JP2000051606A - 気体透過膜装置 - Google Patents
気体透過膜装置Info
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Landscapes
- Degasification And Air Bubble Elimination (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 長時間にわたり処理効率の低下しない気体透
過膜装置を提供する。 【解決手段】 本気体透過膜装置１０は、被処理液の脱
気装置であって、気体透過膜１２を介して液体室１４と
気体室１６とを有する気体透過膜モジュール１８と、気
体透過膜モジュール１８に送入する気体を加熱する加熱
器２０と、気体室１６を減圧状態に維持する真空ポンプ
２２と、気体室１６に窒素ガスを供給するガス源２４と
を備えている。気体を気体室１６に送入する際、温度計
３６で測定した窒素ガスの温度が温度計３８で測定した
被処理液の温度より高い温度になるように加熱器で気体
を加熱する。
過膜装置を提供する。 【解決手段】 本気体透過膜装置１０は、被処理液の脱
気装置であって、気体透過膜１２を介して液体室１４と
気体室１６とを有する気体透過膜モジュール１８と、気
体透過膜モジュール１８に送入する気体を加熱する加熱
器２０と、気体室１６を減圧状態に維持する真空ポンプ
２２と、気体室１６に窒素ガスを供給するガス源２４と
を備えている。気体を気体室１６に送入する際、温度計
３６で測定した窒素ガスの温度が温度計３８で測定した
被処理液の温度より高い温度になるように加熱器で気体
を加熱する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、気体透過膜装置に
関し、更に詳細には、長時間にわたり効率良く被処理液
を脱気したり、気体を被処理液に溶解させたりすること
ができる気体透過膜装置に関するものである。
関し、更に詳細には、長時間にわたり効率良く被処理液
を脱気したり、気体を被処理液に溶解させたりすること
ができる気体透過膜装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】気体透過膜装置は、気体透過膜と、気体
透過膜により区画された液体室と気体室とを有する気体
透過膜モジュールを備えて、気体透過膜を介して気体を
気体室から液体室に、又は気体を液体室から気体室に移
動させる装置である。気体透過膜により区画された２室
のうちの一方の液体室は、被処理液が流れる流路であ
り、他方の気体室は、被処理液に溶解させる導入ガス、
あるいは被処理液から脱気されたガス、水蒸気等の気体
の流路となっている。気体透過膜には、一般に、疎水性
の中空糸膜からなる気体透過膜が多用されていて、近年
は、液体の通水差圧が小さく、モジュールの大型化が容
易であるという理由から、気体が中空糸膜の内側中空部
を、被処理液が中空糸膜の外側を流れる、いわゆる外圧
型のモジュールが、通常、使用されている。
透過膜により区画された液体室と気体室とを有する気体
透過膜モジュールを備えて、気体透過膜を介して気体を
気体室から液体室に、又は気体を液体室から気体室に移
動させる装置である。気体透過膜により区画された２室
のうちの一方の液体室は、被処理液が流れる流路であ
り、他方の気体室は、被処理液に溶解させる導入ガス、
あるいは被処理液から脱気されたガス、水蒸気等の気体
の流路となっている。気体透過膜には、一般に、疎水性
の中空糸膜からなる気体透過膜が多用されていて、近年
は、液体の通水差圧が小さく、モジュールの大型化が容
易であるという理由から、気体が中空糸膜の内側中空部
を、被処理液が中空糸膜の外側を流れる、いわゆる外圧
型のモジュールが、通常、使用されている。
【０００３】ここで、図３を参照しながら、外圧型の気
体透過膜モジュールの構成を説明する。図３は外圧型の
気体透過膜モジュールの構成の一例を示す斜視図であ
る。気体透過膜モジュール５０は、外圧型の気体透過膜
モジュールの例であって、図３に示すように、円筒形の
ハウジング５２と、ハウジング５２のほぼ長手方向中間
点でハウジング５２を仕切り板５４により仕切ってそれ
ぞれ区画された第１室５６及び第２室５８と、ハウジン
グ５２の一方の端部６０（以下、第１端部６０と言う）
と他方の端部６２（以下、第２端部６２と言う）との間
でハウジング５２の中央部を長手方向に延在し、仕切り
板５４により仕切られた配液管６４及び集液管６６と、
配液管６４と集液管６６の周りに配置され、仕切り板５
４を貫通して第１端部６０と第２端部６２との間に延在
する多数本の中空糸膜６８とを備えている。
体透過膜モジュールの構成を説明する。図３は外圧型の
気体透過膜モジュールの構成の一例を示す斜視図であ
る。気体透過膜モジュール５０は、外圧型の気体透過膜
モジュールの例であって、図３に示すように、円筒形の
ハウジング５２と、ハウジング５２のほぼ長手方向中間
点でハウジング５２を仕切り板５４により仕切ってそれ
ぞれ区画された第１室５６及び第２室５８と、ハウジン
グ５２の一方の端部６０（以下、第１端部６０と言う）
と他方の端部６２（以下、第２端部６２と言う）との間
でハウジング５２の中央部を長手方向に延在し、仕切り
板５４により仕切られた配液管６４及び集液管６６と、
配液管６４と集液管６６の周りに配置され、仕切り板５
４を貫通して第１端部６０と第２端部６２との間に延在
する多数本の中空糸膜６８とを備えている。
【０００４】配液管６４及び集液管６６は、それぞれ、
多数の貫通孔７０を管壁に備え、貫通孔７０を介して液
体を第１室５６内に配液し、また第２室５８内から液体
を集液する。仕切り板５４は、ハウジング５２の内径よ
り僅かに小さな直径を有する円板状の板であって、配液
管６４から第１室５６に流出した液体は、多数本の中空
糸膜６８の間を縫うようにして流れ、次いで、ハウジン
グ５２と仕切り板５４との間の間隙７２を介して第１室
５６から第２室５８に流入し、再び多数本の中空糸膜６
８の間を縫うようにして流れた後に集液管６６に流入す
る。中空糸膜６８は、例えば、多孔質ポリプロピレン・
フィルム製で、膜厚が３０μm 、有効孔径が０．０５μ
m 、空孔率が３０％の中空糸膜である。
多数の貫通孔７０を管壁に備え、貫通孔７０を介して液
体を第１室５６内に配液し、また第２室５８内から液体
を集液する。仕切り板５４は、ハウジング５２の内径よ
り僅かに小さな直径を有する円板状の板であって、配液
管６４から第１室５６に流出した液体は、多数本の中空
糸膜６８の間を縫うようにして流れ、次いで、ハウジン
グ５２と仕切り板５４との間の間隙７２を介して第１室
５６から第２室５８に流入し、再び多数本の中空糸膜６
８の間を縫うようにして流れた後に集液管６６に流入す
る。中空糸膜６８は、例えば、多孔質ポリプロピレン・
フィルム製で、膜厚が３０μm 、有効孔径が０．０５μ
m 、空孔率が３０％の中空糸膜である。
