HU196011B - Cathode of atomization - Google Patents
Cathode of atomization Download PDFInfo
- Publication number
- HU196011B HU196011B HU843554A HU355484A HU196011B HU 196011 B HU196011 B HU 196011B HU 843554 A HU843554 A HU 843554A HU 355484 A HU355484 A HU 355484A HU 196011 B HU196011 B HU 196011B
- Authority
- HU
- Hungary
- Prior art keywords
- tube
- cathode
- cathode according
- shape
- atomization
- Prior art date
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/34—Sputtering
- C23C14/3407—Cathode assembly for sputtering apparatus, e.g. Target
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/34—Gas-filled discharge tubes operating with cathodic sputtering
- H01J37/3402—Gas-filled discharge tubes operating with cathodic sputtering using supplementary magnetic fields
- H01J37/3405—Magnetron sputtering
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Centrifugal Separators (AREA)
Description
A találmány tárgya porlasztó katód síktól eltérő alakú szubsztrátumra porlasztóit bevonat készítéséhez, amelynek forgatható, hosszúkás csöve van t ennek külső felületén a porlasztandó bevonóanyagból lévő rétege van.
A 4.356.073. számú US szabadalmi leírásban (megjelent: 1982 .október 26.) egy vákuum alá helyezhető bevonó kamrában forgatható magnetron katód van ismertetve, amely katódnak hosszúkás, hengeres, csőalakú eleme van amelynek az átmérője annak hossza mentén lényegéin állandó, és egy lényegében síkalakú szubsztrátumra porlasztandó bevonó anyagból levő réteggel van ellátva, amely szubsztrátum a porlasztás közben a katódhoz képest mozog. Ennek az ismert berendezésnek az a hátránya, hogy síktól eltérő alakú szubsztrátumra nem lehet egyenletes rétegvastagságot rápodasztani.
A találmány elő célul tűztük ki egy olyan porlasztó katódnak a kidolgoztását, amelynek segítségével az ismert berendezés fent említett hátránya kiküszöbölhető, és síktól eltérő alakú szubsztrátumra is egyenletes rétegvastagság podasztható fel.
A kitűzött célt a bevezetőben körülírt porlasztó katóddal a találmány szerint úgy értük el, hogy a csőnek a porlasztófelülete hosszirányban a hengerestől eltérő alakú. Ennek a megoldásnak az az előnye, hogy a síktól eltérő alakú szubsztrátumra egyenletes bevonatot lehet ráporlasztani.
A találmány szerinti podasztó katód egy előnyös kiviteli alakjánál a csőnek lényegében hordószerű alakja van. Egy másik lehetséges kiviteli alak szerint hengerestől eltérő profilja van. Célszerű lehet egy olyan cső is amelynek az átmérője a hossza mentén változó. Ezekkel a kiviteli alakokkal lehetőség van a szubsztrátum alakjának követésére.
A találmány szerint a csőbe mágneses eszköz van beszerelve. A mágneses eszköz a cső hosszirányában húzódik, cs annak alakhához igazodik. Ezáltal a változó keresztmetszetű cső esetén is biztosítható fiz egyenletes porlasztás.
A találmány szerinti podasztó katód egy magnetronos katódos porlasztó berendezésbe építhető be, amelynek vákuum alá helyezhető bevonó kamrája van. Ebben a berendezésben a csövet hossztengelye körül forgató szerkezet van, és egy olyan mozgatószerve is van, amely a bevonandó szubsztrátumot a cső hossztengelyére merőleges irányban mozgatja.
A találmány szerinti berendezést az alábbiakban a mellékelt rajzok segítségével ismertetjük részletesebben, ahol
1. ábra egy bevonó kamrának a függőleges hosszmetszetét mutatja, amelybe a találmány szerinti forgatható magnetron katód van beszerelve, a
2. ábra az 1. ábra 2—2 vonala mentén vett függőleges keresztmetszete, a
3. ábra az 1 ábra 3-3 vonala mentén vett függőleges keresztmetszete, és végül a
4. ábra az 1. ábra 4-4 vonala mentén vett függőleges keresztmetszete.
