JP2000053681A - 三環性複素環化合物を含有する抗菌剤 - Google Patents
三環性複素環化合物を含有する抗菌剤Info
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Landscapes
- Nitrogen Condensed Heterocyclic Rings (AREA)
- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 本発明は優れた抗菌活性を有する三環性複素
環化合物を有効成分として含有する抗菌剤を提供する。 【解決手段】一般式 【化1】 [式中、Aはそれぞれ置換基を有してもよいピロリジニ
ルアルキルチオ基、フェニルアルキルチオ基若しくはア
ミノアルカノイルオキシ基または置換基を有するアミノ
基を示す。]を有する三環性複素環化合物またはその薬
理上許容される塩若しくは誘導体を有効成分として含有
する組成物。
環化合物を有効成分として含有する抗菌剤を提供する。 【解決手段】一般式 【化1】 [式中、Aはそれぞれ置換基を有してもよいピロリジニ
ルアルキルチオ基、フェニルアルキルチオ基若しくはア
ミノアルカノイルオキシ基または置換基を有するアミノ
基を示す。]を有する三環性複素環化合物またはその薬
理上許容される塩若しくは誘導体を有効成分として含有
する組成物。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、優れた抗菌活性を
有する三環性複素環化合物またはその薬理上許容される
塩若しくは誘導体を有効成分として含有する抗菌剤に関
する。
有する三環性複素環化合物またはその薬理上許容される
塩若しくは誘導体を有効成分として含有する抗菌剤に関
する。
【0002】
【従来の技術】チエナマイシン誘導体は、すぐれた抗菌
活性を有しているが、人体内に存在するチエナマイシン
誘導体の不活化酵素であるデヒドロペプチダーゼ−Iで
分解されその活性を失い、尿中回収率が低いことが報告
されている(H.Kroppetal.,Antimi
crob.Agents Chemother.,22
62,(1982);S.R.Norrby et
al.,ibid.,23,300(1983))。
活性を有しているが、人体内に存在するチエナマイシン
誘導体の不活化酵素であるデヒドロペプチダーゼ−Iで
分解されその活性を失い、尿中回収率が低いことが報告
されている(H.Kroppetal.,Antimi
crob.Agents Chemother.,22
62,(1982);S.R.Norrby et
al.,ibid.,23,300(1983))。
【0003】一方、三環性のβ−ラクタム化合物として
は特開平3−167187号公報、特開平4−1783
89号公報等にいくつかの化合物が報告されている。こ
の系統に属する化合物はトリバクタム若しくはトリネム
と呼ばれ、その中では下記の化学式で表されるSanf
etrinemが良く知られている(Di Modug
no et al.,Antimicrob.Agen
ts Chemother.,38,2362(199
4))。
は特開平3−167187号公報、特開平4−1783
89号公報等にいくつかの化合物が報告されている。こ
の系統に属する化合物はトリバクタム若しくはトリネム
と呼ばれ、その中では下記の化学式で表されるSanf
etrinemが良く知られている(Di Modug
no et al.,Antimicrob.Agen
ts Chemother.,38,2362(199
4))。
【0004】
【化8】
【0005】
【発明が解決しようとする課題】チエナマイシン誘導体
は、一般に優れた抗菌活性を示すが、化学的安定性やデ
ヒドロペプチダーゼ−Iに対する問題があり、一方Sa
nfetrinemに代表されるトリネム誘導体はデヒ
ドロペプチダーゼ−Iに対する安定性は良いが、チエナ
マイシン誘導体に比べて抗菌活性がやや劣る欠点があ
る。そこで、デヒドロペプチダーゼ−Iに対する安定性
が良く、優れた抗菌活性を示すトリネム化合物の出現が
望まれている。
は、一般に優れた抗菌活性を示すが、化学的安定性やデ
ヒドロペプチダーゼ−Iに対する問題があり、一方Sa
nfetrinemに代表されるトリネム誘導体はデヒ
ドロペプチダーゼ−Iに対する安定性は良いが、チエナ
マイシン誘導体に比べて抗菌活性がやや劣る欠点があ
る。そこで、デヒドロペプチダーゼ−Iに対する安定性
が良く、優れた抗菌活性を示すトリネム化合物の出現が
望まれている。
【0006】発明者等は、これらの欠点を解決すべく種
々検討し、新規な三環性複素環誘導体(I)、その薬理
上許容される塩および誘導体が、抗菌力が強く、デヒド
ロペプチダーゼ−Iに対して安定であり、更に尿中率も
高く、従って抗菌剤の有効成分として有用であることを
見いだし、本発明を完成した。
々検討し、新規な三環性複素環誘導体(I)、その薬理
上許容される塩および誘導体が、抗菌力が強く、デヒド
ロペプチダーゼ−Iに対して安定であり、更に尿中率も
高く、従って抗菌剤の有効成分として有用であることを
見いだし、本発明を完成した。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明の抗菌剤の有効成
分である三環性複素環化合物は、一般式
分である三環性複素環化合物は、一般式
【0008】
【化9】
【0009】を有する。
【0010】式中、Aは次の式,,またはのい
ずれかの基を示す。
ずれかの基を示す。
【0011】式
【0012】
【化10】
【0013】[式中、kは0または1を示し、mは0、
1または2を示し、R2 は水素原子、C1 〜C4 アルキ
ル基、1〜3個の置換基を有してもよいC7 〜C14アラ
ルキル基(該置換基はハロゲン原子、C1 〜C4 アルキ
ル基またはカルバモイル基を示す)、1〜3個の置換基
を有してもよい1〜3個の窒素、酸素若しくは硫黄原子
を含有する5〜6員ヘテロアラルキル基(該置換基はハ
ロゲン原子、C1 〜C4 アルキル基またはカルバモイル
基を示す)、式−C(=NH)R4 で表される基(式
中、R4 は水素原子、C1 〜C4 アルキル基、アミノ基
またはモノ−若しくはジ−C1 〜C4 アルキルアミノ基
を示す)、1〜3個の窒素、酸素若しくは硫黄原子を含
有する5〜6員ヘテロシクリル基、または1〜3個の窒
素、酸素若しくは硫黄原子を含有する5〜6員ヘテロア
リール基を示し、R3 は水素原子、オキソ基、スルファ
モイルアミノメチル基、式−COR5で表される基(式
中、R5 はアミノ基、モノ−若しくはジ−C1 〜C4 ア
ルキルアミノ基、式
1または2を示し、R2 は水素原子、C1 〜C4 アルキ
ル基、1〜3個の置換基を有してもよいC7 〜C14アラ
ルキル基(該置換基はハロゲン原子、C1 〜C4 アルキ
ル基またはカルバモイル基を示す)、1〜3個の置換基
を有してもよい1〜3個の窒素、酸素若しくは硫黄原子
を含有する5〜6員ヘテロアラルキル基(該置換基はハ
ロゲン原子、C1 〜C4 アルキル基またはカルバモイル
基を示す)、式−C(=NH)R4 で表される基(式
中、R4 は水素原子、C1 〜C4 アルキル基、アミノ基
またはモノ−若しくはジ−C1 〜C4 アルキルアミノ基
を示す)、1〜3個の窒素、酸素若しくは硫黄原子を含
有する5〜6員ヘテロシクリル基、または1〜3個の窒
素、酸素若しくは硫黄原子を含有する5〜6員ヘテロア
リール基を示し、R3 は水素原子、オキソ基、スルファ
モイルアミノメチル基、式−COR5で表される基(式
中、R5 はアミノ基、モノ−若しくはジ−C1 〜C4 ア
ルキルアミノ基、式
【0014】
【化11】
【0015】で表される基(式中、nは1または2を示
し、R6 は水素原子、C1 〜C4 アルキル基、式−C
(=NH)R4aで表される基(式中、R4aは水素原子、
C1 〜C4 アルキル基、アミノ基またはモノ−若しくは
ジ−C1 〜C4 アルキルアミノ基を示す)、1〜3個の
窒素、酸素若しくは硫黄原子を含有する5〜6員ヘテロ
シクリル基、または1〜3個の窒素、酸素若しくは硫黄
原子を含有する5〜6員ヘテロアリール基を示す)、ま
たは式
し、R6 は水素原子、C1 〜C4 アルキル基、式−C
(=NH)R4aで表される基(式中、R4aは水素原子、
C1 〜C4 アルキル基、アミノ基またはモノ−若しくは
ジ−C1 〜C4 アルキルアミノ基を示す)、1〜3個の
窒素、酸素若しくは硫黄原子を含有する5〜6員ヘテロ
シクリル基、または1〜3個の窒素、酸素若しくは硫黄
原子を含有する5〜6員ヘテロアリール基を示す)、ま
たは式
【0016】
【化12】
【0017】で表される基(式中、sは0、1または2
を示し、pは0または1を示し、R7は水素原子または
C1 〜C4 アルキル基を示し、R8 は水素原子、C1 〜
C4 アルキル基または式−C(=NH)R4aで表される
基(式中、R4aは水素原子、C1 〜C4 アルキル基、ア
ミノ基またはモノ−若しくはジ−C1 〜C4 アルキルア
ミノ基を示す)を示す)を示す)を示す。] 式
を示し、pは0または1を示し、R7は水素原子または
C1 〜C4 アルキル基を示し、R8 は水素原子、C1 〜
C4 アルキル基または式−C(=NH)R4aで表される
基(式中、R4aは水素原子、C1 〜C4 アルキル基、ア
ミノ基またはモノ−若しくはジ−C1 〜C4 アルキルア
ミノ基を示す)を示す)を示す)を示す。] 式
【0018】
【化13】
【0019】[式中、qは0、1または2を示し、R9
は1〜3個の置換基を有してもよいフェニル基(該置換
基はC1 〜C4 アルキル基、C1 〜C4 アルコキシ基、
ニトロ基、ハロゲン原子、水酸基、シアノ基、カルバモ
イル基、モノ−若しくはジ−C1 〜C4 アルキルカルバ
モイル基、スルファモイル基、または1〜3個の窒素、
酸素若しくは硫黄原子を含有する5〜6員ヘテロアリー
ル基を示す)を示す。] 式
は1〜3個の置換基を有してもよいフェニル基(該置換
基はC1 〜C4 アルキル基、C1 〜C4 アルコキシ基、
ニトロ基、ハロゲン原子、水酸基、シアノ基、カルバモ
イル基、モノ−若しくはジ−C1 〜C4 アルキルカルバ
モイル基、スルファモイル基、または1〜3個の窒素、
酸素若しくは硫黄原子を含有する5〜6員ヘテロアリー
ル基を示す)を示す。] 式
【0020】
【化14】
【0021】[式中、rは0,1,2または3を示し、
R10は水素原子またはC1 〜C4 アルキル基を示し、R
11は水素原子、C1 〜C4 アルキル基または式−C(=
NH)R4 で表される基(式中、R4 は水素原子、C1
〜C4 アルキル基、アミノ基またはモノ−若しくはジ−
C1 〜C4 アルキルアミノ基を示す)を示す。] 式
R10は水素原子またはC1 〜C4 アルキル基を示し、R
11は水素原子、C1 〜C4 アルキル基または式−C(=
NH)R4 で表される基(式中、R4 は水素原子、C1
〜C4 アルキル基、アミノ基またはモノ−若しくはジ−
C1 〜C4 アルキルアミノ基を示す)を示す。] 式
【0022】
【化15】
【0023】[式中、R12は水素原子、C1 〜C4 アル
キル基または式−C(=NH)R4で表される基(式
中、R4 は水素原子、C1 〜C4 アルキル基、アミノ基
またはモノ−若しくはジ−C1 〜C4 アルキルアミノ基
を示す)を示し、R13は1〜3個の置換基を有するC1
〜C4 アルキル基(該置換基はハロゲン原子、カルバモ
イル基または水酸基を示す)、C3 〜C6 シクロアルキ
ル基、1〜3個の置換基を有してもよいC6 〜C10アリ
ール基、1〜3個の置換基を有してもよいC7 〜C14ア
ラルキル基(該置換基は、ニトロ基、ハロゲン原子、メ
チル基、アミノ基、スルファモイル基、カルバモイル
基、メチルカルバモイル基、ジメチルカルバモイル基、
1〜3個の窒素、酸素若しくは硫黄原子を含有する5〜
6員ヘテロアリール基、メトキシ基、ジフルオロメトキ
シ基、メチレンジオキシ基、ベンジルオキシ基、ピリジ
ルメトキシ基またはアセチルアミノ基を示す)、下記の
置換基群(a)から選ばれる1〜3個の置換基を有して
もよい1〜3個の窒素、酸素若しくは硫黄原子を含有す
る5〜6員ヘテロアリール基若しくはベンゼン環縮合5
〜6員ヘテロアリール基、または、下記の置換基群
(a)から選ばれる1〜3個の置換基を有してもよい1
〜3個の窒素、酸素若しくは硫黄原子を含有する5〜6
員ヘテロアラルキル基若しくはベンゼン環縮合5〜6員
ヘテロアラルキル基を示す。
キル基または式−C(=NH)R4で表される基(式
中、R4 は水素原子、C1 〜C4 アルキル基、アミノ基
またはモノ−若しくはジ−C1 〜C4 アルキルアミノ基
を示す)を示し、R13は1〜3個の置換基を有するC1
〜C4 アルキル基(該置換基はハロゲン原子、カルバモ
イル基または水酸基を示す)、C3 〜C6 シクロアルキ
ル基、1〜3個の置換基を有してもよいC6 〜C10アリ
ール基、1〜3個の置換基を有してもよいC7 〜C14ア
ラルキル基(該置換基は、ニトロ基、ハロゲン原子、メ
チル基、アミノ基、スルファモイル基、カルバモイル
基、メチルカルバモイル基、ジメチルカルバモイル基、
1〜3個の窒素、酸素若しくは硫黄原子を含有する5〜
6員ヘテロアリール基、メトキシ基、ジフルオロメトキ
シ基、メチレンジオキシ基、ベンジルオキシ基、ピリジ
ルメトキシ基またはアセチルアミノ基を示す)、下記の
置換基群(a)から選ばれる1〜3個の置換基を有して
もよい1〜3個の窒素、酸素若しくは硫黄原子を含有す
る5〜6員ヘテロアリール基若しくはベンゼン環縮合5
〜6員ヘテロアリール基、または、下記の置換基群
(a)から選ばれる1〜3個の置換基を有してもよい1
〜3個の窒素、酸素若しくは硫黄原子を含有する5〜6
員ヘテロアラルキル基若しくはベンゼン環縮合5〜6員
ヘテロアラルキル基を示す。
【0024】置換基群(a):ハロゲン原子、C1 〜C
4 アルコキシカルボニル基、カルボキシ基、置換基を有
してもよいアミノ基(該置換基はカルバモイル基、チオ
カルバモイル基、C1 〜C4 アルキル基、2−ヒドロキ
シエチル基、カルバモイルメチル基またはカルボキシメ
チル基を示す)、置換基を有してもよいスルファモイル
基(該置換基はC1 〜C4 アルキル基またはフェニル基
を示す)、フェニルスルホニル基、ハロゲン原子で置換
されてもよいフェニルチオ基、ピリジルチオ基、メトキ
シ基で置換されてもよいC7 〜C14アラルキル基、置換
基を有してもよいC1 〜C4 アルキル基(該置換基はカ
ルボキシ基、水酸基、ピロリジニル基、モルホリニル
基、ピペリジニル基、イミダゾリル基、N−メチルイミ
ダゾリル基、ハロゲン原子、ジメチルアミノ基、メチル
アミノ基、アミノ基、4−メトキシフェニル基、カルバ
モイル基、フェニルカルバモイル基またはエトキシカル
ボニル基を示す)、置換基を有してもよいフェニル若し
くはナフチル基(該置換基はハロゲン原子、C1 〜C4
アルキル基、C1 〜C4 アルコキシ基、スルファモイル
基、水酸基、カルボキシメトキシ基、カルバモイルメト
キシ基、アミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ
基、トリメチルアンモニオ基、N−カルバモイルメチル
−N,N−ジメチルアンモニオ基またはN−2−ヒドロ
キシエチル−N,N−ジメチルアンモニオ基を示す)、
置換基を有してもよいC1 〜C4 アルキルチオ基(該置
換基は水酸基、フェニル基、ピリジル基を示す)、N原
子に置換基を有するピリジニオ基(該置換基はメチル
基、カルバモイルメチル基、2−ヒドロキシエチル基ま
たはカルボキシメチル基を示す)、フェノキシ基、トリ
メチルアンモニオ基、N−カルバモイルメチル−N,N
−ジメチルアンモニオ基、N−2−ヒドロキシエチル−
N,N−ジメチルアンモニオ基、置換基を有してもよい
カルバモイル若しくはチオカルバモイル基(該置換基は
C1 〜C4 アルキル基、2−ヒドロキシエチル基、カル
バモイルメチル基を示す)、または、メチル基で置換さ
れてもよい1〜3個の窒素、酸素若しくは硫黄原子を含
有する5〜6員ヘテロアリール基。] 式(I)の説明において、R2 、R4 、R4a、R5 、R
6 、R7 、R8 、R9 、R10、R11、R12、R13及び置
換基群(a)の「C1 〜C4 アルキル基」並びに「C1
〜C4 アルキルアミノ基」及び「C1 〜C4 アルキルカ
ルバモイル基」の「C1 〜C4 アルキル」部分は、炭素
数1乃至4個の直鎖状または分枝状アルキル基を示し、
例えばメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチ
ル、イソブチル、sec−ブチルまたはt−ブチル基を
あげることができ、好適にはメチルまたはエチル基であ
り、更に好適にはメチル基である。
4 アルコキシカルボニル基、カルボキシ基、置換基を有
してもよいアミノ基(該置換基はカルバモイル基、チオ
カルバモイル基、C1 〜C4 アルキル基、2−ヒドロキ
シエチル基、カルバモイルメチル基またはカルボキシメ
チル基を示す)、置換基を有してもよいスルファモイル
基(該置換基はC1 〜C4 アルキル基またはフェニル基
を示す)、フェニルスルホニル基、ハロゲン原子で置換
されてもよいフェニルチオ基、ピリジルチオ基、メトキ
シ基で置換されてもよいC7 〜C14アラルキル基、置換
基を有してもよいC1 〜C4 アルキル基(該置換基はカ
ルボキシ基、水酸基、ピロリジニル基、モルホリニル
基、ピペリジニル基、イミダゾリル基、N−メチルイミ
ダゾリル基、ハロゲン原子、ジメチルアミノ基、メチル
アミノ基、アミノ基、4−メトキシフェニル基、カルバ
モイル基、フェニルカルバモイル基またはエトキシカル
ボニル基を示す)、置換基を有してもよいフェニル若し
くはナフチル基(該置換基はハロゲン原子、C1 〜C4
アルキル基、C1 〜C4 アルコキシ基、スルファモイル
基、水酸基、カルボキシメトキシ基、カルバモイルメト
キシ基、アミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ
基、トリメチルアンモニオ基、N−カルバモイルメチル
−N,N−ジメチルアンモニオ基またはN−2−ヒドロ
キシエチル−N,N−ジメチルアンモニオ基を示す)、
置換基を有してもよいC1 〜C4 アルキルチオ基(該置
換基は水酸基、フェニル基、ピリジル基を示す)、N原
子に置換基を有するピリジニオ基(該置換基はメチル
基、カルバモイルメチル基、2−ヒドロキシエチル基ま
たはカルボキシメチル基を示す)、フェノキシ基、トリ
メチルアンモニオ基、N−カルバモイルメチル−N,N
−ジメチルアンモニオ基、N−2−ヒドロキシエチル−
N,N−ジメチルアンモニオ基、置換基を有してもよい
カルバモイル若しくはチオカルバモイル基(該置換基は
C1 〜C4 アルキル基、2−ヒドロキシエチル基、カル
バモイルメチル基を示す)、または、メチル基で置換さ
れてもよい1〜3個の窒素、酸素若しくは硫黄原子を含
有する5〜6員ヘテロアリール基。] 式(I)の説明において、R2 、R4 、R4a、R5 、R
6 、R7 、R8 、R9 、R10、R11、R12、R13及び置
換基群(a)の「C1 〜C4 アルキル基」並びに「C1
〜C4 アルキルアミノ基」及び「C1 〜C4 アルキルカ
ルバモイル基」の「C1 〜C4 アルキル」部分は、炭素
数1乃至4個の直鎖状または分枝状アルキル基を示し、
例えばメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチ
ル、イソブチル、sec−ブチルまたはt−ブチル基を
あげることができ、好適にはメチルまたはエチル基であ
り、更に好適にはメチル基である。
【0025】R2 、R9 、R13及び置換基群(a)にお
ける「ハロゲン原子」としては、フッ素、塩素または臭
素原子をあげることができ、好適にはフッ素原子または
塩素原子でであり、更に好適にはフッ素原子である。
ける「ハロゲン原子」としては、フッ素、塩素または臭
素原子をあげることができ、好適にはフッ素原子または
塩素原子でであり、更に好適にはフッ素原子である。
【0026】R2 の「C7 〜C14アラルキル基」は、フ
ェニル、ナフチル、インデニル基のような「C6 〜C10
アリール基」で置換された前記「C1 〜C4 アルキル
基」を示し、例えばベンジル、フェネチル、フェニルプ
ロピル、フェニルブチル、ナフチルメチル、ナフチルエ
チル、ナフチルプロピル、ナフチルブチル、インデニル
メチル、インデニルエチル基等をあげることができ、好
適にはベンジル、1−ナフチルメチル、2−ナフチルメ
チルまたはフェネチル基であり、更に好適にはベンジル
またはフェネチル基であり、より更に好適にはベンジル
基である。
ェニル、ナフチル、インデニル基のような「C6 〜C10
アリール基」で置換された前記「C1 〜C4 アルキル
基」を示し、例えばベンジル、フェネチル、フェニルプ
ロピル、フェニルブチル、ナフチルメチル、ナフチルエ
チル、ナフチルプロピル、ナフチルブチル、インデニル
メチル、インデニルエチル基等をあげることができ、好
適にはベンジル、1−ナフチルメチル、2−ナフチルメ
チルまたはフェネチル基であり、更に好適にはベンジル
またはフェネチル基であり、より更に好適にはベンジル
基である。
【0027】R2 の「1〜3個の窒素、酸素若しくは硫
黄原子を含有する5〜6員ヘテロアラルキル基」は、1
〜3個の窒素、酸素または硫黄原子を含む5〜6員ヘテ
ロアリール基(5〜6員芳香族複素環基)で置換された
C1 〜C4 アルキル基を示す。ここで、5〜6員ヘテロ
アリ−ル基としては、例えばピリジル、ピラジニル、ピ
リミジル、ピリダジニル、イミダゾリル、トリアゾリ
ル、チアゾリル、チアジアゾリル、ピロリル、ピラゾリ
ル、イソオキサゾリル、イソチアゾリル、フリル、チエ
ニル基等をあげることができ、好適にはピリジル、イミ
ダゾリル、チアゾリルまたはチアジアゾリル基である。
また、C1 〜C4 アルキル基は前記と同意義であり、好
適にはメチルまたはエチル基であり、更に好適にはメチ
ル基である。
黄原子を含有する5〜6員ヘテロアラルキル基」は、1
〜3個の窒素、酸素または硫黄原子を含む5〜6員ヘテ
ロアリール基(5〜6員芳香族複素環基)で置換された
C1 〜C4 アルキル基を示す。ここで、5〜6員ヘテロ
アリ−ル基としては、例えばピリジル、ピラジニル、ピ
リミジル、ピリダジニル、イミダゾリル、トリアゾリ
ル、チアゾリル、チアジアゾリル、ピロリル、ピラゾリ
ル、イソオキサゾリル、イソチアゾリル、フリル、チエ
ニル基等をあげることができ、好適にはピリジル、イミ
ダゾリル、チアゾリルまたはチアジアゾリル基である。
また、C1 〜C4 アルキル基は前記と同意義であり、好
適にはメチルまたはエチル基であり、更に好適にはメチ
ル基である。
【0028】上記「1〜3個の窒素、酸素若しくは硫黄
原子を含有する5〜6員ヘテロアラルキル基」として
は、例えばピリジルメチル、ピリジルエチル、ピリジル
プロピル、ピリジルブチル、ピラジニルメチル、ピリミ
ジルメチル、ピリダジニルメチル、イミダゾリルメチ
ル、イミダゾリルエチル、チアゾリルメチル、チアゾリ
ルエチル、ピロリルメチル、ピラゾリルメチル、イソオ
キサゾリルメチル、イソチアゾリルメチル、イソオキサ
ゾリルメチル、イソチアゾリルメチル、チエニルメチル
基等をあげることができ、好適にはピリジルメチル、イ
ミダゾリルメチル、チアゾリルメチル、チアゾリルエチ
ル、チアジアゾリルメチル基であり、更に好適にはピリ
ジルメチル基である。
原子を含有する5〜6員ヘテロアラルキル基」として
は、例えばピリジルメチル、ピリジルエチル、ピリジル
プロピル、ピリジルブチル、ピラジニルメチル、ピリミ
ジルメチル、ピリダジニルメチル、イミダゾリルメチ
ル、イミダゾリルエチル、チアゾリルメチル、チアゾリ
ルエチル、ピロリルメチル、ピラゾリルメチル、イソオ
キサゾリルメチル、イソチアゾリルメチル、イソオキサ
ゾリルメチル、イソチアゾリルメチル、チエニルメチル
基等をあげることができ、好適にはピリジルメチル、イ
ミダゾリルメチル、チアゾリルメチル、チアゾリルエチ
ル、チアジアゾリルメチル基であり、更に好適にはピリ
ジルメチル基である。
【0029】R2 の「C7 〜C14アラルキル基」および
「1〜3個の窒素、酸素若しくは硫黄原子を含有する5
〜6員ヘテロアラルキル基」は、1〜3個のハロゲン原
子、C1 〜C4 アルキルまたはカルバモイル基で置換さ
れていてもよく、好適な置換基はフッ素原子、メチルま
たはカルバモイル基である。
「1〜3個の窒素、酸素若しくは硫黄原子を含有する5
〜6員ヘテロアラルキル基」は、1〜3個のハロゲン原
子、C1 〜C4 アルキルまたはカルバモイル基で置換さ
れていてもよく、好適な置換基はフッ素原子、メチルま
たはカルバモイル基である。
【0030】R2 の「置換基を有してもよいC7 〜C14
アラルキル基」としては、例えばベンジル、フェネチ
ル、4−フルオロベンジル、4−カルバモイルベンジ
ル、4−メチルベンジル基を挙げることができる。
アラルキル基」としては、例えばベンジル、フェネチ
ル、4−フルオロベンジル、4−カルバモイルベンジ
ル、4−メチルベンジル基を挙げることができる。
【0031】R2 の「置換基を有してもよい1〜3個の
窒素、酸素若しくは硫黄原子を含有する5〜6員ヘテロ
アラルキル基」としては、例えば2−ピリジルメチル、
3−ピリジルメチル、4−ピリジルメチル、2−イミダ
ゾリルメチル、N−メチル−2−イミダゾリルメチル、
2−チアジアゾリルメチル、2−(4−メチル−5−チ
アゾリル)エチル基を挙げることができる。
窒素、酸素若しくは硫黄原子を含有する5〜6員ヘテロ
アラルキル基」としては、例えば2−ピリジルメチル、
3−ピリジルメチル、4−ピリジルメチル、2−イミダ
ゾリルメチル、N−メチル−2−イミダゾリルメチル、
2−チアジアゾリルメチル、2−(4−メチル−5−チ
アゾリル)エチル基を挙げることができる。
【0032】R4 、R4aおよびR5 の「モノ−若しくは
ジ−C1 〜C4 アルキルアミノ基」としては、例えばメ
チルアミノ、エチルアミノ、プロピルアミノ、ブチルア
ミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノまたはジプロピ
ルアミノ基をあげることができ、好適にはメチルアミノ
またはジメチルアミノ基であり、更に好適にはジメチル
アミノ基である。
ジ−C1 〜C4 アルキルアミノ基」としては、例えばメ
チルアミノ、エチルアミノ、プロピルアミノ、ブチルア
ミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノまたはジプロピ
ルアミノ基をあげることができ、好適にはメチルアミノ
またはジメチルアミノ基であり、更に好適にはジメチル
アミノ基である。
【0033】R2 、R6 、R8 、R11およびR12の「式
−C(=NH)R4 で表される基」または「式−C(=
NH)R4aで表される基」におけるR4 またはR4aとし
ては、例えば水素原子、メチル、エチル、プロピル、ブ
チル、アミノ、メチルアミノ、エチルアミノ、プロピル
アミノ、ブチルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミ
ノ基をあげることができ、好適には水素原子、メチルま
たはアミノ基である。
−C(=NH)R4 で表される基」または「式−C(=
NH)R4aで表される基」におけるR4 またはR4aとし
ては、例えば水素原子、メチル、エチル、プロピル、ブ
チル、アミノ、メチルアミノ、エチルアミノ、プロピル
アミノ、ブチルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミ
ノ基をあげることができ、好適には水素原子、メチルま
たはアミノ基である。
【0034】R2 、R6 、R8 、R11およびR12の「式
−C(=NH)R4 で表される基」または「式−C(=
NH)R4aで表される基」としては、例えばホルムイミ
ドイル、アセトイミドイル、プロピオンイミドイル、ア
ミジノ、メチルアミジノ、エチルアミジノまたはN,N
−ジメチルアミジノ基をあげることができ、好適にはホ
ルムイミドイル、アセトイミドイルまたはアミジノ基で
ある。
−C(=NH)R4 で表される基」または「式−C(=
NH)R4aで表される基」としては、例えばホルムイミ
ドイル、アセトイミドイル、プロピオンイミドイル、ア
ミジノ、メチルアミジノ、エチルアミジノまたはN,N
−ジメチルアミジノ基をあげることができ、好適にはホ
ルムイミドイル、アセトイミドイルまたはアミジノ基で
ある。
【0035】R2 の「1〜3個の窒素、酸素若しくは硫
黄原子を含有する5〜6員ヘテロシクリル基」は、1〜
3個の窒素、酸素若しくは硫黄原子を含有する5〜6員
脂肪族複素環基を示し、例えばピロリジニル、ピペリジ
ニル、モルホリニル、チオモルホリニル、テトラヒドロ
フリル、イミダゾリニル、チアゾリニル、ピペラジニル
基等を挙げることができる。これらのうち好適な基は、
2−イミダゾリニルまたは2−チアゾリニル基であり、
更に好適には2−イミダゾリン−2−イルまたは2−チ
アゾリン−2−イル基である。
黄原子を含有する5〜6員ヘテロシクリル基」は、1〜
3個の窒素、酸素若しくは硫黄原子を含有する5〜6員
脂肪族複素環基を示し、例えばピロリジニル、ピペリジ
ニル、モルホリニル、チオモルホリニル、テトラヒドロ
フリル、イミダゾリニル、チアゾリニル、ピペラジニル
基等を挙げることができる。これらのうち好適な基は、
2−イミダゾリニルまたは2−チアゾリニル基であり、
更に好適には2−イミダゾリン−2−イルまたは2−チ
アゾリン−2−イル基である。
【0036】R2 の「1〜3個の窒素、酸素若しくは硫
黄原子を含有する5〜6員ヘテロアリール基」は、1〜
3個の窒素、酸素若しくは硫黄原子を含有する5〜6員
芳香族複素環基を示し、前記「5〜6員ヘテロアラルキ
ル基」の定義における「5〜6員ヘテロアリール基」と
同意義であり、好適な基はイミダゾリル、チアゾリルま
たはピリジル基であり、更に好適には2−イミダゾリ
ル、2−チアゾリルまたは2−ピリジル基である。
黄原子を含有する5〜6員ヘテロアリール基」は、1〜
3個の窒素、酸素若しくは硫黄原子を含有する5〜6員
芳香族複素環基を示し、前記「5〜6員ヘテロアラルキ
ル基」の定義における「5〜6員ヘテロアリール基」と
同意義であり、好適な基はイミダゾリル、チアゾリルま
たはピリジル基であり、更に好適には2−イミダゾリ
ル、2−チアゾリルまたは2−ピリジル基である。
【0037】式で表される基において、kは0および
1いずれも好ましく、mは0、1および2いずれも好ま
しい。
1いずれも好ましく、mは0、1および2いずれも好ま
しい。
【0038】R2 全体として好適な基は、水素原子、C
1 〜C4 アルキル基、1〜2個の置換基を有してもよい
ベンジル、フェネチル、ナフチルメチル、ピリジルメチ
ル、イミダゾリルメチル、チアゾリルメチル、チアゾリ
ルエチル若しくはチアジアゾリルメチル基(該置換基は
フッ素原子、メチル基またはカルバモイル基を示す)、
式−C(=NH)R4 で表される基(式中、R4 は水素
原子、メチル基またはアミノ基を示す)、2−イミダゾ
リニル基、2−チアゾリニル基、イミダゾリル基、チア
ゾリル基またはピリジル基であり、更に好適には水素原
子、メチル基、エチル基、1〜2個の置換基を有しても
よいベンジル若しくはピリジルメチル基(該置換基はフ
ッ素原子、メチル基またはカルバモイル基を示す)、ホ
ルムイミドイル基、アセトイミドイル基、アミジノ基、
2−イミダゾリン−2−イル基または2−チアゾリン−
2−イル基であり、より更に好適には水素原子、メチル
基、エチル基、ベンジル基、ピリジルメチル基、ホルム
イミドイル基、アセトイミドイル基、アミジノ基、2−
イミダゾリン−2−イル基または2−チアゾリン−2−
イル基である。
1 〜C4 アルキル基、1〜2個の置換基を有してもよい
ベンジル、フェネチル、ナフチルメチル、ピリジルメチ
ル、イミダゾリルメチル、チアゾリルメチル、チアゾリ
ルエチル若しくはチアジアゾリルメチル基(該置換基は
フッ素原子、メチル基またはカルバモイル基を示す)、
式−C(=NH)R4 で表される基(式中、R4 は水素
原子、メチル基またはアミノ基を示す)、2−イミダゾ
リニル基、2−チアゾリニル基、イミダゾリル基、チア
ゾリル基またはピリジル基であり、更に好適には水素原
子、メチル基、エチル基、1〜2個の置換基を有しても
よいベンジル若しくはピリジルメチル基(該置換基はフ
ッ素原子、メチル基またはカルバモイル基を示す)、ホ
ルムイミドイル基、アセトイミドイル基、アミジノ基、
2−イミダゾリン−2−イル基または2−チアゾリン−
2−イル基であり、より更に好適には水素原子、メチル
基、エチル基、ベンジル基、ピリジルメチル基、ホルム
イミドイル基、アセトイミドイル基、アミジノ基、2−
イミダゾリン−2−イル基または2−チアゾリン−2−
イル基である。
【0039】R5 の式(s1)で表される基において、
nは好適には1であり、式(s2)で表される基におい
て、sは好適には1であり、pは0または1いずれも好
ましい。
nは好適には1であり、式(s2)で表される基におい
て、sは好適には1であり、pは0または1いずれも好
ましい。
【0040】R6 は、好適には水素原子、C1 〜C4 ア
ルキル基、式−C(=NH)R4aで表される基(式中、
R4aは水素原子、メチル基またはアミノ基を示す)、2
−イミダゾリニル基または2−チアゾリニル基であり、
更に好適には水素原子、メチル、エチル、ホルムイミド
イル、アセトイミドイル、2−イミダゾリン−2−イル
または2−チアゾリン−2−イル基である。
ルキル基、式−C(=NH)R4aで表される基(式中、
R4aは水素原子、メチル基またはアミノ基を示す)、2
−イミダゾリニル基または2−チアゾリニル基であり、
更に好適には水素原子、メチル、エチル、ホルムイミド
イル、アセトイミドイル、2−イミダゾリン−2−イル
または2−チアゾリン−2−イル基である。
【0041】R7 及びR10は、好適には水素原子、メチ
ルまたはエチル基である。
ルまたはエチル基である。
【0042】R8 は、好適には水素原子、C1 〜C4 ア
ルキル基または式−C(=NH)R4aで表される基(式
中、R4aは水素原子、メチル基またはアミノ基を示す)
であり、更に好適には水素原子、メチル、エチル、ホル
ムイミドイルまたはアセトイミドイル基である。
ルキル基または式−C(=NH)R4aで表される基(式
中、R4aは水素原子、メチル基またはアミノ基を示す)
であり、更に好適には水素原子、メチル、エチル、ホル
ムイミドイルまたはアセトイミドイル基である。
【0043】R3 の「式−COR5 で表される基」とし
ては、例えばカルバモイル、メチルカルバモイル、ジメ
チルカルバモイル、1−ピペラジニルカルボニル、1−
ホモピペラジニルカルボニル、4−メチルピペラジン−
1−イルカルボニル、4−メチルホモピペラジン−1−
イルカルボニル、4−ホルムイミドイルピペラジン−1
−イルカルボニル、4−アセトイミドイルピペラジン−
1−イルカルボニル、4−アミジノピペラジン−1−イ
ルカルボニル、4−(2−イミダゾリン−2−イル)ピ
ペラジン−1−イルカルボニル、4−(2−チアゾリン
−2−イル)ピペラジン−1−イルカルボニル、3−ア
ミノピロリジン−1−イルカルボニル、3−アミノメチ
ルピロリジン−1−イルカルボニル、3−メチルアミノ
ピロリジン−1−イルカルボニル、3−メチルアミノメ
チルピロリジン−1−イルカルボニル、3−ホルムイミ
ドイルアミノピロリジン−1−イルカルボニル、3−ア
セトイミドイルアミノピロリジン−1−イルカルボニ
ル、3−グアニジノピロリジン−1−イルカルボニル、
アミノピペリジン−1−イルカルボニル、アミノメチル
ピペリジン−1−イルカルボニル、メチルアミノピペリ
ジン−1−イルカルボニル、メチルアミノメチルピペリ
ジン−1−イルカルボニル、ホルムイミドイルアミノピ
ペリジン−1−イルカルボニル、アセトイミドイルアミ
ノピペリジン−1−イルカルボニル、グアニジノピペリ
ジン−1−イルカルボニル、2−アミノアゼチジン−1
−イルカルボニル、2−アミノメチルアゼチジン−1−
イルカルボニル、2−メチルアミノアゼチジン−1−イ
ルカルボニル、2−メチルアミノメチルアゼチジン−1
−イルカルボニル、2−ホルムイミドイルアミノアゼチ
ジン−1−イルカルボニル、2−アセトイミドイルアミ
ノアゼチジン−1−イルカルボニルまたは2−グアニジ
ノアゼチジン−1−イルカルボニル基をあげることがで
き、好適にはカルバモイル、ジメチルカルバモイル、1
−ピペラジニルカルボニル、3−アミノピロリジン−1
−イルカルボニル、3−アミノメチルピロリジン−1−
イルカルボニルまたは2−アミノアゼチジン−1−イル
カルボニル基であり、更に好適にはカルバモイル、1−
ピペラジニルカルボニル、3−アミノピロリジン−1−
イルカルボニルまたは3−アミノメチルピロリジン−1
−イルカルボニル基である。
ては、例えばカルバモイル、メチルカルバモイル、ジメ
チルカルバモイル、1−ピペラジニルカルボニル、1−
ホモピペラジニルカルボニル、4−メチルピペラジン−
1−イルカルボニル、4−メチルホモピペラジン−1−
イルカルボニル、4−ホルムイミドイルピペラジン−1
−イルカルボニル、4−アセトイミドイルピペラジン−
1−イルカルボニル、4−アミジノピペラジン−1−イ
ルカルボニル、4−(2−イミダゾリン−2−イル)ピ
ペラジン−1−イルカルボニル、4−(2−チアゾリン
−2−イル)ピペラジン−1−イルカルボニル、3−ア
ミノピロリジン−1−イルカルボニル、3−アミノメチ
ルピロリジン−1−イルカルボニル、3−メチルアミノ
ピロリジン−1−イルカルボニル、3−メチルアミノメ
チルピロリジン−1−イルカルボニル、3−ホルムイミ
ドイルアミノピロリジン−1−イルカルボニル、3−ア
セトイミドイルアミノピロリジン−1−イルカルボニ
ル、3−グアニジノピロリジン−1−イルカルボニル、
アミノピペリジン−1−イルカルボニル、アミノメチル
ピペリジン−1−イルカルボニル、メチルアミノピペリ
ジン−1−イルカルボニル、メチルアミノメチルピペリ
ジン−1−イルカルボニル、ホルムイミドイルアミノピ
ペリジン−1−イルカルボニル、アセトイミドイルアミ
ノピペリジン−1−イルカルボニル、グアニジノピペリ
ジン−1−イルカルボニル、2−アミノアゼチジン−1
−イルカルボニル、2−アミノメチルアゼチジン−1−
イルカルボニル、2−メチルアミノアゼチジン−1−イ
ルカルボニル、2−メチルアミノメチルアゼチジン−1
−イルカルボニル、2−ホルムイミドイルアミノアゼチ
ジン−1−イルカルボニル、2−アセトイミドイルアミ
ノアゼチジン−1−イルカルボニルまたは2−グアニジ
ノアゼチジン−1−イルカルボニル基をあげることがで
き、好適にはカルバモイル、ジメチルカルバモイル、1
−ピペラジニルカルボニル、3−アミノピロリジン−1
−イルカルボニル、3−アミノメチルピロリジン−1−
イルカルボニルまたは2−アミノアゼチジン−1−イル
カルボニル基であり、更に好適にはカルバモイル、1−
ピペラジニルカルボニル、3−アミノピロリジン−1−
イルカルボニルまたは3−アミノメチルピロリジン−1
−イルカルボニル基である。
【0044】R3 全体として好適な基は、水素原子、オ
キソ基、スルファモイルアミノメチル基、カルバモイル
基、ジメチルカルバモイル基、1−ピペラジニルカルボ
ニル基、アミノピロリジン−1−イルカルボニル基また
はアミノメチルピロリジン−1−イルカルボニル基であ
り、更に好適には水素原子、カルバモイル基、1−ピペ
ラジニルカルボニル基、3−アミノピロリジン−1−イ
ルカルボニル基または3−アミノメチルピロリジン−1
−イルカルボニル基であり、より更に好適には水素原子
である。
キソ基、スルファモイルアミノメチル基、カルバモイル
基、ジメチルカルバモイル基、1−ピペラジニルカルボ
ニル基、アミノピロリジン−1−イルカルボニル基また
はアミノメチルピロリジン−1−イルカルボニル基であ
り、更に好適には水素原子、カルバモイル基、1−ピペ
ラジニルカルボニル基、3−アミノピロリジン−1−イ
ルカルボニル基または3−アミノメチルピロリジン−1
−イルカルボニル基であり、より更に好適には水素原子
である。
【0045】式で表される基において、qは好適には
0または1である。
0または1である。
【0046】R9 の置換基における「モノ−若しくはジ
−C1 〜C4 アルキルカルバモイル基」としては、例え
ばメチルカルバモイル、エチルカルバモイル、プロピル
カルバモイル、ブチルカルバモイル、ジメチルカルバモ
イル、ジエチルカルバモイルまたはジプロピルカルバモ
イル基をあげることができ、好適にはメチルカルバモイ
ルまたはジメチルカルバモイル基である。
−C1 〜C4 アルキルカルバモイル基」としては、例え
ばメチルカルバモイル、エチルカルバモイル、プロピル
カルバモイル、ブチルカルバモイル、ジメチルカルバモ
イル、ジエチルカルバモイルまたはジプロピルカルバモ
イル基をあげることができ、好適にはメチルカルバモイ
ルまたはジメチルカルバモイル基である。
【0047】R9 の置換基における「1〜3個の窒素、
酸素若しくは硫黄原子を含有する5〜6員ヘテロアリー
ル基」は、R2 の「5〜6員ヘテロアラルキル基」の定
義における「5〜6員ヘテロアリール基」と同意義であ
り、好適にはイミダゾリル、トリアゾリル、ピリジルま
たはチアゾリル基であり、更に好適には1−イミダゾリ
ル、1−(1、2、3−トリアゾリル)、4−ピリジ
ル、2−チアゾリル基である。
酸素若しくは硫黄原子を含有する5〜6員ヘテロアリー
ル基」は、R2 の「5〜6員ヘテロアラルキル基」の定
義における「5〜6員ヘテロアリール基」と同意義であ
り、好適にはイミダゾリル、トリアゾリル、ピリジルま
たはチアゾリル基であり、更に好適には1−イミダゾリ
ル、1−(1、2、3−トリアゾリル)、4−ピリジ
ル、2−チアゾリル基である。
【0048】R9 の置換基のC1 〜C4 アルコキシ基と
しては、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポ
キシ、ブトキシ基を挙げることができ、好適にはメトキ
シまたはエトキシ基であり、更に好適にはメトキシ基で
ある。
しては、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポ
キシ、ブトキシ基を挙げることができ、好適にはメトキ
シまたはエトキシ基であり、更に好適にはメトキシ基で
ある。
【0049】R9 は、好適には1〜2個の置換基を有し
てもよいフェニル基(該置換基はC1 〜C4 アルキル
基、C1 〜C4 アルコキシ基、ニトロ基、ハロゲン原
子、水酸基、シアノ基、カルバモイル基、モノ−若しく
はジ−C1 〜C4 アルキルカルバモイル基、スルファモ
イル基、または1〜3個の窒素、酸素若しくは硫黄原子
を含有する5〜6員ヘテロアリール基を示す)であり、
更に好適には1〜2個の置換基を有してもよいフェニル
基(該置換基はメチル基、メトキシ基、ニトロ基、フッ
素原子、水酸基、シアノ基、カルバモイル基、ジメチル
カルバモイル基、スルファモイル基、イミダゾリル基、
トリアゾリル基、ピリジル基またはチアゾリル基を示
す)であり、より更に好適には1〜2個の置換基を有し
てもよいフェニル基(該置換基は、ニトロ基、フッ素原
子、カルバモイル基、ジメチルカルバモイル基、イミダ
ゾリル基、トリアゾリル基、またはチアゾリル基を示
す)である。
てもよいフェニル基(該置換基はC1 〜C4 アルキル
基、C1 〜C4 アルコキシ基、ニトロ基、ハロゲン原
子、水酸基、シアノ基、カルバモイル基、モノ−若しく
はジ−C1 〜C4 アルキルカルバモイル基、スルファモ
イル基、または1〜3個の窒素、酸素若しくは硫黄原子
を含有する5〜6員ヘテロアリール基を示す)であり、
更に好適には1〜2個の置換基を有してもよいフェニル
基(該置換基はメチル基、メトキシ基、ニトロ基、フッ
素原子、水酸基、シアノ基、カルバモイル基、ジメチル
カルバモイル基、スルファモイル基、イミダゾリル基、
トリアゾリル基、ピリジル基またはチアゾリル基を示
す)であり、より更に好適には1〜2個の置換基を有し
てもよいフェニル基(該置換基は、ニトロ基、フッ素原
子、カルバモイル基、ジメチルカルバモイル基、イミダ
ゾリル基、トリアゾリル基、またはチアゾリル基を示
す)である。
【0050】式で表される基において、rは好適には
0、1または2である。
0、1または2である。
【0051】R11およびR12は、好適には水素原子、C
1 〜C4 アルキル基または式−C(=NH)R4 で表さ
れる基(式中、R4 は水素原子、メチル基またはアミノ
基を示す)であり、更に好適には水素原子、メチル、エ
チル、ホルムイミドイルまたはアセトイミドイル基であ
る。
1 〜C4 アルキル基または式−C(=NH)R4 で表さ
れる基(式中、R4 は水素原子、メチル基またはアミノ
基を示す)であり、更に好適には水素原子、メチル、エ
チル、ホルムイミドイルまたはアセトイミドイル基であ
る。
【0052】R13の「1〜3個の置換基を有するC1 〜
C4 アルキル基」の置換基としては、例えばフッ素原
子、塩素原子、カルバモイル基または水酸基を挙げるこ
とができ、好適にはフッ素原子、カルバモイル基または
水酸基であり、更に好適には弗素原子である。
C4 アルキル基」の置換基としては、例えばフッ素原
子、塩素原子、カルバモイル基または水酸基を挙げるこ
とができ、好適にはフッ素原子、カルバモイル基または
水酸基であり、更に好適には弗素原子である。
【0053】R13の「1〜3個の置換基を有するC1 〜
C4 アルキル基」としては、例えば2−フルオロエチ
ル、2−クロロエチル、2−ヒドロキシエチル、2−カ
ルバモイルエチル、カルバモイルメチル、ジフルオロメ
チル、トリフルオロメチル、ヒドロキシプロピル、2、
3−ジヒドロキシ−1−プロピル基等を挙げることがで
き、好適には2−フルオロエチル、2−ヒドロキシエチ
ルまたはカルバモイルメチル基であり、更に好適には2
−フルオロエチル基である。
C4 アルキル基」としては、例えば2−フルオロエチ
ル、2−クロロエチル、2−ヒドロキシエチル、2−カ
ルバモイルエチル、カルバモイルメチル、ジフルオロメ
チル、トリフルオロメチル、ヒドロキシプロピル、2、
3−ジヒドロキシ−1−プロピル基等を挙げることがで
き、好適には2−フルオロエチル、2−ヒドロキシエチ
ルまたはカルバモイルメチル基であり、更に好適には2
−フルオロエチル基である。
【0054】R13の「C3 〜C6 シクロアルキル基」と
しては、例えばシクロプロピル、シクロブチル、シクロ
ペンチル、シクロヘキシル基等を挙げることができ、好
適にはシクロプロピル基である。
しては、例えばシクロプロピル、シクロブチル、シクロ
ペンチル、シクロヘキシル基等を挙げることができ、好
適にはシクロプロピル基である。
【0055】R13の「C6 〜C10アリール基」として
は、例えばフェニル、ナフチルまたはインデニル基を挙
げることができ、好適にはフェニルまたはナフチル基で
あり、更に好適にはフェニル基である。
は、例えばフェニル、ナフチルまたはインデニル基を挙
げることができ、好適にはフェニルまたはナフチル基で
あり、更に好適にはフェニル基である。
【0056】R13の「C7 〜C14アラルキル基」は、前
記「C6 〜C10アリール基」で置換されたC1 〜C4 ア
ルキル基であり、例えばベンジル、フェネチル、フェニ
ルプロピル、フェニルブチル、ナフチルメチル、ナフチ
ルエチル、ナフチルプロピル、ナフチルブチル、インデ
ニルメチル、インデニルエチル基等を挙げることがで
き、好適にはベンジル、ナフチルメチルまたはフェネチ
ル基であり、更に好適にはベンジル基である。
記「C6 〜C10アリール基」で置換されたC1 〜C4 ア
ルキル基であり、例えばベンジル、フェネチル、フェニ
ルプロピル、フェニルブチル、ナフチルメチル、ナフチ
ルエチル、ナフチルプロピル、ナフチルブチル、インデ
ニルメチル、インデニルエチル基等を挙げることがで
き、好適にはベンジル、ナフチルメチルまたはフェネチ
ル基であり、更に好適にはベンジル基である。
【0057】上記R13の「C6 〜C10アリール基」及び
「C7 〜C14アラルキル基」の置換基における「5〜6
員ヘテロアリール基」は、R2 の「5〜6員ヘテロアラ
ルキル基」の定義における「5〜6員ヘテロアリール
基」と同意義であり、好適にはイミダゾリル、トリアゾ
リルまたはチアゾリル基であり、更に好適には1−イミ
ダゾリル、1−(1、2、4−トリアゾリル)、4−チ
アゾリル基である。
「C7 〜C14アラルキル基」の置換基における「5〜6
員ヘテロアリール基」は、R2 の「5〜6員ヘテロアラ
ルキル基」の定義における「5〜6員ヘテロアリール
基」と同意義であり、好適にはイミダゾリル、トリアゾ
リルまたはチアゾリル基であり、更に好適には1−イミ
ダゾリル、1−(1、2、4−トリアゾリル)、4−チ
アゾリル基である。
【0058】上記R13の「C6 〜C10アリール基」及び
「C7 〜C14アラルキル基」の置換基として、好適には
ニトロ、ハロゲン原子、カルバモイル、スルファモイ
ル、イミダゾリル、チアゾリル、1、2、4−トリアゾ
リルまたはベンジルオキシ基である。
「C7 〜C14アラルキル基」の置換基として、好適には
ニトロ、ハロゲン原子、カルバモイル、スルファモイ
ル、イミダゾリル、チアゾリル、1、2、4−トリアゾ
リルまたはベンジルオキシ基である。
【0059】R13の「1〜3個の窒素、酸素若しくは硫
黄原子を含有する5〜6員ヘテロアリール基若しくはベ
ンゼン環縮合5〜6員ヘテロアリール基」において、
「5〜6員ヘテロアリール基」は前述と同意義であり、
「ベンゼン環縮合5〜6員ヘテロアリール基」はベンゼ
ン環と縮合した前記「5〜6員ヘテロアリール基」を示
す。該「ベンゼン環縮合5〜6員ヘテロアリール基」と
しては、例えばベンツイミダゾリル、ベンゾチアゾリ
ル、ベンツオキサゾリル、ベンゾフラニル、ベンゾチエ
ニル、キノリル、イソキノリル、インドリル基等をあげ
ることができ、好適にはベンツイミダゾリル、ベンゾチ
アゾリルまたはキノリル基である。
黄原子を含有する5〜6員ヘテロアリール基若しくはベ
ンゼン環縮合5〜6員ヘテロアリール基」において、
「5〜6員ヘテロアリール基」は前述と同意義であり、
「ベンゼン環縮合5〜6員ヘテロアリール基」はベンゼ
ン環と縮合した前記「5〜6員ヘテロアリール基」を示
す。該「ベンゼン環縮合5〜6員ヘテロアリール基」と
しては、例えばベンツイミダゾリル、ベンゾチアゾリ
ル、ベンツオキサゾリル、ベンゾフラニル、ベンゾチエ
ニル、キノリル、イソキノリル、インドリル基等をあげ
ることができ、好適にはベンツイミダゾリル、ベンゾチ
アゾリルまたはキノリル基である。
【0060】前記「1〜3個の窒素、酸素若しくは硫黄
原子を含有する5〜6員ヘテロアリール基若しくはベン
ゼン環縮合5〜6員ヘテロアリール基」としては、例え
ばピリジル、ピラジニル、ピリミジル、ピリダジニル、
イミダゾリル、トリアゾリル、チアゾリル、ピロリル、
チアジアゾリル、オキサゾリル、イソチアゾリル、イソ
キサゾリル、フリル、チエニル、ベンツイミダゾリル、
ベンゾチアゾリル、ベンツオキサゾリル、ベンゾフラニ
ル、ベンゾチエニル、キノリル、イソキノリル、インド
リル基等を挙げることができ、好適には、ピリジル、ピ
リミジル、イミダゾリル、トリアゾリル、チアゾリル、
チアジアゾリル、ベンツイミダゾリルまたはベンゾチア
ゾリル基であり、更に好適には2−ピリジル、3−ピリ
ジル、4−ピリジル、2−ピリミジル、2−イミダゾリ
ル、3−(1、2、4−トリアゾリル)、2−チアゾリ
ル、2−(1、3、4−チアジアゾリル)、2−ベンツ
イミダゾリルまたは2−ベンゾチアゾリル基である。
原子を含有する5〜6員ヘテロアリール基若しくはベン
ゼン環縮合5〜6員ヘテロアリール基」としては、例え
ばピリジル、ピラジニル、ピリミジル、ピリダジニル、
イミダゾリル、トリアゾリル、チアゾリル、ピロリル、
チアジアゾリル、オキサゾリル、イソチアゾリル、イソ
キサゾリル、フリル、チエニル、ベンツイミダゾリル、
ベンゾチアゾリル、ベンツオキサゾリル、ベンゾフラニ
ル、ベンゾチエニル、キノリル、イソキノリル、インド
リル基等を挙げることができ、好適には、ピリジル、ピ
リミジル、イミダゾリル、トリアゾリル、チアゾリル、
チアジアゾリル、ベンツイミダゾリルまたはベンゾチア
ゾリル基であり、更に好適には2−ピリジル、3−ピリ
ジル、4−ピリジル、2−ピリミジル、2−イミダゾリ
ル、3−(1、2、4−トリアゾリル)、2−チアゾリ
ル、2−(1、3、4−チアジアゾリル)、2−ベンツ
イミダゾリルまたは2−ベンゾチアゾリル基である。
【0061】R13の「1〜3個の窒素、酸素若しくは硫
黄原子を含有する5〜6員ヘテロアラルキル基若しくは
ベンゼン環縮合5〜6員ヘテロアラルキル基」におい
て、「5〜6員ヘテロアラルキル基」は前述と同意義で
あり、「ベンゼン環縮合5〜6員ヘテロアラルキル基」
は前記「ベンゼン環縮合5〜6員ヘテロアリール基」で
置換された「C1 〜C4 アルキル基」である。
黄原子を含有する5〜6員ヘテロアラルキル基若しくは
