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HK1126035B - Exposure apparatus, exposure method and device manufacturing method - Google Patents

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Publication number
HK1126035B
HK1126035B HK09104287.5A HK09104287A HK1126035B HK 1126035 B HK1126035 B HK 1126035B HK 09104287 A HK09104287 A HK 09104287A HK 1126035 B HK1126035 B HK 1126035B
Authority
HK
Hong Kong
Prior art keywords
wafer
measurement
movable body
position information
axis
Prior art date
Application number
HK09104287.5A
Other languages
English (en)
French (fr)
Chinese (zh)
Other versions
HK1126035A1 (en
Inventor
Yuichi Shibazaki
Original Assignee
Nikon Corporation
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nikon Corporation filed Critical Nikon Corporation
Priority claimed from PCT/JP2007/053230 external-priority patent/WO2007097380A1/ja
Publication of HK1126035A1 publication Critical patent/HK1126035A1/en
Publication of HK1126035B publication Critical patent/HK1126035B/en

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Claims (36)

  1. Belichtungsvorrichtung (100), die eingerichtet ist, ein Objekt mit einem Energiestrahl (IL) über ein optisches System (PL) zu belichten, die Vorrichtung mit:
    einem ersten (WTB) und einem zweiten (MST) beweglichen Körper, die unabhängig voneinander in einer festgelegten Ebene beweglich sind, und einer Erfassungseinheit (30, 36, 44) zum Erfassen des Energiestrahls,
    dadurch gekennzeichnet, dass die Erfassungseinheit ein erstes (36) und ein zweites (44) Element aufweist, die entsprechend auf dem ersten und zweiten beweglichen Körper angeordnet sind, wobei die Erfassungseinheit angeordnet ist, den Energiestrahl über das erste und zweite Element zu erfassen, und wobei das erste und zweite Element so angeordnet sind, dass wenn die Erfassungseinheit den Energiestrahl erfasst, der Energiestrahl von dem optischen System über das erste Element auf dem ersten beweglichen Körper zu dem zweiten Element auf dem zweiten beweglichen Körper geführt wird.
  2. Belichtungsvorrichtung nach Anspruch 1, bei der der erste bewegliche Körper des ersten und zweiten beweglichen Körper imstande ist, das Objekt zu halten.
  3. Belichtungsvorrichtung nach Anspruch 2, bei der der zweite bewegliche Körper ein Messelement (94, 98) aufweist, das von dem zweiten Element getrennt ist und für eine zu der Belichtung unterschiedliche Funktion verwendet wird.
  4. Belichtungsvorrichtung nach Anspruch 3, bei der mindestens ein Teil des Messeelements an einer Fläche des zweiten beweglichen Körpers angeordnet ist, die im Wesentlichen parallel zu der Ebene ist.
  5. Belichtungsvorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 4, bei der ein Teil des ersten Elements bei einer Fläche des ersten beweglichen Körpers angeordnet ist, die im Wesentlichen parallel zu der Ebene ist.
  6. Belichtungsvorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 5, bei der die Erfassungseinheit eingerichtet ist, ein Strukturbild zu messen, das durch das optische System ausgebildet wird.
  7. Belichtungsvorrichtung nach Anspruch 6, bei der das erste Element eine Blendenstruktur (30) aufweist, die angeordnet ist, um gegenüberliegend zum optischen System platziert zu werden, und die Erfassungseinheit eingerichtet ist, das Strukturbild über die Blendenstruktur zu messen.
  8. Belichtungsvorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 7, des Weiteren mit:
    einem Messsystem (20), das eine erste Messeinheit (70A...70D) aufweist, die eingerichtet ist, eine Positionsinformation des ersten beweglichen Körpers zu messen und eine zweite Messeinheit (118), die eingerichtet ist, eine Positionsinformation des zweiten beweglichen Körpers zu messen, wobei
    ein Messwert der ersten Messeinheit eine Kurzzeitstabilität über dem der zweiten Messeinheit aufweist.