Az ábrán látható, vákuum alá helyezhető 10 bevonó kamrába egy találmány szerinti forgatható 11 magnetron katód van beszerelve.
A 10 bevonó kamra előnyösen szögletes kialakítású, amelynek 12 alsó fala, 13 felső fala, a két végén 14 és 15 véglala, valamint az ábrán fel nem tüntetett oldalfalai vannak, amelyek egymáshoz tömítéssel vannak rögzítve, és ílymódon egy hermetikusan lezárt 10 bevonókamrát alkotnak,
A 11 magnetron katód egy hosszúkás 16 csőből áll, amelynek tengelyirányú felülete síktól eltérő alakú S szubsztrátum podasztó bevonására alkalmas. Amint az ábrákon látható, a 16 csőnek lényegében hordószerű alakja van, amelynek 17 középrészén viszonylag nagyobb a vastagsága, és amely a 18 és 19 végrészek felé csökken. A kiválasztott porlasztandó anyagból levői 20 bevonat a 16 cső külső felületére van felvíve.
A 10 bevonó kamra vákuum alá helyezéséhez egy 21 vákuumszivattyú szolgál, amellyel a kívánt nyomás állítható be. Abban az esetben, hogyha valamilyen gázt kellene bevezetni a kamrába, akkor az a 22 vezetéken és az ebbe beiktatott 23 szelep segítségével vezethető be.
A 16 cső vízszintesen van alátámasztva a két végén a 24 és 25 karimáknál fogva, amelyek egybefüggően vannak kialakítva a 26, illetve 27 csappal. A 16 eső a 24 és 25 karimákhoz 28 és 29 csavarok segítségével rögzíthető. A 26 és 27 csapok forgathatóan vannak behelyezve a 30 és 31 csapágytömbökbe, amelyek a 10 bevonó kamra 13 felső falához 30a csavarok segítségével vannak rögzítve. A 30 és 31 csapágytömbök a 10 bevonó kamra 13 felső falától térközzel vannak rögzítve, szigetelő anyagból levő 32 és 33 szalagok segítségével.
A 30 és 31 csapágy tömbök nyílásának átmérője kismértékben nagyobb, mint a beléjük nyúló 26 és 27 csapok átmérője, és ílymódon a 26 és 27 csapokat egy viszonylag szűk, gyűrűalakú 34 és 35 csatorna veszi körül. A gyűrűalakú 34 és 35 csatornák az ellentétes oldalaikon 36, illetve 37 tömbcsapágyakkal vannak lezárva, amely 36 és 37 tömbcsapágyak a 26, illetve 27 csapokat a 30, illetve 31 csapágytömbökben lévő nyílásokban központosán megtartják. A 26 és 27 csapokon lévő 24 és 25 karimák, valamint a 30 és 31 csapágytömbök közé 40, illetve 41 szigetelő alátét van behelyezve, amely meggátolja, hogy a 16 csőhöz továbbított hűtőközeg a 10 bevonó kamrába juthasson.
A 26 csapban két vízszintes 42 és 43 vezeték van kialakítva, amelyek a gyűrűalakú 34 csatornától vezetnek, és amelyek a 16 csővel közlekednek. A 30 csapágy tömbben egy rövid függőleges 44 vezeték van kialakítva, amely a 34 csatornától a 30 Csapágy tömbbe becsavart bevezető 45 csőhöz vezet. A 45 csövön és a 44 vezetéken keresztül hűtőközeget, mint például vizet, vezetünk a 34 csatornába, ahonnan az a 42 és 43 vezetékeken keresztül a 16 csőbe áramlik. A hűtőközeg körüljáija a 16 csövet, és anilak másik végén távozik a 27 csapban levő vízszintes 46 és 47 vezetékeken keresztül a 35 csatornába, majd innen a 31 csapágy tömbben levő függőleges 48 vezetékbe, majd egy kivezető 49 csőbe.
