HK1218184B - Exposure method and apparatus, and device manufacturing method - Google Patents

Claims (36)

1. Procédé d'exposition pour exposer un substrat (W) à une lumière d'illumination (IL) par le biais d'un système optique de projection (PL), le procédé comprenant :

   le mouvement d'un étage (WST) qui maintient le substrat, l'étage étant supporté d'une manière sans contact sur une base (12) placée au-dessous du système optique de projection ;

   dans un système de codeur ayant une d'une section de grille (39Y₁, 39Y₂, 39X₁, 39X₂) et d'une tête (62A, 62B, 62C, 62D) disposée au niveau de l'étage et l'autre de la section de grille et de la tête étant supportée par un élément de châssis qui supporte le système optique de projection, la mesure d'informations de position de l'étage par une pluralité des têtes qui font face à la section de grille ; et

   la commande d'un mouvement de l'étage sur la base des informations de position mesurées par le système de codeur, dans lequel

   durant un mouvement de l'étage, une première tête de la pluralité de têtes utilisée dans la mesure est commutée à une autre tête,

   après la commutation, des informations de position de l'étage sont mesurées par une pluralité des têtes qui comprend des têtes restantes autres que la première tête de la pluralité de têtes et l'autre tête,

   sur la base des informations de position mesurées par la pluralité des têtes utilisée avant la commutation, des informations de correction pour commander le mouvement de l'étage en utilisant l'autre tête après la commutation sont obtenues, et

   au moins dans une opération d'exposition du substrat, des informations de position de l'étage sont mesurées par le système de codeur.
2. Procédé d'exposition selon la revendication 1, dans lequel avant la commutation, des informations de position de l'étage sont mesurées par trois des têtes qui font face à la section de grille et, après la commutation, des informations de position de l'étage sont mesurées par trois têtes qui comprennent deux têtes des trois têtes utilisées avant la commutation autres que la première tête et l'autre tête, différentes des trois têtes utilisées avant la commutation, et les informations de correction sont obtenues à partir des informations de position mesurées par les trois têtes utilisées avant la commutation.
3. Procédé d'exposition selon la revendication 2, dans lequel les informations de correction sont obtenues alors que quatre têtes qui comprennent les trois têtes utilisées avant la commutation et l'autre tête font face à la section de grille.
4. Procédé d'exposition selon la revendication 3, dans lequel la section de grille a quatre éléments d'échelle ayant chacun une grille de type à réflexion formée, et les informations de correction sont obtenues alors que les quatre têtes font face respectivement aux quatre éléments d'échelle.
5. Procédé d'exposition selon une des revendications 3 et 4, dans lequel la commutation de la première tête à l'autre tête est effectuée alors que les quatre têtes font face à la section de grille.
6. Procédé d'exposition selon l'une quelconque des revendications 1 à 5, dans lequel l'obtention des informations de correction est effectuée de manière que :

