DE69530103T2 - Verbindungselemente für mikroelektronische komponenten - Google Patents
Verbindungselemente für mikroelektronische komponentenInfo
- Publication number
- DE69530103T2 DE69530103T2 DE69530103T DE69530103T DE69530103T2 DE 69530103 T2 DE69530103 T2 DE 69530103T2 DE 69530103 T DE69530103 T DE 69530103T DE 69530103 T DE69530103 T DE 69530103T DE 69530103 T2 DE69530103 T2 DE 69530103T2
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- layer
- tongue
- tongues
- substrate
- masking
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K7/00—Constructional details common to different types of electric apparatus
- H05K7/02—Arrangements of circuit components or wiring on supporting structure
- H05K7/10—Plug-in assemblages of components, e.g. IC sockets
- H05K7/1053—Plug-in assemblages of components, e.g. IC sockets having interior leads
- H05K7/1061—Plug-in assemblages of components, e.g. IC sockets having interior leads co-operating by abutting
- H05K7/1069—Plug-in assemblages of components, e.g. IC sockets having interior leads co-operating by abutting with spring contact pieces
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01R—MEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
- G01R1/00—Details of instruments or arrangements of the types included in groups G01R5/00 - G01R13/00 and G01R31/00
- G01R1/02—General constructional details
- G01R1/06—Measuring leads; Measuring probes
- G01R1/067—Measuring probes
- G01R1/073—Multiple probes
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K1/00—Soldering, e.g. brazing, or unsoldering
- B23K1/0008—Soldering, e.g. brazing, or unsoldering specially adapted for particular articles or work
- B23K1/0016—Brazing of electronic components
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K20/00—Non-electric welding by applying impact or other pressure, with or without the application of heat, e.g. cladding or plating
- B23K20/002—Non-electric welding by applying impact or other pressure, with or without the application of heat, e.g. cladding or plating specially adapted for particular articles or work
- B23K20/004—Wire welding
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D7/00—Electroplating characterised by the article coated
- C25D7/12—Semiconductors
- C25D7/123—Semiconductors first coated with a seed layer or a conductive layer
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01R—MEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
- G01R1/00—Details of instruments or arrangements of the types included in groups G01R5/00 - G01R13/00 and G01R31/00
- G01R1/02—General constructional details
- G01R1/04—Housings; Supporting members; Arrangements of terminals
- G01R1/0408—Test fixtures or contact fields; Connectors or connecting adaptors; Test clips; Test sockets
- G01R1/0433—Sockets for IC's or transistors
- G01R1/0483—Sockets for un-leaded IC's having matrix type contact fields, e.g. BGA or PGA devices; Sockets for unpackaged, naked chips
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01R—MEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
- G01R1/00—Details of instruments or arrangements of the types included in groups G01R5/00 - G01R13/00 and G01R31/00
- G01R1/02—General constructional details
- G01R1/06—Measuring leads; Measuring probes
- G01R1/067—Measuring probes
- G01R1/073—Multiple probes
- G01R1/07307—Multiple probes with individual probe elements, e.g. needles, cantilever beams or bump contacts, fixed in relation to each other, e.g. bed of nails fixture or probe card
- G01R1/07314—Multiple probes with individual probe elements, e.g. needles, cantilever beams or bump contacts, fixed in relation to each other, e.g. bed of nails fixture or probe card the body of the probe being perpendicular to test object, e.g. bed of nails or probe with bump contacts on a rigid support
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01R—MEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
- G01R1/00—Details of instruments or arrangements of the types included in groups G01R5/00 - G01R13/00 and G01R31/00
- G01R1/02—General constructional details
- G01R1/06—Measuring leads; Measuring probes
- G01R1/067—Measuring probes
- G01R1/073—Multiple probes
- G01R1/07307—Multiple probes with individual probe elements, e.g. needles, cantilever beams or bump contacts, fixed in relation to each other, e.g. bed of nails fixture or probe card
- G01R1/07342—Multiple probes with individual probe elements, e.g. needles, cantilever beams or bump contacts, fixed in relation to each other, e.g. bed of nails fixture or probe card the body of the probe being at an angle other than perpendicular to test object, e.g. probe card
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01R—MEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
- G01R1/00—Details of instruments or arrangements of the types included in groups G01R5/00 - G01R13/00 and G01R31/00
- G01R1/02—General constructional details
- G01R1/06—Measuring leads; Measuring probes
- G01R1/067—Measuring probes
- G01R1/073—Multiple probes
- G01R1/07307—Multiple probes with individual probe elements, e.g. needles, cantilever beams or bump contacts, fixed in relation to each other, e.g. bed of nails fixture or probe card
- G01R1/07357—Multiple probes with individual probe elements, e.g. needles, cantilever beams or bump contacts, fixed in relation to each other, e.g. bed of nails fixture or probe card with flexible bodies, e.g. buckling beams
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01R—MEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
- G01R1/00—Details of instruments or arrangements of the types included in groups G01R5/00 - G01R13/00 and G01R31/00
- G01R1/02—General constructional details
- G01R1/06—Measuring leads; Measuring probes
- G01R1/067—Measuring probes
- G01R1/073—Multiple probes
- G01R1/07307—Multiple probes with individual probe elements, e.g. needles, cantilever beams or bump contacts, fixed in relation to each other, e.g. bed of nails fixture or probe card
- G01R1/07364—Multiple probes with individual probe elements, e.g. needles, cantilever beams or bump contacts, fixed in relation to each other, e.g. bed of nails fixture or probe card with provisions for altering position, number or connection of probe tips; Adapting to differences in pitch
- G01R1/07371—Multiple probes with individual probe elements, e.g. needles, cantilever beams or bump contacts, fixed in relation to each other, e.g. bed of nails fixture or probe card with provisions for altering position, number or connection of probe tips; Adapting to differences in pitch using an intermediate card or back card with apertures through which the probes pass
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01R—MEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
- G01R1/00—Details of instruments or arrangements of the types included in groups G01R5/00 - G01R13/00 and G01R31/00
- G01R1/02—General constructional details
- G01R1/06—Measuring leads; Measuring probes
- G01R1/067—Measuring probes
- G01R1/073—Multiple probes
- G01R1/07307—Multiple probes with individual probe elements, e.g. needles, cantilever beams or bump contacts, fixed in relation to each other, e.g. bed of nails fixture or probe card
- G01R1/07364—Multiple probes with individual probe elements, e.g. needles, cantilever beams or bump contacts, fixed in relation to each other, e.g. bed of nails fixture or probe card with provisions for altering position, number or connection of probe tips; Adapting to differences in pitch
- G01R1/07378—Multiple probes with individual probe elements, e.g. needles, cantilever beams or bump contacts, fixed in relation to each other, e.g. bed of nails fixture or probe card with provisions for altering position, number or connection of probe tips; Adapting to differences in pitch using an intermediate adapter, e.g. space transformers
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01R—ELECTRICALLY-CONDUCTIVE CONNECTIONS; STRUCTURAL ASSOCIATIONS OF A PLURALITY OF MUTUALLY-INSULATED ELECTRICAL CONNECTING ELEMENTS; COUPLING DEVICES; CURRENT COLLECTORS
- H01R13/00—Details of coupling devices of the kinds covered by groups H01R12/70 or H01R24/00 - H01R33/00
- H01R13/02—Contact members
- H01R13/22—Contacts for co-operating by abutting
- H01R13/24—Contacts for co-operating by abutting resilient; resiliently-mounted
- H01R13/2407—Contacts for co-operating by abutting resilient; resiliently-mounted characterized by the resilient means
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01R—ELECTRICALLY-CONDUCTIVE CONNECTIONS; STRUCTURAL ASSOCIATIONS OF A PLURALITY OF MUTUALLY-INSULATED ELECTRICAL CONNECTING ELEMENTS; COUPLING DEVICES; CURRENT COLLECTORS
- H01R13/00—Details of coupling devices of the kinds covered by groups H01R12/70 or H01R24/00 - H01R33/00
- H01R13/02—Contact members
- H01R13/22—Contacts for co-operating by abutting
- H01R13/24—Contacts for co-operating by abutting resilient; resiliently-mounted
- H01R13/2464—Contacts for co-operating by abutting resilient; resiliently-mounted characterized by the contact point
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/30—Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor
- H05K3/32—Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor electrically connecting electric components or wires to printed circuits
- H05K3/325—Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor electrically connecting electric components or wires to printed circuits by abutting or pinching, i.e. without alloying process; mechanical auxiliary parts therefor
- H05K3/326—Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor electrically connecting electric components or wires to printed circuits by abutting or pinching, i.e. without alloying process; mechanical auxiliary parts therefor the printed circuit having integral resilient or deformable parts, e.g. tabs or parts of flexible circuits
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/40—Forming printed elements for providing electric connections to or between printed circuits
- H05K3/4007—Surface contacts, e.g. bumps
- H05K3/4015—Surface contacts, e.g. bumps using auxiliary conductive elements, e.g. pieces of metal foil, metallic spheres
-
- H10P72/0444—
-
- H10P74/23—
-
- H10W70/093—
-
- H10W72/00—
-
- H10W72/075—
-
- H10W72/20—
-
- H10W74/012—
-
- H10W74/15—
-
- H10W78/00—
-
- H10W90/00—
-
- H10W90/701—
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K2101/00—Articles made by soldering, welding or cutting
- B23K2101/36—Electric or electronic devices
- B23K2101/40—Semiconductor devices
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D21/00—Processes for servicing or operating cells for electrolytic coating
- C25D21/02—Heating or cooling
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D5/00—Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
- C25D5/22—Electroplating combined with mechanical treatment during the deposition
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01R—MEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
- G01R1/00—Details of instruments or arrangements of the types included in groups G01R5/00 - G01R13/00 and G01R31/00
- G01R1/02—General constructional details
- G01R1/04—Housings; Supporting members; Arrangements of terminals
- G01R1/0408—Test fixtures or contact fields; Connectors or connecting adaptors; Test clips; Test sockets
- G01R1/0433—Sockets for IC's or transistors
- G01R1/0441—Details
- G01R1/0466—Details concerning contact pieces or mechanical details, e.g. hinges or cams; Shielding
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01R—MEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
- G01R1/00—Details of instruments or arrangements of the types included in groups G01R5/00 - G01R13/00 and G01R31/00
- G01R1/02—General constructional details
- G01R1/06—Measuring leads; Measuring probes
- G01R1/067—Measuring probes
- G01R1/06711—Probe needles; Cantilever beams; "Bump" contacts; Replaceable probe pins
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01R—MEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
- G01R31/00—Arrangements for testing electric properties; Arrangements for locating electric faults; Arrangements for electrical testing characterised by what is being tested not provided for elsewhere
