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DE874181C - Verfahren zur Herstellung einer photoelektrisch wirksamen Verbindung - Google Patents

Verfahren zur Herstellung einer photoelektrisch wirksamen Verbindung

Info

Publication number
DE874181C
DE874181C DEP3160D DEP0003160D DE874181C DE 874181 C DE874181 C DE 874181C DE P3160 D DEP3160 D DE P3160D DE P0003160 D DEP0003160 D DE P0003160D DE 874181 C DE874181 C DE 874181C
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
sulfur
metal
crystals
pressure
selenium
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
DEP3160D
Other languages
English (en)
Inventor
Rudolf Dr Frerichs
Heinz Dr Schlegel
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Osram GmbH
Original Assignee
Patent Treuhand Gesellschaft fuer Elektrische Gluehlampen mbH
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Patent Treuhand Gesellschaft fuer Elektrische Gluehlampen mbH filed Critical Patent Treuhand Gesellschaft fuer Elektrische Gluehlampen mbH
Priority to DEP3160D priority Critical patent/DE874181C/de
Application granted granted Critical
Publication of DE874181C publication Critical patent/DE874181C/de
Expired legal-status Critical Current

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Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C30CRYSTAL GROWTH
    • C30BSINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
    • C30B1/00Single-crystal growth directly from the solid state
    • C30B1/02Single-crystal growth directly from the solid state by thermal treatment, e.g. strain annealing
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10FINORGANIC SEMICONDUCTOR DEVICES SENSITIVE TO INFRARED RADIATION, LIGHT, ELECTROMAGNETIC RADIATION OF SHORTER WAVELENGTH OR CORPUSCULAR RADIATION
    • H10F71/00Manufacture or treatment of devices covered by this subclass

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
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  • Materials Engineering (AREA)
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  • Thermal Sciences (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Formation Of Various Coating Films On Cathode Ray Tubes And Lamps (AREA)
  • Light Receiving Elements (AREA)

