JP2000053921A - 反射防止被膜形成組成物 - Google Patents
反射防止被膜形成組成物Info
- Publication number
- JP2000053921A JP2000053921A JP10227990A JP22799098A JP2000053921A JP 2000053921 A JP2000053921 A JP 2000053921A JP 10227990 A JP10227990 A JP 10227990A JP 22799098 A JP22799098 A JP 22799098A JP 2000053921 A JP2000053921 A JP 2000053921A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- refractive index
- coating
- compound capable
- forming
- cured film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Paints Or Removers (AREA)
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 １回の塗布、硬化操作によって多層（２層）
の反射防止被膜を形成し得る反射防止被膜形成組成物を
提供する。 【解決手段】 低屈折率硬化被膜を与え得る化合物と、
高屈折率硬化被膜を与え得る化合物とを含有する反射防
止被膜形成組成物であって、低屈折率硬化被膜を与え得
る化合物が硬化されてなる被膜の表面自由エネルギーが
高屈折率硬化被膜を与え得る化合物が硬化されてなる被
膜の表面自由エネルギーよりも小さいことを特徴とする
反射防止被膜形成組成物。
の反射防止被膜を形成し得る反射防止被膜形成組成物を
提供する。 【解決手段】 低屈折率硬化被膜を与え得る化合物と、
高屈折率硬化被膜を与え得る化合物とを含有する反射防
止被膜形成組成物であって、低屈折率硬化被膜を与え得
る化合物が硬化されてなる被膜の表面自由エネルギーが
高屈折率硬化被膜を与え得る化合物が硬化されてなる被
膜の表面自由エネルギーよりも小さいことを特徴とする
反射防止被膜形成組成物。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、反射防止被膜形成
組成物に関する。
組成物に関する。
【０００２】
【従来の技術】基材表面の可視光の反射を低減するため
の反射防止被膜は、ディスプレイ表面、レンズなどのガ
ラス製光学製品、合成樹脂製光学製品などの表面に形成
されて、広く使用されている。かかる反射防止被膜とし
ては、通常、屈折率が基材の屈折率よりも小さい低屈折
率の物質からなる被膜が使用されている。かかる反射防
止被膜としては、例えば低屈折率物質層を蒸着、スパッ
ター、イオンプレーティングなどの物理気相堆積(Physi
cal Vapor Deposition、ＰＶＤ）法により基材の表面に
形成する方法が知られているが、真空中で形成する必要
があるため、操作が煩雑であるという問題があった。
の反射防止被膜は、ディスプレイ表面、レンズなどのガ
ラス製光学製品、合成樹脂製光学製品などの表面に形成
されて、広く使用されている。かかる反射防止被膜とし
ては、通常、屈折率が基材の屈折率よりも小さい低屈折
率の物質からなる被膜が使用されている。かかる反射防
止被膜としては、例えば低屈折率物質層を蒸着、スパッ
ター、イオンプレーティングなどの物理気相堆積(Physi
cal Vapor Deposition、ＰＶＤ）法により基材の表面に
形成する方法が知られているが、真空中で形成する必要
があるため、操作が煩雑であるという問題があった。
【０００３】かかる問題を解決するものとして、低屈折
率の硬化被膜を与え得る化合物が硬化されてなる被膜が
知られている。これは低屈折率の硬化被膜を与え得る化
合物を含有する反射防止被膜形成組成物を基材の表面に
塗布後、硬化することにより形成されるものであるた
め、反射防止被膜を形成するための操作が簡便であるこ
とから、広く用いられている。
率の硬化被膜を与え得る化合物が硬化されてなる被膜が
知られている。これは低屈折率の硬化被膜を与え得る化
合物を含有する反射防止被膜形成組成物を基材の表面に
塗布後、硬化することにより形成されるものであるた
め、反射防止被膜を形成するための操作が簡便であるこ
とから、広く用いられている。
【０００４】一方、反射防止被膜として、より広い波長
範囲の可視光の反射率を低減するために、高屈折率の物
質からなる層と低屈折率の物質からなる層との多層の反
射防止被膜、いわゆるマルチコーティングが知られてい
る。
範囲の可視光の反射率を低減するために、高屈折率の物
質からなる層と低屈折率の物質からなる層との多層の反
射防止被膜、いわゆるマルチコーティングが知られてい
る。
【０００５】しかし、かかる多層の反射防止被膜を形成
するには、基材の表面に、高屈折率の硬化被膜を与え得
る化合物を含有する反射防止被膜形成組成物を塗布後、
硬化させた後、更に低屈折率の硬化被膜を与え得る化合
物を含有する反射防止被膜形成組成物を塗布後、硬化さ