- G01R31/28—Testing of electronic circuits, e.g. by signal tracer
- G01R31/2851—Testing of integrated circuits [IC]
- G01R31/2884—Testing of integrated circuits [IC] using dedicated test connectors, test elements or test circuits on the IC under test
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01R—MEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
- G01R31/00—Arrangements for testing electric properties; Arrangements for locating electric faults; Arrangements for electrical testing characterised by what is being tested not provided for elsewhere
- G01R31/28—Testing of electronic circuits, e.g. by signal tracer
- G01R31/2851—Testing of integrated circuits [IC]
- G01R31/2886—Features relating to contacting the IC under test, e.g. probe heads; chucks
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01R—MEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
- G01R31/00—Arrangements for testing electric properties; Arrangements for locating electric faults; Arrangements for electrical testing characterised by what is being tested not provided for elsewhere
- G01R31/28—Testing of electronic circuits, e.g. by signal tracer
- G01R31/2851—Testing of integrated circuits [IC]
- G01R31/2886—Features relating to contacting the IC under test, e.g. probe heads; chucks
- G01R31/2889—Interfaces, e.g. between probe and tester
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/44—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process
- H01L2224/45—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/45001—Core members of the connector
- H01L2224/45099—Material
- H01L2224/451—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof
- H01L2224/45138—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 950°C and less than 1550°C
- H01L2224/45147—Copper (Cu) as principal constituent
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01R—ELECTRICALLY-CONDUCTIVE CONNECTIONS; STRUCTURAL ASSOCIATIONS OF A PLURALITY OF MUTUALLY-INSULATED ELECTRICAL CONNECTING ELEMENTS; COUPLING DEVICES; CURRENT COLLECTORS
- H01R12/00—Structural associations of a plurality of mutually-insulated electrical connecting elements, specially adapted for printed circuits, e.g. printed circuit boards [PCB], flat or ribbon cables, or like generally planar structures, e.g. terminal strips, terminal blocks; Coupling devices specially adapted for printed circuits, flat or ribbon cables, or like generally planar structures; Terminals specially adapted for contact with, or insertion into, printed circuits, flat or ribbon cables, or like generally planar structures
- H01R12/50—Fixed connections
- H01R12/51—Fixed connections for rigid printed circuits or like structures
- H01R12/52—Fixed connections for rigid printed circuits or like structures connecting to other rigid printed circuits or like structures
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K1/00—Printed circuits
- H05K1/02—Details
- H05K1/14—Structural association of two or more printed circuits
- H05K1/141—One or more single auxiliary printed circuits mounted on a main printed circuit, e.g. modules, adapters
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2201/00—Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
- H05K2201/03—Conductive materials
- H05K2201/0332—Structure of the conductor
- H05K2201/0388—Other aspects of conductors
- H05K2201/0397—Tab
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2201/00—Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
- H05K2201/06—Thermal details
- H05K2201/068—Thermal details wherein the coefficient of thermal expansion is important
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2201/00—Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
- H05K2201/10—Details of components or other objects attached to or integrated in a printed circuit board
- H05K2201/10227—Other objects, e.g. metallic pieces
- H05K2201/1031—Surface mounted metallic connector elements
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2201/00—Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
- H05K2201/10—Details of components or other objects attached to or integrated in a printed circuit board
- H05K2201/10227—Other objects, e.g. metallic pieces
- H05K2201/1031—Surface mounted metallic connector elements
- H05K2201/10318—Surface mounted metallic pins
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2201/00—Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
- H05K2201/10—Details of components or other objects attached to or integrated in a printed circuit board
- H05K2201/10227—Other objects, e.g. metallic pieces
- H05K2201/10378—Interposers
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2201/00—Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
- H05K2201/10—Details of components or other objects attached to or integrated in a printed circuit board
- H05K2201/10613—Details of electrical connections of non-printed components, e.g. special leads
- H05K2201/10621—Components characterised by their electrical contacts
- H05K2201/10719—Land grid array [LGA]
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2201/00—Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
- H05K2201/10—Details of components or other objects attached to or integrated in a printed circuit board
- H05K2201/10613—Details of electrical connections of non-printed components, e.g. special leads
- H05K2201/10621—Components characterised by their electrical contacts
- H05K2201/10734—Ball grid array [BGA]; Bump grid array
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2201/00—Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
- H05K2201/10—Details of components or other objects attached to or integrated in a printed circuit board
- H05K2201/10613—Details of electrical connections of non-printed components, e.g. special leads
- H05K2201/10742—Details of leads
- H05K2201/1075—Shape details
- H05K2201/10757—Bent leads
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2201/00—Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
- H05K2201/10—Details of components or other objects attached to or integrated in a printed circuit board
- H05K2201/10613—Details of electrical connections of non-printed components, e.g. special leads
- H05K2201/10742—Details of leads
- H05K2201/1075—Shape details
- H05K2201/10878—Means for retention of a lead in a hole
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/10—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern
- H05K3/20—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern by affixing prefabricated conductor pattern
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/30—Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor
- H05K3/32—Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor electrically connecting electric components or wires to printed circuits
- H05K3/34—Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor electrically connecting electric components or wires to printed circuits by soldering
- H05K3/341—Surface mounted components
- H05K3/3421—Leaded components
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/36—Assembling printed circuits with other printed circuits
- H05K3/368—Assembling printed circuits with other printed circuits parallel to each other
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/40—Forming printed elements for providing electric connections to or between printed circuits
- H05K3/4092—Integral conductive tabs, i.e. conductive parts partly detached from the substrate
-
- H10W20/069—
-
- H10W70/682—
-
- H10W70/685—
-
- H10W72/01—
-
- H10W72/01225—
-
- H10W72/07141—
-
- H10W72/07236—
-
- H10W72/07532—
-
- H10W72/07554—
-
- H10W72/251—
-
- H10W72/252—
-
- H10W72/255—
-
- H10W72/29—
-
- H10W72/352—
-
- H10W72/522—
-
- H10W72/534—
-
- H10W72/536—
-
- H10W72/547—
-
- H10W72/552—
-
- H10W72/5522—
-
- H10W72/5524—
-
- H10W72/5525—
-
- H10W72/555—
-
- H10W72/59—
-
- H10W72/856—
-
- H10W72/884—
-
- H10W72/923—
-
- H10W72/951—
-
- H10W72/952—
-
- H10W74/00—
-
- H10W90/20—
-
- H10W90/22—
-
- H10W90/722—
-
- H10W90/754—
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P70/00—Climate change mitigation technologies in the production process for final industrial or consumer products
- Y02P70/50—Manufacturing or production processes characterised by the final manufactured product
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Measuring Leads Or Probes (AREA)
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
- Testing Of Individual Semiconductor Devices (AREA)
- Connecting Device With Holders (AREA)
- Wire Bonding (AREA)
- Tests Of Electronic Circuits (AREA)
- Coupling Device And Connection With Printed Circuit (AREA)
- Fuses (AREA)
- Electroplating Methods And Accessories (AREA)
Description
- Die Erfindung betrifft die Herstellung einer Zwischenlage für Verbindungen zwischen elektronischen Bauteilen, insbesondere mikroelektronischen Bauteilen und insbesondere Verbindungselemente, die durch Ausbilden einer Materialschicht, dann Überziehen zur Herstellung von elastischen Verbindungselementen hergestellt werden.
- Elektronische Bauteile, insbesondere mikroelektronische Bauteile wie z. B. Halbleiterbauelemente (Chips) weisen häufig eine Vielzahl von Anschlüssen (auch als Bondkontaktstellen, Elektroden oder leitende Flächen bezeichnet) auf. Um solche Bauelemente zu einem brauchbaren System (oder Untersystem) zusammenzusetzen, müssen eine Anzahl von einzelnen Bauelementen elektrisch miteinander verbunden werden, typischerweise durch die Vermittlung einer Leiterplatte (oder Schaltungsplatte) (PCB, PWB).
- Im Allgemeinen ist eine "Zwischenlage", wie hierin verwendet, ein Substrat mit Kontakten auf zwei entgegengesetzten Oberflächen desselben, welches zwischen zwei elektronischen Bauteilen angeordnet wird, um die zwei elektronischen Bauteile miteinander zu verbinden. Häufig ist es erwünscht, dass die Zwischenlage ermöglicht, dass zumindest eines der zwei miteinander verbundenen elektronischen Bauteile entfernt wird (z. B. zum Austausch, Aufrüsten und dergleichen).
- Im Allgemeinen können Verbindungen zwischen elektronischen Bauteilen in die zwei breiten Kategorien von "relativ permanent" und "leicht demontierbar" klassifiziert werden.
- Ein Beispiel einer "relativ permanenten" Verbindung ist eine Lötverbindung. Sobald zwei Bauteile aneinander gelötet sind, muss ein Loslötprozess verwendet werden, um die Bauteile zu trennen. Drahtbonden ist ein weiteres Beispiel einer "relativ permanenten" Verbindung.
- Ein Beispiel einer "leicht demontierbaren" Verbindung sind starre Stifte eines elektronischen Bauteils, die von elastischen Buchsenelementen eines anderen elektronischen Bauteils aufgenommen werden. Die Buchsenelemente üben eine Kontaktkraft (Druck) auf die Stifte in einem Ausmaß aus, das ausreicht, um eine zuverlässige elektrische Verbindung zwischen diesen sicherzustellen. Verbindungselemente, die einen Druckkontakt mit einem elektronischen Bauteil herstellen sollen, werden hierin als "Federn" oder "Federelemente" bezeichnet.
- Federelemente sind gut bekannt und erscheinen in einer Vielzahl von Formen und Größen. In der heutigen Mikroelektronikumgebung besteht ein tiefgehender Bedarf für alle Verbindungselemente, einschließlich Federn, immer kleiner zu werden, damit eine große Vielzahl solcher Verbindungselemente in einer kleinen Fläche angeordnet werden kann, um eine hohe Dichte von Verbindungen mit elektronischen Bauteilen zu bewirken.
- Verfahren des Standes der Technik zur Herstellung von Federelementen beinhalten im Allgemeinen das Prägen (Stanzen) oder Ätzen eines Federmaterials wie z. B. Phosphorbronze oder Berylliumkupfer oder Stahl oder einer Legierung aus Nickel-Eisen-Kobalt (z. B. Kovar), um einzelne Federelemente auszubilden, das Formen der Federelemente, so dass sie eine Federform aufweisen (z. B. bogenförmig usw.), das Plattieren der Federelemente mit einem guten Kontaktmaterial (z. B. einem Edelmetall wie z. B. Gold, das einen niedrigen Kontaktwiderstand aufweist, wenn es mit einem ähnlichen Material in Kontakt steht), und das Formen einer Vielzahl von solchen geformten, plattierten Federelementen zu einem linearen, Umfangs- oder Matrixmuster. Wenn Gold auf die vorstehend erwähnten Materialien plattiert wird, ist manchmal eine dünne, beispielsweise 30-50 Mikroinch (wobei ein Mikroinch = 0,0254 um), Sperrschicht aus Nickel geeignet.