【０００５】液体は、第１端部６０に設けられた液体入
口ノズル７４から配液管６４に流入し、集液管６６を経
て第２端部６２に設けられた液体出口ノズル７６から外
部に流出する。気体と液体とが向流で流れる方式では、
気体分配室７８が第２端部６２に、気体集気室８０が第
１端部６０に、それぞれ、設けられ、中空糸膜６８は気
体分配室７８から気体集気室８０まで延在している。気
体は、第２端部６２に設けられた気体入口ノズル８２か
ら気体分配室７８を経て中空糸膜６８内に流入し、次い
で第１端部６０に設けられた気体集気室８０を経て気体
出口ノズル８４から外部に流出する。尚、この例では、
気体室は中空糸膜６８の内側中空部及び気体分配室７８
であり、場合によっては気体集気室８０も含める。液体
室は中空糸膜６８の外側の第１室５６及び第２室５８で
ある。また、この例では、気体と液体とが向流で流れる
方式であるが、これに代えて、気体と液体とが並流で流
れる方式としても差し支えない。気体透過膜モジュール
は、市販されていて、例えば、セルガード株式会社から
商品名リキ・セル（商標登録）エクストラフローとして
販売されている。
口ノズル７４から配液管６４に流入し、集液管６６を経
て第２端部６２に設けられた液体出口ノズル７６から外
部に流出する。気体と液体とが向流で流れる方式では、
気体分配室７８が第２端部６２に、気体集気室８０が第
１端部６０に、それぞれ、設けられ、中空糸膜６８は気
体分配室７８から気体集気室８０まで延在している。気
体は、第２端部６２に設けられた気体入口ノズル８２か
ら気体分配室７８を経て中空糸膜６８内に流入し、次い
で第１端部６０に設けられた気体集気室８０を経て気体
出口ノズル８４から外部に流出する。尚、この例では、
気体室は中空糸膜６８の内側中空部及び気体分配室７８
であり、場合によっては気体集気室８０も含める。液体
室は中空糸膜６８の外側の第１室５６及び第２室５８で
ある。また、この例では、気体と液体とが向流で流れる
方式であるが、これに代えて、気体と液体とが並流で流
れる方式としても差し支えない。気体透過膜モジュール
は、市販されていて、例えば、セルガード株式会社から
商品名リキ・セル（商標登録）エクストラフローとして
販売されている。
【０００６】気体透過膜装置は、可動部分が無く、保守
点検が容易なことから、被処理液を脱気して気体を殆ど
溶解していないか、或いは特定の気体が除去された処理
液を得る脱気処理、又は被処理液にガスを溶解させてガ
スを溶解した処理液を得るガス溶解処理の装置として、
盛んに使用されている。例えば、第１の適用分野は、気
体透過膜装置の液体室側に純水等の水を、気体室側に窒
素ガス等の不活性気体を流し、水中の酸素、炭酸ガス等
を液体室から気体室に気体透過膜を介して透過させ、水
を脱酸素、脱炭酸する分野である。第２の適用分野は、
気体透過膜装置の液体室側に水を、気体室側に空気を流
し、水中の炭酸ガスを液体室から気体室に気体透過膜を
介して透過させて、水を脱炭酸する脱炭酸処理、また、
逆に、空気中の炭酸ガスを液体室に気体透過膜を介して
透過させ、炭酸ガスを水に溶解する炭酸溶解処理の分野
である。第３の適用分野は、気体透過膜装置の液体室側
に水を、気体室側に炭酸ガス、水素、オゾン、酸素等の
活性気体を流し、気体透過膜を介して活性気体を液体室
に透過させて、活性気体を水に溶解する気体溶解処理の
分野である。第４の適用分野は、気体透過膜装置の液体
室側に水を、気体室側に減圧下で窒素ガス等の不活性気
体を流し、水に溶存した酸素、炭酸ガスを気体透過膜を
介して気体室に透過させて、水を脱酸素、脱炭酸する分
野である。第５の適用分野は、気体透過膜装置の液体室
側に水を、気体室側を減圧にして、水に溶存している殆
どの気体を気体透過膜を介して気体室に透過させて、水
を脱気（ガスフリー）にする脱気処理の分野である。
点検が容易なことから、被処理液を脱気して気体を殆ど
溶解していないか、或いは特定の気体が除去された処理
液を得る脱気処理、又は被処理液にガスを溶解させてガ
スを溶解した処理液を得るガス溶解処理の装置として、
盛んに使用されている。例えば、第１の適用分野は、気
体透過膜装置の液体室側に純水等の水を、気体室側に窒
素ガス等の不活性気体を流し、水中の酸素、炭酸ガス等
を液体室から気体室に気体透過膜を介して透過させ、水
を脱酸素、脱炭酸する分野である。第２の適用分野は、
気体透過膜装置の液体室側に水を、気体室側に空気を流
し、水中の炭酸ガスを液体室から気体室に気体透過膜を
介して透過させて、水を脱炭酸する脱炭酸処理、また、
逆に、空気中の炭酸ガスを液体室に気体透過膜を介して
透過させ、炭酸ガスを水に溶解する炭酸溶解処理の分野
である。第３の適用分野は、気体透過膜装置の液体室側
に水を、気体室側に炭酸ガス、水素、オゾン、酸素等の
活性気体を流し、気体透過膜を介して活性気体を液体室
に透過させて、活性気体を水に溶解する気体溶解処理の
分野である。第４の適用分野は、気体透過膜装置の液体
室側に水を、気体室側に減圧下で窒素ガス等の不活性気
体を流し、水に溶存した酸素、炭酸ガスを気体透過膜を
介して気体室に透過させて、水を脱酸素、脱炭酸する分
野である。第５の適用分野は、気体透過膜装置の液体室
側に水を、気体室側を減圧にして、水に溶存している殆
どの気体を気体透過膜を介して気体室に透過させて、水
を脱気（ガスフリー）にする脱気処理の分野である。
【０００７】特に、半導体装置の製造工場に洗浄水等と
して供給する超純水の製造工程では、水から酸素を除去
する脱酸素処理、また炭酸ガスを除去する脱炭酸処理等
の脱気或いはガスフリー処理が必要であって、脱気効率
が高く、設置スペースが小さく、設備・運転コストの低
い等の点から、第１又は第２の適用分野、特に第４の適
用分野で、気体透過膜装置が盛んに使用されている。ま
た、第３のガス溶解の適用分野としては、超純水に水素
ガスを溶解した水（還元性水）や、オゾンガスを溶解し
た水（酸化性水）の製造用装置として使用されている。
して供給する超純水の製造工程では、水から酸素を除去
する脱酸素処理、また炭酸ガスを除去する脱炭酸処理等
の脱気或いはガスフリー処理が必要であって、脱気効率
が高く、設置スペースが小さく、設備・運転コストの低
い等の点から、第１又は第２の適用分野、特に第４の適
用分野で、気体透過膜装置が盛んに使用されている。ま
た、第３のガス溶解の適用分野としては、超純水に水素
ガスを溶解した水（還元性水）や、オゾンガスを溶解し
た水（酸化性水）の製造用装置として使用されている。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】ところで、従来の気体
透過膜装置を使って、上述の第１から第５の適用分野の
処理、例えば超純水にガス溶解処理を施して還元性水、
或いは酸化性水を製造したり、また純水に脱気処理を施
して脱気超純水を製造したりしていると、処理時間の経
過に伴い処理効率が低下し、所定のガス濃度の還元性水
或いは酸化性水を得たり、また所定の脱気率に脱気され
