープキャリア自体がコーナー4か所に
形成されている吊り部のみで外枠に保持されていること
から、外枠を介してテープキャリアを固定する台に、テ
ープキャリアの最下面となる補強プレートの裏面あるい
は半導体チップの裏面が高精度に密着しない。よって、
テープキャリアの吊り部の微妙な変形によりテープキャ
リアの浮き等が発生し易く、テープキャリアの高さが安
定しないのである。
However, on the tape carrier side to which the semiconductor chip is bonded, the tape carrier is fixed on the base by the outer frame holding the tape carrier.
There is a problem that the height of the tape carrier is not stable. In other words, since the tape carrier itself is held on the outer frame only by the hanging portions formed at the four corners, the reinforcement that becomes the lowermost surface of the tape carrier is provided on the base for fixing the tape carrier via the outer frame. The back surface of the plate or the back surface of the semiconductor chip does not adhere with high precision. Therefore,
Subtle deformation of the suspension portion of the tape carrier easily causes the tape carrier to float, and the height of the tape carrier is not stable.

【0008】そして、テープキャリアの高さが安定しな
いことが原因になって半導体チップからノズルの先端ま
での高さや、ボンディング後のインナーリードからノズ
ルの先端までの高さがテープキャリア毎にばらつき、安
定した封止作業が行えない、樹脂封止された半導体装置
の品質の低下を招く等の課題が生じている。
Since the height of the tape carrier is not stable, the height from the semiconductor chip to the tip of the nozzle or the height from the inner lead after bonding to the tip of the nozzle varies for each tape carrier. There have been problems such as the inability to perform a stable sealing operation and the deterioration of the quality of a resin-sealed semiconductor device.

【0009】このような現状から、半導体装置の製造に
おける樹脂封止工程において、半導体チップからノズル
の先端までの高さや、ボンディング後のインナーリード
からノズルの先端までの高さを最適な一定の値に高精度
に設定できる技術が切望されている。
[0009] Under such circumstances, in the resin sealing step in the manufacture of a semiconductor device, the height from the semiconductor chip to the tip of the nozzle and the height from the inner lead after bonding to the tip of the nozzle are optimally set to a constant value. There is a strong need for a technology that can be set with high accuracy.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】そこで、上記課題を解決
するために本発明に係る半導体装置の製造方法は、半導
体チップがボンディングされたテープキャリアに対し、
テープキャリアの上方に配置されたノズルの先端から樹
脂を塗布して半導体チップを樹脂封止する毎に、樹脂を
塗布するに先立ち、テープキャリアを上方から押圧する
ことにより処理台に密着固定してこの状態でテープキャ
リアの高さを測定し、次いで測定して得たテープキャリ
アの高さを基準にしてノズルの先端の高さ位置を調整す
る工程を行うようになっている。
Therefore, in order to solve the above-mentioned problems, a method of manufacturing a semiconductor device according to the present invention uses a tape carrier to which a semiconductor chip is bonded.
Each time the resin is applied from the tip of the nozzle arranged above the tape carrier and the semiconductor chip is sealed with resin, before applying the resin, the tape carrier is pressed down from above and tightly fixed to the processing table. In this state, the height of the tape carrier is measured, and then the step of adjusting the height position of the tip of the nozzle based on the measured height of the tape carrier is performed.

【0011】上記発明では、テープキャリアを上方から
押圧することにより処理台に密着固定するため、従来の
ようにテープキャリアが処理台から浮くことがなく、テ
ープキャリアの高さを精度良く測定することが可能にな
る。また半導体チップを樹脂封止する毎、つまり素子単
位毎にテープキャリアの高さを測定し、測定結果を基準
にしてノズルの先端の高さ位置を調整するため、たとえ
素子単位間でテープキャリアの高さにばらつきがあって
も、このばらつきが反映されることなくテープキャリア
からノズル先端までの高さ、つまりボンディング後のイ
ンナーリードとからノズルの先端までの高さや半導体チ
ップからノズルの先端までの高さを常に最適な一定の値
に設定することが可能になる。またテープキャリアを処
理台に密着したままノズルから樹脂を吐出させれば、設
定通りの樹脂塗布量および塗布状態に樹脂が精度良く塗
布される。
In the above invention, since the tape carrier is tightly fixed to the processing table by pressing it from above, the height of the tape carrier can be accurately measured without floating the tape carrier from the processing table as in the related art. Becomes possible. In addition, every time the semiconductor chip is sealed with resin, that is, the height of the tape carrier is measured for each element unit, and the height position of the tip of the nozzle is adjusted based on the measurement result. Even if the height varies, the height from the tape carrier to the tip of the nozzle without reflecting this variation, that is, the height from the inner lead after bonding to the tip of the nozzle, or the height from the semiconductor chip to the tip of the nozzle. The height can always be set to an optimal constant value. In addition, if the resin is discharged from the nozzle while the tape carrier is kept in close contact with the processing table, the resin can be accurately applied to the set amount and state of application of the resin.

【0012】また上記課題を解決するための本発明に係
る半導体装置用製造装置は、半導体チップがボンディン
グされてなるテープキャリアのその半導体チップに、テ
ープキャリアの上方に配置されたノズルの先端から樹脂
を塗布して被処理体を樹脂封止する際に用いるものであ
って、テープキャリアを載置するための処理台と、処理
台にテープキャリアを載置した際にテープキャリアを上
方から押圧して処理台に密着固定するための固定手段
と、処理台に載置された際のテープキャリアの高さを測
定する測定手段とを備えた構成となっている。
According to another aspect of the present invention, there is provided a manufacturing apparatus for a semiconductor device, wherein a semiconductor chip is bonded to a semiconductor chip of a tape carrier having a semiconductor chip bonded to the semiconductor chip from a tip of a nozzle disposed above the tape carrier. Is used to seal the object to be processed by applying a resin, a processing table for mounting the tape carrier, and pressing the tape carrier from above when the tape carrier is mounted on the processing table. And a measuring means for measuring the height of the tape carrier when placed on the processing table.