A 16 csövet egyik végén egy 50 motor hajtja, amely a 10 bevonó kamra 13 felső falára van szerelve. Az 50 motor egy szigeteit 51 tengelykapcsolón keresztül csatlakoák egy függőleges 52 orsóhoz, amelyhez egy 53 csiga kapcsolódik, és alkot egy 54 csigahajtást, amely a hozzá tartozó 26 csaphoz van rögzítve.
Egy 55 mágneses eszköz két párhuzamos A és B sorban elrendezett, U-alaku permanens 56 mágneseket tartalmaz (4. ábra), amely A és B sorok a 16 cső-21
196.011 nek az alsó részén hosszirányban húzódnak. Az 56 mágnesek az egyes A, illetve B sorokban egyvonalba esnek, és az egyik A sor 56 mágnesei a másik B 5 sor 56 mágneseihez képest eltolt helyzetűek, és egymást átlapolják. Az 56 mágnesek az A és B sorokban egymáshoz képest szögben vannak elhelyezve, amint az a 4. ábrán látható. Valamennyi A, illetve B sorban levő 56 mágnesek külső 57 szára egy hosszirányban ,λ húzódó, viszonylag keskeny, megfelelő mágneses anyagból levő 58 szalaghoz kapcsolódik, míg az 56 mágnesek belső 59 szára egy hasonló mágneses 60 szalaghoz kapcsolódik, amely párhuzamos az 58 szalagokkal.
A permanens 56 mágnesek a mágieses 58 és 60 j5 szalagokkal együtt a 61 és 62 csavarokkal rögzítve vannak, amely 58 és 60 szalagok alakja hosszirányban megfelel a 16 cső tengelyirányú görbületének, és amelynek az alsó 63 felülete megfelel a 16 cső belső felülete keresztmetszeti görbületének.
Az U-alakú 16 mágnesek előnyösen úgy vannak 20 elrendezve, hogy az északi pólusuk a mágneses 60 szalaghoz kapcsolódnak. Természetesen azonban más permanens mágnesek vagy elektromágnesek is alkalmazhatók az említett U-alakú 56 mágnesek helyett.
Az 56 mágnesek a 16 cső belső felületéhez közel __ helyezkednek el, amelyeket egy vízszintes 64 rúd tart, 65 függesztőkengyelek segítségével, amely 64 rudat a két végén a 26 és 27 csap támaszt alá.
Amint fentebb említettük, a bevonandó S szubsztrátumoknak a felső felülete lényegében megegyezik a 16 cső hosszirányú körvonalával. Az S szubsztrá- oq tumok vízszintesen vannak alátámasztva, és a 16 cső előtt mozognak, ílymódon- felfogják a leporlasztott bevonóanyagot. Az S szubsztrátumokat bármilyen alkalmas továbbító eszköz mozgathatja, például a 66 és 67 görgők segítségével, amelyek a 68 tengelyhez vannak rögzítve. A 68 tengely a 69 és 70 csapágyba- 35 kokban van csapágyazva, amelyek a 10 bevonó kamra 12 alsó falára vannak rögzítve,
A porlasztás létrejöttéhez szükséges, katódfeszültséget a 16 csőhöz egy egyenfeszültségű feszültségfonás biztosítja (az ábrán nincs feltüntetve) egy 71 vezetéken keresztül, amely egy villamos 72 érintkezőhöz csatlakozik, amely 72 érintkező csúszó érintkezést biztosít a 16 csőhöz.
Nyilvánvaló, hogy változtatások és módosítások a fentebb ismertetett berendezésnél lehetségesek; anélkül azonban, hogy a találmányi gondolattól és az oltalmi körtől eltérnénk.
Claims (6)
1. Porlasztó katód síktól eltérő alakú szubsztrátumra porlasztóit bevonat készítéséhez, amelynek forgatható, hosszúkás csöve van, ennek külső felületén a porlasztandó bevonó anyagból levő rétege van, azzal jellemezve, hogy a cső (16) porlasztó felülete hosszirányban a hengerestől eltérő alakú.