Description

  • Verfahren zur Herstellung einer photoelektrisch wirksamen Verbindung Natürliche Zinkblendekristalle sind bekanntlich photoelektrisch wirksam. Sie zeigen meist im Dunkeln einen sehr hohen elektrischen Widerstand, der sich bei Bestrahlung finit Licht von geeigneter Wellenlänge sehr stark vermindert, so daß diese Kristalle in Anordnungen nach Art der Selenzellen für photoelektrische Zwecke benutzt werden können.
  • Künstlich hergestellte Zinksulfidkristalle, die beispielsweise in besonders reiner Form als Zinksulfidleuchtstoffe Verwendung finden, sind jedoch vielfach nicht nur schlecht für photoelektrische Zwecke geeignet. Sie leiten bereits im Dunkeln beträchtlich, so daß (las Verhältnis des Hellstromes bei bestimmter l',elichtung zum Dunkelstrom, das ein Maß für die Brauchbarkeit einer derartigen photoelektrischen Widerstandszelle darstellt, zu klein ausfällt. Besonders ungünstig liegen in dieser Hinsicht die Verliä ltnisse bei Kadmiumsulfiden.
  • Nach neueren Untersuchungen dieser Erscheinungen beruht die nachteilige Dunkelleitfähigkeit, z. B. der Sulfidkristalle, die an sich im Dunkeln Isolatoren sein sollten, auf der Anwesenheit geringer Mengen der betreffenden Grundmetalle, also des Zinks bzw. des Kadmiums. Bei der üblichen Herstellung dieser Verbindungen, bei der eine Mischung der Ausgangsstoffe einer Glühbehandlung unterworfen wird. tritt nämlich eine teilweise Dissoziation der Verbindungen unter Metallabscheidung eine; dies. insbesondere dann, wenn zur Erzielung großer Kristalle hohe Glühtemperaturen von etw 120o° und darüber angewendetwerden. Die gleichenErscheinungentreten bei Verbindungen des Schwefels mit anderen Metallen und auch bei Seleniden und Tellur Iden beliebiger Metalle auf.
  • Die Erfindung bezweckt, diese bei der üblichen Glühbehandlung zur Herstellung der Verbindungen auftretende Dissoziation nachträglich wieder zu beseitigen, damit die Verbindungen, z. B. die Sulfidlcristalle, möglichst in der genauen stöchiometrischen Zusammensetzung erhalten werden. Bei den zu diesem Zweck angestellten Versuchen hat sich gezeigt, daß der spezifische Dunkelwiderstand geradezu ein Maß für die Abweichungen von den genauen stöchiometrischen Zusammensetzungen darstellt. Je sorgfältiger der Überschuß an Metallatomen beseitigt wird, desto geringer ist die Dunkelleitfähigkeit. Dieser schädliche Metallüberschuß ist naturgemäß außerordentlich klein. Er läßt sich z. B. kaum an der Körperfarbe der Verbindung feststellen. Auch werden die Lumineszenzeigenschaften dieser Verbindungen, die sich bekanntlich schon durch Verunreinigungen in der Größenordnung von 1o-6 merklich verändern, noch nicht durch einen Metallüberschuß beeinflußt, der die Verwendung dieser Stoffe als photoelektrisch wirksame Widerstände bereits unmöglich macht.
  • Eingehende Untersuchungen haben gezeigt, daß der Dunkelwiderstand der Kristalle einer bei Belichtung ihren elektrischen Widerstand ändernden chemischen. Verbindung eines Metalls mit einem der Elemente Schwefel, Selen oder Tellur sehr stark erhöht und damit eine hervorragende photoelektrische Wirksamkeit der Verbindung erreicht werden kann, wenn die durch Mischen der Ausgangsstoffe und Glühen hergestellte Verbindung, bei der die Metallkomponente im stöchiometrischen Überschuß vorhanden ist, nach der Erfindung zur Beseitigung des Metallüberschusses nachträglich noch in einem abgeschlossenen, druckbeständigen Gefäß in einem unter hohem Druck von mehr als 5 Atmosphären stehenden Dampf des nichtmetallischen Anteiles der chemischen Verbindung, also in Schwefel-, Selen- bzw. Tellurdampf, für kurze Zeit, in günstigen Fällen wenige Minuten, auf hohe Temperatur von etwa 8oo° erhitzt wird. Beispielsweise werden die nach üblichen Verfahren hergestellten Kristalle aus Zinksulfid unter Zusatz einer ausreichenden Schwefelmenge in einem abgeschlossenen, druckbeständigen Gefäß, vorzugsweise in einer starkwandigen Ouarzglasampulle, für kurze Zeit auf etwa 8oo° erhitzt, wobei der entstehende Schwefeldampf von hohem Druck unter Mitwirkung der hohen Temperatur zu einer-Bindung der freien, nachteilig' wirkenden Metallatome führt. In günstigen Fällen genügt schon eine Glühbehandlung von wenigen Minuten zur Erzielung eines sehr hohen _I@ruckwiderstandes und damit einer guten photoelektrischen Wirksamkeit der Verbindung.
  • Bei der Herstellung von Photowiderständen hat man bisher die genannten Verbindungen unter Schwefelzugabe lediglich in einem offenen Gefäß mit gegebenenfalls lose aufgesetztem Deckel, also bei etwa Atmosphärendruck, zur Erzielung einer geeigneten Kristallausbildung geglüht, wobei der entstehende Schwefeldampf zur Vermeidung einer Oxydation dient. Ein bei dem Verfahren nach der Erfindung erstrebter äußerst hoher Dunkelwiderstand ist dabei nicht zu erreichen. Es muß dazu wegen des großen Unterschiedes zwischen dem Dissoziationsdruck der Verbindung und dem Dampfdruck des Metalloids unbedingt ein v akuumclicht abgeschlossenes, druckbeständiges Gefäß vorgesehen und die Glühbehandlung der Kristalle bei einem sehr hohen, 5 Atmosphären übersteigendem Dampfdruck vorgenommen werden, um die gewünschte Gleichgewichtsreaktion herbeizuführen.
  • Auf einem ganz anderen Gebiet, nämlich bei der Herstellung von Gleichrichtern bzw. Detektoren, wo es auf die Erzeugung .dünner Sperrschichten mit Ventilwirkung ankommt, findet sich bereits die Angabe, daß feinpulverisierte Selenide, Telluride, Sulfide und Arsenide zuerst zu festen Körpern gepreßt und diese Pulverpreßlinge dann zur Verbesserung ihrer Gleichrichtereigenschaften in einem geschlossenen Gefäß in Schwefelhochdruckdampf geglüht werden sollen. Es wird dabei bemerkt, daß ein Druck von 2 oder mehr Atmosphären angewendet werden kann, daß aber so hohe Drücke nicht notwendig sind, und daß beispielsweise bei Bleisulfid ausgezeichnete Ergebnisse bei Atmosphärendruck erzielt werden können. Derart behandelte Detektorpreßkörper aus feinpulverisierten Stoffen zeigen jedoch keine brauchbaren photoelektrischen Widerstandseigenschaften, die eine bestimmte Kristallisation des Ausgangspulvers voraussetzen.
  • Bekannt sind physikalische Untersuchungen über die Elektronenwanderung in durch Überschuß einer Komponente gefärbten Alkali-Halogenid-Kristallen, wobei man durch Glühen von Kaliumjodid-Kristallen in einer Jodatmosphäre von hohem Druck, etwa to at., einen starken Einbau von Jod unter auffallender Braunverfärbung der Kristalle erzielt hat.