ベンゼン環縮合5〜6員ヘテロアラルキル基」におい
て、「5〜6員ヘテロアラルキル基」は前述と同意義で
あり、「ベンゼン環縮合5〜6員ヘテロアラルキル基」
は前記「ベンゼン環縮合5〜6員ヘテロアリール基」で
置換された「C1 〜C4 アルキル基」である。
【0062】前記「1〜3個の窒素、酸素若しくは硫黄
原子を含有する5〜6員ヘテロアラルキル基若しくはベ
ンゼン環縮合5〜6員ヘテロアラルキル基」としては、
例えばピリジルメチル、ピリジルエチル、ピリジルプロ
ピル、ピリジルブチル、ピラジニルメチル、ピラジルエ
チル、ピリミジルメチル、ピリミジルエチル、ピリダジ
ニルメチル、イミダゾリルメチル、イミダゾリルエチ
ル、チアゾリルメチル、チアゾリルエチル、チアゾリル
プロピル、ピロリルメチル、ピラゾリルメチル、イソオ
キサゾリルメチル、イソチアゾリルメチル、イソオキサ
ゾリルメチル、イソチアゾリルメチル、チエニルメチ
ル、チエニルエチル、ベンゾチアゾリルメチル、ベンツ
イミダゾリルメチル、キノリルメチル、イソキノリルメ
チル、インドリルメチル基等をあげることができ、好適
にはピリジルメチル、イミダゾリルメチル、チアゾリル
メチル、ベンゾチアゾリルメチル、ベンツイミダゾリル
メチルまたはキノリルメチル基であり、更に好適には2
−ピリジルメチル、3−ピリジルメチル、4−ピリジル
メチル、2−ベンゾチアゾリルメチル、2−ベンツイミ
ダゾリルメチルまたは2−キノリルメチル基である。
原子を含有する5〜6員ヘテロアラルキル基若しくはベ
ンゼン環縮合5〜6員ヘテロアラルキル基」としては、
例えばピリジルメチル、ピリジルエチル、ピリジルプロ
ピル、ピリジルブチル、ピラジニルメチル、ピラジルエ
チル、ピリミジルメチル、ピリミジルエチル、ピリダジ
ニルメチル、イミダゾリルメチル、イミダゾリルエチ
ル、チアゾリルメチル、チアゾリルエチル、チアゾリル
プロピル、ピロリルメチル、ピラゾリルメチル、イソオ
キサゾリルメチル、イソチアゾリルメチル、イソオキサ
ゾリルメチル、イソチアゾリルメチル、チエニルメチ
ル、チエニルエチル、ベンゾチアゾリルメチル、ベンツ
イミダゾリルメチル、キノリルメチル、イソキノリルメ
チル、インドリルメチル基等をあげることができ、好適
にはピリジルメチル、イミダゾリルメチル、チアゾリル
メチル、ベンゾチアゾリルメチル、ベンツイミダゾリル
メチルまたはキノリルメチル基であり、更に好適には2
−ピリジルメチル、3−ピリジルメチル、4−ピリジル
メチル、2−ベンゾチアゾリルメチル、2−ベンツイミ
ダゾリルメチルまたは2−キノリルメチル基である。
【0063】上記R13の「1〜3個の窒素、酸素若しく
は硫黄原子を含有する5〜6員ヘテロアリール基若しく
はベンゼン環縮合5〜6員ヘテロアリール基」および
「1〜3個の窒素、酸素若しくは硫黄原子を含有する5
〜6員ヘテロアラルキル基若しくはベンゼン環縮合5〜
6員ヘテロアラルキル基」は置換基群(a)から選ばれ
る1〜3個の置換基を有していてもよい。
は硫黄原子を含有する5〜6員ヘテロアリール基若しく
はベンゼン環縮合5〜6員ヘテロアリール基」および
「1〜3個の窒素、酸素若しくは硫黄原子を含有する5
〜6員ヘテロアラルキル基若しくはベンゼン環縮合5〜
6員ヘテロアラルキル基」は置換基群(a)から選ばれ
る1〜3個の置換基を有していてもよい。
【0064】置換基群(a)の「C1 〜C4 アルコキシ
カルボニル基」としては、例えばメトキシカルボニル、
エトキシカルボニル、プロポキシカルボニルまたはブト
キシカルボニル基を挙げることができ、好適にはメトキ
シカルボニルまたはエトキシカルボニル基である。
カルボニル基」としては、例えばメトキシカルボニル、
エトキシカルボニル、プロポキシカルボニルまたはブト
キシカルボニル基を挙げることができ、好適にはメトキ
シカルボニルまたはエトキシカルボニル基である。
【0065】置換基群(a)の「置換基を有してもよい
アミノ基」としては、例えばアミノ、カルバモイルアミ
ノ(ウレイド)、チオカルバモイルアミノ(チオウレイ
ド)、メチルアミノ、エチルアミノ、2−ヒドロキシエ
チルアミノ、カルバモイルメチルアミノまたはカルボキ
シメチルアミノ基を挙げることができ、好適にはアミノ
基である。
アミノ基」としては、例えばアミノ、カルバモイルアミ
ノ(ウレイド)、チオカルバモイルアミノ(チオウレイ
ド)、メチルアミノ、エチルアミノ、2−ヒドロキシエ
チルアミノ、カルバモイルメチルアミノまたはカルボキ
シメチルアミノ基を挙げることができ、好適にはアミノ
基である。
【0066】置換基群(a)の「置換基を有してもよい
スルファモイル基」としては、例えばスルファモイル、
フェニルスルファモイル、メチルスルファモイル、エチ
ルスルファモイル、プロピルスルファモイルまたはブチ
ルスルファモイル基を挙げることができ、好適にはスル
ファモイル、フェニルスルファモイルまたはメチルスル
ファモイル基であり、更に好適にはスルファモイル基で
ある。
スルファモイル基」としては、例えばスルファモイル、
フェニルスルファモイル、メチルスルファモイル、エチ
ルスルファモイル、プロピルスルファモイルまたはブチ
ルスルファモイル基を挙げることができ、好適にはスル
ファモイル、フェニルスルファモイルまたはメチルスル
ファモイル基であり、更に好適にはスルファモイル基で
ある。
【0067】置換基群(a)の「ハロゲン原子で置換さ
れてもよいフェニルチオ基」としては、例えばフェニル
チオ、4−フルオロフェニルチオ、4−クロロフェニル
チオ、4−ブロモフェニルチオ、2、4−ジフルオロフ
ェニルチオ、2、4−ジクロロフェニルチオ基を挙げる
ことができ、好適にはフェニルチオまたは4−クロロフ
ェニルチオ基である。
れてもよいフェニルチオ基」としては、例えばフェニル
チオ、4−フルオロフェニルチオ、4−クロロフェニル
チオ、4−ブロモフェニルチオ、2、4−ジフルオロフ
ェニルチオ、2、4−ジクロロフェニルチオ基を挙げる
ことができ、好適にはフェニルチオまたは4−クロロフ
ェニルチオ基である。
【0068】置換基群(a)の「メトキシ基で置換され
てもよいC7 〜C14アラルキル基」としては、例えばベ
ンジル、フェネチル、メトキシベンジル、メトキシフェ
ネチル、フェニルプロピル、フェニルブチル、ナフチル
メチル、ナフチルエチル基を挙げることができ、好適に
はベンジル、フェネチルまたはメトキシベンジル基であ
る。
てもよいC7 〜C14アラルキル基」としては、例えばベ
ンジル、フェネチル、メトキシベンジル、メトキシフェ
ネチル、フェニルプロピル、フェニルブチル、ナフチル
メチル、ナフチルエチル基を挙げることができ、好適に
はベンジル、フェネチルまたはメトキシベンジル基であ
る。
【0069】置換基群(a)の「置換基を有してもよい
C1 〜C4 アルキル基」としては、例えばメチル、エチ
ル、プロピル、ブチル、カルボキシメチル、カルボキシ
エチル、ヒドロキシメチル、ヒドロキシエチル、ヒドロ
キシプロピル、ピロリジニルメチル、ピロリジニルエチ
ル、モルホリニルメチル、モルホリニルエチル、ピペリ
ジニルメチル、ピペリジニルエチル、イミダゾリルメチ
ル、イミダゾリルエチル、N−メチルイミダゾリルメチ
ル、N−メチルイミダゾリルエチル、ジフルオロメチ
ル、トリフルオロメチル、フルオロエチル、ジフルオロ
エチル、トリフルオロエチル、クロロエチル、ジクロロ
エチル、ジメチルアミノメチル、ジメチルアミノエチ
ル、メチルアミノメチル、メチルアミノエチル、アミノ
メチル、アミノエチル、アミノプロピル、カルバモイル
メチル、カルバモイルエチル、カルバモイルプロピル、
フェニルカルバモイルメチル、フェニルカルバモイルエ
チル、エトキシカルボニルメチル、エトキシカルボニル
エチル基等を挙げることができ、好適にはメチル、エチ
ル、ヒドロキシメチル、カルバモイルメチルまたはイミ
ダゾリルメチル基である。
C1 〜C4 アルキル基」としては、例えばメチル、エチ
ル、プロピル、ブチル、カルボキシメチル、カルボキシ
エチル、ヒドロキシメチル、ヒドロキシエチル、ヒドロ
キシプロピル、ピロリジニルメチル、ピロリジニルエチ
ル、モルホリニルメチル、モルホリニルエチル、ピペリ
ジニルメチル、ピペリジニルエチル、イミダゾリルメチ
ル、イミダゾリルエチル、N−メチルイミダゾリルメチ
ル、N−メチルイミダゾリルエチル、ジフルオロメチ
ル、トリフルオロメチル、フルオロエチル、ジフルオロ
エチル、トリフルオロエチル、クロロエチル、ジクロロ
エチル、ジメチルアミノメチル、ジメチルアミノエチ
ル、メチルアミノメチル、メチルアミノエチル、アミノ
メチル、アミノエチル、アミノプロピル、カルバモイル
メチル、カルバモイルエチル、カルバモイルプロピル、
フェニルカルバモイルメチル、フェニルカルバモイルエ
チル、エトキシカルボニルメチル、エトキシカルボニル
エチル基等を挙げることができ、好適にはメチル、エチ
ル、ヒドロキシメチル、カルバモイルメチルまたはイミ
ダゾリルメチル基である。
【0070】置換基群(a)の「置換基を有してもよい
フェニル若しくはナフチル基」としては、例えばフェニ
ル、フルオロフェニル、ジフルオロフェニル、トリフル
オロフェニル、クロロフェニル、ジクロロフェニル、ト
リクロロフェニル、メチルフェニル、メトキシフェニ
ル、ジメトキシフェニル、スルファモイルフェニル、ヒ
ドロキシフェニル、ジヒドロキシフェニル、(カルボキ
シメトキシ)フェニル、(カルバモイルメトキシ)フェ
ニル、アミノフェニル、メチルアミノフェニル、ジメチ
ルアミノフェニル、トリメチルアンモニオフェニル、N
−カルバモイルメチル−N、N−ジメチルアンモニオフ
ェニル、N−ヒドロキシエチル−N、N−ジメチルアン
モニオフェニル、(カルボキシメトキシ)フェニル、ナ
フチル、フルオロナフチル、クロロナフチル、メトキシ
ナフチル、スルファモイルナフチル、(カルバモイルメ
トキシ)ナフチル、アミノナフチル、メチルアミノナフ
チル、ジメチルアミノナフチル、トリメチルアンモニオ
ナフチル、N−カルバモイルメチル−N、N−ジメチル
アンモニオナフチル、N−ヒドロキシエチル−N、N−
ジメチルアンモニオナフチル基等を挙げることができ、
好適にはフェニル基である。
フェニル若しくはナフチル基」としては、例えばフェニ
ル、フルオロフェニル、ジフルオロフェニル、トリフル
オロフェニル、クロロフェニル、ジクロロフェニル、ト
リクロロフェニル、メチルフェニル、メトキシフェニ
ル、ジメトキシフェニル、スルファモイルフェニル、ヒ
ドロキシフェニル、ジヒドロキシフェニル、(カルボキ
シメトキシ)フェニル、(カルバモイルメトキシ)フェ
ニル、アミノフェニル、メチルアミノフェニル、ジメチ
ルアミノフェニル、トリメチルアンモニオフェニル、N
−カルバモイルメチル−N、N−ジメチルアンモニオフ
ェニル、N−ヒドロキシエチル−N、N−ジメチルアン
モニオフェニル、(カルボキシメトキシ)フェニル、ナ
フチル、フルオロナフチル、クロロナフチル、メトキシ
ナフチル、スルファモイルナフチル、(カルバモイルメ
トキシ)ナフチル、アミノナフチル、メチルアミノナフ
チル、ジメチルアミノナフチル、トリメチルアンモニオ
ナフチル、N−カルバモイルメチル−N、N−ジメチル
アンモニオナフチル、N−ヒドロキシエチル−N、N−
ジメチルアンモニオナフチル基等を挙げることができ、
好適にはフェニル基である。
【0071】置換基群(a)の「置換基を有してもよい
C1 〜C4 アルキルチオ基」としては、例えばメチルチ
オ、エチルチオ、プロピルチオ、ブチルチオ、ヒドロキ
シエチルチオ、ジヒドロキシプロピルチオ、ベンジルチ
オ、フェネチルチオ、ピリジルメチルチオ、ピリジルエ
チルチオ基を挙げることができ、好適にはメチルチオま
たはエチルチオ基である。
C1 〜C4 アルキルチオ基」としては、例えばメチルチ
オ、エチルチオ、プロピルチオ、ブチルチオ、ヒドロキ
シエチルチオ、ジヒドロキシプロピルチオ、ベンジルチ
オ、フェネチルチオ、ピリジルメチルチオ、ピリジルエ
チルチオ基を挙げることができ、好適にはメチルチオま
たはエチルチオ基である。
【0072】置換基群(a)の「N原子に置換基を有す
るピリジニオ基」としては、例えばN−メチルピリジニ
オ、N−カルバモイルメチルピリジニオ、N−2−ヒド
ロキシエチルピリジニオ、N−カルボキシメチルピリジ
ニオ基等を挙げることができ、好適にはN−メチルピリ
ジニオ基である。
るピリジニオ基」としては、例えばN−メチルピリジニ
オ、N−カルバモイルメチルピリジニオ、N−2−ヒド
ロキシエチルピリジニオ、N−カルボキシメチルピリジ
ニオ基等を挙げることができ、好適にはN−メチルピリ
ジニオ基である。
【0073】置換基群(a)の「置換基を有してもよい
カルバモイル若しくはチオカルバモイル基」としては、
例えばカルバモイル、チオカルバモイル、メチルカルバ
モイル、メチルチオカルバモイル、エチルカルバモイ
ル、エチルチオカルバモイル、ジメチルカルバモイル、
ジメチルチオカルバモイル、ジエチルカルバモイル、ジ
エチルチオカルバモイル、2−ヒドロキシエチルカルバ
モイル、カルバモイルメチルカルバモイル基等を挙げる
ことができ、好適にはカルバモイル、ジメチルカルバモ
イルまたはチオカルバモイル基である。
カルバモイル若しくはチオカルバモイル基」としては、
例えばカルバモイル、チオカルバモイル、メチルカルバ
モイル、メチルチオカルバモイル、エチルカルバモイ
ル、エチルチオカルバモイル、ジメチルカルバモイル、
ジメチルチオカルバモイル、ジエチルカルバモイル、ジ
エチルチオカルバモイル、2−ヒドロキシエチルカルバ
モイル、カルバモイルメチルカルバモイル基等を挙げる
ことができ、好適にはカルバモイル、ジメチルカルバモ
イルまたはチオカルバモイル基である。
【0074】置換基群(a)の「メチル基で置換されて
もよい1〜3個の窒素、酸素若しくは硫黄原子を含有す
る5〜6員ヘテロアリール基」としては、例えばピリジ
ル、メチルピリジル、ピリミジル、メチルピリミジル、
チアゾリル、メチルチアゾリル、チアジアゾリル、メチ
ルチアジアゾリル、トリアゾリル、イミダゾリル、メチ
ルイミダゾリル、チエニル、フリル、イソオキサゾリ
ル、メチルイソオキサゾリル、オキサゾリル基等を挙げ
ることができ、好適にはピリジルまたはメチルイミダゾ
リル基である。
もよい1〜3個の窒素、酸素若しくは硫黄原子を含有す
る5〜6員ヘテロアリール基」としては、例えばピリジ
ル、メチルピリジル、ピリミジル、メチルピリミジル、
チアゾリル、メチルチアゾリル、チアジアゾリル、メチ
ルチアジアゾリル、トリアゾリル、イミダゾリル、メチ
ルイミダゾリル、チエニル、フリル、イソオキサゾリ
ル、メチルイソオキサゾリル、オキサゾリル基等を挙げ
ることができ、好適にはピリジルまたはメチルイミダゾ
リル基である。
【0075】置換基群(a)として好適には、ハロゲン
原子、アミノ基、カルバモイル基、スルファモイル基、
ヒドロキシメチル基、カルバモイルメチル基、フェニル
基、エチルチオ基、ピリジル基、1−イミダゾリルメチ
ル基、トリメチルアンモニオ基、チオカルバモイル基ま
たはベンジル基である。R13全体としては、好適には1
〜2個の置換基を有するC1 〜C4 アルキル基(該置換
基はハロゲン原子、カルバモイル基または水酸基を示
す)、C3 〜C6シクロアルキル基、1〜2個の置換基
を有してもよいC6 〜C10アリール基若しくはC7 〜C
14アラルキル基(該置換基は、ニトロ基、ハロゲン原
子、メチル基、アミノ基、スルファモイル基、カルバモ
イル基、メチルカルバモイル基、ジメチルカルバモイル
基、1〜3個の窒素、酸素若しくは硫黄原子を含有する
5〜6員ヘテロアリール基、メトキシ基、ジフルオロメ
トキシ基、メチレンジオキシ基、ベンジルオキシ基、ピ
リジルメトキシ基またはアセチルアミノ基である)、置
換基群(a)から選択される1〜2個の置換基を有して
もよい1〜3個の窒素、酸素若しくは硫黄原子を含有す
る5〜6員ヘテロアリール基若しくはベンゼン環縮合5
〜6員ヘテロアリール基、または、置換基群(a)から
選択される1〜2個の置換基を有してもよい1〜3個の
窒素、酸素若しくは硫黄原子を含有する5〜6員ヘテロ
アラルキル基若しくはベンゼン環縮合5〜6員ヘテロア
ラルキル基である。
原子、アミノ基、カルバモイル基、スルファモイル基、
ヒドロキシメチル基、カルバモイルメチル基、フェニル
基、エチルチオ基、ピリジル基、1−イミダゾリルメチ
ル基、トリメチルアンモニオ基、チオカルバモイル基ま
たはベンジル基である。R13全体としては、好適には1
〜2個の置換基を有するC1 〜C4 アルキル基(該置換
基はハロゲン原子、カルバモイル基または水酸基を示
す)、C3 〜C6シクロアルキル基、1〜2個の置換基
を有してもよいC6 〜C10アリール基若しくはC7 〜C
14アラルキル基(該置換基は、ニトロ基、ハロゲン原
子、メチル基、アミノ基、スルファモイル基、カルバモ
イル基、メチルカルバモイル基、ジメチルカルバモイル
基、1〜3個の窒素、酸素若しくは硫黄原子を含有する
5〜6員ヘテロアリール基、メトキシ基、ジフルオロメ
トキシ基、メチレンジオキシ基、ベンジルオキシ基、ピ
リジルメトキシ基またはアセチルアミノ基である)、置
換基群(a)から選択される1〜2個の置換基を有して
もよい1〜3個の窒素、酸素若しくは硫黄原子を含有す
る5〜6員ヘテロアリール基若しくはベンゼン環縮合5
〜6員ヘテロアリール基、または、置換基群(a)から
選択される1〜2個の置換基を有してもよい1〜3個の
窒素、酸素若しくは硫黄原子を含有する5〜6員ヘテロ
アラルキル基若しくはベンゼン環縮合5〜6員ヘテロア
ラルキル基である。
【0076】R13は、更に好適には1〜2個の置換基を
有するC1 〜C4 アルキル基(該置換基はハロゲン原
子、カルバモイル基または水酸基を示す)、C3 〜C6
シクロアルキル基、1〜2個の置換基を有してもよいフ
ェニル、ナフチル、ベンジル、フェネチル若しくはナフ
チルメチル基(該置換基は、ニトロ基、ハロゲン原子、
メチル基、アミノ基、スルファモイル基、カルバモイル
基、メチルカルバモイル基、ジメチルカルバモイル基、
1〜3個の窒素、酸素若しくは硫黄原子を含有する5〜
6員ヘテロアリール基、メトキシ基、ジフルオロメトキ
シ基、メチレンジオキシ基、ベンジルオキシ基、ピリジ
ルメトキシ基またはアセチルアミノ基である)、また
は、置換基群(a)から選択される1〜2個の置換基を
有してもよいピリジル、ピリミジル、イミダゾリル、ト
リアゾリル、チアゾリル、チアジアゾリル、ベンツイミ
ダゾリル、ベンゾチアゾリル、ピリジルメチル、イミダ
ゾリルメチル、チアゾリルメチル、ベンゾチアゾリルメ
チル、ベンツイミダゾリルメチル若しくはキノリルメチ
ル基である。
有するC1 〜C4 アルキル基(該置換基はハロゲン原
子、カルバモイル基または水酸基を示す)、C3 〜C6
シクロアルキル基、1〜2個の置換基を有してもよいフ
ェニル、ナフチル、ベンジル、フェネチル若しくはナフ
チルメチル基(該置換基は、ニトロ基、ハロゲン原子、
メチル基、アミノ基、スルファモイル基、カルバモイル
基、メチルカルバモイル基、ジメチルカルバモイル基、
1〜3個の窒素、酸素若しくは硫黄原子を含有する5〜
6員ヘテロアリール基、メトキシ基、ジフルオロメトキ
シ基、メチレンジオキシ基、ベンジルオキシ基、ピリジ
ルメトキシ基またはアセチルアミノ基である)、また
は、置換基群(a)から選択される1〜2個の置換基を
有してもよいピリジル、ピリミジル、イミダゾリル、ト
リアゾリル、チアゾリル、チアジアゾリル、ベンツイミ
ダゾリル、ベンゾチアゾリル、ピリジルメチル、イミダ
ゾリルメチル、チアゾリルメチル、ベンゾチアゾリルメ
チル、ベンツイミダゾリルメチル若しくはキノリルメチ
ル基である。
【0077】R13は、より更に好適には1〜2個の置換
基を有するC1 〜C4 アルキル基(該置換基はハロゲン
原子、カルバモイル基または水酸基を示す)、C3 〜C
6 シクロアルキル基、1〜2個の置換基を有してもよい
フェニル若しくはベンジル基(該置換基は、ニトロ、ハ
ロゲン原子、カルバモイル、スルファモイル、イミダゾ
リル、チアゾリル、1、2、4−トリアゾリルまたはベ
ンジルオキシ基である)または1〜2個の置換基を有し
てもよいピリジル、ピリミジル、イミダゾリル、トリア
ゾリル、チアゾリル、チアジアゾリル、ベンツイミダゾ
リル、ベンゾチアゾリル、ピリジルメチル、イミダゾリ
ルメチル、チアゾリルメチル、ベンゾチアゾリルメチ
ル、ベンツイミダゾリルメチル若しくはキノリルメチル
基(該置換基は、ハロゲン原子、アミノ基、カルバモイ
ル基、スルファモイル基、ヒドロキシメチル基、カルバ
モイルメチル基、フェニル基、エチルチオ基、ピリジル
基、1−イミダゾリルメチル基、トリメチルアンモニオ
基、チオカルバモイル基またはベンジル基である)であ
る。
基を有するC1 〜C4 アルキル基(該置換基はハロゲン
原子、カルバモイル基または水酸基を示す)、C3 〜C
6 シクロアルキル基、1〜2個の置換基を有してもよい
フェニル若しくはベンジル基(該置換基は、ニトロ、ハ
ロゲン原子、カルバモイル、スルファモイル、イミダゾ
リル、チアゾリル、1、2、4−トリアゾリルまたはベ
ンジルオキシ基である)または1〜2個の置換基を有し
てもよいピリジル、ピリミジル、イミダゾリル、トリア
ゾリル、チアゾリル、チアジアゾリル、ベンツイミダゾ
リル、ベンゾチアゾリル、ピリジルメチル、イミダゾリ
ルメチル、チアゾリルメチル、ベンゾチアゾリルメチ
ル、ベンツイミダゾリルメチル若しくはキノリルメチル
基(該置換基は、ハロゲン原子、アミノ基、カルバモイ
ル基、スルファモイル基、ヒドロキシメチル基、カルバ
モイルメチル基、フェニル基、エチルチオ基、ピリジル
基、1−イミダゾリルメチル基、トリメチルアンモニオ
基、チオカルバモイル基またはベンジル基である)であ
る。
【0078】R13は、最も好適には2−フルオロエチ
ル、シクロプロピル、フェニル、3−ピリジル、4−ピ
リジル、ベンジル、4−ニトロベンジル、4−クロロベ
ンジル、4−フルオロベンジル、2−ピリジルメチル、
3−ピリジルメチル、4−ピリジルメチル、4−(1−
イミダゾリル)ベンジル、4−ベンジルオキシベンジ
ル、2−チアゾリル、2−ベンツイミダゾリル、2−ベ
ンゾチアゾリル、4−(4−ピリジル)チアゾ−ル−2
−イル、4−フェニルチアゾ−ル−2−イル、4−ベン
ジルチアゾ−ル−2−イル、6−アミノ−ベンゾチアゾ
ール−2−イル、4−(1−イミダゾリルメチル)チア
ゾ−ル−2−イル、1、3、4−チアジアゾ−ル−2−
イル、5−フェニル−1、3、4−チアジアゾ−ル−2
−イル、5−(4−ピリジル)−1、3、4−チアジア
ゾ−ル−2−イル、5−エチルチオ−1、3、4−チア
ジアゾール−2−イル、2−ベンゾチアゾリルメチル、
2−ベンツイミダゾリルメチルまたは2−キノリルメチ
ル基である。
ル、シクロプロピル、フェニル、3−ピリジル、4−ピ
リジル、ベンジル、4−ニトロベンジル、4−クロロベ
ンジル、4−フルオロベンジル、2−ピリジルメチル、
3−ピリジルメチル、4−ピリジルメチル、4−(1−
イミダゾリル)ベンジル、4−ベンジルオキシベンジ
ル、2−チアゾリル、2−ベンツイミダゾリル、2−ベ
ンゾチアゾリル、4−(4−ピリジル)チアゾ−ル−2
−イル、4−フェニルチアゾ−ル−2−イル、4−ベン
ジルチアゾ−ル−2−イル、6−アミノ−ベンゾチアゾ
ール−2−イル、4−(1−イミダゾリルメチル)チア
ゾ−ル−2−イル、1、3、4−チアジアゾ−ル−2−
イル、5−フェニル−1、3、4−チアジアゾ−ル−2
−イル、5−(4−ピリジル)−1、3、4−チアジア
ゾ−ル−2−イル、5−エチルチオ−1、3、4−チア
ジアゾール−2−イル、2−ベンゾチアゾリルメチル、
2−ベンツイミダゾリルメチルまたは2−キノリルメチ
ル基である。
【0079】また、本発明の有効成分である三環性複素
環化合物(I)は必要に応じて、「薬理上許容される塩
若しくは誘導体」にすることができる。
環化合物(I)は必要に応じて、「薬理上許容される塩
若しくは誘導体」にすることができる。
【0080】「薬理上許容される塩」は、例えば、塩酸
塩、臭化水素酸塩、沃化水素酸塩、リン酸塩、硫酸塩、
硝酸塩のような鉱酸塩;メタンスルホン酸塩、エタンス
ルホン酸塩、ベンゼンスルホン酸塩、p−トルエンスル
ホン酸塩のようなスルホン酸塩;シュウ酸塩、酒石酸
塩、クエン酸塩、マレイン酸塩、コハク酸塩、酢酸塩、
安息香酸塩、マンデル酸塩、アスコルビン酸塩、乳酸
塩、グルコン酸塩、リンゴ酸塩のような有機酸塩等の酸
付加塩、グリシン塩、リジン塩、アルギニン塩、オルニ
チン塩、グルタミン酸塩、アスパラギン酸塩のようなア
ミノ酸塩、あるいはリチウム塩、ナトリウム塩、カリウ
ム塩、カルシウム塩、マグネシウム塩のような無機塩ま
たはアンモニウム塩、トリエチルアミン塩、ジイソプロ
ピルアミン塩、シクロヘキシルアミン塩のような有機塩
基との塩であり得、好適には塩酸塩、臭化水素酸塩、リ
ン酸塩、硫酸塩、メタンスルホン酸塩、p−トルエンス
ルホン酸塩、シュウ酸塩、酒石酸塩、クエン酸塩、酢酸
塩、乳酸塩、グルタミン酸塩、アスパラギン酸塩、ナト
リウム塩、カリウム塩、アンモニウム塩またはトリエチ
ルアミン塩であり、更に好適にはナトリウム塩、塩酸塩
または硫酸塩である。
塩、臭化水素酸塩、沃化水素酸塩、リン酸塩、硫酸塩、
硝酸塩のような鉱酸塩;メタンスルホン酸塩、エタンス
ルホン酸塩、ベンゼンスルホン酸塩、p−トルエンスル
ホン酸塩のようなスルホン酸塩;シュウ酸塩、酒石酸
塩、クエン酸塩、マレイン酸塩、コハク酸塩、酢酸塩、
安息香酸塩、マンデル酸塩、アスコルビン酸塩、乳酸
塩、グルコン酸塩、リンゴ酸塩のような有機酸塩等の酸
付加塩、グリシン塩、リジン塩、アルギニン塩、オルニ
チン塩、グルタミン酸塩、アスパラギン酸塩のようなア
ミノ酸塩、あるいはリチウム塩、ナトリウム塩、カリウ
ム塩、カルシウム塩、マグネシウム塩のような無機塩ま
たはアンモニウム塩、トリエチルアミン塩、ジイソプロ
ピルアミン塩、シクロヘキシルアミン塩のような有機塩
基との塩であり得、好適には塩酸塩、臭化水素酸塩、リ
ン酸塩、硫酸塩、メタンスルホン酸塩、p−トルエンス
ルホン酸塩、シュウ酸塩、酒石酸塩、クエン酸塩、酢酸
塩、乳酸塩、グルタミン酸塩、アスパラギン酸塩、ナト
リウム塩、カリウム塩、アンモニウム塩またはトリエチ
ルアミン塩であり、更に好適にはナトリウム塩、塩酸塩
または硫酸塩である。
【0081】また、本発明の有効成分である化合物
(I)は、大気中に放置したり、水溶液から凍結乾燥し
たり、又は、再結晶をすることにより、水分を吸収し、
吸着水がついたり、水和物となる場合があり、そのよう
な塩も本発明の有効成分に包含される。
(I)は、大気中に放置したり、水溶液から凍結乾燥し
たり、又は、再結晶をすることにより、水分を吸収し、
吸着水がついたり、水和物となる場合があり、そのよう
な塩も本発明の有効成分に包含される。
【0082】「薬理上許容される誘導体」は、ヒトまた
は動物体内で加水分解等の化学的若しくは生物学的方法
により開裂しもとの化合物またはその塩を生成する基
(いわゆるプロドラッグを形成する基)によって化合物
(I)のカルボキシル基、水酸基、アミノ基等が保護さ
れた誘導体をいい、そのような誘導体か否かは、ラット
やマウスのような実験動物に経口または静脈注射により
投与し、その後の動物の体液を調べ、元となる化合物又
はその塩を検出できることにより決定できる。そのよう
なカルボキシル基、水酸基、アミノ基等の保護基として
は、医薬品化学の分野で知られている基、例えばアシル
オキシアルキル基、アルコキシカルボニルオキシアルキ
ル基、フタリジル基、5−メチル−2−オキソ−1,3
−ジオキソレン−4−イルメチル基、アシル基、アルコ
キシカルボニル基、アミノアシル基等をあげることがで
きる。
は動物体内で加水分解等の化学的若しくは生物学的方法
により開裂しもとの化合物またはその塩を生成する基
(いわゆるプロドラッグを形成する基)によって化合物
(I)のカルボキシル基、水酸基、アミノ基等が保護さ
れた誘導体をいい、そのような誘導体か否かは、ラット
やマウスのような実験動物に経口または静脈注射により
投与し、その後の動物の体液を調べ、元となる化合物又
はその塩を検出できることにより決定できる。そのよう
なカルボキシル基、水酸基、アミノ基等の保護基として
は、医薬品化学の分野で知られている基、例えばアシル
オキシアルキル基、アルコキシカルボニルオキシアルキ
ル基、フタリジル基、5−メチル−2−オキソ−1,3
−ジオキソレン−4−イルメチル基、アシル基、アルコ
キシカルボニル基、アミノアシル基等をあげることがで
きる。
【0083】上記のアシルオキシアルキル基としては、
例えば、ピバロイルオキシメチル、イソブチリルオキシ
メチル、1−(イソブチリルオキシ)エチル、アセトキ
シメチル、1−(アセトキシ)エチル、1−メチルシク
ロヘキシルカルボニルオキシメチル、1−メチルシクロ
ペンチルカルボニルオキシメチルがあげられる。
例えば、ピバロイルオキシメチル、イソブチリルオキシ
メチル、1−(イソブチリルオキシ)エチル、アセトキ
シメチル、1−(アセトキシ)エチル、1−メチルシク
ロヘキシルカルボニルオキシメチル、1−メチルシクロ
ペンチルカルボニルオキシメチルがあげられる。
【0084】アルコキシカルボニルオキシアルキル基と
しては、例えば、t−ブトキシカルボニルオキシメチ
ル、1−(メトキシカルボニルオキシ)エチル、1−
(エトキシカルボニルオキシ)エチル、1−(イソプロ
ポキシカルボニルオキシ)エチル、1−(t−ブトキシ
カルボニルオキシ)エチル、1−(シクロヘキシルオキ
シカルボニルオキシ)エチル、1−(シクロペンチルオ
キシカルボニルオキシ)エチル基があげられる。
しては、例えば、t−ブトキシカルボニルオキシメチ
ル、1−(メトキシカルボニルオキシ)エチル、1−
(エトキシカルボニルオキシ)エチル、1−(イソプロ
ポキシカルボニルオキシ)エチル、1−(t−ブトキシ
カルボニルオキシ)エチル、1−(シクロヘキシルオキ
シカルボニルオキシ)エチル、1−(シクロペンチルオ
キシカルボニルオキシ)エチル基があげられる。
【0085】アシル基としては、例えばアセチル、プロ
ピオニル、ブチリル、ペンタノイル、ヘキサノイル、オ
クタノイル、デカノイル、ドデカノイル、テトラデカノ
イル、ヘキサデカノイル、オクタデカノイル基のような
アルカノイル基、ベンゾイル、ナフトイルのようなアリ
ールカルボニル基、ピリジルカルボニル、チエニルカル
ボニルのようなヘテロアリ−ルカルボニル基等が挙げら
れる。
ピオニル、ブチリル、ペンタノイル、ヘキサノイル、オ
クタノイル、デカノイル、ドデカノイル、テトラデカノ
イル、ヘキサデカノイル、オクタデカノイル基のような
アルカノイル基、ベンゾイル、ナフトイルのようなアリ
ールカルボニル基、ピリジルカルボニル、チエニルカル
ボニルのようなヘテロアリ−ルカルボニル基等が挙げら
れる。
【0086】アルコキシカルボニル基としては、例えば
メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、プロポキシ
カルボニル、ブトキシカルボニル、ペンチルオキシカル
ボニル、ヘキシルオキシカルボニル、オクチルオキシカ
ルボニル、デシルオキシカルボニル、オクタデシルオキ
シカルボニル基等が挙げられる。
メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、プロポキシ
カルボニル、ブトキシカルボニル、ペンチルオキシカル
ボニル、ヘキシルオキシカルボニル、オクチルオキシカ
ルボニル、デシルオキシカルボニル、オクタデシルオキ
シカルボニル基等が挙げられる。
【0087】アミノアシル基としては、例えばグリシ
ル、アラニル、ロイシル、イソロイシル、フェニルアラ
ニル、ヒスチジル、アスパラギル、プロリル、リジルの
ようなアミノ酸基が挙げられる。
ル、アラニル、ロイシル、イソロイシル、フェニルアラ
ニル、ヒスチジル、アスパラギル、プロリル、リジルの
ようなアミノ酸基が挙げられる。
【0088】上記のうち好適な保護基は5−メチル−2
−オキソ−1,3−ジオキソレン−4−イルメチル、ア
セトキシメチル、ピバロイルオキシメチル、1−メチル
シクロヘキシルカルボニルオキシメチル、1−(イソプ
ロポキシカルボニルオキシ)エチル、1−(シクロヘキ
シルオキシカルボニルオキシ)エチル基である。
−オキソ−1,3−ジオキソレン−4−イルメチル、ア
セトキシメチル、ピバロイルオキシメチル、1−メチル
シクロヘキシルカルボニルオキシメチル、1−(イソプ
ロポキシカルボニルオキシ)エチル、1−(シクロヘキ
シルオキシカルボニルオキシ)エチル基である。
【0089】本発明の有効成分において、Aが一般式
で示される基を有する好適な化合物(I)としては、以
下の化合物を挙げることができる。
で示される基を有する好適な化合物(I)としては、以
下の化合物を挙げることができる。
【0090】(−1) R2 が、水素原子、C1 〜C
4 アルキル基、1〜2個の置換基を有してもよいベンジ
ル、フェネチル、ナフチルメチル、ピリジルメチル、イ
ミダゾリルメチル、チアゾリルメチル、チアゾリルエチ
ル若しくはチアジアゾリルメチル基(該置換基はフッ素
原子、メチル基またはカルバモイル基を示す)、式−C
(=NH)R4 で表される基(式中、R4 は水素原子、
メチル基またはアミノ基を示す)、2−イミダゾリニル
基、2−チアゾリニル基、イミダゾリル基、チアゾリル
基またはピリジル基である化合物。
4 アルキル基、1〜2個の置換基を有してもよいベンジ
ル、フェネチル、ナフチルメチル、ピリジルメチル、イ
ミダゾリルメチル、チアゾリルメチル、チアゾリルエチ
ル若しくはチアジアゾリルメチル基(該置換基はフッ素
原子、メチル基またはカルバモイル基を示す)、式−C
(=NH)R4 で表される基(式中、R4 は水素原子、
メチル基またはアミノ基を示す)、2−イミダゾリニル
基、2−チアゾリニル基、イミダゾリル基、チアゾリル
基またはピリジル基である化合物。
【0091】(−2) R2 が、水素原子、メチル
基、エチル基、1〜2個の置換基を有してもよいベンジ
ル若しくはピリジルメチル基(該置換基はフッ素原子、
メチル基またはカルバモイル基を示す)、ホルムイミド
イル基、アセトイミドイル基、アミジノ基、2−イミダ
ゾリン−2−イル基または2−チアゾリン−2−イル基
である化合物。
基、エチル基、1〜2個の置換基を有してもよいベンジ
ル若しくはピリジルメチル基(該置換基はフッ素原子、
メチル基またはカルバモイル基を示す)、ホルムイミド
イル基、アセトイミドイル基、アミジノ基、2−イミダ
ゾリン−2−イル基または2−チアゾリン−2−イル基
である化合物。
【0092】(−3) R2 が、水素原子、メチル
基、エチル基、ベンジル基、ピリジルメチル基、ホルム
イミドイル基、アセトイミドイル基、アミジノ基、2−
イミダゾリン−2−イル基または2−チアゾリン−2−
イル基である化合物。
基、エチル基、ベンジル基、ピリジルメチル基、ホルム
イミドイル基、アセトイミドイル基、アミジノ基、2−
イミダゾリン−2−イル基または2−チアゾリン−2−
イル基である化合物。
【0093】(−4) R3 が、水素原子、オキソ
基、スルファモイルアミノメチル基、カルバモイル基、
ジメチルカルバモイル基、1−ピペラジニルカルボニル
基、アミノピロリジン−1−イルカルボニル基またはア
ミノメチルピロリジン−1−イルカルボニル基である化
合物。
基、スルファモイルアミノメチル基、カルバモイル基、
ジメチルカルバモイル基、1−ピペラジニルカルボニル
基、アミノピロリジン−1−イルカルボニル基またはア
ミノメチルピロリジン−1−イルカルボニル基である化
合物。
【0094】(−5) R3 が、水素原子、カルバモ
イル基、1−ピペラジニルカルボニル基、3−アミノピ
ロリジン−1−イルカルボニル基または3−アミノメチ
ルピロリジン−1−イルカルボニル基である化合物。
イル基、1−ピペラジニルカルボニル基、3−アミノピ
ロリジン−1−イルカルボニル基または3−アミノメチ
ルピロリジン−1−イルカルボニル基である化合物。
【0095】(−6) R3 が、水素原子である化合
物。
物。
【0096】Aが一般式で示される基を有する好適な
化合物(I)としては、以下の化合物を挙げることがで
きる。
化合物(I)としては、以下の化合物を挙げることがで
きる。
【0097】(−1) qが、0または1である化合
物。
物。
【0098】(−2) R9 が、1〜2個の置換基を
有してもよいフェニル基(該置換基はC1 〜C4 アルキ
ル基、C1 〜C4 アルコキシ基、ニトロ基、ハロゲン原
子、水酸基、シアノ基、カルバモイル基、モノ−若しく
はジ−C1 〜C4 アルキルカルバモイル基、スルファモ
イル基または1〜3個の窒素、酸素若しくは硫黄原子を
含有する5〜6員ヘテロアリール基を示す)である化合
物。
有してもよいフェニル基(該置換基はC1 〜C4 アルキ
ル基、C1 〜C4 アルコキシ基、ニトロ基、ハロゲン原
子、水酸基、シアノ基、カルバモイル基、モノ−若しく
はジ−C1 〜C4 アルキルカルバモイル基、スルファモ
イル基または1〜3個の窒素、酸素若しくは硫黄原子を
含有する5〜6員ヘテロアリール基を示す)である化合
物。
【0099】(−3) R9 が、1〜2個の置換基を
有してもよいフェニル基(該置換基はメチル基、メトキ
シ基、ニトロ基、フッ素原子、水酸基、シアノ基、カル
バモイル基、ジメチルカルバモイル基、スルファモイル
基、イミダゾリル基、トリアゾリル基、ピリジル基また
はチアゾリル基を示す)である化合物。
有してもよいフェニル基(該置換基はメチル基、メトキ
シ基、ニトロ基、フッ素原子、水酸基、シアノ基、カル
バモイル基、ジメチルカルバモイル基、スルファモイル
基、イミダゾリル基、トリアゾリル基、ピリジル基また
はチアゾリル基を示す)である化合物。
【0100】(−4) R9 が、1〜2個の置換基を
有してもよいフェニル基(該置換基はニトロ基、フッ素
原子、カルバモイル基、ジメチルカルバモイル基、イミ
ダゾリル基、トリアゾリル基若しくはチアゾリル基を示
す)である化合物。
有してもよいフェニル基(該置換基はニトロ基、フッ素
原子、カルバモイル基、ジメチルカルバモイル基、イミ
ダゾリル基、トリアゾリル基若しくはチアゾリル基を示
す)である化合物。
【0101】(−5) R9 が1個の置換基を有する
フェニル基である場合、置換位置が4位である化合物。
フェニル基である場合、置換位置が4位である化合物。
【0102】Aが一般式で示される基を有する好適な
化合物(I)としては、以下の化合物を挙げることがで
きる。
化合物(I)としては、以下の化合物を挙げることがで
きる。
【0103】(−1) rが、0、1または2である
化合物。
化合物。
【0104】(−2) R10が、水素原子、メチル基
またはエチル基である化合物。
またはエチル基である化合物。
【0105】(−3) R10が、水素原子である化合
物。
物。
【0106】(−4) R11が、水素原子、C1 〜C
4 アルキル基または式−C(=NH)R4 で表される基
(式中、R4 は水素原子、メチル基またはアミノ基を示
す)である化合物。
4 アルキル基または式−C(=NH)R4 で表される基
(式中、R4 は水素原子、メチル基またはアミノ基を示
す)である化合物。
【0107】(−5) R11が、水素原子、メチル
基、エチル基、ホルムイミドイル基、アセトイミドイル
基またはアミジノ基である化合物。
基、エチル基、ホルムイミドイル基、アセトイミドイル
基またはアミジノ基である化合物。
【0108】(−6) R11が、水素原子である化合
物。
物。
【0109】Aが一般式で示される基を有する好適な
化合物(I)としては、以下の化合物を挙げることがで
きる。
化合物(I)としては、以下の化合物を挙げることがで
きる。
【0110】(−1) R12が、水素原子、C1 〜C
4 アルキル基または式−C(=NH)R4 で表される基
(式中、R4 は水素原子、メチル基またはアミノ基を示
す)である化合物。
4 アルキル基または式−C(=NH)R4 で表される基
(式中、R4 は水素原子、メチル基またはアミノ基を示
す)である化合物。
【0111】(−2) R12が、水素原子、メチル
基、エチル基、ホルムイミドイル基、アセトイミドイル
基またはアミジノ基である化合物。
基、エチル基、ホルムイミドイル基、アセトイミドイル
基またはアミジノ基である化合物。
【0112】(−3) R13が、1〜2個の置換基を
有するC1 〜C4 アルキル基(該置換基はハロゲン原
子、カルバモイル基または水酸基を示す)、C3 〜C6
シクロアルキル基、1〜2個の置換基を有してもよいC
6 〜C10アリール基若しくはC7〜C14アラルキル基
(該置換基は、ニトロ基、ハロゲン原子、メチル基、ア
ミノ基、スルファモイル基、カルバモイル基、メチルカ
ルバモイル基、ジメチルカルバモイル基、1〜3個の窒
素、酸素若しくは硫黄原子を含有する5〜6員ヘテロア
リール基、メトキシ基、ジフルオロメトキシ基、メチレ
ンジオキシ基、ベンジルオキシ基、ピリジルメトキシ基
またはアセチルアミノ基である。)、置換基群(a)か
ら選ばれる1〜2個の置換基を有してもよい1〜3個の
窒素、酸素若しくは硫黄原子を含有する5〜6員ヘテロ
アリール基若しくはベンゼン環縮合5〜6員ヘテロアリ
ール基、または、置換基群(a)から選ばれる1〜2個
の置換基を有してもよい1〜3個の窒素、酸素若しくは
硫黄原子を含有する5〜6員ヘテロアラルキル基若しく
はベンゼン環縮合5〜6員ヘテロアラルキル基である化
合物。
有するC1 〜C4 アルキル基(該置換基はハロゲン原
子、カルバモイル基または水酸基を示す)、C3 〜C6
シクロアルキル基、1〜2個の置換基を有してもよいC
6 〜C10アリール基若しくはC7〜C14アラルキル基
(該置換基は、ニトロ基、ハロゲン原子、メチル基、ア
ミノ基、スルファモイル基、カルバモイル基、メチルカ
ルバモイル基、ジメチルカルバモイル基、1〜3個の窒
素、酸素若しくは硫黄原子を含有する5〜6員ヘテロア
リール基、メトキシ基、ジフルオロメトキシ基、メチレ
ンジオキシ基、ベンジルオキシ基、ピリジルメトキシ基
またはアセチルアミノ基である。)、置換基群(a)か
ら選ばれる1〜2個の置換基を有してもよい1〜3個の
窒素、酸素若しくは硫黄原子を含有する5〜6員ヘテロ
アリール基若しくはベンゼン環縮合5〜6員ヘテロアリ
ール基、または、置換基群(a)から選ばれる1〜2個
の置換基を有してもよい1〜3個の窒素、酸素若しくは
硫黄原子を含有する5〜6員ヘテロアラルキル基若しく
はベンゼン環縮合5〜6員ヘテロアラルキル基である化
合物。
【0113】(−4) R13が、1〜2個の置換基を
有するC1 〜C4 アルキル基(該置換基はハロゲン原
子、カルバモイル基または水酸基を示す)、C3 〜C6
シクロアルキル基、1〜2個の置換基を有してもよいフ
ェニル、ナフチル、ベンジル、フェネチル若しくはナフ
チルメチル基(該置換基は、ニトロ基、ハロゲン原子、
メチル基、アミノ基、スルファモイル基、カルバモイル
基、メチルカルバモイル基、ジメチルカルバモイル基、
1〜3個の窒素、酸素若しくは硫黄原子を含有する5〜
6員ヘテロアリール基、メトキシ基、ジフルオロメトキ
シ基、メチレンジオキシ基、ベンジルオキシ基、ピリジ
ルメトキシ基またはアセチルアミノ基である。)、また
は置換基群(a)から選ばれる1〜2個の置換基を有し
てもよいピリジル、ピリミジル、イミダゾリル、トリア
ゾリル、チアゾリル、チアジアゾリル、ベンツイミダゾ
リル、ベンゾチアゾリル、ピリジルメチル、イミダゾリ
ルメチル、チアゾリルメチル、ベンゾチアゾリルメチ
ル、ベンツイミダゾリルメチル若しくはキノリルメチル
基である化合物。
有するC1 〜C4 アルキル基(該置換基はハロゲン原
子、カルバモイル基または水酸基を示す)、C3 〜C6
シクロアルキル基、1〜2個の置換基を有してもよいフ
ェニル、ナフチル、ベンジル、フェネチル若しくはナフ
チルメチル基(該置換基は、ニトロ基、ハロゲン原子、
メチル基、アミノ基、スルファモイル基、カルバモイル
基、メチルカルバモイル基、ジメチルカルバモイル基、
1〜3個の窒素、酸素若しくは硫黄原子を含有する5〜
6員ヘテロアリール基、メトキシ基、ジフルオロメトキ
シ基、メチレンジオキシ基、ベンジルオキシ基、ピリジ
ルメトキシ基またはアセチルアミノ基である。)、また
は置換基群(a)から選ばれる1〜2個の置換基を有し
てもよいピリジル、ピリミジル、イミダゾリル、トリア
ゾリル、チアゾリル、チアジアゾリル、ベンツイミダゾ
リル、ベンゾチアゾリル、ピリジルメチル、イミダゾリ
ルメチル、チアゾリルメチル、ベンゾチアゾリルメチ
ル、ベンツイミダゾリルメチル若しくはキノリルメチル
基である化合物。
【0114】(−5) R13が、1〜2個の置換基を
有するC1 〜C4 アルキル基(該置換基はハロゲン原
子、カルバモイル基または水酸基を示す)、C3 〜C6
シクロアルキル基、1〜2個の置換基を有してもよいフ
ェニル若しくはベンジル基(該置換基は、ニトロ、ハロ
ゲン原子、カルバモイル、スルファモイル、イミダゾリ
ル、チアゾリル、1、2、4−トリアゾリルまたはベン
ジルオキシ基である)、または1〜2個の置換基を有し
てもよいピリジル、ピリミジル、イミダゾリル、トリア
ゾリル、チアゾリル、チアジアゾリル、ベンツイミダゾ
リル、ベンゾチアゾリル、ピリジルメチル、イミダゾリ
ルメチル、チアゾリルメチル、ベンゾチアゾリルメチ
ル、ベンツイミダゾリルメチル若しくはキノリルメチル
基(該置換基は、ハロゲン原子、アミノ基、カルバモイ
ル基、スルファモイル基、ヒドロキシメチル基、カルバ
モイルメチル基、フェニル基、エチルチオ基、ピリジル
基、1−イミダゾリルメチル基、トリメチルアンモニオ
基、チオカルバモイル基またはベンジル基である)であ
る化合物。
有するC1 〜C4 アルキル基(該置換基はハロゲン原
子、カルバモイル基または水酸基を示す)、C3 〜C6
シクロアルキル基、1〜2個の置換基を有してもよいフ
ェニル若しくはベンジル基(該置換基は、ニトロ、ハロ
ゲン原子、カルバモイル、スルファモイル、イミダゾリ
ル、チアゾリル、1、2、4−トリアゾリルまたはベン
ジルオキシ基である)、または1〜2個の置換基を有し
てもよいピリジル、ピリミジル、イミダゾリル、トリア
ゾリル、チアゾリル、チアジアゾリル、ベンツイミダゾ
リル、ベンゾチアゾリル、ピリジルメチル、イミダゾリ
ルメチル、チアゾリルメチル、ベンゾチアゾリルメチ
ル、ベンツイミダゾリルメチル若しくはキノリルメチル
基(該置換基は、ハロゲン原子、アミノ基、カルバモイ
ル基、スルファモイル基、ヒドロキシメチル基、カルバ
モイルメチル基、フェニル基、エチルチオ基、ピリジル
基、1−イミダゾリルメチル基、トリメチルアンモニオ
基、チオカルバモイル基またはベンジル基である)であ
る化合物。
【0115】(−6) R13が、2−フルオロエチ
ル、シクロプロピル、フェニル、3−ピリジル、4−ピ
リジル、ベンジル、4−ニトロベンジル、4−クロロベ
ンジル、4−フルオロベンジル、2−ピリジルメチル、
3−ピリジルメチル、4−ピリジルメチル、4−(1−
イミダゾリル)ベンジル、4−ベンジルオキシベンジ
ル、2−チアゾリル、2−ベンツイミダゾリル、2−ベ
ンゾチアゾリル、4−(4−ピリジル)チアゾ−ル−2
−イル、4−フェニルチアゾ−ル−2−イル、4−ベン
ジルチアゾ−ル−2−イル、6−アミノ−ベンゾチアゾ
ール−2−イル、4−(1−イミダゾリルメチル)チア
ゾ−ル−2−イル、1、3、4−チアジアゾ−ル−2−
イル、5−フェニル−1、3、4−チアジアゾ−ル−2
−イル、5−(4−ピリジル)−1、3、4−チアジア
ゾ−ル−2−イル、5−エチルチオ−1、3、4−チア
ジアゾール−2−イル、2−ベンゾチアゾリルメチル、
2−ベンツイミダゾリルメチルまたは2−キノリルメチ
ル基である化合物。
ル、シクロプロピル、フェニル、3−ピリジル、4−ピ
リジル、ベンジル、4−ニトロベンジル、4−クロロベ
ンジル、4−フルオロベンジル、2−ピリジルメチル、
3−ピリジルメチル、4−ピリジルメチル、4−(1−
イミダゾリル)ベンジル、4−ベンジルオキシベンジ
ル、2−チアゾリル、2−ベンツイミダゾリル、2−ベ
ンゾチアゾリル、4−(4−ピリジル)チアゾ−ル−2
−イル、4−フェニルチアゾ−ル−2−イル、4−ベン
ジルチアゾ−ル−2−イル、6−アミノ−ベンゾチアゾ
ール−2−イル、4−(1−イミダゾリルメチル)チア
ゾ−ル−2−イル、1、3、4−チアジアゾ−ル−2−
イル、5−フェニル−1、3、4−チアジアゾ−ル−2
−イル、5−(4−ピリジル)−1、3、4−チアジア
ゾ−ル−2−イル、5−エチルチオ−1、3、4−チア
ジアゾール−2−イル、2−ベンゾチアゾリルメチル、
2−ベンツイミダゾリルメチルまたは2−キノリルメチ
ル基である化合物。
【0116】上記の好適な化合物における置換基を適宜
組み合わせて得られる化合物は更に好適であり、例えば
以下の化合物を挙げることができる。
組み合わせて得られる化合物は更に好適であり、例えば
以下の化合物を挙げることができる。
【0117】(1) Aが一般式の基で示され、kが
0または1であり、mが0,1または2であり、R2
が、水素原子、C1 〜C4 アルキル基、1〜2個の置換
基を有してもよいベンジル、フェネチル、ナフチルメチ
ル、ピリジルメチル、イミダゾリルメチル、チアゾリル
メチル、チアゾリルエチル若しくはチアジアゾリルメチ
ル基(該置換基はフッ素原子、メチル基またはカルバモ
イル基を示す)、式−C(=NH)R4 で表される基
(式中、R4 は水素原子、メチル基またはアミノ基を示
す)、2−イミダゾリニル基、2−チアゾリニル基、イ
ミダゾリル基、チアゾリル基またはピリジル基であり、
R3 が水素原子、オキソ基、スルファモイルアミノメチ
ル基、カルバモイル基、ジメチルカルバモイル基、1−
ピペラジニルカルボニル基、アミノピロリジン−1−イ
ルカルボニル基またはアミノメチルピロリジン−1−イ
ルカルボニル基である化合物。
0または1であり、mが0,1または2であり、R2
が、水素原子、C1 〜C4 アルキル基、1〜2個の置換
基を有してもよいベンジル、フェネチル、ナフチルメチ
ル、ピリジルメチル、イミダゾリルメチル、チアゾリル
メチル、チアゾリルエチル若しくはチアジアゾリルメチ
ル基(該置換基はフッ素原子、メチル基またはカルバモ
イル基を示す)、式−C(=NH)R4 で表される基
(式中、R4 は水素原子、メチル基またはアミノ基を示
す)、2−イミダゾリニル基、2−チアゾリニル基、イ
ミダゾリル基、チアゾリル基またはピリジル基であり、
R3 が水素原子、オキソ基、スルファモイルアミノメチ
ル基、カルバモイル基、ジメチルカルバモイル基、1−
ピペラジニルカルボニル基、アミノピロリジン−1−イ
ルカルボニル基またはアミノメチルピロリジン−1−イ
ルカルボニル基である化合物。
【0118】(2) Aが一般式の基で示され、kが
0または1であり、mが0,1または2であり、R2 が
水素原子、メチル基、エチル基、1〜2個の置換基を有
してもよいベンジル若しくはピリジルメチル基(該置換
基はフッ素原子、メチル基またはカルバモイル基を示
す)、ホルムイミドイル基、アセトイミドイル基、アミ
ジノ基、2−イミダゾリン−2−イル基または2−チア
ゾリン−2−イル基であり、R3 が水素原子である化合
物。
0または1であり、mが0,1または2であり、R2 が
水素原子、メチル基、エチル基、1〜2個の置換基を有
してもよいベンジル若しくはピリジルメチル基(該置換
基はフッ素原子、メチル基またはカルバモイル基を示
す)、ホルムイミドイル基、アセトイミドイル基、アミ
ジノ基、2−イミダゾリン−2−イル基または2−チア
ゾリン−2−イル基であり、R3 が水素原子である化合
物。
【0119】(3) Aが一般式の基で示され、kが
0または1であり、mが0,1または2であり、R2 が
水素原子、メチル基、エチル基、ベンジル基、ピリジル
メチル基、ホルムイミドイル基、アセトイミドイル基、
アミジノ基、2−イミダゾリン−2−イル基または2−
チアゾリン−2−イル基であり、R3 が水素原子である
化合物。
0または1であり、mが0,1または2であり、R2 が
水素原子、メチル基、エチル基、ベンジル基、ピリジル
メチル基、ホルムイミドイル基、アセトイミドイル基、
アミジノ基、2−イミダゾリン−2−イル基または2−
チアゾリン−2−イル基であり、R3 が水素原子である
化合物。
【0120】(4) Aが一般式の基で示され、qが
0または1であり、R9 が1〜2個の置換基を有しても
よいフェニル基(該置換基はメチル基、メトキシ基、ニ
トロ基、フッ素原子、水酸基、シアノ基、カルバモイル
基、ジメチルカルバモイル基、スルファモイル基、イミ
ダゾリル基、トリアゾリル基、ピリジル基またはチアゾ
リル基を示す)である化合物。
0または1であり、R9 が1〜2個の置換基を有しても
よいフェニル基(該置換基はメチル基、メトキシ基、ニ
トロ基、フッ素原子、水酸基、シアノ基、カルバモイル
基、ジメチルカルバモイル基、スルファモイル基、イミ
ダゾリル基、トリアゾリル基、ピリジル基またはチアゾ
リル基を示す)である化合物。
【0121】(5) Aが一般式の基で示され、qが
0または1であり、R9 が1〜2個の置換基を有しても
よいフェニル基(該置換基はニトロ基、フッ素原子、カ
ルバモイル基、ジメチルカルバモイル基、イミダゾリル
基、トリアゾリル基若しくはチアゾリル基を示す)であ
る化合物。
0または1であり、R9 が1〜2個の置換基を有しても