た超純水を得ることが難しかった。そこで、従来から、
処理時間の経過に伴い処理効率が低下することがないよ
うな気体透過膜装置の実現が要望されていた。よって、
本発明の目的は、長時間にわたり処理効率の低下しない
気体透過膜装置を提供することである。
透過膜装置を使って、上述の第１から第５の適用分野の
処理、例えば超純水にガス溶解処理を施して還元性水、
或いは酸化性水を製造したり、また純水に脱気処理を施
して脱気超純水を製造したりしていると、処理時間の経
過に伴い処理効率が低下し、所定のガス濃度の還元性水
或いは酸化性水を得たり、また所定の脱気率に脱気され
た超純水を得ることが難しかった。そこで、従来から、
処理時間の経過に伴い処理効率が低下することがないよ
うな気体透過膜装置の実現が要望されていた。よって、
本発明の目的は、長時間にわたり処理効率の低下しない
気体透過膜装置を提供することである。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明者は、従来の気体
透過膜装置で、処理時間の経過と共に処理効率が低下す
る原因を研究し、以下のことを見い出した。気体透過膜
は、選択的にガスを透過させる膜であって、気体透過膜
を透過する流体は気体分子であるものの、液体室を流れ
る水溶液から微量の水と、大量の水蒸気（ガス）が気体
透過膜を透過して気体室側に移動して来る。従来の気体
透過膜装置では、気体透過膜モジュールの気体室に送入
する気体の温度は特に制御されておらず、水蒸気として
気体室に移動して来た水分子は、外気温度の低下などの
外的要因によって容易に凝縮して水（液体）に変化す
る。このようにして気体室に生じた水（液体）は、気体
透過膜の膜面に付着して膜面を覆うために、脱気及び／
又はガス溶解に供される膜面の面積を減少させる。その
結果、処理時間の経過と共に気体透過膜の脱気及び／又
はガス溶解効率が低下する。特に、気体透過膜として中
空糸膜を使っている装置では、中空糸膜が凝縮水で閉塞
されるために、効率の低下が顕著であることが判った。
また、従来は、気体室の大気露出部分で透過ガス成分
（水蒸気）が凝縮して気体室の壁面に付着したり、ある
いは気体送入管や気体排出管の中で凝縮水が発生したり
し、これらの凝縮水が中空糸の端面に流れ込んで気体透
過膜を覆ったり、中空糸膜を閉塞させたりしていた。そ
こで、本発明者は、気体室を流れる気体の温度が、水蒸
気の露点以上の温度であれば、気体室中の水蒸気が凝縮
することはないと考え、実験を重ねて、本発明を完成す
るに到った。
透過膜装置で、処理時間の経過と共に処理効率が低下す
る原因を研究し、以下のことを見い出した。気体透過膜
は、選択的にガスを透過させる膜であって、気体透過膜
を透過する流体は気体分子であるものの、液体室を流れ
る水溶液から微量の水と、大量の水蒸気（ガス）が気体
透過膜を透過して気体室側に移動して来る。従来の気体
透過膜装置では、気体透過膜モジュールの気体室に送入
する気体の温度は特に制御されておらず、水蒸気として
気体室に移動して来た水分子は、外気温度の低下などの
外的要因によって容易に凝縮して水（液体）に変化す
る。このようにして気体室に生じた水（液体）は、気体
透過膜の膜面に付着して膜面を覆うために、脱気及び／
又はガス溶解に供される膜面の面積を減少させる。その
結果、処理時間の経過と共に気体透過膜の脱気及び／又
はガス溶解効率が低下する。特に、気体透過膜として中
空糸膜を使っている装置では、中空糸膜が凝縮水で閉塞
されるために、効率の低下が顕著であることが判った。
また、従来は、気体室の大気露出部分で透過ガス成分
（水蒸気）が凝縮して気体室の壁面に付着したり、ある
いは気体送入管や気体排出管の中で凝縮水が発生したり
し、これらの凝縮水が中空糸の端面に流れ込んで気体透
過膜を覆ったり、中空糸膜を閉塞させたりしていた。そ
こで、本発明者は、気体室を流れる気体の温度が、水蒸
気の露点以上の温度であれば、気体室中の水蒸気が凝縮
することはないと考え、実験を重ねて、本発明を完成す
るに到った。
【００１０】上記目的を達成するために、本発明に係る
脱気用の気体透過膜装置（以下、第１の発明と言う）
は、気体透過膜と、気体透過膜により区画された液体室
と気体室とを有する気体透過膜モジュールを備え、第１
の気体を溶存した被処理液を液体室に流し、かつ第１の
気体とは異なる第２の気体を気体室に流し、気体透過膜
を介して第１の気体を液体室から気体室に透過させて被
処理液を脱気する気体透過膜装置において、気体透過膜
モジュールの気体室に流入させる第２の気体を加熱する
加熱手段を備えていることを特徴としている。第１の発
明において、第２の気体を常圧下又は加圧下の気体室に
流してもよいが、気体室を減圧し、この減圧下の気体室
に第２の気体を流す方がより効果的な脱気処理を行うこ
とができるので、通常は減圧下で行う。また、減圧下の
場合の方が、気体透過膜を透過する水蒸気の量が多くな
って気体室側に凝縮水が生じ易くなるので、本発明の効
果がより一層発揮される。
脱気用の気体透過膜装置（以下、第１の発明と言う）
は、気体透過膜と、気体透過膜により区画された液体室
と気体室とを有する気体透過膜モジュールを備え、第１
の気体を溶存した被処理液を液体室に流し、かつ第１の
気体とは異なる第２の気体を気体室に流し、気体透過膜
を介して第１の気体を液体室から気体室に透過させて被
処理液を脱気する気体透過膜装置において、気体透過膜
モジュールの気体室に流入させる第２の気体を加熱する
加熱手段を備えていることを特徴としている。第１の発
明において、第２の気体を常圧下又は加圧下の気体室に
流してもよいが、気体室を減圧し、この減圧下の気体室
に第２の気体を流す方がより効果的な脱気処理を行うこ
とができるので、通常は減圧下で行う。また、減圧下の
場合の方が、気体透過膜を透過する水蒸気の量が多くな
って気体室側に凝縮水が生じ易くなるので、本発明の効
果がより一層発揮される。
【００１１】本発明に係るガス溶解用の気体透過膜装置
（以下、第２の発明と言う）は、気体透過膜と、気体透
過膜により区画された液体室と気体室とを有する気体透
過膜モジュールを備え、被処理液を液体室に流し、かつ
気体を気体室に流し、気体透過膜を介して気体を気体室
から液体室に透過させて気体を被処理液に溶解させる気
体透過膜装置において、気体透過膜モジュールの気体室
に流入させる気体を加熱する加熱手段を備えていること
を特徴としている。第２の発明で、気体室の圧力は特に
限定されないが、一般的には、常圧、或いはそれより高
い圧力であることが好ましい。
（以下、第２の発明と言う）は、気体透過膜と、気体透
過膜により区画された液体室と気体室とを有する気体透
過膜モジュールを備え、被処理液を液体室に流し、かつ
気体を気体室に流し、気体透過膜を介して気体を気体室
から液体室に透過させて気体を被処理液に溶解させる気
体透過膜装置において、気体透過膜モジュールの気体室
