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HK1009141B - Radiation- curable polymer compositions , for use in hot-stamping substrates - Google Patents

Radiation- curable polymer compositions , for use in hot-stamping substrates Download PDF

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Publication number
HK1009141B
HK1009141B HK98109963.7A HK98109963A HK1009141B HK 1009141 B HK1009141 B HK 1009141B HK 98109963 A HK98109963 A HK 98109963A HK 1009141 B HK1009141 B HK 1009141B
Authority
HK
Hong Kong
Prior art keywords
composition
radiation
ester
photoinitiator
hot
Prior art date
Application number
HK98109963.7A
Other languages
English (en)
French (fr)
Chinese (zh)
Other versions
HK1009141A1 (en
Inventor
Edwin Kamen Melvin
Patel Bhupendra
Original Assignee
Deco Patents, Inc.
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority claimed from US08/199,415 external-priority patent/US5487927A/en
Application filed by Deco Patents, Inc. filed Critical Deco Patents, Inc.
Publication of HK1009141A1 publication Critical patent/HK1009141A1/en
Publication of HK1009141B publication Critical patent/HK1009141B/en

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Claims (21)

  1. Strahlungshärtbare Polymermasse, geeignet zur Verwendung beim Auftragen von dekorativen Beschichtungen auf Glas, Keramik und andere Substrate durch ein Verfahren, das dem bekannten Heißprägen ähnelt, wobei die Masse umfaßt:
    10 bis 90% eines kationisch strahlungshärtbaren cycloaliphatischen Epoxids,
    1 bis 20% eines Ester-enthaltenden Polyols, und
    1 bis 20% eines Polyalkylether-Entschäumungsmittels.
  2. Masse nach Anspruch 1, wobei das kationisch strahlungshärtbare cycloaliphatische Epoxid eines mit mindestens zwei Epoxidgruppen pro Molekül ist.
  3. Masse nach Anspruch 1 oder Anspruch 2, wobei das kationisch strahlungshärtbare cycloaliphatische Epoxid eines oder ein Gemisch von mehr als einem der nachstehenden, nämlich 3,4-Epoxycyclohexylmethyl-3,4-epoxycyclohexancarboxylat, Bis (3,4-epoxycyclohexylmethyl)adipat, Vinylcyclohexendiepoxid, Bis(2,3-epoxycyclophenyl)ether, epoxidiertes Butadien und 2,3-Epoxy-2-methylcyclohexylmethyl-3,4-epoxy-2-methylcyclohexancarboxylat, ist.
  4. Masse nach einem der vorangehenden Ansprüche, die 35 bis 90% des kationisch strahlungshärtbaren cycloaliphatischen Epoxids umfaßt.
  5. Masse nach einem der vorangehenden Ansprüche, wobei das Ester-enthaltende Polyol das Reaktionsprodukt einer Polycarbonsäure mit einem Polyol ist.
  6. Masse nach einem der vorangehenden Ansprüche, wobei das Ester-enthaltende Polyol ein Molekulargewicht von weniger als 850 und eine Viskosität von weniger als 60 Pa·s (60 Poise) aufweist.
  7. Masse nach einem der vorangehenden Ansprüche, wobei das Ester-enthaltende Polyol ein Polycaprolactonpolyol ist.
  8. Masse nach einem der vorangehenden Ansprüche, die 3 bis 15% des Ester-enthaltenden Polyols umfaßt.
  9. Masse nach einem der vorangehenden Ansprüche, die 1 bis 10% des Entschäumungsmittels umfaßt.
  10. Masse nach einem der vorangehenden Ansprüche, die 3 bis 15% des Entschäumungsmittels umfaßt.
  11. Masse nach einem der vorangehenden Ansprüche, wobei das Entschäumungsmittel Polyvinylbutylether ist.
  12. Masse nach einem der vorangehenden Ansprüche, die ebenfalls einen Haftvermittler umfaßt.
  13. Masse nach Anspruch 12, wobei der Haftvermittler ein Silan ist.
  14. Masse nach Anspruch 12 oder Anspruch 13, die 1 bis 10% des Haftvermittlers umfaßt.
  15. Masse nach einem der vorangehenden Ansprüche, die ebenfalls einen Photostarter umfaßt.
  16. Masse nach Anspruch 15, in der der Photostarter eine Carbonylverbindung ist oder einschließt.
  17. Masse nach Anspruch 15, in der der Photostarter ein lichtempfindliches Oniumsalz ist oder einschließt.
  18. Masse nach einem der Ansprüche 15 bis 17, die 0,5 bis 20% des Photostarters umfaßt.
  19. Masse nach einem der Ansprüche 15 bis 18, die 3 bis 15% des Photostarters umfaßt.
  20. Masse nach einem der vorangehenden Ansprüche, umfassend:
    - 35 bis 90% des/der kationisch strahlungshärtbaren cycloaliphatischen Epoxids/e, ausgewählt aus 3,4-Epoxycyclohexylmethyl-3,4-epoxycyclohexancarboxylat, Bis(3,4-epoxycyclohexylmethyl)adipat, Vinylcyclohexendiepoxid, Bis(2,3-epoxycyclophenyl)ether, epoxidiertes Butadien und 2,3-Epoxy-2-methylcyclohexylmethyl-3,4-epoxy-2-methylcyclohexancarboxylat,
    - 3 bis 15% Ester-enthaltende/es Polyol/e;
    - 3 bis 15% Polyvinylether-Entschäumungsmittel; und
    - 3 bis 15% eines Photostarters, ausgewählt aus Acryloxy-funktionellem/n und Glycidyloxy-funktionellem/n Silan/en.
  21. Masse nach einem der vorangehenden Ansprüche, die weiterhin 1 bis 50% Pigment umfaßt.
HK98109963.7A 1994-02-22 1998-08-18 Radiation- curable polymer compositions , for use in hot-stamping substrates HK1009141B (en)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US08/199,415 US5487927A (en) 1992-01-24 1994-02-22 Decorating method and products
US199415 1994-02-22

Publications (2)

Publication Number Publication Date
HK1009141A1 HK1009141A1 (en) 1999-05-28
HK1009141B true HK1009141B (en) 2001-04-20

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