よいフェニル基(該置換基はニトロ基、フッ素原子、カ
ルバモイル基、ジメチルカルバモイル基、イミダゾリル
基、トリアゾリル基若しくはチアゾリル基を示す)であ
る化合物。
【0122】(6) Aが一般式の基で示され、rが
0,1または2であり、R10が水素原子、C1 〜C4 ア
ルキル基であり、R11が水素原子、C1 〜C4 アルキル
基または式−C(=NH)R4 で表される基(式中、R
4 は水素原子、メチル基またはアミノ基を示す)である
化合物。
0,1または2であり、R10が水素原子、C1 〜C4 ア
ルキル基であり、R11が水素原子、C1 〜C4 アルキル
基または式−C(=NH)R4 で表される基(式中、R
4 は水素原子、メチル基またはアミノ基を示す)である
化合物。
【0123】(7) Aが一般式の基で示され、rが
0,1または2であり、R10が水素原子、メチル基また
はエチル基であり、R11が水素原子、メチル基、エチル
基、ホルムイミドイル基、アセトイミドイル基またはア
ミジノ基である化合物。
0,1または2であり、R10が水素原子、メチル基また
はエチル基であり、R11が水素原子、メチル基、エチル
基、ホルムイミドイル基、アセトイミドイル基またはア
ミジノ基である化合物。
【0124】(8) Aが一般式の基で示され、R12
が水素原子、C1 〜C4 アルキル基または式−C(=N
H)R4 で表される基(式中、R4 は水素原子、メチル
基またはアミノ基を示す)であり、R13が1〜2個の置
換基を有するC1 〜C4 アルキル基(該置換基はハロゲ
ン原子、カルバモイル基または水酸基を示す)、C3 〜
C6 シクロアルキル基、1〜2個の置換基を有してもよ
いC6 〜C10アリール基若しくはC7 〜C14アラルキル
基(該置換基は、ニトロ基、ハロゲン原子、メチル基、
アミノ基、スルファモイル基、カルバモイル基、メチル
カルバモイル基、ジメチルカルバモイル基、1〜3個の
窒素、酸素若しくは硫黄原子を含有する5〜6員ヘテロ
アリール基、メトキシ基、ジフルオロメトキシ基、メチ
レンジオキシ基、ベンジルオキシ基、ピリジルメトキシ
基またはアセチルアミノ基である)、置換基群(a)か
ら選ばれる1〜2個の置換基を有してもよい1〜3個の
窒素、酸素若しくは硫黄原子を含有する5〜6員ヘテロ
アリール基若しくはベンゼン環縮合ヘテロアリール基、
または、置換基群(a)から選ばれる1〜2個の置換基
を有してもよい1〜3個の窒素、酸素若しくは硫黄原子
を含有する5〜6員ヘテロアラルキル基若しくはベンゼ
ン環縮合ヘテロアラルキル基である化合物。
が水素原子、C1 〜C4 アルキル基または式−C(=N
H)R4 で表される基(式中、R4 は水素原子、メチル
基またはアミノ基を示す)であり、R13が1〜2個の置
換基を有するC1 〜C4 アルキル基(該置換基はハロゲ
ン原子、カルバモイル基または水酸基を示す)、C3 〜
C6 シクロアルキル基、1〜2個の置換基を有してもよ
いC6 〜C10アリール基若しくはC7 〜C14アラルキル
基(該置換基は、ニトロ基、ハロゲン原子、メチル基、
アミノ基、スルファモイル基、カルバモイル基、メチル
カルバモイル基、ジメチルカルバモイル基、1〜3個の
窒素、酸素若しくは硫黄原子を含有する5〜6員ヘテロ
アリール基、メトキシ基、ジフルオロメトキシ基、メチ
レンジオキシ基、ベンジルオキシ基、ピリジルメトキシ
基またはアセチルアミノ基である)、置換基群(a)か
ら選ばれる1〜2個の置換基を有してもよい1〜3個の
窒素、酸素若しくは硫黄原子を含有する5〜6員ヘテロ
アリール基若しくはベンゼン環縮合ヘテロアリール基、
または、置換基群(a)から選ばれる1〜2個の置換基
を有してもよい1〜3個の窒素、酸素若しくは硫黄原子
を含有する5〜6員ヘテロアラルキル基若しくはベンゼ
ン環縮合ヘテロアラルキル基である化合物。
【0125】(9) Aが一般式の基で示され、R12
が水素原子、C1 〜C4 アルキル基または式−C(=N
H)R4 で表される基(式中、R4 は水素原子、メチル
基またはアミノ基を示す)であり、R13が1〜2個の置
換基を有するC1 〜C4 アルキル基(該置換基はハロゲ
ン原子、カルバモイル基または水酸基を示す)、C3 〜
C6 シクロアルキル基、1〜2個の置換基を有してもよ
いフェニル、ナフチル、ベンジル、フェネチル若しくは
ナフチルメチル基(該置換基は、ニトロ基、ハロゲン原
子、メチル基、アミノ基、スルファモイル基、カルバモ
イル基、メチルカルバモイル基、ジメチルカルバモイル
基、1〜3個の窒素、酸素若しくは硫黄原子を含有する
5〜6員ヘテロアリール基、メトキシ基、ジフルオロメ
トキシ基、メチレンジオキシ基、ベンジルオキシ基、ピ
リジルメトキシ基またはアセチルアミノ基である。)、
または、置換基群(a)から選ばれる1〜2個の置換基
を有してもよいピリジル、ピリミジル、イミダゾリル、
トリアゾリル、チアゾリル、チアジアゾリル、ベンツイ
ミダゾリル、ベンゾチアゾリル、ピリジルメチル、イミ
ダゾリルメチル、チアゾリルメチル、ベンゾチアゾリル
メチル、ベンツイミダゾリルメチル若しくはキノリルメ
チル基である化合物。
が水素原子、C1 〜C4 アルキル基または式−C(=N
H)R4 で表される基(式中、R4 は水素原子、メチル
基またはアミノ基を示す)であり、R13が1〜2個の置
換基を有するC1 〜C4 アルキル基(該置換基はハロゲ
ン原子、カルバモイル基または水酸基を示す)、C3 〜
C6 シクロアルキル基、1〜2個の置換基を有してもよ
いフェニル、ナフチル、ベンジル、フェネチル若しくは
ナフチルメチル基(該置換基は、ニトロ基、ハロゲン原
子、メチル基、アミノ基、スルファモイル基、カルバモ
イル基、メチルカルバモイル基、ジメチルカルバモイル
基、1〜3個の窒素、酸素若しくは硫黄原子を含有する
5〜6員ヘテロアリール基、メトキシ基、ジフルオロメ
トキシ基、メチレンジオキシ基、ベンジルオキシ基、ピ
リジルメトキシ基またはアセチルアミノ基である。)、
または、置換基群(a)から選ばれる1〜2個の置換基
を有してもよいピリジル、ピリミジル、イミダゾリル、
トリアゾリル、チアゾリル、チアジアゾリル、ベンツイ
ミダゾリル、ベンゾチアゾリル、ピリジルメチル、イミ
ダゾリルメチル、チアゾリルメチル、ベンゾチアゾリル
メチル、ベンツイミダゾリルメチル若しくはキノリルメ
チル基である化合物。
【0126】(10) Aが一般式の基で示され、R
12が水素原子、C1 〜C4 アルキル基または式−C(=
NH)R4 で表される基(式中、R4 は水素原子、メチ
ル基またはアミノ基を示す)であり、R13が1〜2個の
置換基を有するC1 〜C4 アルキル基(該置換基はハロ
ゲン原子、カルバモイル基または水酸基を示す)、C3
〜C6 シクロアルキル基、1〜2個の置換基を有しても
よいフェニル若しくはベンジル基(該置換基は、ニト
ロ、ハロゲン原子、カルバモイル、スルファモイル、イ
ミダゾリル、チアゾリル、1、2、4−トリアゾリルま
たはベンジルオキシ基である)、または1〜2個の置換
基を有してもよいピリジル、ピリミジル、イミダゾリ
ル、トリアゾリル、チアゾリル、チアジアゾリル、ベン
ツイミダゾリル、ベンゾチアゾリル、ピリジルメチル、
イミダゾリルメチル、チアゾリルメチル、ベンゾチアゾ
リルメチル、ベンツイミダゾリルメチル若しくはキノリ
ルメチル基(該置換基は、ハロゲン原子、アミノ基、カ
ルバモイル基、スルファモイル基、ヒドロキシメチル
基、カルバモイルメチル基、フェニル基、エチルチオ
基、ピリジル基、1−イミダゾリルメチル基、トリメチ
ルアンモニオ基、チオカルバモイル基またはベンジル基
である)である化合物。
12が水素原子、C1 〜C4 アルキル基または式−C(=
NH)R4 で表される基(式中、R4 は水素原子、メチ
ル基またはアミノ基を示す)であり、R13が1〜2個の
置換基を有するC1 〜C4 アルキル基(該置換基はハロ
ゲン原子、カルバモイル基または水酸基を示す)、C3
〜C6 シクロアルキル基、1〜2個の置換基を有しても
よいフェニル若しくはベンジル基(該置換基は、ニト
ロ、ハロゲン原子、カルバモイル、スルファモイル、イ
ミダゾリル、チアゾリル、1、2、4−トリアゾリルま
たはベンジルオキシ基である)、または1〜2個の置換
基を有してもよいピリジル、ピリミジル、イミダゾリ
ル、トリアゾリル、チアゾリル、チアジアゾリル、ベン
ツイミダゾリル、ベンゾチアゾリル、ピリジルメチル、
イミダゾリルメチル、チアゾリルメチル、ベンゾチアゾ
リルメチル、ベンツイミダゾリルメチル若しくはキノリ
ルメチル基(該置換基は、ハロゲン原子、アミノ基、カ
ルバモイル基、スルファモイル基、ヒドロキシメチル
基、カルバモイルメチル基、フェニル基、エチルチオ
基、ピリジル基、1−イミダゾリルメチル基、トリメチ
ルアンモニオ基、チオカルバモイル基またはベンジル基
である)である化合物。
【0127】(11) Aが一般式の基で示され、R
12が水素原子、メチル基、エチル基、ホルムイミドイル
基、アセトイミドイル基またはアミジノ基であり、R13
が2−フルオロエチル基、シクロプロピル基、フェニル
基、3−ピリジル基、4−ピリジル基、ベンジル基、4
−ニトロベンジル基、4−クロロベンジル基、4−フル
オロベンジル基、2−ピリジルメチル基、3−ピリジル
メチル基、4−ピリジルメチル基、4−(1−イミダゾ
リル)ベンジル基、4−ベンジルオキシベンジル基、2
−チアゾリル基、2−ベンツイミダゾリル基、2−ベン
ゾチアゾリル基、4−(4−ピリジル)チアゾ−ル−2
−イル基、4−フェニルチアゾ−ル−2−イル基、4−
ベンジルチアゾ−ル−2−イル基、6−アミノ−ベンゾ
チアゾール−2−イル基、4−(1−イミダゾリルメチ
ル)チアゾ−ル−2−イル基、1、3、4−チアジアゾ
−ル−2−イル基、5−フェニル−1、3、4−チアジ
アゾ−ル−2−イル基、5−(4−ピリジル)−1、
3、4−チアジアゾ−ル−2−イル基、5−エチルチオ
−1、3、4−チアジアゾール−2−イル基、2−ベン
ゾチアゾリルメチル基、2−ベンツイミダゾリルメチル
基または2−キノリルメチル基である化合物。
12が水素原子、メチル基、エチル基、ホルムイミドイル
基、アセトイミドイル基またはアミジノ基であり、R13
が2−フルオロエチル基、シクロプロピル基、フェニル
基、3−ピリジル基、4−ピリジル基、ベンジル基、4
−ニトロベンジル基、4−クロロベンジル基、4−フル
オロベンジル基、2−ピリジルメチル基、3−ピリジル
メチル基、4−ピリジルメチル基、4−(1−イミダゾ
リル)ベンジル基、4−ベンジルオキシベンジル基、2
−チアゾリル基、2−ベンツイミダゾリル基、2−ベン
ゾチアゾリル基、4−(4−ピリジル)チアゾ−ル−2
−イル基、4−フェニルチアゾ−ル−2−イル基、4−
ベンジルチアゾ−ル−2−イル基、6−アミノ−ベンゾ
チアゾール−2−イル基、4−(1−イミダゾリルメチ
ル)チアゾ−ル−2−イル基、1、3、4−チアジアゾ
−ル−2−イル基、5−フェニル−1、3、4−チアジ
アゾ−ル−2−イル基、5−(4−ピリジル)−1、
3、4−チアジアゾ−ル−2−イル基、5−エチルチオ
−1、3、4−チアジアゾール−2−イル基、2−ベン
ゾチアゾリルメチル基、2−ベンツイミダゾリルメチル
基または2−キノリルメチル基である化合物。
【0128】本発明の有効成分である一般式(I)で表
される化合物において、9位および10位の配置はチエ
ナマイシンと同一の立体配置である(9R,10S)配
置であり、10位置換基の水酸基を有するα位の配置が
R配置であり、8位および4位については異性体の一つ
または混合物を示す。それら異性体の好適なものとして
は8位の配置がS配置である化合物である。
される化合物において、9位および10位の配置はチエ
ナマイシンと同一の立体配置である(9R,10S)配
置であり、10位置換基の水酸基を有するα位の配置が
R配置であり、8位および4位については異性体の一つ
または混合物を示す。それら異性体の好適なものとして
は8位の配置がS配置である化合物である。
【0129】一般式(I)における好適な化合物の具体
例を以下に示す。
例を以下に示す。
【0130】
【表1】
【0131】
【表2】
【0132】
【表3】
【0133】
【表4】
【0134】
【表5】
【0135】
【表6】
【0136】
【表7】
【0137】
【表8】
【0138】
【表9】
【0139】
【表10】
【0140】
【表11】
【0141】
【表12】
【0142】
【表13】
【0143】
【表14】
【0144】
【表15】
【0145】
【表16】
【0146】
【表17】
【0147】
【表18】
【0148】
【表19】
【0149】また、上記の表において、好適には、化合
物番号 −1、−2、−3、−4、−5、
−8、−9、−10、−11、−12、−1
4、−17、−22、−23、−34、−3
5、−36、−51、−53、−54、−
1、−2、−3、−4、−5、−14、−
15、−1、−2、−3、−4、−5、−
6、−3、−11、−12、−13、−1
4、−20、−28、−29、−30、−4
1、−42、−47、−51、−55、−6
0、−71、−74、−86、−95、−1
00、−105、−112の化合物をあげることが
でき、更に好適には、化合物番号 −1、−2、
−3、−4、−5、−9、−10、−11、
−12、−14、−15、−34、−36、
−51、−54、−1、−6、−3、−1
1、−12、−13、−16、−29、−3
0、−41、−47、−55、−60、−7
4、−86、−95、−100、−105、
−112の化合物をあげることができる。
物番号 −1、−2、−3、−4、−5、
−8、−9、−10、−11、−12、−1
4、−17、−22、−23、−34、−3
5、−36、−51、−53、−54、−
1、−2、−3、−4、−5、−14、−
15、−1、−2、−3、−4、−5、−
6、−3、−11、−12、−13、−1
4、−20、−28、−29、−30、−4
1、−42、−47、−51、−55、−6
0、−71、−74、−86、−95、−1
00、−105、−112の化合物をあげることが
でき、更に好適には、化合物番号 −1、−2、
−3、−4、−5、−9、−10、−11、
−12、−14、−15、−34、−36、
−51、−54、−1、−6、−3、−1
1、−12、−13、−16、−29、−3
0、−41、−47、−55、−60、−7
4、−86、−95、−100、−105、
−112の化合物をあげることができる。
【0150】特に好適な化合物としては、以下の化合物
を挙げることができる。 1.(4R,8S,9R,10S)−10−[(R)−
1−ヒドロキシエチル]−4−[(S)−3−ピロリジ
ニル]チオメチル−11−オキソ−1−アザトリシクロ
[7.2.0.03,8 ]ウンデカ−2−エン−2−カル
ボン酸[例示化合物−1の(4R)異性体] 2.(4R,8S,9R,10S)−10−[(R)−
1−ヒドロキシエチル]−11−オキソ−4−[(S)
−2−ピロリジニル]メチルチオメチル−1−アザトリ
シクロ[7.2.0.03,8 ]ウンデカ−2−エン−2
−カルボン酸[例示化合物−5の(4R)異性体] 3.(4S,8S,9R,10S)−4−N−ベンジル
アミノメチル−10−[(R)−1−ヒドロキシエチ
ル]−11−オキソ−1−アザトリシクロ[7.2.
0.03,8 ]ウンデカ−2−エン−2−カルボン酸[例
示化合物−3の(4S)異性体] 4.(4R,8S,9R,10S)−4−N−ベンジル
アミノメチル−10−[(R)−1−ヒドロキシエチ
ル]−11−オキソ−1−アザトリシクロ[7.2.
0.03,8 ]ウンデカ−2−エン−2−カルボン酸[例
示化合物−3の(4R)異性体] 5.(4R,8S,9R,10S)−4−[(S)−1
−アミジノピロリジン−3−イル]チオメチル−10−
[(R)−1−ヒドロキシエチル]−11−オキソ−1
−アザトリシクロ[7.2.0.03,8 ]ウンデカ−2
−エン−2−カルボン酸[例示化合物−4の(4R)
異性体] 6.(4R,8S,9R,10S)−10−[(R)−
1−ヒドロキシエチル]−4−[(S)−1−(2−イ
ミダゾリン−2−イル)ピロリジン−3−イル]チオメ
チル−11−オキソ−1−アザトリシクロ[7.2.
0.03,8 ]ウンデカ−2−エン−2−カルボン酸[例
示化合物−35の(4R)異性体] 7.(4R,8S,9R,10S)−10−[(R)−
1−ヒドロキシエチル]−4−[(S)−1−(2−チ
アゾリン−2−イル)ピロリジン−3−イル]チオメチ
ル−11−オキソ−1−アザトリシクロ[7.2.0.
03,8 ]ウンデカ−2−エン−2−カルボン酸[例示化
合物−34の(4R)異性体] 8.(4R,8S,9R,10S)−10−[(R)−
1−ヒドロキシエチル]−4−[1−(2−チアゾリン
−2−イル)アゼチジン−2−イル]チオメチル−11
−オキソ−1−アザトリシクロ[7.2.0.03,8 ]
ウンデカ−2−エン−2−カルボン酸[例示化合物−
38の(4R)異性体] 9.(4R,8S,9R,10S)−4−[1−アミジ
ノアゼチジン−2−イル]チオメチル−10−[(R)
−1−ヒドロキシエチル]−11−オキソ−1−アザト
リシクロ[7.2.0.03,8 ]ウンデカ−2−エン−
2−カルボン酸[例示化合物−12の(4R)異性
体] 10.(4R,8S,9R,10S)−10−[(R)
−1−ヒドロキシエチル]−4−[N−(4−(1−イ
ミダゾリル)ベンジル)アミノメチル]−11−オキソ
−1−アザトリシクロ[7.2.0.03,8 ]ウンデカ
−2−エン−2−カルボン酸[例示化合物−29の
(4R)異性体] 11.(4S,8S,9R,10S)−10−[(R)
−1−ヒドロキシエチル]−4−[N−(2−チアゾリ
ル)アミノメチル]−11−オキソ−1−アザトリシク
ロ[7.2.0.03,8 ]ウンデカ−2−エン−2−カ
ルボン酸[例示化合物−29の(4S)異性体] 12.(4R,8S,9R,10S)−10−[(R)
−1−ヒドロキシエチル]−4−[N−(2−チアゾリ
ル)アミノメチル]−11−オキソ−1−アザトリシク
ロ[7.2.0.03,8 ]ウンデカ−2−エン−2−カ
ルボン酸[例示化合物−29の(4R)異性体] 13.(4S,8S,9R,10S)−4−[N−(2
−ベンゾチアゾリル)アミノメチル]−10−[(R)
−1−ヒドロキシエチル]−11−オキソ−1−アザト
リシクロ[7.2.0.03,8 ]ウンデカ−2−エン−
2−カルボン酸[例示化合物−47の(4R)異性
体] 14.(4R,8S,9R,10S)−4−[N−(2
−ベンゾチアゾリル)アミノメチル]−10−[(R)
−1−ヒドロキシエチル]−11−オキソ−1−アザト
リシクロ[7.2.0.03,8 ]ウンデカ−2−エン−
2−カルボン酸[例示化合物−47の(4R)異性
体] 15.(4S,8S,9R,10S)−10−[(R)
−1−ヒドロキシエチル]−4−[N−(2−(4−フ
ェニル)チアゾリル)アミノメチル]−11−オキソ−
1−アザトリシクロ[7.2.0.03,8 ]ウンデカ−
2−エン−2−カルボン酸[例示化合物−60の(4
S)異性体] 16.(4R,8S,9R,10S)−10−[(R)
−1−ヒドロキシエチル]−4−[N−(2−(4−フ
ェニル)チアゾリル)アミノメチル]−11−オキソ−
1−アザトリシクロ[7.2.0.03,8 ]ウンデカ−
2−エン−2−カルボン酸[例示化合物−60の(4
R)異性体] 17.(4S,8S,9R,10S)−4−[N−(2
−(4−ベンジル)チアゾリル)アミノメチル]−10
−[(R)−1−ヒドロキシエチル]−11−オキソ−
1−アザトリシクロ[7.2.0.03,8 ]ウンデカ−
2−エン−2−カルボン酸[例示化合物−71の(4
S)異性体] 18.(4R,8S,9R,10S)−4−[N−(2
−(4−ベンジル)チアゾリル)アミノメチル]−10
−[(R)−1−ヒドロキシエチル]−11−オキソ−
1−アザトリシクロ[7.2.0.03,8 ]ウンデカ−
2−エン−2−カルボン酸[例示化合物−71の(4
R)異性体] 19.(4S,8S,9R,10S)−10−[(R)
−1−ヒドロキシエチル]−4−[N−(5−フェニル
−1,3,4−チアジアゾール−2−イル)アミノメチ
ル]−11−オキソ−1−アザトリシクロ[7.2.
0.03,8 ]ウンデカ−2−エン−2−カルボン酸[例
示化合物−100の(4S)異性体] 20.(4R,8S,9R,10S)−10−[(R)
−1−ヒドロキシエチル]−4−[N−(5−フェニル
−1,3,4−チアジアゾール−2−イル)アミノメチ
ル]−11−オキソ−1−アザトリシクロ[7.2.
0.03,8 ]ウンデカ−2−エン−2−カルボン酸[例
示化合物−100の(4R)異性体] 21.(4S,8S,9R,10S)−10−[(R)
−1−ヒドロキシエチル]−4−[N−(1,3,4−
チアジアゾール−2−イル)アミノメチル]−11−オ
キソ−1−アザトリシクロ[7.2.0.03,8 ]ウン
デカ−2−エン−2−カルボン酸[例示化合物−30
の(4S)異性体] 22.(4R,8S,9R,10S)−10−[(R)
−1−ヒドロキシエチル]−4−[N−(1,3,4−
チアジアゾール−2−イル)アミノメチル]−11−オ
キソ−1−アザトリシクロ[7.2.0.03,8 ]ウン
デカ−2−エン−2−カルボン酸[例示化合物−30
の(4R)異性体] 23.(4R,8S,9R,10S)−10−[(R)
−1−ヒドロキシエチル]−4−[1−(2−チアゾリ
ン−2−イル)ピペリジン−4−イル]チオメチル−1
1−オキソ−1−アザトリシクロ[7.2.0.0
3,8 ]ウンデカ−2−エン−2−カルボン酸[例示化合
物−40の(4R)異性体] 24.(4R,8S,9R,10S)−4−(1−アミ
ジノピペリジン−4−イル)チオメチル−10−
[(R)−1−ヒドロキシエチル]−11−オキソ−1
−アザトリシクロ[7.2.0.03,8 ]ウンデカ−2
−エン−2−カルボン酸[例示化合物−12の(4
R)異性体]
を挙げることができる。 1.(4R,8S,9R,10S)−10−[(R)−
1−ヒドロキシエチル]−4−[(S)−3−ピロリジ
ニル]チオメチル−11−オキソ−1−アザトリシクロ
[7.2.0.03,8 ]ウンデカ−2−エン−2−カル
ボン酸[例示化合物−1の(4R)異性体] 2.(4R,8S,9R,10S)−10−[(R)−
1−ヒドロキシエチル]−11−オキソ−4−[(S)
−2−ピロリジニル]メチルチオメチル−1−アザトリ
シクロ[7.2.0.03,8 ]ウンデカ−2−エン−2
−カルボン酸[例示化合物−5の(4R)異性体] 3.(4S,8S,9R,10S)−4−N−ベンジル
アミノメチル−10−[(R)−1−ヒドロキシエチ
ル]−11−オキソ−1−アザトリシクロ[7.2.
0.03,8 ]ウンデカ−2−エン−2−カルボン酸[例
示化合物−3の(4S)異性体] 4.(4R,8S,9R,10S)−4−N−ベンジル
アミノメチル−10−[(R)−1−ヒドロキシエチ
ル]−11−オキソ−1−アザトリシクロ[7.2.
0.03,8 ]ウンデカ−2−エン−2−カルボン酸[例
示化合物−3の(4R)異性体] 5.(4R,8S,9R,10S)−4−[(S)−1
−アミジノピロリジン−3−イル]チオメチル−10−
[(R)−1−ヒドロキシエチル]−11−オキソ−1
−アザトリシクロ[7.2.0.03,8 ]ウンデカ−2
−エン−2−カルボン酸[例示化合物−4の(4R)
異性体] 6.(4R,8S,9R,10S)−10−[(R)−
1−ヒドロキシエチル]−4−[(S)−1−(2−イ
ミダゾリン−2−イル)ピロリジン−3−イル]チオメ
チル−11−オキソ−1−アザトリシクロ[7.2.
0.03,8 ]ウンデカ−2−エン−2−カルボン酸[例
示化合物−35の(4R)異性体] 7.(4R,8S,9R,10S)−10−[(R)−
1−ヒドロキシエチル]−4−[(S)−1−(2−チ
アゾリン−2−イル)ピロリジン−3−イル]チオメチ
ル−11−オキソ−1−アザトリシクロ[7.2.0.
03,8 ]ウンデカ−2−エン−2−カルボン酸[例示化
合物−34の(4R)異性体] 8.(4R,8S,9R,10S)−10−[(R)−
1−ヒドロキシエチル]−4−[1−(2−チアゾリン
−2−イル)アゼチジン−2−イル]チオメチル−11
−オキソ−1−アザトリシクロ[7.2.0.03,8 ]
ウンデカ−2−エン−2−カルボン酸[例示化合物−
38の(4R)異性体] 9.(4R,8S,9R,10S)−4−[1−アミジ
ノアゼチジン−2−イル]チオメチル−10−[(R)
−1−ヒドロキシエチル]−11−オキソ−1−アザト
リシクロ[7.2.0.03,8 ]ウンデカ−2−エン−
2−カルボン酸[例示化合物−12の(4R)異性
体] 10.(4R,8S,9R,10S)−10−[(R)
−1−ヒドロキシエチル]−4−[N−(4−(1−イ
ミダゾリル)ベンジル)アミノメチル]−11−オキソ
−1−アザトリシクロ[7.2.0.03,8 ]ウンデカ
−2−エン−2−カルボン酸[例示化合物−29の
(4R)異性体] 11.(4S,8S,9R,10S)−10−[(R)
−1−ヒドロキシエチル]−4−[N−(2−チアゾリ
ル)アミノメチル]−11−オキソ−1−アザトリシク
ロ[7.2.0.03,8 ]ウンデカ−2−エン−2−カ
ルボン酸[例示化合物−29の(4S)異性体] 12.(4R,8S,9R,10S)−10−[(R)
−1−ヒドロキシエチル]−4−[N−(2−チアゾリ
ル)アミノメチル]−11−オキソ−1−アザトリシク
ロ[7.2.0.03,8 ]ウンデカ−2−エン−2−カ
ルボン酸[例示化合物−29の(4R)異性体] 13.(4S,8S,9R,10S)−4−[N−(2
−ベンゾチアゾリル)アミノメチル]−10−[(R)
−1−ヒドロキシエチル]−11−オキソ−1−アザト
リシクロ[7.2.0.03,8 ]ウンデカ−2−エン−
2−カルボン酸[例示化合物−47の(4R)異性
体] 14.(4R,8S,9R,10S)−4−[N−(2
−ベンゾチアゾリル)アミノメチル]−10−[(R)
−1−ヒドロキシエチル]−11−オキソ−1−アザト
リシクロ[7.2.0.03,8 ]ウンデカ−2−エン−
2−カルボン酸[例示化合物−47の(4R)異性
体] 15.(4S,8S,9R,10S)−10−[(R)
−1−ヒドロキシエチル]−4−[N−(2−(4−フ
ェニル)チアゾリル)アミノメチル]−11−オキソ−
1−アザトリシクロ[7.2.0.03,8 ]ウンデカ−
2−エン−2−カルボン酸[例示化合物−60の(4
S)異性体] 16.(4R,8S,9R,10S)−10−[(R)
−1−ヒドロキシエチル]−4−[N−(2−(4−フ
ェニル)チアゾリル)アミノメチル]−11−オキソ−
1−アザトリシクロ[7.2.0.03,8 ]ウンデカ−
2−エン−2−カルボン酸[例示化合物−60の(4
R)異性体] 17.(4S,8S,9R,10S)−4−[N−(2
−(4−ベンジル)チアゾリル)アミノメチル]−10
−[(R)−1−ヒドロキシエチル]−11−オキソ−
1−アザトリシクロ[7.2.0.03,8 ]ウンデカ−
2−エン−2−カルボン酸[例示化合物−71の(4
S)異性体] 18.(4R,8S,9R,10S)−4−[N−(2
−(4−ベンジル)チアゾリル)アミノメチル]−10
−[(R)−1−ヒドロキシエチル]−11−オキソ−
1−アザトリシクロ[7.2.0.03,8 ]ウンデカ−
2−エン−2−カルボン酸[例示化合物−71の(4
R)異性体] 19.(4S,8S,9R,10S)−10−[(R)
−1−ヒドロキシエチル]−4−[N−(5−フェニル
−1,3,4−チアジアゾール−2−イル)アミノメチ
ル]−11−オキソ−1−アザトリシクロ[7.2.
0.03,8 ]ウンデカ−2−エン−2−カルボン酸[例
示化合物−100の(4S)異性体] 20.(4R,8S,9R,10S)−10−[(R)
−1−ヒドロキシエチル]−4−[N−(5−フェニル
−1,3,4−チアジアゾール−2−イル)アミノメチ
ル]−11−オキソ−1−アザトリシクロ[7.2.
0.03,8 ]ウンデカ−2−エン−2−カルボン酸[例
示化合物−100の(4R)異性体] 21.(4S,8S,9R,10S)−10−[(R)
−1−ヒドロキシエチル]−4−[N−(1,3,4−
チアジアゾール−2−イル)アミノメチル]−11−オ
キソ−1−アザトリシクロ[7.2.0.03,8 ]ウン
デカ−2−エン−2−カルボン酸[例示化合物−30
の(4S)異性体] 22.(4R,8S,9R,10S)−10−[(R)
−1−ヒドロキシエチル]−4−[N−(1,3,4−
チアジアゾール−2−イル)アミノメチル]−11−オ
キソ−1−アザトリシクロ[7.2.0.03,8 ]ウン
デカ−2−エン−2−カルボン酸[例示化合物−30
の(4R)異性体] 23.(4R,8S,9R,10S)−10−[(R)
−1−ヒドロキシエチル]−4−[1−(2−チアゾリ
ン−2−イル)ピペリジン−4−イル]チオメチル−1
1−オキソ−1−アザトリシクロ[7.2.0.0
3,8 ]ウンデカ−2−エン−2−カルボン酸[例示化合
物−40の(4R)異性体] 24.(4R,8S,9R,10S)−4−(1−アミ
ジノピペリジン−4−イル)チオメチル−10−
[(R)−1−ヒドロキシエチル]−11−オキソ−1
−アザトリシクロ[7.2.0.03,8 ]ウンデカ−2
−エン−2−カルボン酸[例示化合物−12の(4
R)異性体]
【0151】
【発明の実施の形態】本発明の有効成分である一般式
(I)を有する三環性複素環化合物は、以下に示す方法
(A法、B法及びC法)によって製造することができ
る。
(I)を有する三環性複素環化合物は、以下に示す方法
(A法、B法及びC法)によって製造することができ
る。
【0152】
【化16】
【0153】上記式中、Aは前述したものと同意義であ
り、R14は水酸基の保護基を示し、R15はアルキル基ま
たはアリール基を示し、R16はカルボキシ基の保護基を
示し、Ap は、Aが水酸基、アミノ基及び/又はイミノ
基を含む場合これらが保護されていてもよいAを示す。
また、Aが4級アンモニオ基またはピリジニオ基を有す
る基である場合には、Apは対応する3級アミノ基また
はピリジル基を有する基を含む。
り、R14は水酸基の保護基を示し、R15はアルキル基ま
たはアリール基を示し、R16はカルボキシ基の保護基を
示し、Ap は、Aが水酸基、アミノ基及び/又はイミノ
基を含む場合これらが保護されていてもよいAを示す。
また、Aが4級アンモニオ基またはピリジニオ基を有す
る基である場合には、Apは対応する3級アミノ基また
はピリジル基を有する基を含む。
【0154】R14の「水酸基の保護基」は、例えばトリ
メチルシリル、トリエチルシリル、t−ブチルジメチル
シリルのようなトリアルキルシリル基;4−ニトロベン
ジルオキシカルボニル、ベンジルオキシカルボニルのよ
うなアラルキルオキシカルボニル基;アリルオキシカル
ボニル、2−クロロアリルオキシカルボニル、2−メチ
ルアリルオキシカルボニルのような2位が塩素若しくは
メチルで置換されていてもよいアリルオキシカルボニル
基;トリメチルシリルエチルオキシカルボニル、2,
2,2−トリクロロエチルオキシカルボニルのような2
位がトリアルキルシリル若しくは塩素で置換されたエチ
ルオキシカルボニル基があげられ、好適にはt−ブチル
ジメチルシリル基またはアリルオキシカルボニル基であ
り、特に好適にはt−ブチルジメチルシリル基である。
メチルシリル、トリエチルシリル、t−ブチルジメチル
シリルのようなトリアルキルシリル基;4−ニトロベン
ジルオキシカルボニル、ベンジルオキシカルボニルのよ
うなアラルキルオキシカルボニル基;アリルオキシカル
ボニル、2−クロロアリルオキシカルボニル、2−メチ
ルアリルオキシカルボニルのような2位が塩素若しくは
メチルで置換されていてもよいアリルオキシカルボニル
基;トリメチルシリルエチルオキシカルボニル、2,
2,2−トリクロロエチルオキシカルボニルのような2
位がトリアルキルシリル若しくは塩素で置換されたエチ
ルオキシカルボニル基があげられ、好適にはt−ブチル
ジメチルシリル基またはアリルオキシカルボニル基であ
り、特に好適にはt−ブチルジメチルシリル基である。
【0155】R15の「アルキル基」は、例えばメチル、
エチル、プロピル、イソプロピル、トリフルオロメチ
ル、ブチルのような1〜3個の弗素原子で置換されてい
てもよいC1 〜C4 アルキル基を示し、「アリール基」
は、例えばフェニル、トリル、ナフチルのようなメチル
基で置換されていてもよいC6 〜C10アリール基を示
す。R15は、好適にはメチル基またはフェニル基であ
り、特に好適にはメチル基である。
エチル、プロピル、イソプロピル、トリフルオロメチ
ル、ブチルのような1〜3個の弗素原子で置換されてい
てもよいC1 〜C4 アルキル基を示し、「アリール基」
は、例えばフェニル、トリル、ナフチルのようなメチル
基で置換されていてもよいC6 〜C10アリール基を示
す。R15は、好適にはメチル基またはフェニル基であ
り、特に好適にはメチル基である。
【0156】R16の「カルボキシル基の保護基」は、有
機合成化学の分野で通常に用いられる保護基であり、た
とえばアリル、2−クロロアリル、2−メチルアリルの
ような2位が塩素またはメチルで置換されていてもよい
アリル基;ベンジル、4−ニトロベンジルのようなアラ
ルキル基;ベンツヒドリル基があげられ、好適にはアリ
ル基、4−ニトロベンジル基であり、特に好適にはアリ
ル基である。
機合成化学の分野で通常に用いられる保護基であり、た
とえばアリル、2−クロロアリル、2−メチルアリルの
ような2位が塩素またはメチルで置換されていてもよい
アリル基;ベンジル、4−ニトロベンジルのようなアラ
ルキル基;ベンツヒドリル基があげられ、好適にはアリ
ル基、4−ニトロベンジル基であり、特に好適にはアリ
ル基である。
【0157】Ap に含まれる「水酸基、イミノ基および
アミノ基の保護基」は、有機合成化学の分野で通常に用
いられる保護基であり、たとえばアリルオキシカルボニ
ル、2−クロロアリルオキシカルボニル、2−メチルア
リルオキシカルボニルのような2位が塩素またはメチル
で置換されていてもよいアリルオキシカルボニル基;ベ
ンジルオキシカルボニル、4−ニトロベンジルオキシカ
ルボニルのようなアラルキルオキシカルボニル基があげ
られ、好適にはアリルオキシカルボニル基または4−ニ
トロベンジルオキシカルボニル基であり、特に好適には
アリルオキシカルボニル基である。
アミノ基の保護基」は、有機合成化学の分野で通常に用
いられる保護基であり、たとえばアリルオキシカルボニ
ル、2−クロロアリルオキシカルボニル、2−メチルア
リルオキシカルボニルのような2位が塩素またはメチル
で置換されていてもよいアリルオキシカルボニル基;ベ
ンジルオキシカルボニル、4−ニトロベンジルオキシカ
ルボニルのようなアラルキルオキシカルボニル基があげ
られ、好適にはアリルオキシカルボニル基または4−ニ
トロベンジルオキシカルボニル基であり、特に好適には
アリルオキシカルボニル基である。
【0158】A法は、式(II)を有する化合物に塩基
の存在下にスルホニル化剤を反応させ式(III)を有
する化合物を製造し(第A1工程)、得られた化合物
(III)を塩基の存在下に式HApを有する化合物と
反応させて式(IV)を有する化合物を製造し(第A2
工程)、次いで塩基の存在下にClCOCOOR16と反
応させて式(V)を有する化合物を製造し(第A3工
程)、次いで閉環反応に付して式(VI)を有する化合
物を製造し(第A4工程)、最後に保護基を除去し、必
要に応じて薬理上許容される塩または生体内で加水分解
を受けるエステルに変換する(第A5工程)ことによっ
て一般式(I)を有する化合物を製造する方法である。
以下、各工程について詳しく説明する。
の存在下にスルホニル化剤を反応させ式(III)を有
する化合物を製造し(第A1工程)、得られた化合物
(III)を塩基の存在下に式HApを有する化合物と
反応させて式(IV)を有する化合物を製造し(第A2
工程)、次いで塩基の存在下にClCOCOOR16と反
応させて式(V)を有する化合物を製造し(第A3工
程)、次いで閉環反応に付して式(VI)を有する化合
物を製造し(第A4工程)、最後に保護基を除去し、必
要に応じて薬理上許容される塩または生体内で加水分解
を受けるエステルに変換する(第A5工程)ことによっ
て一般式(I)を有する化合物を製造する方法である。
以下、各工程について詳しく説明する。
【0159】(第A1工程)スルホニル化 第A1工程は、式(II)を有する化合物を不活性溶媒
中、塩基の存在下、スルフォニル化剤を反応させて、式
(III)を有する化合物を製造する工程である。尚、
出発原料となる式(II)を有する化合物は、参考例1
に従って合成した。
中、塩基の存在下、スルフォニル化剤を反応させて、式
(III)を有する化合物を製造する工程である。尚、
出発原料となる式(II)を有する化合物は、参考例1
に従って合成した。
【0160】スルホニル化剤は、例えばメタンスルホニ
ルクロリド、エタンスルホニルクロリドのようなアルカ
ンスルホニルクロリド;ベンゼンスルホニルクロリド、
p−トルエンスルホニルクロリドのようなアリールスル
ホニルクロリド;無水メタンスルホン酸、無水トリフル
オロメタンスルホン酸、無水エタンスルホン酸のような
無水アルカンスルホン酸;無水ベンゼンスルホン酸、無
水p−トルエンスルホン酸のような無水アリールスルホ
ン酸があげられ、好適にはメタンスルホニルクロリドお
よびp−トルエンスルホニルクロリドである。
ルクロリド、エタンスルホニルクロリドのようなアルカ
ンスルホニルクロリド;ベンゼンスルホニルクロリド、
p−トルエンスルホニルクロリドのようなアリールスル
ホニルクロリド;無水メタンスルホン酸、無水トリフル
オロメタンスルホン酸、無水エタンスルホン酸のような
無水アルカンスルホン酸;無水ベンゼンスルホン酸、無
水p−トルエンスルホン酸のような無水アリールスルホ
ン酸があげられ、好適にはメタンスルホニルクロリドお
よびp−トルエンスルホニルクロリドである。
【0161】使用される溶剤は、本反応に関与しなけれ
ば特に限定はなく、例えば、テトラヒドロフラン、ジオ
キサン若しくは1,2−ジメトキシエタンのようなエー
テル類、アセトニトリルのようなニトリル類、N,N−
ジメチルホルムアミド若しくはN,N−ジメチルアセト
アミドのようなアミド類またはジメチルスルホキシドの
ようなスルホキシド類があげられ、好適にはテトラヒド
ロフランまたはアセトニトリルである。
ば特に限定はなく、例えば、テトラヒドロフラン、ジオ
キサン若しくは1,2−ジメトキシエタンのようなエー
テル類、アセトニトリルのようなニトリル類、N,N−
ジメチルホルムアミド若しくはN,N−ジメチルアセト
アミドのようなアミド類またはジメチルスルホキシドの
ようなスルホキシド類があげられ、好適にはテトラヒド
ロフランまたはアセトニトリルである。
【0162】使用される塩基は、化合物の他の部分、特
にβ−ラクタム環に影響を与えないものであれば特に限
定はないが、好適にはトリエチルアミン、ジイソプロピ
ルエチルアミンまたは4−ジメチルアミノピリジンのよ
うな有機塩基があげられ、好適にはトリエチルアミンま
たはジイソプロピルエチルアミンである。
にβ−ラクタム環に影響を与えないものであれば特に限
定はないが、好適にはトリエチルアミン、ジイソプロピ
ルエチルアミンまたは4−ジメチルアミノピリジンのよ
うな有機塩基があげられ、好適にはトリエチルアミンま
たはジイソプロピルエチルアミンである。
【0163】反応温度は、特に限定されないが、通常−
20℃乃至室温(好適には0℃乃至室温)で行われ、反
応時間は、30分乃至48時間(好適には30分乃至1
0時間)である。
20℃乃至室温(好適には0℃乃至室温)で行われ、反
応時間は、30分乃至48時間(好適には30分乃至1
0時間)である。
【0164】反応終了後、本反応の目的化合物(II
I)は常法に従って反応混合物から採取される。たとえ
ば反応混合液または反応混合液から溶剤を留去して得ら
れる残渣に水と混合しない有機溶剤を加え、水洗後、溶
剤を留去することによって得られる。得られた目的化合
物は必要ならば常法、たとえば再結晶、再沈殿またはク
ロマトグラフィーなどによって更に精製することができ
る。
I)は常法に従って反応混合物から採取される。たとえ
ば反応混合液または反応混合液から溶剤を留去して得ら
れる残渣に水と混合しない有機溶剤を加え、水洗後、溶
剤を留去することによって得られる。得られた目的化合
物は必要ならば常法、たとえば再結晶、再沈殿またはク
ロマトグラフィーなどによって更に精製することができ
る。
【0165】(第A2工程)置換(Ap化)反応 第A2工程は、化合物(III)を塩基の存在下に式H
Ap で表される化合物と反応させて化合物(IV)を得
る工程である。
Ap で表される化合物と反応させて化合物(IV)を得
る工程である。
【0166】使用される溶剤は、例えばN,N−ジメチ
ルホルムアミド若しくはN,N−ジメチルアセトアミド
のようなアミド類、ジメチルスルホキシドのようなスル
ホキシド類、アセトニトリルのようなニトリル類、テト
ラヒドロフラン、ジオキサン若しくは1,2−ジメトキ
シエタンのようなエーテル類があげられ、好適にはN,
N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトア
ミドまたはジメチルスルホキシドである。
ルホルムアミド若しくはN,N−ジメチルアセトアミド
のようなアミド類、ジメチルスルホキシドのようなスル
ホキシド類、アセトニトリルのようなニトリル類、テト
ラヒドロフラン、ジオキサン若しくは1,2−ジメトキ
シエタンのようなエーテル類があげられ、好適にはN,
N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトア
ミドまたはジメチルスルホキシドである。
【0167】使用される塩基は、例えばトリエチルアミ
ン、ジイソプロピルエチルアミン若しくは4−ジメチル
アミノピリジンのような有機塩基または炭酸水素ナトリ
ウム、炭酸ナトリウム若しくは炭酸カリウムのような無
機塩基があげられ、好適にはトリエチルアミンまたはジ
イソプロピルエチルアミンである。
ン、ジイソプロピルエチルアミン若しくは4−ジメチル
アミノピリジンのような有機塩基または炭酸水素ナトリ
ウム、炭酸ナトリウム若しくは炭酸カリウムのような無
機塩基があげられ、好適にはトリエチルアミンまたはジ
イソプロピルエチルアミンである。
【0168】反応温度は、特に限定はないが、通常−2
0℃乃至100℃(好適には室温乃至60℃)で行わ
れ、反応時間は30分乃至48時間(好適には30分乃
至10時間)である。
0℃乃至100℃(好適には室温乃至60℃)で行わ
れ、反応時間は30分乃至48時間(好適には30分乃
至10時間)である。
【0169】反応終了後、本反応の目的物(IV)は常
法に従って反応混合物から採取される。たとえば反応混
合液または反応混合液の溶剤を留去して得られる残渣に
水と混合しない有機溶剤を加え、水洗後、溶剤を留去す
ることによって得られる。得られた目的化合物は必要な
らば常法、たとえば再結晶、再沈殿またはクロマトグラ
フィーなどによって更に精製することができる。
法に従って反応混合物から採取される。たとえば反応混
合液または反応混合液の溶剤を留去して得られる残渣に
水と混合しない有機溶剤を加え、水洗後、溶剤を留去す
ることによって得られる。得られた目的化合物は必要な
らば常法、たとえば再結晶、再沈殿またはクロマトグラ
フィーなどによって更に精製することができる。
【0170】(第A3工程)オキザリル化反応 第A3工程は、化合物(IV)を塩基の存在下に式Cl
COCOOR16で表される化合物と反応させて化合物
(V)を製造する工程である。
COCOOR16で表される化合物と反応させて化合物
(V)を製造する工程である。
【0171】使用される溶剤は、例えば塩化メチレン、
クロロホルム、1,2−ジクロロエタンのようなハロゲ
ン化炭化水素類、アセトニトリルのようなニトリル類、
テトラヒドロフラン、ジオキサン若しくは1,2−ジメ
トキシエタンのようなエーテル類があげられ、好適には
塩化メチレンまたはクロロホルムである。
クロロホルム、1,2−ジクロロエタンのようなハロゲ
ン化炭化水素類、アセトニトリルのようなニトリル類、
テトラヒドロフラン、ジオキサン若しくは1,2−ジメ
トキシエタンのようなエーテル類があげられ、好適には
塩化メチレンまたはクロロホルムである。
【0172】使用される塩基は、例えばトリエチルアミ
ン、ジイソプロピルエチルアミンまたは4−ジメチルア
ミノピリジンのような有機塩基があげられ、好適にはト
リエチルアミンまたはジイソプロピルエチルアミンであ
る。
ン、ジイソプロピルエチルアミンまたは4−ジメチルア
ミノピリジンのような有機塩基があげられ、好適にはト
リエチルアミンまたはジイソプロピルエチルアミンであ
る。
【0173】反応温度は特に限定はないが、通常−20
℃乃至60℃(好適には0℃乃至室温)で行われ、反応
時間は30分乃至24時間(好適には30分乃至12時
間)である。
℃乃至60℃(好適には0℃乃至室温)で行われ、反応
時間は30分乃至24時間(好適には30分乃至12時
間)である。
【0174】反応終了後、本反応の目的物(V)は常法
に従って反応混合物から採取される。たとえば反応混合
液または反応混合液の溶剤を留去して得られる残渣に水
と混合しない有機溶剤を加え、水洗後、溶剤を留去する
ことによって得られる。得られた目的化合物は必要なら
ば常法、たとえば再結晶、再沈殿またはクロマトグラフ
ィーなどによって更に精製することができる。
に従って反応混合物から採取される。たとえば反応混合
液または反応混合液の溶剤を留去して得られる残渣に水
と混合しない有機溶剤を加え、水洗後、溶剤を留去する
ことによって得られる。得られた目的化合物は必要なら
ば常法、たとえば再結晶、再沈殿またはクロマトグラフ
ィーなどによって更に精製することができる。
【0175】(第A4工程)閉環反応 第A4工程は、化合物(V)を三価のリン化合物を用い
て分子内で閉環反応させ、化合物(VI)を製造する工
程である。
て分子内で閉環反応させ、化合物(VI)を製造する工
程である。
【0176】使用される三価のリン化合物は、例えば亜
リン酸トリエチル、亜リン酸トリメチル、亜リン酸トリ
プロピル、亜リン酸トリブチルのような亜リン酸トリア
ルキル類、ジエチルメチルホスホナイト、ジエチルエチ
ルホスホナイトのようなジアルキルアルキルホスホナイ
ト類があげられ、好適には亜リン酸トリエチル、亜リン
酸トリメチル、ジエチルメチルホスホナイトまたはジエ
チルエチルホスホナイトである。
リン酸トリエチル、亜リン酸トリメチル、亜リン酸トリ
プロピル、亜リン酸トリブチルのような亜リン酸トリア
ルキル類、ジエチルメチルホスホナイト、ジエチルエチ
ルホスホナイトのようなジアルキルアルキルホスホナイ
ト類があげられ、好適には亜リン酸トリエチル、亜リン
酸トリメチル、ジエチルメチルホスホナイトまたはジエ
チルエチルホスホナイトである。
【0177】使用される溶剤は、例えばベンゼン、トル
エン、キシレン、メシチレンのような芳香族炭化水素
類、シクロヘキサン、デカリンのような脂肪族炭化水素
類、ジオキサン、テトラヒドロフラン、1,2−ジエト
キシエタンのようなエーテル類があげられ、好適にはト
ルエン、キシレンまたはメシチレンである。
エン、キシレン、メシチレンのような芳香族炭化水素
類、シクロヘキサン、デカリンのような脂肪族炭化水素
類、ジオキサン、テトラヒドロフラン、1,2−ジエト
キシエタンのようなエーテル類があげられ、好適にはト
ルエン、キシレンまたはメシチレンである。
【0178】反応温度は特に限定はないが通常40℃乃
至200℃(好適には40℃乃至160℃)で行われ、
反応時間は30分乃至24時間(好適には30分乃至2
4時間)である。
至200℃(好適には40℃乃至160℃)で行われ、
反応時間は30分乃至24時間(好適には30分乃至2
4時間)である。
【0179】反応終了後、本反応の目的物(VI)は、
反応液から溶剤を留去して得られる残渣を必要ならば常
法、たとえば再結晶、再沈殿またはクロマトグラフィー
などによって更に精製することができる。
反応液から溶剤を留去して得られる残渣を必要ならば常
法、たとえば再結晶、再沈殿またはクロマトグラフィー
などによって更に精製することができる。
【0180】Aが4級アンモニオ基またはピリジニオ基
を有する基である場合には、常法に従って化合物(V
I)を所望のアルキルハライド等と反応させて4級化さ
れた化合物(VI)を得ることができる。
を有する基である場合には、常法に従って化合物(V
I)を所望のアルキルハライド等と反応させて4級化さ
れた化合物(VI)を得ることができる。
【0181】(第A5工程)脱保護反応 第A5工程は、化合物(VI)の水酸基の保護基R14、
カルボキシ基の保護基R16およびAp 中に保護基が含ま
れる場合にはそれら保護基の除去反応を行ない目的化合
物(I)を製造する工程である。
カルボキシ基の保護基R16およびAp 中に保護基が含ま
れる場合にはそれら保護基の除去反応を行ない目的化合
物(I)を製造する工程である。
【0182】保護基R14、R16およびApに含まれる保
護基の除去はその種類によって異なるが、一般にこの分
野の技術で知られている方法("Protective Groups in
Organic Synthesis, 2nd Edition" Ed. by T.W.Greene
and P.G.M.Wuts, 1991,John Wiley & Sons, Inc. 等)
によって除去される。
護基の除去はその種類によって異なるが、一般にこの分
野の技術で知られている方法("Protective Groups in
Organic Synthesis, 2nd Edition" Ed. by T.W.Greene
and P.G.M.Wuts, 1991,John Wiley & Sons, Inc. 等)
によって除去される。
【0183】保護基R14が例えばトリメチルシリル、ト
リエチルシリル、t−ブチルジメチルシリルのようなト
リアルキルシリル基である場合、脱保護剤としては、フ
ッ化水素アンモニウム、テトラブチルアンモニウムフロ
ライドのような有機フッ素化合物、フッ化カリのような
無機フッ素化合物があげられ、好適にはフッ化水素アン
モニウムまたはテトラブチルアンモニウムフロライドで
ある。
リエチルシリル、t−ブチルジメチルシリルのようなト
リアルキルシリル基である場合、脱保護剤としては、フ
ッ化水素アンモニウム、テトラブチルアンモニウムフロ
ライドのような有機フッ素化合物、フッ化カリのような
無機フッ素化合物があげられ、好適にはフッ化水素アン
モニウムまたはテトラブチルアンモニウムフロライドで
ある。
【0184】使用される溶剤は脱保護剤の種類によって
異なるが、テトラヒドロフラン、ジオキサン若しくは
1,2−ジメトキシエタンのようなエーテル類、ジメチ
ルホルムアミドのようなアミド類、ジメチルスルホキシ
ドのようなスルホキシド類、アセトニトリルのようなニ
トリル類、塩化メチレン、クロロホルム若しくは1,2
−ジクロロエタンのようなハロゲン化水素類があげら
れ、好適にはテトラヒドロフランまたはジメチルホルム
アミドである。
異なるが、テトラヒドロフラン、ジオキサン若しくは
1,2−ジメトキシエタンのようなエーテル類、ジメチ
ルホルムアミドのようなアミド類、ジメチルスルホキシ
ドのようなスルホキシド類、アセトニトリルのようなニ
トリル類、塩化メチレン、クロロホルム若しくは1,2
−ジクロロエタンのようなハロゲン化水素類があげら
れ、好適にはテトラヒドロフランまたはジメチルホルム
アミドである。
【0185】反応温度は特に限定はないが通常−20℃
乃至100℃(好適には0℃乃至60℃)で行われ、反
応時間は通常30分乃至48時間(好適には30分乃至
12時間)である。
乃至100℃(好適には0℃乃至60℃)で行われ、反
応時間は通常30分乃至48時間(好適には30分乃至
12時間)である。
【0186】反応終了後、脱保護された化合物は常法に
従って反応混合物から採取され、次いで、Apに保護基
が含まれる場合その保護基の除去および保護基R16の除
去反応に付すことができる。
従って反応混合物から採取され、次いで、Apに保護基
が含まれる場合その保護基の除去および保護基R16の除
去反応に付すことができる。
【0187】保護基R14が例えばトリメチルシリルエチ
ルオキシカルボニル、2,2,2−トリクロロエチルオ
キシカルボニル基のような2位がトリアルキルシリル若
しくは塩素で置換されたエチルオキシカルボニル基であ
る場合、脱保護剤としては、三フッ化ホウ素エーテラー
トのようなルイス酸、亜鉛−酢酸のような金属−有機酸
があげられ、好適には三フッ化ホウ素エーテラートまた
は亜鉛−酢酸である。
ルオキシカルボニル、2,2,2−トリクロロエチルオ
キシカルボニル基のような2位がトリアルキルシリル若
しくは塩素で置換されたエチルオキシカルボニル基であ
る場合、脱保護剤としては、三フッ化ホウ素エーテラー
トのようなルイス酸、亜鉛−酢酸のような金属−有機酸
があげられ、好適には三フッ化ホウ素エーテラートまた