【0013】上記発明では、テープキャリアを上方から
押圧して処理台に密着固定するための固定手段と、処理
台に載置された際のテープキャリアの高さを測定する測
定手段とを備えているため、固定手段でテープキャリア
を処理台に密着固定した状態でテープキャリアの高さを
測定することが可能になる。よって、テープキャリアの
高さが常に精度良く測定される。
In the above invention, there are provided fixing means for pressing the tape carrier from above and closely fixing the tape carrier to the processing table, and measuring means for measuring the height of the tape carrier when placed on the processing table. Therefore, it is possible to measure the height of the tape carrier in a state where the tape carrier is closely fixed to the processing table by the fixing means. Therefore, the height of the tape carrier is always accurately measured.

【0014】[0014]

【発明の実施の形態】以下に本発明に係る半導体装置の
製造方法および半導体装置用製造装置の実施形態を図面
に基づいて説明する。図1は本発明に係る半導体装置用
製造装置(以下、単に製造装置と記す)の一実施形態の
概略構成図を示す説明図である。この製造装置1は、半
導体チップ20がボンディングされたテープキャリア1
1のその半導体チップ20に、このテープキャリア11
の上方に配置されたノズル3の先端からエポキシ系樹脂
等の液状樹脂21を塗布して半導体チップ20を封止す
る際に用いるものであり、従来の塗布装置に本発明を適
用したものである。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Embodiments of a method for manufacturing a semiconductor device and a device for manufacturing a semiconductor device according to the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is an explanatory diagram showing a schematic configuration diagram of an embodiment of a semiconductor device manufacturing apparatus (hereinafter, simply referred to as a manufacturing apparatus) according to the present invention. The manufacturing apparatus 1 includes a tape carrier 1 to which a semiconductor chip 20 is bonded.
1, the semiconductor chip 20 and the tape carrier 11
A liquid resin 21 such as an epoxy resin is applied from the tip of the nozzle 3 disposed above the semiconductor chip 20 to seal the semiconductor chip 20, and the present invention is applied to a conventional coating apparatus. .

【0015】なお、本実施形態の製造装置1が封止しよ
うとするテープキャリア11は、従来と同様に、テープ
キャリア11の導電パターン13側に接着剤17を介し
て矩形の補強プレート18が接着されているとともに、
テープキャリア11の貫通孔(デバイスホール)14お
よび補強プレート18の孔19に半導体チップ20が配
置され、テープキャリア11のインナーリード16と半
導体チップ20の上面の電極パッド(図示略)とがボン
ディングされた状態のものからなっている。図1は、製
造装置1にこのようなテープキャリア11を配置して樹
脂21を塗布している状態を示している。
The tape carrier 11 to be sealed by the manufacturing apparatus 1 of the present embodiment has a rectangular reinforcing plate 18 bonded to the conductive pattern 13 side of the tape carrier 11 via an adhesive 17 as in the conventional case. Along with
The semiconductor chip 20 is disposed in the through hole (device hole) 14 of the tape carrier 11 and the hole 19 of the reinforcing plate 18, and the inner lead 16 of the tape carrier 11 is bonded to an electrode pad (not shown) on the upper surface of the semiconductor chip 20. It is made of a state of being in a state. FIG. 1 shows a state in which such a tape carrier 11 is arranged in the manufacturing apparatus 1 and a resin 21 is applied.

【0016】すなわち、本実施形態の製造装置1は、一
素子毎、つまり複数の半導体チップ20がボンディング
されたテープキャリア11の一つの半導体チップ20毎
に樹脂を塗布するものであり、ノズル3を有したシリン
ジ2、処理台4、クランパー5、測定手段6、クランパ
ー駆動手段7、移動手段8および制御手段9を備えて構
成されている。シリンジ2は、その内部に液状樹脂が一
時貯留されるものからなり、処理台4の上方に、ノズル
3を下向きにした状態で配置されている。
That is, the manufacturing apparatus 1 of this embodiment applies resin to each element, that is, to each semiconductor chip 20 of the tape carrier 11 to which a plurality of semiconductor chips 20 are bonded. It comprises a syringe 2, a processing table 4, a clamper 5, a measuring means 6, a clamper driving means 7, a moving means 8 and a control means 9 having the same. The syringe 2 is formed by temporarily storing a liquid resin therein, and is disposed above the processing table 4 with the nozzle 3 facing downward.

【0017】処理台4は、半導体チップ20がボンディ
ングされたテープキャリア11を、補強プレート18側
を処理台4に向けて載置するためのもので、一素子毎の
テープキャリア11の外形に嵌合する大きさの凹部4a
を有し、凹部4aの底面4a1 に補強プレート18の裏
面を高精度に密着可能に設計されている。つまり、凹部
4aは補強プレート18の外形と略等しい面積の平面視
略矩形をなし、補強プレート18の厚みと接着剤17の
厚みとを加算した値以下の深さに形成されている。また
凹部4aの底面4a1 は高精度に平坦な面となってい
る。
The processing table 4 is for mounting the tape carrier 11 to which the semiconductor chip 20 is bonded, with the reinforcing plate 18 side facing the processing table 4, and is fitted to the outer shape of the tape carrier 11 for each element. Concave size 4a
The has been adherable designing the rear surface of the reinforcing plate 18 to the bottom surface 4a 1 of the recess 4a with high accuracy. That is, the concave portion 4a has a substantially rectangular shape in plan view having an area substantially equal to the outer shape of the reinforcing plate 18, and is formed to a depth equal to or less than a value obtained by adding the thickness of the reinforcing plate 18 and the thickness of the adhesive 17. The bottom 4a 1 of the concave portion 4a has a flat surface with high accuracy.

