HK1218184B

HK1218184B - Exposure method and apparatus, and device manufacturing method

Info

Publication number: HK1218184B
Application number: HK16106083.7A
Authority: HK
Inventors: Yuichi Shibazaki
Original assignee: Nikon Corporation
Priority date: 2006-08-31
Filing date: 2016-05-30
Publication date: 2018-03-29

Claims

Belichtungsverfahren mit einem Belichten eines Substrats (W) mit einem Beleuchtungslicht (IL) über ein optisches Projektionssystem (PL), wobei das Verfahren umfasst:
Bewegen einer Bühne (WST), die das Substrat hält, wobei die Bühne kontaktfrei an einer Basis (12) unterstützt wird, die unter dem optischen Projektionssystem platziert ist;

in einem Encodersystem, das einen Gitterabschnitt (39Y₁, 39Y₂, 39X₁, 39X₂) oder einen Kopf (62A, 62B, 62C, 62D) bei der Bühne vorgesehen und das jeweils andere von dem Gitterabschnitt und dem Kopf durch ein das optische Projektionssystem unterstützende Rahmenelement unterstützt aufweist, Messen einer Positionsinformation der Bühne durch eine Vielzahl der Köpfe, die dem Gitterabschnitt zugewandt sind; und

Steuern einer Bewegung der Bühne basierend auf der Positionsinformation, die durch das Encodersystem gemessen wird, wobei

während einer Bewegung der Bühne von einem Kopf der Vielzahl von bei der Messung verwendeten Köpfen zu einem anderen Kopf gewechselt wird,

wobei nach dem Wechseln eine Positionsinformation der Bühne durch eine Vielzahl von Köpfen gemessen wird, welche die verbleibenden Köpfe, außer den einen Kopf der Vielzahl von Köpfen und den anderen Kopf, einschließt,

basierend auf der Positionsinformation, die durch die Vielzahl der vor dem Wechseln verwendeten Köpfe gemessen wird, eine Korrekturinformation zum Steuern der Bewegung der Bühne unter Verwendung des anderen Kopfes nach dem Wechseln erhalten wird, und

zumindest bei einem Belichtungsvorgang des Substrats eine Positionsinformation der Bühne durch das Encodersystem gemessen wird.
Belichtungsverfahren nach Anspruch 1, bei dem vor dem Wechseln eine Positionsinformation der Bühne durch drei dem Gitterabschnitt zugewandte Köpfe gemessen wird und nach dem Wechseln eine Positionsinformation der Bühne durch drei Köpfe gemessen wird, die zwei der drei vor dem Wechseln verwendeten Köpfe einschließen, außer den einen Kopf und den anderen Kopf, die unterschiedlich zu den drei vor dem Wechseln verwendeten Köpfen sind, und die Korrekturinformation von der Positionsinformation erhalten wird, die durch die drei vor dem Wechseln verwendeten Köpfe gemessen wird.
Belichtungsverfahren nach Anspruch 2, bei dem die Korrekturinformation erhalten wird, während vier Köpfe, welche die drei vor dem Wechseln verwendeten Köpfe und den anderen Kopf einschließen, dem Gitterabschnitt zugewandt sind.
Belichtungsverfahren nach Anspruch 3, bei dem der Gitterabschnitt vier Skalenelemente aufweist, die jeweils ein reflektierend ausgebildetes Gitter aufweisen, und die Korrekturinformation erhalten wird, während die vier Köpfe respektive den vier Skalenelementen zugewandt sind.
Belichtungsverfahren nach einem der Ansprüche 3 und 4, bei dem das Wechseln von dem einen Kopf zu dem anderen Kopf ausgeführt wird, während die vier Köpfe dem Gitterabschnitt zugewandt sind.
Belichtungsverfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 5, bei dem das Erhalten der Korrekturinformation so ausgeführt wird, dass:
eine Position der Bühne vor und nach dem Wechseln gehalten wird; oder

