[go: up one dir, main page]

EP0458140A1 - Hochleistungsstrahler - Google Patents

Hochleistungsstrahler Download PDF

Info

Publication number
EP0458140A1
EP0458140A1 EP91107572A EP91107572A EP0458140A1 EP 0458140 A1 EP0458140 A1 EP 0458140A1 EP 91107572 A EP91107572 A EP 91107572A EP 91107572 A EP91107572 A EP 91107572A EP 0458140 A1 EP0458140 A1 EP 0458140A1
Authority
EP
European Patent Office
Prior art keywords
power radiator
radiator according
discharge
tubes
space
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
EP91107572A
Other languages
English (en)
French (fr)
Other versions
EP0458140B1 (de
Inventor
Ulrich Dr. Kogelschatz
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Excelitas Noblelight GmbH
Original Assignee
ABB Asea Brown Boveri Ltd
Heraeus Noblelight GmbH
Asea Brown Boveri AB
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by ABB Asea Brown Boveri Ltd, Heraeus Noblelight GmbH, Asea Brown Boveri AB filed Critical ABB Asea Brown Boveri Ltd
Publication of EP0458140A1 publication Critical patent/EP0458140A1/de
Application granted granted Critical
Publication of EP0458140B1 publication Critical patent/EP0458140B1/de
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J65/00Lamps without any electrode inside the vessel; Lamps with at least one main electrode outside the vessel
    • H01J65/04Lamps in which a gas filling is excited to luminesce by an external electromagnetic field or by external corpuscular radiation, e.g. for indicating plasma display panels
    • H01J65/042Lamps in which a gas filling is excited to luminesce by an external electromagnetic field or by external corpuscular radiation, e.g. for indicating plasma display panels by an external electromagnetic field
    • H01J65/046Lamps in which a gas filling is excited to luminesce by an external electromagnetic field or by external corpuscular radiation, e.g. for indicating plasma display panels by an external electromagnetic field the field being produced by using capacitive means around the vessel

Definitions

  • the invention relates to a high-power radiator, in particular for ultraviolet light, with a discharge space filled with filling gas emitting radiation under discharge conditions, the walls of which are formed by an outer and an inner tubular dielectric, each having an inner and a surface on the surfaces facing away from the discharge space outer electrode are provided, and with an AC power source connected to these electrodes for supplying the discharge.
  • the invention relates to a state of the art, such as results from EP-A 0 254 111, US patent application 07/485544 dated February 27, 1990 or also EP patent application 90103082.5 dated February 17, 1990.
  • UV sources The industrial use of photochemical processes depends heavily on the availability of suitable UV sources.
  • the classic UV lamps deliver low to medium UV intensities at some discrete wavelengths, such as the low-pressure mercury lamps at 185 nm and especially at 254 nm.
  • Really high UV powers can only be obtained from high-pressure lamps (Xe, Hg), which then but distribute their radiation over a larger wavelength range.
  • the new excimer lasers have provided some new wavelengths for basic photochemical experiments, are currently for cost reasons for an industrial process probably only suitable in exceptional cases.
  • the structure of such an excimer radiator largely corresponds to that of a conventional ozone generator, with the essential difference that at least one of the electrodes and / or dielectric layers delimiting the discharge space is transparent to the radiation generated.
  • the high-performance radiators mentioned are characterized by high efficiency, economical structure and enable the creation of large area radiators, with the restriction that large-area flat radiators require a rather large technical effort.
  • the emitters in the EP patent application mentioned at the outset are 90103082.5 the inner dielectric tubes are very small compared to the outer dielectric tubes.
  • the invention has for its object to provide a high-performance radiator, in particular for UV or VUV radiation, which is characterized in particular by high efficiency, is economical to manufacture, enables the construction of very large area radiators and in which the UV radiation can be specifically concentrated on a radiation angle that can be selected within wide limits and the inner electrode can no longer cast a shadow.
  • the outer electrode extends only over a fraction of the outer circumference of the outer dielectric tube, in such a way that discharges form only in a discharge segment which is essentially defined by the outer electrode.
  • the radiation can be coupled out in a defined direction, which is particularly advantageous when irradiating flat or curved surfaces, since the electrical discharges can only form on the surface facing the material to be irradiated.
  • the external electrodes in addition to those already in the relevant Wire networks or wire meshes described in the literature also serve as electrically conductive, UV-transparent coatings, for example made of conductive lacquer or thin metal films.
  • the outer electrode in liquid form by only partially immersing the outer tube in a transparent electrolyte, preferably water. This arrangement is particularly suitable for irradiating temperature-sensitive substances (eg gluing LCD cells, irradiating thin foils) because water very effectively blocks any infrared radiation from the discharge.
  • the electrolyte can be circulated via a thermostat and in this way kept at a constant low temperature.
  • a suitable filtering effect can additionally be achieved by suitable selection of the electrolyte.