【0018】クランパー5は、本発明の固定手段となる
もので、処理台4にテープキャリア11を載置した際
に、封止する一素子単位のテープキャリア11の有機フ
ィルム12側から、半導体チップ20の周辺部を除いて
テープキャリア11全体を均一に押圧し、処理台4に密
着固定するためのものである。したがってクランパー5
は、内周縁がテープキャリア11の貫通孔14の周縁よ
りも大きく、外周縁がテープキャリア11の外周縁より
も大きい矩形枠状に形成されている。またクランパー5
は、後述するように、クランパー駆動手段7によって常
に一定の圧力でテープキャリア11を押圧するようにな
っている。
The clamper 5 serves as a fixing means of the present invention. When the tape carrier 11 is placed on the processing table 4, the semiconductor chip is sealed from the organic film 12 side of the tape carrier 11 of one element unit to be sealed. The entirety of the tape carrier 11 except for the peripheral portion of the tape carrier 20 is pressed uniformly, and is tightly fixed to the processing table 4. Therefore, clamper 5
Is formed in a rectangular frame shape whose inner peripheral edge is larger than the peripheral edge of the through hole 14 of the tape carrier 11 and whose outer peripheral edge is larger than the outer peripheral edge of the tape carrier 11. In addition, clamper 5
As described later, the tape carrier 11 is always pressed by the clamper driving means 7 with a constant pressure.

【0019】測定手段6は、処理台4に載置された際の
テープキャリア11の高さを測定するものからなる。本
実施形態では、例えばクランパー5の下面に設けられて
クランパー5の押圧によりテープキャリア11から加わ
る圧力を検出するセンサ6aと、センサ6aからの検出
結果に基づいてテープキャリア11の高さを求める演算
部6bとを有して構成されており、テープキャリア11
のインナーリード16の高さをテープキャリア11の高
さから求めるように構成されている。
The measuring means 6 measures the height of the tape carrier 11 when the tape carrier 11 is placed on the processing table 4. In the present embodiment, for example, a sensor 6a provided on the lower surface of the clamper 5 to detect a pressure applied from the tape carrier 11 by pressing the clamper 5, and a calculation for obtaining the height of the tape carrier 11 based on the detection result from the sensor 6a 6b, and the tape carrier 11
The height of the inner lead 16 is determined from the height of the tape carrier 11.

【0020】センサ6aは例えば圧電素子からなり、テ
ープキャリア11から加わる圧力を検出して電気信号に
変換し、この電気信号からなる検出結果を演算部6bに
出力するようになっている。一方、演算部6bには、予
め、テープキャリア11を一定の圧力で押圧した際にセ
ンサ6aから得られる電気信号とテープキャリア11全
体の厚みとの相関関係の情報が入力されているととも
に、テープキャリア11における有機フィルム12の厚
み情報が入力されている。よって、演算部6bは、セン
サ6aからの検出結果に基づき、テープキャリア11全
体の厚みを求めるとともに、この厚みから有機フィルム
12の厚みを減算してテープキャリア11のインナーリ
ード16の高さを求めるようになっている。そして、求
めたインナーリード16の高さを制御手段9に出力する
ようになっている。
The sensor 6a is composed of, for example, a piezoelectric element, detects the pressure applied from the tape carrier 11, converts the pressure into an electric signal, and outputs a detection result composed of the electric signal to the arithmetic unit 6b. On the other hand, the information of the correlation between the electric signal obtained from the sensor 6a when the tape carrier 11 is pressed with a constant pressure and the thickness of the entire tape carrier 11 is input to the arithmetic unit 6b in advance, and The thickness information of the organic film 12 in the carrier 11 is input. Therefore, the calculation unit 6b calculates the thickness of the entire tape carrier 11 based on the detection result from the sensor 6a, and calculates the height of the inner lead 16 of the tape carrier 11 by subtracting the thickness of the organic film 12 from this thickness. It has become. Then, the determined height of the inner lead 16 is output to the control means 9.

【0021】クランパー駆動手段7は、クランパー5を
上下方向に移動させるとともに、下方向に移動させた際
には、常に一定の圧力でテープキャリア11を押圧する
ようクランパー5を駆動するものである。このクランパ
ー5の押圧の開始、終了は制御手段9によって制御され
るようになっている。また移動手段8は、ノズル3の先
端を上下に移動させるためのもので、シリンジ2を上下
方向に駆動することによって、ノズル3の先端を上下に
移動するように構成されている。
The clamper driving means 7 drives the clamper 5 to move the clamper 5 in the vertical direction and to always press the tape carrier 11 with a constant pressure when the clamper 5 is moved in the downward direction. The start and end of pressing of the clamper 5 are controlled by the control means 9. The moving means 8 is for moving the tip of the nozzle 3 up and down, and is configured to move the tip of the nozzle 3 up and down by driving the syringe 2 up and down.