せる必要があり、２回の塗布、硬化を必要とするもので
あった。
するには、基材の表面に、高屈折率の硬化被膜を与え得
る化合物を含有する反射防止被膜形成組成物を塗布後、
硬化させた後、更に低屈折率の硬化被膜を与え得る化合
物を含有する反射防止被膜形成組成物を塗布後、硬化さ
せる必要があり、２回の塗布、硬化を必要とするもので
あった。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】そこで、本発明者は、
１回の塗布、硬化操作によって多層の反射防止被膜を形
成し得る反射防止被膜形成組成物を開発するべく、鋭意
検討した結果、低屈折率硬化被膜を与え得る化合物と、
高屈折率硬化被膜を与え得る化合物とを含有する組成物
を用いることにより、目的とする多層の反射防止被膜が
容易に得られることを見出し、本発明に至った。
１回の塗布、硬化操作によって多層の反射防止被膜を形
成し得る反射防止被膜形成組成物を開発するべく、鋭意
検討した結果、低屈折率硬化被膜を与え得る化合物と、
高屈折率硬化被膜を与え得る化合物とを含有する組成物
を用いることにより、目的とする多層の反射防止被膜が
容易に得られることを見出し、本発明に至った。
【０００７】
【課題を解決するための手段】すなわち、本発明は、低
屈折率硬化被膜を与え得る化合物と、高屈折率硬化被膜
を与え得る化合物とを含有する反射防止被膜形成組成物
であって、低屈折率硬化被膜を与え得る化合物が硬化さ
れてなる被膜の表面自由エネルギーが高屈折率硬化被膜
を与え得る化合物が硬化されてなる被膜の表面自由エネ
ルギーよりも小さいことを特徴とする反射防止被膜形成
組成物を提供するものである。
屈折率硬化被膜を与え得る化合物と、高屈折率硬化被膜
を与え得る化合物とを含有する反射防止被膜形成組成物
であって、低屈折率硬化被膜を与え得る化合物が硬化さ
れてなる被膜の表面自由エネルギーが高屈折率硬化被膜
を与え得る化合物が硬化されてなる被膜の表面自由エネ
ルギーよりも小さいことを特徴とする反射防止被膜形成
組成物を提供するものである。
【０００８】
【発明の実施の形態】本発明の反射防止被膜形成組成物
を構成する一成分である低屈折率硬化被膜を与え得る化
合物とは、基材の表面に塗布後、硬化されることによっ
て、低屈折率の反射防止被膜を形成することができる化
合物であって、通常の単層の反射防止被膜の形成に使用
されると同様のものが使用し得る。かかる化合物の硬化
方法は特に限定されるものではなく、紫外線照射により
硬化する化合物、電子線照射により硬化する化合物、放
射線照射により硬化する化合物、加熱により硬化する化
合物などを用いることができる。
を構成する一成分である低屈折率硬化被膜を与え得る化
合物とは、基材の表面に塗布後、硬化されることによっ
て、低屈折率の反射防止被膜を形成することができる化
合物であって、通常の単層の反射防止被膜の形成に使用
されると同様のものが使用し得る。かかる化合物の硬化
方法は特に限定されるものではなく、紫外線照射により
硬化する化合物、電子線照射により硬化する化合物、放
射線照射により硬化する化合物、加熱により硬化する化
合物などを用いることができる。
【０００９】他の一成分である高屈折率硬化被膜を与え
得る化合物とは、基材の表面に塗布後、硬化されること
によって、高屈折率の反射防止被膜を形成することがで
きる化合物であって、上記した低屈折率硬化被膜を与え
得る化合物と組合わせて、通常の多層の反射防止被膜の
形成に使用されると同様のものが使用し得る。かかる化
合物の硬化方法は特に限定されるものではなく、紫外線
照射により硬化する化合物、電子線照射により硬化する
化合物、放射線照射により硬化する化合物、加熱により
硬化する化合物などを用いることができるが、低屈折率
硬化被膜を与え得る化合物の硬化方法と同様の方法で硬
化し得るものを選択して使用することが、塗布後の硬化
を容易にし得る点で好ましい。
得る化合物とは、基材の表面に塗布後、硬化されること
によって、高屈折率の反射防止被膜を形成することがで
きる化合物であって、上記した低屈折率硬化被膜を与え
得る化合物と組合わせて、通常の多層の反射防止被膜の
形成に使用されると同様のものが使用し得る。かかる化
合物の硬化方法は特に限定されるものではなく、紫外線
照射により硬化する化合物、電子線照射により硬化する
化合物、放射線照射により硬化する化合物、加熱により
硬化する化合物などを用いることができるが、低屈折率
硬化被膜を与え得る化合物の硬化方法と同様の方法で硬
化し得るものを選択して使用することが、塗布後の硬化
を容易にし得る点で好ましい。
【００１０】かかる低屈折率硬化被膜を与え得る化合物
と、高屈折率硬化被膜を与え得る化合物とは、低屈折率
硬化被膜を与え得る化合物が硬化されてなる被膜の表面
自由エネルギーが高屈折率硬化被膜を与え得る化合物が
硬化されてなる被膜の表面自由エネルギーよりも小さい
ことが必要であるが、本発明の反射防止被膜形成組成物
においては、かかる表面自由エネルギーの関係を満足す
るように、低屈折率硬化被膜を与え得る化合物と高屈折
率硬化被膜を与え得る化合物とを適宜選択して組合わせ
て使用される。
と、高屈折率硬化被膜を与え得る化合物とは、低屈折率