  9. Belichtungsvorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 8, bei der sich der erste bewegliche Körper während des Haltens des Objekts in der Ebene in einer ersten und einer zweiten Richtung bewegt und auf dem außerdem eine erste Gittersektion (39X1, 39X2) angeordnet ist, die ein gleichmäßig periodisch angeordnetes Gitter in der ersten Richtung aufweist, und die erste Messeinheit ein Encodersystem aufweist, das eingerichtet ist, eine Positionsinformation des ersten beweglichen Körpers in der ersten Richtung zu messen, und zwar über eine erste Kopfeinheit (62B, 62D), die einen Erfassungsbereich aufweist, der in der zweiten Richtung breiter als eine Breite der ersten Gittersektion ist.
  10. Belichtungsvorrichtung nach Anspruch 9, bei der die erste Gittersektion in der zweiten Richtung paarweise mit dem Objekt dazwischen angeordnet ist, und die erste Kopfeinheit in der zweiten Richtung den Erfassungsbereich auf jeder der beiden Seiten einer Bestrahlungsposition des Energiestrahls aufweist.
  11. Belichtungsvorrichtung nach Anspruch 10, bei der die erste Kopfeinheit die Erfassungsbereiche aufweist, die in der zweiten Richtung mit einem Abstand beabstandet sind, der im Wesentlichen der gleiche oder breiter ist als eine Breite der ersten Gittersektion.
  12. Belichtungsvorrichtung nach einem der Ansprüche 9 bis 11, bei der die erste Kopfeinheit eine Vielzahl erster Köpfe (62B, 62D) aufweist, deren Positionen in der zweiten Richtung unterschiedlich sind, und das Encodersystem eingerichtet ist, eine Positionsinformation des ersten beweglichen Körpers in der ersten Richtung zu messen, und zwar durch den ersten Kopf, der der ersten Gittersektion in dem Erfassungsbereich gegenüberliegt.
  13. Belichtungsvorrichtung nach Anspruch 12, bei der die Vielzahl erster Köpfe in einem Abstand angeordnet sind, der in der zweiten Richtung enger als eine Breite der ersten Gittersektion ist.
  14. Belichtungsvorrichtung nach einem der Ansprüche 9 bis 13, bei der auf dem ersten beweglichen Körper eine zweite Gittersektion (39Y1, 39Y2) angeordnet ist, die in der zweiten Richtung ein gleichmäßig periodisch angeordnetes Gitter aufweist, und das Encodersystem eingerichtet ist, eine Positionsinformation des ersten beweglichen Körpers in der zweiten Richtung zu messen, und zwar über eine zweite Kopfeinheit (62A, 62C), die einen Erfassungsbereich aufweist, der in der ersten Richtung breiter als eine Breite des zweiten Gitterbereichs ist.
  15. Belichtungsvorrichtung nach Anspruch 14, bei der die zweite Gittersektion in der ersten Richtung paarweise mit dem Objekt dazwischen angeordnet ist, und die zweite Kopfeinheit in der ersten Richtung den Erfassungsbereich auf jeder der beiden Seiten einer Bestrahlungsposition des Energiestrahls aufweist.
  16. Belichtungsvorrichtung nach einem der Ansprüche 14 und 15, bei der die zweite Kopfeinheit eine Vielzahl zweiter Köpfe (62A, 62C) aufweist, deren Positionen sich in der ersten Richtung unterscheiden, und das Encodersystem eingerichtet ist, in der zweiten Richtung eine Positionsinformation des ersten beweglichen Körpers zu messen, und zwar durch den zweiten Kopf, der der zweiten Gittersektion in dem Erfassungsbereich gegenüberliegt.
  17. Belichtungsvorrichtung nach einem der Ansprüche 9 bis 16, bei der die Vorrichtung so eingerichtet ist, das eine durch das Encodersystem gemessene Positionsinformation bei dem mindestens einen Belichtungsschritt des Objekts verwendet wird.
  18. Belichtungsvorrichtung nach einem der Ansprüche 9 bis 17, bei der die Vorrichtung so eingerichtet ist, das eine durch das Encodersystem gemessene Positionsinformation in mindestens einem Erfassungsschritt von Markierungen auf dem Objekt verwendet wird.