  • the angular range of the ignited segment can be changed via the immersion depth of the outer tube in the electrolyte.
  • the inner electrode is preferably of classic design, i.e. consists of a metal coating applied to the inner surface of the inner dielectric tube, e.g. Aluminum vapor deposition. In this way, the inner electrode also acts as a reflector for the UV radiation. If cooling is desired, a flow of coolant (gas or liquid) can be passed through the inner tube.
  • a flow of coolant gas or liquid
  • the outer tubes are advantageously arranged in groove-shaped semi-cylindrical recesses in a support body made of an electrically insulating, but good heat-conducting material.
  • a support body made of an electrically insulating, but good heat-conducting material.
  • Such materials are available on a ceramic basis, for example aluminum nitride (AlN) or beryllium oxide (BeO) as well as on a plastic basis (casting compounds for transformers and electrical circuits). With less extreme requirements more common materials such as aluminum oxide (Al2O3), glass ceramics or heat-resistant plastics such as polytetrafluoroethylene are also suitable.
  • the supporting body and thus the outer pipes for example by providing cooling channels running in the longitudinal direction of the pipe in the supporting body.
  • the reflectivity of the semi-cylindrical recesses in the supporting body can be improved by a metallic mirror coating, for example an aluminum layer with a protective layer of magnesium fluoride (MgF2).
  • MgF2 magnesium fluoride
  • UV treatment in the absence of air is indicated.
  • the first reason is when the radiation is so short-wave that it is absorbed by air and thus weakened (wavelengths ⁇ 190 nm). This radiation leads to oxygen splitting and thus to undesired ozone formation.
  • the second reason is when the intended photochemical effect of UV radiation is hindered by the presence of oxygen (oxygen inhibition). This occurs, for example, in the photo crosslinking (UV polymerization, UV drying) of paints and inks.
  • an inner quartz tube 2 is arranged coaxially in an outer quartz tube 1 with a wall thickness of approximately 0.5 to 1.5 mm and an outer diameter of approximately 20 to 30 mm.
  • the inner surface of the inner quartz tube 2 is provided with an inner electrode 3, which is produced for example by coating with aluminum.
  • An outer electrode 4 in the form of a narrow strip of wire mesh extends only over a small part of the circumference of the outer quartz tube 1.
  • the quartz tubes 1 and 2 are closed at both ends.
  • the space between the two tubes 1 and 2, the discharge space 5, is filled with a gas / gas mixture which emits radiation under discharge conditions.
  • the two electrodes 3, 4 are connected to the two poles of an alternating current source 6.
  • the AC power source basically corresponds to those used to feed ozone generators.
  • the fill gas is e.g. Mercury, noble gas, noble gas-metal vapor mixture, noble gas-halogen mixture, optionally using an additional further noble gas, preferably Ar, He, Ne, as a buffer gas.
  • the electron energy distribution can be optimally adjusted by the thickness of the dielectrics and their properties, pressure and / or temperature in the discharge space.
  • two narrow outer electrodes 4a and 4b (FIG. 1b) spaced apart from one another or a wider wire mesh that extends approximately over a sixth of the tube circumference (FIG. 1c) can also be used.
  • a perforated metal foil or a UV-transparent, electrically conductive covering can also be used.
  • a transparent electrolyte can also be used.
  • three dielectric tubes 1 with internal dielectric tubes 2 provided with internal electrodes 3 are immersed in a quartz vessel 8 filled with water 4 '.
  • the size of the ignited segment can be varied via the immersion depth t.
  • an additional optical filter effect can be achieved: for example, water very effectively blocks any infrared radiation from the discharge. This is particularly important when irradiating very temperature-sensitive substances.
  • FIG. 3 illustrates the manner in which a plurality of cylinder radiators according to FIG. 1c can be combined to form a surface radiator.
  • the grooves 10 are adapted to the outer quartz tubes 1 and by coating with a UV-reflecting material, for example aluminum, which is provided with a protective layer of MgF2. Additional bores 11, which run in the direction of the tubes 1, serve to cool the individual radiators.
  • single emitters can be combined with different gas fillings and thus different (UV) wavelengths.
  • the support body 9 does not necessarily have to be plate-shaped. It can also have a hollow cylindrical cross section with axially parallel grooves distributed regularly over its inner circumference, into each of which a radiator element according to FIGS. 1a to 1c is inserted analogously to FIG. 7 or FIG. 8 of the patent application ER 90103082.5 mentioned at the beginning.
  • the radiation device according to FIG. 4 basically corresponds to that according to FIG. 3. with additional channels 12 running in the longitudinal direction of the support body 9. These channels are connected to the outer space 13 via a large number of bores or slots 14 in the support body 9.
  • the channels 12 are connected to an inert gas source, not shown, for example nitrogen or argon source.
  • the pressurized inert gas reaches the treatment room 13 from the channels 12 in the manner described.
  • FIG. 4 shows a particularly simple and economical design for the outer electrode.
  • This outer electrode is common to all emitters. It consists of a continuous wire mesh or wire mesh 15 with in Pipe longitudinal direction extending semicircular bulges that nestle against the outer quartz tubes 1.