- Verschiedene Probleme und Begrenzungen wohnen solchen Verfahren zur Herstellung von Federelementen inne.
- Diese Prozesse sind beispielsweise begrenzt, wenn die Anwendungen verlangen, dass eine Vielzahl von Federn (Verbindungselementen) in einem feinen (z. B. 10 mil, wobei 1 mil = 25,4 um) Rastermaß angeordnet werden. Ein solches feines Rastermaß verlangt von Natur aus, dass jede Feder wesentlich kleiner (z. B. 3 mil) bemessen wird (d. h. im Querschnitt) als das Rastermaß. Eine Austanzfläche muss untergebracht werden und begrenzt, wie viel Material übriggelassen wird, um Federn auszubilden. Obwohl es relativ unkompliziert sein kann, Federn so klein wie 1 mil auszustanzen, erlegen solche kleinen Größen der Kontaktkraft, die zuverlässig durch die Federn ausgeübt werden kann, bestenfalls Begrenzungen auf. Dies ist im Zusammenhang mit der Fertigung von Flächenmatrizes von Federn besonders schmerzlich.
- Im Allgemeinen ist eine bestimmte minimale Kontaktkraft erwünscht, um einen zuverlässigen Druckkontakt mit elektronischen Bauteilen (z. B. mit Anschlüssen an elektronischen Bauteilen) zu bewirken. Eine Kontakt- (Last-) Kraft von ungefähr 15 Gramm (einschließlich nicht mehr als 2 Gramm oder weniger und nicht weniger als 150 Gramm oder mehr pro Kontakt) kann beispielsweise erwünscht sein, um sicherzustellen, dass eine zuverlässige elektrische Verbindung mit einem Anschluss eines elektronischen Bauteils hergestellt wird, das mit Filmen auf seiner Oberfläche verunreinigt sein kann oder das Korrosions- oder Oxidationsprodukte auf seiner Oberfläche aufweist. Die minimale Kontaktkraft, die für jede Feder erforderlich ist, verlangt, entweder dass die Dehngrenze des Federmaterials oder dass die Größe des Federelements erhöht wird. Als allgemeine Aussage gilt, je höher die Dehngrenze eines Materials ist, desto schwieriger ist es zu bearbeiten (z. B. stanzen, biegen usw.). Und der Wunsch, Federn kleiner zu machen, schließt es im Wesentlichen aus, deren Querschnitt größer zu machen.
- Eine weitere Begrenzung, die Verbindungselementen des Standes der Technik anhaftet, besteht darin, dass, wenn harte Materialien (wie sie z. B. zur Herstellung von Federn verwendet werden würden) verwendet werden, relativ "feindliche" (z. B. hohe Temperatur) Prozesse wie z. B. Hartlöten erforderlich sind, um die Verbindungselemente an Anschlüssen eines elektronischen Bauteils zu montieren. Es ist beispielsweise bekannt, starre Stifte an relativ "haltbare" Halbleitergehäuse hartzulöten. Solche "feindlichen" Prozesse sind im Zusammenhang mit bestimmten relativ "zerbrechlichen" elektronischen Bauteilen wie z. B. Halbleiterbauelementen im Allgemeinen nicht erwünscht (und häufig nicht brauchbar). Im Gegensatz dazu ist Drahtbonden ein Beispiel von relativ "freundlichen" Prozessen, das zerbrechliche elektronische Bauteile viel weniger potentiell beschädigt als Hartlöten. Weichlöten ist ein weiteres Beispiel eines relativ "freundlichen" Prozesses.
- Ein weiteres Problem, das mit dem Montieren von Federn an elektronischen Bauteilen verbunden ist, ist zum größten Teil mechanischer Art. In Fällen, in denen eine Feder an einem Ende an einem Substrat (das für Zwecke dieser Aussage als unbewegliches Objekt betrachtet wird) montiert wird und Kräften entgegenwirken muss, die an ihrem freien Ende aufgebracht werden, ist die "schwache Bindung" (schwächster Punkt bei der Verwendung) häufig der Punkt, an dem die Feder (z. B. wird die Basis der Feder gebondet) an dem Substrat (z. B. Anschluss eines elektronischen Bauteils) befestigt ist. Dies berücksichtigt zumindest teilweise die Anforderung, "feindliche" Prozesse (z. B. Hartlöten) zu verwenden, um die Federn am Substrat zu montieren.
- Ein weiteres subtiles Problem, das mit Verbindungselementen, einschließlich Federkontakten, verbunden ist, besteht darin, dass häufig die Anschlüsse eines elektronischen Bauteils nicht perfekt koplanar sind. Verbindungselemente, denen es an einem gewissen damit integrierten Mechanismus fehlt, um sich auf diese "Toleranzen" (grobe Nicht-Planaritäten) einzustellen, werden schwer gepresst, um einen Kontakt mit konsistentem Kontaktdruck mit den Anschlüssen des elektronischen Bauteils herzustellen.
- DE-A-23 54 256 offenbart ein Halbleiter-Drahtbondverfahren, bei dem beim Bonden der Draht durch Abscheiden eines geeigneten Materials mechanisch verstärkt wird.
- FR-A-2 680 284 offenbart eine Verbindungsvorrichtung, die Verbindungen mit sehr kleinem Rastermaß realisieren kann. Ein Verbindungselement umfasst eine Vielzahl von Leitern, die parallel angeordnet sind. Beide Enden jedes Leiters werden mit der Oberfläche eines Substrats verdrahtet, so dass jeder Leiter eine Halbschleife bildet. Der elektrische Kontakt zwischen dem Verbindungselement und der zu verbindenden Schaltung wird durch einen elastischen Kontakt zwischen den Leitern des Verbindungselements und den Kontaktstellen der Schaltung hergestellt.
- DE-A-31 29 568, die den nächsten Stand der Technik, darstellt, offenbart ein Verbindungssystem, bei dem ein Anschluss eines Halbleiterbauelements mit einem Anschluss eines Substrats durch ein elastisches Verbindungselement durch Löten verbunden wird. Das elastische Element kann eine Spannung absorbieren, die zwischen dem Anschluss des Halbleiterbauelements und dem Anschluss des Substrats erzeugt wird.
- EP-A-0 396 248 offenbart einen elektrischen Stift mit einem elektrisch leitenden Stiftelement und elektrisch leitenden Kopfelementen an beiden Stirnflächen des Stiftelements. Diese Miniaturstifte eignen sich besonders zum direkten Verbinden von Chipbauelementen und Gehäusesubstraten.
- US-A-5 299 939 offenbart einen Federmatrix- Verbindungsstecker mit einem ersten Matrix- Federverbindungsstecker und einem zweiten Matrix- Federverbindungsstecker. Jeder Verbindungsstecker umfasst eine Vielzahl von Federn, die mit einer gesamten elektrischen Schicht bedeckt sind.
- US-A-5 317 479 offenbart einen gekrümmten Leiter, der eine mechanische und elektrische Verbindung zwischen einem Chipkontakt und einer Leiterplatte vorsieht, wobei der gekrümmte Leiter aus einem einzelnen Streifen aus leitendem Metallmaterial ausgebildet ist und im Wesentlichen vollständig mit Lötmittel plattiert ist. Der gekrümmte Leiter ist im Allgemeinen 5-förmig oder Z-förmig und weist eine erste und eine zweite parallele Kontaktfläche auf, die angeordnet sind, um den Chipkontakt an der Leiterplatte mit dem Lötmittel in einer nachgiebigen und im Allgemeinen parallelen Anordnung, die im Wesentlichen frei von Spannung ist, zu montieren.
- Die folgenden US-Patente werden als interessant angeführt: 5 386 344; 5 336 380; 5 317 479; 5 086 337; 5 067 007; 4 989 069; 4 893 172; 4 793 814; 4 777 564; 4 764 848; 4 667 219; 4 642 889; 4 330 165; 4 295 700; 4 067 104; 3 795 037; 3 616 532; und 3 509 270.
- Die Erfindung ist in Anspruch 1 definiert. Spezielle Ausführungsbeispiele der Erfindung sind in den abhängigen Ansprüchen 2 bis 14 dargelegt.
- Wie in dieser Anmeldung verwendet, bezieht sich der Begriff "Federform" auf theoretisch eine beliebige Form eines länglichen Elements, die eine elastische (Rückstell-) Bewegung eines Endes (Spitze) des länglichen Elements bezüglich einer auf die Spitze aufgebrachten Kraft zeigt. Dies umfasst längliche Elemente, die so geformt sind, dass sie ein oder mehrere Biegungen aufweisen, sowie im Wesentlichen gerade längliche Elemente.
- Die Zungen werden vor dem Montieren an einem elektronischen Bauteil geformt.
- In der Erfindung bestehen die Zungen aus "weichem" Material mit einer relativ niedrigen Dehngrenze, und werden mit einem "harten" Material mit einer relativ hohen Dehngrenze überzogen. Ein weiches Material wie z. B. Gold wird beispielsweise (z. B. durch elektrochemisches Plattieren) mit einem harten Material wie z. B. Nickel und seinen Legierungen überzogen.
- Im Allgemeinen wird in der gesamten hierin dargelegten Beschreibung der Begriff "Plattieren" als beispielhaft für eine Anzahl von Verfahren zum Überziehen der Zungen verwendet. Es liegt innerhalb des Schutzbereichs dieser Erfindung, dass die Zungen durch ein beliebiges geeignetes Verfahren überzogen werden können, einschließlich, jedoch nicht begrenzt auf: verschiedene Prozesse, die die Abscheidung von Materialien aus wässerigen Lösungen beinhalten; elektrolytisches Plattieren; stromloses Plattieren; chemische Gasphasenabscheidung (CVD); physikalische Gasphasenabscheidung (PVD); Prozesse, die den Zerfall von Flüssigkeiten, Feststoffen oder Gasen bewirken; und dergleichen, wobei alle diese Verfahren zum Abscheiden von Materialien im Allgemeinen gut bekannt sind.
- Im Allgemeinen sind zum Überziehen der Zungen mit einem Metallmaterial wie z. B. Nickel elektrochemische Prozesse bevorzugt, insbesondere stromloses Plattieren.
- Weiche Materialien wie z. B. Gold, die sich leicht an Halbleiterbauelementen befestigen lassen, mangelt es im Allgemeinen an ausreichend Elastizität, um als Federn zu wirken. (Solche weichen Metallmaterialien zeigen hauptsächlich vielmehr eine plastische als elastische Verformung.) Andere weiche Materialien, die sich leicht an Halbleiterbauelementen befestigen lassen können und geeignete Elastizität besitzen, die jedoch nicht der vorliegenden Erfindung entsprechen, sind häufig elektrisch nicht-leitendend, wie im Fall der meisten Elastomermaterialien. In beiden Fällen können dem resultierenden Verbundverbindungselement gewünschte strukturelle und elektrische Eigenschaften durch den über den Kern aufgebrachten Überzug verliehen werden. Das resultierende Verbundverbindungselement kann sehr klein gemacht werden und kann dennoch geeignete Kontaktkräfte aufweisen. Überdies können eine Vielzahl von solchen Verbundverbindungselementen in einem feinen Rastermaß (z. B. 10 mils) angeordnet werden, selbst wenn sie eine Länge (z. B. 100 mils) aufweisen, die viel größer ist als das Rastermaß.