  19. Belichtungsvorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 8, bei der der erste bewegliche Körper eingerichtet ist, sich während des Haltens des Objekts in der Ebene in einer ersten und einer zweiten Richtung zu bewegen, und auf dem in der zweiten Richtung ein Paar erste Gittersektionen (39X1, 39X2), die jeweils in der ersten Richtung ein gleichmäßig periodisch angeordnetes Gitter aufweisen, mit dem Objekt dazwischen angeordnet sind, und in der ersten Richtung ein Paar zweiter Gittersektionen (31Y1, 31Y2), die jeweils ein gleichmäßig periodisch angeordnetes Gitter aufweisen, mit dem Objekt dazwischen angeordnet sind, und die Belichtungsvorrichtung des Weiteren aufweist ein Messsystem (70A...D), das ein Encodersystem aufweist, das eingerichtet ist, eine Positionsinformation des ersten beweglichen Körpers in der ersten Richtung zu messen, und zwar über eine Vielzahl erster Köpfe (62B, 62D), deren Positionen in der zweiten Richtung unterschiedlich sind und die dem Paar erster Gittersektionen gegenüberliegen, und zudem eine Positionsinformation des ersten beweglichen Körpers in der zweiten Richtung zu messen, und zwar durch eine Vielzahl zweiter Köpfe, deren Positionen in der ersten Richtung (62A, 62C) unterschiedlich sind und die dem Paar zweiter Gittersektionen gegenüberliegen.
  20. Belichtungsvorrichtung nach Anspruch 19, bei der die Vielzahl erster Köpfe in einem Abstand angeordnet sind, der in der zweiten Richtung enger als eine Breite der ersten Gittersektion ist, und die Vielzahl zweiter Köpfe in einem Abstand angeordnet sind, der in der ersten Richtung enger als eine Breite der zweiten Gittersektion ist.
  21. Belichtungsvorrichtung nach einem der Ansprüche 9 bis 20, bei der die zweite Messeinheit ein Interferometer (18) aufweist, das eingerichtet ist, eine Positionsinformation des zweiten beweglichen Körpers zu messen.
  22. Belichtungsvorrichtung nach einem der Ansprüche 9 bis 21, bei der die erste Messeinheit ein Interferometersystem (118) aufweist, das eingerichtet ist, eine Positionsinformation des ersten beweglichen Körpers zu messen, und eine Messrichtung für die Positionsinformation des ersten beweglichen Körpers durch das Interferometersystem eine Richtung aufweist, die zu einer Messrichtung der Positionsinformation des ersten beweglichen Körpers durch das Encodersystem unterschiedlich ist.
  23. Belichtungsvorrichtung nach Anspruch 22, bei der das Interferometersystem eingerichtet ist, eine Positionsinformation des ersten beweglichen Körpers in einer Richtung zu messen, die sich von Richtungen in der Ebene unterscheidet.
  24. Belichtungsvorrichtung nach einem der Ansprüche 22 und 23, bei der das Interferometersystem eingerichtet ist, eine Positionsinformation des ersten beweglichen Körpers über das Encodersystem in mindestens einer Messrichtung der Positionsinformation von dem ersten beweglichen Körper zu messen.
  25. Belichtungsvorrichtung nach einem der Ansprüche 22 bis 24, bei der die zweite Messeinheit ein Interferometersystem (118) aufweist, das eingerichtet ist, eine Positionsinformation des zweiten beweglichen Körpers zu messen, und die Belichtungsvorrichtung des Weiteren aufweist einen Regler (20), der eingerichtet ist, eine Bewegung des ersten beweglichen Körpers basierend auf einer Messinformation der ersten Messeinheit zu steuern, die eine durch das Interferometersystem gemessene Positionsinformation aufweist.