2. Az 1. igénypont szerinti porlasztó katód, a zzal jellemezve, hogy a csőnek (16) lényegében hordószerű alakja van.
3. Az 1. igénypont szerinti porlasztó katód, a z zal jellemezve, hogy a Csőnek (16) hengerestől eltérő profilja van.
4. Az 1. igénypont szerinti porlasztó katód, a zzal jellemezve hogy a csőnek (16) az átmérője a hossza mentén változó.
5. Az 1-4. igénypontok bármelyike szerinti porlasztó katód, azzal jellemezve, hogy a csőbe (16) mágneses eszköz (55) van beszerelve.
6. Az 5. igénypont szerinti porlasztó katód, a zzal jellemezve, hogy a mágneses eszköz (55) a Cső (16) hosszirányában húzódik, és annak alakjához igazodik.
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US06/523,969 US4445997A (en) | 1983-08-17 | 1983-08-17 | Rotatable sputtering apparatus |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| HUT37294A HUT37294A (en) | 1985-11-28 |
| HU196011B true HU196011B (en) | 1988-08-29 |
Family
ID=24087180
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| HU843554A HU196011B (en) | 1983-08-17 | 1984-08-15 | Cathode of atomization |
Country Status (11)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4445997A (hu) |
| EP (1) | EP0152472A1 (hu) |
| JP (1) | JPS61500025A (hu) |
| AU (1) | AU574723B2 (hu) |
| BR (1) | BR8407018A (hu) |
| CA (1) | CA1221335A (hu) |
| DK (1) | DK170685D0 (hu) |
| FI (1) | FI79917C (hu) |
| HU (1) | HU196011B (hu) |
| NO (1) | NO851458L (hu) |
| WO (1) | WO1985000925A1 (hu) |
Families Citing this family (52)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5096562A (en) * | 1989-11-08 | 1992-03-17 | The Boc Group, Inc. | Rotating cylindrical magnetron structure for large area coating |
| US5047131A (en) * | 1989-11-08 | 1991-09-10 | The Boc Group, Inc. | Method for coating substrates with silicon based compounds |
| BE1003701A3 (fr) * | 1990-06-08 | 1992-05-26 | Saint Roch Glaceries | Cathode rotative. |
| US5200049A (en) * | 1990-08-10 | 1993-04-06 | Viratec Thin Films, Inc. | Cantilever mount for rotating cylindrical magnetrons |
| JP3516949B2 (ja) * | 1990-08-10 | 2004-04-05 | バイラテック・シン・フィルムズ・インコーポレイテッド | 回転マグネトロンスパッタリングシステムにおけるアーク抑制のためのシールディング |
| US5100527A (en) * | 1990-10-18 | 1992-03-31 | Viratec Thin Films, Inc. | Rotating magnetron incorporating a removable cathode |
| US5106474A (en) * | 1990-11-21 | 1992-04-21 | Viratec Thin Films, Inc. | Anode structures for magnetron sputtering apparatus |
| JPH06508001A (ja) * | 1991-04-19 | 1994-09-08 | サーフィス ソリューションズ インコーポレーテッド | 線形磁電管スパッタリング方法及び装置 |
| US5262032A (en) * | 1991-05-28 | 1993-11-16 | Leybold Aktiengesellschaft | Sputtering apparatus with rotating target and target cooling |
| US5567289A (en) * | 1993-12-30 | 1996-10-22 | Viratec Thin Films, Inc. | Rotating floating magnetron dark-space shield and cone end |
| US5620577A (en) * | 1993-12-30 | 1997-04-15 | Viratec Thin Films, Inc. | Spring-loaded mount for a rotatable sputtering cathode |
| US5571393A (en) * | 1994-08-24 | 1996-11-05 | Viratec Thin Films, Inc. | Magnet housing for a sputtering cathode |
| US5445721A (en) * | 1994-08-25 | 1995-08-29 | The Boc Group, Inc. | Rotatable magnetron including a replacement target structure |
| US5518592A (en) * | 1994-08-25 | 1996-05-21 | The Boc Group, Inc. | Seal cartridge for a rotatable magnetron |
