HK1091271B - Apparatus and method for providing fluid for immersion lithography - Google Patents

Claims (30)

1. Verfahren zur Fluidrückgewinnung aus einem Raum zwischen einer Linse und einem Substrat (16) in einem Immersionslithographiesystem (10), das Verfahren umfassend:

   Ansaugen des Fluids aus dem Raum über eine Rückgewinnströmungsleitung (106, 134) durch ein poröses Element (51); und

   Aufrechterhalten eines Fluiddrucks in dem porösen Element bei oder unter einem Blasenbildungspunkt des porösen Elements während des Ansaugens des Fluids aus dem Raum.
2. Verfahren nach Anspruch 1, bei dem das Aufrechterhalten des Drucks umfasst:

   Führen des aus dem Raum angesaugten Fluids durch das poröse Element über die Rückgewinnströmungsleitung zu einem Überlaufbehälter (104), der bei einem voreingestellten Druck gehalten wird.
3. Verfahren nach Anspruch 2, bei dem das Aufrechterhalten des Drucks ferner ein Aushebern des Fluids aus dem Überlaufbehälter zu einem Sammeltank (110, 136) umfasst.
4. Verfahren nach Anspruch 3, bei dem das Fluid durch Schwerkraft zu dem Sammeltank nach unten ausgehebert wird, der unter dem Überlaufbehälter angeordnet ist.
5. Verfahren nach Anspruch 1, bei dem das Aufrechterhalten des Drucks umfasst:

   Ansaugen des Fluid aus dem Raum über eine Pufferströmungsleitung (126) durch das poröse Element zu einem Fluidpegelpuffer (124);

   Erfassen eines Drucks oder eines Fluidpegels bei dem Fluidpegelpuffer; und

   Steuern des Fluidstroms, der aus dem Raum über die Rückgewinnströmungsleitung durch das poröse Element basierend auf dem erfassten Druck oder Fluidpegel bei dem Fluidpegelpuffer angesaugt wird.
6. Verfahren nach Anspruch 5, bei dem das Steuern der Fluidströmung das Steuern eines verstellbaren Ventils (132) umfasst, dass in der Rückgewinnströmungsleitung (134) stromabwärts zu dem porösen Element angeordnet ist.
7. Verfahren nach Anspruch 1, bei dem das Aufrechterhalten des Drucks umfasst:

   Ansaugen des Fluids aus dem Raum über eine Strömungsleitung durch das poröse Element zu einem Fluidpegelpuffer;

   Erfassen eines Drucks oder eines Fluidpegels bei dem Fluidpegelpuffer; und

   Steuern eines Unterdrucks bei einem Auslass der Rückgewinnströmungsleitung durch das poröse Element basierend auf dem erfassten Druck oder Fluidpegel bei dem Fluidpegelpuffer.
8. Verfahren nach Anspruch 7, bei dem das Steuern des Unterdrucks ein Steuern eines Unterdruckreglers (102, 122, 162) in einem Sammeltank bei dem Auslass der Rückgewinnströmungsleitung umfasst.
9. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 8, bei dem der Blasenbildungspunkt des porösen Elements von der Größe der Löcher in dem porösen Element und dem Kontaktwinkel abhängt, den das Fluid mit dem porösen Element ausbildet.
10. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 9, bei dem das Fluid eine Flüssigkeit aufweist.
11. Verfahren nach Anspruch 10, bei dem die Flüssigkeit Wasser aufweist.
12. Vorrichtung (20) zum Rückgewinnen eines Fluids aus einem Raum zwischen einer Linse und einem Substrat (16) in einem Immersionslithographiesystem (10), die Vorrichtung mit:

    einem inneren Teil (32) einschließlich einer Linsenöffnung, um einen Abschnitt der Linse aufzunehmen und die Linse weg von dem durch den Raum getrennten Substrat zu positionieren und ein Fluid in dem Raum zwischen der Linse und dem Substrat aufzunehmen;

    einem äußeren Teil (30), der um den inneren Teil angeordnet ist, wobei der äußere Teil ein poröses Element (51) aufweist, das strömungstechnisch mit dem Raum und mit einem Fluidrückgewinnauslass (58) gekoppelt ist, um Fluid aus dem Raum über das poröse Element zu dem Fluidrückgewinnauslass zu saugen; und

    einem Drucksteuersystem (100, 120, 160, 180), das fluidtechnisch mit dem porösen Element gekoppelt ist, um während des Ansaugens des Fluids aus dem Raum über das poröse Element einen Druck bei der Fläche des porösen Elements bei oder unter einem Blasenbildungspunkt des porösen Elements zu halten.
13. Vorrichtung nach Anspruch 12, bei der das Drucksteuersystem aufweist:

    einen Überlaufbehälter (104), der fluidtechnisch mit dem porösen Element gekoppelt ist; und