【0022】制御手段9は、測定手段6の演算部6bで
求められたインナーリード16の高さからテープキャリ
ア11の半導体チップ20への樹脂21の塗布に最適な
ノズル3の先端の高さ位置を求め、求めた高さ位置がノ
ズル3の先端となるように移動手段8を制御するもので
ある。この制御手段9は例えばマイクロコンピュータか
らなり、予め実験的に求められた、インナーリードの高
さ位置からの最適なノズルの先端の高さ情報が入力され
て記憶されている。よって、制御手段9は、演算部6b
で求められたインナーリード16の高さに、予め記憶し
ているインナーリードの高さ位置からの最適なノズルの
先端の高さを加算した値にノズル3の先端が位置するよ
うに移動手段8を制御するようになっている。
The control means 9 calculates the optimum height position of the tip of the nozzle 3 for applying the resin 21 to the semiconductor chip 20 of the tape carrier 11 based on the height of the inner lead 16 determined by the calculation unit 6b of the measuring means 6. The moving means 8 is controlled so that the obtained height position is located at the tip of the nozzle 3. The control means 9 is composed of, for example, a microcomputer, and inputs and stores optimum height information of the tip of the nozzle from the height position of the inner lead, which is experimentally obtained in advance. Therefore, the control means 9 includes the arithmetic unit 6b
The moving means 8 is arranged so that the tip of the nozzle 3 is located at a value obtained by adding the height of the optimum tip of the nozzle from the height position of the inner lead stored in advance to the height of the inner lead 16 obtained in step (1). Is controlled.

【0023】また制御手段9は、シリンジ2内の樹脂2
1を半導体チップ20に塗布するに先立ち、インナーリ
ード16の高さの測定、ノズル3の先端の位置の調整を
行い、その後半導体チップ20に樹脂21を塗布する一
連の処理手順のプログラムが入力されており、これに基
づいてクランパー駆動手段7や移動手段8等を制御する
ようになっている。
The control means 9 controls the resin 2 in the syringe 2
Before applying 1 to the semiconductor chip 20, the height of the inner lead 16 is measured, the position of the tip of the nozzle 3 is adjusted, and then a program of a series of processing procedures for applying the resin 21 to the semiconductor chip 20 is input. Based on this, the clamper driving means 7 and the moving means 8 are controlled.

【0024】このように構成された製造装置1は、テー
プキャリア11のインナーリード16の高さの測定、ノ
ズル3の先端の位置の調整、樹脂21の塗布を行い、塗
布が終了すると、次に処理するテープキャリア11上に
クランパー5やシリンジ2等が移動する、あるいはテー
プキャリア11自体が移動して次に処理するテープキャ
リア11が処理台4に載置されるように構成されてい
る。
The manufacturing apparatus 1 configured as described above measures the height of the inner lead 16 of the tape carrier 11, adjusts the position of the tip of the nozzle 3, and applies the resin 21. The clamper 5 and the syringe 2 move on the tape carrier 11 to be processed, or the tape carrier 11 itself moves so that the tape carrier 11 to be processed next is placed on the processing table 4.

【0025】次に、上記製造装置1を用いて半導体装置
を製造する場合を例にして、本発明に係る半導体装置の
製造方法の一実施形態を説明する。図2(a)〜(d)
は本発明に係る半導体装置の製造方法の一実施形態を工
程順に示す要部側断面図である。本実施形態の方法を実
施するにあたっては、予め、図3(a)〜(c)を用い
て説明した従来の技術を用いて補強プレート18の接着
工程、インナーリード16のボンディング工程を行い、
図2(a)に示すごとく半導体チップ20がボンディン
グされたテープキャリア11を用意する。
Next, an embodiment of a method for manufacturing a semiconductor device according to the present invention will be described, taking as an example a case where a semiconductor device is manufactured using the manufacturing apparatus 1 described above. FIGS. 2A to 2D
FIG. 4 is a sectional side view of a main part showing one embodiment of a method for manufacturing a semiconductor device according to the present invention in the order of steps. Before carrying out the method of the present embodiment, the bonding step of the reinforcing plate 18 and the bonding step of the inner leads 16 are performed by using the conventional technology described with reference to FIGS.
As shown in FIG. 2A, a tape carrier 11 to which a semiconductor chip 20 is bonded is prepared.

【0026】テープキャリア11を用意した後は、一素
子単位のテープキャリア11を図1に示す製造装置1の
処理台4の凹部4aに載置し、少なくとも半導体チップ
20の上面およびインナーリード16全体に樹脂21を
塗布して封止するのであるが、本実施形態では、樹脂2
1の塗布に先立ち、まず処理台4に載置されたテープキ
ャリア11の高さを測定する測定工程を行う。
After the tape carrier 11 is prepared, the tape carrier 11 for each element is placed in the recess 4a of the processing table 4 of the manufacturing apparatus 1 shown in FIG. In this embodiment, the resin 21 is applied and sealed.
Prior to the application of No. 1, a measuring step of measuring the height of the tape carrier 11 placed on the processing table 4 is first performed.

【0027】測定工程では、テープキャリア11を、補
強プレート18を処理台4側に向けて処理台4の凹部4
aに載置し、図2(a)に示すようにクランパー5を下
降させて有機フィルム12側からテープキャリア11の
半導体チップ20の周辺を除く全体を一定の圧力で押圧
し、これによりテープキャリア11を処理台4に密着固
定する。そして、この状態で製造装置1の測定手段6に
よりテープキャリア11の厚みからインナーリード16
の高さを正確に測定する。
In the measuring step, the tape carrier 11 is inserted into the recess 4 of the processing table 4 with the reinforcing plate 18 facing the processing table 4.
2a, the clamper 5 is lowered, and the whole of the tape carrier 11 except for the periphery of the semiconductor chip 20 is pressed from the organic film 12 side with a constant pressure as shown in FIG. 11 is closely fixed to the processing table 4. Then, in this state, the measuring means 6 of the manufacturing apparatus 1 calculates the thickness of the inner lead 16 from the thickness of the tape carrier 11.
Accurately measure the height of