- Weitere Aufgaben, Merkmale und Vorteile der Erfindung werden angesichts der folgenden Beschreibung derselben ersichtlich.
- Nun wird im einzelnen auf bevorzugte Ausführungsbeispiele der Erfindung Bezug genommen, von welchen Beispiele in den zugehörigen Zeichnungen dargestellt sind. Obwohl die Erfindung im Zusammenhang mit diesen bevorzugten Ausführungsbeispielen beschrieben wird, sollte es selbstverständlich sein, dass keine Absicht besteht, den Schutzbereich der Erfindung auf diese speziellen Ausführungsbeispiele zu begrenzen.
- Fig. 1A ist eine Draufsicht auf eine weiche Metallfolie in einem Vorschritt zur Herstellung einer Zwischenlage gemäß der Erfindung.
- Fig. 1B ist eine Querschnittsansicht der weichen Metallfolie von Fig. 1A in einem anschließenden Prozessschritt gemäß der Erfindung.
- Fig. 1C ist eine perspektivische Ansicht der weichen Metallfolie von Fig. 1A in einem anschließenden Prozessschritt gemäß der Erfindung.
- Fig. 1D ist eine perspektivische Ansicht der weichen Metallfolie von Fig. 1A in einem anschließenden Prozessschritt bei der Verwendung als Zwischenlage zwischen zwei elektronischen Bauteilen gemäß der Erfindung.
- Fig. 2A ist eine Draufsicht auf eine weiche Metallfolie in einem Vorschritt zur Herstellung einer Zwischenlage gemäß einem alternativen Ausführungsbeispiel der Erfindung.
- Fig. 2B ist eine perspektivische Ansicht der weichen Metallfolie von Fig. 2A in einem anschließenden Prozessschritt gemäß der Erfindung.
- Fig. 2C ist eine perspektivische Ansicht der weichen Metallfolie von Fig. 2A in einem anschließenden Prozessschritt gemäß der Erfindung.
- Fig. 2D ist eine perspektivische Ansicht der weichen Metallfolie von Fig. 2A in einem anschließenden Prozessschritt zur Verwendung als Zwischenlage zwischen zwei elektronischen Bauteilen gemäß der Erfindung.
- Fig. 3A ist eine Draufsicht auf eine weiche Metallfolie in einem Vorschritt bei der Herstellung einer Zwischenlage gemäß einem alternativen Ausführungsbeispiel der Erfindung.
- Fig. 3B ist eine perspektivische Ansicht der weichen Metallfolie von Fig. 3A in einem anschließenden Prozessschritt gemäß der Erfindung.
- Fig. 3C ist eine perspektivische Ansicht der weichen Metallfolie von Fig. 3A in einem anschließenden Prozessschritt gemäß der Erfindung.
- Fig. 3D ist eine perspektivische Ansicht der weichen Metallfolie von Fig. 3A in einem anschließenden Prozessschritt bei der Verwendung als Zwischenlage zwischen zwei elektronischen Bauteilen gemäß der Erfindung.
- Fig. 4A ist eine Querschnittsansicht eines Verfahrens, das sich zur Herstellung von einzelnen Verbindungselementen besonders gut eignet.
- Fig. 4B ist eine Querschnittsansicht eines weiteren Verfahrens, das sich zur Herstellung von einzelnen Verbindungselementen besonders gut eignet.
- Die Offenbarung von US-Patent 5 476 211 ist ein nützlicher Hintergrund für die vorliegende Erfindung.
- Ein wichtiger Aspekt der vorliegenden Erfindung besteht darin, dass ein Verbundverbindungselement durch Beginnen mit einem ersten Material, dann Überziehen des ersten Materials mit einem geeigneten zweiten Material, um die mechanischen Eigenschaften des resultierenden Verbundverbindungselements herzustellen, ausgebildet werden kann. In dieser Weise kann ein elastisches Verbindungselement (Federelement) hergestellt werden, wobei mit einem Kern aus weichem Material begonnen wird, der sich leicht zu einer federnden Form formen lässt und der sich leicht an auch den zerbrechlichsten elektronischen Bauteilen befestigen lässt. Angesichts von Verfahren des Standes der Technik zum Ausbilden von Federelementen aus harten Materialien, ist es nicht leicht ersichtlich und ist wohl gegenintuitiv, dass weiche Materialien die Basis von Federelementen bilden können.
- Der Gegenstand der Verwendung der Verbindungselemente der Erfindung in Zwischenlagen wurde vorstehend erwähnt. Wie hierin verwendet, ist eine "Zwischenlage" im Allgemeinen ein Substrat mit Kontakten auf zwei entgegengesetzten Oberflächen desselben, welches zwischen zwei elektronischen Bauteilen angeordnet wird, um die zwei elektronischen Bauteile miteinander zu verbinden. Häufig ist es erwünscht, dass die Zwischenlage ermöglicht, dass zumindest eines der zwei miteinander verbundenen elektronischen Bauteile entfernt wird (z. B. zum Austausch, Aufrüsten und dergleichen).
- Die Fig. 1A, 1B, 1C und 1D stellen ein Verfahren zur Herstellung einer Zwischenlage gemäß der vorliegenden Erfindung dar. In Fig. 1A ist gezeigt, dass eine flache, dünne (wie z. B. 0,001-0,005 Inch, wobei 1 Inch = 2,54 cm) Schicht 402 aus weichem Metall (z. B. Gold, weiche Kupferlegierung, weiche Aluminiumlegierung) strukturiert wird (wie z. B. durch Stanzen oder Ätzen), um die Umrisslinien einer Vielzahl (zwei von vielen sind dargestellt) von länglichen Elementen 404, 406, die darin einbeschrieben sind, festzulegen. Jedes längliche Element weist einen mittleren Teil und zwei Endteile auf, die sich in der Ebene der Schicht vom mittleren Teil erstrecken.
- Wie in Fig. 1B gezeigt, wird eine Schicht aus Maskietungsmaterial 408 wie z. B. Photoresist auf eine Oberfläche der weichen Metallschicht außerhalb der Flächen der länglichen Elemente aufgebracht. Die Endteile von jedem länglichen Element werden bezüglich der Schicht aus der Ebene gebogen. Ein Endteil 404a des länglichen Elements 404 wird in einer Richtung (nach oben, wie dargestellt) gebogen, wodurch eine Zunge ausgebildet wird, die sich von der Schicht 402 nach oben erstreckt. Der andere Endteil 404b des länglichen Elements wird in einer entgegengesetzten (nach unten, wie dargestellt) Richtung gebogen, wodurch eine Zunge ausgebildet wird, die sich von der Schicht 402 nach unten erstreckt. Die Zungen (404a, 404b) können sich um theoretisch einen beliebigen gewünschten Abstand von der Schicht erstrecken, beispielsweise 5-100 mils für mikroelektronische Anwendungen. Die Formen dieser Zungen (404a, 404b) können bei dem Biegeprozess unabhängig voneinander gesteuert werden, so dass die sich nach oben erstreckenden Zungen dieselbe Form wie oder eine andere Form als die sich nach unten erstreckenden Zungen aufweisen.
- Es sollte selbstverständlich sein, dass die Zungen in dem gleichen Schritt wie die Strukturierung der länglichen Elemente ausgebildet werden können und diese Schritte mit einer herkömmlichen Ausrüstung durchgeführt werden können.
- Wie in Fig. 1C dargestellt, ist eine isolierende (dielektrische) Trägerschicht 410 wie z. B. eine Schicht (Film, Platte) aus Kapton (TM) oder Polyimid mit einer Vielzahl von Löchern 430 versehen. Die Isolationsschicht 410 wird über der weichen Metallschicht 402, so dass die Löcher 430 auf die Zungen ausrichten, auf einer Seite der Schicht entgegengesetzt zum Maskierungsmaterial angeordnet und wird an der weichen Metallschicht mit einem geeigneten Klebstoff (nicht dargestellt) befestigt.
- Es liegt innerhalb des Schutzbereichs dieser Erfindung, dass die Isolationsschicht sowohl in diesem Ausführungsbeispiel als auch den nachstehend beschriebenen Ausführungsbeispielen eine Metallplatte sein kann, die mit einem dielektrischen Material bedeckt ist.
- Die gesamte Anordnung wird dann mit einem harten Material 412 wie z. B. Nickel und seinen Legierungen überzogen. Die Trägerschicht 410 und das Maskierungsmaterial 408 stellen sicher, dass nur die länglichen Elemente mit dem harten Material überzogen werden. Schließlich wird das Maskierungsmaterial 408 abgelöst und das weiche Metall, das nicht überzogen wurde, wird entfernt, wie z. B. durch selektives chemisches Ätzen. Wahlweise können die Verbindungselemente in einem Nachbearbeitungsschritt mit einem Material, das gute Kontaktwiderstandseigenschaften aufweist, wie z. B. Gold, überzogen (z. B. plattiert) werden.
- Dies führt zu einer Verbindungsstruktur mit Verbundverbindungselementen (den überzogenen Zungen), die sich von deren oberen und unteren Oberflächen erstrecken, wie in Fig. 1D gezeigt, wobei jedes der sich nach oben erstreckenden Verbundverbindungselemente als Kragarm wirkt und durch die Folie (402) mit einer entsprechenden der sich nach unten erstreckenden Zungen verbunden ist, die auch als Kragarm wirken, wobei jedes der Verbundverbindungselemente in der Lage ist, einem jeweiligen Anschluss eines elektronischen Bauteils eine gewünschte Kontaktkraft (z. B. 15 Gramm) zu verleihen.
- In dieser Weise wird eine Zwischenlage 400 mit zwei Enden zum Verbinden eines Anschlusses 420 eines ersten elektronischen Bauteils (nicht dargestellt) mit einem entsprechenden Anschluss 422 eines zweiten elektronischen Bauteils (nicht dargestellt) erhalten, und eine zweite Verbindungsstruktur, die zur Verwendung in einer Zwischenlage geeignet ist, wird erhalten, welche zwei Enden zum Verbinden eines Anschlusses 424 des ersten elektronischen Bauteils (nicht dargestellt) mit einem entsprechenden Anschluss 426 des zweiten elektronischen Bauteils (nicht dargestellt) aufweist.
