ITMI940442A1

ITMI940442A1 - Impianto di rivestimento sotto vuoto

Info

Publication number: ITMI940442A1
Application number: IT000442A
Authority: IT
Inventors: Gunter Brauer; Ulrich Patz; Michael Scherer; Joachim Szczyrbowski
Original assignee: Leybold Ag
Priority date: 1993-04-23
Filing date: 1994-03-10
Publication date: 1995-09-10
Also published as: ITMI940442A0; US5372693A; JPH06346235A; DE4313353A1; FR2704240B1; FR2704240A1; IT1269524B; DE4313353C2

Description

DESCRIZIONE

dell'invenzione industriale

L'invenzione riguarda un impianto di rivestimento sotto vuoto per il rivestimento di una regione di sub-strato mediante un catodo di vaoorizzazione, presentante un bersaglio, come sorgente di rivestimento, il quale è disposto internamente ad un recipiente eseguito come una tazza con un lato aperto, applicabile a tenuta sul substrato.

Un impianto di rivestimento sotto vuoto del tipo sopra c’tato è oggetto del US-A-4 514 275. In un tale impianto di rivestimento non occorre, per il rivestimento di una regione localizzata su un substrato ad ampia superficie, che il recipiente abbia un volume così grande da poter alloggiare l'intero substrato, perchè il substrato forma una parte della parete del recipiente. Occorre che il recipiente abbia soltanto una sezione trasversale che sia poco più grande della regione da rivestire. Perciò, l'impianto di rivestimento sotto vuoto noto è di struttura molto compatta. Esso è adatto per esempio in particolare per l'applicazione di uno strato sensibile sul cristallo di un autoveicolo.

Negli impianti di rivestimento sotto vuoto, nei quali la fronte di rivestimento è un catodo di vaporizzazione con un bersaglio, accade frequentemente che il bersaglio reagisca facilmente con parti costituenti dell'atmosfera, per cui esso non deve venire esposto all'atmosfera. Ciò però non è evitabile nell'impianto di rivestimento sotto vuoto noto, perchè l'atmosfera dopo la separazione del recipiente e del bersaglio dal latoche in tal modo viene aperto può affluire nel recipiente eseguito come tazza.

Lo scopo dell’invenzione è quello di esguire un impianto di rivestimento sotto vuoto del tipo sopra citato, in modo che come materiale di vaporizzazione possano venire impiegati anche bersagli facilmente reagenti con parti costituenti dell'aria.

Questo problema viene risolto secondo lai nvenzi one per il fatto che il recipiente è suddiviso in una camera di sorgente e in una camera di substrato da una parete di intercettazione spostabile a tenuta davanti alla sorgente di rivestimento. In un tale impio di rivestimento sotto vuoto la parte della tazza nella quale si trova il bersaglio può venire separata dalla parte con il substrato, prima che il substrato venga separato dalla tazza ossia prima che possa penetrare aria nella tazza.

Costruttivamente, è particolarmente facile realizzare la separazione della camera di sorgente, se la parete di intercettazione è supportata da un albero disposto girevolm su un lato della tazza ed è eseguita spostabile a tenuta entro la tazza.

La camera di sorgente può essere eseguita particolarmente comoatta, e secondo un'altra forma di esecuzione dell'invenzione il catodo di vaporizzazione è supportato nella tazza in modo traslabile in direzione del substrato.

Strati diversi possono venire applicati in rapida successione, se secondo un altro sviìuDpo dell'invenzione nella tazza è previsto un dispositivo selettore con almeno due sorgenti di rivestimento diverse. Mediante un tale dispositivo selettore è possibile eseguire anche fasi di processo diverse, per esempio attacco chimico con sorgente di ioni, pulitura ionica, processi ad alta frequenza e a corrente continua, processi reattivi e non reattivi, o processi PECVD.