に流入させる気体を加熱する加熱手段を備えていること
を特徴としている。第２の発明で、気体室の圧力は特に
限定されないが、一般的には、常圧、或いはそれより高
い圧力であることが好ましい。
【００１２】第１及び第２の発明で使用する気体透過膜
は、気体を透過でき、液体を透過しにくいものである限
り、その構造、材料、形式には制約はなく、例えば平膜
でも、中空糸膜でも、スパイラル膜でも良いが、好適に
は、単位体積当たりの膜面積が高く、装置を小型化でき
る中空糸膜が好ましい。また、加熱手段は、その構成、
形式に制約はなく、例えば温水、スチーム等と気体とを
熱交換して、気体を加熱する熱交換器、燃焼炉形式の加
熱器、電熱線を発熱体とした加熱器等がある。第１及び
第２の発明では、被処理液の組成には制約はなく、例え
ば水、油等に適用できる。被処理液から気体側に透過し
て凝縮する虞のある透過気体は、水蒸気に限らず、溶媒
であれば溶媒の気化ガスでも良い。気体の加熱温度は、
理論的には、気体中の透過ガス成分の露点、例えば水蒸
気の露点温度以上にすれば良いが、気体中の透過ガス成
分の露点温度は気体透過膜の透過ガスの透過率、気体の
圧力、透過ガスの蒸気圧曲線、被処理液の組成等に複雑
に関係するので、実用的には被処理液の温度以上にする
ことが望ましい。しかしながら、それ以下の温度であっ
ても、気体を加熱することによって被処理液との温度差
を極力少なくすることにより、凝縮液の発生を極力防止
することができる。気体の温度は高いほど、本発明の目
的に適うものの、気体透過膜、ハウジング、封止剤、パ
ッキン等の耐熱温度以下、すなわちモジュールの耐熱温
度以下にする。
は、気体を透過でき、液体を透過しにくいものである限
り、その構造、材料、形式には制約はなく、例えば平膜
でも、中空糸膜でも、スパイラル膜でも良いが、好適に
は、単位体積当たりの膜面積が高く、装置を小型化でき
る中空糸膜が好ましい。また、加熱手段は、その構成、
形式に制約はなく、例えば温水、スチーム等と気体とを
熱交換して、気体を加熱する熱交換器、燃焼炉形式の加
熱器、電熱線を発熱体とした加熱器等がある。第１及び
第２の発明では、被処理液の組成には制約はなく、例え
ば水、油等に適用できる。被処理液から気体側に透過し
て凝縮する虞のある透過気体は、水蒸気に限らず、溶媒
であれば溶媒の気化ガスでも良い。気体の加熱温度は、
理論的には、気体中の透過ガス成分の露点、例えば水蒸
気の露点温度以上にすれば良いが、気体中の透過ガス成
分の露点温度は気体透過膜の透過ガスの透過率、気体の
圧力、透過ガスの蒸気圧曲線、被処理液の組成等に複雑
に関係するので、実用的には被処理液の温度以上にする
ことが望ましい。しかしながら、それ以下の温度であっ
ても、気体を加熱することによって被処理液との温度差
を極力少なくすることにより、凝縮液の発生を極力防止
することができる。気体の温度は高いほど、本発明の目
的に適うものの、気体透過膜、ハウジング、封止剤、パ
ッキン等の耐熱温度以下、すなわちモジュールの耐熱温
度以下にする。
【００１３】好適には、気体透過膜モジュールの気体室
に気体を送入する送入管及び／又は気体室の大気露出部
分が、保温又は加熱されていることが望ましい。例えば
図３に示す例では、送入管とは、第２端部６２に設けら
れた気体入口ノズル８２及び気体出口ノズル８４に接続
された気体配管を言い、気体室の大気露出部分とは、第
２端部６２に設けられた気体分配室７８を言う。尚、気
体集気室８０の外壁もこれに含めても良い。送入管及び
／又は気体室の大気露出部分を保温又は加熱することに
より、気体が大気によって急激に冷却され、気体室内の
透過ガス成分、例えば水蒸気が凝縮することを防止する
ことができる。
に気体を送入する送入管及び／又は気体室の大気露出部
分が、保温又は加熱されていることが望ましい。例えば
図３に示す例では、送入管とは、第２端部６２に設けら
れた気体入口ノズル８２及び気体出口ノズル８４に接続
された気体配管を言い、気体室の大気露出部分とは、第
２端部６２に設けられた気体分配室７８を言う。尚、気
体集気室８０の外壁もこれに含めても良い。送入管及び
／又は気体室の大気露出部分を保温又は加熱することに
より、気体が大気によって急激に冷却され、気体室内の
透過ガス成分、例えば水蒸気が凝縮することを防止する
ことができる。
【００１４】
【発明の実施の形態】以下に、添付図面を参照し、実施
形態例を挙げて本発明の実施の形態を具体的かつ詳細に
説明する。実施形態例１ 本実施形態例は、本発明に係る気体透過膜装置を被処理
液の脱気、本例では水の脱気装置に適用した実施形態の
一例であって、図１は本実施形態例の気体透過膜装置の
構成を示すフローシートである。本実施形態例の気体透
過膜装置１０は、図１に示すように、気体透過膜１２を
介して液体室１４と気体室１６とを有する気体透過膜モ
ジュール１８と、気体透過膜モジュール１８に送入する
気体を加熱する加熱器２０と、気体室１６を減圧状態に
維持する真空ポンプ２２と、気体室１６に気体を供給す
るガス源２４とを備えている。気体透過膜モジュール１
８は、図３で説明した気体透過膜モジュール５０と基本
的には同様な構成を有し、図１に示すように、気体入口
ノズルが上部に、気体出口ノズルが下部になって中空糸
膜が垂直方向に配置されるように、配置されている。
形態例を挙げて本発明の実施の形態を具体的かつ詳細に
説明する。実施形態例１ 本実施形態例は、本発明に係る気体透過膜装置を被処理
液の脱気、本例では水の脱気装置に適用した実施形態の
一例であって、図１は本実施形態例の気体透過膜装置の
構成を示すフローシートである。本実施形態例の気体透
過膜装置１０は、図１に示すように、気体透過膜１２を
介して液体室１４と気体室１６とを有する気体透過膜モ
ジュール１８と、気体透過膜モジュール１８に送入する
気体を加熱する加熱器２０と、気体室１６を減圧状態に
維持する真空ポンプ２２と、気体室１６に気体を供給す
るガス源２４とを備えている。気体透過膜モジュール１
８は、図３で説明した気体透過膜モジュール５０と基本
的には同様な構成を有し、図１に示すように、気体入口
ノズルが上部に、気体出口ノズルが下部になって中空糸
膜が垂直方向に配置されるように、配置されている。
【００１５】液体室１４の下部端部及び上部端部には、
脱気処理を施す被処理液を流入させる被処理液流入管２
６、脱気処理を施した処理液を流出させる処理液流出管
２８が、それぞれ、接続されている。また、気体室１６
の上部端部には、ガス源２４から気体を気体室１６に送
入する気体送入管３０、及び、気体室１６の下部端部に
は、気体室１６から気体を排出する気体排出管３２がそ
れぞれ接続されている。加熱器２０は気体送入管３０の
途中に設けられ、加熱器２０の上流、及び下流の気体送
入管３０には、ガス流量計３４及び温度計３６が、それ
ぞれ取り付けてある。真空ポンプ２２は気体排出管３２
の末端に設けられており、また、気体室１６には気体室
１６の圧力を測定するために圧力計３７が設けてある。