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
  • Superconductors And Manufacturing Methods Therefor (AREA)
  • Lasers (AREA)

Abstract

Um bei UV-Hochleistungs-Rundstrahlern die erzeugte Strahlung nur in einer Vorzugsrichtung richten zu können und die Abschattung durch das innere Dielektrikumsrohr (2) zu vermeiden, sind die Aussenelektroden (4) nur auf einem Teil des Umfangs der äusseren Dielektrikumsrohre (1) angeordnet. Auf diese Weise kann das zu bestrahlenden Objekt bzw. die zu bestrahlende Substanz somit direkt im Abstrahlbereich der Entladungen (7) angeordnet werden. <IMAGE>

Description

    Technisches Gebiet
  • Die Erfindung bezieht sich auf einen Hochleistungsstrahler, insbesondere für ultraviolettes Licht, mit einem mit unter Entladungsbedingungen Strahlung aussendendem Füllgas gefüllten Entladungsraum, dessen Wandungen durch ein äusseres und ein inneres rohrförmiges Dielektrikum gebildet sind, welche jeweils auf den dem Entladungsraum abgewandten Oberflächen mit einer inneren und einer äusseren Elektrode versehen sind, und mit einer an diese Elektroden angeschlossenen Wechselstromquelle zur Speisung der Entladung.
  • Die Erfindung nimmt dabei Bezug auf einen Stand der Technik, wie er sich etwa aus der EP-A 0 254 111, der US-Patentanmeldung 07/485544 vom 27.02.1990 oder auch der EP-Patentanmeldung 90103082.5 vom 17.02.1990 ergibt.
  • Technologischer Hintergrund und Stand der Technik
  • Der industrielle Einsatz photochemischer Verfahren hängt stark von der der Verfügbarkeit geeigneter UV-Quellen ab. Die klassischen UV-Strahler liefern niedrige bis mittlere UV-Intensitäten bei einigen diskreten Wellenlängen, wie z.B. die Quecksilber-Niederdrucklampen bei 185 nm und insbesondere bei 254 nm. Wirklich hohe UV-Leistungen erhält man nur aus Hochdrucklampen (Xe, Hg), die dann aber ihre Strahlung über einen grösseren Wellenlängenbereich verteilen. Die neuen Excimer-Laser haben einige neue Wellenlängen für photochemische Grundlagenexperimente bereitgestellt, sind z.Zt. aus Kostengründen für einen industriellen Prozess wohl nur in Ausnahmefällen geeignet.
  • In der eingangs genannten EP-Patentanmeldung oder auch in dem Konferenzdruck "Neue UV- und VUV Excimerstrahler" von U. Kogelschatz und B. Eliasson, verteilt an der 10. Vortragstagung der Gesellschaft Deutscher Chemiker, Fachgruppe Photochemie, in Würzburg (BRD) 18.-20. November 1987, wird ein neuer Excimerstrahler beschrieben. Dieser neue Strahlertyp basiert auf der Grundlage, dass man Excimerstrahlung auch in stillen elektrischen Entladungen erzeugen kann, einem Entladungstyp, der in der Ozonerzeugung grosstechnisch eingesetzt wird. In den nur kurzzeitig (< 1 Mikrosekunde) vorhandenen Stromfilamenten dieser Entladung werden durch Elektronenstoss Edelgasatome angeregt, die zu angeregten Molekülkomplexen (Excimeren) weiterreagieren. Diese Excimere leben nur einige 100 Nanosekunden und geben beim Zerfall ihre Bindungsenergie in Form von UV-Strahlung ab.
  • Der Aufbau eines derartigen Excimerstrahlers entspricht weitgehend dem eines klassichen Ozonerzeugers, mit dem wesentlichen Unterschied, dass mindestens eine der den Entladungsraum begrenzenden Elektroden und/oder Dielektrikumsschichten für die erzeugte Strahlung durchlässig ist.
  • Die genannten Hochleistungsstrahler zeichnen sich durch hohe Effizienz, wirtschaftlichen Aufbau aus und ermöglichen die Schaffung grosser Flächenstrahler, mit der Einschränkung, dass grossflächige Flachstrahler einen eher grossen technischen Aufwand erfordern. Bei den bekannten Zylinderstrahlern hingegen wird ein nicht unbeachtlicher Anteil der Strahlung durch Schattenwirkung der Innenelektrode nicht ausgenützt. Um nun bei Zylinder-Strahlern die Ausbeute zu erhöhen, sind bei den Strahlern in der eingangsgenannten EP-Patentanmeldung 90103082.5 die inneren Dielektrikumsrohre im Vergleich zum den äusseren Dielektrikumsrohren sehr klein. Durch exzentrische Anordnung der inneren Dielektrika mit im Vergleich zum Durchmesser der äusseren Dielektrika kleinem Durchmesser und äusseren Elektroden nur auf der dem inneren Dielektrikum benachbarten Oberfläche und gleichzeitige Ausbildung der äusseren Elektrode als Reflektor wird eine Vorzugsrichtung der Abstrahlung erzielt.
  • Darstellung der Erfindung
  • Ausgehend vom Stand der Technik liegt der Erfindung die Aufgabe zugrunde, einen Hochleistungsstrahler, insbesondere für UV- oder VUV-Strahlung, zu schaffen, der sich insbesondere durch hohe Effizienz auszeichnet, wirtschaftlich zu fertigen ist, den Aufbau sehr grosser Flächenstrahler ermöglicht und bei dem die UV-Strahlung gezielt auf einen in weiten Grenzen wählbaren Abstrahlwinkel konzentriert werden kann und die Innenelektrode keinen Schatten mehr werfen kann.
  • Zur Lösung dieser Aufgabe ist bei einem Hochleistungsstrahler der eingangs genannten Gattung erfindungsgemäss vorgesehen, dass die äussere Elektrode sich nur über einen Bruchteil des Aussenumfangs des äusseren Dielektrikumsrohrs erstreckt, derart, dass sich sich Entladungen nur in einem im wesentlichen durch die äussere Elektrode definiertem Entladungssegment ausbilden.
  • Auf diese Weise kann die Strahlung in eine definierte Richtung ausgekoppelt werden, was insbesondere bei der Bestrahlung von ebenen oder gekrümmten Oberflächen vorteilhaft ist, da sich die elektrischen Entladungen nur auf der dem zu bestrahlenden Gut zugewandten Oberfläche ausbilden können. Als Aussenelektroden können neben den schon in der einschlägigen Literatur beschriebenen Drahtnetzen oder Drahtgeflechten auch elektrisch leitende, UV-transparente Beschichtungen, z.B. aus Leitlack oder dünnen Metallfilmen, dienen.