【0028】次いで、測定されたインナーリード16の
高さを基準にしてノズル3の先端が最適な高さ位置とな
るように調整する調整工程を行う。上記したように製造
装置1では、測定手段6がインナーリード16の高さを
測定すると、制御手段9が測定されたインナーリード1
6の高さからテープキャリア11への樹脂21の塗布に
最適なノズル3の先端の高さ位置を求め、求めた高さ位
置がノズル3の先端となるように移動手段8を制御す
る。したがって、製造装置1により、ノズル3の先端は
テープキャリア11への樹脂21の塗布に最適な高さ位
置に自動的に調整される。
Next, an adjustment step is performed to adjust the tip of the nozzle 3 to an optimum height position based on the measured height of the inner lead 16. As described above, in the manufacturing apparatus 1, when the measuring unit 6 measures the height of the inner lead 16, the control unit 9 transmits the measured inner lead 1.
The height of the tip of the nozzle 3 that is optimal for applying the resin 21 to the tape carrier 11 is determined from the height of the nozzle 6, and the moving unit 8 is controlled so that the determined height is the tip of the nozzle 3. Therefore, the tip of the nozzle 3 is automatically adjusted by the manufacturing apparatus 1 to a height position that is optimal for applying the resin 21 to the tape carrier 11.

【0029】上記測定工程および調整工程を行った後
は、ノズル3から半導体チップ20の上面およびインナ
ーリード16全体に樹脂21を塗布し、加熱処理等によ
り塗布した樹脂21を硬化させて図2(b)に示すごと
く半導体チップ20の上面およびインナーリード16全
体を封止する。上記樹脂21の塗布は、クランパー5で
テープキャリア11を処理台4に密着固定したままの状
態で行う。これによって設定した塗布量および塗布状態
に高精度に塗布できることになる。
After performing the above-described measurement step and adjustment step, the resin 21 is applied from the nozzle 3 to the upper surface of the semiconductor chip 20 and the entire inner lead 16, and the applied resin 21 is cured by heat treatment or the like. As shown in b), the upper surface of the semiconductor chip 20 and the entire inner lead 16 are sealed. The application of the resin 21 is performed while the tape carrier 11 is tightly fixed to the processing table 4 by the clamper 5. As a result, it is possible to apply with high accuracy the set application amount and application state.

【0030】製造装置1では、テープキャリア11への
樹脂21の塗布後、一旦、クランパー5が上昇し、次に
封止処理するテープキャリア11が処理台4に載置され
る。あるいは、クランパー5が上昇するとともに次に封
止処理するテープキャリア11上にクランパー5が移動
し、上記した測定、調整、塗布の動作を繰り返し行う。
In the manufacturing apparatus 1, after the resin 21 is applied to the tape carrier 11, the clamper 5 is once moved up, and the tape carrier 11 to be subsequently sealed is placed on the processing table 4. Alternatively, the clamper 5 rises and moves on the tape carrier 11 to be sealed next, and the above-described measurement, adjustment, and coating operations are repeated.

【0031】上記のように樹脂封止を行った後は、テー
プキャリア11には、従来と同様にカバープレート接
着、外部電極形成、外形カット等の処理が施される。す
なわち、図2(c)に示すように補強プレート18と半
導体チップ20の裏面とに接着剤22およびダイボンド
剤26等により金属製のカバープレート23を接着す
る。次いで、図2(d)に示すようにテープキャリア1
1の有機フィルム12上に外部電極となる複数の半田ボ
ール電極24を形成する。この際、有機フィルム12の
孔15を介して導電パターン13と電気的に接続するよ
うに半田ボール24を形成する。
After the resin sealing is performed as described above, the tape carrier 11 is subjected to processes such as cover plate bonding, external electrode formation, and outer shape cutting as in the conventional case. That is, as shown in FIG. 2C, a metal cover plate 23 is bonded to the reinforcing plate 18 and the back surface of the semiconductor chip 20 with the adhesive 22 and the die bonding agent 26 or the like. Next, as shown in FIG.
A plurality of solder ball electrodes 24 serving as external electrodes are formed on one organic film 12. At this time, the solder balls 24 are formed so as to be electrically connected to the conductive patterns 13 through the holes 15 of the organic film 12.

【0032】その後、図2(e)に示すようにテープキ
ャリア11を半導体装置の外形にカットすることにより
半導体装置25が製造される。なお、樹脂封止後の工程
は一例であって、順序が異なる様々な工程を適用するこ
とが可能であるのはもちろんである。
Thereafter, as shown in FIG. 2E, the semiconductor device 25 is manufactured by cutting the tape carrier 11 to the outer shape of the semiconductor device. Note that the steps after resin encapsulation are merely examples, and it goes without saying that various steps in different orders can be applied.

【0033】このように本実施形態の製造方法では、テ
ープキャリア11を上方から押圧することにより処理台
4に密着固定した後、この状態でテープキャリア11の
高さからインナーリード16の高さを測定するので、従
来のようにテープキャリア11が処理台4から浮くこと
がなく、インナーリード16の高さを常に精度良く測定
することができる。
As described above, according to the manufacturing method of the present embodiment, the tape carrier 11 is pressed down from above to be tightly fixed to the processing table 4, and then the height of the inner leads 16 is determined from the height of the tape carrier 11 in this state. Since the measurement is performed, the height of the inner lead 16 can be always accurately measured without the tape carrier 11 floating from the processing table 4 unlike the related art.

【0034】また素子単位毎にインナーリード16の高
さを測定し、測定結果を基準にしてノズル3の先端の高
さ位置を調整するので、たとえ素子単位間でインナーリ
ード16の高さにばらつきがあっても、このばらつきが
反映されることなくボンディング後のインナーリード1
6からノズル3の先端までの高さを常に最適な一定の値
に高精度に設定することができる。
The height of the inner lead 16 is measured for each element unit, and the height position of the tip of the nozzle 3 is adjusted based on the measurement result. Even if there is, the inner lead 1 after bonding is not reflected
The height from 6 to the tip of the nozzle 3 can always be set to an optimum constant value with high accuracy.