硬化被膜を与え得る化合物が硬化されてなる被膜の表面
自由エネルギーが高屈折率硬化被膜を与え得る化合物が
硬化されてなる被膜の表面自由エネルギーよりも小さい
ことが必要であるが、本発明の反射防止被膜形成組成物
においては、かかる表面自由エネルギーの関係を満足す
るように、低屈折率硬化被膜を与え得る化合物と高屈折
率硬化被膜を与え得る化合物とを適宜選択して組合わせ
て使用される。
【００１１】本発明の反射防止被膜成形組成物において
は、低屈折率硬化被膜を与え得る化合物が硬化された被
膜の表面自由エネルギーが、低屈折率硬化被膜を与え得
る化合物が硬化された被膜の表面自由エネルギーよりも
小さいので、塗布後硬化される際に、低屈折率硬化被膜
を与え得る化合物が高屈折率硬化被膜を与え得る化合物
よりも表面側（外側）に偏析し易い傾向にあり、その結
果、得られる被膜は、低屈折率硬化被膜が高屈折率硬化
被膜よりも表面側（外側）となって、多層（２層）の反
射防止層を構成するものと考えられる。かかる関係を満
足するためには、例えば低反射率硬化被膜を与え得る化
合物としてフッ素原子を含有する化合物を使用し、高屈
折率硬化被膜を与え得る化合物としてフッ素原子を含有
しない化合物を使用すればよい。
は、低屈折率硬化被膜を与え得る化合物が硬化された被
膜の表面自由エネルギーが、低屈折率硬化被膜を与え得
る化合物が硬化された被膜の表面自由エネルギーよりも
小さいので、塗布後硬化される際に、低屈折率硬化被膜
を与え得る化合物が高屈折率硬化被膜を与え得る化合物
よりも表面側（外側）に偏析し易い傾向にあり、その結
果、得られる被膜は、低屈折率硬化被膜が高屈折率硬化
被膜よりも表面側（外側）となって、多層（２層）の反
射防止層を構成するものと考えられる。かかる関係を満
足するためには、例えば低反射率硬化被膜を与え得る化
合物としてフッ素原子を含有する化合物を使用し、高屈
折率硬化被膜を与え得る化合物としてフッ素原子を含有
しない化合物を使用すればよい。
【００１２】低屈折率硬化被膜を与え得る化合物が硬化
されてなる硬化被膜の屈折率（ｎ1）と高屈折率硬化被
膜を与え得る化合物が硬化されてなる硬化被膜の屈折率
（ｎ 2）とは、その差が０．１以上であることが好まし
く、広い波長範囲における反射防止効果に優れる多層の
反射防止被膜を得ることができる。なお、低屈折率硬化
被膜を与え得る化合物が硬化されてなる硬化被膜の屈折
率（ｎ1）は通常、１．５以下、好ましくは１．４５以
下であり、通常は、１．１以上である。また、高屈折率
硬化被膜を与え得る化合物が硬化されてなる硬化被膜の
屈折率（ｎ2）は、通常１．５以上、好ましくは１．５
５以上であり、通常は１．７以下である。本発明の反射
防止被膜形成組成物における低屈折率硬化被膜を与え得
る化合物と、高屈折率硬化被膜を与え得る化合物との含
有量の比は、得られる反射防止被膜における低屈折率硬
化被膜の屈折率（ｎ1）および厚み、ならびに高屈折率
硬化被膜の屈折率（ｎ2）および厚みを勘案して、適宜
選択される。これらの値によって、得られる反射防止被
膜の可視光の反射防止性能、即ち反射を防止し得る波長
範囲、反射率が変化するからである。
されてなる硬化被膜の屈折率（ｎ1）と高屈折率硬化被
膜を与え得る化合物が硬化されてなる硬化被膜の屈折率
（ｎ 2）とは、その差が０．１以上であることが好まし
く、広い波長範囲における反射防止効果に優れる多層の
反射防止被膜を得ることができる。なお、低屈折率硬化
被膜を与え得る化合物が硬化されてなる硬化被膜の屈折
率（ｎ1）は通常、１．５以下、好ましくは１．４５以
下であり、通常は、１．１以上である。また、高屈折率
硬化被膜を与え得る化合物が硬化されてなる硬化被膜の
屈折率（ｎ2）は、通常１．５以上、好ましくは１．５
５以上であり、通常は１．７以下である。本発明の反射
防止被膜形成組成物における低屈折率硬化被膜を与え得
る化合物と、高屈折率硬化被膜を与え得る化合物との含
有量の比は、得られる反射防止被膜における低屈折率硬
化被膜の屈折率（ｎ1）および厚み、ならびに高屈折率
硬化被膜の屈折率（ｎ2）および厚みを勘案して、適宜
選択される。これらの値によって、得られる反射防止被
膜の可視光の反射防止性能、即ち反射を防止し得る波長
範囲、反射率が変化するからである。
【００１３】また、本発明の反射防止被膜形成組成物
は。他の成分、例えば溶剤、添加剤を含有していてもよ
い。溶剤としては、通常の反射防止被膜形成組成物に使
用されると同様のものが使用され、用いる低屈折率硬化
被膜を与え得る化合物および高屈折率硬化被膜を与え得
る化合物や、目的とする基材の材質などに応じて適宜選
択される。添加剤としては、得られる反射防止被膜の硬
度を高めるための無機微粒子からなるフィラー、架橋
剤、帯電防止性を付与するための導電性高分子、導電性
無機微粒子、耐擦傷性を付与するための滑剤などが挙げ
られる。
は。他の成分、例えば溶剤、添加剤を含有していてもよ
い。溶剤としては、通常の反射防止被膜形成組成物に使
用されると同様のものが使用され、用いる低屈折率硬化
被膜を与え得る化合物および高屈折率硬化被膜を与え得
る化合物や、目的とする基材の材質などに応じて適宜選
択される。添加剤としては、得られる反射防止被膜の硬