   une position de l'étage soit maintenue avant et après la commutation ; ou

   des informations de position de l'étage soient liées de manière continue avant et après la commutation.
7. Procédé d'exposition selon l'une quelconque des revendications 1 à 6, dans lequel trois ou quatre des têtes du système de codeur font face à la section de grille, et les têtes qui font face à la section de grille sont changées d'une des trois têtes et des quatre têtes à l'autre par un mouvement de l'étage.
8. Procédé d'exposition selon l'une quelconque des revendications 1 à 7, dans lequel la section de grille a quatre éléments d'échelle ayant chacun une grille de type à réflexion, et des informations de position de l'étage sont mesurées par trois ou quatre des têtes qui sont placées faisant face respectivement à trois ou quatre des quatre éléments d'échelle.
9. Procédé d'exposition selon l'une quelconque des revendications 1 à 8, dans lequel l'autre de la section de grille et de la tête est supportée dans un état suspendu à partir de l'élément de châssis par l'intermédiaire d'un élément de support.
10. Procédé d'exposition selon l'une quelconque des revendications 1 à 9, dans lequel une marque du substrat est détectée par un système de détection de marque (AL1) qui est supporté par l'élément de châssis et séparé du système optique de projection, et dans une opération de détection de la marque, des informations de position de l'étage sont mesurées par le système de codeur.
11. Procédé d'exposition selon l'une quelconque des revendications 1 à 10, dans lequel une région d'immersion dans un liquide est formée sous le système optique de projection avec un liquide par une unité de buse (32) disposée pour entourer une partie d'extrémité inférieure du système optique de projection, et le substrat est exposé avec la lumière d'illumination par l'intermédiaire du système optique de projection et du liquide de la région d'immersion dans un liquide, et l'autre de la section de grille et de la tête est disposée sur un côté extérieur de l'unité de buse par rapport au système optique de projection.
12. Procédé d'exposition selon la revendication 11, dans lequel la région d'immersion dans un liquide est formée par l'unité de buse disposée au niveau de l'élément de châssis.
13. Procédé d'exposition selon la revendication 11, dans lequel la région d'immersion dans un liquide est formée par l'unité de buse disposée au niveau d'un autre élément de châssis différent de l'élément de châssis.
14. Procédé d'exposition selon l'une quelconque des revendications 1 à 13, dans lequel le substrat est monté sur l'étage de manière qu'une surface du substrat soit sensiblement en affleurement avec une surface supérieure de l'étage.
15. Procédé d'exposition selon la revendication 14, dans lequel le substrat est monté sur l'étage dans une portion évidée sur la surface supérieure de l'étage.
16. Procédé d'exposition selon l'une quelconque des revendications 1 à 15, dans lequel des informations de position de l'étage dans des directions à six degrés de liberté sont mesurées par le système de codeur, les directions à six degrés de liberté comprenant une première direction dans un plan prédéterminé perpendiculaire à un axe optique du système optique de projection, une deuxième direction dans le plan prédéterminé et orthogonale à la première direction et une troisième direction orthogonale aux première et deuxième directions.
17. Procédé d'exposition selon l'une quelconque des revendications 1 à 16, dans lequel, l'étage est muni de la tête, et est déplacé au-dessous de la section de grille dans une opération d'exposition du substrat.
18. Procédé de fabrication de dispositif comprenant l'exposition d'un substrat en utilisant le procédé d'exposition selon l'une quelconque des revendications 1 à 17; et le développement du substrat qui a été exposé.
19. Appareil d'exposition pour exposer un substrat (W) à une lumière d'illumination (IL) par le biais d'un système optique de projection (PL), l'appareil comprenant :

    un élément de châssis agencé pour supporter le système optique de projection ;

    une base (12) placée au-dessous du système optique de projection ;

    un étage (WST) placé sur la base et agencé pour maintenir le substrat;

    un système d'entraînement (124) configuré pour entraîner l'étage supporté d'une manière sans contact sur la base ;

    un système de codeur ayant une d'une section de grille (39Y₁, 39Y₂, 39X₁, 39X₂) et d'une tête (62A, 62B, 62C, 62D) disposée au niveau de l'étage et l'autre de la section de grille et de la tête étant supportée par l'élément de châssis, et configuré pour mesurer des informations de position de l'étage par une pluralité des têtes qui font face à la section de grille ; et

    un dispositif de commande (20) configuré pour commander un mouvement de l'étage sur la base des informations de position mesurées par le système de codeur, dans lequel l'appareil est configuré de manière que :

    durant un mouvement de l'étage, une première tête de la pluralité de têtes utilisée dans la mesure soit commutée sur une autre tête ;

    après la commutation, des informations de position de l'étage soient mesurées par une pluralité de têtes qui comprend des têtes restantes autres que la première tête de la pluralité de têtes et l'autre tête ;

    sur la base des informations de position mesurées par la pluralité des têtes utilisée avant la commutation, des informations de correction pour commander le mouvement de l'étage en utilisant l'autre tête après la commutation soient obtenues, et

    au moins dans une opération d'exposition du substrat, des informations de position de l'étage soient mesurées par le système de codeur.
20. Appareil d'exposition selon la revendication 19, dans lequel l'appareil est configuré de manière que :

    avant la commutation, des informations de position de l'étage soient mesurées par trois des têtes qui font face à la section de grille, et après la commutation, des informations de position de l'étage soient mesurées par trois têtes qui comprennent deux têtes des trois têtes utilisées avant la commutation autres que la première tête et l'autre tête, différentes des trois têtes utilisées avant la commutation, et