【0035】さらにテープキャリア11を処理台4に密
着固定したままノズル3から樹脂21を吐出させるの
で、設定通りの樹脂塗布量および塗布状態に樹脂21を
精度良く塗布できる。したがって、作業安定性に優れた
封止作業を行うことができるとともに、高品質の半導体
装置25を安定して製造することができる。
Furthermore, since the resin 21 is discharged from the nozzle 3 while the tape carrier 11 is fixed to the processing table 4 in close contact, the resin 21 can be applied with high precision in the set resin application amount and application state. Accordingly, a sealing operation with excellent operation stability can be performed, and a high-quality semiconductor device 25 can be stably manufactured.

【0036】また本実施形態の製造装置1によれば、テ
ープキャリア11を上方から押圧して処理台4に密着固
定するためのクランパー5と、処理台4に載置されたテ
ープキャリア11のインナーリード16の高さを測定す
る測定手段6とを備えているので、本実施形態の方法を
確実に実施することができる。またインナーリード16
の高さの測定、ノズル3の先端の最適な高さ位置への調
整が制御手段9の制御によって自動的に行われるため、
人為的なミスや作業者毎の測定結果のばらつきを防止で
きるとともに、一素子毎にインナーリード16の高さの
測定、ノズル3の先端の位置の調整を行っても、歩留り
にほとんど影響を与えないという利点がある。
Further, according to the manufacturing apparatus 1 of this embodiment, the clamper 5 for pressing the tape carrier 11 from above and closely fixing the tape carrier 11 to the processing table 4, and the inner of the tape carrier 11 mounted on the processing table 4. Since the measuring device 6 for measuring the height of the lead 16 is provided, the method of the present embodiment can be reliably performed. In addition, inner lead 16
Of the height of the nozzle 3 and adjustment of the tip of the nozzle 3 to the optimum height position are automatically performed under the control of the control means 9.
In addition to preventing human error and variation in measurement results for each worker, even if the height of the inner lead 16 is measured for each element and the position of the tip of the nozzle 3 is adjusted, the yield is hardly affected. There is no advantage.

【0037】なお、本実施形態の製造装置では、測定手
段の演算部が制御手段とは別に設けられている例を述べ
たが、制御手段に測定手段の演算部の機能を持たせても
よく、この例に限定されない。
In the manufacturing apparatus according to the present embodiment, an example has been described in which the calculation section of the measurement means is provided separately from the control means. However, the control means may have the function of the calculation section of the measurement means. However, the present invention is not limited to this example.

【0038】また、本実施形態の製造装置および製造方
法では、測定手段がテープキャリアのインナーリードの
高さのみを測定する場合について述べたが、テープキャ
リアのインナーリードの高さと半導体チップの高さとの
双方を測定するようにしてもよい。そして、これらの高
さ位置を基準にしてノズルの先端の高さ位置を調整する
ことも可能である。
Further, in the manufacturing apparatus and the manufacturing method of the present embodiment, the case where the measuring means measures only the height of the inner lead of the tape carrier has been described, but the height of the inner lead of the tape carrier and the height of the semiconductor chip are different. May be measured. It is also possible to adjust the height position of the tip of the nozzle with reference to these height positions.

【0039】半導体チップの高さを測定する場合には、
クランパーでテープキャリアを押圧した際に、半導体チ
ップの裏面が処理台の凹部の底面に高精度に密着するよ
うに凹部が形成されることになる。また測定手段のセン
サで検出されたテープキャリア全体の厚みからテープキ
ャリアの有機フィルム、導電パターン、導電パターンと
補強プレートとの間の接着剤の厚み等の必要分を減算し
た値が半導体チップの高さとして求められ、この値に半
導体チップの高さからの最適なノズルの先端の高さ位置
が加算されて塗布に最適なノズルの先端の高さが設定さ
れる。そして、この設定値とインナーリードの高さから
設定された最適なノズルの先端の高さとの双方を考慮し
てノズルの先端の高さが決定されることになる。
When measuring the height of a semiconductor chip,
When the tape carrier is pressed by the clamper, the concave portion is formed such that the back surface of the semiconductor chip closely adheres to the bottom surface of the concave portion of the processing table with high precision. The value obtained by subtracting the necessary amount of the organic film of the tape carrier, the conductive pattern, and the adhesive thickness between the conductive pattern and the reinforcing plate from the thickness of the entire tape carrier detected by the sensor of the measuring means is the height of the semiconductor chip. The optimum height of the tip of the nozzle from the height of the semiconductor chip is added to this value to set the optimum height of the tip of the nozzle for coating. Then, the height of the nozzle tip is determined in consideration of both the set value and the optimum height of the nozzle tip set from the height of the inner lead.

【0040】[0040]

【発明の効果】以上説明したように本発明に係る半導体
装置の製造方法によれば、テープキャリアを上方から押
圧して処理台に密着固定した後、この状態でテープキャ
リアの高さを測定するので、テープキャリアの高さを常
に精度良く測定することができる。また素子単位毎にテ
ープキャリアの高さを測定してノズルの先端の高さ位置
を調整するので、たとえ素子単位間でテープキャリアの
高さにばらつきがあってもこのばらつきが反映されず、
テープキャリアからノズルの先端までの高さを常に最適
な一定の値に高精度に設定することができる。したがっ
て、作業安定性に優れた封止作業を行うことができると
ともに、高品質の半導体装置を安定して製造することが
できる。
As described above, according to the method of manufacturing a semiconductor device according to the present invention, the height of the tape carrier is measured in this state after the tape carrier is pressed from above and closely fixed to the processing table. Therefore, the height of the tape carrier can always be accurately measured. Also, since the height of the tip of the nozzle is adjusted by measuring the height of the tape carrier for each element unit, even if the height of the tape carrier varies between element units, this variation is not reflected,
The height from the tape carrier to the tip of the nozzle can always be set to an optimum constant value with high accuracy. Therefore, a sealing operation with excellent operation stability can be performed, and a high-quality semiconductor device can be stably manufactured.