度を高めるための無機微粒子からなるフィラー、架橋
剤、帯電防止性を付与するための導電性高分子、導電性
無機微粒子、耐擦傷性を付与するための滑剤などが挙げ
られる。
【００１４】本発明の反射防止効果被膜形成組成物から
反射防止被膜を得るには、例えば反射防止効果被膜形成
組成物を基材の表面に塗布後、硬化させればよい。
反射防止被膜を得るには、例えば反射防止効果被膜形成
組成物を基材の表面に塗布後、硬化させればよい。
【００１５】基材としては特に限定されるものではな
く、例えば無機ガラスであってもよいし、アクリル系樹
脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリスチレン、スチレン
−アクリル共重合体、アクリロニトリル−スチレン共重
合体、ポリエチレン、ポリプロピレンなどのポリオレフ
ィン、シクロペンタジエンなどの合成樹脂であってもよ
い。また、その形状は特に限定されるものではなく、レ
ンズなどのように凸状または凹状であってもよいし、板
状またはフィルム状の平面状であってもよい。塗布方法
は特に限定されるものではなく、バーコーターによる方
法、ロールコーターによる方法、ディップコーターによ
る方法などの通常の方法で塗布することができる。溶剤
を使用した場合には、塗布後、溶剤を風乾などの方法に
より蒸発させる。
く、例えば無機ガラスであってもよいし、アクリル系樹
脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリスチレン、スチレン
−アクリル共重合体、アクリロニトリル−スチレン共重
合体、ポリエチレン、ポリプロピレンなどのポリオレフ
ィン、シクロペンタジエンなどの合成樹脂であってもよ
い。また、その形状は特に限定されるものではなく、レ
ンズなどのように凸状または凹状であってもよいし、板
状またはフィルム状の平面状であってもよい。塗布方法
は特に限定されるものではなく、バーコーターによる方
法、ロールコーターによる方法、ディップコーターによ
る方法などの通常の方法で塗布することができる。溶剤
を使用した場合には、塗布後、溶剤を風乾などの方法に
より蒸発させる。
【００１６】硬化方法は、用いた低屈折率硬化被膜を与
え得る化合物および高屈折率硬化被膜を与え得る化合物
に応じて適宜選択すればよく、紫外線照射、電子線照
射、放射線照射、加熱になどの方法により硬化すること
ができる。
え得る化合物および高屈折率硬化被膜を与え得る化合物
に応じて適宜選択すればよく、紫外線照射、電子線照
射、放射線照射、加熱になどの方法により硬化すること
ができる。
【００１７】かくして多層の反射防止被膜が得られる
が、かかる反射防止被膜の上にさらに本発明の反射防止
被膜形成組成物を塗布し、硬化させることによって、４
層の反射防止被膜を得ることもできる。また、塗布後、
硬化する操作を繰り返すことによって、６層またはそれ
以上の多層の反射防止被膜を得ることもできる。
が、かかる反射防止被膜の上にさらに本発明の反射防止
被膜形成組成物を塗布し、硬化させることによって、４
層の反射防止被膜を得ることもできる。また、塗布後、
硬化する操作を繰り返すことによって、６層またはそれ
以上の多層の反射防止被膜を得ることもできる。
【００１８】かくして得られる低反射基材は、例えば反
射率の小さいレンズ、液晶表示装置、陰極線管（ＣＲ
Ｔ）、プラズマディスプレイ、プロジェクションディス
プレイなどの各種ディスプレイや、それらの前面板など
の用途に使用し得る。
射率の小さいレンズ、液晶表示装置、陰極線管（ＣＲ
Ｔ）、プラズマディスプレイ、プロジェクションディス
プレイなどの各種ディスプレイや、それらの前面板など
の用途に使用し得る。
【００１９】
【発明の効果】本発明の反射防止被膜形成組成物は、１
回の塗布、硬化操作であっても、多層（２層）の反射防
止被膜を形成し得るので、多層の反射防止被膜を容易に
製造し得る。
回の塗布、硬化操作であっても、多層（２層）の反射防
止被膜を形成し得るので、多層の反射防止被膜を容易に
製造し得る。
【００２０】
【実施例】以下、実施例により本発明をより詳細に説明
するが、本発明はかかる実施例により限定されるもので
はない。
するが、本発明はかかる実施例により限定されるもので
はない。
【００２１】参考例１ 低屈折率硬化被膜を与え得る化合物を含有する溶液〔ジ
ェイエスアール(株)製、「ＪＭ５０２２」、固形分の含
有量は３％、溶剤はメチルイソブチルケトン〕をアクリ
ル系樹脂板〔住友化学工業(株)製、「スミペックスＥ０
００」、厚み２ｍｍ〕の表面にバーコーター（５＃）を
用いて塗布後、紫外線を照射すれば、屈折率（ｎ1）
１．４３７の被膜を有する基材を得る。
ェイエスアール(株)製、「ＪＭ５０２２」、固形分の含
有量は３％、溶剤はメチルイソブチルケトン〕をアクリ
ル系樹脂板〔住友化学工業(株)製、「スミペックスＥ０
００」、厚み２ｍｍ〕の表面にバーコーター（５＃）を
用いて塗布後、紫外線を照射すれば、屈折率（ｎ1）
１．４３７の被膜を有する基材を得る。
【００２２】参考例２ ビス（４−メタクロイルチオフェニル）スルフィド（３
重量部）をメチルイソブチルケトン（９７重量部）に溶
解して得た溶液をアクリル系樹脂板〔スミペックスＥ０