は亜鉛−酢酸である。
【0188】使用される溶剤は脱保護剤の種類によって
異なるが、クロロホルム若しくは1,2−ジクロロエタ
ンのようなハロゲン化水素類、酢酸エチルのようなエス
テル類、テトラヒドロフラン、ジオキサン若しくは1,
2−ジメトキシエタンのようなエーテル類、アセトニト
リルのようなニトリル類、メタノール、エタノール若し
くはプロパノールのようなアルコール類があげられ、好
適には塩化メチレン、酢酸エチルまたはテトラヒドロフ
ランである。
異なるが、クロロホルム若しくは1,2−ジクロロエタ
ンのようなハロゲン化水素類、酢酸エチルのようなエス
テル類、テトラヒドロフラン、ジオキサン若しくは1,
2−ジメトキシエタンのようなエーテル類、アセトニト
リルのようなニトリル類、メタノール、エタノール若し
くはプロパノールのようなアルコール類があげられ、好
適には塩化メチレン、酢酸エチルまたはテトラヒドロフ
ランである。
【0189】反応温度は特に限定はないが通常−20℃
乃至100℃(好適には0℃乃至60℃)で行われ、反
応時間は通常30分乃至48時間(好適には30分乃至
12時間)である。
乃至100℃(好適には0℃乃至60℃)で行われ、反
応時間は通常30分乃至48時間(好適には30分乃至
12時間)である。
【0190】反応終了後、脱保護された化合物は常法に
従って反応混合物から採取され、次いで、Apに保護基
が含まれる場合その保護基の除去および保護基R16の除
去反応に付すことができる。
従って反応混合物から採取され、次いで、Apに保護基
が含まれる場合その保護基の除去および保護基R16の除
去反応に付すことができる。
【0191】保護基R14がアリルオキシカルボニル、2
−クロロアリルオキシカルボニル、2−メチルアリルオ
キシカルボニルのような2位が塩素若しくはメチルで置
換されていてもよいアリルオキシカルボニル基である場
合、保護基R16がアリル、2−クロロアリル、2−メチ
ルアリルのような2位が塩素若しくはメチルで置換され
ていてもよいアリル基である場合およびAp に含まれる
保護基がアリルオキシカルボニル、2−クロロアリルオ
キシカルボニル、2−メチルアリルオキシカルボニルの
ような2位が塩素若しくはメチルで置換されていてもよ
いアリルオキシカルボニル基である場合、脱保護剤とし
ては、ビス(トリフェニルホスフィン)パラジウムクロ
リド−トリブチルチンハイドライド、テトラキス(トリ
フェニルホスフィン)パラジウム−トリブチルチンハイ
ドライドのようなパラジウム類−トリアルキルチンハイ
ドライド類またはテトラキス(トリフェニルホスフィ
ン)パラジウム−2−エチルヘキサン酸カリ若しくは2
−エチルヘキサン酸ナトリウムのようなパラジウム類−
有機カルボン酸アルカリ金属塩類があげられ、好適には
ビス(トリフェニルホスフィン)パラジウムクロリド−
トリブチルチンハイドライドまたはテトラキス(トリフ
ェニルホスフィン)パラジウム−2−エチルヘキサン酸
カリである。
−クロロアリルオキシカルボニル、2−メチルアリルオ
キシカルボニルのような2位が塩素若しくはメチルで置
換されていてもよいアリルオキシカルボニル基である場
合、保護基R16がアリル、2−クロロアリル、2−メチ
ルアリルのような2位が塩素若しくはメチルで置換され
ていてもよいアリル基である場合およびAp に含まれる
保護基がアリルオキシカルボニル、2−クロロアリルオ
キシカルボニル、2−メチルアリルオキシカルボニルの
ような2位が塩素若しくはメチルで置換されていてもよ
いアリルオキシカルボニル基である場合、脱保護剤とし
ては、ビス(トリフェニルホスフィン)パラジウムクロ
リド−トリブチルチンハイドライド、テトラキス(トリ
フェニルホスフィン)パラジウム−トリブチルチンハイ
ドライドのようなパラジウム類−トリアルキルチンハイ
ドライド類またはテトラキス(トリフェニルホスフィ
ン)パラジウム−2−エチルヘキサン酸カリ若しくは2
−エチルヘキサン酸ナトリウムのようなパラジウム類−
有機カルボン酸アルカリ金属塩類があげられ、好適には
ビス(トリフェニルホスフィン)パラジウムクロリド−
トリブチルチンハイドライドまたはテトラキス(トリフ
ェニルホスフィン)パラジウム−2−エチルヘキサン酸
カリである。
【0192】使用される溶剤は、本反応に関与しないも
のであれば特に限定はないが、塩化メチレン、クロロホ
ルム若しくは1,2−ジクロルエタンのようなハロゲン
化炭化水素類、酢酸エチルのようなエステル類、テトラ
ヒドロフラン、ジオキサン若しくは1,2−ジメトキシ
エタンのようなエーテル類、アセトニトリルのようなニ
トリル類、メタノ−ル、エタノ−ル若しくはプロパノ−
ルのようなアルコール類、水またはこれらの混合溶剤が
あげられ、好適には塩化メチレン、酢酸エチルまたはこ
れらの混合溶剤である。
のであれば特に限定はないが、塩化メチレン、クロロホ
ルム若しくは1,2−ジクロルエタンのようなハロゲン
化炭化水素類、酢酸エチルのようなエステル類、テトラ
ヒドロフラン、ジオキサン若しくは1,2−ジメトキシ
エタンのようなエーテル類、アセトニトリルのようなニ
トリル類、メタノ−ル、エタノ−ル若しくはプロパノ−
ルのようなアルコール類、水またはこれらの混合溶剤が
あげられ、好適には塩化メチレン、酢酸エチルまたはこ
れらの混合溶剤である。
【0193】反応温度は特に限定はないが通常−20℃
乃至100℃(好適には0℃乃至60℃)で行われ、反
応時間は通常30分乃至48時間(好適には30分乃至
12時間)である。
乃至100℃(好適には0℃乃至60℃)で行われ、反
応時間は通常30分乃至48時間(好適には30分乃至
12時間)である。
【0194】反応終了後、脱保護された化合物(I)は
常法に従って反応混合物から採取される。たとえば反応
混合物より析出した不溶物を濾去した後、溶剤を留去す
ることによって得ることができる。
常法に従って反応混合物から採取される。たとえば反応
混合物より析出した不溶物を濾去した後、溶剤を留去す
ることによって得ることができる。
【0195】保護基R14がベンジルオキシカルボニル、
4−ニトロベンジルオキシカルボニルのようなアラルキ
ルオキシカルボニル基である場合、保護基R16がベンジ
ル、4−ニトロベンジルのようなアラルキル基またはベ
ンツヒドリル基である場合およびAp に含まれる保護基
がベンジルオキシカルボニル、4−ニトロベンジルオキ
シカルボニルのようなアラルキルオキシカルボニル基で
ある場合、脱保護剤としては、水素およびパラジウム−
炭素のような接触還元触媒または硫化ナトリウムもしく
は硫化カリウムのようなアルカリ金属硫化物があげら
れ、好適には水素及びパラジウム−炭素である。
4−ニトロベンジルオキシカルボニルのようなアラルキ
ルオキシカルボニル基である場合、保護基R16がベンジ
ル、4−ニトロベンジルのようなアラルキル基またはベ
ンツヒドリル基である場合およびAp に含まれる保護基
がベンジルオキシカルボニル、4−ニトロベンジルオキ
シカルボニルのようなアラルキルオキシカルボニル基で
ある場合、脱保護剤としては、水素およびパラジウム−
炭素のような接触還元触媒または硫化ナトリウムもしく
は硫化カリウムのようなアルカリ金属硫化物があげら
れ、好適には水素及びパラジウム−炭素である。
【0196】使用される溶剤は、本反応に関与しないも
のであれば特に限定はないが、塩化メチレン、クロロホ
ルム若しくは1,2−ジクロルエタンのようなハロゲン
化炭化水素類、酢酸エチルのようなエステル類、テトラ
ヒドロフラン、ジオキサン若しくは1,2−ジメトキシ
エタンのようなエーテル類、アセトニトリルのようなニ
トリル類、メタノ−ル、エタノ−ル若しくはプロパノ−
ルのようなアルコール類または水或いはこれらの混合溶
剤があげられ、好適にはテトラヒドロフランまたはテト
ラヒドラフラン−水混合溶剤である。
のであれば特に限定はないが、塩化メチレン、クロロホ
ルム若しくは1,2−ジクロルエタンのようなハロゲン
化炭化水素類、酢酸エチルのようなエステル類、テトラ
ヒドロフラン、ジオキサン若しくは1,2−ジメトキシ
エタンのようなエーテル類、アセトニトリルのようなニ
トリル類、メタノ−ル、エタノ−ル若しくはプロパノ−
ルのようなアルコール類または水或いはこれらの混合溶
剤があげられ、好適にはテトラヒドロフランまたはテト
ラヒドラフラン−水混合溶剤である。
【0197】反応温度は特に限定はないが通常室温乃至
100℃(好適には室温乃至60℃)で行われ、反応時
間は通常30分乃至48時間(好適には30分乃至20
時間)である。
100℃(好適には室温乃至60℃)で行われ、反応時
間は通常30分乃至48時間(好適には30分乃至20
時間)である。
【0198】反応終了後、化合物(I)は常法に従って
反応混合物から採取される。たとえば反応混合物より反
応に用いた触媒及び析出した不溶物を濾去した後、溶剤
を留去することによって得ることができる。
反応混合物から採取される。たとえば反応混合物より反
応に用いた触媒及び析出した不溶物を濾去した後、溶剤
を留去することによって得ることができる。
【0199】尚、R14、R16またはApに同じ脱保護剤
によって除去される保護基が使用されている場合、それ
らの保護基を同時に除去することができる。
によって除去される保護基が使用されている場合、それ
らの保護基を同時に除去することができる。
【0200】このようにして得られた化合物(I)は、
必要ならば常法たとえば再結晶法、カラムクロマトグラ
フィー、分取用液体クロマトグラフィーなどによって精
製することができる。また必要に応じて生体内で加水分
解を受けるエステル等の誘導体に常法によって変換する
ことができ(特開平5−502044号等)、常法によ
り薬理学的に許容される塩として精製することができ
る。
必要ならば常法たとえば再結晶法、カラムクロマトグラ
フィー、分取用液体クロマトグラフィーなどによって精
製することができる。また必要に応じて生体内で加水分
解を受けるエステル等の誘導体に常法によって変換する
ことができ(特開平5−502044号等)、常法によ
り薬理学的に許容される塩として精製することができ
る。
【0201】一方、本発明の有効成分である一般式
(I)を有する三環性複素環化合物は、以下に示す方法
(B法)によっても製造することができる。
(I)を有する三環性複素環化合物は、以下に示す方法
(B法)によっても製造することができる。
【0202】
【化17】
【0203】上記式中、R14、R16、AおよびApは、
A法において前述したものと同意義である。以下、各工
程について説明する。
A法において前述したものと同意義である。以下、各工
程について説明する。
【0204】(第B1工程)Ap縮合反応 第B1工程は、一般式(VII)を有する化合物に式H
Ap で表される化合物を反応させて、式(VI)を有す
る化合物を製造する工程である。尚、出発原料である化
合物(VII)は、参考例2に従って製造される。
Ap で表される化合物を反応させて、式(VI)を有す
る化合物を製造する工程である。尚、出発原料である化
合物(VII)は、参考例2に従って製造される。
【0205】ApがAとして一般式、若しくはで
示される基に対応する場合、本工程は不活性溶剤中、光
延反応として知られている反応によって達成される。
示される基に対応する場合、本工程は不活性溶剤中、光
延反応として知られている反応によって達成される。
【0206】使用される溶剤は、本反応に関与しなけれ
ば特に限定はなく、たとえばテトラヒドロフラン、ジオ
キサン若しくは1,2−ジメトキシエタンのようなエー
テル類またはアセトニトリルのようなニトリル類があげ
られ、好適にはテトラヒドロフランである。
ば特に限定はなく、たとえばテトラヒドロフラン、ジオ
キサン若しくは1,2−ジメトキシエタンのようなエー
テル類またはアセトニトリルのようなニトリル類があげ
られ、好適にはテトラヒドロフランである。
【0207】使用される縮合剤は、トリフェニルホスフ
ィン−ジエチルアゾジカルボキシレートのようなホスフ
ィン類−アゾジカルボン酸エステル類を組み合わせて用
いられ、好適にはトリフェニルホスフィン−ジエチルア
ゾジカルボキシレ−トである。
ィン−ジエチルアゾジカルボキシレートのようなホスフ
ィン類−アゾジカルボン酸エステル類を組み合わせて用
いられ、好適にはトリフェニルホスフィン−ジエチルア
ゾジカルボキシレ−トである。
【0208】反応温度は、特に限定されないが、副反応
を抑えるためには比較的低温で行うのが望ましく通常は
−60℃乃至室温(好適には−40℃乃至室温)で行わ
れる。
を抑えるためには比較的低温で行うのが望ましく通常は
−60℃乃至室温(好適には−40℃乃至室温)で行わ
れる。
【0209】反応時間は、主に反応温度、反応試薬の種
類によって異なるが、通常15分間乃至75時間(好適
には30分乃至6時間)である。
類によって異なるが、通常15分間乃至75時間(好適
には30分乃至6時間)である。
【0210】反応終了後、本反応の目的化合物(VI)
は、常法に従って反応混合物から採取することができ
る。
は、常法に従って反応混合物から採取することができ
る。
【0211】又、ApがAとして一般式で示される基
に対応する場合、この反応は不活性溶媒中、化合物(V
II)とカルボン酸成分(HAp)との縮合反応によっ
て達成される。
に対応する場合、この反応は不活性溶媒中、化合物(V
II)とカルボン酸成分(HAp)との縮合反応によっ
て達成される。
【0212】使用される溶剤としては、本反応に関与し
なければ特に限定はなく、たとえば塩化メチレン、クロ
ロホルム若しくは1,2−ジクロルエタンのようなハロ
ゲン化炭化水素類、テトラヒドロフラン、ジオキサン若
しくは1,2−ジメトキシエタンのようなエーテル類、
アセトニトリルのようなニトリル類、ジメチルホルムア
ミドのようなアミド類、ジメチルスルホキシドのような
スルホキシド類、水またはこれらの混合溶剤があげら
れ、好適には塩化メチレンまたはテトラヒドロフランで
ある。
なければ特に限定はなく、たとえば塩化メチレン、クロ
ロホルム若しくは1,2−ジクロルエタンのようなハロ
ゲン化炭化水素類、テトラヒドロフラン、ジオキサン若
しくは1,2−ジメトキシエタンのようなエーテル類、
アセトニトリルのようなニトリル類、ジメチルホルムア
ミドのようなアミド類、ジメチルスルホキシドのような
スルホキシド類、水またはこれらの混合溶剤があげら
れ、好適には塩化メチレンまたはテトラヒドロフランで
ある。
【0213】使用される縮合剤は、例えば1,3−ジシ
クロヘキシルカルボジイミド、1−エチル−3−(3−
ジメチルアミノプロピル)カルボジイミド塩酸塩のよう
なカルボジイミド類があげられ、4−ジメチルアミノピ
リジンや1−ヒドロキシベンゾトリアゾールと並用して
も良い。好適には、1,3−ジシクロヘキシルカルボジ
イミドを縮合剤とし、4−ジメチルアミノピリジンを並
用する。
クロヘキシルカルボジイミド、1−エチル−3−(3−
ジメチルアミノプロピル)カルボジイミド塩酸塩のよう
なカルボジイミド類があげられ、4−ジメチルアミノピ
リジンや1−ヒドロキシベンゾトリアゾールと並用して
も良い。好適には、1,3−ジシクロヘキシルカルボジ
イミドを縮合剤とし、4−ジメチルアミノピリジンを並
用する。
【0214】反応温度には特に限定はないが、副反応を
抑えるため比較的低温で行うのが望ましく通常−20℃
乃至40℃(好適には−20℃乃至室温)で行われる。
反応時間は主に反応温度、反応試薬の種類によって異な
るが、通常15分乃至75時間(好適には30分乃至1
2時間)である。
抑えるため比較的低温で行うのが望ましく通常−20℃
乃至40℃(好適には−20℃乃至室温)で行われる。
反応時間は主に反応温度、反応試薬の種類によって異な
るが、通常15分乃至75時間(好適には30分乃至1
2時間)である。
【0215】反応終了後、本反応の目的化合物(VI)
は、常法に従って反応混合物から採取することができ
る。たとえば反応混合液または反応混合液の溶剤を留去
して得られる残渣に水と混合しない有機溶剤を加え、水
洗後、溶剤を留去することによって得られる。得られた
目的化合物は必要ならば常法、たとえば再結晶、再沈殿
またはクロマトグラフィーなどによって更に精製するこ
とができる。
は、常法に従って反応混合物から採取することができ
る。たとえば反応混合液または反応混合液の溶剤を留去
して得られる残渣に水と混合しない有機溶剤を加え、水
洗後、溶剤を留去することによって得られる。得られた
目的化合物は必要ならば常法、たとえば再結晶、再沈殿
またはクロマトグラフィーなどによって更に精製するこ
とができる。
【0216】Aが4級アンモニオ基またはピリジニオ基
を有する基である場合には、常法に従い化合物(VI)
を所望のアルキルハライド等と反応させて4級化された
化合物(VI)を得ることができる。
を有する基である場合には、常法に従い化合物(VI)
を所望のアルキルハライド等と反応させて4級化された
化合物(VI)を得ることができる。
【0217】(第B2工程)脱保護反応 第B2工程
は、化合物(VI)に含まれる保護基を除去し化合物
(I)を製造する工程であり、前述の第A5工程の方法
に従って達成される。
は、化合物(VI)に含まれる保護基を除去し化合物
(I)を製造する工程であり、前述の第A5工程の方法
に従って達成される。
【0218】更に、本発明の有効成分である一般式
(I)を有する三環性複素環化合物は以下に示す方法
(C法)によっても製造することができる。
(I)を有する三環性複素環化合物は以下に示す方法
(C法)によっても製造することができる。
【0219】
【化18】
【0220】上記式中、R14、R16、AおよびApは、
A法において前述したものと同意義である。
A法において前述したものと同意義である。
【0221】本合成法は、一般式(VII)を有する化
合物を酸化反応に付し式(VIII)を有する化合物を
製造し(第C1工程)、次いで式HApで示される化合
物を還元剤の存在下に縮合させて式(VI)を有する化
合物を製造し(第C2工程)、最後に保護基を除去して
一般式(I)を有する化合物を製造(第C3工程)する
方法である。本合成法は、Aが一般式で示される基で
ある場合に用いられる。以下、各工程について説明す
る。
合物を酸化反応に付し式(VIII)を有する化合物を
製造し(第C1工程)、次いで式HApで示される化合
物を還元剤の存在下に縮合させて式(VI)を有する化
合物を製造し(第C2工程)、最後に保護基を除去して
一般式(I)を有する化合物を製造(第C3工程)する
方法である。本合成法は、Aが一般式で示される基で
ある場合に用いられる。以下、各工程について説明す
る。
【0222】(第C1工程)酸化反応 第C1工程は、化合物(VII)を酸化剤と反応させて
式(VIII)を有する化合物を製造する工程である。
式(VIII)を有する化合物を製造する工程である。
【0223】酸化剤は、例えばジメチルスルホキシド−
オキザリルクロリド、ジメチルスルホキシド−無水トリ
フルオロ酢酸のようなジメチルスルホキシド系試薬を有
機塩基の存在下に用いる酸化剤またはピリジニウムクロ
ロクロメートのようなクロム酸系酸化剤があげられ、好
適にはジメチルスルホキシド−オキザリルクロリドであ
る。
オキザリルクロリド、ジメチルスルホキシド−無水トリ
フルオロ酢酸のようなジメチルスルホキシド系試薬を有
機塩基の存在下に用いる酸化剤またはピリジニウムクロ
ロクロメートのようなクロム酸系酸化剤があげられ、好
適にはジメチルスルホキシド−オキザリルクロリドであ
る。
【0224】使用される有機塩基は、化合物の他の部分
に影響を与えないものであれば特に限定はないが、例え
ばトリエチルアミン、ジイソプロピルアミン、N−メチ
ルピペリジンのような有機塩基があげられ、好適にはト
リエチルアミンである。
に影響を与えないものであれば特に限定はないが、例え
ばトリエチルアミン、ジイソプロピルアミン、N−メチ
ルピペリジンのような有機塩基があげられ、好適にはト
リエチルアミンである。
【0225】使用される溶剤は、本反応に関与しなけれ
ば特に限定はなく、たとえば塩化メチレン、クロロホル
ム若しくは1,2−ジクロルエタンのようなハロゲン化
炭化水素類、テトラヒドロフラン、ジオキサン若しくは
1,2−ジメトキシエタンのようなエーテル類、アセト
ン若しくはメチルエチルケトンのようなケトン類、アセ
トニトリルのようなニトリル類、ジメチルホルムアミド
若しくはジメチルアセトアミドのようなアミド類、ジメ
チルスルホキシドのようなスルホキシド類またはこれら
の混合溶剤があげられ、好適には塩化メチレンまたはテ
トラヒドロフランである。
ば特に限定はなく、たとえば塩化メチレン、クロロホル
ム若しくは1,2−ジクロルエタンのようなハロゲン化
炭化水素類、テトラヒドロフラン、ジオキサン若しくは
1,2−ジメトキシエタンのようなエーテル類、アセト
ン若しくはメチルエチルケトンのようなケトン類、アセ
トニトリルのようなニトリル類、ジメチルホルムアミド
若しくはジメチルアセトアミドのようなアミド類、ジメ
チルスルホキシドのようなスルホキシド類またはこれら
の混合溶剤があげられ、好適には塩化メチレンまたはテ
トラヒドロフランである。
【0226】反応温度は、特に限定されないが、副反応
を抑えるため通常−75℃乃至室温(好適には−60℃
乃至室温)で行われる。反応時間は反応温度、反応試剤
の種類によって異なるが、通常15分乃至48時間(好
適には30分乃至12時間)である。
を抑えるため通常−75℃乃至室温(好適には−60℃
乃至室温)で行われる。反応時間は反応温度、反応試剤
の種類によって異なるが、通常15分乃至48時間(好
適には30分乃至12時間)である。
【0227】反応終了後、本反応により得られた化合物
(VIII)は、常法に従って採取される。たとえば反
応混合液または反応混合液の溶剤を留去して得られる残
渣に水と混合しない有機溶剤を加え、水洗後、溶剤を留
去することによって得られる。得られた化合物(VII
I)は必要ならば常法、たとえば再結晶、再沈殿または
クロマトグラフィーによって更に精製することができ
る。
(VIII)は、常法に従って採取される。たとえば反
応混合液または反応混合液の溶剤を留去して得られる残
渣に水と混合しない有機溶剤を加え、水洗後、溶剤を留
去することによって得られる。得られた化合物(VII
I)は必要ならば常法、たとえば再結晶、再沈殿または
クロマトグラフィーによって更に精製することができ
る。
【0228】(第C2工程)Ap縮合反応 第C2工程は、化合物(VIII)を式HAp で表され
る化合物と還元剤の存在下に縮合反応に付して化合物
(VI)を製造する工程である。
る化合物と還元剤の存在下に縮合反応に付して化合物
(VI)を製造する工程である。
【0229】使用される還元剤は、例えばシアノ水素化
ほう素ナトリウム、水素−パラジウム炭素触媒または水
素−酸化白金があげられ、好適にはシアノ水素化ほう素
ナトリウムである。
ほう素ナトリウム、水素−パラジウム炭素触媒または水
素−酸化白金があげられ、好適にはシアノ水素化ほう素
ナトリウムである。
【0230】使用される溶剤は、本反応に関与しなけれ
ば特に限定はなく、例えばメタノール、エタノールもし
くはプロパノールのようなアルコール類、テトラヒドロ
フラン、ジオキサンもしくは1,2−ジメトキシエタン
のようなエーテル類、アセトニトリルのようなニトリル
類、水またはこれらの混合溶剤があげられ、好適にはメ
タノールまたはエタノールである。
ば特に限定はなく、例えばメタノール、エタノールもし
くはプロパノールのようなアルコール類、テトラヒドロ
フラン、ジオキサンもしくは1,2−ジメトキシエタン
のようなエーテル類、アセトニトリルのようなニトリル
類、水またはこれらの混合溶剤があげられ、好適にはメ
タノールまたはエタノールである。
【0231】反応温度は、特に限定されないが、副反応
を抑えるため通常−20℃乃至40℃(好適には0℃乃
至室温)で行われる。反応時間は反応温度、反応試剤の
種類によって異なるが、通常30分乃至48時間(好適
には30分乃至12時間)である。
を抑えるため通常−20℃乃至40℃(好適には0℃乃
至室温)で行われる。反応時間は反応温度、反応試剤の
種類によって異なるが、通常30分乃至48時間(好適
には30分乃至12時間)である。
【0232】反応終了後、本反応の目的化合物(VI)
は、常法に従って反応混合物から採取される。たとえば
反応混合液または反応混合液の溶剤を留去して得られる
残渣に水と混合しない有機溶剤を加え、水洗後、溶剤を
留去することによって得られる。得られた目的化合物は
必要ならば常法、たとえば再結晶、再沈殿またはクロマ
トグラフィーによって更に精製することができる。
は、常法に従って反応混合物から採取される。たとえば
反応混合液または反応混合液の溶剤を留去して得られる
残渣に水と混合しない有機溶剤を加え、水洗後、溶剤を
留去することによって得られる。得られた目的化合物は
必要ならば常法、たとえば再結晶、再沈殿またはクロマ
トグラフィーによって更に精製することができる。
【0233】Aが4級アンモニオ基またはピリジニオ基
を有する基である場合には、常法に従い化合物(VI)
を所望のアルキルハライド等と反応させて4級化された
化合物(VI)を得ることができる。
を有する基である場合には、常法に従い化合物(VI)
を所望のアルキルハライド等と反応させて4級化された
化合物(VI)を得ることができる。
【0234】(第C3工程)脱保護反応 第C3工程は、化合物(VI)に含まれる保護基を除去
し化合物(I)を製造する工程であり、前述の第A5工
程の方法に従って達成される。
し化合物(I)を製造する工程であり、前述の第A5工
程の方法に従って達成される。
【0235】このようにしてA法、B法またはC法によ
って製造された一般式(I)を有する化合物は、必要に
応じて、医薬品化学、特にβ−ラクタム系抗生物質の分
野で知られている方法または技術に従って、生体内で加
水分解を受けるエステル等の誘導体に変換することがで
き、また薬理学的に許容される塩として精製することが
できる。
って製造された一般式(I)を有する化合物は、必要に
応じて、医薬品化学、特にβ−ラクタム系抗生物質の分
野で知られている方法または技術に従って、生体内で加
水分解を受けるエステル等の誘導体に変換することがで
き、また薬理学的に許容される塩として精製することが
できる。
【0236】本発明の有効成分である一般式(I)を有
する三環性複素環化合物またはその薬理上許容される塩
は、優れた抗菌活性を示し、β−ラクタマーゼ抑制活性
を有している。さらに、チエナマイシン系化合物は哺乳
類によって代謝を受けやすいが、化合物(I)はチエナ
マイシンの不活性化を触媒する酵素として知られている
デヒドロペプチダーゼ−Iに対してもすぐれた安定性を
示し、尿中回収率も高い。化合物(I)は、たとえば黄
色ブドウ球菌、腸球菌などのグラム陽性菌、大腸菌、赤
痢菌、肺炎桿菌、変形菌、セラチア、エンテロバクタ
ー、緑膿菌などのグラム陰性菌およびバクテロイデスフ
ラジリスなどの嫌気性菌を包含する広範囲な病原菌に対
し抗菌活性を示し、特にそれらの中でも近年問題となっ
ているメチシリン耐性黄色ブドウ球菌(MRSA)に強
力な抗菌活性を示した。従ってこのような化合物は医薬
として有用であり、特に細菌感染症を治療または予防す
る抗菌剤として有用である。
する三環性複素環化合物またはその薬理上許容される塩
は、優れた抗菌活性を示し、β−ラクタマーゼ抑制活性
を有している。さらに、チエナマイシン系化合物は哺乳
類によって代謝を受けやすいが、化合物(I)はチエナ
マイシンの不活性化を触媒する酵素として知られている
デヒドロペプチダーゼ−Iに対してもすぐれた安定性を
示し、尿中回収率も高い。化合物(I)は、たとえば黄
色ブドウ球菌、腸球菌などのグラム陽性菌、大腸菌、赤
痢菌、肺炎桿菌、変形菌、セラチア、エンテロバクタ
ー、緑膿菌などのグラム陰性菌およびバクテロイデスフ
ラジリスなどの嫌気性菌を包含する広範囲な病原菌に対
し抗菌活性を示し、特にそれらの中でも近年問題となっ
ているメチシリン耐性黄色ブドウ球菌(MRSA)に強
力な抗菌活性を示した。従ってこのような化合物は医薬
として有用であり、特に細菌感染症を治療または予防す
る抗菌剤として有用である。
【0237】化合物(I)およびその薬理上許容される
塩を抗菌剤として使用する場合には、それ自体あるいは
適宜の薬理学的に許容される、賦形剤、希釈剤等と混合
し、錠剤、カプセル剤、顆粒剤、散剤若しくはシロップ
剤等による経口的又は静脈内注射、筋肉内注射等による
非経口的に投与することができる。
塩を抗菌剤として使用する場合には、それ自体あるいは
適宜の薬理学的に許容される、賦形剤、希釈剤等と混合
し、錠剤、カプセル剤、顆粒剤、散剤若しくはシロップ
剤等による経口的又は静脈内注射、筋肉内注射等による
非経口的に投与することができる。
【0238】これらの製剤は、賦形剤(例えば、乳糖、
白糖、ブドウ糖、マンニット、ソルビットのような糖誘
導体;トウモロコシデンプン、馬鈴薯デンプン、α−デ
ンプン、デキストリン、カルボキシメチルデンプンのよ
うなデンプン誘導体;結晶セルロ−ス、低置換度ヒドロ
キシプロピルセルロ−ス、ヒドロキシプロピルメチルセ
ルロ−ス、カルボキシメチルセルロ−ス、カルボキシメ
チルセルロ−スカルシウム、内部架橋カルボキシメチル
セルロ−スナトリウムのようなセルロ−ル誘導体;アラ
ビアゴム;デキストラン;プルラン;軽質無水珪酸、合
成珪酸アルミニウム、メタ珪酸アルミン酸マグネシウム
のような珪酸塩誘導体;リン酸カルシウムのようなリン
酸塩誘導体;炭酸カルシウムのような炭酸塩誘導体;硫
酸カルシウムのような硫酸塩誘導体等)、結合剤(例え
ば、前記の賦形剤;ゼラチン;ポリビニルピロリドン;
マクロゴ−ル等)、崩壊剤(例えば、前記の賦形剤;ク
ロスカルメロ−スナトリウム、カルボキシメチルスタ−
チナトリウム、架橋ポリビニルピロリドンのような化学
修飾された、デンプン、セルロ−ス誘導体等)、滑沢剤
(例えば、タルク;ステアリン酸;ステアリン酸カルシ
ウム、ステアリン酸マグネシウムのようなステアリン酸
金属塩;コロイドシリカ;ビ−ガム;ビーズワックス、
ゲイロウのようなワックス類;硼酸;グリコ−ル;フマ
ル酸、アジピン酸のようなカルボン酸類;安息香酸ナト
リウムのようなカルボン酸ナトリウム塩;硫酸ナトリウ
ムのような硫酸類塩;ロイシン;ラウリル硫酸ナトリウ
ム、ラウリル硫酸マグネシウムのようなラウリル硫酸
塩;無水珪酸、珪酸水和物のような珪酸類;前記の賦形
剤におけるデンプン誘導体等)、安定剤(例えば、メチ
ルパラベン、プロピルバラベンのようなパラオキシ安息
香酸エステル類;クロロブタノ−ル、ベンジルアルコ−
ル、フェニルエチルアルコ−ルのようなアルコ−ル類;
塩化ベンザルコニウム;フェノ−ル、クレゾ−ルのよう
なフェノ−ル類;チメロサ−ル;無水酢酸;ソルビン酸
等)、矯味矯臭剤(例えば、通常使用される、甘味料、
酸味料、香料等)、懸濁化剤(例えば、ポリソルベ−ト
80、カルボキシメチルセルロ−スナトリウム等)、希
釈剤、製剤用溶剤(例えば、水、エタノ−ル、グリセリ
ン等)等の添加物を用いて周知の方法で製造される。
白糖、ブドウ糖、マンニット、ソルビットのような糖誘
導体;トウモロコシデンプン、馬鈴薯デンプン、α−デ
ンプン、デキストリン、カルボキシメチルデンプンのよ
うなデンプン誘導体;結晶セルロ−ス、低置換度ヒドロ
キシプロピルセルロ−ス、ヒドロキシプロピルメチルセ
ルロ−ス、カルボキシメチルセルロ−ス、カルボキシメ
チルセルロ−スカルシウム、内部架橋カルボキシメチル
セルロ−スナトリウムのようなセルロ−ル誘導体;アラ
ビアゴム;デキストラン;プルラン;軽質無水珪酸、合
成珪酸アルミニウム、メタ珪酸アルミン酸マグネシウム
のような珪酸塩誘導体;リン酸カルシウムのようなリン
酸塩誘導体;炭酸カルシウムのような炭酸塩誘導体;硫
酸カルシウムのような硫酸塩誘導体等)、結合剤(例え
ば、前記の賦形剤;ゼラチン;ポリビニルピロリドン;
マクロゴ−ル等)、崩壊剤(例えば、前記の賦形剤;ク
ロスカルメロ−スナトリウム、カルボキシメチルスタ−
チナトリウム、架橋ポリビニルピロリドンのような化学
修飾された、デンプン、セルロ−ス誘導体等)、滑沢剤
(例えば、タルク;ステアリン酸;ステアリン酸カルシ
ウム、ステアリン酸マグネシウムのようなステアリン酸
金属塩;コロイドシリカ;ビ−ガム;ビーズワックス、
ゲイロウのようなワックス類;硼酸;グリコ−ル;フマ
ル酸、アジピン酸のようなカルボン酸類;安息香酸ナト
リウムのようなカルボン酸ナトリウム塩;硫酸ナトリウ
ムのような硫酸類塩;ロイシン;ラウリル硫酸ナトリウ
ム、ラウリル硫酸マグネシウムのようなラウリル硫酸
塩;無水珪酸、珪酸水和物のような珪酸類;前記の賦形
剤におけるデンプン誘導体等)、安定剤(例えば、メチ
ルパラベン、プロピルバラベンのようなパラオキシ安息
香酸エステル類;クロロブタノ−ル、ベンジルアルコ−
ル、フェニルエチルアルコ−ルのようなアルコ−ル類;
塩化ベンザルコニウム;フェノ−ル、クレゾ−ルのよう
なフェノ−ル類;チメロサ−ル;無水酢酸;ソルビン酸
等)、矯味矯臭剤(例えば、通常使用される、甘味料、
酸味料、香料等)、懸濁化剤(例えば、ポリソルベ−ト
80、カルボキシメチルセルロ−スナトリウム等)、希
釈剤、製剤用溶剤(例えば、水、エタノ−ル、グリセリ
ン等)等の添加物を用いて周知の方法で製造される。
【0239】その使用量は症状、年齢等により異なる
が、経口投与の場合には、1回当り下限10mg(好適
には、50mg)、上限2000mg(好適には、10
00mg)を、静脈内投与の場合には、1回当たり下限
10mg(好適には50mg)、上限3000mg(好
適には、2000mg)を、成人に対して1日当り1乃
至6回症状に応じて投与することが望ましい。
が、経口投与の場合には、1回当り下限10mg(好適
には、50mg)、上限2000mg(好適には、10
00mg)を、静脈内投与の場合には、1回当たり下限
10mg(好適には50mg)、上限3000mg(好
適には、2000mg)を、成人に対して1日当り1乃
至6回症状に応じて投与することが望ましい。
【0240】以下本発明を実施例、参考例、試験例及び
製剤例をあげてさらに詳細に説明するが、本発明の範囲
はこれに限定されるものではない。尚、実施例および参
考例中の核磁気共鳴スペクトルについては重水中の測定
には特にことわりのない限りトリメチルシリルプロピオ
ン酸ナトリウム−d4 を内部標準に用い、その他の溶媒
ではテトラメチルシランを内部標準に用いて測定した。
製剤例をあげてさらに詳細に説明するが、本発明の範囲
はこれに限定されるものではない。尚、実施例および参
考例中の核磁気共鳴スペクトルについては重水中の測定
には特にことわりのない限りトリメチルシリルプロピオ
ン酸ナトリウム−d4 を内部標準に用い、その他の溶媒
ではテトラメチルシランを内部標準に用いて測定した。
【0241】実施例1 (4S,8S,9R,10S)−10−[(R)−1−
ヒドロキシエチル]−4−[(S)−3−ピロリジニ
ル]チオメチル−11−オキソ−1−アザトリシクロ
[7.2.0.03,8 ]−ウンデカ−2−エン−2−カ
ルボン酸 [例示化合物−1の(4S)異性体]
ヒドロキシエチル]−4−[(S)−3−ピロリジニ
ル]チオメチル−11−オキソ−1−アザトリシクロ
[7.2.0.03,8 ]−ウンデカ−2−エン−2−カ
ルボン酸 [例示化合物−1の(4S)異性体]
【0242】
【化19】
【0243】(1)(3S,4R)−4−[(2R,6
S)−6−[(S)−(1−アリルオキシカルボニル)
ピロリジン−3−イル]チオメチルシクロヘキサノン−
2−イル]−3−[(R)−1−(t−ブチルジメチル
シリルオキシ)エチル]アゼチジン−2−オン(6S
体)および(3S,4R)−4−[(2R,6R)−6
−[(S)−(1−アリルオキシカルボニル)ピロリジ
ン−3−イル]チオメチルシクロヘキサノン−2−イ
ル]−3−[(R)−1−(t−ブチルジメチルシリル
オキシ)エチル]アゼチジン−2−オン(6R体) 参考例1−(8)で得られた化合物(1.26g)をテ
トラヒドロフラン(15ml)に溶解し、氷冷下、トリ
エチルアミン(430mg)、塩化メタンスルホニル
(447mg)を加え、2時間撹拌した。沈殿物を濾過
し、濾液を濃縮し、メタンスルホン酸エステル中間体を
得た。メタンスルホン酸エステル中間体をジメチルホル
ムアミド(15ml)に溶解し、(S)−1−アリルオ
キシカルボニル−3−メルカプトピロリジンのジメチル
ホルムアミド溶液(5ml)とトリエチルアミン(59
2mg)を加え、室温で2時間40℃で3時間撹拌し
た。減圧下、溶媒を留去して残渣をカラムクロマトグラ
フィー(シリカゲル100g、ヘキサン:酢酸エチル=
2:5→1:3)で精製し、標記化合物をジアステレオ
マー混合物として得た。
S)−6−[(S)−(1−アリルオキシカルボニル)
ピロリジン−3−イル]チオメチルシクロヘキサノン−
2−イル]−3−[(R)−1−(t−ブチルジメチル
シリルオキシ)エチル]アゼチジン−2−オン(6S
体)および(3S,4R)−4−[(2R,6R)−6
−[(S)−(1−アリルオキシカルボニル)ピロリジ
ン−3−イル]チオメチルシクロヘキサノン−2−イ
ル]−3−[(R)−1−(t−ブチルジメチルシリル
オキシ)エチル]アゼチジン−2−オン(6R体) 参考例1−(8)で得られた化合物(1.26g)をテ
トラヒドロフラン(15ml)に溶解し、氷冷下、トリ
エチルアミン(430mg)、塩化メタンスルホニル
(447mg)を加え、2時間撹拌した。沈殿物を濾過
し、濾液を濃縮し、メタンスルホン酸エステル中間体を
得た。メタンスルホン酸エステル中間体をジメチルホル
ムアミド(15ml)に溶解し、(S)−1−アリルオ
キシカルボニル−3−メルカプトピロリジンのジメチル
ホルムアミド溶液(5ml)とトリエチルアミン(59
2mg)を加え、室温で2時間40℃で3時間撹拌し
た。減圧下、溶媒を留去して残渣をカラムクロマトグラ
フィー(シリカゲル100g、ヘキサン:酢酸エチル=
2:5→1:3)で精製し、標記化合物をジアステレオ
マー混合物として得た。
【0244】このジアステレオマー混合物は、高速液体
クロマトグラフィーにより分取用逆相カラム(コスモシ
ール5C18AR 28×250mm)を用いて精製さ
れ、(6S)体(0.72g)、(6R)体(1.03
g)を無色油状物質として得た。
クロマトグラフィーにより分取用逆相カラム(コスモシ
ール5C18AR 28×250mm)を用いて精製さ
れ、(6S)体(0.72g)、(6R)体(1.03
g)を無色油状物質として得た。
【0245】(6S)体 赤外線吸収スペクトル(CHCl3 )νmax cm-1 :
3417,2953,2860,1698,141
3. 核磁気共鳴スペクトル(400MHz,CDCl3 )δ
ppm : 0.06(3H,s),0.07(3H,
s),0.87(9H,s),1.78(3H,d,J
=6.3Hz),1.58−2.26(8H,m),
2.61−2.73(3H,m),2.85−2.92
(2H,m),3.24−3.80(5H,m),4.
04(1H,dd,J=5.7 and 1.7H
z),4.19(1H,qd,J=6.3 and
5.1Hz),4.59(2H,d,J=5.5H
z),5.21(1H,dd,J=10.3 and
1.3Hz),5.31(1H,dd,J=17.5
and 1.3Hz),5.85(1H,brd,J=
6.0Hz),5.89−5.99(1H,m)。
3417,2953,2860,1698,141
3. 核磁気共鳴スペクトル(400MHz,CDCl3 )δ
ppm : 0.06(3H,s),0.07(3H,
s),0.87(9H,s),1.78(3H,d,J
=6.3Hz),1.58−2.26(8H,m),
2.61−2.73(3H,m),2.85−2.92
(2H,m),3.24−3.80(5H,m),4.
04(1H,dd,J=5.7 and 1.7H
z),4.19(1H,qd,J=6.3 and
5.1Hz),4.59(2H,d,J=5.5H
z),5.21(1H,dd,J=10.3 and
1.3Hz),5.31(1H,dd,J=17.5
and 1.3Hz),5.85(1H,brd,J=
6.0Hz),5.89−5.99(1H,m)。
【0246】(6R)体 赤外線吸収スペクトル(CHCl3 )νmax cm-1 :
3418,2953,2860,1758,170
2,1412. 核磁気共鳴スペクトル(400MHz,CDCl3 )δ
ppm : 0.06(3H,s),0.07(3H,
s),0.87(9H,s),1.23(3H,d,J
=6.3Hz),1.33−2.62(11H,m),
2.86(1H,dd,J=4.8 and 2.4H
z),2.98(1H,dd,J=13.9 and
5.8Hz),3.26−3.81(5H,m),4.
09−4.12(1H,m),4.20(1H,qd,
J=6.3 and 4.8Hz),4.59(2H,
d,J=5.9Hz),5.21(1H,d,J=1
0.3Hz),5.31(1H,d,J=19.0H
z),5.72(1H,brs),5.89−5.99
(1H,m)。
3418,2953,2860,1758,170
2,1412. 核磁気共鳴スペクトル(400MHz,CDCl3 )δ
ppm : 0.06(3H,s),0.07(3H,
s),0.87(9H,s),1.23(3H,d,J
=6.3Hz),1.33−2.62(11H,m),
2.86(1H,dd,J=4.8 and 2.4H
z),2.98(1H,dd,J=13.9 and
5.8Hz),3.26−3.81(5H,m),4.
09−4.12(1H,m),4.20(1H,qd,
J=6.3 and 4.8Hz),4.59(2H,
d,J=5.9Hz),5.21(1H,d,J=1
0.3Hz),5.31(1H,d,J=19.0H
z),5.72(1H,brs),5.89−5.99
(1H,m)。
【0247】(2)(4S,8S,9R,10S)−4
−[(S)−(1−アリルオキシカルボニル)ピロリジ
ン−3−イル]チオメチル−10−[(R)−1−(t
−ブチルジメチルシリルオキシ)エチル]−11−オキ
ソ−1−アザトリシクロ[7.2.0.03,8 ]ウンデ
カ−2−エン−2−カルボン酸アリル 実施例1−(1)で得られた6S体(720mg)をジ
クロロメタン(10ml)に溶解し、氷冷下、トリエチ
ルアミン(277mg)、塩化アリルオキザリル(30
5mg)を加え、約1時間撹拌した、反応液に2−プロ
パノール(41mg)を加え、15分間撹拌後、減圧
下、溶媒を留去した。得られた残渣をカラムクロマトグ
ラフィー(シリカゲル20g、ヘキサン:酢酸エチル=
1:1)で精製し、中間体(959mg)を得た。中間
体をトルエン2mlに溶解し、ジエチルエチルホスホナ
イト(617mg)を加え60℃で1.5時間撹拌後、
1度トルエンを留去しメシチレン(50ml)を加え1
40℃で1時間、120℃で1.5時間加熱した。減圧
下、メシチレンを留去し、得られた残渣をカラムクロマ
トグラフィー(シリカゲル100g、ヘキサン:酢酸エ
チル=3:2→1:1)で精製し、油状の標記化合物
(672mg)を得た。
−[(S)−(1−アリルオキシカルボニル)ピロリジ
ン−3−イル]チオメチル−10−[(R)−1−(t
−ブチルジメチルシリルオキシ)エチル]−11−オキ
ソ−1−アザトリシクロ[7.2.0.03,8 ]ウンデ
カ−2−エン−2−カルボン酸アリル 実施例1−(1)で得られた6S体(720mg)をジ
クロロメタン(10ml)に溶解し、氷冷下、トリエチ
ルアミン(277mg)、塩化アリルオキザリル(30
5mg)を加え、約1時間撹拌した、反応液に2−プロ
パノール(41mg)を加え、15分間撹拌後、減圧
下、溶媒を留去した。得られた残渣をカラムクロマトグ
ラフィー(シリカゲル20g、ヘキサン:酢酸エチル=
1:1)で精製し、中間体(959mg)を得た。中間
体をトルエン2mlに溶解し、ジエチルエチルホスホナ
イト(617mg)を加え60℃で1.5時間撹拌後、
1度トルエンを留去しメシチレン(50ml)を加え1
40℃で1時間、120℃で1.5時間加熱した。減圧
下、メシチレンを留去し、得られた残渣をカラムクロマ
トグラフィー(シリカゲル100g、ヘキサン:酢酸エ
チル=3:2→1:1)で精製し、油状の標記化合物
(672mg)を得た。
【0248】赤外線吸収スペクトル(CHCl3 )ν
max cm-1 : 2933,2860,1773,16
93,1413. 核磁気共鳴スペクトル(400MHz,CDCl3 )δ
ppm : 0.07(3H,s),0.08(3H,
s),0.88(9H,s),1.23(3H,d,J
=6.4Hz),1.20−2.33(8H,m),
2.68−2.80(2H,m),2.94(1H,
m),3.17(1H,dd,J=6.4and 3.
1Hz),3.24−3.62(4H,m),3.75
−3.80(1H,m),3.88(1H,br),
4.11(1H,dd,J=10.3and 3.1H
z),4.20(1H,quint,J=6.4H
z),4.59(2H,d,J=5.6Hz),4.6
5−4.80(2H,m),5.21(1H,d,J=
13.2Hz),5.24(1H,d,J=11.1H
z),5.31(1H,d,J=17.5Hz),5.
44(1H,d,J=17.5Hz),5.89−6.
00(2H,m)。
max cm-1 : 2933,2860,1773,16
93,1413. 核磁気共鳴スペクトル(400MHz,CDCl3 )δ
ppm : 0.07(3H,s),0.08(3H,
s),0.88(9H,s),1.23(3H,d,J
=6.4Hz),1.20−2.33(8H,m),
2.68−2.80(2H,m),2.94(1H,
m),3.17(1H,dd,J=6.4and 3.
1Hz),3.24−3.62(4H,m),3.75
−3.80(1H,m),3.88(1H,br),
4.11(1H,dd,J=10.3and 3.1H
z),4.20(1H,quint,J=6.4H
z),4.59(2H,d,J=5.6Hz),4.6
5−4.80(2H,m),5.21(1H,d,J=
13.2Hz),5.24(1H,d,J=11.1H
z),5.31(1H,d,J=17.5Hz),5.
44(1H,d,J=17.5Hz),5.89−6.
00(2H,m)。
【0249】(3)(4S,8S,9R,10S)−4
−[(S)−(1−アリルオキシカルボニル)ピロリジ
ン−3−イル]チオメチル−10−[(R)−1−ヒド
ロキシエチル]−11−オキソ−1−アザトリシクロ
[7.2.0.03,8 ]ウンデカ−2−エン−2−カル
ボン酸アリル 実施例1−(2)で得られた化合物(670mg)をジ
メチルホルムアミド(10ml)に溶解し、フッ化水素
アンモニウム(316mg)を加え2日間室温で撹拌し
た。重曹水で中和し、酢酸エチル(100ml×3)で
抽出した。有機層を飽和食塩水で洗い、無水硫酸ナトリ
ウムで乾燥した後、減圧下、溶媒を留去した。得られた
残渣をカラムクロマトグラフィー(シリカゲル50g、
ヘキサン:酢酸エチル=1:5)で精製し標記化合物
(253mg)を無色油状物質として得た。
−[(S)−(1−アリルオキシカルボニル)ピロリジ
ン−3−イル]チオメチル−10−[(R)−1−ヒド
ロキシエチル]−11−オキソ−1−アザトリシクロ
[7.2.0.03,8 ]ウンデカ−2−エン−2−カル
ボン酸アリル 実施例1−(2)で得られた化合物(670mg)をジ
メチルホルムアミド(10ml)に溶解し、フッ化水素
アンモニウム(316mg)を加え2日間室温で撹拌し
た。重曹水で中和し、酢酸エチル(100ml×3)で
抽出した。有機層を飽和食塩水で洗い、無水硫酸ナトリ
ウムで乾燥した後、減圧下、溶媒を留去した。得られた
残渣をカラムクロマトグラフィー(シリカゲル50g、
ヘキサン:酢酸エチル=1:5)で精製し標記化合物
(253mg)を無色油状物質として得た。
【0250】赤外線吸収スペクトル(CHCl3 )ν
max cm-1 : 3610,2940,1771,16
93,1413. 核磁気共鳴スペクトル(400MHz,CDCl3 )δ
ppm : 1.33(3H,d,J=6.2Hz),
1.57−2.23(9H,m),2.69−2.81
(2H,m),2.96−3.06(1H,m),3.
22(1H,dd,J=6.6 and 3.1H
z),3.20−3.62(4H,m),3.77(1
H,dd,J=10.6 and 6.0Hz),3.
90(1H,m),4.17(1H,dd,J=10.
3 and 3.1Hz),4.21−4.28(1
H,m),4.56(2H,d,J=5.7Hz),
4.66−4.84(2H,m),5.21(1H,
d,J=10.1Hz),5.26(1H,d,J=1
0.1Hz),5.31(1H,d,J=17.4H
z),5.44(1H,d,J=17.4Hz),5.
89−6.02(1H,m)。
max cm-1 : 3610,2940,1771,16
93,1413. 核磁気共鳴スペクトル(400MHz,CDCl3 )δ
ppm : 1.33(3H,d,J=6.2Hz),
1.57−2.23(9H,m),2.69−2.81
(2H,m),2.96−3.06(1H,m),3.
22(1H,dd,J=6.6 and 3.1H
z),3.20−3.62(4H,m),3.77(1
H,dd,J=10.6 and 6.0Hz),3.
90(1H,m),4.17(1H,dd,J=10.
3 and 3.1Hz),4.21−4.28(1
H,m),4.56(2H,d,J=5.7Hz),
4.66−4.84(2H,m),5.21(1H,
d,J=10.1Hz),5.26(1H,d,J=1
0.1Hz),5.31(1H,d,J=17.4H
z),5.44(1H,d,J=17.4Hz),5.
89−6.02(1H,m)。
【0251】(4)(4S,8S,9R,10S)−1
0−[(R)−1−ヒドロキシエチル]−4−[(S)
−3−ピロリジニル]チオメチル−11−オキソ−1−
アザトリシクロ[7.2.0.03,8 ]ウンデカ−2−
エン−2−カルボン酸 実施例1−(3)で得られた化合物(250mg)をジ
クロロメタンに溶解し、氷冷下、水(51mg)、ビス
(トリフェニルホスフィン)パラジウム(II)クロリド
(18mg)、水素化トリn−ブチル錫(1.05g)
を加え、5分間撹拌し、さらに室温で30分間撹拌し
た。ジクロロメタン(30ml)を加え、水(30ml
×3)で抽出し、水層を集め減圧下、水を留去した。2
ml程度まで濃縮し、逆層シリカゲルカラムクロマトグ
ラフィー(コスモシール75C18−PREP(12
g)、アセトニトリル水溶液を用いてアセトニトリル濃
度を0%→16%まで段階的にあげながら溶出した。)
で精製し、凍結乾燥することにより粉末状の目的化合物
(127mg)を得た。
0−[(R)−1−ヒドロキシエチル]−4−[(S)
−3−ピロリジニル]チオメチル−11−オキソ−1−
アザトリシクロ[7.2.0.03,8 ]ウンデカ−2−
エン−2−カルボン酸 実施例1−(3)で得られた化合物(250mg)をジ
クロロメタンに溶解し、氷冷下、水(51mg)、ビス
(トリフェニルホスフィン)パラジウム(II)クロリド
(18mg)、水素化トリn−ブチル錫(1.05g)
を加え、5分間撹拌し、さらに室温で30分間撹拌し
た。ジクロロメタン(30ml)を加え、水(30ml
×3)で抽出し、水層を集め減圧下、水を留去した。2
ml程度まで濃縮し、逆層シリカゲルカラムクロマトグ
ラフィー(コスモシール75C18−PREP(12
g)、アセトニトリル水溶液を用いてアセトニトリル濃
度を0%→16%まで段階的にあげながら溶出した。)
で精製し、凍結乾燥することにより粉末状の目的化合物
(127mg)を得た。
【0252】赤外線吸収スペクトル(KBr)νmax c
m-1 : 3408,2929,1758,1586,
1392,1252. 核磁気共鳴スペクトル(400MHz,D2 O)δpp
m : 1.27(3H,d,J=6.2Hz),1.
26−1.38(1H,m),1.60−1.71(3
H,m),1.82−2.00(3H,m),2.34
−2.44(1H,m),2.88(1H,d,J=1
3.5 and 6.1Hz),2.94(1H,d,
J=13.5 and 10.3Hz),2.97−
3.06(1H,m),3.24(1H,q,J=6.
8Hz),3.34−3.41(2H,m),3.49
(1H,dt,J=11.8 and 7.5Hz),
3.59−3.71(3H,m),4.15(1H,d
d,J=10.7 and3.0Hz),4.23(1
H,quint,J=6.2Hz)。
m-1 : 3408,2929,1758,1586,
1392,1252. 核磁気共鳴スペクトル(400MHz,D2 O)δpp
m : 1.27(3H,d,J=6.2Hz),1.
26−1.38(1H,m),1.60−1.71(3
H,m),1.82−2.00(3H,m),2.34
−2.44(1H,m),2.88(1H,d,J=1
3.5 and 6.1Hz),2.94(1H,d,
J=13.5 and 10.3Hz),2.97−
3.06(1H,m),3.24(1H,q,J=6.
