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HK1091271B - Apparatus and method for providing fluid for immersion lithography - Google Patents

Apparatus and method for providing fluid for immersion lithography Download PDF

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Publication number
HK1091271B
HK1091271B HK06112925.9A HK06112925A HK1091271B HK 1091271 B HK1091271 B HK 1091271B HK 06112925 A HK06112925 A HK 06112925A HK 1091271 B HK1091271 B HK 1091271B
Authority
HK
Hong Kong
Prior art keywords
fluid
porous member
pressure
space
recovery
Prior art date
Application number
HK06112925.9A
Other languages
German (de)
English (en)
Chinese (zh)
Other versions
HK1091271A1 (en
Inventor
Alex Ka Tim Poon
Leonard Wai Fung Kho
Original Assignee
Nikon Corporation
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nikon Corporation filed Critical Nikon Corporation
Priority claimed from PCT/US2004/022915 external-priority patent/WO2005024517A2/fr
Publication of HK1091271A1 publication Critical patent/HK1091271A1/en
Publication of HK1091271B publication Critical patent/HK1091271B/en

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Claims (30)

  1. Procédé de récupération de fluide à partir d'un espace entre une lentille et un substrat (16) dans un système de lithographie par immersion (10), le procédé comprenant le fait :
    d'aspirer le fluide à partir de l'espace par l'intermédiaire d'une conduite d'écoulement de récupération (106, 134) à travers un élément poreux (51) ; et
    de maintenir une pression du fluide dans l'élément poreux inférieure ou égale à un point de bulle de l'élément poreux lors de l'aspiration du fluide à partir de l'espace.
  2. Procédé de la revendication 1, dans lequel le maintien de la pression comprend le fait :
    de diriger le fluide aspiré à partir de l'espace à travers l'élément poreux par l'intermédiaire de la conduite d'écoulement de récupération vers un récipient de débordement (104) maintenu à une pression préréglée.
  3. Procédé de la revendication 2, dans lequel le maintien de la pression comprend en outre le fait de siphonner le fluide du récipient de débordement vers un réservoir de collecte (110, 136).
  4. Procédé de la revendication 3, dans lequel le fluide est amené à descendre en étant siphonné par gravité vers le réservoir de collecte disposé en dessous du récipient de débordement.
  5. Procédé de la revendication 1, dans lequel le maintien de la pression comprend le fait :
    d'aspirer le fluide à partir de l'espace par l'intermédiaire d'une conduite d'écoulement de tampon (126) à travers l'élément poreux vers un tampon de niveau de fluide (124) ;
    de détecter une pression ou un niveau de fluide au niveau du tampon de niveau de fluide ; et
    de réguler l'écoulement de fluide aspiré à partir de l'espace par l'intermédiaire de la conduite d'écoulement de récupération à travers l'élément poreux sur la base de la pression ou du niveau de fluide détecté(e) au niveau du tampon de niveau de fluide.
  6. Procédé de la revendication 5, dans lequel la régulation de l'écoulement de fluide comprend le fait de commander une soupape variable (132) disposée dans la conduite d'écoulement de récupération (134) en aval de l'élément poreux.
  7. Procédé de la revendication 1, dans lequel le maintien de la pression comprend le fait :
    d'aspirer le fluide à partir de l'espace par l'intermédiaire d'une conduite d'écoulement de tampon à travers l'élément poreux vers un tampon de niveau de fluide ;
    de détecter une pression ou un niveau de fluide au niveau du tampon de niveau de fluide ; et
    de réguler une pression à vide au niveau d'une sortie de la conduite d'écoulement de récupération à travers l'élément poreux sur la base de la pression ou du niveau de fluide détecté(e) au niveau du tampon de niveau de fluide.
  8. Procédé de la revendication 7, dans lequel la régulation de la pression à vide comprend le fait de commander un régulateur de vide (102, 122, 162) dans un réservoir de collecte au niveau de la sortie de la conduite d'écoulement de récupération.
  9. Procédé de l'une quelconque des revendications 1 à 8, dans lequel le point de bulle de l'élément poreux dépend de la taille des trous dans l'élément poreux et de l'angle de contact que forme le fluide avec l'élément poreux.
  10. Procédé de l'une quelconque des revendications 1 à 9, dans lequel le fluide comprend un liquide.
  11. Procédé de la revendication 10, dans lequel le liquide comprend de l'eau.
  12. Appareil (20) pour récupérer un fluide à partir d'un espace entre une lentille et un substrat (16) dans un système de lithographie par immersion (10), l'appareil comprenant :
    une partie interne (32) comportant une ouverture de lentille pour recevoir une partie de la lentille et positionner la lentille à l'écart du substrat séparé par l'espace pour recevoir un fluide dans l'espace entre la lentille et le substrat ;
    une partie externe (30) disposée autour de la partie interne, la partie externe comportant un élément poreux (51) couplé de manière fluidique à l'espace et à une sortie de récupération de fluide (58) pour aspirer le fluide à partir de l'espace par l'intermédiaire de l'élément poreux vers la sortie de récupération de fluide ; et
    un système de régulation de pression (100, 120, 160, 180) couplé de manière fluidique à l'élément poreux pour maintenir une pression au niveau de la surface de l'élément poreux inférieure ou égale à un point de bulle de l'élément poreux lors de l'aspiration du fluide à partir de l'espace par l'intermédiaire de l'élément poreux.
