DE892075C

DE892075C - Verfahren zum Herstellen von durchsichtigen Schichten mit hohem Brechungsindex

Info

Publication number: DE892075C
Application number: DENDAT892075D
Authority: DE
Inventors: München. In'h.: Optische Werke C. A. Steinheil Söhne G.m.b.H. München Dr. Karl Hammer
Publication date: 1953-08-20

Description

Es ist bekannt, durchsichtige Schichten aus hochbrechenden Stoffen auf Gläsern, Kunststoffen od. dgl. für verschiedene Zwecke, z. B. als 'teildurchlässige Spiegel, zu verwenden. Als solche Beläge wurden Schichten aus Zinksulfid, Antimonsulfid, Eisenoxyd, Titanoxyd und einigen anderen Oxyden empföhlen.
Das beständige Oxyd von Silicium, nämlich Si 02, hat einen Brechungsindex, der dem eines leichten Glases entspricht, und ist daher für die genannten Zwecke unbrauchbar. Eingehende Wersuche haben nun ergeben, da$ beim Aufdampfen von Si in Sauerstoff (im Vakuum ritz Sauerstoff als Restgas), überraschenderweise eine Schicht mit extrem anderen optischen Eigenschaften entsteht. Diese gemäß der Erfindung sich ergebende Schicht weist nämlich einen höheren Brechungsindex als die obengenannten Stoffe und verhältnismäßig geringe Absorption auf, die bedeutend kleiner als die Absorption von Si ist. Beispielsweise zeigten teildurchlässige Spiegel mit der neuen Schicht eine Maximalreflexion von 6o 0/a und eine Absorption von nur 8%. Die bisherigen höchst reflektierenden absorptionsarmen Schichten stellte man bekanntlich aus Antimons.ulfid her, das nur 52% maximale Reflexion ergab.
Die genannten Reflexionswerte gelten für Oberflächenspiegel. Werden die Schichten zwischen Gläsern eingekittet, z. B. in sogenannten Lichtteiluägskörperri, so sinkt die Reflexion beträchtlich ab. Man konnte daher mit keiner der bekannten absorptionsarmen Schichten Lichthalbierung erreichen. Mit der neuen Schicht ist dies jedoch möglich.
In der Abbildung ist im Schnitt ein Ausführungsbeispiel einer solchen auf Glas i, Kunstglas od. dgl., aufgedampften Schicht .2 wiedergegeben, die auch zwischen zwei Gläsern i und 3 als Lichtteilungsschicht eingekittet sein kann.

Claims

PATENTANSPRÜCHE: i. Verfahren zum Herstellen von durchsichtigen Schichten mit hohem Brechungsindex, dadurch gekennzeichnet, da$ Silicium im Vakuum mit einer Restatmosphäre von Sauerstoff auf eine Unterlage aufgedampft wird.
2. Die Verwendung einer nach dem Verfahren nach Anspruch i hergestellten Schicht zwischen Gläsern, Kunststoffen od. dgl., vorzugsweise zwischen den Deckschichten eingekittet, als Lichtteilungsschicht. Angezogene Druckschriften: Optik 3 (194$),' Heft 5/6, 495 bis' 498 ; Proc. of the Phys. SOC. 53 (1941), 05'8 biss 264; Chem. Zentralblatt 1943,:2. Halbjahr, iio3; französische Patentschrift Nr. 868 865.