被処理液流入管２６には水溶液の温度を測定するため
に、温度計３８が設けてある。尚、真空ポンプ２２を設
けずに、常圧又は加圧状態で窒素ガスを送入してもよ
い。
脱気処理を施す被処理液を流入させる被処理液流入管２
６、脱気処理を施した処理液を流出させる処理液流出管
２８が、それぞれ、接続されている。また、気体室１６
の上部端部には、ガス源２４から気体を気体室１６に送
入する気体送入管３０、及び、気体室１６の下部端部に
は、気体室１６から気体を排出する気体排出管３２がそ
れぞれ接続されている。加熱器２０は気体送入管３０の
途中に設けられ、加熱器２０の上流、及び下流の気体送
入管３０には、ガス流量計３４及び温度計３６が、それ
ぞれ取り付けてある。真空ポンプ２２は気体排出管３２
の末端に設けられており、また、気体室１６には気体室
１６の圧力を測定するために圧力計３７が設けてある。
被処理液流入管２６には水溶液の温度を測定するため
に、温度計３８が設けてある。尚、真空ポンプ２２を設
けずに、常圧又は加圧状態で窒素ガスを送入してもよ
い。
【００１６】本実施形態例では、加熱器２０は、熱交換
器であって、気体の設定昇温温度の高低に応じて、温
水、熱媒、スチーム等により気体を熱交換により加熱す
る。また、加熱器２０による気体の加熱温度を制御する
ために、常用の温度制御装置を設けても良い。加熱器２
０より下流の気体送入管３０、及び、気体室１６の大気
露出領域（図３の気体分配室７８の外壁に相当）は、保
温材３９により保温されている。これにより、加熱器２
０より下流の気体送入管３０及び気体室１６内の気体
は、大気から断熱状態に維持されているので、大気によ
る気体の冷却効果は殆どない。なお、本実施形態例の気
体透過膜モジュールとは逆に、気体入口ノズルを下部
に、気体出口ノズルを上部にして気体透過膜モジュール
を垂直に配置したり、あるいは気体透過膜モジュールを
横置きに配置した場合は、気体排出管の内部に生じた凝
縮水が逆流して気体透過膜モジュール内に流れ込む虞が
あるので、このような場合は、気体排出管も保温又は加
熱することが好ましい。また、このことは後述の実施形
態例２のガス溶解の場合も同じである。
器であって、気体の設定昇温温度の高低に応じて、温
水、熱媒、スチーム等により気体を熱交換により加熱す
る。また、加熱器２０による気体の加熱温度を制御する
ために、常用の温度制御装置を設けても良い。加熱器２
０より下流の気体送入管３０、及び、気体室１６の大気
露出領域（図３の気体分配室７８の外壁に相当）は、保
温材３９により保温されている。これにより、加熱器２
０より下流の気体送入管３０及び気体室１６内の気体
は、大気から断熱状態に維持されているので、大気によ
る気体の冷却効果は殆どない。なお、本実施形態例の気
体透過膜モジュールとは逆に、気体入口ノズルを下部
に、気体出口ノズルを上部にして気体透過膜モジュール
を垂直に配置したり、あるいは気体透過膜モジュールを
横置きに配置した場合は、気体排出管の内部に生じた凝
縮水が逆流して気体透過膜モジュール内に流れ込む虞が
あるので、このような場合は、気体排出管も保温又は加
熱することが好ましい。また、このことは後述の実施形
態例２のガス溶解の場合も同じである。
【００１７】次に、図１を参照して、気体透過膜装置１
０の運転方法を説明する。先ず、加熱器２０に温水を導
入して運転状態にし、次いで真空ポンプ２２を起動し
て、気体透過膜モジュール１８の気体室１６を所定の減
圧状態に維持しつつ、流量計３４で流量を計測しながら
所定流量でガス供給源２４から例えば窒素ガスを気体室
１６に導入する。その際、温度計３６で測定した窒素ガ
スの温度が温度計３８で測定した被処理液の温度より高
い温度にする。次いで、気体透過膜モジュール１８の液
体室１４に所定流量で被処理液流入管２６によって被処
理液、本実施形態例では、水を流入させて、処理液流出
管２８から処理液を流出させる。以上の操作により、被
処理液を所定通り脱気することができる。
０の運転方法を説明する。先ず、加熱器２０に温水を導
入して運転状態にし、次いで真空ポンプ２２を起動し
て、気体透過膜モジュール１８の気体室１６を所定の減
圧状態に維持しつつ、流量計３４で流量を計測しながら
所定流量でガス供給源２４から例えば窒素ガスを気体室
１６に導入する。その際、温度計３６で測定した窒素ガ
スの温度が温度計３８で測定した被処理液の温度より高
い温度にする。次いで、気体透過膜モジュール１８の液
体室１４に所定流量で被処理液流入管２６によって被処
理液、本実施形態例では、水を流入させて、処理液流出
管２８から処理液を流出させる。以上の操作により、被
処理液を所定通り脱気することができる。
【００１８】気体透過膜モジュール１８としてセルガー
ド社のリキセルを使用し、気体透過膜装置１０と同じ構
成の実験装置を作製し、以下の実験を行った。実験例１ 真空ポンプ２２を起動して、気体透過膜モジュール１８
の気体室１６の圧力を５０Torrに維持しつつ、温度計３
６で測定した温度が３０℃になるように加熱器２０で加
熱しながら１リットル（０℃、１atm 換算）／min の流
量の窒素ガスを気体室１６に導入した。一方、溶存酸素
濃度（ＤＯ）５０μｇ／リットルの純水からなる水温２
０℃の試料水を１．５ｍ3 ／ｈの流量で、気体透過膜モ
ジュール１８の液体室１４に導入して、試料水を脱気し
た。脱気処理を１２時間継続した後でも、被処理液流出
管２８から流出した脱気試料水の溶存酸素濃度（ＤＯ）
は、１．０μｇ／リットルで、脱気前の溶存酸素濃度
（ＤＯ）の５０分の１であった。
ド社のリキセルを使用し、気体透過膜装置１０と同じ構
成の実験装置を作製し、以下の実験を行った。実験例１ 真空ポンプ２２を起動して、気体透過膜モジュール１８
の気体室１６の圧力を５０Torrに維持しつつ、温度計３
６で測定した温度が３０℃になるように加熱器２０で加
熱しながら１リットル（０℃、１atm 換算）／min の流
量の窒素ガスを気体室１６に導入した。一方、溶存酸素
濃度（ＤＯ）５０μｇ／リットルの純水からなる水温２
０℃の試料水を１．５ｍ3 ／ｈの流量で、気体透過膜モ
ジュール１８の液体室１４に導入して、試料水を脱気し
た。脱気処理を１２時間継続した後でも、被処理液流出
管２８から流出した脱気試料水の溶存酸素濃度（ＤＯ）
は、１．０μｇ／リットルで、脱気前の溶存酸素濃度
（ＤＯ）の５０分の１であった。
【００１９】比較実験例１ 窒素ガスの加熱温度を試料水の水温より低い１０℃に設
定したことを除いて、実験例１と同様にして、脱気実験
を行ったところ、脱気試料水の溶存酸素濃度（ＤＯ）
は、３．２μｇ／リットルで、脱気前の溶存酸素濃度
（ＤＯ）の１５．６分の１であった。
定したことを除いて、実験例１と同様にして、脱気実験
を行ったところ、脱気試料水の溶存酸素濃度（ＤＯ）
は、３．２μｇ／リットルで、脱気前の溶存酸素濃度
（ＤＯ）の１５．６分の１であった。
【００２０】以上の実験結果から、窒素ガスの温度を脱