- Fig. 1D stellt eine Verbindungsstruktur 400 dar, die aus einem langgestreckten Element 416 besteht, das mit demselben Material 412 in der Weise zum Ausbilden der vorstehend erwähnten Verbindungsstrukturen überzogen wurde. Das längliche Element 416 ist der Länge nach auf das längliche Element 406 ausgerichtet und liegt in einem Abstand von diesem und das längliche Element 416 ist seitlich auf das längliche Element 406 ausgerichtet und liegt in einem Abstand von diesem, was zeigt, dass die Verbindungselemente in Matrizes angeordnet werden können.
- Ein Vorteil von diesem und, wie ersichtlich ist, anschließend beschriebenen Verfahren, besteht darin, dass eine weiche, nicht-elastische Metallschicht, die leicht ausgebildet (gestanzt und geformt) wird, überzogen werden kann, so dass sie robuste elastische Eigenschaften aufweist, in einer Weise ähnlich einem weichen Drahtkern, der geformt und überzogen wird, so dass er Elastizität aufweist.
- Es liegt innerhalb des Schutzbereichs dieser Erfindung, dass eine Befestigungsvorrichtung die Funktion des Maskierungsmaterials 408 während des Überzieh- (z. B. Plattierungs-) Prozesses erfüllen kann, was das Maskierungsmaterial unnötig macht.
- Es liegt innerhalb des Schutzbereichs dieser Erfindung, dass eine Vielzahl von Verbindungselementen als einzelne Kontaktstrukturen ausgebildet werden können, die anschließend nahe beieinander abgestützt werden sollen, wie z. B. mit einer Trägerschicht.
- Im Allgemeinen trägt die Trägerschicht (410) eine Vielzahl von Verbindungselementen in einer vorgeschriebenen Beziehung zueinander, wie z. B. in einem rechteckigen (x, y) Matrixmuster. Die Trägerschicht kann biegsam sein, wie vorstehend beschrieben, oder kann starr sein (z. B. wie aus Keramik bestehen). Eine biegsame Trägerschicht weist den Vorteil auf, dass sie ermöglicht, dass die abgestützten Verbindungselemente innerhalb eines bestimmten Bereichs von vertikalen Positionen "schweben", um sich auf Oberflächenschwankungen (Toleranzen) in elektronischen Bauteilen, die mit diesen verbunden werden, einzustellen.
- Die Fig. 2A-2F stellen ein alternatives Verfahren zur Herstellung einer Zwischenlage aus einer flachen Metallschicht dar.
- Wie in Fig. 2A gezeigt, wird eine flache Schicht aus einer weichen Metall- (z. B. Kupfer) Schicht (z. B. Folie) strukturiert (gestanzt, geätzt oder dergleichen), so dass sie zwei diametral entgegengesetzte längliche Elemente 504 und 506 aufweist, die im Allgemeinen nebeneinander und parallel zueinander liegen. Die länglichen Elemente 502 und 504 werden an ihren Basisenden durch einen Ring 508 gehalten.
- In einer Weise ähnlich zu dem Ausführungsbeispiel der Fig. 1A-1D wird eines der länglichen Elemente 504 so gebogen, dass es eine Zunge ist, die sich in einer Richtung erstreckt, und ein anderes der länglichen Elemente 506 wird als Zunge gebogen, die sich in einer entgegengesetzten Richtung erstreckt, was zu der in Fig. 2B gezeigten Anordnung führt (vergleiche Fig. 1B).
- Wie in Fig. 2C gezeigt, wird ein geeignetes Maskierungsmaterial 510 wie z. B. Photoresist auf die Schicht 502 außerhalb des Bereichs des Rings 506 und der länglichen Elemente 504 und 506 aufgebracht.
- Die Schicht 502 wird dann mit einem harten Metallmaterial (z. B. Nickel oder seinen Legierungen) 512 überzogen (z. B. plattiert), wodurch die Zungen (geformte längliche Elemente 504 und 506) in Verbindungselemente überführt werden, die als Federn wirken. Als nächstes wird das Maskierungsmaterial 510 entfernt und das gesamte nicht überzogene (mit 512) weiche Metall (502) wird entfernt, wie z. B. durch selektives Ätzen, was zu der Zwischenlagestruktur 500 von Fig. 2D führt, die Verbundverbindungselemente, die nach oben zeigen, und entsprechende Verbundverbindungselemente, die nach unten zeigen, aufweist, wobei sowohl die nach oben als auch nach unten zeigenden Verbindungselemente als Kragarme wirken, die jeweils in der Lage sind, einem jeweiligen Anschluss eines elektronischen Bauteils eine gewünschte Kontaktkraft (z. B. 15 Gramm) zu verleihen.
- In dieser Weise wird eine Zwischenlage 500 mit zwei Enden zum Verbinden eines Anschlusses 520 eines ersten elektronischen Bauteils (nicht dargestellt) mit einem entsprechenden Anschluss 522 eines zweiten elektronischen Bauteils (nicht dargestellt) erhalten.
- Als allgemeine Aussage ist das Ausführungsbeispiel 400 der Fig. 1A-1D gegenüber dem Ausführungsbeispiel 500 der Fig. 2A-2D bevorzugt.
- Wie in den Fig. 3A-3D gezeigt, kann ein ähnliches (z. B. zum vorher mit Bezug auf die Fig. 2A-2E beschriebenen Ausführungsbeispiel) durch Strukturieren einer weichen Metallfolie 602 so, dass sie zwei parallele (nebeneinander) längliche Elemente 604 und 606 aufweist, die sich einen gemeinsamen Basisteil 608 teilen, erhalten werden.
- Eines der länglichen Elemente 604 wird so gebogen, dass es eine Zunge ist, die sich in einer Richtung erstreckt, und ein anderes der länglichen Elemente 606 wird so gebogen, dass es eine Zunge ist, die sich in einer entgegengesetzten Richtung erstreckt, was zu der in Fig. 3B gezeigten Anordnung führt (vergleiche Fig. 2B).
- Wie in Fig. 3C gezeigt, wird ein geeignetes Maskierungsmaterial wie z. B. Photoresist 610 auf die Schicht 602 außerhalb des Bereichs der länglichen Elemente 604 und 606 und ihrer gemeinsamen Basis 608 aufgebracht.
- Die Schicht 602 wird dann mit einem harten Metallmaterial (z. B. Nickel oder seinen Legierungen) 612 überzogen (z. B. plattiert), wodurch die Zungen (geformte längliche Elemente 604 und 606) in Verbindungselemente überführt werden, die als Federn wirken. Als nächstes wird das Maskierungsmaterial 610 entfernt und das gesamte nicht überzogene (mit 612) weiche Metall (602) wird entfernt, wie z. B. durch selektives Ätzen, was zu der Zwischenlagestruktur 600 von Fig. 3D führt, die Verbundverbindungselemente, die nach oben zeigen, und entsprechende Verbundverbindungselemente, die nach unten zeigen, aufweist, wobei sowohl die nach oben als auch nach unten zeigenden Verbundverbindungselemente als Kragarme wirken, die jeweils in der Lage sind, einem jeweiligen Anschluss eines elektronischen Bauteils eine gewünschte Kontaktkraft (z. B. 15 Gramm) zu verleihen.
- In dieser Weise wird eine Zwischenlage 600 mit zwei Enden zum Verbinden eines Anschlusses 620 eines ersten elektronischen Bauteils (nicht dargestellt) mit einem entsprechenden Anschluss 622 eines zweiten elektronischen Bauteils (nicht dargestellt) erhalten.
- Obwohl nicht dargestellt, liegt es innerhalb des Schutzbereichs dieser Erfindung, dass eine Vielzahl von Verbindungselementen in einem gewünschten Muster (z. B. einer rechteckigen Matrix) durch Befestigen derselben an einem geeigneten Trägerelement wie z. B. einer Schicht, die mit einer Vielzahl von Löchern versehen ist, wie in Fig. 1C gezeigt, angeordnet werden können.
- Mit Bezug beispielsweise auf das Ausführungsbeispiel 400 der Fig. 1A-1D ist ersichtlich, dass die ursprüngliche (vor dem Biegen) Länge der länglichen Elemente (404, 406) eine Grenze dessen festlegt, wie weit sich die Zungen von der Schicht erstrecken können - mit anderen Worten, eine Begrenzung der Länge (und/oder Höhe) des resultierenden Verbindungselements.
- Wie hierin verwendet, bezieht sich der Begriff "Länge" im Allgemeinen auf die Längsabmessung eines länglichen Elements vor dem Formen (falls überhaupt), und der Begriff "Höhe) bezieht sich im Allgemeinen auf die Längsabmessung des länglichen Elements (und des resultierenden Verbindungselements) nach dem Formen und Beschichten. Für Zwecke der in diesem Dokument dargelegten Erörterung sind diese Begriffe im Allgemeinen austauschbar.
- Die Fig. 4A und 4B stellen Verfahren zur Herstellung von einzelnen Verbindungselementen wie z. B. zum Lagern einer Vielzahl von solchen "Federkontakt"-Elementen und zum späteren automatischen Montieren derselben an einem elektronischen Bauteil wie z. B. einem Halbleiterbauelement oder einem Trägersubstrat für eine Zwischenlage dar.
- Fig. 4A stellt ein Verfahren 800 dar, bei dem eine flache Schicht (Folie) 802 aus einem Material wie z. B. weichem Kupfer gestanzt, geätzt oder dergleichen wird, so dass sie eine Vielzahl (eines von vielen ist dargestellt) von länglichen Elementen (Zungen) 804 aufweist. Die länglichen Elemente 804 werden anschließend so geformt, dass sie eine Federform aufweisen. Jedes längliche Element 804 weist einen Basisteil 804a auf, der im Wesentlichen ein rudimentärer (restlicher) Teil der Schicht 802 ist und dem vorzugsweise ermöglicht wird, dass er mit der Schicht 802 koplanar bleibt. Jedes längliche Element 804 weist ein Ende (Spitze) 804b an einem entgegengesetzten Ende des länglichen Elements 804 vom Basisteil 804a auf. Das längliche Element 804 wird so gebogen, dass es eine beliebige geeignete federnde Form aufweist, in einem Bereich 804c, der zwischen der Spitze 804b und einem Teil 804d benachbart zum Basisteil 804a liegt.
- Ein geeignetes Maskierungsmaterial 806 wie z. B. Photoresist wird auf beide Seiten der Schicht 802 aufgebracht, einschließlich (wie gezeigt) wahlweise über den Basisteil 804a des länglichen Elements 804, wobei der "wirksame" Teil des länglichen Elements 804 unmaskiert gelassen wird. Das längliche Element wird dann mit einem geeigneten Material 808 überzogen, das nach seiner Fähigkeit ausgewählt wird, dem resultierenden Verbindungselement Elastizität zu verleihen, wie vorstehend beschrieben. Das Überzugsmaterial kann wahlweise den Basisteil 804a des länglichen Elements 804 bedecken.