    Auch ist es möglich, die Aussenelektrode in flüssiger Form auszubilden, indem das äussere Rohr nur teilweise in einen transparenten Elektrolyten, vorzugsweise Wasser, eintaucht. Diese Anordnung eignet sich insbesondere zur Bestrahlung temperaturempfindlicher Substanzen (z.B. Verkleben von LCD-Zellen, Bestrahlung dünner Folien), weil Wasser sehr effektiv eventuell vorhandene Infrarot-Strahlung aus der Entladung blockiert.
    Der Elektrolyt kann über einen Thermostaten umgewalzt und auf diese Weise auf konstanter niedriger Temperatur gehalten werden. Durch geeignete Auswahl des Elektrolyten kann zusätzlich eine optische Filterwirkung erreicht werden. Darüber hinaus kann über die Eintauchtiefe des äusseren Rohres im Elektrolyten der Winkelbereich des gezündeten Segments verändert werden.
  • Die Innenelektrode ist vorzugsweise klassisch aufgebaut, d.h. besteht aus einer auf die Innenfläche des inneren Dielektrikumsrohres aufgebrachten Metallbelegung, z.B. Aluminium-Bedampfung. Auf diese Weise wirkt die Innenelektrode gleichzeitig als Reflektor für die UV-Strahlung. Falls eine Kühlung erwünscht wird, kann ein Kühlmittelstrom (Gas oder Flüssigkeit) durch das innere Rohr geführt werden.
  • Man kann leicht mehrere solcher Strahler zu Blöcken kombinieren, die zur Bestrahlung grosser Flächen geeignet sind. Vorteilhaft ordnet man zu diesem Zweck die äusseren Rohre in rillenförmigen halbzylindrischen Aussparungen in einem Tragkörper aus einem elektrisch isolierenden, jedoch gut wärmeleitendem Material an. Solche Materialen gibt es auf Keramik-Basis, z.B. Aluminiumnitrid (AlN) oder Berylliumoxid (BeO) als auch auf Kunststoff-Basis (Vergussmassen für Transformatoren und elektrische Schaltungen). Bei weniger extremen Anforderungen kommen auch gebräuchlichere Materialien wie Alumniumoxid (Al₂O₃), Glaskeramik oder hitzebeständige Kunststoffe wie Polytetrafluoräthylen, in Frage. Bei höheren Leistungen ist es möglich, den Tragkörper und damit die äusseren Rohre zu kühlen, z.B. indem man in Rohrlängsrichtung verlaufende Kühlkanäle im Tragkörper vorsieht.
    Das Relexionsvermögen der halbzylindrischen Ausnehmungen im Tragkörper kann durch eine metallische Verspiegelung, z.B. eine Aluminiumschicht mit darüberliegender Schutzschicht aus Magnesiumfluorid (MgF₂), verbessern. Es kann sich aber auch als vorteilhaft erweisen, eine diffus reflektierende Schicht aufzubringen, wie sie in der Radiometrie in sogenannten Ulbricht-Kugel verwendet wird. In diesem Fall würde man eine Schicht aus Magnesiumoxid (MgO)oder Bariumsulfat (BaSO₄) verwenden.
  • Bei der UV-Behandlung von Oberflächen und der Aushärtung von UV-Farben und UV-Lacken ist es in bestimmten Fällen von Vorteil, nicht in Luft zu arbeiten. Es gibt mindestens zwei Gründe, die eine UV-Behandlung unter Ausschluss von Luft angezeigt erscheinen lassen. Der erste Grund liegt vor, wenn die Strahlung so kurzwellig ist, dass sie von Luft absorbiert und damit abgeschwächt wird (Wellenlängen < 190 nm). Diese Strahlung führt zur Sauerstoffspaltung und damit zur unerwünschten Ozonbildung. Der zweite Grund liegt vor, wenn die beabsichtigte photochemische Wirkung der UV-Strahlung durch die Anwesenheit von Sauerstoff behindert wird (oxygen inhibition). Dieser Fall tritt z.B. bei der Photovernetzung (UV-Polymerisation, UV-Trockung) von Lacken und Farben auf. Diese Vorgänge sind an sich bekannt und beispielsweise im Buch "U.V.and E.B. Curing Formulation for Printing Ink, Coatings and Paints", herausgegeben 1988 von SITA-Technology, 203 Gardiner House, Broomhill Road, London SW18, Seiten 89 - 91, beschrieben. In diesen Fällen ist vorgesehen, Mittel zur Spülung des Behandlungsraums mit einem inerten UV-transparenten Gas wie z.B. Stickstoff oder Argon vorzusehen. Insbesondere bei Konfigurationen, bei denen die ersten Rohre in einem mit Rillen versehenen Tragkörper angeordnet sind, lässt sich eine derartige Spülung ohne grossen technischen Aufwand verwirklichen, z.B. durch zusätzliche von einer Inertgasquelle gespeiste und gegen den Entladungsraum offene Kanäle. Das durch besagte Kanäle geleitete Inertgas kann darüber hinaus zur Kühlung des Strahlers herangezogen werden, so dass bei manchen Anwendungen auf separate Kühlkanäle verzichtet werden kann.
  • Kurze Beschreibung der Zeichnungen
  • In der Zeichnung sind Ausführungsbeispiele der Erfindung schematisch dargestellt; darin zeigt
  • Fig.1
    Ein erstes Ausführungsbeispiel eines Zylinderstrahlers mit konzentrischer Anordnung des inneren Dielektrikumsrohres im Querschnitt mit verschiedenen Elektrodenanordnungen auf dem äusseren Dielektrikumsrohr;
    Fig.2
    einen UV-Strahler mit einer Aussenelektrode in flüssiger Form;
    Fig. 3
    eine Ausführungsform einer Bestrahlungseinrichtung mit drei nebeneinanderliegenden Zylinderstrahlern gemäss Fig.1c, welche auf einem Tragkörper aus Isoliermaterial angeordnet sind;
    Fig.4
    eine Ausführungsform einer Bestrahlungseinrichtung analog Fig. 3, jedoch mit einer die gesamte freie Oberfläche der äusseren Dielektrikumsrohre überdeckenden Aussenelektrode.
    Wege zur Ausführung der Erfindung