００、厚み２ｍｍ〕の表面にバーコーター（５＃）を用
いて塗布後、風乾し、紫外線を照射すれば、屈折率（ｎ
2）１．６８９の被膜を有する基材を得る。
重量部）をメチルイソブチルケトン（９７重量部）に溶
解して得た溶液をアクリル系樹脂板〔スミペックスＥ０
００、厚み２ｍｍ〕の表面にバーコーター（５＃）を用
いて塗布後、風乾し、紫外線を照射すれば、屈折率（ｎ
2）１．６８９の被膜を有する基材を得る。
【００２３】実施例１ 低屈折率硬化被膜を与え得る化合物を含有する溶液〔ジ
ェイエスアール(株)製、「ＪＭ５０２２」、固形分の含
有量は３％、溶剤はメチルイソブチルケトン〕１００重
量部と、高屈折率硬化被膜を与え得る化合物〔ビス（４
−メタクロイルチオフェニル）スルフィド〕３重量部と
をマグネチックスターラーで１０分間攪拌して反射防止
被膜形成組成物を得た。なお、ビス（４−メタクロイル
チオフェニル）スルフィドをアクリル系樹脂板〔スミペ
ックスＥ０００〕塗布後硬化して得る被膜の表面自由エ
ネルギーは、低屈折率硬化被膜を与え得る化合物を含有
する溶液〔ＪＭ５０２２〕を塗布後硬化して得られる被
膜の表面自由エネルギーよりも小さい。この反射防止被
膜形成組成物をアクリル系樹脂板〔住友化学工業(株)
製、「スミペックスＥ０００」、厚み２ｍｍ〕の一方の
面にバーコーター（５＃）を用いて塗布後、風乾し、紫
外線を照射して、多層（２層）の反射防止層を有する低
反射基材を得た。
ェイエスアール(株)製、「ＪＭ５０２２」、固形分の含
有量は３％、溶剤はメチルイソブチルケトン〕１００重
量部と、高屈折率硬化被膜を与え得る化合物〔ビス（４
−メタクロイルチオフェニル）スルフィド〕３重量部と
をマグネチックスターラーで１０分間攪拌して反射防止
被膜形成組成物を得た。なお、ビス（４−メタクロイル
チオフェニル）スルフィドをアクリル系樹脂板〔スミペ
ックスＥ０００〕塗布後硬化して得る被膜の表面自由エ
ネルギーは、低屈折率硬化被膜を与え得る化合物を含有
する溶液〔ＪＭ５０２２〕を塗布後硬化して得られる被
膜の表面自由エネルギーよりも小さい。この反射防止被
膜形成組成物をアクリル系樹脂板〔住友化学工業(株)
製、「スミペックスＥ０００」、厚み２ｍｍ〕の一方の
面にバーコーター（５＃）を用いて塗布後、風乾し、紫
外線を照射して、多層（２層）の反射防止層を有する低
反射基材を得た。
【００２４】この低反射基材の他方の面に黒色のビニー
ルテープ〔ニチバン(株)製、「ビニールテープＶＴ−５
０」〕を貼り、分光光度計〔島津製作所製、「ＭＣＰ−
３１００」〕を用いて、反射防止被膜が形成された側の
面から入射角５°（鉛直方向を０°とした値）における
絶対鏡面反射測定を行ったところ、Ｙ値〔ＪＩＳ Ｚ８
７２２〕は０．８９であった。各波長における反射率
（アルミニウム板の反射率を１００％とする絶対鏡面反
射率）をプロットした図１に示す。
ルテープ〔ニチバン(株)製、「ビニールテープＶＴ−５
０」〕を貼り、分光光度計〔島津製作所製、「ＭＣＰ−
３１００」〕を用いて、反射防止被膜が形成された側の
面から入射角５°（鉛直方向を０°とした値）における
絶対鏡面反射測定を行ったところ、Ｙ値〔ＪＩＳ Ｚ８
７２２〕は０．８９であった。各波長における反射率
（アルミニウム板の反射率を１００％とする絶対鏡面反
射率）をプロットした図１に示す。
【図１】実施例１で得た低反射基材の各波長における反
射率をプロットした図である。
射率をプロットした図である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 康乗 幸雄 大阪府高槻市塚原二丁目10番１号 住友化 学工業株式会社内 Ｆターム(参考） 2K009 AA05 BB02 BB13 BB14 BB24 CC21 DD02 DD05 4F100 AK25 AK57 AL05A AT00B BA01 BA02 EH46A EJ08A EJ54 GB41 JA20A JB12A JL02 JM02A JN06A JN18A YY00A 4J038 EA001 NA19 PB08 PC03 PC08
Claims (4)
- 【請求項１】低屈折率硬化被膜を与え得る化合物と、高
屈折率硬化被膜を与え得る化合物とを含有する反射防止
被膜形成組成物であって、低屈折率硬化被膜を与え得る
化合物が硬化されてなる被膜の表面自由エネルギーが高
屈折率硬化被膜を与え得る化合物が硬化されてなる被膜
の表面自由エネルギーよりも小さいことを特徴とする反
射防止被膜形成組成物。 - 【請求項２】低屈折率硬化被膜を与え得る化合物が硬化
されてなる被膜の屈折率と、高屈折率硬化被膜を与え得
る化合物が硬化されてなる被膜の屈折率との差が０．１
以上である請求項１に記載の反射防止被膜形成組成物。 - 【請求項３】請求項１に記載の反射防止被膜形成組成物
が塗布後、硬化されてなる反射防止被膜。 - 【請求項４】請求項３に記載の反射防止被膜が基材の表