8Hz),3.34−3.41(2H,m),3.49
(1H,dt,J=11.8 and 7.5Hz),
3.59−3.71(3H,m),4.15(1H,d
d,J=10.7 and3.0Hz),4.23(1
H,quint,J=6.2Hz)。
【0253】実施例2 (4R,8S,9R,10S)−10−[(R)−1−
ヒドロキシエチル]−4−[(S)−3−ピロリジニ
ル]チオメチル−11−オキソ−1−アザトリシクロ
[7.2.0.03,8 ]ウンデカ−2−エン−2−カル
ボン酸 [例示化合物−1の(4R)異性体]
ヒドロキシエチル]−4−[(S)−3−ピロリジニ
ル]チオメチル−11−オキソ−1−アザトリシクロ
[7.2.0.03,8 ]ウンデカ−2−エン−2−カル
ボン酸 [例示化合物−1の(4R)異性体]
【0254】
【化20】
【0255】(1)(4R,8S,9R,10S)−4
−[(S)−(1−アリルオキシカルボニル)ピロリジ
ニル−3−イル]チオメチル−10−[(R)−(t−
ブチルジメチルシリルオキシ)エチル]−11−オキソ
−1−アザトリシクロ[7.2.0.03,8 ]ウンデカ
−2−エン−2−カルボン酸アリル 実施例1−(1)で得られた化合物(6R)体(1.0
2g)をジクロロメタン(10ml)に溶解し、氷冷
下、トリエチルアミン(393mg)、塩化アリルオキ
ザリル(432mg)を加え、1.5時間撹拌した。反
応液に2−プロパノール(58mg)を加え、10分間
撹拌後、減圧下、溶媒を留去した。得られた残渣を、カ
ラムクロマトグラフィー(シリカゲル25g、ヘキサ
ン:酢酸エチル=1:1)で精製し、中間体(1.24
g)を得た。その中間体を、トルエン(1ml)に溶解
し、ジエチルエチルホスホナイト(874mg)を加
え、60℃で1.5時間撹拌後、一度トルエンを留去
し、メシチレン(50ml)を加え、130℃で2.5
時間攪拌し、さらに2時間過熱還流した。減圧下、メシ
チレンを留去し、得られた残渣を、カラムクロマトグラ
フィー(シリカゲル100g、ヘキサン:酢酸エチル
3:1→1:1)で精製し油状の標記化合物(142m
g)を得た。
−[(S)−(1−アリルオキシカルボニル)ピロリジ
ニル−3−イル]チオメチル−10−[(R)−(t−
ブチルジメチルシリルオキシ)エチル]−11−オキソ
−1−アザトリシクロ[7.2.0.03,8 ]ウンデカ
−2−エン−2−カルボン酸アリル 実施例1−(1)で得られた化合物(6R)体(1.0
2g)をジクロロメタン(10ml)に溶解し、氷冷
下、トリエチルアミン(393mg)、塩化アリルオキ
ザリル(432mg)を加え、1.5時間撹拌した。反
応液に2−プロパノール(58mg)を加え、10分間
撹拌後、減圧下、溶媒を留去した。得られた残渣を、カ
ラムクロマトグラフィー(シリカゲル25g、ヘキサ
ン:酢酸エチル=1:1)で精製し、中間体(1.24
g)を得た。その中間体を、トルエン(1ml)に溶解
し、ジエチルエチルホスホナイト(874mg)を加
え、60℃で1.5時間撹拌後、一度トルエンを留去
し、メシチレン(50ml)を加え、130℃で2.5
時間攪拌し、さらに2時間過熱還流した。減圧下、メシ
チレンを留去し、得られた残渣を、カラムクロマトグラ
フィー(シリカゲル100g、ヘキサン:酢酸エチル
3:1→1:1)で精製し油状の標記化合物(142m
g)を得た。
【0256】赤外線吸収スペクトル(CHCl3 )ν
max cm-1 : 2933,1769,1691,14
13. 核磁気共鳴スペクトル(400MHz,CDCl3 )δ
ppm : 0.07(6H,s),0.88(9H,
s),1.22(3H,d,J=6.2Hz),1.1
7−1.61(3H,m),1.79−2.32(5
H,m),2.53−2.82(3H,m),3.13
−3.79(7H,m),4.09−4.22(2H,
m),4.59(2H,d,J=5.4Hz),4.6
2−4.80(2H,m),5.21(1H,d,J=
11.3Hz),5.25(1H,d,J=11.3H
z),5.30(1H,d,J=17.0Hz),5.
42(1H,d,J=17.0Hz),5.89−6.
01(2H,m)。
max cm-1 : 2933,1769,1691,14
13. 核磁気共鳴スペクトル(400MHz,CDCl3 )δ
ppm : 0.07(6H,s),0.88(9H,
s),1.22(3H,d,J=6.2Hz),1.1
7−1.61(3H,m),1.79−2.32(5
H,m),2.53−2.82(3H,m),3.13
−3.79(7H,m),4.09−4.22(2H,
m),4.59(2H,d,J=5.4Hz),4.6
2−4.80(2H,m),5.21(1H,d,J=
11.3Hz),5.25(1H,d,J=11.3H
z),5.30(1H,d,J=17.0Hz),5.
42(1H,d,J=17.0Hz),5.89−6.
01(2H,m)。
【0257】(2)(4R,8S,9R,10S)−4
−[(S)−(1−アリルオキシカルボニル)ピロリジ
ニル−3−イル]チオメチル−10−[(R)−1−ヒ
ドロキシエチル]−11−オキソ−1−アザトリシクロ
[7.2.0.03,8 ]ウンデカ−2−エン−2−カル
ボン酸アリル 実施例2−(1)で得られた化合物(140mg)を用
いて実施例1−(3)と同様な反応及び単離操作を行
い、標記化合物(65mg)を無色油状物質として得
た。
−[(S)−(1−アリルオキシカルボニル)ピロリジ
ニル−3−イル]チオメチル−10−[(R)−1−ヒ
ドロキシエチル]−11−オキソ−1−アザトリシクロ
[7.2.0.03,8 ]ウンデカ−2−エン−2−カル
ボン酸アリル 実施例2−(1)で得られた化合物(140mg)を用
いて実施例1−(3)と同様な反応及び単離操作を行
い、標記化合物(65mg)を無色油状物質として得
た。
【0258】核磁気共鳴スペクトル(400MHz,C
DCl3 )δppm : 1.33(3H,d,J=
6.3Hz),3.15−3.78(7H,m),4.
11−4.24(2H,m),4.59(2H,d,J
=5.4Hz),4.67−4.81(2H,m),
5.19−5.49(4H,m),5.87−6.06
(2H,m)。
DCl3 )δppm : 1.33(3H,d,J=
6.3Hz),3.15−3.78(7H,m),4.
11−4.24(2H,m),4.59(2H,d,J
=5.4Hz),4.67−4.81(2H,m),
5.19−5.49(4H,m),5.87−6.06
(2H,m)。
【0259】(3)(4R,8S,9R,10S)−1
0−[(R)−1−ヒドロキシエチル]−4−[(S)
−3−ピロリジニル]チオメチル−11−オキソ−1−
アザトリシクロ[7.2.0.03,8 ]ウンデカ−2−
エン−2−カルボン酸 実施例2−(2)で得られた化合物(60mg)を実施
例1−(4)と同様な反応及び精製を行い、凍結乾燥す
ることにより粉末状の目的化合物(18mg)を得た。
0−[(R)−1−ヒドロキシエチル]−4−[(S)
−3−ピロリジニル]チオメチル−11−オキソ−1−
アザトリシクロ[7.2.0.03,8 ]ウンデカ−2−
エン−2−カルボン酸 実施例2−(2)で得られた化合物(60mg)を実施
例1−(4)と同様な反応及び精製を行い、凍結乾燥す
ることにより粉末状の目的化合物(18mg)を得た。
【0260】核磁気共鳴スペクトル(400MHz,D
2 O)δppm : 1.08(3H,d,J=6.4
Hz),0.97−1.39(3H,m),1.65−
1.88(4H,m),2.15−2.24(1H,
m),2.32−2.40(1H,m),2.58(1
H,dd,J=12.7 and 7.3Hz),2.
62−2.68(1H,m),3.00(1H,dd,
J=12.7 and7.8Hz),3.05(1H,
dd,J=13.7 and 4.4Hz),3.14
−3.22(2H,m),3.32(1H,td,J=
11.7 and 7.8Hz),3.38−3.48
(2H,m),3.96(1H,dd,J=9.8 a
nd 2.9Hz),4.03(1H,quint,J
=6.4Hz)。
2 O)δppm : 1.08(3H,d,J=6.4
Hz),0.97−1.39(3H,m),1.65−
1.88(4H,m),2.15−2.24(1H,
m),2.32−2.40(1H,m),2.58(1
H,dd,J=12.7 and 7.3Hz),2.
62−2.68(1H,m),3.00(1H,dd,
J=12.7 and7.8Hz),3.05(1H,
dd,J=13.7 and 4.4Hz),3.14
−3.22(2H,m),3.32(1H,td,J=
11.7 and 7.8Hz),3.38−3.48
(2H,m),3.96(1H,dd,J=9.8 a
nd 2.9Hz),4.03(1H,quint,J
=6.4Hz)。
【0261】実施例3 (4S,8S,9R,10S)−4−(4−N,N−ジ
メチルアミノカルバモイルフェニル)チオメチル−10
−[(R)−1−ヒドロキシエチル]−11−オキソ−
1−アザトリシクロ[7.2.0.03,8 ]ウンデカ−
2−エン−2−カルボン酸カリウム [例示化合物−15の(4S)異性体]
メチルアミノカルバモイルフェニル)チオメチル−10
−[(R)−1−ヒドロキシエチル]−11−オキソ−
1−アザトリシクロ[7.2.0.03,8 ]ウンデカ−
2−エン−2−カルボン酸カリウム [例示化合物−15の(4S)異性体]
【0262】
【化21】
【0263】(1)(3S,4R)−3−[(R)−1
−(t−ブチルジメチルシリルオキシ)エチル]−4−
[(2R,6S)−6−(4−N,N−ジメチルカルバ
モイルフェニル)チオメチルシクロヘキサン−2−イ
ル]アゼチジン−2−オン(6S体)および(3S,4
R)−3−[(R)−1−(t−ブチルジメチルシリル
オキシ)エチル]−4−[(2R,6R)−6−(4−
N,N−ジメチルカルバモイルフェニル)チオメチルシ
クロヘキサン−2−イル]アゼチジン−2−オン(6R
体) 参考例1−(8)で得られた化合物(1.45g)及び
N,N−ジメチルカルバモイルチオフェノール(986
mg)を用いて実施例1−(1)と同様の反応及び単離
操作を行い、標記化合物をジアステレオマー混合物とし
て得た。このジアステレオマー混合物を、カラムクロマ
トグラフィー(シリカゲル(コスモシール75C18−
PREP)30g、水:アセトニトリル=1:1)で精
製し、(6S)体(883mg)(6R)体(1.25
g)を無色アモルファス状の粉末として得た。
−(t−ブチルジメチルシリルオキシ)エチル]−4−
[(2R,6S)−6−(4−N,N−ジメチルカルバ
モイルフェニル)チオメチルシクロヘキサン−2−イ
ル]アゼチジン−2−オン(6S体)および(3S,4
R)−3−[(R)−1−(t−ブチルジメチルシリル
オキシ)エチル]−4−[(2R,6R)−6−(4−
N,N−ジメチルカルバモイルフェニル)チオメチルシ
クロヘキサン−2−イル]アゼチジン−2−オン(6R
体) 参考例1−(8)で得られた化合物(1.45g)及び
N,N−ジメチルカルバモイルチオフェノール(986
mg)を用いて実施例1−(1)と同様の反応及び単離
操作を行い、標記化合物をジアステレオマー混合物とし
て得た。このジアステレオマー混合物を、カラムクロマ
トグラフィー(シリカゲル(コスモシール75C18−
PREP)30g、水:アセトニトリル=1:1)で精
製し、(6S)体(883mg)(6R)体(1.25
g)を無色アモルファス状の粉末として得た。
【0264】(6S)体 赤外線吸収スペクトル(KBr)νmax cm-1 : 3
230,2930,1761,1707,1623,1
394,1097,835. 核磁気共鳴スペクトル(400MHz,CDCl3 )δ
ppm : 0.07(6H,s),0.86(9H,
s),1.16(3H,d,J=6.3Hz),1.6
9−1.92(3H,m),2.03−2.10(2
H,m),2.63−2.72(2H,m),2.91
(1H,dd,J=4.5 and 2.2Hz),
2.95−3.20(7H,m),3.30(1H,d
d,J=13.2 and 7.1Hz),4.05
(1H,dd,J=6.0 and 2.2Hz),
4.20(1H,qd,J=6.3 and 5.0H
z),7.32−7.37(4H,m)。
230,2930,1761,1707,1623,1
394,1097,835. 核磁気共鳴スペクトル(400MHz,CDCl3 )δ
ppm : 0.07(6H,s),0.86(9H,
s),1.16(3H,d,J=6.3Hz),1.6
9−1.92(3H,m),2.03−2.10(2
H,m),2.63−2.72(2H,m),2.91
(1H,dd,J=4.5 and 2.2Hz),
2.95−3.20(7H,m),3.30(1H,d
d,J=13.2 and 7.1Hz),4.05
(1H,dd,J=6.0 and 2.2Hz),
4.20(1H,qd,J=6.3 and 5.0H
z),7.32−7.37(4H,m)。
【0265】施光度:[α]D 25 =+34.8°(C=
0.750,CHCl3 ). (6R)体 赤外線吸収スペクトル(KBr)νmax cm-1 : 3
251,2931,2856,1759,1709,1
631,1394,1097,835. 核磁気共鳴スペクトル(400MHz,CDCl3 )δ
ppm : 0.06(3H,s),0.07(3H,
s),0.87(9H,s),1.22(3H,d,J
=6.1Hz),1.34−1.45(1H,m),
1.58−1.83(2H,m),1.98−2.05
(1H,m),2.14−2.20(1H,m),2.
42−2.48(1H,m),2.55−2.64(2
H,m),2.76(1H,dd,J=13.6 an
d 7.6Hz),2.87(1H,dd,J=4.9
and 2.6Hz),3.00(3H,brs),
3.10(3H,brs),3.44(1H,dd,J
=13.6 and 5.2Hz),4.10−4.1
5(1H,m),4.21(1H,qd,J=6.1a
nd 4.9Hz),5.74(1H,brs),7.
29−7.36(4H,m)。
0.750,CHCl3 ). (6R)体 赤外線吸収スペクトル(KBr)νmax cm-1 : 3
251,2931,2856,1759,1709,1
631,1394,1097,835. 核磁気共鳴スペクトル(400MHz,CDCl3 )δ
ppm : 0.06(3H,s),0.07(3H,
s),0.87(9H,s),1.22(3H,d,J
=6.1Hz),1.34−1.45(1H,m),
1.58−1.83(2H,m),1.98−2.05
(1H,m),2.14−2.20(1H,m),2.
42−2.48(1H,m),2.55−2.64(2
H,m),2.76(1H,dd,J=13.6 an
d 7.6Hz),2.87(1H,dd,J=4.9
and 2.6Hz),3.00(3H,brs),
3.10(3H,brs),3.44(1H,dd,J
=13.6 and 5.2Hz),4.10−4.1
5(1H,m),4.21(1H,qd,J=6.1a
nd 4.9Hz),5.74(1H,brs),7.
29−7.36(4H,m)。
【0266】施光度:[α]D 25 =+42.1°(C=
0.625,CHCl3 ). (2)(4S,8S,9R,10S)−10−[(R)
−1−(t−ブチルジメチルシリルオキシ)エチル]−
4−(4−N,N−ジメチルカルバモイルフェニル)チ
オメチル−11−オキソ−1−アザトリシクロ[7.
2.0.03,8 ]ウンデカ−2−エン−2−カルボン酸
アリル 実施例3−(1)で得られた(6S)体(800mg)
を用いて実施例1−(2)と同様な反応及び単離操作を
行い、標記化合物(715mg)を無色油状物質として
得た。
0.625,CHCl3 ). (2)(4S,8S,9R,10S)−10−[(R)
−1−(t−ブチルジメチルシリルオキシ)エチル]−
4−(4−N,N−ジメチルカルバモイルフェニル)チ
オメチル−11−オキソ−1−アザトリシクロ[7.
2.0.03,8 ]ウンデカ−2−エン−2−カルボン酸
アリル 実施例3−(1)で得られた(6S)体(800mg)
を用いて実施例1−(2)と同様な反応及び単離操作を
行い、標記化合物(715mg)を無色油状物質として
得た。
【0267】赤外線吸収スペクトル(CHCl3 )ν
max cm-1 : 2933,2859,1774,17
16,1625,1400,1284. 核磁気共鳴スペクトル(400MHz,CDCl3 )δ
ppm : 0.07(3H,s),0.08(3H,
s),0.88(9H,s),1.28(3H,d,J
=6.1Hz),1.36−2.05(6H,m),
3.00(3H,brs),3.09(3H,br
s),2.93−3.21(4H,m),3.93−
3.99(1H,m),4.09(1H,dd,J=1
0.4 and3.3Hz),4.19(1H,qui
nt,J=6.1Hz),4.62−4.71(2H,
m),5.23(1H,d,J=9.7Hz),5.4
0(1H,d,J=17.6Hz),5.86−5.9
6(1H,m),7.31−7.36(4H,m)。
max cm-1 : 2933,2859,1774,17
16,1625,1400,1284. 核磁気共鳴スペクトル(400MHz,CDCl3 )δ
ppm : 0.07(3H,s),0.08(3H,
s),0.88(9H,s),1.28(3H,d,J
=6.1Hz),1.36−2.05(6H,m),
3.00(3H,brs),3.09(3H,br
s),2.93−3.21(4H,m),3.93−
3.99(1H,m),4.09(1H,dd,J=1
0.4 and3.3Hz),4.19(1H,qui
nt,J=6.1Hz),4.62−4.71(2H,
m),5.23(1H,d,J=9.7Hz),5.4
0(1H,d,J=17.6Hz),5.86−5.9
6(1H,m),7.31−7.36(4H,m)。
【0268】施光度:[α]D 25 =+74.4°(C=
0.905,CHCl3 ). (3)(4S,8S,9R,10S)−4−(4−N,
N−ジメチルカルバモイルフェニル)チオメチル−10
−[(R)−1−ヒドロキシエチル]−11−オキソ−
1−アザトリシクロ[7.2.0.03,8 ]ウンデカ−
2−エン−2−カルボン酸アリル 実施例3−(2)で得られた化合物(650mg)をテ
トラヒドロフラン(5mlに溶解し、酢酸(655m
g)とフッ化テトラブチルアンモニウムの1.0Mテト
ラヒドロフラン溶液(7.60ml)を加え、室温で1
6時間撹拌した。さらにフッ化テトラブチルアンモニウ
ムの1.0Mテトラヒドロフラン溶液(2.18ml)
を加え4時間撹拌した。反応液に重曹水を加え中和した
後、酢酸エチル(50ml×3)で抽出し、有機層を重
曹水、飽和食塩水で洗い、無水硫酸ナトリウムで乾燥
後、減圧下、溶媒を留去した。得られた残渣をカラムク
ロマトグラフィー(シリカゲル30g、酢酸エチル:メ
タノール=99:1→20:1)で精製し、標記化合物
(344mg)を無色アモルファス状粉末として得た。 赤外線吸収スペクトル(KBr)νmax cm-1 : 3
397,2932,1774,1717,1624,1
285. 核磁気共鳴スペクトル(400MHz,CDCl3 )δ
ppm : 1.29(3H,d,J=6.2Hz),
1.56−1.96(6H,m),3.00(3H,b
rs),3.00−3.10(2H,m),3.10
(3H,brs),3.28(1H,dd,J=13.
4 and 9.7Hz),3.63(1H,dd,J
=10.1 and 2.9Hz),3.98−4.0
2(1H,m),4.10−4.17(1H,m),
4.68(1H,dd,J=13.7and 5.3H
z),4.76(1H,dd,J=13.7 and
5.7Hz),5.26(1H,d,J=10.3H
z),5.44(1H,d,J=17.8Hz),5.
91−6.01(1H,m),7.33(2H,d,J
=8.4Hz),7.39(2H,d,J=8.4H
z)。
0.905,CHCl3 ). (3)(4S,8S,9R,10S)−4−(4−N,
N−ジメチルカルバモイルフェニル)チオメチル−10
−[(R)−1−ヒドロキシエチル]−11−オキソ−
1−アザトリシクロ[7.2.0.03,8 ]ウンデカ−
2−エン−2−カルボン酸アリル 実施例3−(2)で得られた化合物(650mg)をテ
トラヒドロフラン(5mlに溶解し、酢酸(655m
g)とフッ化テトラブチルアンモニウムの1.0Mテト
ラヒドロフラン溶液(7.60ml)を加え、室温で1
6時間撹拌した。さらにフッ化テトラブチルアンモニウ
ムの1.0Mテトラヒドロフラン溶液(2.18ml)
を加え4時間撹拌した。反応液に重曹水を加え中和した
後、酢酸エチル(50ml×3)で抽出し、有機層を重
曹水、飽和食塩水で洗い、無水硫酸ナトリウムで乾燥
後、減圧下、溶媒を留去した。得られた残渣をカラムク
ロマトグラフィー(シリカゲル30g、酢酸エチル:メ
タノール=99:1→20:1)で精製し、標記化合物
(344mg)を無色アモルファス状粉末として得た。 赤外線吸収スペクトル(KBr)νmax cm-1 : 3
397,2932,1774,1717,1624,1
285. 核磁気共鳴スペクトル(400MHz,CDCl3 )δ
ppm : 1.29(3H,d,J=6.2Hz),
1.56−1.96(6H,m),3.00(3H,b
rs),3.00−3.10(2H,m),3.10
(3H,brs),3.28(1H,dd,J=13.
4 and 9.7Hz),3.63(1H,dd,J
=10.1 and 2.9Hz),3.98−4.0
2(1H,m),4.10−4.17(1H,m),
4.68(1H,dd,J=13.7and 5.3H
z),4.76(1H,dd,J=13.7 and
5.7Hz),5.26(1H,d,J=10.3H
z),5.44(1H,d,J=17.8Hz),5.
91−6.01(1H,m),7.33(2H,d,J
=8.4Hz),7.39(2H,d,J=8.4H
z)。
【0269】(4)(4S,8S,9R,10S)−4
−(4−N,N−ジメチルカルバモイルフェニル)チオ
メチル−10−[(R)−1−ヒドロキシエチル]−1
1−オキソ−1−アザトリシクロ[7.2.0.0
3,8 ]ウンデカ−2−エン−2−カルボン酸カリウム 実施例3−(3)で得られた化合物(200mg)をジ
クロロメタン:酢酸エチル=1:1の混合溶媒(6m
l)に溶かし、室温で2−エチルヘキサン酸カリウム
(75mg)を加え、さらにテトラキストリフェニルホ
スフィンパラジウム(0)を加え2.5時間撹拌した。
反応液にヘキサン−イソプロピルエーテルの混合溶媒を
加え、水で抽出した。水層を2mlになるまで減圧下濃
縮し、高速液体クロマトグラフィー(カラム:コスモシ
ール5C18−AR 28×250mm)を用いて精製
し、標記化合物(123mg)を凍結乾燥粉末として得
た。
−(4−N,N−ジメチルカルバモイルフェニル)チオ
メチル−10−[(R)−1−ヒドロキシエチル]−1
1−オキソ−1−アザトリシクロ[7.2.0.0
3,8 ]ウンデカ−2−エン−2−カルボン酸カリウム 実施例3−(3)で得られた化合物(200mg)をジ
クロロメタン:酢酸エチル=1:1の混合溶媒(6m
l)に溶かし、室温で2−エチルヘキサン酸カリウム
(75mg)を加え、さらにテトラキストリフェニルホ
スフィンパラジウム(0)を加え2.5時間撹拌した。
反応液にヘキサン−イソプロピルエーテルの混合溶媒を
加え、水で抽出した。水層を2mlになるまで減圧下濃
縮し、高速液体クロマトグラフィー(カラム:コスモシ
ール5C18−AR 28×250mm)を用いて精製
し、標記化合物(123mg)を凍結乾燥粉末として得
た。
【0270】赤外線吸収スペクトル(KBr)νmax c
m-1 : 3400,2928,1754,1629,
1596,1393,1097. 核磁気共鳴スペクトル(400MHz,D2 O)δpp
m : 1.24(3H,d,J=6.4Hz),1.
21−1.30(1H,m),1.56−1.69(3
H,m),1.81−1.92(2H,m),2.84
−2.92(1H,m),3.04(3H,s),3.
10(3H,s),3.18(1H,dd,J=13.
3 and 5.6Hz),3.29(1H,dd,J
=6.1and 2.9Hz),3.43(1H,d
d,J=13.3 and 10.6Hz),3.74
−3.79(1H,m),3.77(1H,dd,J=
10.1 and 2.9Hz),4.16(1H,q
uint,J=6.4Hz),7.39(2H,d,J
=8.4Hz),7.51(2H,d,J=8.4H
z)。
m-1 : 3400,2928,1754,1629,
1596,1393,1097. 核磁気共鳴スペクトル(400MHz,D2 O)δpp
m : 1.24(3H,d,J=6.4Hz),1.
21−1.30(1H,m),1.56−1.69(3
H,m),1.81−1.92(2H,m),2.84
−2.92(1H,m),3.04(3H,s),3.
10(3H,s),3.18(1H,dd,J=13.
3 and 5.6Hz),3.29(1H,dd,J
=6.1and 2.9Hz),3.43(1H,d
d,J=13.3 and 10.6Hz),3.74
−3.79(1H,m),3.77(1H,dd,J=
10.1 and 2.9Hz),4.16(1H,q
uint,J=6.4Hz),7.39(2H,d,J
=8.4Hz),7.51(2H,d,J=8.4H
z)。
【0271】実施例4 (4R,8S,9R,10S)−4−(4−N,N−ジ
メチルカルバモイルフェニル)チオメチル−10−
[(R)−1−ヒドロキシエチル]−11−オキソ−1
−アザトリシクロ[7.2.0.03,8 ]ウンデカ−2
−エン−2−カルボン酸カリウム [例示化合物−15の(4R)異性体]
メチルカルバモイルフェニル)チオメチル−10−
[(R)−1−ヒドロキシエチル]−11−オキソ−1
−アザトリシクロ[7.2.0.03,8 ]ウンデカ−2
−エン−2−カルボン酸カリウム [例示化合物−15の(4R)異性体]
【0272】
【化22】
【0273】(1)(4R,8S,9R,10S)−1
0−[(R)−1−(t−ブチルジメチルシリルオキ
シ)エチル]−4−(4−N,N−ジメチルカルバモイ
ルフェニル)チオメチル−11−オキソ−1−アザトリ
シクロ[7.2.0.03,8 ]ウンデカ−2−エン−2
−カルボン酸アリル 実施例3−(1)で得られた化合物(6R)体(1.1
5g)を用いて実施例2−(1)と同様な反応及び単離
操作を行い、標記化合物(937mg)を無色油状物質
として得た。
0−[(R)−1−(t−ブチルジメチルシリルオキ
シ)エチル]−4−(4−N,N−ジメチルカルバモイ
ルフェニル)チオメチル−11−オキソ−1−アザトリ
シクロ[7.2.0.03,8 ]ウンデカ−2−エン−2
−カルボン酸アリル 実施例3−(1)で得られた化合物(6R)体(1.1
5g)を用いて実施例2−(1)と同様な反応及び単離
操作を行い、標記化合物(937mg)を無色油状物質
として得た。
【0274】赤外線吸収スペクトル(CHCl3 )ν
max cm-1 : 2933,2859,1771,17
24,1624,1278,1097. 核磁気共鳴スペクトル(400MHz,CDCl3 )δ
ppm : 0.07(6H,s),0.87(9H,
s),1.22(3H,d,J=6.2Hz),1.3
6−1.57(3H,m),1.82−2.32(3
H,m),3.00(3H,brs),3.08−3.
17(2H,m),3.10(3H,brs),3.5
9(1H,dd,J=13.3 and 7.0H
z),4.14(1H,dd,J=7.1 and
3.1Hz),4.19(1H,quint,J=6.
2Hz),4.76−4.65(2H,m),5.24
(1H,d,J=10.2Hz),5.41(1H,
d,J=17.5Hz),5.90−6.00(1H,
m),7.29(2H,d,J=8.4Hz),7.3
4(2H,d,J=8.4Hz)。
max cm-1 : 2933,2859,1771,17
24,1624,1278,1097. 核磁気共鳴スペクトル(400MHz,CDCl3 )δ
ppm : 0.07(6H,s),0.87(9H,
s),1.22(3H,d,J=6.2Hz),1.3
6−1.57(3H,m),1.82−2.32(3
H,m),3.00(3H,brs),3.08−3.
17(2H,m),3.10(3H,brs),3.5
9(1H,dd,J=13.3 and 7.0H
z),4.14(1H,dd,J=7.1 and
3.1Hz),4.19(1H,quint,J=6.
2Hz),4.76−4.65(2H,m),5.24
(1H,d,J=10.2Hz),5.41(1H,
d,J=17.5Hz),5.90−6.00(1H,
m),7.29(2H,d,J=8.4Hz),7.3
4(2H,d,J=8.4Hz)。
【0275】施光度:[α]D 25 =+114°(C=
0.80,CHCl3 ). (2)(4R,8S,9R,10S)−4−(4−N,
N−ジメチルカルバモイルフェニル)チオメチル−10
−[(R)−1−ヒドロキシエチル]−11−オキソ−
1−アザトリシクロ[7.2.0.03,8 ]ウンデカ−
2−エン−2−カルボン酸アリル 実施例4−(1)で得られた化合物(800mg)を用
いて実施例3−(3)と同様な反応及び単離操作を行
い、標記化合物(559mg)を無色アモルファス状粉
末として得た。
0.80,CHCl3 ). (2)(4R,8S,9R,10S)−4−(4−N,
N−ジメチルカルバモイルフェニル)チオメチル−10
−[(R)−1−ヒドロキシエチル]−11−オキソ−
1−アザトリシクロ[7.2.0.03,8 ]ウンデカ−
2−エン−2−カルボン酸アリル 実施例4−(1)で得られた化合物(800mg)を用
いて実施例3−(3)と同様な反応及び単離操作を行
い、標記化合物(559mg)を無色アモルファス状粉
末として得た。
【0276】赤外線吸収スペクトル(KBr)νmax c
m-1 : 3397,2934,1770,1724,
1622,1399,1277,1098. 核磁気共鳴スペクトル(400MHz,CDCl3 )δ
ppm : 1.32(3H,d,J=6.2Hz),
1.28−1.65(3H,m),1.87−2.16
(3H,m),2.57−2.65(1H,m),2.
75−2.86(1H,m),3.00(3H,br
s),3.03−3.14(1H,m),3.11(3
H,brs),3.19(1H,dd,J=7.1 a
nd 3.0Hz),3.59(1H,dd,J=1
3.2 and 7.2Hz),4.13−4.24
(2H,m),4.60−4.77(2H,m),5.
25(1H,d,J=9.8Hz),5.41(1H,
d,J=16.9Hz),5.91−6.01(1H,
m),7.29(2H,d,J=8.5Hz),7.3
4(2H,d,J=8.5Hz)。
m-1 : 3397,2934,1770,1724,
1622,1399,1277,1098. 核磁気共鳴スペクトル(400MHz,CDCl3 )δ
ppm : 1.32(3H,d,J=6.2Hz),
1.28−1.65(3H,m),1.87−2.16
(3H,m),2.57−2.65(1H,m),2.
75−2.86(1H,m),3.00(3H,br
s),3.03−3.14(1H,m),3.11(3
H,brs),3.19(1H,dd,J=7.1 a
nd 3.0Hz),3.59(1H,dd,J=1
3.2 and 7.2Hz),4.13−4.24
(2H,m),4.60−4.77(2H,m),5.
25(1H,d,J=9.8Hz),5.41(1H,
d,J=16.9Hz),5.91−6.01(1H,
m),7.29(2H,d,J=8.5Hz),7.3
4(2H,d,J=8.5Hz)。
【0277】(3)(4R,8S,9R,10S)−4
−(4−N,N−ジメチルカルバモイルフェニル)チオ
メチル−10−[(R)−1−ヒドロキシエチル]−1
1−オキソ−1−アザトリシクロ[7.2.0.0
3,8 ]ウンデカ−2−エン−2−カルボン酸カリウム 実施例4−(2)で得られた化合物(350mg)を用
いて実施例3−(4)と同様な反応及び精製を行い目的
化合物(227mg)を標記乾燥粉末として得た。
−(4−N,N−ジメチルカルバモイルフェニル)チオ
メチル−10−[(R)−1−ヒドロキシエチル]−1
1−オキソ−1−アザトリシクロ[7.2.0.0
3,8 ]ウンデカ−2−エン−2−カルボン酸カリウム 実施例4−(2)で得られた化合物(350mg)を用
いて実施例3−(4)と同様な反応及び精製を行い目的
化合物(227mg)を標記乾燥粉末として得た。
【0278】赤外線吸収スペクトル(KBr)νmax c
m-1 : 3412,2928,1751,1626,
1596,1393,1097. 核磁気共鳴スペクトル(400MHz,D2 O)δpp
m : 1.21−1.53(3H,m),1.27
(3H,d,J=6.2Hz),1.83−2.10
(3H,m),2.53−2.60(1H,m),2.
73−2.79(1H,m),3.03(3H,s),
3.10(3H,s),3.16(1H,dd,J=1
3.3 and 7.4Hz),3.38(1H,d
d,J=6.2and 2.9Hz),3.60(1
H,dd,J=13.5 and 7.4Hz),4.
14(1H,dd,J=9.7 and 2.9H
z),4.22(1H,quint,J=6.2H
z)、7.38(2H,d,J=8.4Hz),7.4
4(2H,d,J=8.4Hz)。
m-1 : 3412,2928,1751,1626,
1596,1393,1097. 核磁気共鳴スペクトル(400MHz,D2 O)δpp
m : 1.21−1.53(3H,m),1.27
(3H,d,J=6.2Hz),1.83−2.10
(3H,m),2.53−2.60(1H,m),2.
73−2.79(1H,m),3.03(3H,s),
3.10(3H,s),3.16(1H,dd,J=1
3.3 and 7.4Hz),3.38(1H,d
d,J=6.2and 2.9Hz),3.60(1
H,dd,J=13.5 and 7.4Hz),4.
14(1H,dd,J=9.7 and 2.9H
z),4.22(1H,quint,J=6.2H
z)、7.38(2H,d,J=8.4Hz),7.4
4(2H,d,J=8.4Hz)。
【0279】実施例5 (4S,8S,9R,10S)−10−[(R)−1−
ヒドロキシエチル]−11−オキソ−4−[(S)−2
−ピロリジニル]メチルチオメチル−1−アザトリシク
ロ[7.2.0.03,8 ]ウンデカ−2−エン−2−カ
ルボン酸 [例示化合物−5の(4S)異性体]
ヒドロキシエチル]−11−オキソ−4−[(S)−2
−ピロリジニル]メチルチオメチル−1−アザトリシク
ロ[7.2.0.03,8 ]ウンデカ−2−エン−2−カ
ルボン酸 [例示化合物−5の(4S)異性体]
【0280】
【化23】
【0281】(1)(3S,4R)−4−[(2R,6
S)−6−[(S)−(1−アリルオキシカルボニル)
ピロリジン−2−イル]メチルチオメチルシクロヘキサ
ノン−2−イル]−3−[(R)−1−(t−ブチルジ
メチルシリルオキシ)エチル]アゼチジン−2−オン
(6S体)および(3S,4R)−4−[(2R,6
R)−6−[(S)−(1−アリルオキシカルボニル)
ピロリジン−2−イル]メチルチオメチルシクロヘキサ
ノン−2−イル]−3−[(R)−1−(t−ブチルジ
メチルシリルオキシ)エチル]アゼチジン−2−オン
(6R体) 参考例1−(8)で得られた化合物(980mg)と
(S)−1−アリルオキシカルボニル−2−メルカプト
メチルピロリジン(1110mg)を用いてと実施例1
−(1)と同様な反応及び単離操作を行い、標記化合物
をジアステレオマー混合物として得た。このジアステレ
オマー混合物を、高速液体クロマトグラフィー(カラ
ム:コスモシール75C18−AR 28×250m
m、アセトニトリル:水=80:20)により分取用逆
相カラムを用いて精製し、(6S)体(383mg)、
(6R)体(543mg)を無色油状物質として得た。
S)−6−[(S)−(1−アリルオキシカルボニル)
ピロリジン−2−イル]メチルチオメチルシクロヘキサ
ノン−2−イル]−3−[(R)−1−(t−ブチルジ
メチルシリルオキシ)エチル]アゼチジン−2−オン
(6S体)および(3S,4R)−4−[(2R,6
R)−6−[(S)−(1−アリルオキシカルボニル)
ピロリジン−2−イル]メチルチオメチルシクロヘキサ
ノン−2−イル]−3−[(R)−1−(t−ブチルジ
メチルシリルオキシ)エチル]アゼチジン−2−オン
(6R体) 参考例1−(8)で得られた化合物(980mg)と
(S)−1−アリルオキシカルボニル−2−メルカプト
メチルピロリジン(1110mg)を用いてと実施例1
−(1)と同様な反応及び単離操作を行い、標記化合物
をジアステレオマー混合物として得た。このジアステレ
オマー混合物を、高速液体クロマトグラフィー(カラ
ム:コスモシール75C18−AR 28×250m
m、アセトニトリル:水=80:20)により分取用逆
相カラムを用いて精製し、(6S)体(383mg)、
(6R)体(543mg)を無色油状物質として得た。
【0282】(6S)体 赤外線吸収スペクトル(neat)νmax cm-1 :
3276,2932,2858,1761,1705,
1406,837. 核磁気共鳴スペクトル(270MHz,CDCl3 )δ
ppm : 1.20(3H,d,J=6.2Hz),
1.64−2.16(10H,m),2.40−3.4
4(7H,m),3.38−3.44(2H,m),
3.88−3.97(1H,m),4.02(1H,
m),4.14−4.24(1H,m),4.57−
4.62(2H,m),5.22(2H,d,J=1
0.5Hz),5.31(2H,d,J=17.2H
z),5.87−6.02(1H,m),6.23(1
H,brs)。
3276,2932,2858,1761,1705,
1406,837. 核磁気共鳴スペクトル(270MHz,CDCl3 )δ
ppm : 1.20(3H,d,J=6.2Hz),
1.64−2.16(10H,m),2.40−3.4
4(7H,m),3.38−3.44(2H,m),
3.88−3.97(1H,m),4.02(1H,
m),4.14−4.24(1H,m),4.57−
4.62(2H,m),5.22(2H,d,J=1
0.5Hz),5.31(2H,d,J=17.2H
z),5.87−6.02(1H,m),6.23(1
H,brs)。
【0283】施光度:[α]D 25 =+13.4°(C=
0.70,CHCl3 ). (6R)体 赤外線吸収スペクトル(neat)νmax cm-1 :
3277,2931,2858,1760,1705,
1405,1105,837. 核磁気共鳴スペクトル(270MHz,CDCl3 )δ
ppm : 0.06(3H,s),0.07(3H,
s),0.87(9H,s),1.10−2.20(1
0H,m),1.23(3H,d,J=6.0Hz),
2.38−2.66(4H,m),2.82−3.04
(2H,m),2.87(1H,dd,J=4.8 a
nd 2.4Hz),3.40−3.47(2H,
m),3.92−3.98(1H,m),4.08−
4.22(2H,m),4.59(2H,m),5.2
1(1H,d,J=8.8Hz),5.31(1H,
d,J=17.2Hz),5.75(1H,brs),
5.87−6.01(1H,m)。
0.70,CHCl3 ). (6R)体 赤外線吸収スペクトル(neat)νmax cm-1 :
3277,2931,2858,1760,1705,
1405,1105,837. 核磁気共鳴スペクトル(270MHz,CDCl3 )δ
ppm : 0.06(3H,s),0.07(3H,
s),0.87(9H,s),1.10−2.20(1
0H,m),1.23(3H,d,J=6.0Hz),
2.38−2.66(4H,m),2.82−3.04
(2H,m),2.87(1H,dd,J=4.8 a
nd 2.4Hz),3.40−3.47(2H,
m),3.92−3.98(1H,m),4.08−
4.22(2H,m),4.59(2H,m),5.2
1(1H,d,J=8.8Hz),5.31(1H,
d,J=17.2Hz),5.75(1H,brs),
5.87−6.01(1H,m)。
【0284】施光度:[α]D 25 =−4.4°(C=
0.853,CHCl3 ). (2)(4S,8S,9R,10S)−4−[(S)−
(1−アリルオキシカルボニル)ピロリジン−2−イ
ル]メチルチオメチル−10−[(R)−1−(t−ブ
チルジメチルシリルオキシ)エチル]−11−オキソ−
1−アザトリシクロ[7.2.0.03,8 ]ウンデカ−
2−エン−2−カルボン酸アリル 実施例5−(1)で得られた化合物(6S)体(330
mg)を用いて実施例1−(2)と同様な反応及び単離
操作を行い、標記化合物(200mg)を無色油状物質
として得た。
0.853,CHCl3 ). (2)(4S,8S,9R,10S)−4−[(S)−
(1−アリルオキシカルボニル)ピロリジン−2−イ
ル]メチルチオメチル−10−[(R)−1−(t−ブ
チルジメチルシリルオキシ)エチル]−11−オキソ−
1−アザトリシクロ[7.2.0.03,8 ]ウンデカ−
2−エン−2−カルボン酸アリル 実施例5−(1)で得られた化合物(6S)体(330
mg)を用いて実施例1−(2)と同様な反応及び単離
操作を行い、標記化合物(200mg)を無色油状物質
として得た。
【0285】赤外線吸収スペクトル(neat)νmax
cm-1 : 2931,2858,1779,170
2,1404,1285,1136,836. 核磁気共鳴スペクトル(270MHz,CDCl3 )δ
ppm : 0.08(6H,s),0.88(9H,
s),1.11−2.05(10H,m),1.23
(3H,d,J=6.3Hz),2.37−2.54
(1H,m),2.72−2.98(4H,m),3.
16(1H,dd,J=6.4 and 3.1H
z),3.42−3.45(2H,m),3.84−
4.00(2H,m),4.10(1H,dd,J=1
0.4 and 3.1Hz),4.20(1H,qu
int,J=6.3Hz),4.57−4.81(4
H,m),5.18−5.46(4H,m),5.88
−6.01(1H,m)。
cm-1 : 2931,2858,1779,170
2,1404,1285,1136,836. 核磁気共鳴スペクトル(270MHz,CDCl3 )δ
ppm : 0.08(6H,s),0.88(9H,
s),1.11−2.05(10H,m),1.23
(3H,d,J=6.3Hz),2.37−2.54
(1H,m),2.72−2.98(4H,m),3.
16(1H,dd,J=6.4 and 3.1H
z),3.42−3.45(2H,m),3.84−
4.00(2H,m),4.10(1H,dd,J=1
0.4 and 3.1Hz),4.20(1H,qu
int,J=6.3Hz),4.57−4.81(4
H,m),5.18−5.46(4H,m),5.88
−6.01(1H,m)。
【0286】施光度:[α]D 25 =+37.2°(C=
0.790,CHCl3 ). (3)(4S,8S,9R,10S)−4−[(S)−
(1−アリルオキシカルボニル)ピロリジン−2−イ
ル]メチルチオメチル−10−[(R)−1−ヒドロキ
シエチル]−11−オキソ−1−アザトリシクロ[7.
2.0.03,8 ]ウンデカ−2−エン−2−カルボン酸
アリル 実施例5−(2)で得られた化合物(190mg)を用
いてと実施例3−(3)と同様な反応及び単離操作を行
い、標記化合物(120mg)を無色油状物質として得
た。
0.790,CHCl3 ). (3)(4S,8S,9R,10S)−4−[(S)−
(1−アリルオキシカルボニル)ピロリジン−2−イ
ル]メチルチオメチル−10−[(R)−1−ヒドロキ
シエチル]−11−オキソ−1−アザトリシクロ[7.
2.0.03,8 ]ウンデカ−2−エン−2−カルボン酸
アリル 実施例5−(2)で得られた化合物(190mg)を用
いてと実施例3−(3)と同様な反応及び単離操作を行
い、標記化合物(120mg)を無色油状物質として得
た。
【0287】核磁気共鳴スペクトル(270MHz,C
DCl3 )δppm : 1.25−2.04(10
H,m),1.32(3H,d,J=5.9Hz),
2.33−2.56(2H,m),2.69−3.13
(4H,m),3.21(1H,dd,J=6.6 a
nd 2.6Hz),3.36−3.49(2H,
m),3.86−3.97(2H,m),4.16(1
H,dd,J=10.6 and 2.6Hz),4.
18−2.29(1H,m),4.59(2H,br
m),4.68(1H,dd,J=13.2 and
5.3Hz),4.80(1H,dd,J=13.2
and 5.9Hz),5.18−5.46(4H,
m),5.87−6.02(2H,m)。
DCl3 )δppm : 1.25−2.04(10
H,m),1.32(3H,d,J=5.9Hz),
2.33−2.56(2H,m),2.69−3.13
(4H,m),3.21(1H,dd,J=6.6 a
nd 2.6Hz),3.36−3.49(2H,
m),3.86−3.97(2H,m),4.16(1
H,dd,J=10.6 and 2.6Hz),4.
18−2.29(1H,m),4.59(2H,br
m),4.68(1H,dd,J=13.2 and
5.3Hz),4.80(1H,dd,J=13.2
and 5.9Hz),5.18−5.46(4H,
m),5.87−6.02(2H,m)。
【0288】(4)(4S,8S,9R,10S)−1
0−[(R)−1−ヒドロキシエチル]−11−オキソ
−4−[(S)−2−ピロリジニル]メチルチオメチル
−1−アザトリシクロ[7.2.0.03,8 ]ウンデカ
−2−エン−2−カルボン酸 実施例5−(3)で得られた化合物(120mg)を実
施例1−(4)と同様な反応及び精製を行い、目的化合
物(71mg)を凍結乾燥粉末として得た。
0−[(R)−1−ヒドロキシエチル]−11−オキソ
−4−[(S)−2−ピロリジニル]メチルチオメチル
−1−アザトリシクロ[7.2.0.03,8 ]ウンデカ
−2−エン−2−カルボン酸 実施例5−(3)で得られた化合物(120mg)を実
施例1−(4)と同様な反応及び精製を行い、目的化合
物(71mg)を凍結乾燥粉末として得た。
【0289】赤外線吸収スペクトル(KBr)νmax c
m-1 : 3372,2928,1758,1582,
1390,1250. 核磁気共鳴スペクトル(400MHz,D2 O)δpp
m : 1.27(3H,d,J=6.4Hz),1.
28−1.38(1H,m),1.58−1.93(6
H,m),1.99−2.16(2H,m),2.13
−2.32(1H,m),2.78−2.85(2H,
m),2.94−3.01(2H,m),3.03−
3.11(1H,m),3.29−3.38(2H,
m),3.40(1H,dd,J=6.1 and
3.1Hz),3.66−3.72(1H,m),3.
74−3.83(1H,m),4.15(1H,dd,
J=10.2 and 3.1Hz),4.23(1
H,quint,J=6.4Hz)。
m-1 : 3372,2928,1758,1582,
1390,1250. 核磁気共鳴スペクトル(400MHz,D2 O)δpp
m : 1.27(3H,d,J=6.4Hz),1.
28−1.38(1H,m),1.58−1.93(6
H,m),1.99−2.16(2H,m),2.13
−2.32(1H,m),2.78−2.85(2H,
m),2.94−3.01(2H,m),3.03−
3.11(1H,m),3.29−3.38(2H,
m),3.40(1H,dd,J=6.1 and
3.1Hz),3.66−3.72(1H,m),3.
74−3.83(1H,m),4.15(1H,dd,
J=10.2 and 3.1Hz),4.23(1
H,quint,J=6.4Hz)。
【0290】実施例6 (4R,8S,9R,10S)−10−[(R)−1−
ヒドロキシエチル]−11−オキソ−4−[(S)−2
−ピロリジニル]メチルチオメチル−1−アザトリシク
ロ[7.2.0.03,8 ]ウンデカ−2−エン−2−カ
ルボン酸 [例示化合物−5の(4R)異性体]
ヒドロキシエチル]−11−オキソ−4−[(S)−2
−ピロリジニル]メチルチオメチル−1−アザトリシク
ロ[7.2.0.03,8 ]ウンデカ−2−エン−2−カ
ルボン酸 [例示化合物−5の(4R)異性体]
【0291】
【化24】
【0292】(1)(4R,8S,9R,10S)−4
−[(S)−(1−アリルオキシカルボニル)ピロリジ
ン−2−イル]メチルチオメチル−10−[(R)−
(t−ブチルジメチルシリルオキシ)エチル]−11−
オキソ−1−アザトリシクロ[7.2.0.03,8 ]ウ
ンデカ−2−エン−2−カルボン酸アリル 実施例5−(1)で得られた化合物(6R)体(500
mg)を用いて、実施例2−(1)と同様な反応及び単
離操作を行い、標記化合物(265mg)を無職油状物
質として得た。
−[(S)−(1−アリルオキシカルボニル)ピロリジ
ン−2−イル]メチルチオメチル−10−[(R)−
(t−ブチルジメチルシリルオキシ)エチル]−11−
オキソ−1−アザトリシクロ[7.2.0.03,8 ]ウ
ンデカ−2−エン−2−カルボン酸アリル 実施例5−(1)で得られた化合物(6R)体(500
mg)を用いて、実施例2−(1)と同様な反応及び単
離操作を行い、標記化合物(265mg)を無職油状物
質として得た。
【0293】赤外線吸収スペクトル(neat)νmax
cm-1 : 2930,2856,1775,170
1,1405,1279,1148,837. 核磁気共鳴スペクトル(270MHz,CDCl3 )δ
ppm : 0.07(6H,s),0.88(9H,
s),1.11−2.96(10H,m),1.22
(3H,d,J=6.2Hz),3.07−3.14
(2H,m),3.42−3.43(2H,m),3.
89−3.98(1H,m),4.08−4.21(2
H,m),4.57−4.81(4H,m),5.19
−5.44(4H,m),5.87−6.04(2H,
m)。
cm-1 : 2930,2856,1775,170
1,1405,1279,1148,837. 核磁気共鳴スペクトル(270MHz,CDCl3 )δ
ppm : 0.07(6H,s),0.88(9H,
s),1.11−2.96(10H,m),1.22
(3H,d,J=6.2Hz),3.07−3.14
(2H,m),3.42−3.43(2H,m),3.
89−3.98(1H,m),4.08−4.21(2
H,m),4.57−4.81(4H,m),5.19
−5.44(4H,m),5.87−6.04(2H,
m)。
【0294】施光度:[α]D 25 =+54.5°(C=
0.820,CHCl3 ). (2)(4R,8S,9R,10S)−4−[(S)−
(1−アリルオキシカルボニル)ピロリジン−2−イ
ル]メチルチオメチル−10−[(R)−ヒドロキシエ
チル]−11−オキソ−1−アザトリシクロ[7.2.
0.03,8 ]ウンデカ−2−エン−2−カルボン酸アリ
ル 実施例6−(1)で得られた化合物(250mg)を用
いて実施例3−(3)と同様な反応及び単離操作を行
い、標記化合物(127mg)を無色油状物質として得
た。
0.820,CHCl3 ). (2)(4R,8S,9R,10S)−4−[(S)−
(1−アリルオキシカルボニル)ピロリジン−2−イ
ル]メチルチオメチル−10−[(R)−ヒドロキシエ
チル]−11−オキソ−1−アザトリシクロ[7.2.
0.03,8 ]ウンデカ−2−エン−2−カルボン酸アリ
ル 実施例6−(1)で得られた化合物(250mg)を用
いて実施例3−(3)と同様な反応及び単離操作を行
い、標記化合物(127mg)を無色油状物質として得
た。
【0295】核磁気共鳴スペクトル(270MHz,C
DCl3 )δppm : 1.33(3H,d,J=
6.3Hz),1.24−2.18(9H,m),2.
30−2.95(5H,m),3.07−3.25
(m,2H),3.30−3.49(2H,m),3.
94(1H,m),4.17(1H,dd,J=9.9
and 2.8Hz),4.13−4.28(1H,
m),4.53−4.89(4H,m),5.18−
5.50(4H,m),5.88−6.11(2H,
m)。
DCl3 )δppm : 1.33(3H,d,J=
6.3Hz),1.24−2.18(9H,m),2.
30−2.95(5H,m),3.07−3.25
(m,2H),3.30−3.49(2H,m),3.
94(1H,m),4.17(1H,dd,J=9.9
and 2.8Hz),4.13−4.28(1H,
m),4.53−4.89(4H,m),5.18−
5.50(4H,m),5.88−6.11(2H,
m)。
【0296】(3)(4R,8S,9R,10S)−1
0−[(R)−1−ヒドロキシエチル]−11−オキソ
−4−[(S)−2−ピロリジニル]メチルチオメチル
−1−アザトリシクロ[7.2.0.03,8 ]ウンデカ
−2−エン−2−カルボン酸 実施例6−(2)で得られた化合物(120mg)を用
いて実施例1−(4)と同様な反応及び精製を行い、目
的化合物(59mg)を凍結乾燥粉末として得た。
0−[(R)−1−ヒドロキシエチル]−11−オキソ
−4−[(S)−2−ピロリジニル]メチルチオメチル
−1−アザトリシクロ[7.2.0.03,8 ]ウンデカ
−2−エン−2−カルボン酸 実施例6−(2)で得られた化合物(120mg)を用
いて実施例1−(4)と同様な反応及び精製を行い、目
的化合物(59mg)を凍結乾燥粉末として得た。
【0297】赤外線吸収スペクトル(KBr)νmax c
m-1 : 3363,2927,1758,1583,
1390. 核磁気共鳴スペクトル(400MHz,D2 O)δpp
m : 1.23−1.37(1H,m),1.27
(3H,d,J=6.2Hz),1.49−1.63
(1H,m),1.68−1.78(1H,m),1.
84−1.98(3H,m),2.04−2.15(2
H,m),2.22−2.30(1H,m),2.69
(1H,dd,J=11.8 and 5.7Hz),
2.79−2.87(1H,m),2.76(1H,d
d,J=14.6 and 10.0Hz),3.01
(1H,dd,J=14.6 and 4.5Hz),
3.28(1H,dd,J=11.8 and 9.5
Hz),3.34−3.42(3H,m),3.79−
3.87(1H,m),4.15(1H,dd,J=
9.7 and 2.9Hz),4.22(1H,qu
int,J=6.2Hz)。
m-1 : 3363,2927,1758,1583,
1390. 核磁気共鳴スペクトル(400MHz,D2 O)δpp
m : 1.23−1.37(1H,m),1.27
(3H,d,J=6.2Hz),1.49−1.63
(1H,m),1.68−1.78(1H,m),1.
84−1.98(3H,m),2.04−2.15(2
H,m),2.22−2.30(1H,m),2.69
(1H,dd,J=11.8 and 5.7Hz),
2.79−2.87(1H,m),2.76(1H,d
d,J=14.6 and 10.0Hz),3.01
(1H,dd,J=14.6 and 4.5Hz),
3.28(1H,dd,J=11.8 and 9.5
Hz),3.34−3.42(3H,m),3.79−
3.87(1H,m),4.15(1H,dd,J=
9.7 and 2.9Hz),4.22(1H,qu
int,J=6.2Hz)。
【0298】実施例7 (4S,8S,9R,10S)−4−グリシルオキシメ
チル−10−[(R)−1−ヒドロキシエチル]−11
−オキソ−1−アザトリシクロ[7.2.0.03,8 ]
ウンデカ−2−エン−2−カルボン酸 [例示化合物−1の(4S)異性体]
チル−10−[(R)−1−ヒドロキシエチル]−11
−オキソ−1−アザトリシクロ[7.2.0.03,8 ]
ウンデカ−2−エン−2−カルボン酸 [例示化合物−1の(4S)異性体]
【0299】
【化25】
【0300】(1)(4S,8S,9R,10S)−4
−アリルオキシカルボニルグリシルオキシメチル−10
−[(R)−1−(t−ブチルジメチルシリルオキシ)
エチル]−11−オキソ−1−アザトリシクロ[7.
2.0.03,8 ]ウンデカ−2−エン−2−カルボン酸
アリル 参考例2−(1)で得られた化合物(400mg)をジ
クロロメタンに溶解し、アリルオキシカルボニルグリシ
ン(161mg)、1,3−ジシクロヘキシルカルボジ
イミド(284mg)、4−ジメチルアミノピリジン
(34mg)を加え、室温で3時間、4℃で15時間反
応させた。不溶物を濾過し、濾液を集め、減圧下、溶媒
を留去した。得られた残渣を、カラムクロマトグラフィ
ー(シリカゲル40g、ヘキサン:酢酸エチル=3:2
→1:1)で精製し、標記化合物(358mg)を無色
油状物質として得た。
−アリルオキシカルボニルグリシルオキシメチル−10
−[(R)−1−(t−ブチルジメチルシリルオキシ)
エチル]−11−オキソ−1−アザトリシクロ[7.