- Das Maskierungsmaterial 806 wird dann entfernt, wie z. B. durch selektives Ätzen. Dies führt zu einer Vielzahl von einzelnen Verbundverbindungselementen, die an einem elektronischen Bauteil montiert oder in einer vorgeschriebenen räumlichen Beziehung (z. B. einer Matrix) zueinander durch Befestigen ihrer Basisteile (804a) an einem Trägersubstrat abgestützt werden können. Alternativ können eine Vielzahl von Verbindungselementen, die gemäß diesem Verfahren ausgebildet werden, durch ein Elastomer in einer Matrix aufgehängt werden.
- Fig. 4B stellt ein weiteres Verfahren 850 dar, bei dem eine flache Schicht (Folie) 852 aus einem Material wie z. B. weichem Kupfer gestanzt, geätzt oder dergleichen wird, so dass sie eine Vielzahl (sechs von vielen sind dargestellt) von länglichen Elementen (Zungen) 854 aufweist. Jede Zunge 854a ist mit dem Basisteil 804a im vorherigen Ausführungsbeispiel 800 vergleichbar. In diesem Ausführungsbeispiel 850 wird die Schicht so gestanzt, dass die Basisteile 854a alle miteinander verbunden sind. Die dargestellten "Brücken" 856 sind lediglich beispielhaft. Die länglichen Elemente können während oder nach dem Stanzen der Schicht geformt werden.
- Die länglichen Elemente 854 werden so geformt, dass sie eine Federform aufweisen, werden dann mit einem geeigneten Material (nicht dargestellt) überzogen, wie vorstehend beschrieben. Der Überzug (nicht dargestellt, vorstehend beschrieben) wird vorzugsweise aufgebracht, während die länglichen Elemente noch miteinander verbunden sind, und es ist nicht erforderlich, dass irgendein Maskierungsmaterial aufgebracht wird.
- In einem Endschritt wird die Schicht mit der Vielzahl von miteinander verbundenen, überzogenen länglichen Elementen weiter gestanzt, um die einzelnen überzogenen länglichen Elemente (Verbindungselemente) voneinander zu vereinzeln (trennen).
- Wie im vorherigen Beispiel 800 führt dieses Verfahren 850 zu einer Vielzahl von einzelnen Verbundverbindungselementen, die an einem elektronischen Bauteil montiert werden können oder in einer Matrix durch Befestigen ihrer Basisteile an einem Trägersubstrat miteinander abgestützt werden können. Alternativ können eine Vielzahl von Verbindungselementen, die gemäß diesem Verfahren ausgebildet werden, durch ein Elastomer in einer Matrix aufgehängt werden.
- Obwohl die Erfindung in den Zeichnungen und in der vorangehenden Beschreibung im einzelnen beschrieben wurde, soll dasselbe als erläuternder und nicht einschränkender Art betrachtet werden - wobei es selbstverständlich ist, dass nur bevorzugte Ausführungsbeispiele gezeigt und beschrieben wurden.
Claims (14)
1. Verfahren zur Herstellung einer Zwischenlage, die ein
erstes und ein zweites elektronisches Bauteil miteinander
verbindet, gekennzeichnet durch:
Ausbilden einer ersten Zunge (404a; 504; 604) und
einer zweiten Zunge (404b; 506; 606) in einer Schicht (402;
502; 602) aus einem ersten Metallmaterial;
Biegen der Zungen (404a, 404b; 504, 506; 604, 606), so
dass sich die erste Zunge (404a; 504; 604) in einer ersten
Richtung von der Schicht (402; 502; 602) erstreckt und so
dass sich die zweite Zunge (404b; 506; 606) in einer
zweiten Richtung von der Schicht erstreckt, wobei die
zweite Richtung zur ersten Richtung entgegengesetzt ist;
und
anschließendes Überziehen der Zungen mit einem zweiten
Metallmaterial (412; 512; 612), das eine höhere Dehngrenze
aufweist als das erste Material, wobei das zweite Material
den Zungen Elastizität verleiht.
2. Verfahren nach Anspruch 1, wobei: vor dem Biegen der
Zungen (404a, 404b) die erste Zunge (404a) der Länge nach
in einer Linie mit der zweiten Zunge (404b) liegt.
3. Verfahren nach Anspruch 1, wobei: vor dem Biegen der
Zungen (504, 506) die erste Zunge (504) zur zweiten Zunge
(506) parallel ist.
4. Verfahren nach Anspruch 1; wobei: vor dem Biegen der
Zungen (604, 606) die erste Zunge (604) zur zweiten Zunge
(606) parallel ist und die Zungen sich einen gemeinsamen
Basisteil (608) teilen.
5. Verfahren nach Anspruch 1, wobei die Zungen (404a,
404b; 504, 506; 604, 606) so gebogen werden, dass deren
Kontaktbereiche von einem Rest der Schicht (402; 502; 602)
entfernt sind.
6. Verfahren nach Anspruch 1, welches ferner umfasst:
Maskieren eines Teils der Schicht (402; 502; 602) mit
einer Maskierungsschicht (408; 510; 610), wobei die Zungen
(404a, 404b; 504, 506; 604, 606) selektiv mit dem zweiten
Material überzogen werden, wobei die Maskierungsschicht ein
Überziehen des maskierten Teils der Schicht verhindert.
7. Verfahren nach Anspruch 1, wobei die Schicht aus dem
ersten Material zwischen 0,001 und 0,005 Inch, d. h.
zwischen 25,4 und 127 Mikrometer dick ist.
8. Verfahren nach Anspruch 1, wobei jede Zunge (404a,
404b; 504, 506; 604, 606) sich um einen Abstand zwischen 5
und 100 mils von der Schicht (402; 502; 602), d. h. zwischen
127 und 2540 Mikrometer von der Schicht erstreckt.
9. Verfahren nach Anspruch 1, wobei das erste Material
aus der Gruppe ausgewählt ist, die aus Gold, weicher
Kupferlegierung und weicher Aluminiumlegierung besteht.
10. Verfahren nach Anspruch 1, wobei das zweite Material
Nickel umfasst.
11. Verfahren nach Anspruch 1, welches ferner umfasst
Befestigen eines Substrats (410) an der Schicht (402)
aus einem ersten Material, so dass eine Oberfläche des
Substrats und eine Oberfläche der Schicht parallel sind und
aneinandergrenzen,
Vorsehen einer Vielzahl von Öffnungen (430) im
Substrat (410), wobei jede Öffnung (430) eine jeweilige der
ersten und der zweiten Zunge (404a, 404b) aufnimmt, was
ermöglicht, dass die jeweilige eine Zunge durch die Öffnung
hindurchtritt, so dass sich die jeweilige eine Zunge an der
Oberfläche des Substrats entgegengesetzt zur Oberfläche des
Substrats, die an die Schicht (402) angrenzt, vorbei
erstrecken kann.
12. Verfahren nach Anspruch 11, ferner umfassend das
Aufbringen eines Maskierungsmaterials (408) auf eine
Oberfläche der Schicht (402) entgegengesetzt zur Oberfläche
der Schicht, die an das Substrat (410) angrenzt, und das
Strukturieren des Maskierungsmaterials (408), um eine
Vielzahl von Öffnungen vorzusehen, wobei jede Öffnung eine
jeweilige zweite der ersten und der zweiten Zunge (404a,
404b) aufnimmt, was ermöglicht, dass die jeweilige zweite
Zunge durch die Öffnung hindurchtritt.
13. Verfahren nach Anspruch 12, welches ferner das
galvanische Überziehen der ersten und der zweiten Zunge
(404a, 404b) mit dem zweiten Material umfasst, so dass
Teile der ersten oder der zweiten Zunge in den jeweiligen
Öffnungen im Substrat oder Öffnungen im Maskierungsmaterial
überzogen werden.
14. Verfahren nach Anspruch 13, welches ferner das
Entfernen des Teils der Schicht (402) umfasst, der nicht
mit dem zweiten Material überzogen wurde, so dass die erste
Zunge und die zweite Zunge (404a, 404b) elektrisch
miteinander verbunden sind.