L'invenzione ammette numerose forme di realizzazione. A ulteriore chiarimento del suo principio base, una di/esse e un particolare modificato sono rappresentati nel disegno e verranno descritti nel seguito. Mostrano

in figura 1, una sezione verticale di un impianto di rivestimento sotto vuoto secondo l'invenzione, e in figura 2, una sezione verticale di un particolare dell'impianto modificato/alla figura 1.

La figura 1 mostra un substrato 1, che è costituito da un cristallo di finestrino di un autoveicolo, sul quale viene applicato da sopra un recioiente 2, eseguito come tazza, con il suo lato frontale aoerto. Una tenuta perimetrale 3 chiude a tenuta il recipiente 2 risoetto al substrato 1. In tal modo viene creata una camera sotto vuoto 4, che è delimitata dal recipiente 2 e verso il basso, vista nel disegno, dal substrato 1. Una pompa turbomolecolare 5, che è collegata a flangia direttamente al recipiente 2, serve per l'evacuazione della camera sotto vuoto 4. Nel recipiente 2 è disposta una sorgente di rivestimento 6, che in questo esempio di esecuzione è costituita da un impianto di vaporizzazione con un bersaglio 7. Mediante una doppia freccia 8 è indicato che la sorgente di rivestimento 6 con il suo bersaglio 7 può essere fatta allontanare più o meno dal substrato 1. Quando la sorgente di rivestimento 6 si trova nella sua posizione più sollevata una parete di intercettazione 9, rappresentata spezzata, che è disposta su un albero girevole 10, può venire ruotata in modo da farla entrare a tenuta nel recipiente 2 sotto la sorgente di rivestimento 6. Questa parete di intercettazione 9 suddivide allora il recipiente 2 in una camera di sorgente 11 al di sopra della parete di intercettazione 9 e in una camera di substrato 12 al di sotto della parete di intercettazione 9.

Secondo figura 2, nella camera sotto vuoto 4 è disposto un dispositivo selettore 13, che in questo esempio di realizzazione è eseguito come un carosello e porta due bersagli 7, 7a. Con una rotazione mediante un albero 14 il bersaglio 7, 7a di volta in volta desiderato può venire portato in posizione allineata con il substrato 1, in modo da poter vaporizzare strati diversi.

Elenco dei numeri di riferimento

1 Substrato

2 Recipiente

3 Tenuta

4 Camera sotto vuoto

5 Pompa t urbomolecolare

6 Sorgente di rivestimento

7 Bersaglio

8 Doppia freccia

9 Parete di intercettazione 10 Albero

11 Camera di sorgente

12 Camera di substrato

13 Dispositivo selettore 14 Albero

Claims

RIVENDICAZIONI 1. Impianto di rivestimento sotto vuoto per il rivestimento di una regione su un substrato mediante un catodc di vaporizzazione, presentante un bersaglio, come sorgente di rivestimento, il quale è disposto internamente ad un recipiente eseguito come tazza con un lato aperto, applicabile a tenuta sul substrato, caratterizzato dal fatto che il recipiente (2) è suddiviso da una Darete di intercettazione (9) spostabils a tenuta davanti alla sorgente di rivestimento (6) in una camera di sorgente (11) e in una camera di substrato (12).
2. Impianto di rivestimento sotto vuoto secondo la rivendicazione 1, caratterizzato dal fatto che la parete di intercettazione (9) è supportata da un albero (10) disposto girevolmente su un lato del recipiente (2) ed è eseguita spostabile a tenuta entro il recipiente {2).
3. Impianto di rivestimento sotto vuoto secondo la rivendicazione 2, caratterizzato dal fatto che la sorgente di rivestimento (6) è supportata nel recipiente (2) in modo traslabile in direzione del substrato (1).
4. Impianto di rivestimento sotto vuoto secondo almeno una delle precedenti rivendicazioni, caratterizzato dal fatto che nel recipiente (2) è previsto un dispositivo selettore (13) con almeno due bersagli diversi (7, 7a).