Claims (1)

  1. PATENTANSPRUCH: Verfahren zur Erhöhung des Dunkelwiderstandes der Kristalle einer bei Belichtung ihren elektrischen Widerstand ändernden chemischen Verbindung eines Metalls mit einem der Elemente Schwefel, Selen oder Tellur, die durch Mischen der Ausgangsstoffe und durch Glühen hergestellt und zur geeigneten Kristallisation gebracht und bei der die Metallkomponente im stöchiometrischen Überschuß vorhanden ist, dadurch gekennzeichnet, daß die Verbindung zur Beseitigung des Metallüberschusses nachträglich noch in einem abgeschlossenen, druckbeständigen Gefäß in einem unter hohem Druck von mehr als 5 Atmosphären stehenden Dampf des nichtmetallischen Anteiles der chemischen Verbindung, also in Schwefel-, Selen- bzw. Tellerdampf, für kurze Zeit, in günstigen Fällen wenige Minuten, auf hohe Temperaturen von etwa 8oo° erhitzt wird.
DEP3160D 1940-04-27 1940-04-27 Verfahren zur Herstellung einer photoelektrisch wirksamen Verbindung Expired DE874181C (de)

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DEP3160D DE874181C (de) 1940-04-27 1940-04-27 Verfahren zur Herstellung einer photoelektrisch wirksamen Verbindung

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DE874181C true DE874181C (de) 1953-04-20

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ID=7358508

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DE (1) DE874181C (de)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1043536B (de) * 1954-09-27 1958-11-13 Rca Corp Verfahren zur Herstellung von photoleitfaehigem Material, bestehend aus einer Mischung von Kadmiumsulfid, -selenid oder -sulfidselenid
DE1046739B (de) * 1954-07-30 1958-12-18 Siemens Ag Verfahren zur Herstellung duenner Halbleiterschichten, insbesondere fuer Hallspannungs-Generatoren
DE980019C (de) * 1954-01-22 1969-08-07 Siemens Ag Verfahren zur Herstellung von Verbindungen der schwerfluechtigen Komponenten Gallium bzw. Indium mit den leichtfluechtigen Komponenten Arsen bzw. Phosphor in kristalliner Form

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE980019C (de) * 1954-01-22 1969-08-07 Siemens Ag Verfahren zur Herstellung von Verbindungen der schwerfluechtigen Komponenten Gallium bzw. Indium mit den leichtfluechtigen Komponenten Arsen bzw. Phosphor in kristalliner Form
DE1046739B (de) * 1954-07-30 1958-12-18 Siemens Ag Verfahren zur Herstellung duenner Halbleiterschichten, insbesondere fuer Hallspannungs-Generatoren
DE1043536B (de) * 1954-09-27 1958-11-13 Rca Corp Verfahren zur Herstellung von photoleitfaehigem Material, bestehend aus einer Mischung von Kadmiumsulfid, -selenid oder -sulfidselenid

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