2.0.03,8 ]ウンデカ−2−エン−2−カルボン酸
アリル 参考例2−(1)で得られた化合物(400mg)をジ
クロロメタンに溶解し、アリルオキシカルボニルグリシ
ン(161mg)、1,3−ジシクロヘキシルカルボジ
イミド(284mg)、4−ジメチルアミノピリジン
(34mg)を加え、室温で3時間、4℃で15時間反
応させた。不溶物を濾過し、濾液を集め、減圧下、溶媒
を留去した。得られた残渣を、カラムクロマトグラフィ
ー(シリカゲル40g、ヘキサン:酢酸エチル=3:2
→1:1)で精製し、標記化合物(358mg)を無色
油状物質として得た。
【0301】赤外線吸収スペクトル(neat)νmax
cm-1 : 3381,2932,2859,178
0,1723,1522,1283,1187. 核磁気共鳴スペクトル(270MHz,CDCl3 )δ
ppm : 0.08(6H,s),0.89(9H,
s),1.23(3H,d,J=6.0Hz),1.3
1−1.94(6H,m),2.95−3.09(1
H,m),3.20(1H,dd,J=6.2 and
3.3Hz),3.93(2H,d,J=5.7H
z),3.97−4.05(1H,m),4.07−
4.38(4H,m),4.58(2H,d,J=5.
7Hz),4.68(1H,dd,J=13.6 an
d 5.3Hz),4.77(1H,dd,J=13.
6 and 5.3Hz),5.19(1H,br
m),5.20−5.52(4H,m),5.83−
6.03(2H,m)。
cm-1 : 3381,2932,2859,178
0,1723,1522,1283,1187. 核磁気共鳴スペクトル(270MHz,CDCl3 )δ
ppm : 0.08(6H,s),0.89(9H,
s),1.23(3H,d,J=6.0Hz),1.3
1−1.94(6H,m),2.95−3.09(1
H,m),3.20(1H,dd,J=6.2 and
3.3Hz),3.93(2H,d,J=5.7H
z),3.97−4.05(1H,m),4.07−
4.38(4H,m),4.58(2H,d,J=5.
7Hz),4.68(1H,dd,J=13.6 an
d 5.3Hz),4.77(1H,dd,J=13.
6 and 5.3Hz),5.19(1H,br
m),5.20−5.52(4H,m),5.83−
6.03(2H,m)。
【0302】(2)(4S,8S,9R,10S)−4
−アリルオキシカルボニルグリシルオキシメチル−10
−[(R)−1−ヒドロキシエチル]−11−オキソ−
1−アザトリシクロ[7.2.0.03,8 ]ウンデカ−
2−エン−2−カルボン酸アリル 参考例2−(1)で得られた化合物(340mg)を用
いて実施例1−(3)と同様な反応及び単離操作を行
い、標記化合物(80mg)を無色油状物質として得
た。
−アリルオキシカルボニルグリシルオキシメチル−10
−[(R)−1−ヒドロキシエチル]−11−オキソ−
1−アザトリシクロ[7.2.0.03,8 ]ウンデカ−
2−エン−2−カルボン酸アリル 参考例2−(1)で得られた化合物(340mg)を用
いて実施例1−(3)と同様な反応及び単離操作を行
い、標記化合物(80mg)を無色油状物質として得
た。
【0303】核磁気共鳴スペクトル(270MHz,C
DCl3 )δppm : 1.32(3H,d,J=
6.5Hz),1.24−2.19(7H,m),3.
05−3.19(1H,m),3.24(1H,dd,
J=6.5 and 3.2Hz),3.92(2H,
d,J=5.6Hz),3.95−4.04(1H,
m),4.11−4.40(4H,m),4.59(2
H,d,J=5.5Hz),4.68(1H,dd,J
=13.3 and 5.9Hz),4.80(1H,
dd,J=13.3 and 5.3Hz),5.21
−5.49(5H,m),6.83−6.07(2H,
m)。
DCl3 )δppm : 1.32(3H,d,J=
6.5Hz),1.24−2.19(7H,m),3.
05−3.19(1H,m),3.24(1H,dd,
J=6.5 and 3.2Hz),3.92(2H,
d,J=5.6Hz),3.95−4.04(1H,
m),4.11−4.40(4H,m),4.59(2
H,d,J=5.5Hz),4.68(1H,dd,J
=13.3 and 5.9Hz),4.80(1H,
dd,J=13.3 and 5.3Hz),5.21
−5.49(5H,m),6.83−6.07(2H,
m)。
【0304】(3)(4S,8S,9R,10S)−4
−グリシルオキシメチル−10−[(R)−1−ヒドロ
キシエチル]−11−オキソ−1−アザトリシクロ
[7.2.0.03,8 ]ウンデカ−2−エン−2−カル
ボン酸 実施例7−(2)で得られた化合物(80mg)を用い
て実施例1−(4)と同様な反応及び精製を行い、目的
化合物(19mg)を凍結乾燥粉末として得た。
−グリシルオキシメチル−10−[(R)−1−ヒドロ
キシエチル]−11−オキソ−1−アザトリシクロ
[7.2.0.03,8 ]ウンデカ−2−エン−2−カル
ボン酸 実施例7−(2)で得られた化合物(80mg)を用い
て実施例1−(4)と同様な反応及び精製を行い、目的
化合物(19mg)を凍結乾燥粉末として得た。
【0305】赤外線吸収スペクトル(KBr)νmax c
m-1 : 3409,2933,1751,1591,
1396,1223. 核磁気共鳴スペクトル(400MHz,D2 O)δpp
m : 1.08(3H,d,J=6.4Hz),1.
05−1.77(6H,m),2.96−3.03(1
H,m),3.27(1H,dd,J=5.9 and
3.2Hz),3.57−3.62(1H,m),
3.68(2H,s),3.98(1H,dd,J=1
0.3 and 3.2Hz),4.04(1H,qu
int,J=6.4Hz),4.16(1H,dd,J
=10.8 and 5.4Hz),4.40(1H,
t,J=10.8Hz)。
m-1 : 3409,2933,1751,1591,
1396,1223. 核磁気共鳴スペクトル(400MHz,D2 O)δpp
m : 1.08(3H,d,J=6.4Hz),1.
05−1.77(6H,m),2.96−3.03(1
H,m),3.27(1H,dd,J=5.9 and
3.2Hz),3.57−3.62(1H,m),
3.68(2H,s),3.98(1H,dd,J=1
0.3 and 3.2Hz),4.04(1H,qu
int,J=6.4Hz),4.16(1H,dd,J
=10.8 and 5.4Hz),4.40(1H,
t,J=10.8Hz)。
【0306】実施例8 (4S,8S,9R,10S)−4−β−アラニルオキ
シメチル−10−[(R)−1−ヒドロキシエチル]−
11−オキソ−1−アザトリシクロ[7.2.0.0
3,8 ]ウンデカ−2−エン−2−カルボン酸[例示化合
物−6の(4S)異性体]
シメチル−10−[(R)−1−ヒドロキシエチル]−
11−オキソ−1−アザトリシクロ[7.2.0.0
3,8 ]ウンデカ−2−エン−2−カルボン酸[例示化合
物−6の(4S)異性体]
【0307】
【化26】
【0308】(1)(4S,8S,9R,10S)−4
−アリルオキシカルボニル−β−アラニルオキシメチル
−10−[(R)−1−(t−ブチルジメチルシリルオ
キシ)エチル]−11−オキソ−1−アザトリシクロ
[7.2.0.03,8 ]ウンデカ−2−エン−2−カル
ボン酸アリル 参考例2−(2)で得られた化合物(600mg)とア
リルオキシカルボニル−β−アラニンを用いて実施例7
−(1)と同様な反応及び単離操作を行い、標記化合物
(532mg)を無色油状物質として得た。
−アリルオキシカルボニル−β−アラニルオキシメチル
−10−[(R)−1−(t−ブチルジメチルシリルオ
キシ)エチル]−11−オキソ−1−アザトリシクロ
[7.2.0.03,8 ]ウンデカ−2−エン−2−カル
ボン酸アリル 参考例2−(2)で得られた化合物(600mg)とア
リルオキシカルボニル−β−アラニンを用いて実施例7
−(1)と同様な反応及び単離操作を行い、標記化合物
(532mg)を無色油状物質として得た。
【0309】赤外線吸収スペクトル(neat)νmax
cm-1 : 3385,2932,2858,178
0,1724,1521,1284. 核磁気共鳴スペクトル(270MHz,CDCl3 )δ
ppm : 0.08(6H,s),0.88(9H,
s),1.24(3H,d,J=6.2Hz),1.2
1−1.92(6H,m),2.51(2H,t,J=
6.1Hz),2.98−3.10(1H,m),3.
19(1H,dd,J=6.3 and3.3Hz),
3.42(2H,dt,J=6.3 and 6.1H
z),3.93−4.05(1H,m),4.07−
4.32(4H,m),4.55(2H,d,J=5.
3Hz),4.68(1H,dd,J=13.4 an
d5.7Hz),4.77(1H,dd,J=13.4
and 5.3Hz),5.18−5.48(5H,
m),5.87−6.03(2H,m)。
cm-1 : 3385,2932,2858,178
0,1724,1521,1284. 核磁気共鳴スペクトル(270MHz,CDCl3 )δ
ppm : 0.08(6H,s),0.88(9H,
s),1.24(3H,d,J=6.2Hz),1.2
1−1.92(6H,m),2.51(2H,t,J=
6.1Hz),2.98−3.10(1H,m),3.
19(1H,dd,J=6.3 and3.3Hz),
3.42(2H,dt,J=6.3 and 6.1H
z),3.93−4.05(1H,m),4.07−
4.32(4H,m),4.55(2H,d,J=5.
3Hz),4.68(1H,dd,J=13.4 an
d5.7Hz),4.77(1H,dd,J=13.4
and 5.3Hz),5.18−5.48(5H,
m),5.87−6.03(2H,m)。
【0310】(2)(4S,8S,9R,10S)−4
−アリルオキシカルボニル−β−アラニルオキシメチル
−10−[(R)−1−ヒドロキシエチル]−11−オ
キソ−1−アザトリシクロ[7.2.0.03,8 ]ウン
デカ−2−エン−2−カルボン酸アリル 実施例8−(1)で得られた化合物(510mg)を用
いて実施例1−(3)と同様な反応及び単離操作を行
い、標記化合物(137mg)を無色油状物質として得
た。
−アリルオキシカルボニル−β−アラニルオキシメチル
−10−[(R)−1−ヒドロキシエチル]−11−オ
キソ−1−アザトリシクロ[7.2.0.03,8 ]ウン
デカ−2−エン−2−カルボン酸アリル 実施例8−(1)で得られた化合物(510mg)を用
いて実施例1−(3)と同様な反応及び単離操作を行
い、標記化合物(137mg)を無色油状物質として得
た。
【0311】赤外線吸収スペクトル(CHCl3 )ν
max cm-1 : 3453,2940,1774,17
20,1763,1514. 核磁気共鳴スペクトル(270MHz,CDCl3 )δ
ppm : 1.32(3H,d,J=6.1Hz),
1.24−2.19(7H,m),2.50(2H,
t,J=6.0Hz),3.03−3.18(1H,
m),3.24(1H,dd,J=6.5 and
3.2Hz),3.42(2H,dt,J=6.1 a
nd 6.0Hz),3.95−4.09(1H,
m),4.12−4.35(4H,m),4.56(2
H,d,J=5.6Hz),4.68(1H,dd,J
=13.7 and 5.4Hz),4.80(1H,
dd,J=13.7 and 8.3Hz),5.17
−5.48(5H,m),5.82−6.06(2H,
m)。
max cm-1 : 3453,2940,1774,17
20,1763,1514. 核磁気共鳴スペクトル(270MHz,CDCl3 )δ
ppm : 1.32(3H,d,J=6.1Hz),
1.24−2.19(7H,m),2.50(2H,
t,J=6.0Hz),3.03−3.18(1H,
m),3.24(1H,dd,J=6.5 and
3.2Hz),3.42(2H,dt,J=6.1 a
nd 6.0Hz),3.95−4.09(1H,
m),4.12−4.35(4H,m),4.56(2
H,d,J=5.6Hz),4.68(1H,dd,J
=13.7 and 5.4Hz),4.80(1H,
dd,J=13.7 and 8.3Hz),5.17
−5.48(5H,m),5.82−6.06(2H,
m)。
【0312】(3)(4S,8S,9R,10S)−4
−β−アラニルオキシメチル−10−[(R)−1−ヒ
ドロキシエチル]−11−オキソ−1−アザトリシクロ
[7.2.0.03,8 ]ウンデカ−2−エン−2−カル
ボン酸 実施例8−(2)で得られた化合物(130mg)を用
いて実施例1−(4)と同様な反応及び精製を行い、目
的化合物(46mg)を凍結乾燥粉末として得た。
−β−アラニルオキシメチル−10−[(R)−1−ヒ
ドロキシエチル]−11−オキソ−1−アザトリシクロ
[7.2.0.03,8 ]ウンデカ−2−エン−2−カル
ボン酸 実施例8−(2)で得られた化合物(130mg)を用
いて実施例1−(4)と同様な反応及び精製を行い、目
的化合物(46mg)を凍結乾燥粉末として得た。
【0313】赤外線吸収スペクトル(KBr)νmax c
m-1 : 3385,2932,1737,1578,
1396,1207. 核磁気共鳴スペクトル(400MHz,D2 O)δpp
m : 1.27(3H,d,J=6.4Hz),1.
36−1.95(6H,m),2.76(2H,t,J
=6.9Hz),3.12−3.23(1H,m),
3.25(2H,t,J=6.9Hz),3.45(1
H,dd,J=5.8 and 3.3Hz),3.7
4−3.83(1H,m),4.16(1H,dd,J
=10.4and 3.3Hz),4.19−4.29
(2H,m),4.50(1H,t,J=10.7H
z)。
m-1 : 3385,2932,1737,1578,
1396,1207. 核磁気共鳴スペクトル(400MHz,D2 O)δpp
m : 1.27(3H,d,J=6.4Hz),1.
36−1.95(6H,m),2.76(2H,t,J
=6.9Hz),3.12−3.23(1H,m),
3.25(2H,t,J=6.9Hz),3.45(1
H,dd,J=5.8 and 3.3Hz),3.7
4−3.83(1H,m),4.16(1H,dd,J
=10.4and 3.3Hz),4.19−4.29
(2H,m),4.50(1H,t,J=10.7H
z)。
【0314】実施例9 (4S,8S,9R,10S)−4−N−ベンジルアミ
ノメチル−10−[(R)−1−ヒドロキシエチル]−
11−オキソ−1−アザトリシクロ[7.2.0.0
3,8 ]ウンデカ−2−エン−2−カルボン酸 [例示化合物−15の(4S)異性体]
ノメチル−10−[(R)−1−ヒドロキシエチル]−
11−オキソ−1−アザトリシクロ[7.2.0.0
3,8 ]ウンデカ−2−エン−2−カルボン酸 [例示化合物−15の(4S)異性体]
【0315】
【化27】
【0316】(1)(4S,8S,9R,10S)−1
0−[(R)−1−(t−ブチルジメチルシリルオキ
シ)エチル]−4−ホルミル−11−オキソ−1−アザ
トリシクロ[7.2.0.03,8 ]ウンデカ−2−エン
−2−カルボン酸アリル オキザリルクロリド(873mg)をジクロロメタン
(30ml)に溶解し、−75℃でジメチルスルホキシ
ド(1.08g)のジクロロメタン溶液(2ml)を滴
下し、30分撹拌した。次いで、参考例2−(2)で得
られた化合物(1.20g)をジクロロメタン(5m
l)に溶解し、−75℃で滴下し、1時間撹拌後−60
℃でジイソプロピルエチルアミン(2.84g)を加え
1.5時間かけて−30℃まで昇温した。飽和塩化アン
モニウム水溶液を加え、酢酸エチル(50ml×3)で
抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナト
リウムで乾燥後、減圧下、溶媒を留去した。得られた残
渣をカラムクロマトグラフィー(シリカゲル60g、ヘ
キサン:酢酸エチル=4:1→3:1)で精製し、標記
化合物(960mg)を無色油状物質として得た。
0−[(R)−1−(t−ブチルジメチルシリルオキ
シ)エチル]−4−ホルミル−11−オキソ−1−アザ
トリシクロ[7.2.0.03,8 ]ウンデカ−2−エン
−2−カルボン酸アリル オキザリルクロリド(873mg)をジクロロメタン
(30ml)に溶解し、−75℃でジメチルスルホキシ
ド(1.08g)のジクロロメタン溶液(2ml)を滴
下し、30分撹拌した。次いで、参考例2−(2)で得
られた化合物(1.20g)をジクロロメタン(5m
l)に溶解し、−75℃で滴下し、1時間撹拌後−60
℃でジイソプロピルエチルアミン(2.84g)を加え
1.5時間かけて−30℃まで昇温した。飽和塩化アン
モニウム水溶液を加え、酢酸エチル(50ml×3)で
抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナト
リウムで乾燥後、減圧下、溶媒を留去した。得られた残
渣をカラムクロマトグラフィー(シリカゲル60g、ヘ
キサン:酢酸エチル=4:1→3:1)で精製し、標記
化合物(960mg)を無色油状物質として得た。
【0317】赤外線吸収スペクトル(neat)νmax
cm-1 : 2932,2858,1781,172
0,1285,1143. 核磁気共鳴スペクトル(270MHz,CDCl3 )δ
ppm : 0.08(6H,s),0.88(9H,
s),1.25(3H,d,J=6.2Hz),1.2
0−1.91(6H,m),2.40(1H,brd,
J=13.3Hz),2.89−3.08(1H,
m),3.20(1H,dd,J=6.3and 3.
4Hz),4.17−4.29(2H,m),4.62
(1H,d,J=4.5Hz),4.69(1H,d
d,J=13.7 and 5.8Hz),4.78
(1H,dd,J=13.7 and 5.3Hz),
5.27(1H,d,J=10.5Hz),5.44
(1H,d,J=17.2Hz),5.88−6.04
(1H,m)。
cm-1 : 2932,2858,1781,172
0,1285,1143. 核磁気共鳴スペクトル(270MHz,CDCl3 )δ
ppm : 0.08(6H,s),0.88(9H,
s),1.25(3H,d,J=6.2Hz),1.2
0−1.91(6H,m),2.40(1H,brd,
J=13.3Hz),2.89−3.08(1H,
m),3.20(1H,dd,J=6.3and 3.
4Hz),4.17−4.29(2H,m),4.62
(1H,d,J=4.5Hz),4.69(1H,d
d,J=13.7 and 5.8Hz),4.78
(1H,dd,J=13.7 and 5.3Hz),
5.27(1H,d,J=10.5Hz),5.44
(1H,d,J=17.2Hz),5.88−6.04
(1H,m)。
【0318】施光度:[α]D 25 =+165.6°(C
=0.765,CHCl3 ). (2)(4S,8S,9R,10S)−4−(N−アリ
ルオキシカルボニル−N−ベンジル)アミノメチル−1
0−[(R)−1−(t−ブチルジメチルシリルオキ
シ)エチル]−11−オキソ−1−アザトリシクロ
[7.2.0.03,8]ウンデカ−2−エン−2−カル
ボン酸アリル 実施例9−(1)で得られた化合物(600mg)をメ
タノール(10ml)に溶解し、ベンジルアミン(16
3mg)、無水硫酸マグネシウムを加え1時間撹拌し
た。氷冷下、シアノ水素化ホウ素ナトリウム(96m
g)を加えさらに1時間撹拌した。反応液にDMF(1
0ml)を加え、減圧下メタノールを留去し、氷冷下ク
ロロギ酸アリル(333mg)、トリエチルアミン(2
79mg)を加え、30分撹拌した。反応液に、飽和塩
化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチル(50ml×
3)で抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸
ナトリウムで乾燥後、減圧下、溶媒を留去した。得られ
た残渣をカラムクロマトグラフィー(シリカゲル40
g、ヘキサン:酢酸エチル=3:1)で精製し、標記化
合物と、N−アリルオキシカルボニル−N−ベンジルア
ミンとの混合物(530mg)を得た。
=0.765,CHCl3 ). (2)(4S,8S,9R,10S)−4−(N−アリ
ルオキシカルボニル−N−ベンジル)アミノメチル−1
0−[(R)−1−(t−ブチルジメチルシリルオキ
シ)エチル]−11−オキソ−1−アザトリシクロ
[7.2.0.03,8]ウンデカ−2−エン−2−カル
ボン酸アリル 実施例9−(1)で得られた化合物(600mg)をメ
タノール(10ml)に溶解し、ベンジルアミン(16
3mg)、無水硫酸マグネシウムを加え1時間撹拌し
た。氷冷下、シアノ水素化ホウ素ナトリウム(96m
g)を加えさらに1時間撹拌した。反応液にDMF(1
0ml)を加え、減圧下メタノールを留去し、氷冷下ク
ロロギ酸アリル(333mg)、トリエチルアミン(2
79mg)を加え、30分撹拌した。反応液に、飽和塩
化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチル(50ml×
3)で抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸
ナトリウムで乾燥後、減圧下、溶媒を留去した。得られ
た残渣をカラムクロマトグラフィー(シリカゲル40
g、ヘキサン:酢酸エチル=3:1)で精製し、標記化
合物と、N−アリルオキシカルボニル−N−ベンジルア
ミンとの混合物(530mg)を得た。
【0319】(3)(4S,8S,9R,10S)−4
−(N−アリルオキシカルボニル−N−ベンジル)アミ
ノメチル−10−[(R)−1−ヒドロキシエチル]−
11−オキソ−1−アザトリシクロ[7.2.0.0
3,8 ]ウンデカ−2−エン−2−カルボン酸アリル 実施例9−(2)で得られた混合物(530mg)を用
いて実施例3−(3)と同様な反応及び単離操作を行
い、標記化合物(98mg)を無色油状物質として得
た。
−(N−アリルオキシカルボニル−N−ベンジル)アミ
ノメチル−10−[(R)−1−ヒドロキシエチル]−
11−オキソ−1−アザトリシクロ[7.2.0.0
3,8 ]ウンデカ−2−エン−2−カルボン酸アリル 実施例9−(2)で得られた混合物(530mg)を用
いて実施例3−(3)と同様な反応及び単離操作を行
い、標記化合物(98mg)を無色油状物質として得
た。
【0320】核磁気共鳴スペクトル(270MHz,C
DCl3 )δppm : 1.31(3H,d,J=
6.1Hz),1.21−2.05(6H,m),3.
02−3.18(1H,m),3.21(1H,dd,
J=6.5 and 3.2Hz),3.81−4.3
2(6H,m),4.48−4.87(4H,m),
5.14−5.34(2H,m),5.23(1H,
d,J=11.8Hz),5.46(1H,d,J=1
7.2Hz),5.75−6.09(2H,m),7.
17−7.39(5H,m)。
DCl3 )δppm : 1.31(3H,d,J=
6.1Hz),1.21−2.05(6H,m),3.
02−3.18(1H,m),3.21(1H,dd,
J=6.5 and 3.2Hz),3.81−4.3
2(6H,m),4.48−4.87(4H,m),
5.14−5.34(2H,m),5.23(1H,
d,J=11.8Hz),5.46(1H,d,J=1
7.2Hz),5.75−6.09(2H,m),7.
17−7.39(5H,m)。
【0321】(4)(4S,8S,9R,10S)−4
−N−ベンジルアミノメチル−10−[(R)−1−ヒ
ドロキシエチル]−11−オキソ−1−アザトリシクロ
[7.2.0.03,8 ]ウンデカ−2−エン−2−カル
ボン酸 実施例9−(3)で得られた化合物(90mg)を用い
て実施例1−(4)と同様な反応及び精製を行い、目的
化合物(24mg)を凍結乾燥粉末として得た。
−N−ベンジルアミノメチル−10−[(R)−1−ヒ
ドロキシエチル]−11−オキソ−1−アザトリシクロ
[7.2.0.03,8 ]ウンデカ−2−エン−2−カル
ボン酸 実施例9−(3)で得られた化合物(90mg)を用い
て実施例1−(4)と同様な反応及び精製を行い、目的
化合物(24mg)を凍結乾燥粉末として得た。
【0322】赤外線吸収スペクトル(KBr)νmax c
m-1 : 3455,2933,1762,1574,
1393. 核磁気共鳴スペクトル(400MHz,D2 O)δpp
m : 1.07(3H,d,J=6.4Hz),1.
01−1.71(6H,m),2.73−2.81(1
H,m),3.04(1H,dd,J=13.2 an
d 4.9Hz),3.18−3.24(2H,m),
3.69−3.76(1H,m),3.99(1H,d
d,J=10.8 and 2.9Hz),4.00
(1H,d,J=13.2Hz),4.03(1H,q
uint,J=6.4Hz),4.10(1H,d,J
=13.2Hz),7.24−7.38(5H,m)。
m-1 : 3455,2933,1762,1574,
1393. 核磁気共鳴スペクトル(400MHz,D2 O)δpp
m : 1.07(3H,d,J=6.4Hz),1.
01−1.71(6H,m),2.73−2.81(1
H,m),3.04(1H,dd,J=13.2 an
d 4.9Hz),3.18−3.24(2H,m),
3.69−3.76(1H,m),3.99(1H,d
d,J=10.8 and 2.9Hz),4.00
(1H,d,J=13.2Hz),4.03(1H,q
uint,J=6.4Hz),4.10(1H,d,J
=13.2Hz),7.24−7.38(5H,m)。
【0323】実施例10 (4S,8S,9R,10S)−10−[(R)−1−
ヒドロキシエチル]−4−[N−(4−ピコリル)アミ
ノメチル]−11−オキソ−1−アザトリシクロ[7.
2.0.03,8 ]ウンデカ−2−エン−2−カルボン酸 [例示化合物−23の(4S)異性体]
ヒドロキシエチル]−4−[N−(4−ピコリル)アミ
ノメチル]−11−オキソ−1−アザトリシクロ[7.
2.0.03,8 ]ウンデカ−2−エン−2−カルボン酸 [例示化合物−23の(4S)異性体]
【0324】
【化28】
【0325】(1)(4S,8S,9R,10S)−4
−[N−アリルオキシカルボニル−N−(4−ピコリ
ル)アミノメチル]−10−[(R)−1−(t−ブチ
ルジメチルシリルオキシ)エチル]−11−オキソ−1
−アザトリシクロ[7.2.0.03,8 ]ウンデカ−2
−エン−2−カルボン酸アリル 実施例9−(1)で得られた化合物(300mg)と4
−ピコリルアミン(94mg)を用いて実施例9−
(2)と同様の反応及び単離操作を行い、標記化合物
(131mg)を無色油状物質として得た。
−[N−アリルオキシカルボニル−N−(4−ピコリ
ル)アミノメチル]−10−[(R)−1−(t−ブチ
ルジメチルシリルオキシ)エチル]−11−オキソ−1
−アザトリシクロ[7.2.0.03,8 ]ウンデカ−2
−エン−2−カルボン酸アリル 実施例9−(1)で得られた化合物(300mg)と4
−ピコリルアミン(94mg)を用いて実施例9−
(2)と同様の反応及び単離操作を行い、標記化合物
(131mg)を無色油状物質として得た。
【0326】核磁気共鳴スペクトル(270MHz,C
DCl3 )δppm : 0.08(6H,s),0.
89(9H,s),1.22(3H,d,J=7.2H
z),1.30−1.94(6H,m),3.01−
3.38(2H,m),3.89−4.28(3H,
m),4.42−4.88(5H,m),5.13−
5.45(3H,m),5.47(1H,d,J=1
7.2Hz),5.71−6.06(2H,m),7.
52(2H,dd,J=15.9Hz,J=6.0H
z),8.53(2H,brm). (2)(4S,8S,9R,10S)−4−[N−アリ
ルオキシカルボニル−N−(4−ピコリル)アミノメチ
ル]−10−[(R)−1−ヒドロキシエチル]−11
−オキソ−1−アザトリシクロ[7.2.0.03,8 ]
ウンデカ−2−エン−2−カルボン酸アリル 実施例10−(1)で得られた化合物(160mg)を
用いて実施例3−(3)と同様な反応及び単離操作を行
い、標記化合物(95mg)を無色油状物質として得
た。
DCl3 )δppm : 0.08(6H,s),0.
89(9H,s),1.22(3H,d,J=7.2H
z),1.30−1.94(6H,m),3.01−
3.38(2H,m),3.89−4.28(3H,
m),4.42−4.88(5H,m),5.13−
5.45(3H,m),5.47(1H,d,J=1
7.2Hz),5.71−6.06(2H,m),7.
52(2H,dd,J=15.9Hz,J=6.0H
z),8.53(2H,brm). (2)(4S,8S,9R,10S)−4−[N−アリ
ルオキシカルボニル−N−(4−ピコリル)アミノメチ
ル]−10−[(R)−1−ヒドロキシエチル]−11
−オキソ−1−アザトリシクロ[7.2.0.03,8 ]
ウンデカ−2−エン−2−カルボン酸アリル 実施例10−(1)で得られた化合物(160mg)を
用いて実施例3−(3)と同様な反応及び単離操作を行
い、標記化合物(95mg)を無色油状物質として得
た。
【0327】核磁気共鳴スペクトル(270MHz,C
DCl3 )δppm : 1.38(3H,d,J=
6.0Hz),1.58−1.89(6H,m),3.
34(1H,d,J=7.2Hz),3.25−3.4
2(1H,m),3.61−3.98(3H,m),
4.30−4.47(2H,m),4.56(1H,
d,J=5.6Hz),4.91−5.05(1H,
m),5.22−5.38(4H,m),5.62−
5.78(1H,m),5.81−6.01(1H,
m),7.32−7.39(1H,m),7.52−
7.61(1H,m),8.40−8.51(2H,
m)。
DCl3 )δppm : 1.38(3H,d,J=
6.0Hz),1.58−1.89(6H,m),3.
34(1H,d,J=7.2Hz),3.25−3.4
2(1H,m),3.61−3.98(3H,m),
4.30−4.47(2H,m),4.56(1H,
d,J=5.6Hz),4.91−5.05(1H,
m),5.22−5.38(4H,m),5.62−
5.78(1H,m),5.81−6.01(1H,
m),7.32−7.39(1H,m),7.52−
7.61(1H,m),8.40−8.51(2H,
m)。
【0328】(3)(4S,8S,9R,10S)−1
0−[(R)−1−ヒドロキシエチル]−4−[N−
(4−ピコリル)アミノメチル]−11−オキソ−1−
アザトリシクロ[7.2.0.03,8 ]ウンデカ−2−
エン−2−カルボン酸 実施例10−(2)で得られた化合物(90mg)を用
いて実施例1−(4)と同様な反応及び精製を行った。
水溶液から析出した結晶を濾過することにより、結晶状
の目的化合物(22mg)を得た。
0−[(R)−1−ヒドロキシエチル]−4−[N−
(4−ピコリル)アミノメチル]−11−オキソ−1−
アザトリシクロ[7.2.0.03,8 ]ウンデカ−2−
エン−2−カルボン酸 実施例10−(2)で得られた化合物(90mg)を用
いて実施例1−(4)と同様な反応及び精製を行った。
水溶液から析出した結晶を濾過することにより、結晶状
の目的化合物(22mg)を得た。
【0329】赤外線吸収スペクトル(KBr)νmax c
m-1 : 3430,2934,2415,1752,
1636,1446,1388,1297,1108. 核磁気共鳴スペクトル(400MHz,D2 O)δpp
m : 0.81−0.94(1H,m),1.19
(3H,d,J=6.6Hz),1.14−1.72
(5H,m),2.29−2.38(1H,m),2.
88−2.98(2H,m),3.11(2H,dd,
J=10.3 and 9.5Hz),3.22(2
H,t,J=8.8Hz),3.97−4.09(1
H,m),4.17(1H,d,J=2.9Hz),
4.99(1H,d,J=5.1Hz),7.76(2
H,d,J=6.1Hz),8.44(2H,d,J=
6.1Hz) 実施例11 (4R,8S,9R,10S)−10−[(R)−1−
ヒドロキシエチル]−4−[N−シクロプロピルアミノ
メチル]−11−オキソ−1−アザトリシクロ[7.
2.0.03,8 ]ウンデカ−2−エン−2−カルボン酸
[例示化合物−131の(4R)異性体]
m-1 : 3430,2934,2415,1752,
1636,1446,1388,1297,1108. 核磁気共鳴スペクトル(400MHz,D2 O)δpp
m : 0.81−0.94(1H,m),1.19
(3H,d,J=6.6Hz),1.14−1.72
(5H,m),2.29−2.38(1H,m),2.
88−2.98(2H,m),3.11(2H,dd,
J=10.3 and 9.5Hz),3.22(2
H,t,J=8.8Hz),3.97−4.09(1
H,m),4.17(1H,d,J=2.9Hz),
4.99(1H,d,J=5.1Hz),7.76(2
H,d,J=6.1Hz),8.44(2H,d,J=
6.1Hz) 実施例11 (4R,8S,9R,10S)−10−[(R)−1−
ヒドロキシエチル]−4−[N−シクロプロピルアミノ
メチル]−11−オキソ−1−アザトリシクロ[7.
2.0.03,8 ]ウンデカ−2−エン−2−カルボン酸
[例示化合物−131の(4R)異性体]
【0330】
【化29】
【0331】(1)(3S,4R)−4−[(2R,6
S)−6−(N−アリルオキシカルボニル−N−シクロ
プロピルアミノメチル)シクロヘキサノン−2−イル]
−3−[(R)−1−(t−ブチルジメチルシリルオキ
シ)エチル]アゼチジン−2−オン 参考例1−(8)で得られた化合物(1.00g)をテ
トラヒドロフラン(15ml)に溶解し、氷冷下、トリ
エチルアミン(364mg)、塩化メタンスルホニル
(378mg)を加え、10分間攪拌した。反応液をろ
過し、不溶物を除去した後、濾液を濃縮することにより
メタンスルホン酸エステル中間体を得た。得られたメタ
ンスルホン酸エステル中間体をジメチルホルムアミド
(20ml)に溶解し、シクロプロピルアミン(514
mg)、トリエチルアミン(364mg)を加え、60
℃で2.5時間撹拌した。反応液を0℃に冷却し、クロ
ロギ酸アリル(1.08g)、トリエチルアミン(91
0mg)を加え、しばらく攪拌した後、pH7リン酸緩
衝液を加えた。酢酸エチル(100ml×4)で抽出
後、有機層を飽和食塩水で洗い、無水硫酸ナトリウムで
乾燥後、減圧下、溶媒を留去した。得られた残渣をカラ
ムクロマトグラフィー(シリカゲル100g、ヘキサ
ン:酢酸エチル=1:4→1:1)で精製し、標記化合
物(427mg)を油状物質として得た。
S)−6−(N−アリルオキシカルボニル−N−シクロ
プロピルアミノメチル)シクロヘキサノン−2−イル]
−3−[(R)−1−(t−ブチルジメチルシリルオキ
シ)エチル]アゼチジン−2−オン 参考例1−(8)で得られた化合物(1.00g)をテ
トラヒドロフラン(15ml)に溶解し、氷冷下、トリ
エチルアミン(364mg)、塩化メタンスルホニル
(378mg)を加え、10分間攪拌した。反応液をろ
過し、不溶物を除去した後、濾液を濃縮することにより
メタンスルホン酸エステル中間体を得た。得られたメタ
ンスルホン酸エステル中間体をジメチルホルムアミド
(20ml)に溶解し、シクロプロピルアミン(514
mg)、トリエチルアミン(364mg)を加え、60
℃で2.5時間撹拌した。反応液を0℃に冷却し、クロ
ロギ酸アリル(1.08g)、トリエチルアミン(91
0mg)を加え、しばらく攪拌した後、pH7リン酸緩
衝液を加えた。酢酸エチル(100ml×4)で抽出
後、有機層を飽和食塩水で洗い、無水硫酸ナトリウムで
乾燥後、減圧下、溶媒を留去した。得られた残渣をカラ
ムクロマトグラフィー(シリカゲル100g、ヘキサ
ン:酢酸エチル=1:4→1:1)で精製し、標記化合
物(427mg)を油状物質として得た。
【0332】赤外線吸収スペクトル(neat)νmax cm-1:3
275,2933,2858,1757,1707,1408,1253,1145,836,776. 核磁気共鳴スペクトル(400MHz,CDCl3)δppm:0.06(3H,
s),0.07(3H,s),0.57-0.94(4H,m),0.87(9H,s),1.23(3H,
d,J=6.2Hz),1.28-1.44(1H,m),1.56-1.67(1H,m),1.70-1.
84(1H,m),1.96-2.04(1H,m),2.23-2.60(2H,m),2.52-2.63
(2H,m),2.78-2.96(1H,m),2.86(1H,dd,J=4.9,2.4Hz),3.3
1(1H,dd,J=14.3,8.3Hz),3.58(1H,dd,J=14.3,5.3Hz),4.0
7-4.11(1H,m),4.20(1H,qd,J=6.2,4.9Hz),4.59(2H,d,J=
5.3Hz),5.21(1H,d,J=10.2Hz),5.32(1H,d,J=17.1Hz),5.7
1(1H,brs),6.00-5.88(1H,m). (2)(4R,8R,9R,10S)−4−[N−アリ
ルオキシカルボニル−N−シクロプロピルアミノメチ
ル]−10−[(R)−1−(t−ブチルジメチルシリ
ルオキシ)エチル]−11−オキソ−1−アザトリシク
ロ[7.2.0.03,8 ]ウンデカ−2−エン−2−カ
ルボン酸アリル 実施例11−(1)で得られた化合物(410mg)を
ジクロロメタン(10ml)に溶解し、氷冷下、トリエ
チルアミン(173mg)、塩化アリルオキザリル(2
29mg)を加え、10分間攪拌した。反応液に酢酸エ
チル100mlを加え、水、重曹水、飽和食塩水で順次
有機層を洗った後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧
下、溶媒を留去した。得られた残渣を、カラムクロマト
グラフィー(シリカゲル 10g、ヘキサン:酢酸エチ
ル=1:2)で精製し、中間体(437mg)を得た。
このものをメシチレン(8ml)に溶解し、180℃で
4時間反応させた。反応液を濃縮後、得られた残渣をカ
ラムクロマトグラフィー(シリカゲル 25g、ヘキサ
ン:酢酸エチル=10:1→5:1)で精製し、表記化
合物(141mg)を油状物質として得た。
275,2933,2858,1757,1707,1408,1253,1145,836,776. 核磁気共鳴スペクトル(400MHz,CDCl3)δppm:0.06(3H,
s),0.07(3H,s),0.57-0.94(4H,m),0.87(9H,s),1.23(3H,
d,J=6.2Hz),1.28-1.44(1H,m),1.56-1.67(1H,m),1.70-1.
84(1H,m),1.96-2.04(1H,m),2.23-2.60(2H,m),2.52-2.63
(2H,m),2.78-2.96(1H,m),2.86(1H,dd,J=4.9,2.4Hz),3.3
1(1H,dd,J=14.3,8.3Hz),3.58(1H,dd,J=14.3,5.3Hz),4.0
7-4.11(1H,m),4.20(1H,qd,J=6.2,4.9Hz),4.59(2H,d,J=
5.3Hz),5.21(1H,d,J=10.2Hz),5.32(1H,d,J=17.1Hz),5.7
1(1H,brs),6.00-5.88(1H,m). (2)(4R,8R,9R,10S)−4−[N−アリ
ルオキシカルボニル−N−シクロプロピルアミノメチ
ル]−10−[(R)−1−(t−ブチルジメチルシリ
ルオキシ)エチル]−11−オキソ−1−アザトリシク
ロ[7.2.0.03,8 ]ウンデカ−2−エン−2−カ
ルボン酸アリル 実施例11−(1)で得られた化合物(410mg)を
ジクロロメタン(10ml)に溶解し、氷冷下、トリエ
チルアミン(173mg)、塩化アリルオキザリル(2
29mg)を加え、10分間攪拌した。反応液に酢酸エ
チル100mlを加え、水、重曹水、飽和食塩水で順次
有機層を洗った後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧
下、溶媒を留去した。得られた残渣を、カラムクロマト
グラフィー(シリカゲル 10g、ヘキサン:酢酸エチ
ル=1:2)で精製し、中間体(437mg)を得た。
このものをメシチレン(8ml)に溶解し、180℃で
4時間反応させた。反応液を濃縮後、得られた残渣をカ
ラムクロマトグラフィー(シリカゲル 25g、ヘキサ
ン:酢酸エチル=10:1→5:1)で精製し、表記化
合物(141mg)を油状物質として得た。
【0333】赤外線吸収スペクトル(neat)νmax cm-1:2
932,2858,1776,1705,1280,1147,835,777. 核磁気共鳴スペクトル(400MHz,CDCl3)δppm:0.06(S),0.
12-0.03(m)合わせて6H,0.58-0.94(4H,m),0.85,0.88(3H,
s ×2),1.18-2.02(6H,m),1.22(3H,d,J=6.0Hz),2.27-2.8
9(3H,m),2.93-3.65(2H,m),3.15(1H,dd,J=6.3,3.0Hz),3.
85-3.71(1H,m),4.13(1H,dd,J=10.1,3.0Hz),4.19(1H,dq,
J=6.2,6.0Hz),4.53-4.72(4H,m),5.15-5.49(4H,m),5.86-
6.05(2H,m). (3)(4R,8R,9R,10S)−4−[N−アリ
ルオキシカルボニル−N−シクロプロピルアミノメチ
ル]−10−[(R)−1−ヒドロキシエチル]−11
−オキソ−1−アザトリシクロ[7.2.0.03,8 ]
ウンデカ−2−エン−2−カルボン酸アリル 実施例11−(2)で得られた化合物(135mg)を
テトラヒドロフラン(3ml)に溶解し、酢酸(73m
g)、フッ化テトラブチルアンモニウムの1.0Mテト
ラヒドロフラン溶液(966μl)を加え、4℃で7日
間反応させた。反応液に飽和塩化アンモニウム水溶液を
加え、酢酸エチル(20mlx2)で抽出した。有機層
を水、重曹水、飽和食塩水で順次洗い、無水硫酸ナトリ
ウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去した。得られた残渣を
カラムクロマトグラフィー(シリカゲル 5g、ヘキサ
ン:酢酸エチル=3:1→1:2)で精製し、標記化合
物(83mg)を油状物質として得た。
932,2858,1776,1705,1280,1147,835,777. 核磁気共鳴スペクトル(400MHz,CDCl3)δppm:0.06(S),0.
12-0.03(m)合わせて6H,0.58-0.94(4H,m),0.85,0.88(3H,
s ×2),1.18-2.02(6H,m),1.22(3H,d,J=6.0Hz),2.27-2.8
9(3H,m),2.93-3.65(2H,m),3.15(1H,dd,J=6.3,3.0Hz),3.
85-3.71(1H,m),4.13(1H,dd,J=10.1,3.0Hz),4.19(1H,dq,
J=6.2,6.0Hz),4.53-4.72(4H,m),5.15-5.49(4H,m),5.86-
6.05(2H,m). (3)(4R,8R,9R,10S)−4−[N−アリ
ルオキシカルボニル−N−シクロプロピルアミノメチ
ル]−10−[(R)−1−ヒドロキシエチル]−11
−オキソ−1−アザトリシクロ[7.2.0.03,8 ]
ウンデカ−2−エン−2−カルボン酸アリル 実施例11−(2)で得られた化合物(135mg)を
テトラヒドロフラン(3ml)に溶解し、酢酸(73m
g)、フッ化テトラブチルアンモニウムの1.0Mテト
ラヒドロフラン溶液(966μl)を加え、4℃で7日
間反応させた。反応液に飽和塩化アンモニウム水溶液を
加え、酢酸エチル(20mlx2)で抽出した。有機層
を水、重曹水、飽和食塩水で順次洗い、無水硫酸ナトリ
ウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去した。得られた残渣を
カラムクロマトグラフィー(シリカゲル 5g、ヘキサ
ン:酢酸エチル=3:1→1:2)で精製し、標記化合
物(83mg)を油状物質として得た。
【0334】赤外線吸収スペクトル(neat)νmax cm-1:3
446,2937,1171,1702,1278. 核磁気共鳴スペクトル(270MHz,CDCl3)δppm:0.92-0.58
(4H,m),1.33(3H,d,J=6.3Hz),1.20-2.07(6H,m),2.52-2.6
5(1H,m),2.80-2.93(2H,m),3.21(1H,dd,J=6.8,3.1Hz),3.
36-3.52(1H,m),3.69-3.83(1H,m),4.12-4.29(2H,m),4.59
(2H,d,J=5.3Hz),4.62-4.82(2H,m),5.18-5.49(4H,m),5.8
7-6.06(2H,m). (4)(4R,8S,9R,10S)−10−[(R)
−1−ヒドロキシエチル]−4−[N−シクロプロピル
アミノメチル]−11−オキソ−1−アザトリシクロ
[7.2.0.03,8 ]ウンデカ−2−エン−2−カル
ボン酸 実施例11−(3)で得られた化合物(79mg)を実
施例1−(4)と同様な反応及び単離操作を行い、目的
化合物(25mg)を凍結乾燥粉末として得た。
446,2937,1171,1702,1278. 核磁気共鳴スペクトル(270MHz,CDCl3)δppm:0.92-0.58
(4H,m),1.33(3H,d,J=6.3Hz),1.20-2.07(6H,m),2.52-2.6
5(1H,m),2.80-2.93(2H,m),3.21(1H,dd,J=6.8,3.1Hz),3.
36-3.52(1H,m),3.69-3.83(1H,m),4.12-4.29(2H,m),4.59
(2H,d,J=5.3Hz),4.62-4.82(2H,m),5.18-5.49(4H,m),5.8
7-6.06(2H,m). (4)(4R,8S,9R,10S)−10−[(R)
−1−ヒドロキシエチル]−4−[N−シクロプロピル
アミノメチル]−11−オキソ−1−アザトリシクロ
[7.2.0.03,8 ]ウンデカ−2−エン−2−カル
ボン酸 実施例11−(3)で得られた化合物(79mg)を実
施例1−(4)と同様な反応及び単離操作を行い、目的
化合物(25mg)を凍結乾燥粉末として得た。
【0335】赤外線吸収スペクトル(KBr) νmax cm-1:3
400,2931,1730,1641,1377. 核磁気共鳴スペクトル(400MHz,D2O)δppm:0.62-0.76(4
H,m),1.07(3H,d,J=6.2Hz),0.97-1.20(2H,m),1.31-1.46
(1H,m),1.63-1.81(3H,m),2.47-2.57(1H,m),2.61-2.71(2
H,m),3.09(1H,dd,J=12.9,5.7Hz),3.17(1H,dd,J=6.2,2.7
Hz),3.31(1H,dd,J=13.0,8.2Hz),3.92(1H,dd,J=9.6,2.7H
z),4.02(1H,quint,J=6.2Hz). 紫外線吸収スペクトルλmax(H2O)nm:268.4 実施例12 (4S,8S,9R,10S)−4−[N−(2−フル
オロエチル)アミノメチル]−10−[(R)−1−ヒ
ドロキシエチル]−11−オキソ−1−アザトリシクロ
[7.2.0.03,8 ]ウンデカ−2−エン−2−カル
ボン酸 例示化合物−35の(4S)異性体
400,2931,1730,1641,1377. 核磁気共鳴スペクトル(400MHz,D2O)δppm:0.62-0.76(4
H,m),1.07(3H,d,J=6.2Hz),0.97-1.20(2H,m),1.31-1.46
(1H,m),1.63-1.81(3H,m),2.47-2.57(1H,m),2.61-2.71(2
H,m),3.09(1H,dd,J=12.9,5.7Hz),3.17(1H,dd,J=6.2,2.7
Hz),3.31(1H,dd,J=13.0,8.2Hz),3.92(1H,dd,J=9.6,2.7H
z),4.02(1H,quint,J=6.2Hz). 紫外線吸収スペクトルλmax(H2O)nm:268.4 実施例12 (4S,8S,9R,10S)−4−[N−(2−フル
オロエチル)アミノメチル]−10−[(R)−1−ヒ
ドロキシエチル]−11−オキソ−1−アザトリシクロ
[7.2.0.03,8 ]ウンデカ−2−エン−2−カル
ボン酸 例示化合物−35の(4S)異性体
【0336】
【化30】
【0337】(1)(3S,4R)−4−[(2R,6
R)−6−(N−アリルオキシカルボニル−N−(2−
フルオロエチル)アミノメチル)シクロヘキサノン−2
−イル]−3−[(R)−1−(t−ブチルジメチルシ
リルオキシ)エチル]アゼチジン−2−オン,(6R)
体、および(3S,4R)−4−[(2R,6S)−6
−(N−アリルオキシカルボニル−N−(2−フルオロ
エチル)アミノメチル)シクロヘキサノン−2−イル]
−3−[(R)−1−(t−ブチルジメチルシリルオキ
シ)エチル]アゼチジン−2−オン,(6S)体 参考例1−(8)で得られた化合物(1.07g)をテ
トラヒドロフラン(15ml)に溶解し、氷冷下トリエ
チルアミン(364mg)、塩化メタンスルホニル(3
78mg)を加え30分撹拌した。不溶物をろ過して除
去し、ろ液を濃縮することにより、メタンスルホン酸中
間体を得た。このものを精製することなく、テトラヒド
ロフラン(15ml)に溶解し、フルオロエチルアミン
(343mg)のジメチルホルミアミド溶液(1ml)
を氷冷下で加えた。さらにトリエチルアミン(334m
g)を加え、室温で20時間撹拌した後、反応液にクロ
ロギ酸アリル(398mg)、トリエチルアミン(34
3mg)を加え、30分間撹拌した。反応液にpH7リ
ン酸緩衝液を加え、酢酸エチル(50ml×3)で抽出
し、有機層を飽和食塩水で洗い、無水硫酸ナトリウムで
乾燥した。減圧下溶媒を留去して得られた残渣をカラム
クロマトグラフィ(シリカゲル65g、ヘキサン:酢酸
エチル=4:1→1:1)で精製し、標記化合物(6
R)体(256mg),(6S)体(442mg)をそ
れぞれ得た。
R)−6−(N−アリルオキシカルボニル−N−(2−
フルオロエチル)アミノメチル)シクロヘキサノン−2
−イル]−3−[(R)−1−(t−ブチルジメチルシ
リルオキシ)エチル]アゼチジン−2−オン,(6R)
体、および(3S,4R)−4−[(2R,6S)−6
−(N−アリルオキシカルボニル−N−(2−フルオロ
エチル)アミノメチル)シクロヘキサノン−2−イル]
−3−[(R)−1−(t−ブチルジメチルシリルオキ
シ)エチル]アゼチジン−2−オン,(6S)体 参考例1−(8)で得られた化合物(1.07g)をテ
トラヒドロフラン(15ml)に溶解し、氷冷下トリエ
チルアミン(364mg)、塩化メタンスルホニル(3
78mg)を加え30分撹拌した。不溶物をろ過して除
去し、ろ液を濃縮することにより、メタンスルホン酸中
間体を得た。このものを精製することなく、テトラヒド
ロフラン(15ml)に溶解し、フルオロエチルアミン
(343mg)のジメチルホルミアミド溶液(1ml)
を氷冷下で加えた。さらにトリエチルアミン(334m
g)を加え、室温で20時間撹拌した後、反応液にクロ
ロギ酸アリル(398mg)、トリエチルアミン(34
3mg)を加え、30分間撹拌した。反応液にpH7リ
ン酸緩衝液を加え、酢酸エチル(50ml×3)で抽出
し、有機層を飽和食塩水で洗い、無水硫酸ナトリウムで
乾燥した。減圧下溶媒を留去して得られた残渣をカラム
クロマトグラフィ(シリカゲル65g、ヘキサン:酢酸
エチル=4:1→1:1)で精製し、標記化合物(6
R)体(256mg),(6S)体(442mg)をそ
れぞれ得た。
【0338】(6R)体 赤外吸収スペクトル(neat)νmax cm-1:3274,2932,285
8,1757,1706,1253,1144,836. 核磁気共鳴スペクトル(270MHz,CDCl3)δ ppm:0.05,0.0
7,0.09(6H,sx3),0.87,0.88,0.89(9H,sx3),2.25〜1.06(9
H,m),2.52 〜3.89(7H,m),3.87 〜4.29(3H,m),4.39 〜5.
69(3H,m),5.18 〜5.36(2H,m),5.75 〜5.95(1H,m). (6S)体 赤外吸収スペクトル(neat)νmax cm-1:3280,2933,175
7,1707,1253,1145,836.核磁気共鳴スペクトル(270MHz,C
DCl3)δ ppm:0.06(3H,s),0.07(3H,s),0.87(9H,s),1.12
〜2.23(6H,m),1.23(3H,d,J=6.3Hz),2.56〜2.65(1H,m),
2.67 〜2.98(1H,m),2.86(1H,dd,J=4.8,2.4Hz),3.31 〜
3.81(4H,m),4.06 〜4.09(1H,m),4.20(1H,td,J=6.3,4.8H
z),4.39 〜4.50(1H,m),4.52 〜4.68(2H,m),5.13 〜5.36
(2H,m),5.71(1H,brs),5.84〜6.01(1H,m). (2)(4S,8S,9R,10S)−4−[N−アリ
ルオキシカルボニル−N−(2−フルオロエチル)アミ
ノメチル]−10−[(R)−1−(t−ブチルジメチ
ルシリルオキシ)エチル]−11−オキソ−1−アザト
リシクロ[7.2.0.03,8 ]ウンデカ−2−エン−
2−カルボン酸アリル 実施例12−(1)で得られた(6R)体(250m
g)を、実施例1−(2)と同様な反応及び単離操作を
行い、標記化合物(30mg)を得た。
8,1757,1706,1253,1144,836. 核磁気共鳴スペクトル(270MHz,CDCl3)δ ppm:0.05,0.0
7,0.09(6H,sx3),0.87,0.88,0.89(9H,sx3),2.25〜1.06(9
H,m),2.52 〜3.89(7H,m),3.87 〜4.29(3H,m),4.39 〜5.