  • In Fig.1a bis 1c ist in einem äusseren Quarzrohr 1 mit einer Wandstärke von etwa 0,5 bis 1,5 mm und einem Aussendurchmesser von etwa 20 bis 30 mm ein inneres Quarzrohr 2 koaxial angeordnet. Die Innenfläche des inneren Quarzrohrs 2 ist mit einer Innenelektrode 3 versehen, die beispielsweise durch Beschichten mit Aluminium hergestellt ist. Eine Aussenelektrode 4 in Form eines schmalen Streifens aus Drahtnetz erstreckt sich nur über einen kleinen Teil des Umfangs des äusseres Quarzrohrs 1. Die Quarzrohre 1 und 2 sind an beiden Enden verschlossen. Der Raum zwischen den beiden Rohren 1 und 2, der Entladungsraum 5, ist mit einem unter Entladungsbedingungen Strahlung aussendendem Gas/Gasgemisch gefüllt. Die beiden Elektroden 3,4 sind mit den beiden Polen einer Wechselstromquelle 6 verbunden. Die Wechselstromquelle entspricht grundsätzlich jenen, wie sie zur Anspeisung von Ozonerzeugern verwendet werden. Typisch liefert sie eine einstellbare Wechselspannung in der Grössenordnung von mehreren 100 Volt bis 20000 Volt bei Frequenzen im Bereich des technischen Wechselstroms bis hin zu einigen 1000 kHz - abhängig von der Elektrodengeometrie, Druck im Entladungsraum und Zusammensetzung des Füllgases.
  • Das Füllgas ist, z.B. Quecksilber, Edelgas, Edelgas-Metalldampf-Gemisch, Edelgas-Halogen-Gemisch, gegebenenfalls unter Verwendung eines zusätzlichen weiteren Edelgases, vorzugsweise Ar, He, Ne, als Puffergas.
  • Je nach gewünschter spektraler Zusammensetzung der Strahlung kann dabei eine Substanz/Substanzgemisch gemäss nachfolgender Tabelle Verwendung finden:
    Figure imgb0001
  • Daneben kommen eine ganze Reihe weiterer Füllgase in Frage:
    • Ein Edelgas (Ar, He, Kr, Ne, Xe) oder Hg mit einem Gas bzw. Dampf aus F₂, J₂, Br₂, Cl₂ oder eine Verbindung die in der Entladung ein oder mehrere Atome F, J, Br oder Cl abspaltet;
    • ein Edelgas (Ar, He, Kr, Ne, Xe) oder Hg mit O₂ oder einer Verbindung, die in der Entladung ein oder mehrere 0-Atome abspaltet;
    • ein Edelgas (Ar, He, Kr, Ne, Xe) mit Hg.
  • In der sich bildenden stillen elektrischen Entladung (silent discharge) kann die Elektronenenergieverteilung durch Dicke der Dielektrika und deren Eigenschaften Druck und/oder Temperatur im Entladungsraum optimal eingestellt werden.
  • Bei Anliegen einer Wechselspannung zwischen den Elektroden 3 und 4 bildet sich eine Vielzahl von Entladungskanälen 7 (Teilentladungen) im Entladungsraum 5 aus. Diese treten mit den Atomen/Molekülen des Füllgases in Wechselwirkung, was schlussendlich zur UV oder VUV-Strahlung führt.
  • Anstelle eines schmalen Drahtnetzes als Aussenlektrode 4 können auch zwei voneinander distanzierte schmale Aussenelektroden 4a und 4b (Fig.1b) oder ein breiteres Drahtnetz, das sich etwa über ein Sechstel des Rohrumfangs erstreckt (Fig.1c), verwendet werden. Statt eines Drahtnetzes kann auch eine perforierte Metallfolie oder ein UV-transparenter, elektrisch leitfähiger Belag benutzt werden.
    Neben den vorstehend genannten festen Aussenelektroden kann auch ein transparenter Elektrolyt verwendet werden. In der Ausführungsform nach Fig.2 tauchen drei Dielektrikumsrohre 1 mit innenliegenden mit Innenelektroden 3 versehenen inneren Dielektrikumsrohren 2 in ein mit Wasser 4' gefülltes Quarzgefäss 8 ein. Ueber die Eintauchtiefe t kann die Grösse des gezündeten Segments variiert werden. Durch entsprechende Auswahl des Elektrolyten kann darüber hinaus eine zusätzliche optische Filterwirkung erreicht werden: so blockiert z.B. Wasser sehr effektiv eventuell vorhandene Infrarotstrahlung aus der Entladung. Dies ist insbesondere bei der Bestrahlung sehr temperaturempfindlicher Substanzen von Wichtigkeit.
  • In Fig.3 ist veranschaulicht, auf welche Weise eine Mehrzahl von Zylinderstrahlern gemäss Fig.1c zu einem Flächenstrahler zusammengefasst werden können. Ein Tragkörper 9 aus einem elektrisch isolierendem Material, jedoch mit guter thermischer Leitfähigkeit, z.B. auf Keramik-Basis, ist zu diesem Zweck mit einer parallelen Rillen 10 mit halbkreisförmigem Querschnitt versehen, die um mehr als einen Aussenrohrdurchmesser voneinander beabstandet sind. Die Rillen 10 sind den äusseren Quarzrohren 1 angepasst und durch Beschichten mit einem UV-reflektierenden Material, z.B. Aluminium, das mit einer Schutzschicht aus MgF₂ versehen ist. Zusätzlichen Bohrungen 11, die in Richtung der Rohre 1 verlaufen, dienen der Kühlung der Einzelstrahler.
  • Für spezielle Anwendungen kann man Einzelstrahler mit verschiedenen Gasfüllungen und damit verschiedenen (UV-)Wellenlängen kombinieren.
  • Der Tragkörper 9 muss nicht unbedingt plattenförmig ausgebildet sein. Er kann auch einen hohlzylindrischen Querschnitt mit regelmässig über seinen Innenumfang verteilten achsparallelen Rillen aufweisen, in welche jeweils ein Strahlerelement nach Fig.1a bis 1c eingelegt ist analog zu Fig.7 oder Fig.8 der eingangs genannten Patentanmeldung ER 90103082.5.
  • Die Bestrahlungseinrichtung gemäss Fig.4 entspricht grundsätzlich derjenigen nach Fig.3. mit zusätzlichen in Längsrichtung des Tragkörpers 9 verlaufenden Kanälen 12. Diese Kanäle stehen mit dem Aussenraum 13 über eine Vielzahl von Bohrungen oder Schlitze 14 im Tragkörper 9 in Verbindung.Die Kanäle 12 sind an eine nicht dargestellte Inertgasquelle, z.B. Stickstoff- oder Argonquelle angeschlossen. Von den Kanälen 12 gelangt das unter Druck stehende Inertgas auf dem beschriebenen Wege in den Behandlungsraum 13. Zusätzlich ist in Fig.4 eine besonders einfache und wirtschaftliche Ausführung für die Aussenelektrode veranschaulicht. Diese Aussenelektrode ist allen Strahlern gemeinsam. Sie besteht aus einem durchgehenden Drahtnetz oder Drahtgeflecht 15 mit in Rohrlängsrichtung verlaufenden halbkreisförmigen Ausbuchtungen, die sich an die äusseren Quarzrohre 1 anschmiegen.