【0041】また本発明に係る半導体装置用製造装置よ
れば、テープキャリアを上方から押圧して処理台に密着
固定するための固定手段と、処理台に載置されたテープ
キャリアの高さを測定する測定手段とを備えているの
で、本発明の半導体装置の製造方法を確実に実施するこ
とができる。よって、本発明の製造方法と同様の効果を
得ることができる。
Further, according to the semiconductor device manufacturing apparatus of the present invention, the fixing means for pressing the tape carrier from above to fix it tightly to the processing table, and measuring the height of the tape carrier mounted on the processing table. Therefore, the method for manufacturing a semiconductor device according to the present invention can be reliably performed. Therefore, the same effect as the manufacturing method of the present invention can be obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明に係る半導体装置用製造装置の一実施形
態の概略構成図を示す説明図である。
FIG. 1 is an explanatory diagram showing a schematic configuration diagram of an embodiment of a semiconductor device manufacturing apparatus according to the present invention.

【図2】(a)〜(e)は本発明に係る半導体装置の製
造方法の一実施形態を工程順に示す要部側断面図であ
る。
FIGS. 2A to 2E are cross-sectional views of a main part showing one embodiment of a method of manufacturing a semiconductor device according to the present invention in the order of steps.

【図3】(a)〜(c)は従来のTAB技術による半導
体装置の製造方法のインナーリードボンディングまでの
一工程例を示す要部側断面図である。
3 (a) to 3 (c) are cross-sectional side views of a main part showing an example of a process up to inner lead bonding of a conventional method of manufacturing a semiconductor device by TAB technology.

【図4】従来の半導体装置の製造方法における塗布処理
を説明する図である。
FIG. 4 is a diagram illustrating a coating process in a conventional method for manufacturing a semiconductor device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…製造装置、3…ノズル、4…処理台、5…クランパ
ー、6…測定手段、6a…センサ、6b…演算部、8…
移動手段、9…制御手段、11…テープキャリア、16
…インナーリード、20…半導体チップ、21…樹脂、
25…半導体装置
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Manufacturing apparatus, 3 ... Nozzle, 4 ... Processing table, 5 ... Clamper, 6 ... Measuring means, 6a ... Sensor, 6b ... Calculation part, 8 ...
Moving means, 9: control means, 11: tape carrier, 16
... inner lead, 20 ... semiconductor chip, 21 ... resin,
25 ... Semiconductor device

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 半導体チップがボンディングされてなる
テープキャリアのその半導体チップに、該テープキャリ
アの上方に配置されたノズルの先端から樹脂を塗布して
半導体チップを樹脂封止する半導体装置の製造方法にお
いて、 前記半導体チップを樹脂封止する毎に、樹脂を塗布する
に先立ち、 前記テープキャリアを上方から押圧することにより処理
台に密着固定してこの状態でテープキャリアの高さを測
定する測定工程と、 前記測定工程にて得たテープキャリアの高さを基準にし
て前記ノズルの先端の高さ位置を調整する調整工程とを
行うことを特徴とする半導体装置の製造方法。
1. A method of manufacturing a semiconductor device in which a resin is applied to a semiconductor chip of a tape carrier to which a semiconductor chip is bonded from a tip of a nozzle disposed above the tape carrier and the semiconductor chip is sealed with a resin. In each of the above steps, each time the semiconductor chip is sealed with a resin, prior to applying the resin, the tape carrier is pressed from above to be tightly fixed to a processing table, and the height of the tape carrier is measured in this state. And a step of adjusting the height position of the tip of the nozzle based on the height of the tape carrier obtained in the measuring step.
【請求項2】 前記測定工程では、前記テープキャリア
のインナーリードの高さと前記半導体チップの高さとの
うち、少なくともインナーリードの高さを前記テープキ
ャリアの高さから測定することを特徴とする請求項1記
載の半導体装置の製造方法。
2. The method according to claim 1, wherein, in the measuring step, at least a height of the inner lead among the height of the inner lead of the tape carrier and a height of the semiconductor chip is measured from the height of the tape carrier. Item 2. A method for manufacturing a semiconductor device according to Item 1.
【請求項3】 前記樹脂を塗布する際には、前記テープ
キャリアを前記処理台に密着した状態で塗布を行うこと
を特徴とする請求項1記載の半導体装置の製造方法。
3. The method of manufacturing a semiconductor device according to claim 1, wherein when applying the resin, the application is performed in a state where the tape carrier is in close contact with the processing table.
【請求項4】 半導体チップがボンディングされてなる
テープキャリアのその半導体チップに、該テープキャリ
アの上方に配置されたノズルの先端から樹脂を塗布して
半導体チップを樹脂封止する際に用いる半導体装置用製
造装置であって、 前記テープキャリアを載置するための処理台と、 前記処理台に前記テープキャリアを載置した際に該テー
プキャリアを上方から押圧して処理台に密着固定するた
めの固定手段と、 前記処理台に載置された際のテープキャリアの高さを測
定する測定手段とを備えていることを特徴とする半導体
装置用製造装置。
4. A semiconductor device used for applying a resin to a semiconductor chip of a tape carrier to which a semiconductor chip is bonded from a tip of a nozzle arranged above the tape carrier and sealing the semiconductor chip with the resin. A processing table for mounting the tape carrier, and for pressing and fixing the tape carrier from above when the tape carrier is mounted on the processing table, for tightly fixing the tape carrier to the processing table. An apparatus for manufacturing a semiconductor device, comprising: fixing means; and measuring means for measuring a height of a tape carrier when the tape carrier is mounted on the processing table.
【請求項5】 前記測定手段は、前記固定手段に設けら
れて該固定手段の押圧により前記テープキャリアから加
わる圧力を検出するセンサと、 前記センサからの検出結果に基づいて前記テープキャリ
アの高さを求める演算部とを有してなることを特徴とす
る請求項4記載の半導体装置用製造装置。
5. A sensor provided on the fixing means for detecting a pressure applied from the tape carrier by pressing the fixing means, and a height of the tape carrier based on a detection result from the sensor. 5. The manufacturing device for a semiconductor device according to claim 4, further comprising: an operation unit for obtaining the following.
【請求項6】 前記処理台に載置されたテープキャリア
の半導体チップに樹脂を塗布するノズルと、 前記ノズルを上下方向に移動するための移動手段と、 前記測定手段で測定されたテープキャリアの高さから該
テープキャリアへの樹脂の塗布に最適なノズルの先端の
高さ位置を求め、該高さ位置がノズルの先端となるよう
に前記移動手段を制御する制御手段とを備えていること
を特徴とする請求項4記載の半導体装置用製造装置。
6. A nozzle for applying a resin to a semiconductor chip of a tape carrier mounted on the processing table, a moving unit for moving the nozzle in a vertical direction, and a tape carrier measured by the measuring unit. Control means for determining a height position of the tip of the nozzle optimal for applying the resin to the tape carrier from the height, and controlling the moving means so that the height position is the tip of the nozzle. 5. The apparatus for manufacturing a semiconductor device according to claim 4, wherein:
JP10230487A 1998-08-17 1998-08-17 Semiconductor device manufacturing method and semiconductor device manufacturing apparatus Pending JP2000058568A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP10230487A JP2000058568A (en) 1998-08-17 1998-08-17 Semiconductor device manufacturing method and semiconductor device manufacturing apparatus