  26. Belichtungsvorrichtung nach Anspruch 25, bei der die Messinformation eine Positionsinformation des ersten beweglichen Körpers durch das Interferometersystem in einer Richtung aufweist, die zu einer Messrichtung der Positionsinformation des ersten beweglichen Körpers durch das Encodersystem unterschiedlich ist.
  27. Belichtungsvorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 26, des Weiteren mit:
    einem optischen Element (191) zu dem das Objekt gegenüberliegend angeordnet ist und das angeordnet ist, den Energiestrahl auszustrahlen; und
    ein Flüssigkeitsimmersionssystem (8), das eingerichtet ist, einen Flüssigkeitsimmersionsbereich durch Füllen eines Raums zwischen dem optischen Element und dem Objekt mit Flüssigkeit auszubilden, wobei die Vorrichtung so eingerichtet ist, dass
    der Flüssigkeitsimmersionsbereich in einem Raum zwischen dem optischen Element und dem zweiten beweglichen Körper aufrecht erhalten wird, der durch Zurücksetzen des ersten beweglichen Körpers gegenüberliegend zu dem optischen Element angeordnet ist.
  28. Einrichtungsherstellungsverfahren, mit:
    Belichten eines Objekts unter Verwendung der Belichtungsvorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 27; und
    Entwickeln des belichteten Objekts.
  29. Belichtungsverfahren zum Belichten eines Objekts mit einem Energiestrahl über ein optisches System (PL), das Verfahren mit:
    Erfassen des Energiestrahls (IL) durch Verwendung einer Erfassungseinheit (30, 36, 44), die ein erstes und ein zweites Element (36, 44) aufweist, die entsprechend auf einem ersten und einem zweiten beweglichen Körper (WTB, MST) angeordnet sind, die unabhängig voneinander in einer festgelegten Ebene beweglich sind, wobei
    zum Zeitpunkt der Erfassung, der Energiestrahl von dem optischen System über das erste Element auf dem ersten beweglichen Körper zu dem zweiten Element auf dem zweiten beweglichen Körper geführt wird.
  30. Belichtungsverfahren nach Anspruch 29, bei dem der erste bewegliche Körper des ersten und zweiten beweglichen Körpers das Objekt halten kann.
  31. Belichtungsverfahren nach Anspruch 30, bei dem der zweite bewegliche Körper ein Messelement (94, 98) aufweist, dass von dem zweiten Element getrennt ist, und für eine zu der Belichtung unterschiedliche Funktion verwendet wird.
  32. Belichtungsverfahren nach Anspruch 31, bei dem mindestens ein Teil des Messelements auf einer Fläche des zweiten beweglichen Körpers angeordnet ist, die im Wesentlichen parallel zu der Ebene des.
  33. Belichtungsverfahren nach einem der Ansprüche 29 bis 32, bei dem ein Teil des ersten Elements auf einer Fläche des ersten beweglichen Körpers angeordnet ist, die im Wesentlichen parallel zu der Ebene ist.
  34. Belichtungsverfahren nach einem der Ansprüche 29 bis 33, bei dem ein Strukturbild, das über das optische System ausgebildet wird, unter Verwendung der Erfassungseinheit gemessen wird.
  35. Belichtungsverfahren nach Anspruch 34, bei dem das erste Element eine Blendenstruktur (30) aufweist, die zu dem optischen System gegenüberliegend angeordnet ist, und das Strukturbild über die Blendenstruktur gemessen wird.
  36. Einrichtungsherstellungsverfahren, mit:
    Belichten eines Objekts unter Verwendung des Belichtungsverfahrens nach einem der Ansprüche 29 bis 35; und
    Entwickeln des belichteten Objekts.
HK09104287.5A 2006-02-21 2007-02-21 Exposure apparatus, exposure method and device manufacturing method HK1126035B (en)

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JP2006044589 2006-02-21
PCT/JP2007/053230 WO2007097380A1 (ja) 2006-02-21 2007-02-21 パターン形成装置及びパターン形成方法、移動体駆動システム及び移動体駆動方法、露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法

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HK1126035A1 HK1126035A1 (en) 2009-08-21
HK1126035B true HK1126035B (en) 2013-11-15

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