eine Positionsinformation der Bühne durchgehend zwischen vor und nach dem Wechseln verknüpft ist.
Belichtungsverfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 6, bei dem drei oder vier der Köpfe des Encodersystems dem Gitterabschnitt zugewandt sind und die Köpfe, die dem Gitterabschnitt zugewandt sind, von den drei Köpfen oder den vier Köpfen durch eine Bewegung der Bühne zu den jeweils anderen geändert werden.
Belichtungsverfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 7, bei dem der Gitterabschnitt vier Skalenelemente aufweist, die jeweils ein reflektierendes Gitter aufweisen, und eine Positionsinformation der Bühne durch drei oder vier der Köpfe gemessen wird, die respektive drei oder vier der vier Skalenelemente zugewandt platziert sind.
Belichtungsverfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 8, bei dem das jeweils andere von dem Gitterabschnitt und dem Kopf von dem Rahmenelement über ein Stützelement in einem aufgehängten Zustand unterstützt wird.
Belichtungsverfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 9, bei dem eine Markierung des Substrats durch ein Markierungserfassungssystem (AL1) erfasst wird, das durch das Rahmenelement unterstützt wird und von dem optischen Projektionssystem getrennt ist, und während eines Erfassungsvorgangs der Markierung eine Positionsinformation der Bühne durch das Encodersystem gemessen wird.
Belichtungsverfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 10, bei dem ein Flüssigkeitsimmersionsbereich unter dem optischen Projektionssystem mit einer Flüssigkeit durch eine Düseneinheit (32) ausgebildet wird, die vorgesehen ist, einen unteren Endteil des optischen Projektionssystems zu umgeben, und das Substrat über das optische Projektionssystem und die Flüssigkeit des Flüssigkeitsimmersionsbereichs mit dem Beleuchtungslicht belichtet wird, und das jeweils andere von dem Gitterabschnitt und dem Kopf in Bezug zu dem optischen Projektionssystem auf einer Außenseite der Düseneinheit vorgesehen ist.
Belichtungsverfahren nach Anspruch 11, bei dem der Flüssigkeitsimmersionsbereich durch die Düseneinheit ausgebildet wird, die bei dem Rahmenelement vorgesehen ist.
Belichtungsverfahren nach Anspruch 11, bei dem der Flüssigkeitsimmersionsbereich durch die Düseneinheit ausgebildet wird, die bei einem anderen Rahmenelement vorgesehen ist, das zu dem Rahmenelement unterschiedlich ist.
Belichtungsverfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 13, bei dem das Substrat so an der Bühne gehalten wird, dass eine Fläche des Substrats im Wesentlichen mit einer oberen Fläche der Bühne fluchtet.
Belichtungsverfahren nach Anspruch 14, bei dem das Substrat in einem ausgesparten Abschnitt an der oberen Fläche der Bühne an der Bühne gehalten wird.
Belichtungsverfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 15, bei dem eine Positionsinformation der Bühne durch das Encodersystem in Richtung von sechs Freiheitsgraden gemessen wird, wobei die Richtungen der sechs Freiheitsgrade eine erste Richtung in einer vorbestimmten Ebene, die senkrecht zu einer optischen Achse des optischen Projektionssystems ist, eine zweite Richtung in der vorbestimmten Ebene und senkrecht zu der ersten Richtung und eine zu der ersten und der zweiten Richtung senkrechte dritte Richtung einschließen.
Belichtungsverfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 16, bei dem die Bühne mit dem Kopf bereitgestellt ist und während eines Belichtungsvorgangs des Substrats unter den Gitterabschnitt bewegt wird.
Bauelementherstellungsverfahren einschließlich einem Belichten eines Substrats unter Verwendung des Belichtungsverfahrens nach einem der Ansprüche 1 bis 17; und Entwickeln des Substrats, das belichtet worden ist.
Belichtungsvorrichtung zum Belichten eines Substrats (W) mit einem Beleuchtungslicht (IL) über ein optisches Projektionssystem (PL), wobei die Vorrichtung aufweist:
ein Rahmenelement, das eingerichtet ist, das optische Projektionssystem zu unterstützen;

eine Basis (12), die unter dem optischen Projektionssystem platziert ist;

eine Bühne (WST), die an der Basis platziert ist und eingerichtet ist, das Substrat zu halten;

