HK1199771B - Exposure apparatus and method - Google Patents

Claims (9)

1. Belichtungsvorrichtung zum Belichten eines Substrats mit Licht über Flüssigkeit, wobei die Vorrichtung aufweist:

   eine Bühne (4), die einen Substrattisch zum Halten des Substrats aufweist; und

   eine Flüssigkeitszuführvorrichtung (11, 12, 13) zum Zuführen von Flüssigkeit, um einen Immersionsbereich an dem Substrat auszubilden, wenn es an der Bühne gehalten wird,

   wobei der Substrattisch aufweist:

   eine Vielzahl von Stützelementen (81), die an einem Basismaterial bereitgestellt sind und eingerichtet sind, eine hintere Fläche des Substrats zu unterstützen;

   eine Zuführöffnung (60), die an einer dem Substrat zugewandten Fläche des Basismaterials zum Zuführen von Gas zu einem Raum zwischen dem Basismaterial und der hinteren Fläche des Substrats ausgebildet ist, wenn sie durch die Vielzahl von Stützelementen unterstützt wird;

   eine Saugöffnung (61), die an der dem Substrat zugewandten Fläche des Basismaterials zum Absaugen von Gas in dem Raum ausgebildet ist;

   eine äußere Umfangswand (33), die an dem Basismaterial vorgesehen ist, um der hinteren Fläche des Substrats zugewandt zu sein, wenn es durch die Vielzahl von Stützelementen unterstützt wird, und um die Vielzahl von Stützelementen, die Zuführöffnung und die Saugöffnung zu umgeben; und

   eine innere Umfangswand (32), die an dem Basismaterial zwischen der Zuführöffnung und der Saugöffnung vorgesehen ist und mit einem Spalt (G2) zwischen ihrer oberen Fläche und der hinteren Fläche des Substrats angeordnet ist;

   dadurch gekennzeichnet, dass die Saugöffnung eingerichtet ist, Gas in einem umschlossenen Raum abzusaugen, der durch die äußere Umfangswand umschlossen ist, um so einen Gasstrom in einer Richtung von einem Mittelpunkt einer hinteren Fläche des Substrats in Richtung einer äußeren Kante des Substrats zu erzeugen, um so den umschlossenen Raum mit einem Unterdruck zu beaufschlagen, und

   die innere Umfangswand angeordnet ist, um den Gasstrom von der Zuführöffnung zu der Saugöffnung über den Spalt in dem umschlossenen Raum einzuschränken, um so kein Hindernis für die Beaufschlagung des umschlossenen Raum mit Unterdruck zu sein.
2. Belichtungsvorrichtung nach Anspruch 1, bei der die Saugöffnung eingerichtet ist, Flüssigkeit rückzugewinnen, welche über den Spalt zwischen dem Substrat, wenn es durch die Vielzahl von Stützelementen unterstützt wird, und einer oberen Fläche der Bühne um das Substrat in den umschlossenen Raum geströmt ist, wobei die Flüssigkeit zusammen mit Gas in dem umschlossenen Raum rückgewonnen wird.
3. Belichtungsvorrichtung nach Anspruch 1 oder 2, bei der eine obere Fläche der inneren Umfangswand niedriger bereitgestellt ist als eine obere Fläche der Vielzahl von Stützelementen.
4. Belichtungsvorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 3, bei welcher der Substrattisch eine weitere Saugöffnung, die außerhalb der äußeren Umfangswand bereitgestellt ist, zum Absaugen von Flüssigkeit von einem Außenraum aufweist, der außerhalb der äußeren Umfangswand angeordnet ist.
5. Belichtungsverfahren zum Belichten eines Substrats mit Licht über Flüssigkeit, wobei das Verfahren umfasst:

   Unterstützen einer hinteren Fläche des Substrats durch eine Vielzahl von Stützelementen (81), die an einem Substrattisch einer Bühne (4) bereitgestellt ist;

   Halten des Substrats durch den Substrattisch;

   Zuführen von Flüssigkeit, um einen Immersionsbereich an dem Substrat auszubilden;

   Zuführen von Gas von einer Zuführöffnung (60), die an einer dem Substrat zugewandten Fläche eines Basismaterials des Substrattischs ausgebildet ist, zu einem Raum zwischen dem Basismaterial und der hinteren Fläche des Substrats, die durch die Vielzahl von Stützelementen unterstützt wird;

   Absaugen von Gas in dem Raum durch eine Saugöffnung (61), die an der dem Substrat zugewandten Fläche des Basismaterials ausgebildet ist;

   Bereitstellen einer äußeren Umfangswand (33) an dem Basismaterial, sodass sie der hinteren Fläche des Substrats zugewandt ist, wenn sie durch die Vielzahl von Stützelementen unterstützt wird, und die Vielzahl von Stützelementen, die Zuführöffnung und die Saugöffnung umgibt, wobei die Saugöffnung Gas in einem umschlossenen Raum, der durch die äußere Umfangswand umschlossen ist, absaugt, um so einen Gasstrom in einer Richtung von einem Mittelpunkt einer hinteren Fläche des Substrats in Richtung einer äußeren Kante des Substrats zu erzeugen, um so den umschlossenen Raum mit einem Unterdruck zu beaufschlagen; und

   Beschränken eines Gasstroms von der Zuführöffnung zu der Saugöffnung in dem umschlossenen Raum durch eine innere Umfangswand (32), die an dem Basismaterial zwischen der Zuführöffnung und der Saugöffnung vorgesehen ist und mit einem Spalt (G2) zwischen ihrer oberen Fläche und der hinteren Fläche des Substrats eingerichtet ist, um so kein Hindernis für die Beaufschlagung des umschlossenen Raums mit einem Unterdruck zu sein.
6. Belichtungsverfahren nach Anspruch 5, ferner mit:

   Rückgewinnen von Flüssigkeit, die über den Spalt zwischen dem Substrat, das durch die Vielzahl von Stützelementen unterstützt wird, und einer oberen Fläche der Bühne um das Substrat in den umschlossenen Raum geströmt ist, durch die Saugöffnung zusammen mit Gas in dem umschlossenen Raum.
7. Belichtungsverfahren nach einem der Ansprüche 5 bis 6, bei dem die Saugöffnung in Bezug auf einen mittigen Abschnitt des Substrats, das durch die Vielzahl von Stützelementen unterstützt wird, außerhalb der Zuführöffnung bereitgestellt ist.
8. Bauelementherstellungsverfahren, mit:

   Belichten eines Substrats mit Licht von einer Struktur unter Verwendung der Belichtungsvorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 4; und

   Entwickeln des mit dem Licht belichteten Substrats.
9. Bauelementherstellungsverfahren, mit:

   Belichten eines Substrats mit einer Struktur unter Verwendung des Belichtungsverfahrens nach einem der Ansprüche 5 bis 7; und

   Entwickeln des mit dem Licht belichteten Substrats.