| TW347369B (en) * | 1996-12-17 | 1998-12-11 | Asahi Glass Co Ltd | Organic substrate provided with a light absorptive antireflection film and process for production |
| JP2002529600A (ja) | 1998-11-06 | 2002-09-10 | シヴァク | 高レート・コーティング用のスパッタリング装置および方法 |
| US6488824B1 (en) | 1998-11-06 | 2002-12-03 | Raycom Technologies, Inc. | Sputtering apparatus and process for high rate coatings |
| US6436252B1 (en) | 2000-04-07 | 2002-08-20 | Surface Engineered Products Corp. | Method and apparatus for magnetron sputtering |
| DE10102493B4 (de) * | 2001-01-19 | 2007-07-12 | W.C. Heraeus Gmbh | Rohrförmiges Target und Verfahren zur Herstellung eines solchen Targets |
| US7294283B2 (en) * | 2001-04-20 | 2007-11-13 | Applied Process Technologies, Inc. | Penning discharge plasma source |
| US6911779B2 (en) | 2001-04-20 | 2005-06-28 | John Madocks | Magnetic mirror plasma source |
| US7399385B2 (en) * | 2001-06-14 | 2008-07-15 | Tru Vue, Inc. | Alternating current rotatable sputter cathode |
| DE10145201C1 (de) * | 2001-09-13 | 2002-11-21 | Fraunhofer Ges Forschung | Einrichtung zum Beschichten von Substraten mit gekrümmter Oberfläche durch Pulsmagnetron-Zerstäuben |
| BR0105474A (pt) * | 2001-09-26 | 2003-09-23 | Fundacao De Amparo A Pesquisa | Processo de deposição de filme de carbono amorfo hidrogenado, filme de carbono amorfo hidrogenado e artigo revestido com filme de carbono amorfo hidrogenado |
| US20030173217A1 (en) * | 2002-03-14 | 2003-09-18 | Sputtering Components, Inc. | High-power ion sputtering magnetron |
| AU2003248835A1 (en) * | 2002-07-02 | 2004-01-23 | Academy Precision Materials A Division Of Academy Corporation | Rotary target and method for onsite mechanical assembly of rotary target |
| US20050276381A1 (en) * | 2003-07-02 | 2005-12-15 | Academy Corporation | Rotary target locking ring assembly |
| WO2005028697A1 (en) * | 2003-09-12 | 2005-03-31 | Applied Process Technologies, Inc. | Magnetic mirror plasma source and method using same |
| US20050224343A1 (en) * | 2004-04-08 | 2005-10-13 | Richard Newcomb | Power coupling for high-power sputtering |
| US20060049043A1 (en) * | 2004-08-17 | 2006-03-09 | Matuska Neal W | Magnetron assembly |
| US20060065524A1 (en) * | 2004-09-30 | 2006-03-30 | Richard Newcomb | Non-bonded rotatable targets for sputtering |
| PL1799876T3 (pl) * | 2004-10-18 | 2009-07-31 | Bekaert Advanced Coatings | Płaski blok końcowy do podtrzymywania obrotowego targetu do napylania |
| US20060096855A1 (en) * | 2004-11-05 | 2006-05-11 | Richard Newcomb | Cathode arrangement for atomizing a rotatable target pipe |
| CN101137764B (zh) * | 2005-03-11 | 2010-12-01 | 贝卡尔特先进涂层公司 | 单一的直角端块 |
| US20060260938A1 (en) * | 2005-05-20 | 2006-11-23 | Petrach Philip M | Module for Coating System and Associated Technology |
| US20060278524A1 (en) * | 2005-06-14 | 2006-12-14 | Stowell Michael W | System and method for modulating power signals to control sputtering |
| US20060278521A1 (en) * | 2005-06-14 | 2006-12-14 | Stowell Michael W | System and method for controlling ion density and energy using modulated power signals |
| DE502005006069D1 (de) | 2005-08-10 | 2009-01-08 | Applied Materials Gmbh & Co Kg | Vakuumbeschichtungsanlage mit motorisch angetriebener Drehkathode |