ein Antriebssystem (124), das eingerichtet ist, die Bühne anzutreiben, welche kontaktfrei an der Basis unterstützt wird;

ein Encodersystem, das einen Gitterabschnitt (39Y₁, 39Y₂, 39X₁, 39X₂) oder einen Kopf (62A, 62B, 62C, 62D) bei der Bühne vorgesehen und das jeweils andere von dem Gitterabschnitt und dem Kopf durch das Rahmenelement unterstützt aufweist, und das eingerichtet ist, eine Positionsinformation der Bühne durch eine Vielzahl der dem Gitterabschnitt zugewandten Köpfe zu messen; und

eine Steuerung (20), die eingerichtet ist, eine Bewegung der Bühne basierend auf der Positionsinformation zu steuern, die durch das Encodersystem gemessen wird, wobei die Vorrichtung so eingerichtet ist, dass:
während einer Bewegung der Bühne von einem Kopf der Vielzahl von bei der Messung verwendeten Köpfen zu einem anderen Kopf gewechselt wird;

nach dem Wechseln eine Positionsinformation der Bühne durch eine Vielzahl von Köpfen gemessen wird, welche verbleibende Köpfe aufweisen, außer den einen Kopf der Vielzahl von Köpfen und den anderen Kopf;

basierend auf der durch die vor dem Wechseln verwendete Vielzahl von Köpfen gemessene Positionsinformation nach dem Wechseln eine Korrekturinformation zum Steuern der Bewegung der Bühne unter Verwendung des anderen Kopfes erhalten wird; und

zumindest bei einem Belichtungsvorgang des Substrats eine Positionsinformation der Bühne durch das Encodersystem gemessen wird.
Belichtungsvorrichtung nach Anspruch 19, wobei die Vorrichtung so eingerichtet ist, dass:
vor dem Wechseln eine Positionsinformation der Bühne durch drei der dem Gitterabschnitt zugewandten Köpfe gemessen wird und nach dem Wechseln eine Positionsinformation der Bühne durch drei Köpfe gemessen wird, welche zwei der drei vor dem Wechseln verwendeten Köpfe, außer den einen Kopf und den anderen Kopf, einschließen, die unterschiedlich zu den drei vor dem Wechseln verwendeten Köpfen sind; und

die Korrekturinformation von der Positionsinformation erhalten wird, die durch die drei vor dem Wechseln verwendeten Köpfe gemessen wird.
Belichtungsvorrichtung nach Anspruch 20, wobei die Vorrichtung so eingerichtet ist, dass die Korrekturinformation erhalten wird, während vier Köpfe, welche die drei vor dem Wechseln verwendeten Köpfe und den anderen Kopf einschließen, dem Gitterabschnitt zugewandt sind.
Belichtungsvorrichtung nach Anspruch 21, wobei der Gitterabschnitt vier Skalenelemente aufweist, die jeweils ein reflektierendes Gitter aufweisen, und die Vorrichtung so eingerichtet ist, dass die Korrekturinformation erhalten wird, während die vier Köpfe respektive den vier Skalenelementen zugewandt sind.
Belichtungsvorrichtung nach einem der Ansprüche 21 und 22, wobei die Vorrichtung so eingerichtet ist, dass das Wechseln von dem einen Kopf zu dem anderen Kopf ausgeführt wird, während die vier Köpfe dem Gitterabschnitt zugewandt sind.
Belichtungsvorrichtung nach einem der Ansprüche 19 bis 23, wobei die Vorrichtung so eingerichtet ist, dass das Erhalten der Korrekturinformation so ausgeführt wird, dass:
eine Position der Bühne vor und nach dem Wechseln gehalten wird; oder