  13. Appareil de la revendication 12, dans lequel le système de régulation de pression comprend :
    un récipient de débordement (104) couplé de manière fluidique à l'élément poreux ; et
    un régulateur de vide (102, 122, 162) configuré pour réguler une pression dans le récipient de débordement.
  14. Appareil de la revendication 13, comprenant en outre un réservoir de collecte (110, 136) couplé de manière fluidique au récipient de débordement et disposé en dessous de celui-ci.
  15. Appareil de la revendication 12, dans lequel le système de régulation de pression comprend :
    un tampon de niveau de fluide (124) couplé de manière fluidique à l'élément poreux ;
    un capteur (128) configuré pour détecter une pression ou un niveau de fluide au niveau du tampon de niveau de fluide ; et
    un dispositif de commande (130) configuré pour ajuster un débit du fluide aspiré à partir de l'espace à travers la sortie de récupération de fluide, sur la base d'un signal de capteur provenant du capteur, pour maintenir une pression au niveau de la surface de l'élément poreux inférieure ou égale à un point de bulle de l'élément poreux lors de l'aspiration du fluide à partir de l'espace par l'intermédiaire de l'élément poreux.
  16. Appareil de la revendication 15, dans lequel le système de régulation de pression comprend une soupape (132) disposée en aval de la sortie de récupération de fluide, et où le dispositif de commande est configuré pour commander la soupape afin d'ajuster le débit du fluide aspiré à partir de l'espace à travers la sortie de récupération de fluide.
  17. Appareil de la revendication 15 ou 16, dans lequel le système de régulation de pression comprend :
    un réservoir de collecte couplé de manière fluidique à la sortie de récupération de fluide ; et
    un régulateur de vide pouvant être commandé configuré pour réguler une pression dans le réservoir de collecte ;
    dans lequel le dispositif de commande est configuré pour commander le régulateur de vide pouvant être commandé afin d'ajuster le débit du fluide aspiré à partir de l'espace à travers la sortie de récupération de fluide vers le réservoir de collecte en régulant la pression dans le réservoir de collecte.
  18. Appareil de l'une quelconque des revendications 15 à 17, comprenant en outre un élément d'alimentation en fluide ou de récupération de fluide (182) couplé de manière fluidique au tampon de niveau de fluide.
  19. Appareil de l'une quelconque des revendications 12 à 18, dans lequel la partie interne est espacée de la partie externe par un espacement intermédiaire (48).
  20. Appareil de l'une quelconque des revendications 12 à 19, dans lequel la partie interne comporte une cavité interne (34) formant une partie de l'espacement entre la lentille et le substrat, et où la partie interne comporte des ouvertures (38) disposées au-dessus de la cavité interne pour au moins l'une de l'introduction de fluide dans la cavité interne et de l'aspiration de fluide à partir de celle-ci.
  21. Appareil de la revendication 20, dans lequel la partie interne comporte des ouvertures disposées sur des côtés opposés de l'ouverture de lentille pour introduire un fluide dans la cavité interne.
  22. Appareil de l'une quelconque des revendications 12 à 21, dans lequel la partie interne comporte une paire de fentes de tampon (40) disposées sur des côtés opposés de l'ouverture de lentille.
  23. Appareil de la revendication 22, dans lequel la partie interne comporte des trous de purge (42) et où chacune de la paire de fentes de tampon est couplée de manière fluidique à au moins l'un des trous de purge.
  24. Appareil de l'une quelconque des revendications 12 à 23, dans lequel l'élément poreux est choisi dans le groupe constitué d'une maille, d'un matériau poreux, et d'un élément ayant des trous gravés dedans.
  25. Appareil de l'une quelconque des revendications 12 à 24, dans lequel l'élément poreux est formé d'un matériau poreux ayant des trous dans la plage de tailles allant de 50 à 200 microns.
  26. Appareil de l'une quelconque des revendications 12 à 25, dans lequel le point de bulle de l'élément poreux dépend de la taille de trous dans l'élément poreux et de l'angle de contact que forme le fluide avec l'élément poreux.
  27. Appareil des revendications 12 à 26, dans lequel le fluide comprend un liquide.
  28. Appareil de la revendication 27, dans lequel le liquide comprend de l'eau.
  29. Système de lithographie par immersion (10) comprenant l'appareil de l'une quelconque des revendications 12 à 28.
  30. Système de lithographie par immersion de la revendication 29, comprenant en outre :
    un système de projection optique (14) ayant un dernier élément optique (22), le système de projection optique étant configuré pour projeter une image sur un substrat (16) ;
    un étage (18) configuré pour supporter le substrat adjacent au système de projection optique lorsque l'image est en train d'être projetée sur le substrat.
HK06112925.9A 2003-09-03 2004-07-16 Apparatus and method for providing fluid for immersion lithography HK1091271B (en)

Applications Claiming Priority (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US50031203P 2003-09-03 2003-09-03
US60/500,312 2003-09-03
US54132904P 2004-02-02 2004-02-02
US60/541,329 2004-02-02
PCT/US2004/022915 WO2005024517A2 (fr) 2003-09-03 2004-07-16 Appareil et procede de fourniture de liquide pour la lithographie par immersion

Publications (2)

Publication Number Publication Date
HK1091271A1 HK1091271A1 (en) 2007-01-12
HK1091271B true HK1091271B (en) 2015-10-09

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