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HK1009141B - Radiation- curable polymer compositions , for use in hot-stamping substrates - Google Patents

Radiation- curable polymer compositions , for use in hot-stamping substrates Download PDF

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Publication number
HK1009141B
HK1009141B HK98109963.7A HK98109963A HK1009141B HK 1009141 B HK1009141 B HK 1009141B HK 98109963 A HK98109963 A HK 98109963A HK 1009141 B HK1009141 B HK 1009141B
Authority
HK
Hong Kong
Prior art keywords
composition
radiation
ester
photoinitiator
hot
Prior art date
Application number
HK98109963.7A
Other languages
German (de)
English (en)
Chinese (zh)
Other versions
HK1009141A1 (en
Inventor
Edwin Kamen Melvin
Patel Bhupendra
Original Assignee
Deco Patents, Inc.
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority claimed from US08/199,415 external-priority patent/US5487927A/en
Application filed by Deco Patents, Inc. filed Critical Deco Patents, Inc.
Publication of HK1009141A1 publication Critical patent/HK1009141A1/en
Publication of HK1009141B publication Critical patent/HK1009141B/en

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Claims (21)

  1. Composition polymère durcissable par rayonnement, convenant à une utilisation dans l'application de revêtements décoratifs sur du verre, des céramiques et d'autres subjectiles, par un mode opératoire analogue à celui qui est connu sous le nom d'estampage à chaud, ladite composition comprenant :
    de 10 à 90 % d'un époxyde cycloaliphatique à durcissement cationique par rayonnement,
    de 1 à 20 % d'un polyol contenant un ester, et
    de 1 à 20 % d'un agent antimousse polyalkyléther.
  2. Composition selon la revendication 1, dans lequel l'époxyde cycloaliphatique à durcissement cationique par rayonnement est un tel composé ayant au moins deux groupes époxyde par molécule.
  3. Composition selon la revendication 1 ou 2, dans laquelle l'époxyde cycloaliphatique à durcissement cationique par rayonnement est l'un des composés ci-après, ou un mélange de plus d'un des composés ci-après, à savoir le 3,4-époxycyclohexanecarboxylate de 3,4-époxycyclohexylméthyle, l'adipate de bis(3,4-époxycyclohexylméthyle), le vinylcyclohexène-diépoxyde, le bis(2,3-époxycyclophényl)éther, le butadiène époxydé et le 3,4-époxy-2-méthylcyclohexanecarboxylate de 2,3-époxy-2-méthylcyclohexylméthyle.
  4. Composition selon l'une quelconque des revendications précédentes, qui comprend de 35 à 90 % d'un époxyde cycloaliphatique à durcissement cationique par rayonnement.
  5. Composition selon l'une quelconque des revendications précédentes, dans laquelle le polyol contenant un ester est un produit de la réaction d'un acide polycarboxylique avec un polyol.
  6. Composition selon l'une quelconque des revendications précédentes, dans laquelle le polyol contenant un ester a une masse moléculaire inférieure à 850 et une viscosité inférieure à 60 Pa.s (60 poise).
  7. Composition selon l'une quelconque des revendications précédentes, dans laquelle le polyol contenant un ester est un polycaprolactonepolyol.
  8. Composition selon l'une quelconque des revendications précédentes, qui comprend de 3 à 15 % du polyol contenant un ester.
  9. Composition selon l'une quelconque des revendications précédentes, qui comprend de 1 à 10 % de l'agent antimousse.
  10. Composition selon l'une quelconque des revendications précédentes, qui comprend de 3 à 15 % de l'agent antimousse.
  11. Composition selon l'une quelconque des revendications précédentes, dans laquelle l'agent antimousse est le polyvinylbutyléther.
  12. Composition selon l'une quelconque des revendications précédentes, qui comprend aussi un promoteur d'adhérence.
  13. Composition selon la revendication 12, dans laquelle le promoteur d'adhérence est un silane.
  14. Composition selon la revendication 12 ou 13, qui comprend de 1 à 10 % du promoteur d'adhérence
  15. Composition selon l'une quelconque des revendications précédentes, qui comprend aussi un photoamorceur.
  16. Composition selon la revendication 15, dans laquelle le photoamorceur est ou comprend un composé carbonyle.
  17. Composition selon la revendication 15, dans laquelle le photoamorceur est ou comprend un sel d'onium photosensible.
  18. Composition selon l'une quelconque des revendications 15 à 17, qui comprend de 0,5 à 20 % du photoamorceur
  19. Composition selon l'une quelconque des revendications 15 à 18, qui comprend de 3 à 15 % du photoamorceur.
  20. Composition selon l'une quelconque des revendications précédentes, qui comprend :
    - de 35 à 90 % du ou des époxydes cycloaliphatiques à durcissement cationique par radiation, choisis parmi : le 3,4-époxycyclohexanecarboxylate de 3,4-époxycyclohexylméthyle, l'adipate de bis(3,4-époxycylohexylméthyle), le vinylcyclohexène-diépoxyde, le bis(2,3-époxycyclophényl)éther, le butadiène époxydé et le 3,4-époxy-2-méthylcyclohexanecarboxylate de 2,3-époxy-2-méthylcyclohexylméthyle,
    - de 3 à 15 % du ou des polyols contenant un ester,
    - de 3 à 15 % du ou des agents antimousse de type polyvinyléther, et
    - de 3 à 15 % d'un photoamorceur choisi parmi les silanes à fonctionnalité acryloxy et glycidoxy.
  21. Composition selon l'une quelconque des revendications précédentes, qui comprend en outre de 1 à 50 % d'un pigment.
HK98109963.7A 1994-02-22 1998-08-18 Radiation- curable polymer compositions , for use in hot-stamping substrates HK1009141B (en)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US08/199,415 US5487927A (en) 1992-01-24 1994-02-22 Decorating method and products
US199415 1994-02-22

Publications (2)

Publication Number Publication Date
HK1009141A1 HK1009141A1 (en) 1999-05-28
HK1009141B true HK1009141B (en) 2001-04-20

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