eine Positionsinformation der Bühne durchgehend zwischen vor und nach dem Wechseln verknüpft ist.
Belichtungsvorrichtung nach einem der Ansprüche 19 bis 24, wobei drei oder vier der Köpfe des Encodersystems dem Gitterabschnitt zugewandt sind und die Vorrichtung so eingerichtet ist, dass die Köpfe, die dem Gitterabschnitt zugewandt sind, durch eine Bewegung der Bühne von den drei Köpfen oder vier Köpfen zu dem jeweils anderen geändert werden.
Belichtungsvorrichtung nach einem der Ansprüche 19 bis 25, wobei der Gitterabschnitt vier Skalenelemente aufweist, die jeweils ein reflektierendes Gitter aufweisen, und die Vorrichtung so eingerichtet ist, dass eine Positionsinformation der Bühne durch drei oder vier der Köpfe gemessen wird, die respektive drei oder vier der vier Skalenelemente zugewandt platziert sind.
Belichtungsvorrichtung nach einem der Ansprüche 19 bis 26, bei der das jeweils andere von dem Gitterabschnitt und dem Kopf von dem Rahmenelement über ein Stützelement in einem aufgehängten Zustand unterstützt wird.
Belichtungsvorrichtung nach einem der Ansprüche 19 bis 27, ferner mit:
einem Markierungserfassungssystem (AL1), das durch das Rahmenelement unterstützt wird und von dem optischen Projektionssystem getrennt ist, und das eingerichtet ist, eine Markierung des Substrats zu erfassen, wobei

die Vorrichtung so eingerichtet ist, dass bei einem Markierungserfassungsvorgang durch das Encodersystem eine Positionsinformation der Bühne gemessen wird.
Belichtungsvorrichtung nach einem der Ansprüche 19 bis 28, ferner mit:
einer lokalen Flüssigkeitsimmersionseinrichtung, die eine Düseneinheit (32) aufweist, welche vorgesehen ist, um einen unteren Endteil des optischen Projektionssystems zu umgeben, und die eingerichtet ist, mit einer Flüssigkeit einen Flüssigkeitsimmersionsbereich unter dem optischen Projektionssystem auszubilden, wobei

die Vorrichtung eingerichtet ist, über das optische Projektionssystem und die Flüssigkeit des Flüssigkeitsimmersionsbereichs das Substrat mit dem Beleuchtungslicht zu belichten, und

das jeweils andere von dem Gitterabschnitt und dem Kopf in Bezug zu dem optischen Projektionssystem an einer Außenseite der Düseneinheit vorgesehen ist.
Belichtungsvorrichtung nach Anspruch 29, bei der die Düseneinheit bei dem Rahmenelement vorgesehen ist.
Belichtungsvorrichtung nach Anspruch 29, bei der die Düseneinheit bei einem anderen zu dem Rahmenelement unterschiedlichen Rahmenelement vorgesehen ist.
Belichtungsvorrichtung nach einem der Ansprüche 19 bis 31, bei der das Substrat so an der Bühne gehalten wird, dass eine Fläche des Substrats im Wesentlichen mit einer oberen Fläche der Bühne fluchtet.
Belichtungsvorrichtung nach Anspruch 32, bei der die Bühne einen ausgesparten Abschnitt an der oberen Fläche der Bühne aufweist, sodass die Fläche des Substrats im Wesentlichen mit der oberen Fläche fluchtet, wenn das Substrat in dem ausgesparten Abschnitt gehalten wird.
Belichtungsvorrichtung nach einem der Ansprüche 19 bis 33, bei der das Encodersystem zum Messen einer Positionsinformation der Bühne in Richtung von sechs Freiheitsgraden eingerichtet ist, wobei die Richtungen der sechs Freiheitsgrade eine erste Richtung in einer vorbestimmten Ebene senkrecht zu einer optischen Achse des optischen Projektionssystems, eine zweite Richtung in der vorbestimmten Ebene und senkrecht zu der ersten Richtung und eine dritte Richtung senkrecht zu der ersten und der zweiten Richtung einschließen.
Belichtungsvorrichtung nach einem der Ansprüche 19 bis 34, bei der die Bühne mit dem Kopf vorgesehen ist und bei einem Belichtungsvorgang des Substrats unter den Gitterabschnitt bewegbar ist.
Bauelementherstellungsverfahren einschließlich:
einem Belichten eines Substrats unter Verwendung der Belichtungsvorrichtung nach einem der Ansprüche 19 bis 35; und

einem Entwickeln des Substrats, das belichtet worden ist.