| US7842355B2 (en) * | 2005-11-01 | 2010-11-30 | Applied Materials, Inc. | System and method for modulation of power and power related functions of PECVD discharge sources to achieve new film properties |
| US20070095281A1 (en) * | 2005-11-01 | 2007-05-03 | Stowell Michael W | System and method for power function ramping of microwave liner discharge sources |
| US8273222B2 (en) * | 2006-05-16 | 2012-09-25 | Southwest Research Institute | Apparatus and method for RF plasma enhanced magnetron sputter deposition |
| WO2007147757A1 (en) * | 2006-06-19 | 2007-12-27 | Bekaert Advanced Coatings | Insert piece for an end-block of a sputtering installation |
| US8277617B2 (en) * | 2007-08-14 | 2012-10-02 | Southwest Research Institute | Conformal magnetron sputter deposition |
| DE102008018609B4 (de) * | 2008-04-11 | 2012-01-19 | Von Ardenne Anlagentechnik Gmbh | Antriebsendblock für ein rotierendes Magnetron |
| US8182662B2 (en) * | 2009-03-27 | 2012-05-22 | Sputtering Components, Inc. | Rotary cathode for magnetron sputtering apparatus |
| WO2011056581A2 (en) | 2009-10-26 | 2011-05-12 | General Plasma, Inc. | Rotary magnetron magnet bar and apparatus containing the same for high target utilization |
| US8747631B2 (en) * | 2010-03-15 | 2014-06-10 | Southwest Research Institute | Apparatus and method utilizing a double glow discharge plasma for sputter cleaning |
| US8398834B2 (en) | 2010-04-02 | 2013-03-19 | NuvoSun, Inc. | Target utilization improvement for rotatable magnetrons |
| WO2013083205A1 (en) * | 2011-12-09 | 2013-06-13 | Applied Materials, Inc. | Rotatable sputter target |
| GB201200574D0 (en) * | 2012-01-13 | 2012-02-29 | Gencoa Ltd | In-vacuum rotational device |
| CN103074587B (zh) * | 2013-02-01 | 2014-10-15 | 湘潭宏大真空技术股份有限公司 | 大面积连续磁控溅射镀膜均匀性调整装置及调整方法 |
| DE102021129523A1 (de) | 2021-11-12 | 2023-05-17 | VON ARDENNE Asset GmbH & Co. KG | Magnetsystem, Sputtervorrichtung und Gehäusedeckel |
Family Cites Families (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE2139313C3 (de) * | 1971-08-05 | 1975-09-11 | Inst Fiz An Gssr | Vorrichtung zum Autbringen von homogenen, dünnen Schichten auf Werkstücke |
| US4362632A (en) * | 1974-08-02 | 1982-12-07 | Lfe Corporation | Gas discharge apparatus |
| JPS51117933A (en) * | 1975-04-10 | 1976-10-16 | Tokuda Seisakusho | Spattering apparatus |
| ATE10512T1 (de) * | 1980-08-08 | 1984-12-15 | Battelle Development Corporation | Vorrichtung zur beschichtung von substraten mittels hochleistungskathodenzerstaeubung sowie zerstaeuberkathode fuer diese vorrichtung. |
| US4290877A (en) * | 1980-09-08 | 1981-09-22 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Interior | Sputtering apparatus for coating elongated tubes and strips |
| US4356073A (en) * | 1981-02-12 | 1982-10-26 | Shatterproof Glass Corporation | Magnetron cathode sputtering apparatus |
| US4376025A (en) * | 1982-06-14 | 1983-03-08 | Battelle Development Corporation | Cylindrical cathode for magnetically-enhanced sputtering |
-
1983
- 1983-08-17 US US06/523,969 patent/US4445997A/en not_active Expired - Lifetime
-
1984
- 1984-08-02 CA CA000460255A patent/CA1221335A/en not_active Expired
- 1984-08-15 EP EP84903242A patent/EP0152472A1/en active Pending