69(3H,m),5.18 〜5.36(2H,m),5.75 〜5.95(1H,m). (6S)体 赤外吸収スペクトル(neat)νmax cm-1:3280,2933,175
7,1707,1253,1145,836.核磁気共鳴スペクトル(270MHz,C
DCl3)δ ppm:0.06(3H,s),0.07(3H,s),0.87(9H,s),1.12
〜2.23(6H,m),1.23(3H,d,J=6.3Hz),2.56〜2.65(1H,m),
2.67 〜2.98(1H,m),2.86(1H,dd,J=4.8,2.4Hz),3.31 〜
3.81(4H,m),4.06 〜4.09(1H,m),4.20(1H,td,J=6.3,4.8H
z),4.39 〜4.50(1H,m),4.52 〜4.68(2H,m),5.13 〜5.36
(2H,m),5.71(1H,brs),5.84〜6.01(1H,m). (2)(4S,8S,9R,10S)−4−[N−アリ
ルオキシカルボニル−N−(2−フルオロエチル)アミ
ノメチル]−10−[(R)−1−(t−ブチルジメチ
ルシリルオキシ)エチル]−11−オキソ−1−アザト
リシクロ[7.2.0.03,8 ]ウンデカ−2−エン−
2−カルボン酸アリル 実施例12−(1)で得られた(6R)体(250m
g)を、実施例1−(2)と同様な反応及び単離操作を
行い、標記化合物(30mg)を得た。
【0339】赤外吸収スペクトル(neat)νmax cm-1:29
32,1780,1713,1284,1146,835. 核磁気共鳴スペクトル(270MHz,CDCl3)δ ppm:0.07(6H,
s),0.89(9H,s),1.21〜1.95(9H,m),3.12 〜3.24(1H,m),
3.25 〜3.75(4H,m),3.92 〜4.28(4H,m),4.34 〜4.85(6
H,m),5.14 〜5.53(4H,m),5.79 〜6.04(2H,m). (3)(4S,8S,9R,10S)−4−[N−アリ
ルオキシカルボニル−N−(2−フルオロエチル)アミ
ノメチル]−10−[(R)−1−ヒドロキシエチル]
−11−オキソ−1−アザトリシクロ[7.2.0.0
3,8 ]ウンデカ−2−エン−2−カルボン酸アリル 実施例12−(2)で得られた化合物(29mg)を、
実施例11−(3)と同様な反応及び単離操作を行い、
標記化合物(14mg)を油状物質として得た。
32,1780,1713,1284,1146,835. 核磁気共鳴スペクトル(270MHz,CDCl3)δ ppm:0.07(6H,
s),0.89(9H,s),1.21〜1.95(9H,m),3.12 〜3.24(1H,m),
3.25 〜3.75(4H,m),3.92 〜4.28(4H,m),4.34 〜4.85(6
H,m),5.14 〜5.53(4H,m),5.79 〜6.04(2H,m). (3)(4S,8S,9R,10S)−4−[N−アリ
ルオキシカルボニル−N−(2−フルオロエチル)アミ
ノメチル]−10−[(R)−1−ヒドロキシエチル]
−11−オキソ−1−アザトリシクロ[7.2.0.0
3,8 ]ウンデカ−2−エン−2−カルボン酸アリル 実施例12−(2)で得られた化合物(29mg)を、
実施例11−(3)と同様な反応及び単離操作を行い、
標記化合物(14mg)を油状物質として得た。
【0340】(4)(4S,8S,9R,10S)−4
−[N−(2−フルオロエチル)アミノメチル]−10
−[(R)−1−ヒドロキシエチル]−11−オキソ−
1−アザトリシクロ[7.2.0.03,8 ]ウンデカ−
2−エン−2−カルボン酸 実施例12−(3)で得られた化合物(14mg)を実
施例1−(4)と同様な反応及び単離操作を行い、標記
化合物(5.6mg)を凍結乾燥品として得た。
−[N−(2−フルオロエチル)アミノメチル]−10
−[(R)−1−ヒドロキシエチル]−11−オキソ−
1−アザトリシクロ[7.2.0.03,8 ]ウンデカ−
2−エン−2−カルボン酸 実施例12−(3)で得られた化合物(14mg)を実
施例1−(4)と同様な反応及び単離操作を行い、標記
化合物(5.6mg)を凍結乾燥品として得た。
【0341】紫外吸収スペクトルλmax(H2O)nm:269.2 実施例13 (4R,8S,9R,10S)−4−[N−(2−フル
オロエチル)アミノメチル]−10−[(R)−1−ヒ
ドロキシエチル]−11−オキソ−1−アザトリシクロ
[7.2.0.03,8 ]ウンデカ−2−エン−2−カル
ボン酸 [例示化合物−35の(4R)異性体]
オロエチル)アミノメチル]−10−[(R)−1−ヒ
ドロキシエチル]−11−オキソ−1−アザトリシクロ
[7.2.0.03,8 ]ウンデカ−2−エン−2−カル
ボン酸 [例示化合物−35の(4R)異性体]
【0342】
【化31】
【0343】(1)(4R,8S,9R,10S)−4
−[N−アリルオキシカルボニル−N−(2−フルオロ
エチル)アミノメチル]−10−[(R)−1−(t−
ブチルジメチルシリルオキシ)エチル]−11−オキソ
−1−アザトリシクロ[7.2.0.03,8 ]ウンデカ
−2−エン−2−カルボン酸アリル 実施例12−(1)で得られた(6S)体(682m
g)を実施例11−(2)と同様な反応及び単離操作を
行い、標記化合物(271mg)を得た。
−[N−アリルオキシカルボニル−N−(2−フルオロ
エチル)アミノメチル]−10−[(R)−1−(t−
ブチルジメチルシリルオキシ)エチル]−11−オキソ
−1−アザトリシクロ[7.2.0.03,8 ]ウンデカ
−2−エン−2−カルボン酸アリル 実施例12−(1)で得られた(6S)体(682m
g)を実施例11−(2)と同様な反応及び単離操作を
行い、標記化合物(271mg)を得た。
【0344】赤外吸収スペクトル(neat)νmax cm-1:29
32,1775,1704,1259,1145,989,836. 核磁気共鳴スペクトル(270MHz,CDCl3)δ ppm:0.07(3H,
s),0.09(3H,s),0.88,0.89(9H,sx2),1.22(3H,d,J=6.3H
z),2.54 〜2.94(2H,m),3.16(1H,dd,J=6.2,3.2Hz),3.30
〜4.02(4H,m),4.03 〜4.82(8H,m),5.00 〜5.49(4H,m),
5.84 〜6.03(2H,m). (2)(4R,8S,9R,10S)−4−[N−アリ
ルオキシカルボニル−N−(2−フルオロエチル)アミ
ノメチル]−10−[(R)−1−ヒドロキシエチル]
−11−オキソ−1−アザトリシクロ[7.2.0.0
3,8 ]ウンデカ−2−エン−2−カルボン酸アリル 実施例13−(1)で得られた化合物(265mg)を
実施例11−(3)と同様な反応及び単離操作を行い、
標記化合物(52mg)を油状物質として得た。
32,1775,1704,1259,1145,989,836. 核磁気共鳴スペクトル(270MHz,CDCl3)δ ppm:0.07(3H,
s),0.09(3H,s),0.88,0.89(9H,sx2),1.22(3H,d,J=6.3H
z),2.54 〜2.94(2H,m),3.16(1H,dd,J=6.2,3.2Hz),3.30
〜4.02(4H,m),4.03 〜4.82(8H,m),5.00 〜5.49(4H,m),
5.84 〜6.03(2H,m). (2)(4R,8S,9R,10S)−4−[N−アリ
ルオキシカルボニル−N−(2−フルオロエチル)アミ
ノメチル]−10−[(R)−1−ヒドロキシエチル]
−11−オキソ−1−アザトリシクロ[7.2.0.0
3,8 ]ウンデカ−2−エン−2−カルボン酸アリル 実施例13−(1)で得られた化合物(265mg)を
実施例11−(3)と同様な反応及び単離操作を行い、
標記化合物(52mg)を油状物質として得た。
【0345】赤外吸収スペクトル(neat)νmax cm-1:34
46,2938,1771,1699,1276,1151. 核磁気共鳴スペクトル(270MHz,CDCl3)δ ppm:1.08〜2.
12(6H,m),1.32(3H,d,J=6.2Hz),2.69〜3.05(2H,m),3.22
(1H,dd,J=3.0Hz),3.32 〜4.02(4H,m),4.12 〜4.31(2H,
m),4.38 〜4.88(6H,m),5.28 〜5.49(4H,m),5.85 〜6.07
(2H,m). (3)(4R,8S,9R,10S)−4−[N−(2
−フルオロエチル)アミノメチル]−10−[(R)−
1−ヒドロキシエチル]−11−オキソ−1−アザトリ
シクロ[7.2.0.03,8 ]ウンデカ−2−エン−2
−カルボン酸 実施例13−(2)で得られた化合物(50mg)を実
施例1−(4)と同様の反応及び単離操作を行うことに
より目的化合物(23mg)を凍結乾燥粉末として得
た。
46,2938,1771,1699,1276,1151. 核磁気共鳴スペクトル(270MHz,CDCl3)δ ppm:1.08〜2.
12(6H,m),1.32(3H,d,J=6.2Hz),2.69〜3.05(2H,m),3.22
(1H,dd,J=3.0Hz),3.32 〜4.02(4H,m),4.12 〜4.31(2H,
m),4.38 〜4.88(6H,m),5.28 〜5.49(4H,m),5.85 〜6.07
(2H,m). (3)(4R,8S,9R,10S)−4−[N−(2
−フルオロエチル)アミノメチル]−10−[(R)−
1−ヒドロキシエチル]−11−オキソ−1−アザトリ
シクロ[7.2.0.03,8 ]ウンデカ−2−エン−2
−カルボン酸 実施例13−(2)で得られた化合物(50mg)を実
施例1−(4)と同様の反応及び単離操作を行うことに
より目的化合物(23mg)を凍結乾燥粉末として得
た。
【0346】赤外吸収スペクトル(KBr) νmax cm-1:33
68,2932,1754,1612,1395. 核磁気共鳴スペクトル(400MHz,D2O)δ ppm:1.09(3H,d,
J=6.3Hz),1.03 〜1.22(2H,m),1.34 〜1.48(1H,m),1.67
〜1.83(3H,m),2.64 〜2.73(2H,m),3.06(1H,dd,J=12.1,
5.3Hz),3.15〜3.32(4H,m),3.94(1H,dd,J=9.6,2.6Hz),4.
03(1H,quint,J=6.3Hz),4.52〜4.68(2H,m). 実施例14 (4R,8S,9R,10S)−4−[(S)−1−ア
ミジノピロリジン−3−イル]チオメチル−10−
[(R)−1−ヒドロキシエチル]−11−オキソ−1
−アザトリシクロ[7.2.0.03,8 ]ウンデカ−2
−エン−2−カルボン酸 [例示化合物−4の(4
R)異性体)
68,2932,1754,1612,1395. 核磁気共鳴スペクトル(400MHz,D2O)δ ppm:1.09(3H,d,
J=6.3Hz),1.03 〜1.22(2H,m),1.34 〜1.48(1H,m),1.67
〜1.83(3H,m),2.64 〜2.73(2H,m),3.06(1H,dd,J=12.1,
5.3Hz),3.15〜3.32(4H,m),3.94(1H,dd,J=9.6,2.6Hz),4.
03(1H,quint,J=6.3Hz),4.52〜4.68(2H,m). 実施例14 (4R,8S,9R,10S)−4−[(S)−1−ア
ミジノピロリジン−3−イル]チオメチル−10−
[(R)−1−ヒドロキシエチル]−11−オキソ−1
−アザトリシクロ[7.2.0.03,8 ]ウンデカ−2
−エン−2−カルボン酸 [例示化合物−4の(4
R)異性体)
【0347】
【化32】
【0348】参考例1−(8)で得られた化合物を
(S)−1−(1,2−ビスアリルオキシカルボニルア
ミジノ)−3−メルカプトピロリジンを用いて実施例1
−(1),2−(1),2−(2),1−(4)と同様
の反応及び単離操作を順次行い、目的化合物を凍結乾燥
粉末として得た。
(S)−1−(1,2−ビスアリルオキシカルボニルア
ミジノ)−3−メルカプトピロリジンを用いて実施例1
−(1),2−(1),2−(2),1−(4)と同様
の反応及び単離操作を順次行い、目的化合物を凍結乾燥
粉末として得た。
【0349】紫外線吸収スペクトルλmax(H2O)nm:269。
【0350】実施例15 (4R,8S,9R,10S)−10−[(R)−1−
ヒドロキシエチル]−4−[(S)−1−(2−イミダ
ゾリン−2−イル)ピロリジン−3−イル]チオメチル
−11−オキソ−1−アザトリシクロ[7.2.0.0
3,8 ]ウンデカ−2−エン−2−カルボン酸 [例示化
合物−35の(4R)異性体]
ヒドロキシエチル]−4−[(S)−1−(2−イミダ
ゾリン−2−イル)ピロリジン−3−イル]チオメチル
−11−オキソ−1−アザトリシクロ[7.2.0.0
3,8 ]ウンデカ−2−エン−2−カルボン酸 [例示化
合物−35の(4R)異性体]
【0351】
【化33】
【0352】参考例1−(8)で得られた化合物を
(S)−1−(2−イミダゾリン−2−イル)−3−メ
ルカプトピロリジンを用いて実施例1−(1),2−
(1),2−(2),1−(4)と同様の反応及び単離
操作を順次行い、目的化合物を凍結乾燥粉末として得
た。
(S)−1−(2−イミダゾリン−2−イル)−3−メ
ルカプトピロリジンを用いて実施例1−(1),2−
(1),2−(2),1−(4)と同様の反応及び単離
操作を順次行い、目的化合物を凍結乾燥粉末として得
た。
【0353】紫外線吸収スペクトルλmax(H2O)nm:268.7 実施例16 (4R,8S,9R,10S)−10−[(R)−1−
ヒドロキシエチル]−4−[(S)−1−(2−チアゾ
リン−2−イル)ピロリジン−3−イル]チオメチル−
11−オキソ−1−アザトリシクロ[7.2.0.0
3,8 ]ウンデカ−2−エン−2−カルボン酸 [例示化
合物−34の(4R)異性体]
ヒドロキシエチル]−4−[(S)−1−(2−チアゾ
リン−2−イル)ピロリジン−3−イル]チオメチル−
11−オキソ−1−アザトリシクロ[7.2.0.0
3,8 ]ウンデカ−2−エン−2−カルボン酸 [例示化
合物−34の(4R)異性体]
【0354】
【化34】
【0355】参考例1−(8)で得られた化合物を
(S)−1−(2−チアゾリン−2−イル)−3−メル
カプトピロリジンを用いて実施例1−(1),2−
(1),2−(2),1−(4)と同様の反応及び単離
操作を順次行い、目的化合物を凍結乾燥粉末として得
た。
(S)−1−(2−チアゾリン−2−イル)−3−メル
カプトピロリジンを用いて実施例1−(1),2−
(1),2−(2),1−(4)と同様の反応及び単離
操作を順次行い、目的化合物を凍結乾燥粉末として得
た。
【0356】紫外線吸収スペクトルλmax(H2O)nm:269 実施例17 (4R,8S,9R,10S)−4−[(S)−1−ベ
ンジルピロリジン−3−イル]チオメチル−11−オキ
ソ−1−アザトリシクロ[7.2.0.03,8]ウンデ
カ−2−エン−2−カルボン酸 [例示化合物−51
の(4R)異性体]
ンジルピロリジン−3−イル]チオメチル−11−オキ
ソ−1−アザトリシクロ[7.2.0.03,8]ウンデ
カ−2−エン−2−カルボン酸 [例示化合物−51
の(4R)異性体]
【0357】
【化35】
【0358】参考例1−(8)で得られた化合物を
(S)−1−ベンジル−3−メルカプトピロリジンを用
いて実施例1−(1),2−(1),2−(2),1−
(4)と同様の反応及び単離操作を順次行い、目的化合
物を凍結乾燥粉末として得た。
(S)−1−ベンジル−3−メルカプトピロリジンを用
いて実施例1−(1),2−(1),2−(2),1−
(4)と同様の反応及び単離操作を順次行い、目的化合
物を凍結乾燥粉末として得た。
【0359】紫外線吸収スペクトルλmax(H2O)nm:268.4 実施例18 (4R,8S,9R,10S)−4−[N−ベンジルア
ミノメチル]−10−[(R)−1−ヒドロキシエチ
ル]−11−オキソ−1−アザトリシクロ[7.2.
0.03,8 ]ウンデカ−2−エン−2−カルボン酸
[例示化合物−3の(4R)異性体]
ミノメチル]−10−[(R)−1−ヒドロキシエチ
ル]−11−オキソ−1−アザトリシクロ[7.2.
0.03,8 ]ウンデカ−2−エン−2−カルボン酸
[例示化合物−3の(4R)異性体]
【0360】
【化36】
【0361】参考例1−(8)で得られた化合物をベン
ジルアミンを用いて実施例11−(1)〜(4)と同様
の反応及び単離操作を行い、目的化合物を凍結乾燥粉末
として得た。
ジルアミンを用いて実施例11−(1)〜(4)と同様
の反応及び単離操作を行い、目的化合物を凍結乾燥粉末
として得た。
【0362】紫外線吸収スペクトルλmax(H2O)nm:268.2 実施例19 (4R,8S,9R,10S)−10−[(R)−1−
ヒドロキシエチル]−4−[N−(4−(1−イミダゾ
リル)ベンジル)アミノメチル]−11−オキソ−1−
アザトリシクロ[7.2.0.03,8 ]ウンデカ−2−
エン−2−カルボン酸 [例示化合物−41の(4
R)異性体]
ヒドロキシエチル]−4−[N−(4−(1−イミダゾ
リル)ベンジル)アミノメチル]−11−オキソ−1−
アザトリシクロ[7.2.0.03,8 ]ウンデカ−2−
エン−2−カルボン酸 [例示化合物−41の(4
R)異性体]
【0363】
【化37】
【0364】参考例1−(8)で得られた化合物を4−
(1−イミダゾリル)ベンジルアミンを用い、実施例1
1−(1)〜(4)と同様の反応及び単離操作を行うこ
とにより、目的化合物を凍結乾燥粉末として得ることが
できる。
(1−イミダゾリル)ベンジルアミンを用い、実施例1
1−(1)〜(4)と同様の反応及び単離操作を行うこ
とにより、目的化合物を凍結乾燥粉末として得ることが
できる。
【0365】実施例20 (4R,8S,9R,10S)−4−[N−(4−ベン
ジルオキシベンジル)アミノメチル]−10−[(R)
−1−ヒドロキシエチル]−11−オキソ−1−アザト
リシクロ[7.2.0.03,8 ]ウンデカ−2−エン−
2−カルボン酸 [例示化合物−43の(4R)異性体]
ジルオキシベンジル)アミノメチル]−10−[(R)
−1−ヒドロキシエチル]−11−オキソ−1−アザト
リシクロ[7.2.0.03,8 ]ウンデカ−2−エン−
2−カルボン酸 [例示化合物−43の(4R)異性体]
【0366】
【化38】
【0367】参考例1−(8)で得られた化合物を4−
ベンジルオキシベンジルアミンを用い、実施例11−
(1)〜(4)と同様の反応及び単離操作を行うことに
より、目的化合物を凍結乾燥粉末として得ることができ
る。
ベンジルオキシベンジルアミンを用い、実施例11−
(1)〜(4)と同様の反応及び単離操作を行うことに
より、目的化合物を凍結乾燥粉末として得ることができ
る。
【0368】実施例21 (4S,8S,9R,10S)−10−[(R)−1−
ヒドロキシエチル]−4−[N−(2−チアゾリル)ア
ミノメチル]−11−オキソ−1−アザトリシクロ
[7.2.0.03,8 ]ウンデカ−2−エン−2−カル
ボン酸 [例示化合物−29の(4S)異性体]
ヒドロキシエチル]−4−[N−(2−チアゾリル)ア
ミノメチル]−11−オキソ−1−アザトリシクロ
[7.2.0.03,8 ]ウンデカ−2−エン−2−カル
ボン酸 [例示化合物−29の(4S)異性体]
【0369】
【化39】
【0370】(1)(4S,8S,9R,10S)−4
−[N−アリルオキシカルボニル−N−(2−チアゾリ
ル)アミノメチル]−10−[(R)−1−(t−ブチ
ルジメチルシリルオキシ)エチル]−11−オキソ−1
−アザトリシクロ[7.2.0.03,8 ]ウンデカ−2
−エン−2−カルボン酸アリル 参考例2−(2)で得られた化合物(250mg)をト
ルエン(10ml)に溶解し、2−アリルオキシカルボ
ニルアミノチアゾール(211mg)、トリフェニルホ
スフィン(753mg)、アゾジカルボン酸ジエチル
(500mg)を順次加え、室温で3時間攪拌した。反
応液に少量の水を加えた後、減圧下濃縮し、得られた残
渣をカラムクロマトグラフィー(シリカゲル30g、ヘ
キサン:酢酸エチル=4:1→2:1)で精製し、標記
化合物(229mg)を油状物質として得た。
−[N−アリルオキシカルボニル−N−(2−チアゾリ
ル)アミノメチル]−10−[(R)−1−(t−ブチ
ルジメチルシリルオキシ)エチル]−11−オキソ−1
−アザトリシクロ[7.2.0.03,8 ]ウンデカ−2
−エン−2−カルボン酸アリル 参考例2−(2)で得られた化合物(250mg)をト
ルエン(10ml)に溶解し、2−アリルオキシカルボ
ニルアミノチアゾール(211mg)、トリフェニルホ
スフィン(753mg)、アゾジカルボン酸ジエチル
(500mg)を順次加え、室温で3時間攪拌した。反
応液に少量の水を加えた後、減圧下濃縮し、得られた残
渣をカラムクロマトグラフィー(シリカゲル30g、ヘ
キサン:酢酸エチル=4:1→2:1)で精製し、標記
化合物(229mg)を油状物質として得た。
【0371】赤外線吸収スペクトル(neat)νmax cm-1:2
931,2858,1780,1716,1207. 核磁気共鳴スペクトル(270MHz,CDCl3)δppm:0.07(6H,
s),0.89(9H,s),1.23(3H,d,J=6.0Hz),1.47-1.91(5H,m),
3.11(1H,dd,J=7.0,3.2Hz),3.32-3.34(1H,m),3.91(1H,d
d,J=10.5,3.2Hz),4.08-4.26(3H,m),4.48-4.64(2H,m),4.
65-4.81(1H,m),4.79(2H,d,J=6.0Hz),5.14-5.47(4H,m),
5.73-5.91(1H,m),5.96-6.12(1H,m),6.93(1H,d,J=3.5H
z),7.37(1H,d,J=3.5Hz). (2)(4S,8S,9R,10S)−4−[N−アリ
ルオキシカルボニル−N−(2−チアゾリル)アミノメ
チル]−10−[(R)−1−ヒドロキシエチル]−1
1−オキソ−1−アザトリシクロ[7.2.0.0
3,8 ]ウンデカ−2−エン−2−カルボン酸アリル 実施例21−(1)で得た化合物を、実施例11−
(3)と同様な反応及び単離操作を行い、標記化合物
(144mg)を油状物質として得た。
931,2858,1780,1716,1207. 核磁気共鳴スペクトル(270MHz,CDCl3)δppm:0.07(6H,
s),0.89(9H,s),1.23(3H,d,J=6.0Hz),1.47-1.91(5H,m),
3.11(1H,dd,J=7.0,3.2Hz),3.32-3.34(1H,m),3.91(1H,d
d,J=10.5,3.2Hz),4.08-4.26(3H,m),4.48-4.64(2H,m),4.
65-4.81(1H,m),4.79(2H,d,J=6.0Hz),5.14-5.47(4H,m),
5.73-5.91(1H,m),5.96-6.12(1H,m),6.93(1H,d,J=3.5H
z),7.37(1H,d,J=3.5Hz). (2)(4S,8S,9R,10S)−4−[N−アリ
ルオキシカルボニル−N−(2−チアゾリル)アミノメ
チル]−10−[(R)−1−ヒドロキシエチル]−1
1−オキソ−1−アザトリシクロ[7.2.0.0
3,8 ]ウンデカ−2−エン−2−カルボン酸アリル 実施例21−(1)で得た化合物を、実施例11−
(3)と同様な反応及び単離操作を行い、標記化合物
(144mg)を油状物質として得た。
【0372】核磁気共鳴スペクトル(270MHz,CDCl3)δpp
m:1.29(3H,d,J=6.1Hz),1.15-1.41(1H,m),1.41-2.08(5H,
m),3.19(1H,dd,J=6.5,3.2Hz),3.38-3.52(1H,m),4.00(1
H,dd,J=10.5,3.1Hz),4.05-4.25(3H,m),4.45-4.64(2H,
m),4.65-4.82(1H,m),4.79(2H,d,J=5.6Hz),5.12-5.45(4
H,m),5.95-6.13(1H,m),6.94(1H,d,J=3.9Hz),7.39(1H,d,
J=3.9Hz). (3)(4S,8S,9R,10S)−10−[(R)
−1−ヒドロキシエチル]−4−[N−(2−チアゾリ
ル)アミノメチル]−11−オキソ−1−アザトリシク
ロ[7.2.0.03,8 ]ウンデカ−2−エン−2−カ
ルボン酸 実施例21−(2)で得られた化合物を実施例1−
(4)と同様の反応及び単離操作を行い、目的化合物
(56mg)を凍結乾燥粉末として得た。
m:1.29(3H,d,J=6.1Hz),1.15-1.41(1H,m),1.41-2.08(5H,
m),3.19(1H,dd,J=6.5,3.2Hz),3.38-3.52(1H,m),4.00(1
H,dd,J=10.5,3.1Hz),4.05-4.25(3H,m),4.45-4.64(2H,
m),4.65-4.82(1H,m),4.79(2H,d,J=5.6Hz),5.12-5.45(4
H,m),5.95-6.13(1H,m),6.94(1H,d,J=3.9Hz),7.39(1H,d,
J=3.9Hz). (3)(4S,8S,9R,10S)−10−[(R)
−1−ヒドロキシエチル]−4−[N−(2−チアゾリ
ル)アミノメチル]−11−オキソ−1−アザトリシク
ロ[7.2.0.03,8 ]ウンデカ−2−エン−2−カ
ルボン酸 実施例21−(2)で得られた化合物を実施例1−
(4)と同様の反応及び単離操作を行い、目的化合物
(56mg)を凍結乾燥粉末として得た。
【0373】赤外線吸収スペクトル(KBr) νmax cm-1:3
373,3253,2931,1764,1623,1558,1398. 核磁気共鳴スペクトル(400MHz,D2O)δppm:1.07(3H,d,J=
6.2Hz),1.05-2.28(1H,m),1.33-1.90(5H,m),2.98-3.05(1
H,m),3.24(1H,dd,J=5.9,3.2Hz),3.37(1H,dd,J=13.8,5.9
Hz),3.50(1H,dd,J=13.8,10.5Hz),3.67-3.73(1H,m),3.96
(1H,dd,J=10.5,3.3Hz),4.03(1H,quint,J=6.2Hz),6.62(1
H,d,J=4.4Hz),6.96(1H,d,J=4.4Hz). 実施例22 (4S,8S,9R,10S)−4−[N−(2−ベン
ゾチアゾリル)アミノメチル]−10−[(R)−1−
ヒドロキシエチル]−11−オキソ−1−アザトリシク
ロ[7.2.0.03,8 ]ウンデカ−2−エン−2−カ
ルボン酸 [例示化合物−47の(4S)異性体]
373,3253,2931,1764,1623,1558,1398. 核磁気共鳴スペクトル(400MHz,D2O)δppm:1.07(3H,d,J=
6.2Hz),1.05-2.28(1H,m),1.33-1.90(5H,m),2.98-3.05(1
H,m),3.24(1H,dd,J=5.9,3.2Hz),3.37(1H,dd,J=13.8,5.9
Hz),3.50(1H,dd,J=13.8,10.5Hz),3.67-3.73(1H,m),3.96
(1H,dd,J=10.5,3.3Hz),4.03(1H,quint,J=6.2Hz),6.62(1
H,d,J=4.4Hz),6.96(1H,d,J=4.4Hz). 実施例22 (4S,8S,9R,10S)−4−[N−(2−ベン
ゾチアゾリル)アミノメチル]−10−[(R)−1−
ヒドロキシエチル]−11−オキソ−1−アザトリシク
ロ[7.2.0.03,8 ]ウンデカ−2−エン−2−カ
ルボン酸 [例示化合物−47の(4S)異性体]
【0374】
【化40】
【0375】参考例2−(2)で得られた化合物を2−
(アリルオキシカルボニルアミノ)ベンゾチアゾールを
用いて実施例21−(1)〜(3)と同様の反応及び単
離操作を行うことにより、目的化合物を得ることができ
る。
(アリルオキシカルボニルアミノ)ベンゾチアゾールを
用いて実施例21−(1)〜(3)と同様の反応及び単
離操作を行うことにより、目的化合物を得ることができ
る。
【0376】実施例23 (4S,8S,9R,10S)−10−[(R)−1−
ヒドロキシエチル]−4−[N−(2−(4−フェニ
ル)チアゾリル)アミノメチル]−11−オキソ−1−
アザトリシクロ[7.2.0.03,8 ]ウンデカ−2−
エン−2−カルボン酸 [例示化合物−60の(4
S)異性体]
ヒドロキシエチル]−4−[N−(2−(4−フェニ
ル)チアゾリル)アミノメチル]−11−オキソ−1−
アザトリシクロ[7.2.0.03,8 ]ウンデカ−2−
エン−2−カルボン酸 [例示化合物−60の(4
S)異性体]
【0377】
【化41】
【0378】参考例2−(2)で得られた化合物を2−
アリルオキシカルボニルアミノ−4−フェニルチアゾー
ルを用いて実施例21−(1)〜(3)と同様の反応及
び単離操作を行うことにより、目的化合物を得ることが
できる。
アリルオキシカルボニルアミノ−4−フェニルチアゾー
ルを用いて実施例21−(1)〜(3)と同様の反応及
び単離操作を行うことにより、目的化合物を得ることが
できる。
【0379】実施例24 (4S,8S,9R,10S)−4−[N−(2−(4
−ベンジル)チアゾリル)アミノメチル]−10−
[(R)−1−ヒドロキシエチル]−11−オキソ−1
−アザトリシクロ[7.2.0.03,8 ]ウンデカ−2
−エン−2−カルボン酸 [例示化合物−71の(4
S)異性体]
−ベンジル)チアゾリル)アミノメチル]−10−
[(R)−1−ヒドロキシエチル]−11−オキソ−1
−アザトリシクロ[7.2.0.03,8 ]ウンデカ−2
−エン−2−カルボン酸 [例示化合物−71の(4
S)異性体]
【0380】
【化42】
【0381】参考例2−(2)で得られた化合物を2−
アリルオキシカルボニルアミノ−4−ベンジルチアゾー
ルを用いて実施例21−(1)〜(3)と同様の反応及
び単離操作を行うことにより、目的化合物を得ることが
できる。
アリルオキシカルボニルアミノ−4−ベンジルチアゾー
ルを用いて実施例21−(1)〜(3)と同様の反応及
び単離操作を行うことにより、目的化合物を得ることが
できる。
【0382】実施例25 (4S,8S,9R,10S)−10−[(R)−1−
ヒドロキシエチル]−4−[N−(5−フェニル−1,
3,4−チアジアゾール−2−イル)アミノメチル]−
11−オキソ−1−アザトリシクロ[7.2.0.0
3,8 ]ウンデカ−2−エン−2−カルボン酸 [例示化
合物−100の(4S)異性体]
ヒドロキシエチル]−4−[N−(5−フェニル−1,
3,4−チアジアゾール−2−イル)アミノメチル]−
11−オキソ−1−アザトリシクロ[7.2.0.0
3,8 ]ウンデカ−2−エン−2−カルボン酸 [例示化
合物−100の(4S)異性体]
【0383】
【化43】
【0384】参考例2−(2)で得られた化合物を2−
アリルオキシカルボニルアミノ−6−フェニル−1,
3,4−チアジアゾールを用いて実施例21−(1)〜
(3)と同様の反応及び単離操作を行うことにより、目
的化合物を得ることができる。
アリルオキシカルボニルアミノ−6−フェニル−1,
3,4−チアジアゾールを用いて実施例21−(1)〜
(3)と同様の反応及び単離操作を行うことにより、目
的化合物を得ることができる。
【0385】実施例26 (4S,8S,9R,10S)−10−[(R)−1−
ヒドロキシエチル]−4−[N−(1,3,4−チアジ
アゾール−2−イル)アミノメチル]−11−オキソ−
1−アザトリシクロ[7.2.0.03,8 ]ウンデカ−
2−エン−2−カルボン酸 [例示化合物−30の
(4S)異性体]
ヒドロキシエチル]−4−[N−(1,3,4−チアジ
アゾール−2−イル)アミノメチル]−11−オキソ−
1−アザトリシクロ[7.2.0.03,8 ]ウンデカ−
2−エン−2−カルボン酸 [例示化合物−30の
(4S)異性体]
【0386】
【化44】
【0387】参考例2−(2)で得られた化合物を2−
アリルオキシカルボニルアミノ−1,3,4−チアジア
ゾールを用いて実施例21−(1)〜(3)と同様の反
応及び単離操作を行うことにより、目的化合物を得るこ
とができる。
アリルオキシカルボニルアミノ−1,3,4−チアジア
ゾールを用いて実施例21−(1)〜(3)と同様の反
応及び単離操作を行うことにより、目的化合物を得るこ
とができる。
【0388】実施例27 (4R,8S,9R,10S)−10−[(R)−1−
ヒドロキシエチル]−4−[N−(2−チアゾリル)ア
ミノメチル]−11−オキソ−1−アザトリシクロ
[7.2.0.03,8 ]ウンデカ−2−エン−2−カル
ボン酸 [例示化合物−29の(4R)異性体]
ヒドロキシエチル]−4−[N−(2−チアゾリル)ア
ミノメチル]−11−オキソ−1−アザトリシクロ
[7.2.0.03,8 ]ウンデカ−2−エン−2−カル
ボン酸 [例示化合物−29の(4R)異性体]
【0389】
【化45】
【0390】実施例1−(8)で得られた化合物を2−
アミノチアゾールを用いて実施例11−(1)〜(4)
と同様の反応及び単離操作を行うことにより、目的化合
物を得ることができる。
アミノチアゾールを用いて実施例11−(1)〜(4)
と同様の反応及び単離操作を行うことにより、目的化合
物を得ることができる。
【0391】実施例28 (4R,8S,9R,10S)−4−[N−(2−ベン
ゾチアゾリル)アミノメチル]−10−[(R)−1−
ヒドロキシエチル]−11−オキソ−1−アザトリシク
ロ[7.2.0.03,8 ]ウンデカ−2−エン−2−カ
ルボン酸 [例示化合物−47の(4R)異性体]
ゾチアゾリル)アミノメチル]−10−[(R)−1−
ヒドロキシエチル]−11−オキソ−1−アザトリシク
ロ[7.2.0.03,8 ]ウンデカ−2−エン−2−カ
ルボン酸 [例示化合物−47の(4R)異性体]
【0392】
【化46】
【0393】実施例1−(8)で得られた化合物を2−
アミノ−ベンゾチアゾールを用いて実施例11−(1)
〜(4)と同様な反応及び単離操作を行うことにより、
目的化合物を得ることができる。
アミノ−ベンゾチアゾールを用いて実施例11−(1)
〜(4)と同様な反応及び単離操作を行うことにより、
目的化合物を得ることができる。
【0394】実施例29 (4R,8S,9R,10S)−10−[(R)−1−
ヒドロキシエチル]−4−[N−(2−(4−フェニ
ル)チアゾリル)アミノメチル]−11−オキソ−1−
アザトリシクロ[7.2.0.03,8 ]ウンデカ−2−
エン−2−カルボン酸 [例示化合物−60の(4
R)異性体]
ヒドロキシエチル]−4−[N−(2−(4−フェニ
ル)チアゾリル)アミノメチル]−11−オキソ−1−
アザトリシクロ[7.2.0.03,8 ]ウンデカ−2−
エン−2−カルボン酸 [例示化合物−60の(4
R)異性体]
【0395】
【化47】
【0396】実施例1−(8)で得られた化合物を2−
アミノ−4−フェニルチアゾールを用いて実施例11−
(1)〜(4)と同様の反応及び単離操作を行うことに
より、目的化合物を得ることができる。
アミノ−4−フェニルチアゾールを用いて実施例11−
(1)〜(4)と同様の反応及び単離操作を行うことに
より、目的化合物を得ることができる。
【0397】実施例30 (4R,8S,9R,10S)−4−[N−(2−ベン
ジルチアゾリル)アミノメチル]−10−[(R)−1
−ヒドロキシエチル]−11−オキソ−1−アザトリシ
クロ[7.2.0.03,8 ]ウンデカ−2−エン−2−
カルボン酸 [例示化合物−71の(4R)異性体]
ジルチアゾリル)アミノメチル]−10−[(R)−1
−ヒドロキシエチル]−11−オキソ−1−アザトリシ
クロ[7.2.0.03,8 ]ウンデカ−2−エン−2−
カルボン酸 [例示化合物−71の(4R)異性体]
【0398】
【化48】
【0399】実施例1−(8)で得られた化合物を2−
アミノ−4−ベンジルチアゾールを用いて実施例11−
(1)〜(4)と同様の反応及び単離操作を行うことに
より、目的化合物を得ることができる。
アミノ−4−ベンジルチアゾールを用いて実施例11−
(1)〜(4)と同様の反応及び単離操作を行うことに
より、目的化合物を得ることができる。
【0400】実施例31 (4R,8S,9R,10S)−10−[(R)−1−
ヒドロキシエチル]−4−[N−(5−フェニル−1,
3,4−チアジアゾール−2−イル)アミノメチル]−
11−オキソ−1−アザトリシクロ[7.2.0.0
3,8 ]ウンデカ−2−エン−2−カルボン酸 [例示化
合物−100の(4R)異性体]
ヒドロキシエチル]−4−[N−(5−フェニル−1,
3,4−チアジアゾール−2−イル)アミノメチル]−
11−オキソ−1−アザトリシクロ[7.2.0.0
3,8 ]ウンデカ−2−エン−2−カルボン酸 [例示化
合物−100の(4R)異性体]
【0401】
【化49】
【0402】実施例1−(8)で得られた化合物を2−
アミノ−5−フェニル−1,3,4−チアジアゾールを
用いて実施例11−(1)〜(4)と同様の反応及び単
離操作を行うことにより、目的化合物を得ることができ
る。
アミノ−5−フェニル−1,3,4−チアジアゾールを
用いて実施例11−(1)〜(4)と同様の反応及び単
離操作を行うことにより、目的化合物を得ることができ
る。
【0403】参考例1 (3S,4R)−3−[(R)−1−(t−ブチルジメ
チルシリルオキシ)エチル]−4−[(2R,6R)−
6−(ヒドロキシメチル)シクロヘキサノン−2−イ
ル]アゼチジン−2−オン (1)エチル 2−ヒドロキシシクロヘキサンカルボキ
シレート エチル 2−シクロヘキサノンカルボキシレート(1
0.2g)をメタノール200mlに溶解し、−40℃
に冷却した後水素化ホウ素ナトリウム(2.72g)を
加え、同温度で3時間攪拌した後、室温まで昇温した。
適量の酢酸で処理した後、反応液を水で希釈し、酢酸エ
チル(200ml×4)で抽出し、有機層を重曹水、飽
和食塩水で洗浄し、減圧下溶媒を留去した。得られた残
渣をカラムクロマトグラフィー(シリカゲル400g、
ヘキサン:酢酸エチル=3:1→1:2)で分離精製
し、標記化合物(シス体5.47g トランス体1.5
9g)を無色油状物質として得た。
チルシリルオキシ)エチル]−4−[(2R,6R)−
6−(ヒドロキシメチル)シクロヘキサノン−2−イ
ル]アゼチジン−2−オン (1)エチル 2−ヒドロキシシクロヘキサンカルボキ
シレート エチル 2−シクロヘキサノンカルボキシレート(1
0.2g)をメタノール200mlに溶解し、−40℃
に冷却した後水素化ホウ素ナトリウム(2.72g)を
加え、同温度で3時間攪拌した後、室温まで昇温した。
適量の酢酸で処理した後、反応液を水で希釈し、酢酸エ
チル(200ml×4)で抽出し、有機層を重曹水、飽
和食塩水で洗浄し、減圧下溶媒を留去した。得られた残
渣をカラムクロマトグラフィー(シリカゲル400g、
ヘキサン:酢酸エチル=3:1→1:2)で分離精製
し、標記化合物(シス体5.47g トランス体1.5
9g)を無色油状物質として得た。
【0404】シス体 赤外線吸収スペクトル(neat)νmax cm-1 :
3513,2937,1713,1185,1040,
976. 核磁気共鳴スペクトル(270MHz,CDCl3 )δ
ppm : 1.28(3H,d,J=7.0Hz),
1.24−1.98(8H,m),2.48(1H,d
dd,J=11.3, 3.5 and 2.8H
z),3.20(1H,brd,J=2.6Hz),
4.11−4.18(1H,m),4.17(2H,
q,J=7.0Hz)。
3513,2937,1713,1185,1040,
976. 核磁気共鳴スペクトル(270MHz,CDCl3 )δ
ppm : 1.28(3H,d,J=7.0Hz),
1.24−1.98(8H,m),2.48(1H,d
dd,J=11.3, 3.5 and 2.8H
z),3.20(1H,brd,J=2.6Hz),
4.11−4.18(1H,m),4.17(2H,
q,J=7.0Hz)。
【0405】トランス体 赤外線吸収スペクトル(neat)νmax cm-1 :
3448,2936,1733,1180. 核磁気共鳴スペクトル(270MHz,CDCl3 )δ
ppm : 1.28(3H,t,J=7.2Hz),
1.14−1.45(4H,m),1.68−1.94
(2H,m),1.95−2.09(2H,m),2.
25(1H,ddd,J=3.7, 9.8 and
12.1Hz),2.83(1H,brs),3.79
−3.84(1H,m),4.18(2H,q,J=
7.2Hz)。
3448,2936,1733,1180. 核磁気共鳴スペクトル(270MHz,CDCl3 )δ
ppm : 1.28(3H,t,J=7.2Hz),
1.14−1.45(4H,m),1.68−1.94
(2H,m),1.95−2.09(2H,m),2.
25(1H,ddd,J=3.7, 9.8 and
12.1Hz),2.83(1H,brs),3.79
−3.84(1H,m),4.18(2H,q,J=
7.2Hz)。
【0406】(2)エチル (1S,2R)−2−アセ
トキシシクロヘキサンカルボキシレート 参考例1−(1)で得られたシス体(1.72g)をテ
トラヒドロフラン75mlと酢酸ビニル175mlの混
合溶媒に溶解し、固定化リパーゼ(LIP−301、東
洋紡製)10gを加え、37℃で9時間撹拌した、反応
液をセライトで濾過し、濾液を集め減圧下溶媒を留去し
た。得られた残渣をカラムクロマトグラフィー(シリカ
ゲル100g、ヘキサン:酢酸エチル=5:1→3:
1)で分離精製し、標記化合物(710mg)を無色油
状物質として得、原料(861mg)を回収した。
トキシシクロヘキサンカルボキシレート 参考例1−(1)で得られたシス体(1.72g)をテ
トラヒドロフラン75mlと酢酸ビニル175mlの混
合溶媒に溶解し、固定化リパーゼ(LIP−301、東
洋紡製)10gを加え、37℃で9時間撹拌した、反応
液をセライトで濾過し、濾液を集め減圧下溶媒を留去し
た。得られた残渣をカラムクロマトグラフィー(シリカ
ゲル100g、ヘキサン:酢酸エチル=5:1→3:
1)で分離精製し、標記化合物(710mg)を無色油
状物質として得、原料(861mg)を回収した。
【0407】赤外線吸収スペクトル(neat)νmax
cm-1 : 1238,1250,1740,294
0. 核磁気共鳴スペクトル(270MHz,CDCl3 )δ
ppm : 1.19−1.38(1H,m),1.2
3(3H,t,J=7.2Hz),1.41−1.65
(3H,m),1.72−1.88(3H,m),1.
92−2.11(1H,m),2.03(3H,s),
2.43−2.59(1H,m),4.02−4.21
(2H,m),5.35−5.42(1H,m)。
cm-1 : 1238,1250,1740,294
0. 核磁気共鳴スペクトル(270MHz,CDCl3 )δ
ppm : 1.19−1.38(1H,m),1.2
3(3H,t,J=7.2Hz),1.41−1.65
(3H,m),1.72−1.88(3H,m),1.
92−2.11(1H,m),2.03(3H,s),
2.43−2.59(1H,m),4.02−4.21
(2H,m),5.35−5.42(1H,m)。
【0408】施光度:[α]D 25 =−10.7°(C=
0.605,CHCl3 ). (3)(1R,2R)−2−ヒドロキシメチルシクロヘ
キサノール 水素化リチウムアルミニウム(122mg)をテトラヒ
ドロフラン(5ml)に溶解し、参考例1−(2)で得
られた化合物(690mg)のテトラヒドロフラン溶液
(5ml)を−70℃で滴下した。0℃まで昇温しさら
に水素化リチウムアルミニウム(36mg)を加え、4
0分撹拌した。硫酸ナトリウム10水和物(1.56
g)を加え、生成した沈殿物をセライトで濾過して除去
し、濾液を、減圧下濃縮した。得られた残渣は、カラム
クロマトグラフィー(シリカゲル25g、ヘキサン:酢
酸エチル=1:2)で精製し、標記化合物(395m
g)を無色油状物質として得た。
0.605,CHCl3 ). (3)(1R,2R)−2−ヒドロキシメチルシクロヘ
キサノール 水素化リチウムアルミニウム(122mg)をテトラヒ
ドロフラン(5ml)に溶解し、参考例1−(2)で得
られた化合物(690mg)のテトラヒドロフラン溶液
(5ml)を−70℃で滴下した。0℃まで昇温しさら
に水素化リチウムアルミニウム(36mg)を加え、4
0分撹拌した。硫酸ナトリウム10水和物(1.56
g)を加え、生成した沈殿物をセライトで濾過して除去
し、濾液を、減圧下濃縮した。得られた残渣は、カラム
クロマトグラフィー(シリカゲル25g、ヘキサン:酢
酸エチル=1:2)で精製し、標記化合物(395m
g)を無色油状物質として得た。
【0409】赤外線吸収スペクトル(neat)νmax
cm-1 : 3356,2931,2857,145
0. 核磁気共鳴スペクトル(270MHz,CDCl3 )δ
ppm : 1.18−1.85(9H,m),2.2
4(2H,brm),3.76(2H,d,J=4.1
Hz),4.13−4.19(1H,m)。
cm-1 : 3356,2931,2857,145
0. 核磁気共鳴スペクトル(270MHz,CDCl3 )δ
ppm : 1.18−1.85(9H,m),2.2
4(2H,brm),3.76(2H,d,J=4.1
Hz),4.13−4.19(1H,m)。
【0410】施光度:[α]D 25 =−32.6°(C=
0.725,CHCl3 ). (4)(1R,2R)−2−t−ブチルジメチルシリル
オキシメチルシクロヘキサノール 参考例1−(3)で得られた化合物(380mg)をジ
クロロメタンに溶解し、t−ブチルジメチルシリルクロ
リド(506mg)、トリエチルアミン(369mg)
及び4−ジメチルアミノピリジン(20mg)を加え、
室温で2時間撹拌した。反応液に重曹水を加え、酢酸エ
チル(50ml×3)で抽出し、有機層を、飽和食塩水
で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し減圧下、溶媒を
留去した。得られた残渣をカラムクロマトグラフィー
(シリカゲル50g、ヘキサン:酢酸エチル=15:1
→9:1)で精製し、標記化合物(610mg)を無色
油状物質として得た。
0.725,CHCl3 ). (4)(1R,2R)−2−t−ブチルジメチルシリル
オキシメチルシクロヘキサノール 参考例1−(3)で得られた化合物(380mg)をジ
クロロメタンに溶解し、t−ブチルジメチルシリルクロ
リド(506mg)、トリエチルアミン(369mg)
及び4−ジメチルアミノピリジン(20mg)を加え、
室温で2時間撹拌した。反応液に重曹水を加え、酢酸エ
チル(50ml×3)で抽出し、有機層を、飽和食塩水
で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し減圧下、溶媒を
留去した。得られた残渣をカラムクロマトグラフィー
(シリカゲル50g、ヘキサン:酢酸エチル=15:1
→9:1)で精製し、標記化合物(610mg)を無色
油状物質として得た。
【0411】核磁気共鳴スペクトル(270MHz,C
DCl3 )δppm : 0.07(6H,s),0.
90(9H,s),1.17−1.84(9H,m),
3.35(1H,brs),3.72(3H,dd,J
=10.0 and 4.8Hz),3.81(1H,
dd,J=10.0 and 3.7Hz),4.09
−4.15(1H,m)。
DCl3 )δppm : 0.07(6H,s),0.
90(9H,s),1.17−1.84(9H,m),
3.35(1H,brs),3.72(3H,dd,J
=10.0 and 4.8Hz),3.81(1H,
dd,J=10.0 and 3.7Hz),4.09
−4.15(1H,m)。
【0412】施光度:[α]D 25 =−12.7°(C=
0.755,CHCl3 ). (5)(R)−2−t−ブチルジメチルシリルオキシメ
チルシクロヘキサノン参考例1−(4)で得られた化合
物(550mg)をジクロロメタン(5ml)に溶解
し、モレキュラーシーブス4A、重クロム酸ピリジニウ
ム(93mg)を加え、4.5時間撹拌した。不溶物を
セライト濾過で除去し、濾液を集め、溶媒を減圧下留去
した。得られた残渣をカラムクロマトグラフィーで精製
し、標記化合物(480mg)を無色油状物質として得
た。
0.755,CHCl3 ). (5)(R)−2−t−ブチルジメチルシリルオキシメ
チルシクロヘキサノン参考例1−(4)で得られた化合
物(550mg)をジクロロメタン(5ml)に溶解
し、モレキュラーシーブス4A、重クロム酸ピリジニウ
ム(93mg)を加え、4.5時間撹拌した。不溶物を
セライト濾過で除去し、濾液を集め、溶媒を減圧下留去
した。得られた残渣をカラムクロマトグラフィーで精製
し、標記化合物(480mg)を無色油状物質として得
た。
【0413】赤外線吸収スペクトル(neat)νmax
cm-1 : 2931,2859,1710,125
4,1087,835. 核磁気共鳴スペクトル(270MHz,CDCl3 )δ
ppm : 0.05(6H,s),0.88(9H,
s),1.30−1.48(1H,m),1.54−
1.76(1H,m),1.84−1.97(1H,
m),1.96−2.13(1H,m),2.24−
2.42(2H,m),2.42−2.56(1H,
m),3.56(1H,dd,J=10.3 and
8.0Hz),3.98(1H,dd,J=4.7 a
nd 10.4Hz)。
cm-1 : 2931,2859,1710,125
4,1087,835. 核磁気共鳴スペクトル(270MHz,CDCl3 )δ
ppm : 0.05(6H,s),0.88(9H,
s),1.30−1.48(1H,m),1.54−
1.76(1H,m),1.84−1.97(1H,
m),1.96−2.13(1H,m),2.24−
2.42(2H,m),2.42−2.56(1H,
m),3.56(1H,dd,J=10.3 and
8.0Hz),3.98(1H,dd,J=4.7 a
nd 10.4Hz)。
【0414】施光度:[α]D 25 =+39.0°(C=
0.580,CHCl3 ). (6)(R)−1−トリメチルシリルオキシ−2−t−
ブチルジメチルシリルオキシメチルシクロヘキセン 参考例1−(5)で得られた化合物(400mg)をテ
トラヒドロフラン(2ml)に溶解し、リチウムビスト
リメチルシリルアミド1.0Mテトラヒドロフラン溶液
(1.8ml)に−78℃で滴下した。1時間後、反応
液にトリメチルシリルクロリド(269mg)を加え、
1時間かけて室温まで昇温した。減圧下、溶媒を留去
し、残渣をカラムクロマトグラフィー(シリカゲル10
g、ヘキサン:酢酸エチル=40:1)で精製し、標記
化合物(653mg)を無色油状物質として得た。
0.580,CHCl3 ). (6)(R)−1−トリメチルシリルオキシ−2−t−
ブチルジメチルシリルオキシメチルシクロヘキセン 参考例1−(5)で得られた化合物(400mg)をテ
トラヒドロフラン(2ml)に溶解し、リチウムビスト
リメチルシリルアミド1.0Mテトラヒドロフラン溶液
(1.8ml)に−78℃で滴下した。1時間後、反応
液にトリメチルシリルクロリド(269mg)を加え、
1時間かけて室温まで昇温した。減圧下、溶媒を留去
し、残渣をカラムクロマトグラフィー(シリカゲル10
g、ヘキサン:酢酸エチル=40:1)で精製し、標記
化合物(653mg)を無色油状物質として得た。
【0415】(7)(3S,4R)−3−[(R)−1
−(t−ブチルジメチルシリルオキシ)エチル]−4−
[(2R,6R)−6−(t−ブチルジメチルシリルオ
キシメチル)シクロヘキサノン−2−イル]アゼチジン
−2−オン (3S,4R)−4−アセトキシ−3−[(R)−1−
(t−ブチルジメチルシリルオキシ)エチル]−1−ト
リメチルシリルアゼチジン−2−オン(653mg)を
ジクロロメタンに溶解し、参考例7−(6)で得られた
化合物のジクロロメタン溶液4mlを加え、さらに45
0mgの塩化亜鉛を加えた後室温で3時間撹拌した。反
応液に重曹水を加え、生成する不溶物をセライトを通し
て除去した後酢酸エチル(50ml×3)で抽出し、有
機層を、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧下留
去した。得られた残渣を酢酸エチル10mlに溶解し、
シリカゲル5gを加えて2時間撹拌し、濾過した後、溶
媒を留去し残渣をカラムクロマトグラフィー(シリカゲ
ル50g、ヘキサン:酢酸エチル=3:1→2:1)で
精製し、立体選択的に、標記化合物を白色結晶(485
mg)として得た。
−(t−ブチルジメチルシリルオキシ)エチル]−4−
[(2R,6R)−6−(t−ブチルジメチルシリルオ
キシメチル)シクロヘキサノン−2−イル]アゼチジン
−2−オン (3S,4R)−4−アセトキシ−3−[(R)−1−
(t−ブチルジメチルシリルオキシ)エチル]−1−ト
リメチルシリルアゼチジン−2−オン(653mg)を
ジクロロメタンに溶解し、参考例7−(6)で得られた
化合物のジクロロメタン溶液4mlを加え、さらに45
0mgの塩化亜鉛を加えた後室温で3時間撹拌した。反
応液に重曹水を加え、生成する不溶物をセライトを通し
て除去した後酢酸エチル(50ml×3)で抽出し、有
機層を、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧下留
去した。得られた残渣を酢酸エチル10mlに溶解し、
シリカゲル5gを加えて2時間撹拌し、濾過した後、溶
媒を留去し残渣をカラムクロマトグラフィー(シリカゲ
ル50g、ヘキサン:酢酸エチル=3:1→2:1)で
精製し、立体選択的に、標記化合物を白色結晶(485
mg)として得た。
【0416】赤外線吸収スペクトル(KBr)νmax c
m-1 : 3080,2930,1761,1716,
1257,836. 核磁気共鳴スペクトル(400MHz,CDCl3 )δ
ppm : 0.04(6H,s),0.06(3H,
s),0.07(3H,s),0.88(18H,
s),1.17(3H,d,J=6.1Hz),1.6
6−2.09(6H,m),2.57−2.62(1
H,m),2.63−2.75(1H,m),2.87
(1H,dd,J=4.3 and 2.4Hz),
3.74(1H,dd,J=10.2 and 7.0
Hz),3.90(1H,dd,J=10.2 and
7.0Hz),4.09(1H,dd,J=5.4
and 2.4Hz),4.21(1H,dq,J=
6.1 and 4.3Hz),5.79(1H,br
s)。
m-1 : 3080,2930,1761,1716,
1257,836. 核磁気共鳴スペクトル(400MHz,CDCl3 )δ
ppm : 0.04(6H,s),0.06(3H,
s),0.07(3H,s),0.88(18H,
s),1.17(3H,d,J=6.1Hz),1.6
6−2.09(6H,m),2.57−2.62(1
H,m),2.63−2.75(1H,m),2.87
(1H,dd,J=4.3 and 2.4Hz),
3.74(1H,dd,J=10.2 and 7.0
Hz),3.90(1H,dd,J=10.2 and
7.0Hz),4.09(1H,dd,J=5.4
and 2.4Hz),4.21(1H,dq,J=
6.1 and 4.3Hz),5.79(1H,br
s)。
【0417】施光度:[α]D 25 =+65.4°(C=
0.895,CHCl3 ). (8)(3S,4R)−3−[(R)−1−(t−ブチ
ルジメチルシリルオキシ)エチル]−4−[(2R,6
R)−6−(ヒドロキシメチル)シクロヘキサノン−2
−イル]アゼチジン−2−オン 参考例1−(7)で得られた化合物(10.0g)をジ
メチルホルムアミド(100ml)に溶解し、フッ化水
素アンモニウム(1.34g)を加え約2日間撹拌し
た。重曹水を加え中和し、酢酸エチルで抽出(250m
l×3)後、有機層を、飽和食塩水で洗い、無水硫酸ナ
トリウムで乾燥後、減圧下、溶媒を留去した。得られた
残渣をカラムクロマトグラフィー(シリカゲル350
g、ヘキサン:酢酸エチル=1:1→1:4)で精製
し、標記化合物(5.61g)を得た。
0.895,CHCl3 ). (8)(3S,4R)−3−[(R)−1−(t−ブチ
ルジメチルシリルオキシ)エチル]−4−[(2R,6
R)−6−(ヒドロキシメチル)シクロヘキサノン−2
−イル]アゼチジン−2−オン 参考例1−(7)で得られた化合物(10.0g)をジ
メチルホルムアミド(100ml)に溶解し、フッ化水
素アンモニウム(1.34g)を加え約2日間撹拌し
た。重曹水を加え中和し、酢酸エチルで抽出(250m
l×3)後、有機層を、飽和食塩水で洗い、無水硫酸ナ
トリウムで乾燥後、減圧下、溶媒を留去した。得られた
残渣をカラムクロマトグラフィー(シリカゲル350
g、ヘキサン:酢酸エチル=1:1→1:4)で精製
し、標記化合物(5.61g)を得た。
【0418】赤外線吸収スペクトル(KBr)νmax c
m-1 : 3154,3073,2935,1762,
1715. 核磁気共鳴スペクトル(270MHz,CDCl3 )δ
ppm : 0.07(6H,s),0.88(9H,
s),1.11(3H,d,J=6.2Hz),2.0
5−1.64(6H,m),2.42(1H,br
s),2.56−2.66(2H,m),2.93(1
H,dd,J=3.5 and 2.1Hz),3.6
9(1H,dd,J=11.2 and 4.6H
z),3.82(1H,dd,J=11.2 and
7.8Hz),4.08(1H,dd,J=7.9 a
nd 2.1Hz),4.21(1H,qd,J=6.
1 and3.5Hz),6.28(1H,brs)。
m-1 : 3154,3073,2935,1762,
1715. 核磁気共鳴スペクトル(270MHz,CDCl3 )δ
ppm : 0.07(6H,s),0.88(9H,
s),1.11(3H,d,J=6.2Hz),2.0
5−1.64(6H,m),2.42(1H,br
s),2.56−2.66(2H,m),2.93(1
H,dd,J=3.5 and 2.1Hz),3.6
9(1H,dd,J=11.2 and 4.6H
z),3.82(1H,dd,J=11.2 and
7.8Hz),4.08(1H,dd,J=7.9 a
nd 2.1Hz),4.21(1H,qd,J=6.
1 and3.5Hz),6.28(1H,brs)。
【0419】施光度:[α]D 25 =+48.9°(C=
0.845,CHCl3 ). (9)(1S,2R)−2−t−ブチルジメチルシリル
オキシメチルシクロヘキサノール エチル 2−シクロヘキサノンカルボキシレートをBI
NAP−Ruを用いる触媒的不斉水素化反応(M.Ki
tamura他、Tetrhedron Asymme
try,1巻,1頁,1990年)することにより得ら
れるエチル(1S,2R)−2−アセトキシシクロヘキ
サンカルボキシレート(20g、87.5%e.e.)
をジクロメタン(200ml)に溶解し氷冷下無水酢酸
(13.0g)、4−ジメチルアミノピリジン(15.