Claims (10)

  1. Hochleistungsstrahler, insbesondere für ultraviolettes Licht, mit einem mit unter Entladungsbedingungen Strahlung aussendendem Füllgas gefüllten Entladungsraum (5), dessen Wandungen durch ein erstes (1) und zweites rohrförmiges Dielektrikum (2) gebildet sind, welche jeweils auf den dem Entladungsraum (5) abgewandten Oberflächen mit einer äusseren (4) und einer inneren Elektroden (3) versehen ist, und mit einer an diese Elektroden angeschlossenen Wechselstromquelle (6) zur Speisung der Entladung, dadurch gekennzeichnet, dass die äussere Elektrode (4;4a,4b;4';15) sich nur über einen Bruchteil des Umfangs des ersten Dielektrikumsrohrs (1) erstreckt, derart, dass sich sich Entladungen (7) nur in einem im wesentlichen durch die äussere Elektrode (4) definiertem Entladungssegment ausbilden.
  2. Hochleistungsstrahler nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die äusseren Elektrode(n) sich streifenförmig in Rohrlängsrichtung erstrecken.
  3. Hochleistungsstrahler nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die äussere Elektrode durch einen Elektrolyten (4') gebildet ist, in welchen das bzw. die äussere(n) Dielektrikumsrohr(e) höchstens teilweise eintauchen.
  4. Hochleistungsstrahler nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, dass die Grösse des wirksamen abstrahlenden Segments durch die Eintauchtiefe (t) des äusseren äusseren Dielektrikumsrohrs (1) in Elektrolyten (4') einstellbar ist.
  5. Hochleistungsstrahler nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, dass die äusseren Rohre (1) teilweise in Materialausnehmungen (10) in einem Tragkörper (9) aus thermisch gutleitendem Isoliermaterial angeordnet sind.
  6. Hochleistungsstrahler nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, dass im Tragkörper (9) Kühlbohrungen (11) vorgesehen sind, welche die Materialausnehmungen (10) nicht anschneiden.
  7. Hochleistungsstrahler nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, dass der Querschnitt der Materialausnehmungen (9) dem Aussendurchmesser der äusseren Rohre (1) angepasst sind und die Ausnehmungswandungen als UV-Reflektoren ausgebildet sind.
  8. Hochleistungsstrahler nach einem der Ansprüche 5 bis 7, dadurch gekennzeichnet, dass Mittel (11,14) zur Zuführung von Inertgas in den Raum (13) ausserhalb der äusseren Rohre (1) vorgesehen sind.
  9. Hochleistungsstrahler nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, dass im Tragkörper Kanäle (12) vorgesehen sind, welche unmittelbar oder mittelbar mit dem besagten Raum (13) in Verbindung stehen, durch welche Kanäle (12) ein Inertgas, vorzugsweise Stickstoff oder Argon, zuführbar ist.
  10. Hochleistungsstrahler nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, dass die Kanäle (12) jeweils zwischen benachbarten Dielektrikumsrohren (1) angeordnet sind und über Bohrungen oder Schlitze (14) mit dem besagten Raum in Verbindung stehen.
EP91107572A 1990-05-22 1991-05-10 Hochleistungsstrahler Expired - Lifetime EP0458140B1 (de)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CH1738/90A CH680099A5 (de) 1990-05-22 1990-05-22
CH1738/90 1990-05-22

Publications (2)

Publication Number Publication Date
EP0458140A1 true EP0458140A1 (de) 1991-11-27
EP0458140B1 EP0458140B1 (de) 1995-09-06

Family

ID=4217429

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
EP91107572A Expired - Lifetime EP0458140B1 (de) 1990-05-22 1991-05-10 Hochleistungsstrahler

Country Status (6)

Country Link
US (1) US5214344A (de)
EP (1) EP0458140B1 (de)
JP (1) JPH04229671A (de)
AT (1) ATE127617T1 (de)
CH (1) CH680099A5 (de)
DE (1) DE59106397D1 (de)

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0547366A1 (de) * 1991-12-09 1993-06-23 Heraeus Noblelight GmbH Hochleistungsstrahler
DE4302555A1 (de) * 1992-01-29 1993-09-30 Fusion Systems Corp Excimerlampe mit einer Hochdruckfüllung
EP0703602A1 (de) * 1994-09-20 1996-03-27 Ushiodenki Kabushiki Kaisha Lichtquellen-Vorrichtung mit einer Dielektrikumbegrenzter Entladungslampe
US5666026A (en) * 1994-09-20 1997-09-09 Ushiodenki Kabushiki Kaisha Dielectric barrier discharge lamp
EP0831517A3 (de) * 1996-09-20 1998-08-26 Ushiodenki Kabushiki Kaisha Dielektrikumbegrenzte Entladungslampe
EP1519407A3 (de) * 2003-08-06 2007-08-15 Patent-Treuhand-Gesellschaft für elektrische Glühlampen mbH UV-Strahler mit rohrförmigem Entladungsgefäss
DE102012219064A1 (de) 2012-10-19 2014-04-24 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. UV-Lichtquelle mit kombinierter Ionisation und Bildung von Excimern
DE102014207690A1 (de) 2014-04-24 2015-10-29 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Vorrichtung zur photochemischen Behandlung oder Reinigung eines flüssigen Mediums
DE102014207688A1 (de) 2014-04-24 2015-10-29 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Vorrichtung zur photochemischen Behandlung von verunreinigtem Wasser