- 1984-08-15 HU HU843554A patent/HU196011B/hu not_active IP Right Cessation
- 1984-08-15 AU AU33907/84A patent/AU574723B2/en not_active Ceased
- 1984-08-15 JP JP59503242A patent/JPS61500025A/ja active Pending
- 1984-08-15 WO PCT/US1984/001299 patent/WO1985000925A1/en not_active Ceased
- 1984-08-15 BR BR8407018A patent/BR8407018A/pt not_active IP Right Cessation
-
1985
- 1985-04-12 NO NO851458A patent/NO851458L/no unknown
- 1985-04-16 FI FI851516A patent/FI79917C/fi not_active IP Right Cessation
- 1985-04-16 DK DK170685A patent/DK170685D0/da not_active IP Right Cessation
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| AU3390784A (en) | 1985-03-12 |
| JPS61500025A (ja) | 1986-01-09 |
| DK170685A (da) | 1985-04-16 |
| HUT37294A (en) | 1985-11-28 |
| FI79917B (fi) | 1989-11-30 |
| FI79917C (fi) | 1990-03-12 |
| DK170685D0 (da) | 1985-04-16 |
| AU574723B2 (en) | 1988-07-14 |
| BR8407018A (pt) | 1985-07-30 |
| EP0152472A1 (en) | 1985-08-28 |
| CA1221335A (en) | 1987-05-05 |
| US4445997A (en) | 1984-05-01 |
| FI851516A0 (fi) | 1985-04-16 |
| WO1985000925A1 (en) | 1985-02-28 |
| NO851458L (no) | 1985-04-12 |
| FI851516L (fi) | 1985-04-16 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| HU196011B (en) | Cathode of atomization | |
| US5529674A (en) | Cylindrical hollow cathode/magnetron sputtering system and components thereof | |
| FI76123B (fi) | Magnetronkatod-foerstoftningsanordning. | |
| JPH0368113B2 (hu) | ||
| US4128466A (en) | Method and apparatus for reactive sputtering | |
| US6436252B1 (en) | Method and apparatus for magnetron sputtering | |
| EP0134559A2 (en) | Cathodic sputtering apparatus | |
| DE3733117A1 (de) | Dynamikdruck-luftlager | |
| JPH05501587A (ja) | ケイ素系化合物による基材の被覆方法 | |
| AU6894891A (en) | Rotating cylindrical magnetron structure for large area coating | |
| US5946798A (en) | Method for manufacturing coaxial cables | |
| DE102018115516A1 (de) | Sputtervorrichtung und Sputterverfahren zur Beschichtung von dreidimensional geformten Substratoberflächen | |
| EP0483880B1 (en) | Method for forming thin film and apparatus therefor | |
| EP0269144B1 (en) | Process and apparatus for the treatment of coated, elongated substrate, as well as substrates thus treated and articles of polymeric material reinforced with these substrates | |
| US20060137968A1 (en) | Oscillating shielded cylindrical target assemblies and their methods of use | |
| US3527502A (en) | Powder dispensing | |
| US5051146A (en) | Apparatus for fabricating a graded-groove heat pipe | |
| EP0155024B1 (en) | Apparatus for producing a foam, having micro foamvesicles for dust control | |
| CN111334770B (zh) | 一种弯弧加速器内壁镀膜装置及其磁控溅射镀膜方法 | |
| RU2107970C1 (ru) | Магнетронная распылительная система | |
| EP0944745B1 (fr) | Procede et dispositif pour la formation d'un revetement sur un substrat, par pulverisation cathodique | |
| JPH081051A (ja) | パイプの塗装方法および装置 | |
| EP0159471B1 (en) | Method and device for electrolytically applying a metal coating selectively on metal objects | |
| CN215481231U (zh) | 一种用于大长径比管材内壁镀膜的脉冲激光沉积装置 | |
| WO1994027730A1 (en) | Device for use by electrostatic powder coating |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| HU90 | Patent valid on 900628 | ||
| HMM4 | Cancellation of final prot. due to non-payment of fee |