HK1165661B - Pulsed plasma device - Google Patents
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Claims (11)
- Dispositif pour générer des impulsions de plasma, comprenant :une anode (1) ;un assemblage de cathodes (5) comprenant(i) une ou plusieurs cathodes (5a, 5b, 5c), et(ii) un support de cathodes (74);un canal de plasma (62), s'étendant longitudinalement entre ledit assemblage de cathodes et à travers ladite anode (1), et ayant une ouverture de sortie à l'extrémité d'anode, une partie dudit canal de plasma (62) étant formées par deux électrodes intermédiaires (2, 3, 4) ou plus isolées électriquement les unes des autres et de l'anode (1), le canal de plasma (62) comprenant une partie chauffante (84) la plus proche de l'assemblage de cathodes, une partie d'anode (83), et une partie d'expansion d'anode (82) entre la partie chauffante et la partie d'anode, la partie d'expansion ayant deux sections (86, 88, 90) ou plus, avec le diamètre de chaque section successive de la partie d'expansion augmentant en direction de l'anode (1) ;caractérisé par une buse d'extension (15) reliée à l'extrémité d'anode du canal de plasma (62), et formant un canal d'extension (18) ayant un isolant tubulaire (17) recouvrant une partie de la surface intérieure du canal d'extension ; et le dispositif comprenant en outre un ou plusieurs canaux d'aspiration (94, 96).
- Dispositif selon la revendication 1, comprenant en outre une chambre à plasma (26).
- Dispositif selon la revendication 1, dans lequel l'assemblage de cathodes comprend deux cathodes (5a, 5b, 5c) ou plus.
- Dispositif selon la revendication 1, dans lequel une section de la partie d'expansion (82)(i) a un diamètre qui est au plus de 0,6 mm supérieur au diamètre de la section adjacente dans la direction de l'assemblage de cathodes, et(ii) a une longueur égale ou supérieure à son diamètre.
- Dispositif selon la revendication 4, dans lequel la section de la partie d'expansion (82) la plus proche de l'assemblage de cathodes(i) a un diamètre qui est au plus de 0,6 mm supérieur au diamètre de la partie chauffante, et(ii) a une longueur qui est égale ou supérieure à son diamètre.
- Dispositif selon la revendication 5, dans lequel le diamètre de la partie chauffante (84) est de 1 à 1,5 mm ; et la longueur des électrodes formant la portion chauffante est de 1 à 2 fois le diamètre de la partie chauffante.
- Dispositif selon la revendication 6, dans lequel le diamètre de la partie d'anode (83) est plus grand que le diamètre de la section de la partie d'expansion (82) la plus proche de l'anode (1) d'au plus 0,6 mm ; et la longueur de la partie d'anode est de 2 à 5 fois son diamètre.
- Dispositif selon la revendication 7, dans lequel le diamètre intérieur de l'élément isolant tubulaire (17) est de 1 à 1,3 fois le diamètre de la partie d'anode ; et la longueur du canal d'extension (18) est de 2 à 3 fois le diamètre intérieur de l'isolant tubulaire.
- Dispositif selon la revendication 1, dans lequel des parties de deux sections adjacentes de la partie d'expansion (82) sont formées par une électrode intermédiaire.
- Dispositif selon la revendication 1, dans lequel au moins une section de la partie d'expansion (82) est formée par une électrode intermédiaire unique.
- Dispositif selon la revendication 2, dans lequel la buse d'extension a une ou plusieurs entrées (16) de gaz porteur d'oxygène vers canal d'extension.
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| PCT/EP2007/006939 WO2009018837A1 (fr) | 2007-08-06 | 2007-08-06 | Dispositif de plasma pulsé et procédé de génération d'un plasma pulsé |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| HK1165661A1 HK1165661A1 (en) | 2012-10-05 |
| HK1165661B true HK1165661B (en) | 2017-06-09 |
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