6g)を加え、1時間攪拌後、反応液を減圧下濃縮し、
残渣を酢酸エチル(700ml×3)で抽出した。有機
層を1N塩酸と重曹水で順次洗い、無水硫酸ナトリウム
で乾燥後、減圧下溶媒を留去した。得られた粗精製物ア
セチル体(26.9g)を単離精製することなしに参考
例1−(3)と同様の反応、及び単離操作を行うことに
より、(1S,2R)−2−ヒドロキシメチルシクロヘ
キサノールの粗精製物を得た。このものを単離精製する
ことなく、参考例1−(4)と同様の反応及び単離操作
を行うことにより、標題化合物(24.3g)を無色油
状物質として得た。
0.845,CHCl3 ). (9)(1S,2R)−2−t−ブチルジメチルシリル
オキシメチルシクロヘキサノール エチル 2−シクロヘキサノンカルボキシレートをBI
NAP−Ruを用いる触媒的不斉水素化反応(M.Ki
tamura他、Tetrhedron Asymme
try,1巻,1頁,1990年)することにより得ら
れるエチル(1S,2R)−2−アセトキシシクロヘキ
サンカルボキシレート(20g、87.5%e.e.)
をジクロメタン(200ml)に溶解し氷冷下無水酢酸
(13.0g)、4−ジメチルアミノピリジン(15.
6g)を加え、1時間攪拌後、反応液を減圧下濃縮し、
残渣を酢酸エチル(700ml×3)で抽出した。有機
層を1N塩酸と重曹水で順次洗い、無水硫酸ナトリウム
で乾燥後、減圧下溶媒を留去した。得られた粗精製物ア
セチル体(26.9g)を単離精製することなしに参考
例1−(3)と同様の反応、及び単離操作を行うことに
より、(1S,2R)−2−ヒドロキシメチルシクロヘ
キサノールの粗精製物を得た。このものを単離精製する
ことなく、参考例1−(4)と同様の反応及び単離操作
を行うことにより、標題化合物(24.3g)を無色油
状物質として得た。
【0420】核磁気共鳴スペクトル(270MHz,CDCl3)δpp
m:0.09(3H,s),0.10(3H,s),0.74-1.79(8H,m),0.91(9H,
s),1.92-2.02(1H,m),3.42-3.57(1H,m),3.58(1H,dd,J=9.
9,9.4Hz),3.72(1H,dd,J=9.4,4.0Hz),4.33(1H,brs). (10)参考例1−(9)で得られた化合物(7.14
g)をジクロロメタン60mlに溶解し、モレキュラー
シーブ4A(14.6g)、過ルテニウム酸テトラプロ
ピルアンモニウム(513mg)、N−メチルモルホリ
ン−N−オキシド(5.13g)を加え3日間攪拌し
た。不溶物をセライトろ過して除いた後、減圧下ろ液を
濃縮した。得られた残渣をカラムクロマトグラフィー
(シリカゲル400g、ヘキサン:酢酸エチル=9:1
→5:1)で精製し、目的化合物(3.44g,86,
1%e.e.)を得た。このものは、赤外線吸収スペク
トル、核磁気共鳴スペクトル共に参考例1−(5)で得
られた化合物と一致した。
m:0.09(3H,s),0.10(3H,s),0.74-1.79(8H,m),0.91(9H,
s),1.92-2.02(1H,m),3.42-3.57(1H,m),3.58(1H,dd,J=9.
9,9.4Hz),3.72(1H,dd,J=9.4,4.0Hz),4.33(1H,brs). (10)参考例1−(9)で得られた化合物(7.14
g)をジクロロメタン60mlに溶解し、モレキュラー
シーブ4A(14.6g)、過ルテニウム酸テトラプロ
ピルアンモニウム(513mg)、N−メチルモルホリ
ン−N−オキシド(5.13g)を加え3日間攪拌し
た。不溶物をセライトろ過して除いた後、減圧下ろ液を
濃縮した。得られた残渣をカラムクロマトグラフィー
(シリカゲル400g、ヘキサン:酢酸エチル=9:1
→5:1)で精製し、目的化合物(3.44g,86,
1%e.e.)を得た。このものは、赤外線吸収スペク
トル、核磁気共鳴スペクトル共に参考例1−(5)で得
られた化合物と一致した。
【0421】旋光度:[α]D 25 =33.6°(C=
1.23.CHCl3 ) 参考例2 (4S,8S,9R,10S)−10−[(R)−1−
(t−ブチルジメチルシリルオキシ)エチル]−4−ヒ
ドロキシメチル−11−オキソ−1−アザトリシクロ
[7.2.0.03,8 ]ウンデカ−2−エン−2−カル
ボン酸アリル (1)(4S,8S,9R,10S)−10−[(R)
−1−(t−ブチルジメチルシリルオキシエチル]−4
−t−ブチルジメイルシリルオキシメチル−11−オキ
ソ−1−アザトリシクロ[7.2.0.03,8 ]ウンデ
カ−2−エン−2−カルボン酸アリル 参考例1−(7)で得られた化合物(1.68g)をジ
クロロメタン(30ml)に溶解し、氷冷下トリエチル
アミン(725mg)と塩化アリルオキザリル(796
mg)を加え、3時間撹拌した。反応液に2−プロパノ
ール(84mg)を加え、15分間撹拌後、減圧下溶媒
を留去した。得られた残渣をカラムクロマトグラフィー
(シリカゲル30g、ヘキサン:酢酸エチル=3:1)
で精製し、油状物を得た。これをトルエン(30ml)
に溶解し、ジエチルエチルホスホナイト(1.60g)
を加え50℃で2時間撹拌した後、溶媒をキシレンに置
き換えて、160℃で3時間還流した。減圧下、キシレ
ンを留去し、得られた残渣をカラムクロマトグラフィー
(シリカゲル120g、ヘキサン:酢酸エチル=5:
1)で精製し、標記化合物(1.72g)を無色油状物
質として得た。
1.23.CHCl3 ) 参考例2 (4S,8S,9R,10S)−10−[(R)−1−
(t−ブチルジメチルシリルオキシ)エチル]−4−ヒ
ドロキシメチル−11−オキソ−1−アザトリシクロ
[7.2.0.03,8 ]ウンデカ−2−エン−2−カル
ボン酸アリル (1)(4S,8S,9R,10S)−10−[(R)
−1−(t−ブチルジメチルシリルオキシエチル]−4
−t−ブチルジメイルシリルオキシメチル−11−オキ
ソ−1−アザトリシクロ[7.2.0.03,8 ]ウンデ
カ−2−エン−2−カルボン酸アリル 参考例1−(7)で得られた化合物(1.68g)をジ
クロロメタン(30ml)に溶解し、氷冷下トリエチル
アミン(725mg)と塩化アリルオキザリル(796
mg)を加え、3時間撹拌した。反応液に2−プロパノ
ール(84mg)を加え、15分間撹拌後、減圧下溶媒
を留去した。得られた残渣をカラムクロマトグラフィー
(シリカゲル30g、ヘキサン:酢酸エチル=3:1)
で精製し、油状物を得た。これをトルエン(30ml)
に溶解し、ジエチルエチルホスホナイト(1.60g)
を加え50℃で2時間撹拌した後、溶媒をキシレンに置
き換えて、160℃で3時間還流した。減圧下、キシレ
ンを留去し、得られた残渣をカラムクロマトグラフィー
(シリカゲル120g、ヘキサン:酢酸エチル=5:
1)で精製し、標記化合物(1.72g)を無色油状物
質として得た。
【0422】赤外線吸収スペクトル(CHCl3 )ν
max cm-1 : 2932,2859,1771,17
15,1259,1102. 核磁気共鳴スペクトル(270MHz,CDCl3 )δ
ppm : 0.04(3H,s),0.07(3H,
s),0.87(9H,s),1.24(3H,d,J
=6.2Hz),1.21−2.04(6H,m),
2.94−3.08(1H,m),3.17(1H,d
d,J=6.7 and 3.2Hz),3.67−
3.85(3H,m),4.08(1H,dd,J=1
0.5 and 3.2Hz),4.19(1H,qu
int,J=6.2Hz),4.67(1H,dd,J
=13.7 and 5.5Hz),4.78(1H,
dd,J=10.4 and 5.5Hz),5.24
(1H,d,J=9.0Hz),5.42(1H,d,
J=17.2Hz),5.89−6.06(1H,
m)。
max cm-1 : 2932,2859,1771,17
15,1259,1102. 核磁気共鳴スペクトル(270MHz,CDCl3 )δ
ppm : 0.04(3H,s),0.07(3H,
s),0.87(9H,s),1.24(3H,d,J
=6.2Hz),1.21−2.04(6H,m),
2.94−3.08(1H,m),3.17(1H,d
d,J=6.7 and 3.2Hz),3.67−
3.85(3H,m),4.08(1H,dd,J=1
0.5 and 3.2Hz),4.19(1H,qu
int,J=6.2Hz),4.67(1H,dd,J
=13.7 and 5.5Hz),4.78(1H,
dd,J=10.4 and 5.5Hz),5.24
(1H,d,J=9.0Hz),5.42(1H,d,
J=17.2Hz),5.89−6.06(1H,
m)。
【0423】施光度:[α]D 25 =+96.0°(C=
1.32,CHCl3 ). (2)(4S,8S,9R,10S)−10−[(R)
−1−(t−ブチルジメチルシリルオキシ)エチル]−
4−ヒドロキシメチル−11−オキソ−1−アザトリシ
クロ[7.2.0.03,8 ]ウンデカ−2−エン−2−
カルボン酸アリル 参考例2−(1)で得られた化合物(5.90g)をD
MF(60ml)に溶解し、フッ化水素アンモニウム
(641mg)を加え3日間室温で撹拌した。反応液
に、重曹水を加え中和し、酢酸エチル(250ml×
4)で抽出した。有機層を飽和食塩水で洗い、無水硫酸
ナトリウムで乾燥後、減圧下、溶媒を留去した。得られ
た残渣をカラムクロマトグラフィー(シリカゲル300
g、ヘキサン:酢酸エチル=3:2→1:1)で精製
し、標記化合物(2.22g)を無色油状物質として得
た。
1.32,CHCl3 ). (2)(4S,8S,9R,10S)−10−[(R)
−1−(t−ブチルジメチルシリルオキシ)エチル]−
4−ヒドロキシメチル−11−オキソ−1−アザトリシ
クロ[7.2.0.03,8 ]ウンデカ−2−エン−2−
カルボン酸アリル 参考例2−(1)で得られた化合物(5.90g)をD
MF(60ml)に溶解し、フッ化水素アンモニウム
(641mg)を加え3日間室温で撹拌した。反応液
に、重曹水を加え中和し、酢酸エチル(250ml×
4)で抽出した。有機層を飽和食塩水で洗い、無水硫酸
ナトリウムで乾燥後、減圧下、溶媒を留去した。得られ
た残渣をカラムクロマトグラフィー(シリカゲル300
g、ヘキサン:酢酸エチル=3:2→1:1)で精製
し、標記化合物(2.22g)を無色油状物質として得
た。
【0424】赤外線吸収スペクトル(CHCl3 )ν
max cm-1 : 2933,2859,1771,17
20. 核磁気共鳴スペクトル(270MHz,CDCl3 )δ
ppm : 0.08(6H,s),0.88(9H,
s),1.16−1.92(6H,m),1.23(3
H,d,J=6.2Hz),2.97−3.10(1
H,m),3.20(1H,dd,J=6.3 and
3.4Hz),3.71−3.88(3H,m),
4.16(1H,dd,J=10.6 and 3.4
Hz),4.21(1H,quint,J=6.2H
z),4.69(1H,dd,J=13.6 and
5.5Hz),4.77(1H,dd,J=13.6
and5.2Hz),5.26(1H,dd,J=1
0.6 and 1.2Hz),5.46(1H,d
d,J=17.2 and 1.2Hz),5.88−
6,04(1H,m)。
max cm-1 : 2933,2859,1771,17
20. 核磁気共鳴スペクトル(270MHz,CDCl3 )δ
ppm : 0.08(6H,s),0.88(9H,
s),1.16−1.92(6H,m),1.23(3
H,d,J=6.2Hz),2.97−3.10(1
H,m),3.20(1H,dd,J=6.3 and
3.4Hz),3.71−3.88(3H,m),
4.16(1H,dd,J=10.6 and 3.4
Hz),4.21(1H,quint,J=6.2H
z),4.69(1H,dd,J=13.6 and
5.5Hz),4.77(1H,dd,J=13.6
and5.2Hz),5.26(1H,dd,J=1
0.6 and 1.2Hz),5.46(1H,d
d,J=17.2 and 1.2Hz),5.88−
6,04(1H,m)。
【0425】施光度:[α]D 26 =+133.3°(C
=0.780,CHCl3 ). 試験例1 本発明の有効成分である一般式(I)で示される化合物
の種々の病原菌に対する抗菌活性を寒天平板希釈法によ
り測定した。このうち、メチシリン耐性黄色ブドウ球菌
(MRSA)を含む黄色ブドウ球菌(Staphylococcus au
reus) に対する最小発育阻止濃度(MICμg/ml)
を表20に示す。
=0.780,CHCl3 ). 試験例1 本発明の有効成分である一般式(I)で示される化合物
の種々の病原菌に対する抗菌活性を寒天平板希釈法によ
り測定した。このうち、メチシリン耐性黄色ブドウ球菌
(MRSA)を含む黄色ブドウ球菌(Staphylococcus au
reus) に対する最小発育阻止濃度(MICμg/ml)
を表20に示す。
【0426】
【表20】 ──────────────────────────────── MIC(μg/ml) 化合物 ──────────────── A B C ──────────────────────────────── 実施例2の化合物 ≦0.01 0.05 1.5 実施例9の化合物 ≦0.01 0.02 3.1 実施例21の化合物 0.02 0.05 3.1 Sanfetrinem 0.02 0.05 12.5 ──────────────────────────────── A:Staphylococcus aureus 209P B:Staphylococcus aureus 56R C:Staphylococcus aureus 535(MRSA) 本発明の有効成分である一般式(I)で示される化合物
は、種々の病原菌に対して良好な抗菌活性を示した。特
に、メチシリン耐性黄色ぶどう球菌(MRSA)に対し
て優れた抗菌活性を示した。
は、種々の病原菌に対して良好な抗菌活性を示した。特
に、メチシリン耐性黄色ぶどう球菌(MRSA)に対し
て優れた抗菌活性を示した。
【0427】本発明の有効成分である化合物は、臨床上
問題とされているメチシリン耐性黄色ブドウ球菌(MR
SA)に対して、トリネムとして知られているSanf
etrinemに比べて優れた抗菌活性を示した。
問題とされているメチシリン耐性黄色ブドウ球菌(MR
SA)に対して、トリネムとして知られているSanf
etrinemに比べて優れた抗菌活性を示した。
【0428】試験例2 実施例で得られた一般式(I)で示される化合物は、マ
ウスに皮下投与すると尿中に高率で回収された。
ウスに皮下投与すると尿中に高率で回収された。
【0429】製剤例1 注射剤 実施例1の化合物500mgを注射用蒸留水5mlに溶
解し滅菌用フィルターを通した後凍結乾燥し、注射用凍
結乾燥製剤とする。
解し滅菌用フィルターを通した後凍結乾燥し、注射用凍
結乾燥製剤とする。
【0430】 製剤例2 カプセル剤 実施例1の化合物 50mg 乳糖 128mg トウモロコシデンプン 70mg ステアリン酸マグネシウム 2mg 250mg 上記処方の粉末を混合し、60メッシュのふるいを通し
た後、この粉末を250mgの3号ゼラチンカプセルに
入れ、カプセル剤とする。
た後、この粉末を250mgの3号ゼラチンカプセルに
入れ、カプセル剤とする。
【0431】製剤例3 錠剤 実施例1の化合物 50mg 乳糖 126mg トウモロコシデンプン 23mg ステアリン酸マグネシウム 1mg 200mg 上記処方の粉末を混合し、トウモロコシデンプン糊を用
いて湿式造粒、乾燥した後、打錠機により打錠して、1
錠200mgの錠剤とする。この錠剤は必要に応じて糖
衣を施すことができる。
いて湿式造粒、乾燥した後、打錠機により打錠して、1
錠200mgの錠剤とする。この錠剤は必要に応じて糖
衣を施すことができる。
【0432】
【発明の効果】本発明の有効成分である一般式(I)を
有する三環性複素環化合物またはその薬理上許容される
塩若しくは誘導体は、優れた抗菌活性を示し、β−ラク
タマーゼ抑制活性を有している。すなわち、化合物
(I)は、たとえば黄色ブドウ球菌、腸球菌などのグラ
ム陽性菌、大腸菌、赤痢菌、肺炎桿菌、変形菌、セラチ
ア、エンテロバクター、緑膿菌などのグラム陰性菌およ
びバクテロイデスフラジリスなどの嫌気性菌を包含する
広範囲な病原菌に対し抗菌活性を示し、特にそれらの中
でも近年問題となっているメチシリン耐性黄色ブドウ球
菌(MRSA)に強力な抗菌活性を示す。また、チエナ
マイシン系化合物は哺乳類によって代謝を受けやすい
が、化合物(I)はチエナマイシンの不活性化を触媒す
る酵素として知られているデヒドロペプチダーゼ−Iに
対してもすぐれた安定性を示し、尿中回収率も高い。更
に、化合物(I)は毒性も低い。従って、本発明の有効
成分である一般式(I)を有する三環性複素環化合物ま
たはその薬理上許容される塩若しくは誘導体は、医薬と
して有用であり、特に細菌感染症を治療若しくは予防
(好ましくは治療)する抗菌剤として有用である。
有する三環性複素環化合物またはその薬理上許容される
塩若しくは誘導体は、優れた抗菌活性を示し、β−ラク
タマーゼ抑制活性を有している。すなわち、化合物
(I)は、たとえば黄色ブドウ球菌、腸球菌などのグラ
ム陽性菌、大腸菌、赤痢菌、肺炎桿菌、変形菌、セラチ
ア、エンテロバクター、緑膿菌などのグラム陰性菌およ
びバクテロイデスフラジリスなどの嫌気性菌を包含する
広範囲な病原菌に対し抗菌活性を示し、特にそれらの中
でも近年問題となっているメチシリン耐性黄色ブドウ球
菌(MRSA)に強力な抗菌活性を示す。また、チエナ
マイシン系化合物は哺乳類によって代謝を受けやすい
が、化合物(I)はチエナマイシンの不活性化を触媒す
る酵素として知られているデヒドロペプチダーゼ−Iに
対してもすぐれた安定性を示し、尿中回収率も高い。更
に、化合物(I)は毒性も低い。従って、本発明の有効
成分である一般式(I)を有する三環性複素環化合物ま
たはその薬理上許容される塩若しくは誘導体は、医薬と
して有用であり、特に細菌感染症を治療若しくは予防
(好ましくは治療)する抗菌剤として有用である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) A61K 31/44 A61K 31/44 (72)発明者 小林 志乃 東京都品川区広町1丁目2番58号 三共株 式会社内 (72)発明者 下地 康雄 東京都品川区広町1丁目2番58号 三共株 式会社内 (72)発明者 大屋 哲 東京都品川区広町1丁目2番58号 三共株 式会社内 Fターム(参考) 4C050 KA04 KA20 KB05 KB13 KB16 4C086 AA01 AA02 CC08 GA16 MA01 MA04 NA03 NA05 NA14 ZB35
Claims (35)
- 【請求項1】一般式 【化1】 {式中、Aは次の式,,またはのいずれかの基
を示す。式 【化2】 [式中、kは0または1を示し、 mは0、1または2を示し、 R2 は水素原子、C1 〜C4 アルキル基、1〜3個の置
換基を有してもよいC7 〜C14アラルキル基(該置換基
はハロゲン原子、C1 〜C4 アルキル基またはカルバモ
イル基を示す)、1〜3個の置換基を有してもよい1〜
3個の窒素、酸素若しくは硫黄原子を含有する5〜6員
ヘテロアラルキル基(該置換基はハロゲン原子、C1 〜
C4 アルキル基またはカルバモイル基を示す)、式−C
(=NH)R4 で表される基(式中、R4 は水素原子、
C1 〜C4 アルキル基、アミノ基またはモノ−若しくは
ジ−C1 〜C4 アルキルアミノ基を示す)、1〜3個の
窒素、酸素若しくは硫黄原子を含有する5〜6員ヘテロ
シクリル基、または1〜3個の窒素、酸素若しくは硫黄
原子を含有する5〜6員ヘテロアリール基を示し、 R3 は水素原子、オキソ基、スルファモイルアミノメチ
ル基、式−COR5で表される基(式中、R5 はアミノ
基、モノ−若しくはジ−C1 〜C4 アルキルアミノ基、
式 【化3】 で表される基(式中、nは1または2を示し、R6 は水
素原子、C1 〜C4 アルキル基、式−C(=NH)R4a
で表される基(式中、R4aは水素原子、C1 〜C4 アル
キル基、アミノ基またはモノ−若しくはジ−C1 〜C4
アルキルアミノ基を示す)、1〜3個の窒素、酸素若し
くは硫黄原子を含有する5〜6員ヘテロシクリル基、ま
たは1〜3個の窒素、酸素若しくは硫黄原子を含有する
5〜6員ヘテロアリール基を示す)、または式 【化4】 で表される基(式中、sは0、1または2を示し、pは
0または1を示し、R7は水素原子またはC1 〜C4 ア
ルキル基を示し、R8 は水素原子、C1 〜C4 アルキル
基または式−C(=NH)R4aで表される基(式中、R
4aは水素原子、C1 〜C4 アルキル基、アミノ基または
モノ−若しくはジ−C1 〜C4 アルキルアミノ基を示
す)を示す)を示す)を示す。]、 式 【化5】 [式中、qは0、1または2を示し、 R9 は1〜3個の置換基を有してもよいフェニル基(該
置換基はC1 〜C4 アルキル基、C1 〜C4 アルコキシ
基、ニトロ基、ハロゲン原子、水酸基、シアノ基、カル
バモイル基、モノ−若しくはジ−C1 〜C4 アルキルカ
ルバモイル基、スルファモイル基、または1〜3個の窒
素、酸素若しくは硫黄原子を含有する5〜6員ヘテロア
リール基を示す)を示す。]、 式 【化6】 [式中、rは0,1,2または3を示し、 R10は水素原子またはC1 〜C4 アルキル基を示し、 R11は水素原子、C1 〜C4 アルキル基または式−C
(=NH)R4 で表される基(式中、R4 は水素原子、
C1 〜C4 アルキル基、アミノ基またはモノ−若しくは
ジ−C1 〜C4 アルキルアミノ基を示す)を示す。]ま
たは、 式 【化7】 [式中、R12は水素原子、C1 〜C4 アルキル基または
式−C(=NH)R4で表される基(式中、R4 は水素
原子、C1 〜C4 アルキル基、アミノ基またはモノ−若
しくはジ−C1 〜C4 アルキルアミノ基を示す)を示
し、 R13は1〜3個の置換基を有するC1 〜C4 アルキル基
(該置換基はハロゲン原子、カルバモイル基または水酸
基を示す)、C3 〜C6 シクロアルキル基、1〜3個の
置換基を有してもよいC6 〜C10アリール基、1〜3個
の置換基を有してもよいC7 〜C14アラルキル基(該置
換基は、ニトロ基、ハロゲン原子、メチル基、アミノ
基、スルファモイル基、カルバモイル基、メチルカルバ
モイル基、ジメチルカルバモイル基、1〜3個の窒素、
酸素若しくは硫黄原子を含有する5〜6員ヘテロアリー
ル基、メトキシ基、ジフルオロメトキシ基、メチレンジ
オキシ基、ベンジルオキシ基、ピリジルメトキシ基また
はアセチルアミノ基を示す)、下記の置換基群(a)か
ら選ばれる1〜3個の置換基を有してもよい1〜3個の
窒素、酸素若しくは硫黄原子を含有する5〜6員ヘテロ
アリール基若しくはベンゼン環縮合5〜6員ヘテロアリ
ール基、または、下記の置換基群(a)から選ばれる1
〜3個の置換基を有してもよい1〜3個の窒素、酸素若
しくは硫黄原子を含有する5〜6員ヘテロアラルキル基
若しくはベンゼン環縮合5〜6員ヘテロアラルキル基を
示す。 置換基群(a):ハロゲン原子、C1 〜C4 アルコキシ
カルボニル基、カルボキシ基、置換基を有してもよいア
ミノ基(該置換基はカルバモイル基、チオカルバモイル
基、C1 〜C4 アルキル基、2−ヒドロキシエチル基、
カルバモイルメチル基またはカルボキシメチル基を示
す)、置換基を有してもよいスルファモイル基(該置換
基はC1 〜C4 アルキル基またはフェニル基を示す)、
フェニルスルホニル基、ハロゲン原子で置換されてもよ
いフェニルチオ基、ピリジルチオ基、メトキシ基で置換
されてもよいC7 〜C14アラルキル基、置換基を有して
もよいC1 〜C4 アルキル基(該置換基はカルボキシ
基、水酸基、ピロリジニル基、モルホリニル基、ピペリ
ジニル基、イミダゾリル基、N−メチルイミダゾリル
基、ハロゲン原子、ジメチルアミノ基、メチルアミノ
基、アミノ基、4−メトキシフェニル基、カルバモイル
基、フェニルカルバモイル基またはエトキシカルボニル
基を示す)、置換基を有してもよいフェニル若しくはナ
フチル基(該置換基はハロゲン原子、C1 〜C4 アルキ
ル基、C1 〜C4 アルコキシ基、スルファモイル基、水
酸基、カルボキシメトキシ基、カルバモイルメトキシ
基、アミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ト
リメチルアンモニオ基、N−カルバモイルメチル−N,
N−ジメチルアンモニオ基またはN−2−ヒドロキシエ
チル−N,N−ジメチルアンモニオ基を示す)、置換基
を有してもよいC1 〜C4 アルキルチオ基(該置換基は
水酸基、フェニル基、ピリジル基を示す)、N原子に置
換基を有するピリジニオ基(該置換基はメチル基、カル
バモイルメチル基、2−ヒドロキシエチル基またはカル
ボキシメチル基を示す)、フェノキシ基、トリメチルア
ンモニオ基、N−カルバモイルメチル−N,N−ジメチ
ルアンモニオ基、N−2−ヒドロキシエチル−N,N−
ジメチルアンモニオ基、置換基を有してもよいカルバモ
イル若しくはチオカルバモイル基(該置換基はC1 〜C
4 アルキル基、2−ヒドロキシエチル基、カルバモイル
メチル基を示す)、または、メチル基で置換されてもよ
い1〜3個の窒素、酸素若しくは硫黄原子を含有する5
〜6員ヘテロアリール基。]}を有する三環性複素環化
合物またはその薬理上許容される塩若しくは誘導体を有
効成分として含有する抗菌剤。 - 【請求項2】請求項1において、Aが式の基で示さ
れ、R2 が、水素原子、C1 〜C4 アルキル基、1〜2
個の置換基を有してもよいベンジル、フェネチル、ナフ
チルメチル、ピリジルメチル、イミダゾリルメチル、チ
アゾリルメチル、チアゾリルエチル若しくはチアジアゾ
リルメチル基(該置換基はフッ素原子、メチル基または
カルバモイル基を示す)、式−C(=NH)R4 で表さ
れる基(式中、R4 は水素原子、メチル基またはアミノ
基を示す)、2−イミダゾリニル基、2−チアゾリニル
基、イミダゾリル基、チアゾリル基またはピリジル基で
ある三環性複素環化合物またはその薬理上許容される塩
若しくは誘導体を有効成分として含有する抗菌剤。 - 【請求項3】請求項1において、Aが式の基で示さ
れ、R2 が、水素原子、メチル基、エチル基、1〜2個
の置換基を有してもよいベンジル若しくはピリジルメチ
ル基(該置換基はフッ素原子、メチル基またはカルバモ
イル基を示す)、ホルムイミドイル基、アセトイミドイ
ル基、アミジノ基、2−イミダゾリン−2−イル基また
は2−チアゾリン−2−イル基である三環性複素環化合
物またはその薬理上許容される塩若しくは誘導体を有効
成分として含有する抗菌剤。 - 【請求項4】請求項1において、Aが一般式の基で示
され、R2 が、水素原子、メチル基、エチル基、ベンジ
ル基、ピリジルメチル基、ホルムイミドイル基、アセト
イミドイル基、アミジノ基、2−イミダゾリン−2−イ
ル基または2−チアゾリン−2−イル基である性複素環
化合化合物またはその薬理上許容される塩若しくは誘導
体を有効成分として含有する抗菌剤。 - 【請求項5】請求項1、2、3または4において、Aが
式の基で示され、R3 が、水素原子、オキソ基、スル
ファモイルアミノメチル基、カルバモイル基、ジメチル
カルバモイル基、1−ピペラジニルカルボニル基、アミ
ノピロリジン−1−イルカルボニル基またはアミノメチ
ルピロリジン−1−イルカルボニル基である三環性複素
環化合物またはその薬理上許容される塩若しくは誘導体
を有効成分として含有する抗菌剤。 - 【請求項6】請求項1、2、3または4において、Aが
式の基で示され、R3 が、水素原子、カルバモイル
基、1−ピペラジニルカルボニル基、3−アミノピロリ
ジン−1−イルカルボニル基または3−アミノメチルピ
ロリジン−1−イルカルボニル基である三環性複素環化
合物またはその薬理上許容される塩若しくは誘導体を有
効成分として含有する抗菌剤。 - 【請求項7】請求項1、2、3または4において、Aが
式の基で示され、R3 が、水素原子である三環性複素
環化合物またはその薬理上許容される塩若しくは誘導体
を有効成分として含有する抗菌剤。 - 【請求項8】請求項1において、Aが式の基で示さ
れ、qが、0または1である三環性複素環化合物または
その薬理上許容される塩若しくは誘導体を有効成分とし
て含有する抗菌剤。 - 【請求項9】請求項1または8において、Aが式の基
で示され、R9 が、1〜2個の置換基を有してもよいフ
ェニル基(該置換基はC1 〜C4 アルキル基、C1 〜C
4 アルコキシ基、ニトロ基、ハロゲン原子、水酸基、シ
アノ基、カルバモイル基、モノ−若しくはジ−C1 〜C
4 アルキルカルバモイル基、スルファモイル基または1
〜3個の窒素、酸素若しくは硫黄原子を含有する5〜6
員ヘテロアリール基を示す)である三環性複素環化合物
またはその薬理上許容される塩若しくは誘導体を有効成
分として含有する抗菌剤。 - 【請求項10】請求項1または8において、Aが式の
基で示され、R9 が、1〜2個の置換基を有してもよい
フェニル基(該置換基はメチル基、メトキシ基、ニトロ
基、フッ素原子、水酸基、シアノ基、カルバモイル基、
ジメチルカルバモイル基、スルファモイル基、イミダゾ
リル基、トリアゾリル基、ピリジル基またはチアゾリル
基を示す)である三環性複素環化合物またはその薬理上
許容される塩若しくは誘導体を有効成分として含有する
抗菌剤。 - 【請求項11】請求項1または8において、Aが式の
基で示され、R9 が、1〜2個の置換基を有してもよい
フェニル基(該置換基はニトロ基、フッ素原子、カルバ
モイル基、ジメチルカルバモイル基、イミダゾリル基、
トリアゾリル基若しくはチアゾリル基を示す)である三
環性複素環化合物またはその薬理上許容される塩若しく
は誘導体を有効成分として含有する抗菌剤。 - 【請求項12】請求項1において、Aが式の基で示さ
れ、rが、0、1または2である三環性複素環化合物ま
たはその薬理上許容される塩若しくは誘導体を有効成分
として含有する抗菌剤。 - 【請求項13】請求項1または12において、Aが式
の基で示され、R10が、水素原子、メチル基またはエチ
ル基である三環性複素環化合物またはその薬理上許容さ
れる塩若しくは誘導体を有効成分として含有する抗菌
剤。 - 【請求項14】請求項1または12において、Aが式
の基で示され、R10が、水素原子である三環性複素環化
合物またはその薬理上許容される塩若しくは誘導体を有
効成分として含有する抗菌剤。 - 【請求項15】請求項1、12、13または14におい
て、Aが式の基で示され、R11が、水素原子、C1 〜
C4 アルキル基または式−C(=NH)R4 で表される
基(式中、R4 は水素原子、メチル基またはアミノ基を
示す)である三環性複素環化合物またはその薬理上許容
される塩若しくは誘導体を有効成分として含有する抗菌
剤。 - 【請求項16】請求項1、12、13または14におい
て、Aが式の基で示され、R11が、水素原子、メチル
基、エチル基、ホルムイミドイル基、アセトイミドイル
基またはアミジノ基である三環性複素環化合物またはそ
の薬理上許容される塩若しくは誘導体を有効成分として
含有する抗菌剤。 - 【請求項17】請求項1、12、13または14におい
て、Aが式の基で示され、R11が、水素原子である三
環性複素環化合物またはその薬理上許容される塩若しく
は誘導体を有効成分として含有する抗菌剤。 - 【請求項18】請求項1において、Aが式の基で示さ
れ、R12が、水素原子、C1 〜C4 アルキル基または式
−C(=NH)R4 で表される基(式中、R4 は水素原
子、メチル基またはアミノ基を示す)である三環性複素
環化合物またはその薬理上許容される塩若しくは誘導体
を有効成分として含有する抗菌剤。 - 【請求項19】請求項1において、Aが式の基で示さ
れ、R12が、水素原子、メチル基、エチル基、ホルムイ
ミドイル基、アセトイミドイル基またはアミジノ基であ
る三環性複素環化合物またはその薬理上許容される塩若
しくは誘導体を有効成分として含有する抗菌剤。 - 【請求項20】請求項1、18または19において、A
が式の基で示され、R13が、1〜2個の置換基を有す
るC1 〜C4 アルキル基(該置換基はハロゲン原子、カ
ルバモイル基または水酸基を示す)、C3 〜C6 シクロ
アルキル基、1〜2個の置換基を有してもよいC6 〜C
10アリール基もしくはC7 〜C14アラルキル基(該置換
基は、ニトロ基、ハロゲン原子、メチル基、アミノ基、
スルファモイル基、カルバモイル基、メチルカルバモイ
ル基、ジメチルカルバモイル基、1〜3個の窒素、酸素
若しくは硫黄原子を含有する5〜6員ヘテロアリール
基、メトキシ基、ジフルオロメトキシ基、メチレンジオ
キシ基、ベンジルオキシ基、ピリジルメトキシ基または
アセチルアミノ基を示す)、置換基群(a)から選ばれ
る1〜2個の置換基を有してもよい1〜3個の窒素、酸
素若しくは硫黄原子を含有する5〜6員ヘテロアリール
基若しくはベンゼン環縮合5〜6員ヘテロアリール基、
または、置換基群(a)から選ばれる1〜2個の置換基
を有してもよい1〜3個の窒素、酸素若しくは硫黄原子
を含有する5〜6員ヘテロアラルキル基若しくはベンゼ
ン環縮合5〜6員ヘテロアラルキル基である三環性複素
環化合物またはその薬理上許容される塩若しくは誘導体
を有効成分として含有する抗菌剤。 - 【請求項21】請求項1、18または19において、A
が式の基で示され、R13が、1〜2個の置換基を有す
るC1 〜C4 アルキル基(該置換基はハロゲン原子、カ
ルバモイル基または水酸基を示す)、C3 〜C6 シクロ
アルキル基、1〜2個の置換基を有してもよいフェニ
ル、ナフチル、ベンジル、フェネチル若しくはナフチル
メチル基(該置換基は、ニトロ基、ハロゲン原子、メチ
ル基、アミノ基、スルファモイル基、カルバモイル基、
メチルカルバモイル基、ジメチルカルバモイル基、1〜
3個の窒素、酸素若しくは硫黄原子を含有する5〜6員
ヘテロアリール基、メトキシ基、ジフルオロメトキシ
基、メチレンジオキシ基、ベンジルオキシ基、ピリジル
メトキシ基またはアセチルアミノ基を示す)、または置
換基群(a)から選ばれる1〜2個の置換基を有しても
よいピリジル、ピリミジル、イミダゾリル、トリアゾリ
ル、チアゾリル、チアジアゾリル、ベンツイミダゾリ
ル、ベンゾチアゾリルメチル、ピリジルメチル、イミダ
ゾリルメチル、チアゾリルメチル、ベンゾチアゾリル、
ベンツイミダゾリルメチル若しくはキノリルメチル基で
ある三環性複素環化合物またはその薬理上許容される塩
若しくは誘導体を有効成分として含有する抗菌剤。 - 【請求項22】請求項1、18または19において、A
が式の基で示され、R13が、1〜2個の置換基を有す
るC1 〜C4 アルキル基(該置換基はハロゲン原子、カ
ルバモイル基または水酸基を示す)、C3 〜C6 シクロ
アルキル基、1〜2個の置換基を有してもよいフェニル
若しくはベンジル基(該置換基は、ニトロ、ハロゲン原
子、カルバモイル、スルファモイル、イミダゾリル、チ
アゾリル、1、2、4−トリアゾリルまたはベンジルオ
キシ基である。)または1〜2個の置換基を有してもよ
いピリジル、ピリミジル、イミダゾリル、トリアゾリ
ル、チアゾリル、チアジアゾリル、ベンツイミダゾリ
ル、ベンゾチアゾリル、ピリジルメチル、イミダゾリル
メチル、チアゾリルメチル、ベンゾチアゾリルメチル、
ベンツイミダゾリルメチル若しくはキノリルメチル基
(該置換基は、ハロゲン原子、アミノ基、カルバモイル
基、スルファモイル基、ヒドロキシメチル基、カルバモ
イルメチル基、フェニル基、エチルチオ基、ピリジル
基、1−イミダゾリルメチル基、トリメチルアンモニオ
基、チオカルバモイル基またはベンジル基である)であ
る三環性複素環化合物またはその薬理上許容される塩若
しくは誘導体を有効成分として含有する抗菌剤。 - 【請求項23】請求項1、18または19において、A
が式の基で示され、R13が、2−フルオロエチル、シ
クロプロピル、フェニル、3−ピリジル、4−ピリジ
ル、ベンジル、4−ニトロベンジル、4−クロロベンジ
ル、4−フルオロベンジル、2−ピリジルメチル、3−
ピリジルメチル、4−ピリジルメチル、4−(1−イミ
ダゾリル)ベンジル、4−ベンジルオキシベンジル、2
−チアゾリル、2−ベンツイミダゾリル、2−ベンゾチ
アゾリル、4−(4−ピリジル)チアゾ−ル−2−イ
ル、4−フェニルチアゾ−ル−2−イル、4−ベンジル
チアゾ−ル−2−イル、6−アミノ−ベンゾチアゾール
−2−イル、4−(1−イミダゾリルメチル)チアゾ−
ル−2−イル、1、3、4−チアジアゾ−ル−2−イ
ル、5−フェニル−1、3、4−チアジアゾ−ル−2−
イル、5−(4−ピリジル)−1、3、4−チアジアゾ
−ル−2−イル、5−エチルチオ−1、3、4−チアジ
アゾール−2−イル、2−ベンゾチアゾリルメチル、2
−ベンツイミダゾリルメチルまたは2−キノリルメチル
基である三環性複素環化合物またはその薬理上許容され
る塩若しくは誘導体を有効成分として含有する抗菌剤。 - 【請求項24】請求項1において、Aが式の基で示さ
れ、kが0または1であり、mが0,1または2であ
り、R2 が、水素原子、C1 〜C4 アルキル基、1〜2
個の置換基を有してもよいベンジル、フェネチル、ナフ
チルメチル、ピリジルメチル、イミダゾリルメチル、チ
アゾリルメチル、チアゾリルエチル若しくはチアジアゾ
リルメチル基(該置換基はフッ素原子、メチル基または
カルバモイル基を示す)、式−C(=NH)R4 で表さ
れる基(式中、R4 は水素原子、メチル基またはアミノ
基を示す)、2−イミダゾリニル基、2−チアゾリニル
基、イミダゾリル基、チアゾリル基またはピリジル基で
あり、R3 が水素原子、オキソ基、スルファモイルアミ
ノメチル基、カルバモイル基、ジメチルカルバモイル
基、1−ピペラジニルカルボニル基、アミノピロリジン
−1−イルカルボニル基またはアミノメチルピロリジン
−1−イルカルボニル基である三環性複素環化合物また
はその薬理上許容される塩若しくは誘導体を有効成分と
して含有する抗菌剤。 - 【請求項25】請求項1において、Aが式の基で示さ
れ、kが0または1であり、mが0,1または2であ
り、R2 が水素原子、メチル基、エチル基、1〜2個の
置換基を有してもよいベンジル若しくはピリジルメチル
基(該置換基はフッ素原子、メチル基またはカルバモイ
ル基を示す)、ホルムイミドイル基、アセトイミドイル
基、アミジノ基、2−イミダゾリン−2−イル基または
2−チアゾリン−2−イル基であり、R3 が水素原子で
ある三環性複素環化合物またはその薬理上許容される塩
若しくは誘導体を有効成分として含有する抗菌剤。 - 【請求項26】請求項1において、Aが式の基で示さ
れ、kが0または1であり、mが0,1または2であ
り、R2 が水素原子、メチル基、エチル基、ベンジル
基、ピリジルメチル基、ホルムイミドイル基、アセトイ
ミドイル基、アミジノ基、2−イミダゾリン−2−イル
基または2−チアゾリン−2−イル基であり、R3 が水
素原子である三環性複素環化合物またはその薬理上許容
される塩若しくは誘導体を有効成分として含有する抗菌
剤。 - 【請求項27】請求項1において、Aが式の基で示さ
れ、qが0または1であり、R9 が1〜2個の置換基を
有してもよいフェニル基(該置換基はメチル基、メトキ
シ基、ニトロ基、フッ素原子、水酸基、シアノ基、カル
バモイル基、ジメチルカルバモイル基、スルファモイル
基、イミダゾリル基、トリアゾリル基、ピリジル基また
はチアゾリル基を示す)である三環性複素環化合物また
はその薬理上許容される塩若しくは誘導体を有効成分と
して含有する抗菌剤。 - 【請求項28】請求項1において、Aが式の基で示さ
れ、qが0または1であり、R9 が1〜2個の置換基を
有してもよいフェニル基(該置換基はニトロ基、フッ素
原子、カルバモイル基、ジメチルカルバモイル基、イミ
ダゾリル基、トリアゾリル基若しくはチアゾリル基を示
す)である三環性複素環化合物またはその薬理上許容さ
れる塩若しくは誘導体を有効成分として含有する抗菌
剤。 - 【請求項29】請求項1において、Aが式の基で示さ
れ、rが0,1または2であり、R10が水素原子、C1
〜C4 アルキル基であり、R11が水素原子、C1 〜C4
アルキル基または式−C(=NH)R4 で表される基
(式中、R4 は水素原子、メチル基またはアミノ基を示
す)である三環性複素環化合物またはその薬理上許容さ
れる塩若しくは誘導体を有効成分として含有する抗菌
剤。 - 【請求項30】請求項1において、Aが式の基で示さ
れ、rが0,1または2であり、R10が水素原子、メチ
ル基またはエチル基であり、R11が水素原子、メチル
基、エチル基、ホルムイミドイル基、アセトイミドイル
基またはアミジノ基である三環性複素環化合物またはそ
の薬理上許容される塩若しくは誘導体を有効成分として
含有する抗菌剤。 - 【請求項31】請求項1において、Aが式の基で示さ
れ、R12が水素原子、C1 〜C4 アルキル基または式−
C(=NH)R4 で表される基(式中、R4 は水素原
子、メチル基またはアミノ基を示す)であり、R13が1
〜2個の置換基を有するC1 〜C4 アルキル基(該置換
基はハロゲン原子、カルバモイル基または水酸基を示
す)、C3 〜C6 シクロアルキル基、1〜2個の置換基
を有してもよいC6 〜C10アリール基若しくはC7 〜C
14アラルキル基(該置換基は、ニトロ基、ハロゲン原
子、メチル基、アミノ基、スルファモイル基、カルバモ
イル基、メチルカルバモイル基、ジメチルカルバモイル
基、1〜3個の窒素、酸素若しくは硫黄原子を含有する
5〜6員ヘテロアリール基、メトキシ基、ジフルオロメ
トキシ基、メチレンジオキシ基、ベンジルオキシ基、ピ
リジルメトキシ基またはアセチルアミノ基を示す)、置
換基群(a)から選ばれる1〜2個の置換基を有しても
よい1〜3個の窒素、酸素若しくは硫黄原子を含有する
5〜6員ヘテロアリール基若しくはベンゼン環縮合5〜
6員ヘテロアリール基、または、置換基群(a)から選
ばれる1〜2個の置換基を有してもよい1〜3個の窒
素、酸素若しくは硫黄原子を含有する5〜6員ヘテロア
ラルキル基若しくはベンゼン環縮合5〜6員ヘテロアラ
ルキル基である三環性複素環化合物またはその薬理上許
容される塩若しくは誘導体を有効成分として含有する抗
菌剤。 - 【請求項32】請求項1において、Aが式の基で示さ
れ、R12が水素原子、C1 〜C4 アルキル基または式−
C(=NH)R4 で表される基(式中、R4 は水素原
子、メチル基またはアミノ基を示す)であり、R13が1
〜2個の置換基を有するC1 〜C4 アルキル基(該置換
基はハロゲン原子、カルバモイル基または水酸基を示
す)、C3 〜C6 シクロアルキル基、1〜2個の置換基
を有してもよいフェニル、ナフチル、ベンジル、フェネ
チル若しくはナフチルメチル基(該置換基は、ニトロ
基、ハロゲン原子、メチル基、アミノ基、スルファモイ
ル基、カルバモイル基、メチルカルバモイル基、ジメチ
ルカルバモイル基、1〜3個の窒素、酸素若しくは硫黄
原子を含有する5〜6員ヘテロアリール基、メトキシ
基、ジフルオロメトキシ基、メチレンジオキシ基、ベン
ジルオキシ基、ピリジルメトキシ基またはアセチルアミ
ノ基である。)、または置換基群(a)から選ばれる1
〜2個の置換基を有してもよいピリジル、ピリミジル、
イミダゾリル、トリアゾリル、チアゾリル、チアジアゾ
リル、ベンツイミダゾリル、ベンゾチアゾリル、ピリジ
ルメチル、イミダゾリルメチル、チアゾリルメチル、ベ
ンゾチアゾリルメチル、ベンツイミダゾリルメチル若し
くはキノリルメチル基である三環性複素環化合物または
その薬理上許容される塩若しくは誘導体を有効成分とし
て含有する抗菌剤。 - 【請求項33】請求項1において、Aが式の基で示さ
れ、R12が水素原子、C1 〜C4 アルキル基または式−
C(=NH)R4 で表される基(式中、R4 は水素原
子、メチル基またはアミノ基を示す)であり、R13が1
〜2個の置換基を有するC1 〜C4 アルキル基(該置換
基はハロゲン原子、カルバモイル基または水酸基を示
す)、C3 〜C6 シクロアルキル基、1〜2個の置換基
を有してもよいフェニル若しくはベンジル基(該置換基
は、ニトロ、ハロゲン原子、カルバモイル、スルファモ
イル、イミダゾリル、チアゾリル、1、2、4−トリア
ゾリルまたはベンジルオキシ基である。)または1〜2
個の置換基を有してもよいピリジル、ピリミジル、イミ
ダゾリル、トリアゾリル、チアゾリル、チアジアゾリ
ル、ベンツイミダゾリル、ベンゾチアゾリル、ピリジル
メチル、イミダゾリルメチル、チアゾリルメチル、ベン
ゾチアゾリルメチル、ベンツイミダゾリルメチル若しく
はキノリルメチル基(該置換基は、ハロゲン原子、アミ
ノ基、カルバモイル基、スルファモイル基、ヒドロキシ
メチル基、カルバモイルメチル基、フェニル基、エチル
チオ基、ピリジル基、1−イミダゾリルメチル基、トリ
メチルアンモニオ基、チオカルバモイル基またはベンジ
ル基である)である三環性複素環化合物またはその薬理
上許容される塩若しくは誘導体を有効成分として含有す
る抗菌剤。 - 【請求項34】請求項1において、Aが式の基で示さ
れ、R12が水素原子、メチル基、エチル基、ホルムイミ
ドイル基、アセトイミドイル基またはアミジノ基であ
り、R13が2−フルオロエチル基、シクロプロピル基、
フェニル基、3−ピリジル基、4−ピリジル基、ベンジ
ル基、4−ニトロベンジル基、4−クロロベンジル基、
4−フルオロベンジル基、2−ピリジルメチル基、3−
ピリジルメチル基、4−ピリジルメチル基、4−(1−
イミダゾリル)ベンジル基、4−ベンジルオキシベンジ
ル基、2−チアゾリル基、2−ベンツイミダゾリル基、
2−ベンゾチアゾリル基、4−(4−ピリジル)チアゾ
−ル−2−イル基、4−フェニルチアゾ−ル−2−イル
基、4−ベンジルチアゾ−ル−2−イル基、6−アミノ
−ベンゾチアゾール−2−イル基、4−(1−イミダゾ
リルメチル)チアゾ−ル−2−イル基、1、3、4−チ
アジアゾ−ル−2−イル基、5−フェニル−1、3、4
−チアジアゾ−ル−2−イル基、5−(4−ピリジル)
−1、3、4−チアジアゾ−ル−2−イル基、5−エチ
ルチオ−1、3、4−チアジアゾール−2−イル基、2
−ベンゾチアゾリルメチル基、2−ベンツイミダゾリル
メチル基または2−キノリルメチル基である三環性複素
環化合物またはその薬理上許容される塩若しくは誘導体
を有効成分として含有する抗菌剤。 - 【請求項35】請求項1において、以下の化合物から選
択される三環性複素環化合物またはその薬理上許容され
る塩若しくは誘導体を有効成分として含有する抗菌剤。 1.(4R,8S,9R,10S)−10−[(R)−
1−ヒドロキシエチル]−4−[(S)−3−ピロリジ
ニル]チオメチル−11−オキソ−1−アザトリシクロ
[7.2.0.03,8 ]ウンデカ−2−エン−2−カル
ボン酸 2.(4R,8S,9R,10S)−10−[(R)−
1−ヒドロキシエチル]−11−オキソ−4−[(S)
−2−ピロリジニル]メチルチオメチル−1−アザトリ
シクロ[7.2.0.03,8 ]ウンデカ−2−エン−2
−カルボン酸 3.(4S,8S,9R,10S)−4−N−ベンジル
アミノメチル−10−[(R)−1−ヒドロキシエチ
ル]−11−オキソ−1−アザトリシクロ[7.2.
0.03,8 ]ウンデカ−2−エン−2−カルボン酸 4.(4R,8S,9R,10S)−4−N−ベンジル
アミノメチル−10−[(R)−1−ヒドロキシエチ
ル]−11−オキソ−1−アザトリシクロ[7.2.
0.03,8 ]ウンデカ−2−エン−2−カルボン酸 5.(4R,8S,9R,10S)−4−[(S)−1
−アミジノピロリジン−3−イル]チオメチル−10−
[(R)−1−ヒドロキシエチル]−11−オキソ−1
−アザトリシクロ[7.2.0.03,8 ]ウンデカ−2
−エン−2−カルボン酸 6.(4R,8S,9R,10S)−10−[(R)−
1−ヒドロキシエチル]−4−[(S)−1−(2−イ
ミダゾリン−2−イル)ピロリジン−3−イル]チオメ
チル−11−オキソ−1−アザトリシクロ[7.2.
0.03,8 ]ウンデカ−2−エン−2−カルボン酸 7.(4R,8S,9R,10S)−10−[(R)−
1−ヒドロキシエチル]−4−[(S)−1−(2−チ
アゾリン−2−イル)ピロリジン−3−イル]チオメチ
ル−11−オキソ−1−アザトリシクロ[7.2.0.
03,8 ]ウンデカ−2−エン−2−カルボン酸 8.(4R,8S,9R,10S)−10−[(R)−
1−ヒドロキシエチル]−4−[1−(2−チアゾリン
−2−イル)アゼチジン−2−イル]チオメチル−11
−オキソ−1−アザトリシクロ[7.2.0.03,8 ]
ウンデカ−2−エン−2−カルボン酸 9.(4R,8S,9R,10S)−4−[1−アミジ
ノアゼチジン−2−イル]チオメチル−10−[(R)
−1−ヒドロキシエチル]−11−オキソ−1−アザト
リシクロ[7.2.0.03,8 ]ウンデカ−2−エン−
2−カルボン酸 10.(4R,8S,9R,10S)−10−[(R)
−1−ヒドロキシエチル]−4−[N−(4−(1−イ
ミダゾリル)ベンジル)アミノメチル]−11−オキソ
−1−アザトリシクロ[7.2.0.03,8 ]ウンデカ
−2−エン−2−カルボン酸 11.(4S,8S,9R,10S)−10−[(R)
−1−ヒドロキシエチル]−4−[N−(2−チアゾリ
ル)アミノメチル]−11−オキソ−1−アザトリシク
ロ[7.2.0.03,8 ]ウンデカ−2−エン−2−カ
ルボン酸 12.(4R,8S,9R,10S)−10−[(R)
−1−ヒドロキシエチル]−4−[N−(2−チアゾリ
ル)アミノメチル]−11−オキソ−1−アザトリシク
ロ[7.2.0.03,8 ]ウンデカ−2−エン−2−カ
ルボン酸 13.(4S,8S,9R,10S)−4−[N−(2
−ベンゾチアゾリル)アミノメチル]−10−[(R)
−1−ヒドロキシエチル]−11−オキソ−1−アザト
リシクロ[7.2.0.03,8 ]ウンデカ−2−エン−
2−カルボン酸 14.(4R,8S,9R,10S)−4−[N−(2
−ベンゾチアゾリル)アミノメチル]−10−[(R)
−1−ヒドロキシエチル]−11−オキソ−1−アザト
リシクロ[7.2.0.03,8 ]ウンデカ−2−エン−
2−カルボン酸 15.(4S,8S,9R,10S)−10−[(R)
−1−ヒドロキシエチル]−4−[N−(2−(4−フ
ェニル)チアゾリル)アミノメチル]−11−オキソ−
1−アザトリシクロ[7.2.0.03,8 ]ウンデカ−
2−エン−2−カルボン酸 16.(4R,8S,9R,10S)−10−[(R)
−1−ヒドロキシエチル]−4−[N−(2−(4−フ
ェニル)チアゾリル)アミノメチル]−11−オキソ−
1−アザトリシクロ[7.2.0.03,8 ]ウンデカ−
2−エン−2−カルボン酸 17.(4S,8S,9R,10S)−4−[N−(2
−(4−ベンジル)チアゾリル)アミノメチル]−10
−[(R)−1−ヒドロキシエチル]−11−オキソ−
1−アザトリシクロ[7.2.0.03,8 ]ウンデカ−
2−エン−2−カルボン酸 18.(4R,8S,9R,10S)−4−[N−(2
−(4−ベンジル)チアゾリル)アミノメチル]−10
−[(R)−1−ヒドロキシエチル]−11−オキソ−
1−アザトリシクロ[7.2.0.03,8 ]ウンデカ−
2−エン−2−カルボン酸 19.(4S,8S,9R,10S)−10−[(R)
−1−ヒドロキシエチル]−4−[N−(5−フェニル
−1,3,4−チアジアゾール−2−イル)アミノメチ
ル]−11−オキソ−1−アザトリシクロ[7.2.
0.03,8 ]ウンデカ−2−エン−2−カルボン酸 20.(4R,8S,9R,10S)−10−[(R)
−1−ヒドロキシエチル]−4−[N−(5−フェニル
−1,3,4−チアジアゾール−2−イル)アミノメチ
ル]−11−オキソ−1−アザトリシクロ[7.2.
0.03,8 ]ウンデカ−2−エン−2−カルボン酸 21.(4S,8S,9R,10S)−10−[(R)
−1−ヒドロキシエチル]−4−[N−(1,3,4−
チアジアゾール−2−イル)アミノメチル]−11−オ
キソ−1−アザトリシクロ[7.2.0.03,8 ]ウン
デカ−2−エン−2−カルボン酸 22.(4R,8S,9R,10S)−10−[(R)
−1−ヒドロキシエチル]−4−[N−(1,3,4−
チアジアゾール−2−イル)アミノメチル]−11−オ
キソ−1−アザトリシクロ[7.2.0.03,8 ]ウン
デカ−2−エン−2−カルボン酸 23.(4R,8S,9R,10S)−10−[(R)
−1−ヒドロキシエチル]−4−[1−(2−チアゾリ
ン−2−イル)ピペリジン−4−イル]チオメチル−1
1−オキソ−1−アザトリシクロ[7.2.0.0
3,8 ]ウンデカ−2−エン−2−カルボン酸 24.(4R,8S,9R,10S)−4−(1−アミ
ジノピペリジン−4−イル)チオメチル−10−
[(R)−1−ヒドロキシエチル]−11−オキソ−1
−アザトリシクロ[7.2.0.03,8 ]ウンデカ−2
−エン−2−カルボン酸
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10225635A JP2000053681A (ja) | 1998-08-10 | 1998-08-10 | 三環性複素環化合物を含有する抗菌剤 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10225635A JP2000053681A (ja) | 1998-08-10 | 1998-08-10 | 三環性複素環化合物を含有する抗菌剤 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000053681A true JP2000053681A (ja) | 2000-02-22 |
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ID=16832401
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10225635A Pending JP2000053681A (ja) | 1998-08-10 | 1998-08-10 | 三環性複素環化合物を含有する抗菌剤 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000053681A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7488759B2 (en) | 2001-02-07 | 2009-02-10 | Novartis Ag | Malic acid addition salts of terbinafine |
-
1998
- 1998-08-10 JP JP10225635A patent/JP2000053681A/ja active Pending
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7488759B2 (en) | 2001-02-07 | 2009-02-10 | Novartis Ag | Malic acid addition salts of terbinafine |
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