    einem Unterdruckregler (102, 122, 162), der eingerichtet ist, einen Druck in dem Überlaufbehälter zu regeln.
14. Vorrichtung nach Anspruch 13, ferner mit einem Sammeltank (110, 136), der fluidtechnisch mit dem Überlaufbehälter gekoppelt ist und unter diesem angeordnet ist.
15. Vorrichtung nach Anspruch 12, bei der das Drucksteuersystem aufweist:

    einen Fluidpegelpuffer (124), der fluidtechnisch mit dem porösen Element gekoppelt ist;

    einen Sensor (128), der eingerichtet ist, einen Druck oder einen Fluidpegel bei dem Fluidpegelpuffer zu erfassen; und

    eine Steuerung (130), die eingerichtet ist, basierend auf einem Sensorsignal von dem Sensor eine Strömungsgeschwindigkeit des Fluids einzustellen, das aus dem Raum durch die Fluidrückgewinnöffnung gesaugt wird, um während des Ansaugens des Fluids aus dem Raum über das poröse Element einen Druck an der Fläche des porösen Elements bei oder unter einem Blasenbildungspunkt des porösen Elements zu halten.
16. Vorrichtung nach Anspruch 15, bei der das Drucksteuersystem ein Ventil (132) aufweist, das stromabwärts zu dem Fluidrückgewinnauslass angeordnet ist, und bei der die Steuerung eingerichtet ist, das Ventil zu steuern, um die Strömungsgeschwindigkeit des Fluids einzustellen, das aus dem Raum durch den Fluidrückgewinnauslass angesaugt wird.
17. Vorrichtung nach Anspruch 15 oder 16, bei der das Drucksteuersystem aufweist:

    einen Sammeltank, der fluidtechnisch mit dem Fluidrückgewinnauslass gekoppelt ist; und

    einen steuerbaren Unterdruckregler, der eingerichtet ist, einen Druck in dem Sammeltank zu regeln;

    wobei die Steuerung eingerichtet ist, den steuerbaren Unterdruckregler zu steuern, um durch Steuern des Drucks in dem Sammeltank die Strömungsgeschwindigkeit des Fluids einzustellen, das aus dem Raum durch den Fluidrückgewinnauslass zu dem Sammeltank gesaugt wird.
18. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 15 bis 17, ferner mit einer Fluidzufuhr oder einer Fluidrückgewinnung (182), die fluidtechnisch mit dem Fluidpegelpuffer gekoppelt ist.
19. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 12 bis 18, bei welcher der innere Teil von dem äußeren Teil durch einen Zwischenabstand (48) beabstandet ist.
20. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 12 bis 19, bei welcher der innere Teil einen inneren Hohlraum (34) aufweist, der einen Teil der Beabstandung zwischen der Linse und dem Substrat ausbildet, und bei welcher der innere Teil Öffnungen (38) aufweist, die über dem inneren Hohlraum für ein Einführen von Fluid in und/oder ein Ansaugen des Fluids aus dem inneren Hohlraum angeordnet sind.
21. Vorrichtung nach Anspruch 20, bei welcher der innere Teil Öffnungen aufweist, die auf gegenüberliegenden Seiten der Linsenöffnung zum Einführen von Fluid in den inneren Hohlraum angeordnet sind.
22. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 12 bis 21, bei welcher der innere Teil ein Paar Pufferschlitze (40) aufweist, die auf gegenüberliegenden Seiten der Linsenöffnung angeordnet sind.
23. Vorrichtung nach Anspruch 22, bei welcher der innere Teil Entlüftungslöcher (42) aufweist und bei der jedes des Pufferschlitzenpaars fluidtechnisch mit mindestens einem der Entlüftungslöcher gekoppelt ist.
24. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 12 bis 23, bei der das poröse Element aus der Gruppe ausgewählt ist, die aus einem Netz, einem porösen Material und einem Element besteht, dass in sich geätzte Löcher aufweist.
25. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 12 bis 24, bei dem das poröse Element aus einem porösen Material mit Löchern in der Größenordnung von 50 bis 200 µm ausgebildet ist.
26. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 12 bis 25, bei welcher der Blasenbildungspunkt des porösen Elements von der Größe der Löcher in dem porösen Element und dem Kontaktwinkel abhängt, den das Fluid mit dem porösen Element ausbildet.
27. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 12 bis 26, bei der das Fluid eine Flüssigkeit aufweist.
28. Vorrichtung nach Anspruch 27, bei der die Flüssigkeit Wasser aufweist.
29. Immersionslithographiesystem (10) mit der Vorrichtung nach einem der Ansprüche 12 bis 28.
30. Immersionslithographiesystem nach Anspruch 29, ferner mit:

    einem optischen Projektionssystem (14), das ein letztes optisches Element (22) aufweist, wobei das optische Projektionssystem eingerichtet ist, ein Bild auf ein Substrat (16) zu projizieren; und

    einer Bühne (18), die eingerichtet ist, das zu dem optischen Projektionssystem benachbarte Substrat zu unterstützen, wenn das Bild auf das Substrat projiziert wird.