Families Citing this family (43)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5645964A (en) 1993-08-05 1997-07-08 Kimberly-Clark Corporation Digital information recording media and method of using same
US6211383B1 (en) 1993-08-05 2001-04-03 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Nohr-McDonald elimination reaction
US5865471A (en) 1993-08-05 1999-02-02 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Photo-erasable data processing forms
US5681380A (en) 1995-06-05 1997-10-28 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Ink for ink jet printers
US6017471A (en) 1993-08-05 2000-01-25 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Colorants and colorant modifiers
US6017661A (en) 1994-11-09 2000-01-25 Kimberly-Clark Corporation Temporary marking using photoerasable colorants
US5733693A (en) 1993-08-05 1998-03-31 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Method for improving the readability of data processing forms
US6242057B1 (en) 1994-06-30 2001-06-05 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Photoreactor composition and applications therefor
US5685754A (en) 1994-06-30 1997-11-11 Kimberly-Clark Corporation Method of generating a reactive species and polymer coating applications therefor
DE4430300C1 (de) * 1994-08-26 1995-12-21 Abb Research Ltd Excimerstrahler und dessen Verwendung
US5786132A (en) 1995-06-05 1998-07-28 Kimberly-Clark Corporation Pre-dyes, mutable dye compositions, and methods of developing a color
BR9608367A (pt) 1995-06-05 1998-08-18 Kimberly Clark Co Pré-corantes novos
CA2221565A1 (en) 1995-06-28 1997-01-16 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Novel colorants and colorant modifiers
JPH10513502A (ja) 1995-11-28 1998-12-22 キンバリー クラーク ワールドワイド インコーポレイテッド 改良された着色剤安定剤
US5855655A (en) 1996-03-29 1999-01-05 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Colorant stabilizers
US5782963A (en) 1996-03-29 1998-07-21 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Colorant stabilizers
US6099628A (en) 1996-03-29 2000-08-08 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Colorant stabilizers
US5891229A (en) 1996-03-29 1999-04-06 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Colorant stabilizers
US6524379B2 (en) 1997-08-15 2003-02-25 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Colorants, colorant stabilizers, ink compositions, and improved methods of making the same
US6015759A (en) * 1997-12-08 2000-01-18 Quester Technology, Inc. Surface modification of semiconductors using electromagnetic radiation
US6049086A (en) * 1998-02-12 2000-04-11 Quester Technology, Inc. Large area silent discharge excitation radiator
JP3521731B2 (ja) 1998-02-13 2004-04-19 ウシオ電機株式会社 誘電体バリア放電ランプ光源装置
US5993278A (en) * 1998-02-27 1999-11-30 The Regents Of The University Of California Passivation of quartz for halogen-containing light sources
PL342006A1 (en) 1998-06-03 2001-05-07 Kimberly Clark Co Neonanoplasts and method of obtaining microemulsions for printing inks being applied by spraying
SK1552000A3 (en) 1998-06-03 2000-08-14 Kimberly Clark Co Novel photoinitiators and applications therefor
EP1100852A1 (de) 1998-07-20 2001-05-23 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Verbesserte tintenstrahldrucktinten-zusammensetzungen
JP3346291B2 (ja) * 1998-07-31 2002-11-18 ウシオ電機株式会社 誘電体バリア放電ランプ、および照射装置
DE69930948T2 (de) 1998-09-28 2006-09-07 Kimberly-Clark Worldwide, Inc., Neenah Chelate mit chinoiden gruppen als photoinitiatoren
KR100797904B1 (ko) * 1998-12-28 2008-01-24 가부시키가이샤 지에스 유아사 코포레이션 무성방전등 및 그의 사용방법
US6368396B1 (en) 1999-01-19 2002-04-09 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Colorants, colorant stabilizers, ink compositions, and improved methods of making the same
US6331056B1 (en) 1999-02-25 2001-12-18 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Printing apparatus and applications therefor
US6294698B1 (en) 1999-04-16 2001-09-25 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Photoinitiators and applications therefor
US6368395B1 (en) 1999-05-24 2002-04-09 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Subphthalocyanine colorants, ink compositions, and method of making the same
US6567023B1 (en) 1999-09-17 2003-05-20 Kabushiki Kaisha Toshiba Analog to digital to analog converter for multi-valued current data using internal binary voltage
DE10145648B4 (de) * 2001-09-15 2006-08-24 Arccure Technologies Gmbh Bestrahlungsvorrichtung mit veränderlichem Spektrum
US6971939B2 (en) * 2003-05-29 2005-12-06 Ushio America, Inc. Non-oxidizing electrode arrangement for excimer lamps
WO2005104184A1 (ja) * 2004-04-22 2005-11-03 Futaba Technology Corporation 紫外線照射装置
DE102004030803A1 (de) * 2004-06-25 2006-01-19 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Hochreflektiv beschichteter mikromechanischer Spiegel, Verfahren zu dessen Herstellung sowie dessen Verwendung
DE102004048005A1 (de) * 2004-10-01 2006-04-13 Dr. Hönle AG Gasentladungslampe, System und Verfahren zum Härten von durch UV-Licht härtbare Materialien sowie durch UV-Licht gehärtetes Material
US8022377B2 (en) * 2008-04-22 2011-09-20 Applied Materials, Inc. Method and apparatus for excimer curing
DE102010043215A1 (de) * 2010-11-02 2012-05-03 Osram Ag Strahler mit Sockel für die Bestrahlung von Oberflächen
US9722550B2 (en) 2014-04-22 2017-08-01 Hoon Ahn Power amplifying radiator (PAR)
US20170082302A1 (en) * 2015-09-22 2017-03-23 Ribe Jern Holding A/S Radiator with heat insulation plate and radiator arrangement

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4038577A (en) * 1969-04-28 1977-07-26 Owens-Illinois, Inc. Gas discharge display device having offset electrodes
EP0324953A1 (de) * 1988-01-15 1989-07-26 Heraeus Noblelight GmbH Hochleistungsstrahler
EP0385205A1 (de) * 1989-02-27 1990-09-05 Heraeus Noblelight GmbH Hochleistungsstrahler
EP0254111B1 (de) * 1986-07-22 1992-01-02 BBC Brown Boveri AG UV-Strahler

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63314753A (ja) * 1987-06-17 1988-12-22 Matsushita Electric Works Ltd 無電極放電灯

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4038577A (en) * 1969-04-28 1977-07-26 Owens-Illinois, Inc. Gas discharge display device having offset electrodes
EP0254111B1 (de) * 1986-07-22 1992-01-02 BBC Brown Boveri AG UV-Strahler
EP0324953A1 (de) * 1988-01-15 1989-07-26 Heraeus Noblelight GmbH Hochleistungsstrahler
EP0385205A1 (de) * 1989-02-27 1990-09-05 Heraeus Noblelight GmbH Hochleistungsstrahler