面に形成されてなる低反射基材。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10227990A JP2000053921A (ja) | 1998-08-12 | 1998-08-12 | 反射防止被膜形成組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10227990A JP2000053921A (ja) | 1998-08-12 | 1998-08-12 | 反射防止被膜形成組成物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000053921A true JP2000053921A (ja) | 2000-02-22 |
Family
ID=16869450
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10227990A Pending JP2000053921A (ja) | 1998-08-12 | 1998-08-12 | 反射防止被膜形成組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000053921A (ja) |
Cited By (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010515100A (ja) * | 2006-12-29 | 2010-05-06 | エルジー・ケム・リミテッド | 反射防止コーティング組成物およびこれを用いて製造された反射防止フィルム |
| US7879530B2 (en) | 2007-09-28 | 2011-02-01 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Antireflective coating composition, antireflective coating, and patterning process |
| KR101044113B1 (ko) | 2007-11-13 | 2011-06-28 | 주식회사 엘지화학 | 반사방지 코팅 조성물 및 이것을 이용하여 제조된 반사방지필름 |
| JP2012168416A (ja) * | 2011-02-15 | 2012-09-06 | Fujifilm Corp | 反射防止フィルムの製造方法、反射防止フィルム、塗布組成物 |
| US8313890B2 (en) | 2008-12-12 | 2012-11-20 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Antireflective coating composition, antireflective coating, and patterning process |
| US8951917B2 (en) | 2011-06-28 | 2015-02-10 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Composition for forming resist underlayer film and patterning process using the same |
| US9069247B2 (en) | 2012-02-14 | 2015-06-30 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Silicon-containing surface modifier, resist lower layer film-forming composition containing the same, and patterning process |
| US9075309B2 (en) | 2012-02-14 | 2015-07-07 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Silicon-containing surface modifier, resist underlayer film composition containing this, and patterning process |
| US9176382B2 (en) | 2013-03-15 | 2015-11-03 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Composition for forming titanium-containing resist underlayer film and patterning process |
| US9188866B2 (en) | 2013-03-15 | 2015-11-17 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Composition for forming titanium-containing resist underlayer film and patterning process |
| US9315670B2 (en) | 2013-02-15 | 2016-04-19 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Composition for forming resist underlayer film and patterning process |