気すべき試料水の温度より高くすることにより、長時間
にわたり高い脱気効率を維持することができることが判
ったので、本発明の効果が高いと評価できる。
気すべき試料水の温度より高くすることにより、長時間
にわたり高い脱気効率を維持することができることが判
ったので、本発明の効果が高いと評価できる。
【００２１】実施形態例２ 本実施形態例は、本発明に係る気体透過膜装置を被処理
液にガスを溶解する装置、本例では純水に水素ガスを溶
解する装置に適用した実施形態の一例であって、図２は
本実施形態例の気体透過膜装置の構成を示すフローシー
トである。本実施形態例の気体透過膜装置４０は、図２
に示すように、真空ポンプ２２に代えて、気体排出管３
２に開閉弁４２とブロア４４とを備えていること、及
び、気体室１６が常圧又は加圧状態になることを除い
て、実施形態例１の気体透過膜装置１０の構成と同じ構
成を備えている。
液にガスを溶解する装置、本例では純水に水素ガスを溶
解する装置に適用した実施形態の一例であって、図２は
本実施形態例の気体透過膜装置の構成を示すフローシー
トである。本実施形態例の気体透過膜装置４０は、図２
に示すように、真空ポンプ２２に代えて、気体排出管３
２に開閉弁４２とブロア４４とを備えていること、及
び、気体室１６が常圧又は加圧状態になることを除い
て、実施形態例１の気体透過膜装置１０の構成と同じ構
成を備えている。
【００２２】次に、図２を参照して、気体透過膜装置４
０の運転方法を説明する。先ず、開閉弁４２を閉止し、
かつ加熱器２０に温水を導入して運転状態にし、次いで
圧力計３７で気体室１６の圧力を所定圧力になるよう
に、あるいはガス流量計３４で所定のガス流量になるよ
うにガス供給源２４から例えば水素ガスを気体室１６に
導入する。その際、温度計３６で測定した水素ガスの温
度が温度計３８で測定した被処理液の温度より高い温度
にする。次いで、気体透過膜モジュール１８の液体室１
４に所定流量で被処理液流入管２６によって被処理液、
本実施形態例では純水を流入させて、処理液流出管２８
から処理液を流出させる。以上の操作により、純水に所
定通り水素ガスを溶解させることができる。なお、気体
排出管３２から排出される排ガス中には余剰の水素ガス
が含まれているので、この排ガスをブロア４４で吸引し
て不図示の水素分解触媒と接触させ、水素を分解してか
ら大気中に放出するとよい。
０の運転方法を説明する。先ず、開閉弁４２を閉止し、
かつ加熱器２０に温水を導入して運転状態にし、次いで
圧力計３７で気体室１６の圧力を所定圧力になるよう
に、あるいはガス流量計３４で所定のガス流量になるよ
うにガス供給源２４から例えば水素ガスを気体室１６に
導入する。その際、温度計３６で測定した水素ガスの温
度が温度計３８で測定した被処理液の温度より高い温度
にする。次いで、気体透過膜モジュール１８の液体室１
４に所定流量で被処理液流入管２６によって被処理液、
本実施形態例では純水を流入させて、処理液流出管２８
から処理液を流出させる。以上の操作により、純水に所
定通り水素ガスを溶解させることができる。なお、気体
排出管３２から排出される排ガス中には余剰の水素ガス
が含まれているので、この排ガスをブロア４４で吸引し
て不図示の水素分解触媒と接触させ、水素を分解してか
ら大気中に放出するとよい。
【００２３】気体透過膜モジュール１８としてヘキスト
社のリキセルを使用し、気体透過膜装置４０と同じ構成
の実験装置を作製し、以下の実験を行った。実験例２ 温度計３６で測定した温度が３０℃になるように加熱器
２０で加熱しながら０．５リットル（０℃、１atm 換
算）／min の流量の水素ガスを気体透過膜モジュール１
８の気体室１６に導入した。一方、溶存水素濃度（Ｄ
Ｈ）が殆ど０μｇ／リットル（計測下限値以下）の純水
からなる水温２０℃の試料水を１．５ｍ3 ／ｈの流量
で、気体透過膜モジュール１８の液体室１４に導入し
て、試料水に水素ガスを溶解させた。その際、気体室１
６の圧力を１kgf ／cm2 に維持するように、開閉弁４２
の開度を調整した。水素ガス溶解処理を８時間継続した
後でも、被処理液流出管２８から流出した試料水の溶存
水素濃度（ＤＨ）は、２．１μｇ／リットルであった。
社のリキセルを使用し、気体透過膜装置４０と同じ構成
の実験装置を作製し、以下の実験を行った。実験例２ 温度計３６で測定した温度が３０℃になるように加熱器
２０で加熱しながら０．５リットル（０℃、１atm 換
算）／min の流量の水素ガスを気体透過膜モジュール１
８の気体室１６に導入した。一方、溶存水素濃度（Ｄ
Ｈ）が殆ど０μｇ／リットル（計測下限値以下）の純水
からなる水温２０℃の試料水を１．５ｍ3 ／ｈの流量
で、気体透過膜モジュール１８の液体室１４に導入し
て、試料水に水素ガスを溶解させた。その際、気体室１
６の圧力を１kgf ／cm2 に維持するように、開閉弁４２
の開度を調整した。水素ガス溶解処理を８時間継続した
後でも、被処理液流出管２８から流出した試料水の溶存
水素濃度（ＤＨ）は、２．１μｇ／リットルであった。
【００２４】比較実験例２ 水素ガスの加熱温度を試料水の水温より低い１０℃に設
定したことを除いて、実験例２と同様にして、水素ガス
溶解実験を行ったところ、試料水の溶存水素濃度（Ｄ
Ｈ）は、１．５μｇ／リットルであった。
定したことを除いて、実験例２と同様にして、水素ガス
溶解実験を行ったところ、試料水の溶存水素濃度（Ｄ
Ｈ）は、１．５μｇ／リットルであった。
【００２５】以上の実験結果から、水素ガスの温度を試
料水の温度より高くすることにより、長時間にわたり高
いガス溶解効率を維持することができることが判ったの
で、本発明の効果が高いと評価できる。
料水の温度より高くすることにより、長時間にわたり高
いガス溶解効率を維持することができることが判ったの
で、本発明の効果が高いと評価できる。
【００２６】
【発明の効果】本第１及び第２の発明によれば、気体透
過膜装置の気体室に流入させる気体を加熱する加熱手段
を備え、流入させる気体を加熱、好ましくは気体の温度
が被処理液の温度以上になるように気体を加熱すること
により、長時間にわたり高効率で被処理液を脱気した
り、又は被処理液にガスを溶解させる気体透過膜装置を
実現している。
過膜装置の気体室に流入させる気体を加熱する加熱手段
を備え、流入させる気体を加熱、好ましくは気体の温度
が被処理液の温度以上になるように気体を加熱すること
により、長時間にわたり高効率で被処理液を脱気した
り、又は被処理液にガスを溶解させる気体透過膜装置を
実現している。
【図１】実施形態例１の気体透過膜装置の構成を示すフ
ローシートである。
ローシートである。
【図２】実施形態例２の気体透過膜装置の構成を示すフ
ローシートである。
ローシートである。
【図３】気体透過膜モジュールの構成を示す斜視図であ
る。
る。