Applications Claiming Priority (8)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US08/340,144 US5917707A (en) | 1993-11-16 | 1994-11-15 | Flexible contact structure with an electrically conductive shell |
| PCT/US1994/013373 WO1995014314A1 (en) | 1993-11-16 | 1994-11-16 | Contact structure for interconnections, interposer, semiconductor assembly and method |
| US08/452,255 US6336269B1 (en) | 1993-11-16 | 1995-05-26 | Method of fabricating an interconnection element |
| US08/457,479 US6049976A (en) | 1993-11-16 | 1995-06-01 | Method of mounting free-standing resilient electrical contact structures to electronic components |
| US52624695A | 1995-09-21 | 1995-09-21 | |
| US08/533,584 US5772451A (en) | 1993-11-16 | 1995-10-18 | Sockets for electronic components and methods of connecting to electronic components |
| US08/554,902 US5974662A (en) | 1993-11-16 | 1995-11-09 | Method of planarizing tips of probe elements of a probe card assembly |
| PCT/US1995/014843 WO1996016440A1 (en) | 1994-11-15 | 1995-11-13 | Interconnection elements for microelectronic components |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DE69530103D1 DE69530103D1 (de) | 2003-04-30 |
| DE69530103T2 true DE69530103T2 (de) | 2003-12-11 |
Family
ID=32686436
Family Applications (4)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DE69530103T Expired - Lifetime DE69530103T2 (de) | 1994-11-15 | 1995-11-13 | Verbindungselemente für mikroelektronische komponenten |
| DE69531996T Expired - Lifetime DE69531996T2 (de) | 1994-11-15 | 1995-11-13 | Elektrische kontaktstruktur aus flexiblem draht |
| DE69535629T Expired - Lifetime DE69535629T2 (de) | 1994-11-15 | 1995-11-13 | Montage von elektronischen komponenten auf einer leiterplatte |
| DE69533336T Expired - Lifetime DE69533336T2 (de) | 1994-11-15 | 1995-11-13 | Testkarte und ihre anwendung |
Family Applications After (3)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DE69531996T Expired - Lifetime DE69531996T2 (de) | 1994-11-15 | 1995-11-13 | Elektrische kontaktstruktur aus flexiblem draht |
| DE69535629T Expired - Lifetime DE69535629T2 (de) | 1994-11-15 | 1995-11-13 | Montage von elektronischen komponenten auf einer leiterplatte |
| DE69533336T Expired - Lifetime DE69533336T2 (de) | 1994-11-15 | 1995-11-13 | Testkarte und ihre anwendung |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (4) | EP1198001A3 (de) |
| JP (14) | JP2892505B2 (de) |
| KR (7) | KR20060087616A (de) |
| CN (2) | CN1251319C (de) |
| AU (4) | AU4283996A (de) |
| DE (4) | DE69530103T2 (de) |
| WO (4) | WO1996015458A1 (de) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE10317276A1 (de) * | 2003-04-11 | 2004-10-21 | E.G.O. Elektrogerätebau GmbH | Anordnung von Schalteinrichtungen |
| DE102004003275A1 (de) * | 2004-01-21 | 2005-08-25 | Infineon Technologies Ag | Verbindungselemente auf Halbleiterchips für Halbleiterbauteile und Verfahren zur Herstellung derselben |
Families Citing this family (219)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6043563A (en) * | 1997-05-06 | 2000-03-28 | Formfactor, Inc. | Electronic components with terminals and spring contact elements extending from areas which are remote from the terminals |
| US5371654A (en) * | 1992-10-19 | 1994-12-06 | International Business Machines Corporation | Three dimensional high performance interconnection package |
| US7368924B2 (en) | 1993-04-30 | 2008-05-06 | International Business Machines Corporation | Probe structure having a plurality of discrete insulated probe tips projecting from a support surface, apparatus for use thereof and methods of fabrication thereof |
| US7073254B2 (en) | 1993-11-16 | 2006-07-11 | Formfactor, Inc. | Method for mounting a plurality of spring contact elements |
| US20020053734A1 (en) | 1993-11-16 | 2002-05-09 | Formfactor, Inc. | Probe card assembly and kit, and methods of making same |
| US6741085B1 (en) | 1993-11-16 | 2004-05-25 | Formfactor, Inc. | Contact carriers (tiles) for populating larger substrates with spring contacts |
| US20020004320A1 (en) * | 1995-05-26 | 2002-01-10 | David V. Pedersen | Attaratus for socketably receiving interconnection elements of an electronic component |
| DE69635227T2 (de) * | 1995-05-26 | 2006-06-29 | Formfactor, Inc., Livermore | Kontakträger zum bestücken von substraten mit federkontakten |
| US6685817B1 (en) | 1995-05-26 | 2004-02-03 | Formfactor, Inc. | Method and apparatus for controlling plating over a face of a substrate |
| US6483328B1 (en) * | 1995-11-09 | 2002-11-19 | Formfactor, Inc. | Probe card for probing wafers with raised contact elements |
| DE69733928T2 (de) | 1996-05-17 | 2006-06-14 | Formfactor Inc | Mikroelektronische kontaktstruktur und herstellungsverfahren dazu |
| JP2940475B2 (ja) * | 1996-06-24 | 1999-08-25 | 日本電気株式会社 | Icのパッケージ、icのプローバ及びそれらの製造方法 |
| AU3603497A (en) * | 1996-07-05 | 1998-02-02 | Formfactor, Inc. | Floating lateral support for ends of elongate interconnection elements |
| WO1998011446A1 (en) | 1996-09-13 | 1998-03-19 | International Business Machines Corporation | Integrated compliant probe for wafer level test and burn-in |
| JP2000502810A (ja) | 1996-09-13 | 2000-03-07 | インターナシヨナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーシヨン | 支持面から突出した複数の個別絶縁プローブ・チップを有するプローブ構造、それを使用するための装置および製造方法 |
| US7282945B1 (en) | 1996-09-13 | 2007-10-16 | International Business Machines Corporation | Wafer scale high density probe assembly, apparatus for use thereof and methods of fabrication thereof |
| US6690185B1 (en) | 1997-01-15 | 2004-02-10 | Formfactor, Inc. | Large contactor with multiple, aligned contactor units |
| US5921786A (en) * | 1997-04-03 | 1999-07-13 | Kinetrix, Inc. | Flexible shielded laminated beam for electrical contacts and the like and method of contact operation |
| AU8280398A (en) | 1997-06-30 | 1999-01-19 | Formfactor, Inc. | Sockets for semiconductor devices with spring contact elements |
| WO1999014404A1 (en) * | 1997-09-17 | 1999-03-25 | Formfactor, Inc. | Method of making a structure with improved material properties by moderate heat treatment of a metal deposit |
| US6378809B1 (en) | 1997-10-10 | 2002-04-30 | Space Systems | AFT deployable thermal radiators for spacecraft |
| US6724203B1 (en) | 1997-10-30 | 2004-04-20 | International Business Machines Corporation | Full wafer test configuration using memory metals |
| US6497581B2 (en) | 1998-01-23 | 2002-12-24 | Teradyne, Inc. | Robust, small scale electrical contactor |
| US5973394A (en) * | 1998-01-23 | 1999-10-26 | Kinetrix, Inc. | Small contactor for test probes, chip packaging and the like |
| US6078500A (en) * | 1998-05-12 | 2000-06-20 | International Business Machines Inc. | Pluggable chip scale package |
| US6705876B2 (en) | 1998-07-13 | 2004-03-16 | Formfactor, Inc. | Electrical interconnect assemblies and methods |
| JP4490978B2 (ja) * | 1998-08-12 | 2010-06-30 | 東京エレクトロン株式会社 | コンタクタ |
| US6218910B1 (en) | 1999-02-25 | 2001-04-17 | Formfactor, Inc. | High bandwidth passive integrated circuit tester probe card assembly |
| US6448865B1 (en) | 1999-02-25 | 2002-09-10 | Formfactor, Inc. | Integrated circuit interconnect system |
| US6208225B1 (en) | 1999-02-25 | 2001-03-27 | Formfactor, Inc. | Filter structures for integrated circuit interfaces |
| US6459343B1 (en) | 1999-02-25 | 2002-10-01 | Formfactor, Inc. | Integrated circuit interconnect system forming a multi-pole filter |
| AU5156300A (en) * | 1999-05-27 | 2000-12-18 | Nanonexus, Inc. | Construction structures and manufacturing processes for integrated circuit waferprobe card assemblies |
| US7382142B2 (en) | 2000-05-23 | 2008-06-03 | Nanonexus, Inc. | High density interconnect system having rapid fabrication cycle |
| US6799976B1 (en) | 1999-07-28 | 2004-10-05 | Nanonexus, Inc. | Construction structures and manufacturing processes for integrated circuit wafer probe card assemblies |
| AU5171800A (en) * | 1999-05-27 | 2000-12-18 | Nanonexus, Inc. | Massively parallel interface for electronic circuit |
| US6812718B1 (en) | 1999-05-27 | 2004-11-02 | Nanonexus, Inc. | Massively parallel interface for electronic circuits |
| US7247035B2 (en) | 2000-06-20 | 2007-07-24 | Nanonexus, Inc. | Enhanced stress metal spring contactor |
| US7349223B2 (en) | 2000-05-23 | 2008-03-25 | Nanonexus, Inc. | Enhanced compliant probe card systems having improved planarity |
| US7215131B1 (en) | 1999-06-07 | 2007-05-08 | Formfactor, Inc. | Segmented contactor |
| US7189077B1 (en) | 1999-07-30 | 2007-03-13 | Formfactor, Inc. | Lithographic type microelectronic spring structures with improved contours |
| US6939474B2 (en) | 1999-07-30 | 2005-09-06 | Formfactor, Inc. | Method for forming microelectronic spring structures on a substrate |
| US6888362B2 (en) | 2000-11-09 | 2005-05-03 | Formfactor, Inc. | Test head assembly for electronic components with plurality of contoured microelectronic spring contacts |
| US6780001B2 (en) | 1999-07-30 | 2004-08-24 | Formfactor, Inc. | Forming tool for forming a contoured microelectronic spring mold |
| US6398558B1 (en) * | 1999-08-04 | 2002-06-04 | Fci Americas Technology, Inc. | Electrical connector and contact therefor |
| US6468098B1 (en) * | 1999-08-17 | 2002-10-22 | Formfactor, Inc. | Electrical contactor especially wafer level contactor using fluid pressure |
| JP4574096B2 (ja) * | 1999-09-09 | 2010-11-04 | 日本発條株式会社 | 導電性接触子 |
| US6657455B2 (en) * | 2000-01-18 | 2003-12-02 | Formfactor, Inc. | Predictive, adaptive power supply for an integrated circuit under test |
| US6509751B1 (en) | 2000-03-17 | 2003-01-21 | Formfactor, Inc. | Planarizer for a semiconductor contactor |
| US7262611B2 (en) * | 2000-03-17 | 2007-08-28 | Formfactor, Inc. | Apparatuses and methods for planarizing a semiconductor contactor |