    les informations de correction soient obtenues à partir des informations de position mesurées par les trois têtes utilisées avant la commutation.
21. Appareil d'exposition selon la revendication 20, dans lequel l'appareil est configuré de manière que les informations de correction soient obtenues alors que quatre têtes qui comprennent les trois têtes utilisées avant la commutation et l'autre tête font face à la section de grille.
22. Appareil d'exposition selon la revendication 21, dans lequel la section de grille a quatre éléments d'échelle ayant chacun une grille de type à réflexion, et l'appareil est configuré de manière que les informations de correction soient obtenues alors que les quatre têtes font face respectivement aux quatre éléments d'échelle.
23. Appareil d'exposition selon une des revendications 21 et 22, dans lequel l'appareil est configuré de manière que la commutation de la première tête à l'autre tête soit effectuée alors que les quatre têtes font face à la section de grille.
24. Appareil d'exposition selon l'une quelconque des revendications 19 à 23, dans lequel l'appareil est configuré de manière que l'obtention des informations de correction soit effectuée de manière que :

    une position de l'étage soit maintenue avant et après la commutation ; ou

    des informations de position de l'étage soient liées de manière continue avant et après la commutation.
25. Appareil d'exposition selon l'une quelconque des revendications 19 à 24, dans lequel trois ou quatre des têtes du système de codeur font face à la section de grille, et l'appareil est configuré de manière que les têtes qui font face à la section de grille soient changées d'une des trois têtes et des quatre têtes à l'autre par un mouvement de l'étage.
26. Appareil d'exposition selon l'une quelconque des revendications 19 à 25, dans lequel la section de grille a quatre éléments d'échelle ayant chacun une grille de type à réflexion, et l'appareil est configuré de manière que des informations de position de l'étage soient mesurées par trois ou quatre des têtes qui sont placées faisant face respectivement à trois ou quatre des quatre éléments d'échelle.
27. Appareil d'exposition selon l'une quelconque des revendications 19 à 26, dans lequel l'autre de la section de grille et de la tête est supportée dans un état suspendu à partir de l'élément de châssis par l'intermédiaire d'un élément de support.
28. Appareil d'exposition selon l'une quelconque des revendications 19 à 27, comprenant en outre :

    un système de détection de marque (AL1) qui est supporté par l'élément de châssis et séparé du système optique de projection, et est configuré pour détecter une marque du substrat, dans lequel

    l'appareil est configuré de manière que dans une opération de détection de la marque, des informations de position de l'étage soient mesurées par le système de codeur.
29. Appareil d'exposition selon l'une quelconque des revendications 19 à 28, comprenant en outre :

    un dispositif d'immersion dans un liquide local qui a une unité de buse (32) disposée pour entourer une partie d'extrémité inférieure du système optique de projection, et est configuré pour former une région d'immersion dans une liquide sous le système optique de projection avec un liquide, dans lequel

    l'appareil est configuré pour exposer le substrat avec la lumière d'illumination par l'intermédiaire du système optique de projection et du liquide de la région d'immersion dans un liquide, et

    l'autre de la section de grille et de la tête est disposée sur un côté extérieur de l'unité de buse par rapport au système optique de projection.
30. Appareil d'exposition selon la revendication 29, dans lequel l'unité de buse est disposée au niveau de l'élément de châssis.
31. Appareil d'exposition selon la revendication 29, dans lequel l'unité de buse est disposée au niveau d'un autre élément de châssis différent de l'élément de châssis.
32. Appareil d'exposition selon l'une quelconque des revendications 19 à 31, dans lequel le substrat est monté sur l'étage de manière qu'une surface du substrat soit sensiblement en affleurement avec une surface supérieure de l'étage.
33. Appareil d'exposition selon la revendication 32, dans lequel l'étage a une portion évidée sur la surface supérieure de l'étage de manière que la surface du substrat, quand le substrat est monté dans la portion évidée, soit sensiblement en affleurement avec la surface supérieure.
34. Appareil d'exposition selon l'une quelconque des revendications 19 à 33, dans lequel le système de codeur est configuré pour mesurer des informations de position de l'étage dans des directions à six degrés de liberté, les directions à six degrés de liberté comprenant une première direction dans un plan prédéterminé perpendiculaire à un axe optique du système optique de projection, une deuxième direction dans le plan prédéterminé et orthogonale à la première direction et une troisième direction orthogonale aux première et deuxième directions.
35. Appareil d'exposition selon l'une quelconque des revendications 19 à 34, dans lequel l'étage est muni d'une tête, et est mobile au-dessous de la section de grille dans une opération d'exposition du substrat.
36. Procédé de fabrication de dispositif comprenant l'exposition d'un substrat en utilisant l'appareil d'exposition selon l'une quelconque des revendications 19 à 35 ; et le développement du substrat qui a été exposé.