１０ 実施形態例１の気体透過膜装置 １２ 気体透過膜 １４ 液体室 １６ 気体室 １８ 気体透過膜モジュール ２０ 加熱器 ２２ 真空ポンプ ２４ ガス源 ２６ 被処理液流入管 ２８ 処理液流出管 ３０ 気体送入管 ３２ 気体排出管 ３４ ガス流量計 ３６ 温度計 ３７ 圧力計 ３８ 温度計 ３９ 保温材 ４０ 実施形態例２の気体透過膜装置 ４２ 開閉弁 ４４ ブロア ５０ 気体透過膜モジュール ５２ ハウジング ５４ 仕切り板 ５６ 第１室 ５８ 第２室 ６０ 第１端部 ６２ 第２端部 ６４ 配液管 ６６ 集液管 ６８ 中空糸膜 ７０ 貫通孔 ７２ 間隙 ７４ 液体入口ノズル ７６ 液体出口ノズル ７８ 気体分配室 ８０ 気体集気室 ８２ 気体入口ノズル ８４ 気体出口ノズル
Claims (4)
- 【請求項１】 気体透過膜と、気体透過膜により区画さ
れた液体室と気体室とを有する気体透過膜モジュールを
備え、第１の気体を溶存した被処理液を液体室に流し、
かつ第１の気体とは異なる第２の気体を気体室に流し、
気体透過膜を介して第１の気体を液体室から気体室に透
過させて被処理液を脱気する気体透過膜装置において、 気体透過膜モジュールの気体室に流入させる第２の気体
を加熱する加熱手段を備えていることを特徴とする気体
透過膜装置。 - 【請求項２】 気体透過膜と、気体透過膜により区画さ
れた液体室と気体室とを有する気体透過膜モジュールを
備え、被処理液を液体室に流し、かつ気体を気体室に流
し、気体透過膜を介して気体を気体室から液体室に透過
させて気体を被処理液に溶解させる気体透過膜装置にお
いて、 気体透過膜モジュールの気体室に流入させる気体を加熱
する加熱手段を備えていることを特徴とする気体透過膜
装置。 - 【請求項３】 加熱手段が、気体透過膜モジュールの気
体室に流入させる第２の気体を被処理液の温度以上に加
熱するものであることを特徴とする請求項１に記載の気
体透過膜装置。 - 【請求項４】 気体透過膜モジュールの気体室に気体を
送入する送入管及び／又は気体室の大気露出部分が、保
温又は加熱されていることを特徴とする請求項１から３
のいずれか１項に記載の気体透過膜装置。
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|---|---|---|---|
| JP10223837A JP2000051606A (ja) | 1998-08-07 | 1998-08-07 | 気体透過膜装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10223837A JP2000051606A (ja) | 1998-08-07 | 1998-08-07 | 気体透過膜装置 |
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|---|---|
| JP2000051606A true JP2000051606A (ja) | 2000-02-22 |
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ID=16804508
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|---|---|---|---|
| JP10223837A Pending JP2000051606A (ja) | 1998-08-07 | 1998-08-07 | 気体透過膜装置 |
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Cited By (16)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002307059A (ja) * | 2001-04-12 | 2002-10-22 | Kurita Water Ind Ltd | 脱炭酸方法及び純水製造方法 |
| JP2003290645A (ja) * | 2002-01-22 | 2003-10-14 | Hewlett Packard Co <Hp> | 燃料カートリッジ及び反応チャンバ |
| US6939392B2 (en) | 2003-04-04 | 2005-09-06 | United Technologies Corporation | System and method for thermal management |
| JP2006245573A (ja) * | 2005-02-28 | 2006-09-14 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィ機器、デバイス製作方法、及び液体を脱気する機器 |
| US7377112B2 (en) | 2005-06-22 | 2008-05-27 | United Technologies Corporation | Fuel deoxygenation for improved combustion performance |
| US7393388B2 (en) | 2005-05-13 | 2008-07-01 | United Technologies Corporation | Spiral wound fuel stabilization unit for fuel de-oxygenation |
| US7435283B2 (en) | 2005-05-18 | 2008-10-14 | United Technologies Corporation | Modular fuel stabilization system |
| US7465336B2 (en) | 2005-06-09 | 2008-12-16 | United Technologies Corporation | Fuel deoxygenation system with non-planar plate members |
| WO2009066766A1 (ja) * | 2007-11-22 | 2009-05-28 | Bio Research Inc. | 飲料用水素含有水の製造方法 |
| US7569099B2 (en) | 2006-01-18 | 2009-08-04 | United Technologies Corporation | Fuel deoxygenation system with non-metallic fuel plate assembly |
| US7582137B2 (en) | 2006-01-18 | 2009-09-01 | United Technologies Corporation | Fuel deoxygenator with non-planar fuel channel and oxygen permeable membrane |
| US7615104B2 (en) | 2005-11-03 | 2009-11-10 | United Technologies Corporation | Fuel deoxygenation system with multi-layer oxygen permeable membrane |