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP10230487A JP2000058568A (en) 1998-08-17 1998-08-17 Semiconductor device manufacturing method and semiconductor device manufacturing apparatus

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2000058568A true JP2000058568A (en) 2000-02-25

Family

ID=16908561

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP10230487A Pending JP2000058568A (en) 1998-08-17 1998-08-17 Semiconductor device manufacturing method and semiconductor device manufacturing apparatus

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2000058568A (en)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2002047124A1 (en) * 2000-12-07 2002-06-13 Koninklijke Philips Electronics N.V. Resist nozzle calibration tool and method therefor
KR101101191B1 (en) 2010-12-03 2012-01-03 주식회사 나래나노텍 How to measure and adjust the automatic gap height of the nozzle unit
JP2012023147A (en) * 2010-07-13 2012-02-02 Apic Yamada Corp Resin molding device and workpiece thickness measuring device
JP2013004588A (en) * 2011-06-13 2013-01-07 Oh'tec Electronics Corp Liquid quantitative discharge device and liquid quantitative discharge method

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2002047124A1 (en) * 2000-12-07 2002-06-13 Koninklijke Philips Electronics N.V. Resist nozzle calibration tool and method therefor
JP2012023147A (en) * 2010-07-13 2012-02-02 Apic Yamada Corp Resin molding device and workpiece thickness measuring device
KR101101191B1 (en) 2010-12-03 2012-01-03 주식회사 나래나노텍 How to measure and adjust the automatic gap height of the nozzle unit
JP2013004588A (en) * 2011-06-13 2013-01-07 Oh'tec Electronics Corp Liquid quantitative discharge device and liquid quantitative discharge method

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7861912B2 (en) Fabrication method of semiconductor integrated circuit device
US6172422B1 (en) Semiconductor device and a manufacturing method thereof
US6268654B1 (en) Integrated circuit package having adhesive bead supporting planar lid above planar substrate
US8104356B2 (en) Pressure sensing device package and manufacturing method thereof
US20010055836A1 (en) Semiconductor dynamic sensor and method of manufacturing the same
US5666003A (en) Packaged semiconductor device incorporating heat sink plate
US20130011970A1 (en) Manufacturing method of molded package
JP2000058568A (en) Semiconductor device manufacturing method and semiconductor device manufacturing apparatus
US20130011941A1 (en) Bond line thickness control for die attachment
JP4489524B2 (en) Semiconductor device manufacturing method and paste coating apparatus
TWI900462B (en) Bonding tools and bonding machines
US6376265B1 (en) Non-contact automatic height sensing using air pressure for die bonding
KR101165031B1 (en) Wire Bonding Method
JP5176186B2 (en) Semiconductor chip pickup method and semiconductor device manufacturing method
Cheung et al. New proposed adhesive tape application mechanism for stacking die applications
JP3538705B2 (en) Manufacturing method of electronic components
JPH11191568A (en) Wire bonding method and apparatus
JP3989796B2 (en) Manufacturing method of semiconductor device
JP2954111B2 (en) Wire bonding method and wire bonding apparatus
JP2000304638A (en) Sensor chip joining structure
JP3994285B2 (en) Film carrier tape
JPH0719156Y2 (en) Resin-sealed electronic parts
JPH04179244A (en) Semiconductor device
JPH01286453A (en) Semiconductor device
KR20020085955A (en) Package mounting apparatus