Cited By (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0547366A1 (de) * 1991-12-09 1993-06-23 Heraeus Noblelight GmbH Hochleistungsstrahler
DE4302555A1 (de) * 1992-01-29 1993-09-30 Fusion Systems Corp Excimerlampe mit einer Hochdruckfüllung
DE4302555C2 (de) * 1992-01-29 1998-07-09 Fusion Uv Sys Inc Elektrodenlose Entladungslampe
EP0703602A1 (de) * 1994-09-20 1996-03-27 Ushiodenki Kabushiki Kaisha Lichtquellen-Vorrichtung mit einer Dielektrikumbegrenzter Entladungslampe
US5666026A (en) * 1994-09-20 1997-09-09 Ushiodenki Kabushiki Kaisha Dielectric barrier discharge lamp
US5936358A (en) * 1996-09-20 1999-08-10 Ushiodenki Kabushiki Kaisha Dielectric barrier discharge device
EP0831517A3 (de) * 1996-09-20 1998-08-26 Ushiodenki Kabushiki Kaisha Dielektrikumbegrenzte Entladungslampe
EP1519407A3 (de) * 2003-08-06 2007-08-15 Patent-Treuhand-Gesellschaft für elektrische Glühlampen mbH UV-Strahler mit rohrförmigem Entladungsgefäss
DE102012219064A1 (de) 2012-10-19 2014-04-24 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. UV-Lichtquelle mit kombinierter Ionisation und Bildung von Excimern
US9718705B2 (en) 2012-10-19 2017-08-01 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. UV light source having combined ionization and formation of excimers
DE102014207690A1 (de) 2014-04-24 2015-10-29 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Vorrichtung zur photochemischen Behandlung oder Reinigung eines flüssigen Mediums
DE102014207688A1 (de) 2014-04-24 2015-10-29 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Vorrichtung zur photochemischen Behandlung von verunreinigtem Wasser
WO2015162264A1 (de) 2014-04-24 2015-10-29 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Vorrichtung zur photochemischen behandlung von verunreinigtem wasser
US10125032B2 (en) 2014-04-24 2018-11-13 Sico Technology Gmbh Device for the photochemical treatment or cleaning of a liquid medium

Also Published As

Publication number Publication date
CH680099A5 (de) 1992-06-15
EP0458140B1 (de) 1995-09-06
DE59106397D1 (de) 1995-10-12
ATE127617T1 (de) 1995-09-15
US5214344A (en) 1993-05-25
JPH04229671A (ja) 1992-08-19

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP0458140B1 (de) Hochleistungsstrahler
EP0385205B1 (de) Hochleistungsstrahler
EP0363832B1 (de) Hochleistungsstrahler
EP0254111B1 (de) UV-Strahler
DE4140497C2 (de) Hochleistungsstrahler
CH677557A5 (de)
EP0371304B1 (de) Hochleistungsstrahler
EP0482230B1 (de) Hochleistungsstrahler
DE4302555C2 (de) Elektrodenlose Entladungslampe
EP0449018A2 (de) Bestrahlungseinrichtung
DE69501196T3 (de) Lichtquellen-Vorrichtung mit einer Dielektrikumbegrenzter Entladungslampe
EP0509110B1 (de) Bestrahlungseinrichtung
EP0517929B1 (de) Bestrahlungseinrichtung mit einem Hochleistungsstrahler
EP0312732A1 (de) Hochleistungsstrahler
EP0578953A1 (de) Hochleistungsstrahler
DE2439961A1 (de) Vorrichtung und verfahren zur erzeugung von strahlung
EP0489184B1 (de) Hochleistungsstrahler
DE4010809A1 (de) Hochleistungsstrahler
DE2529005C3 (de) Niederdruck-Gasentladungslampe
DE3731168A1 (de) Vorrichtung zur erzeugung von kaltem plasma fuer wechselspannungsanregung im khz-bereich, vorzugsweise zur erzeugung von ozon, und verfahren zur herstellung der vorrichtung
DE4036122A1 (de) Koronaentladungs-lichtquellenzelle
DE4203345A1 (de) Hochleistungsstrahler
DE4235743A1 (de) Hochleistungsstrahler
DE2365909C2 (de) Gaslaser
EP0515711A1 (de) Hochleistungsstrahler

Legal Events

Date Code Title Description
PUAI Public reference made under article 153(3) epc to a published international application that has entered the european phase

Free format text: ORIGINAL CODE: 0009012

AK Designated contracting states

Kind code of ref document: A1

Designated state(s): AT BE CH DE FR GB LI NL

17P Request for examination filed

Effective date: 19920418

RAP1 Party data changed (applicant data changed or rights of an application transferred)

Owner name: HERAEUS NOBLELIGHT GMBH

17Q First examination report despatched

Effective date: 19950112

GRAA (expected) grant

Free format text: ORIGINAL CODE: 0009210

AK Designated contracting states

Kind code of ref document: B1

Designated state(s): AT BE CH DE FR GB LI NL

REF Corresponds to:

Ref document number: 127617

Country of ref document: AT

Date of ref document: 19950915

Kind code of ref document: T

REF Corresponds to:

Ref document number: 59106397

Country of ref document: DE

Date of ref document: 19951012

ET Fr: translation filed
GBT Gb: translation of ep patent filed (gb section 77(6)(a)/1977)

Effective date: 19951002

PGFP Annual fee paid to national office [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: AT

Payment date: 19960430

Year of fee payment: 6

PGFP Annual fee paid to national office [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: FR

Payment date: 19960531

Year of fee payment: 6

PGFP Annual fee paid to national office [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: BE

Payment date: 19960612

Year of fee payment: 6

PLBE No opposition filed within time limit

Free format text: ORIGINAL CODE: 0009261

STAA Information on the status of an ep patent application or granted ep patent

Free format text: STATUS: NO OPPOSITION FILED WITHIN TIME LIMIT

26N No opposition filed
PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: AT

Effective date: 19970510

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: BE

Effective date: 19970531

BERE Be: lapsed

Owner name: HERAEUS NOBLELIGHT G.M.B.H.

Effective date: 19970531

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: FR

Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES

Effective date: 19980130

REG Reference to a national code

Ref country code: FR

Ref legal event code: ST

PGFP Annual fee paid to national office [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: CH

Payment date: 19990817

Year of fee payment: 9

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: LI

Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES

Effective date: 20000531

Ref country code: CH

Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES

Effective date: 20000531

REG Reference to a national code

Ref country code: CH

Ref legal event code: PL

REG Reference to a national code

Ref country code: GB

Ref legal event code: IF02

PGFP Annual fee paid to national office [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: NL

Payment date: 20020430

Year of fee payment: 12

PGFP Annual fee paid to national office [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: GB

Payment date: 20020502

Year of fee payment: 12

PGFP Annual fee paid to national office [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: DE

Payment date: 20020511

Year of fee payment: 12

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: GB

Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES

Effective date: 20030510

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: NL

Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES

Effective date: 20031201

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: DE

Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES

Effective date: 20031202

GBPC Gb: european patent ceased through non-payment of renewal fee

Effective date: 20030510

NLV4 Nl: lapsed or anulled due to non-payment of the annual fee

Effective date: 20031201