| US7824470B2 (en) | 2006-01-18 | 2010-11-02 | United Technologies Corporation | Method for enhancing mass transport in fuel deoxygenation systems |
| JP2015180500A (ja) * | 2015-05-29 | 2015-10-15 | 栗田工業株式会社 | ガス溶解水供給装置及びガス溶解水の製造方法 |
| CN111263649A (zh) * | 2018-10-01 | 2020-06-09 | 日本多宁股份有限公司 | 透析液的制备装置 |
| WO2020203122A1 (ja) * | 2019-03-29 | 2020-10-08 | 栗田工業株式会社 | 溶存ガス濃度測定装置及び測定方法 |
-
1998
- 1998-08-07 JP JP10223837A patent/JP2000051606A/ja active Pending
Cited By (20)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002307059A (ja) * | 2001-04-12 | 2002-10-22 | Kurita Water Ind Ltd | 脱炭酸方法及び純水製造方法 |
| JP2003290645A (ja) * | 2002-01-22 | 2003-10-14 | Hewlett Packard Co <Hp> | 燃料カートリッジ及び反応チャンバ |
| US6939392B2 (en) | 2003-04-04 | 2005-09-06 | United Technologies Corporation | System and method for thermal management |
| JP2009260381A (ja) * | 2005-02-28 | 2009-11-05 | Asml Netherlands Bv | 液体を脱気する機器及びその方法 |
| JP2006245573A (ja) * | 2005-02-28 | 2006-09-14 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィ機器、デバイス製作方法、及び液体を脱気する機器 |
| US8958051B2 (en) | 2005-02-28 | 2015-02-17 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus, device manufacturing method and apparatus for de-gassing a liquid |
| US20120097034A1 (en) * | 2005-02-28 | 2012-04-26 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus, device manufacturing method and apparatus for de-gassing a liquid |
| US7393388B2 (en) | 2005-05-13 | 2008-07-01 | United Technologies Corporation | Spiral wound fuel stabilization unit for fuel de-oxygenation |
| US7435283B2 (en) | 2005-05-18 | 2008-10-14 | United Technologies Corporation | Modular fuel stabilization system |
| US7465336B2 (en) | 2005-06-09 | 2008-12-16 | United Technologies Corporation | Fuel deoxygenation system with non-planar plate members |
| US7377112B2 (en) | 2005-06-22 | 2008-05-27 | United Technologies Corporation | Fuel deoxygenation for improved combustion performance |
| US7615104B2 (en) | 2005-11-03 | 2009-11-10 | United Technologies Corporation | Fuel deoxygenation system with multi-layer oxygen permeable membrane |
| US7569099B2 (en) | 2006-01-18 | 2009-08-04 | United Technologies Corporation | Fuel deoxygenation system with non-metallic fuel plate assembly |
| US7582137B2 (en) | 2006-01-18 | 2009-09-01 | United Technologies Corporation | Fuel deoxygenator with non-planar fuel channel and oxygen permeable membrane |
| US7824470B2 (en) | 2006-01-18 | 2010-11-02 | United Technologies Corporation | Method for enhancing mass transport in fuel deoxygenation systems |
| WO2009066766A1 (ja) * | 2007-11-22 | 2009-05-28 | Bio Research Inc. | 飲料用水素含有水の製造方法 |
| JP2015180500A (ja) * | 2015-05-29 | 2015-10-15 | 栗田工業株式会社 | ガス溶解水供給装置及びガス溶解水の製造方法 |
| CN111263649A (zh) * | 2018-10-01 | 2020-06-09 | 日本多宁股份有限公司 | 透析液的制备装置 |
| WO2020203122A1 (ja) * | 2019-03-29 | 2020-10-08 | 栗田工業株式会社 | 溶存ガス濃度測定装置及び測定方法 |
| JP2020165824A (ja) * | 2019-03-29 | 2020-10-08 | 栗田工業株式会社 | 溶存ガス濃度測定装置及び測定方法 |
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