| JP2016085883A (ja) * | 2014-10-27 | 2016-05-19 | ローム アンド ハース エレクトロニック マテリアルズ エルエルシーＲｏｈｍ ａｎｄ Ｈａａｓ Ｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ ＬＬＣ | 有機金属材料および方法 |
| US9377690B2 (en) | 2013-01-08 | 2016-06-28 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Compositon for forming metal oxide-containing film and patterning process |
-
1998
- 1998-08-12 JP JP10227990A patent/JP2000053921A/ja active Pending
Cited By (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010515100A (ja) * | 2006-12-29 | 2010-05-06 | エルジー・ケム・リミテッド | 反射防止コーティング組成物およびこれを用いて製造された反射防止フィルム |
| US8213086B2 (en) | 2006-12-29 | 2012-07-03 | Lg Chem, Ltd. | Coating composition for antireflection with resistance and antireflection characteristic and antireflection film prepared by using the same |
| US7879530B2 (en) | 2007-09-28 | 2011-02-01 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Antireflective coating composition, antireflective coating, and patterning process |
| KR101044113B1 (ko) | 2007-11-13 | 2011-06-28 | 주식회사 엘지화학 | 반사방지 코팅 조성물 및 이것을 이용하여 제조된 반사방지필름 |
| US8313890B2 (en) | 2008-12-12 | 2012-11-20 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Antireflective coating composition, antireflective coating, and patterning process |
| JP2012168416A (ja) * | 2011-02-15 | 2012-09-06 | Fujifilm Corp | 反射防止フィルムの製造方法、反射防止フィルム、塗布組成物 |
| US8951917B2 (en) | 2011-06-28 | 2015-02-10 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Composition for forming resist underlayer film and patterning process using the same |
| US9069247B2 (en) | 2012-02-14 | 2015-06-30 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Silicon-containing surface modifier, resist lower layer film-forming composition containing the same, and patterning process |
| US9075309B2 (en) | 2012-02-14 | 2015-07-07 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Silicon-containing surface modifier, resist underlayer film composition containing this, and patterning process |
| US9377690B2 (en) | 2013-01-08 | 2016-06-28 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Compositon for forming metal oxide-containing film and patterning process |
| US9315670B2 (en) | 2013-02-15 | 2016-04-19 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Composition for forming resist underlayer film and patterning process |
| US9176382B2 (en) | 2013-03-15 | 2015-11-03 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Composition for forming titanium-containing resist underlayer film and patterning process |
| US9188866B2 (en) | 2013-03-15 | 2015-11-17 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Composition for forming titanium-containing resist underlayer film and patterning process |
| JP2016085883A (ja) * | 2014-10-27 | 2016-05-19 | ローム アンド ハース エレクトロニック マテリアルズ エルエルシーＲｏｈｍ ａｎｄ Ｈａａｓ Ｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ ＬＬＣ | 有機金属材料および方法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3314965B2 (ja) | 耐擦傷性防眩フィルム、偏光板及びその製造方法 | |
| KR100916171B1 (ko) | 방현성 하드코트 필름, 이를 포함하는 편광판 및화상표시장치 | |
| US10564324B2 (en) | Optical layered body | |
| EP2749916A2 (en) | Anti-glare film | |
| JP2000053921A (ja) | 反射防止被膜形成組成物 | |
| US10908322B2 (en) | Antistatic hardcoat film, process for producing same, polarizer, and image display device | |
| KR20240113425A (ko) | 반사 방지 필름 | |
| CN101900841A (zh) | 抗反射膜和包括其的偏振板 | |
| JPH1134243A (ja) | 防眩性ハードコートフィルム | |
| JP2012053178A (ja) | 防眩性帯電防止ハードコートフィルム及び偏光板 | |
| KR101410186B1 (ko) | 광학 필름의 제조 방법 | |
| CN108136753B (zh) | 层叠膜及其制造方法、偏振片、液晶面板、以及液晶显示装置 | |
| JP2002296406A (ja) | 反射干渉色の少ない反射防止基材 | |
| KR101166170B1 (ko) | 박막 적층체 | |
| KR101772232B1 (ko) | 방현성 하드 코트 필름 및 그것을 이용한 편광판 | |
| JP4882183B2 (ja) | 防眩性フィルム | |
| TWI468739B (zh) | 光學片材 | |
| TW201027134A (en) | Optical sheet | |
| JP2006126808A (ja) | 光学積層体 | |
| CN110462450A (zh) | 防反射膜 | |
| JPH11288225A (ja) | デイスプレイ前面板用転写材 | |
| JP2021038386A (ja) | 活性エネルギー線硬化型防眩性ハードコート剤、硬化膜、及び積層フィルム | |
| KR101031817B1 (ko) | 방현성 필름 | |
| US20030031874A1 (en) | Flame retardant optical films | |
| JP2001264507A (ja) | 減反射材、製造方法および用途 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20050524 |
|
| RD05 | Notification of revocation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7425 Effective date: 20080125 |
|
| RD03 | Notification of appointment of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423 Effective date: 20080220 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20081001 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090113 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20090526 |