| JP2003528459A (ja) * | 2000-03-17 | 2003-09-24 | フォームファクター,インコーポレイテッド | 半導体接触器を平坦化するための方法と装置 |
| JP4088015B2 (ja) | 2000-03-24 | 2008-05-21 | 株式会社新川 | 湾曲状ワイヤの形成方法 |
| US7952373B2 (en) * | 2000-05-23 | 2011-05-31 | Verigy (Singapore) Pte. Ltd. | Construction structures and manufacturing processes for integrated circuit wafer probe card assemblies |
| US7579848B2 (en) | 2000-05-23 | 2009-08-25 | Nanonexus, Inc. | High density interconnect system for IC packages and interconnect assemblies |
| JP2002267687A (ja) * | 2001-03-12 | 2002-09-18 | Advantest Corp | プローブカード及び試験装置 |
| JP2002343478A (ja) * | 2001-05-16 | 2002-11-29 | Tyco Electronics Amp Kk | 電気コンタクトおよびそれを用いた電気接続部材 |
| US6747469B2 (en) * | 2001-11-08 | 2004-06-08 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Preconditioning integrated circuit for integrated circuit testing |
| US6817052B2 (en) | 2001-11-09 | 2004-11-16 | Formfactor, Inc. | Apparatuses and methods for cleaning test probes |
| US20030115517A1 (en) * | 2001-12-18 | 2003-06-19 | Rutten Ivo Wilhelmus Johaooes Marie | Microprocessor-based probe for integrated circuit testing |
| DE60226076T2 (de) * | 2001-12-27 | 2009-06-25 | Formfactor, Inc., Livermore | Kühlungseinrichtung mit direkter kühlung von aktiven elektronischen komponenten |
| US7064953B2 (en) | 2001-12-27 | 2006-06-20 | Formfactor, Inc. | Electronic package with direct cooling of active electronic components |
| US6891385B2 (en) | 2001-12-27 | 2005-05-10 | Formfactor, Inc. | Probe card cooling assembly with direct cooling of active electronic components |
| US6840374B2 (en) | 2002-01-18 | 2005-01-11 | Igor Y. Khandros | Apparatus and method for cleaning test probes |
| DE10220194A1 (de) * | 2002-05-06 | 2003-11-27 | Infineon Technologies Ag | Kontaktierung von Nanoröhren |
| US20030211139A1 (en) * | 2002-05-07 | 2003-11-13 | Thierry Legon | Dispersions of lipid particles for use as therapeutic and cosmetic agents and intracellular delivery vehicles |
| US6965244B2 (en) | 2002-05-08 | 2005-11-15 | Formfactor, Inc. | High performance probe system |
| US6911835B2 (en) * | 2002-05-08 | 2005-06-28 | Formfactor, Inc. | High performance probe system |
| EP1367643B1 (de) * | 2002-05-15 | 2006-04-05 | Tyco Electronics AMP GmbH | Elektronikmodul |
| ATE322743T1 (de) | 2002-05-15 | 2006-04-15 | Tyco Electronics Amp Gmbh | Elektronikmodul |
| US7122760B2 (en) * | 2002-11-25 | 2006-10-17 | Formfactor, Inc. | Using electric discharge machining to manufacture probes |
| US6920689B2 (en) | 2002-12-06 | 2005-07-26 | Formfactor, Inc. | Method for making a socket to perform testing on integrated circuits |
| JP4003230B2 (ja) | 2003-01-23 | 2007-11-07 | 船井電機株式会社 | ボールグリッドアレイ型icの実装構造 |
| GB0325247D0 (en) * | 2003-10-29 | 2003-12-03 | Conductive Inkjet Tech Ltd | Method of forming a conductive metal region on a substrate |
| JP2004259530A (ja) | 2003-02-25 | 2004-09-16 | Shinko Electric Ind Co Ltd | 外部接触端子を有する半導体装置及びその使用方法 |
| US7066751B2 (en) * | 2003-04-23 | 2006-06-27 | Asustek Computer Inc. | Adjustable connector module |
| US6958670B2 (en) * | 2003-08-01 | 2005-10-25 | Raytheon Company | Offset connector with compressible conductor |
| CN100583566C (zh) * | 2003-08-22 | 2010-01-20 | Abb瑞士有限公司 | 用于功率半导体模块中的接触设备的压力接触弹簧 |
| DE10345377B4 (de) * | 2003-09-30 | 2009-07-30 | Qimonda Ag | Halbleitermodul und Verfahren zur Herstellung eines Halbleitermoduls |
| JP2005127952A (ja) * | 2003-10-27 | 2005-05-19 | Sumitomo Electric Ind Ltd | コンタクトプローブおよびその製造方法 |
| DE10355921B4 (de) * | 2003-11-29 | 2005-12-22 | Festo Ag & Co. | Elektrische Schaltungsanordnung mit einem elektronischen Chip in einer Aufnahmevorrichtung des Schaltungsträgers |
| JP2005201813A (ja) | 2004-01-16 | 2005-07-28 | Shinko Electric Ind Co Ltd | 半導体検査装置及びコンタクトの製造方法 |
| TW200525675A (en) | 2004-01-20 | 2005-08-01 | Tokyo Electron Ltd | Probe guard |
| US7251884B2 (en) * | 2004-04-26 | 2007-08-07 | Formfactor, Inc. | Method to build robust mechanical structures on substrate surfaces |
| EP1742073A1 (de) * | 2004-04-27 | 2007-01-10 | Kabushiki Kaisha Nihon Micronics | Elektrische verbindungseinrichtung |
| CN1316508C (zh) * | 2004-05-11 | 2007-05-16 | 番禺得意精密电子工业有限公司 | 一种电连接器 |
| USRE43503E1 (en) | 2006-06-29 | 2012-07-10 | Microprobe, Inc. | Probe skates for electrical testing of convex pad topologies |
| US9097740B2 (en) | 2004-05-21 | 2015-08-04 | Formfactor, Inc. | Layered probes with core |
| US9476911B2 (en) | 2004-05-21 | 2016-10-25 | Microprobe, Inc. | Probes with high current carrying capability and laser machining methods |
| US8988091B2 (en) | 2004-05-21 | 2015-03-24 | Microprobe, Inc. | Multiple contact probes |
| DE102004061853A1 (de) * | 2004-12-22 | 2006-03-02 | Infineon Technologies Ag | Trägervorrichtung zum Aufnehmen von Halbleiterbauelementen und Verfahren zur Herstellung einer entsprechenden Trägervorrichtung |
| KR100788208B1 (ko) | 2005-03-08 | 2007-12-26 | 동경 엘렉트론 주식회사 | 접속핀의 형성 방법, 프로브, 접속핀, 프로브 카드 및프로브의 제조 방법 |
| DE102005013323A1 (de) | 2005-03-22 | 2006-10-05 | Infineon Technologies Ag | Kontaktierungsvorrichtung zum Kontaktieren einer integrierten Schaltung, insbesondere eines Chips oder eines Wafers, mit einer Testervorrichtung, entsprechendes Testverfahren und entsprechendes Herstellungsverfahren |
| US7371676B2 (en) | 2005-04-08 | 2008-05-13 | Micron Technology, Inc. | Method for fabricating semiconductor components with through wire interconnects |
| US7393770B2 (en) * | 2005-05-19 | 2008-07-01 | Micron Technology, Inc. | Backside method for fabricating semiconductor components with conductive interconnects |
| WO2006126279A1 (ja) * | 2005-05-23 | 2006-11-30 | Kabushiki Kaisha Nihon Micronics | プローブ組立体、その製造方法および電気的接続装置 |
| JP4472593B2 (ja) | 2005-07-12 | 2010-06-02 | 東京エレクトロン株式会社 | プローブカード |
| US20070057685A1 (en) * | 2005-09-14 | 2007-03-15 | Touchdown Technologies, Inc. | Lateral interposer contact design and probe card assembly |
| JP4860242B2 (ja) | 2005-11-11 | 2012-01-25 | 東京エレクトロン株式会社 | プローブ装置 |
| US8018242B2 (en) | 2005-12-05 | 2011-09-13 | Nhk Spring Co., Ltd. | Probe card |
| JP4823667B2 (ja) | 2005-12-05 | 2011-11-24 | 日本発條株式会社 | プローブカード |
| US7307348B2 (en) | 2005-12-07 | 2007-12-11 | Micron Technology, Inc. | Semiconductor components having through wire interconnects (TWI) |
| JP2007165383A (ja) | 2005-12-09 | 2007-06-28 | Ibiden Co Ltd | 部品実装用ピンを形成したプリント基板 |
| JP4654897B2 (ja) | 2005-12-09 | 2011-03-23 | イビデン株式会社 | 部品実装用ピンを有するプリント配線板の製造方法 |
| JP2007165747A (ja) * | 2005-12-16 | 2007-06-28 | Unitechno Inc | システムインパッケージ(SiP)用半導体チップ接触機構 |
| JP2007183194A (ja) * | 2006-01-10 | 2007-07-19 | Micronics Japan Co Ltd | プロービング装置 |
| US7312617B2 (en) | 2006-03-20 | 2007-12-25 | Microprobe, Inc. | Space transformers employing wire bonds for interconnections with fine pitch contacts |
| WO2007114790A1 (en) * | 2006-03-31 | 2007-10-11 | Agency For Science, Technology And Research | Method of fabricating an interconnection for electrically connecting an electrical component to a substrate |
| US7659612B2 (en) | 2006-04-24 | 2010-02-09 | Micron Technology, Inc. | Semiconductor components having encapsulated through wire interconnects (TWI) |
| CN101467051B (zh) | 2006-06-08 | 2012-03-28 | 日本发条株式会社 | 探针卡 |
| KR100771476B1 (ko) * | 2006-06-16 | 2007-10-30 | 가부시키가이샤 니혼 마이크로닉스 | 전기적 접속장치 |
| FR2905520A1 (fr) * | 2006-09-04 | 2008-03-07 | St Microelectronics Sa | Boitier semi-conducteur a composants inverses et procede de fabrication d'un tel boitier |
| US8907689B2 (en) | 2006-10-11 | 2014-12-09 | Microprobe, Inc. | Probe retention arrangement |
| JP2008145208A (ja) * | 2006-12-08 | 2008-06-26 | Hitachi High-Technologies Corp | 半導体検査装置 |
| US20100190387A1 (en) * | 2007-01-31 | 2010-07-29 | Gigaset Communications Gmbh | Contact System |
| US7764076B2 (en) | 2007-02-20 | 2010-07-27 | Centipede Systems, Inc. | Method and apparatus for aligning and/or leveling a test head |
| US7955158B2 (en) * | 2007-03-26 | 2011-06-07 | Mattel, Inc. | Toy vehicle booster and track set |
| US7514948B2 (en) | 2007-04-10 | 2009-04-07 | Microprobe, Inc. | Vertical probe array arranged to provide space transformation |
| WO2009011365A1 (ja) | 2007-07-19 | 2009-01-22 | Nhk Spring Co., Ltd. | プローブカード |
| KR100950446B1 (ko) * | 2007-09-11 | 2010-04-02 | 윌테크놀러지(주) | Pcb를 구비하는 스페이스 트랜스포머 및 이를 포함하는프로브 카드 |
| KR100920790B1 (ko) | 2007-10-22 | 2009-10-08 | 가부시키가이샤 니혼 마이크로닉스 | 프로브 조립체, 그 제조방법 및 전기적 접속장치 |
| DE102007054709B4 (de) | 2007-11-16 | 2014-11-13 | Semikron Elektronik Gmbh & Co. Kg | Leistungshalbleitermodul mit einem Substrat und mit einer Druckeinrichtung |
| WO2009107747A1 (ja) | 2008-02-29 | 2009-09-03 | 日本発條株式会社 | 配線基板およびプローブカード |
| KR100951344B1 (ko) * | 2008-03-25 | 2010-04-08 | 주식회사 아이엠텍 | 프로브 카드, 프로브 카드용 스페이스 트랜스포머 및스페이스 트랜스포머 제조 방법 |
| JP5511155B2 (ja) * | 2008-06-25 | 2014-06-04 | パナソニック株式会社 | インターポーザ基板とその製造方法 |
| DE102008034918B4 (de) * | 2008-07-26 | 2012-09-27 | Feinmetall Gmbh | Elektrische Prüfeinrichtung für die Prüfung eines elektrischen Prüflings sowie elektrisches Prüfverfahren |
| KR101235228B1 (ko) * | 2008-08-08 | 2013-02-20 | 니혼 하츠쵸 가부시키가이샤 | 워크 부재, 전기 접점 부재, 콘택트 프로브 및 전기 접점 부재의 제조방법 |
| EP2159580B1 (de) * | 2008-08-26 | 2015-10-07 | Lake Shore Cryotronics, Inc. | Sondenspitze |
| DE102008059314A1 (de) * | 2008-11-27 | 2010-06-02 | Conti Temic Microelectronic Gmbh | Gehäuse mit einem toleranzbehafteten elektronischen Bauteil |
| KR101067497B1 (ko) * | 2008-12-20 | 2011-09-27 | 주식회사 바른전자 | 반도체 패키지 |
| US8232818B2 (en) | 2009-02-19 | 2012-07-31 | Advantest America, Inc. | Probe head for a microelectronic contactor assembly, the probe head having SMT electronic components thereon |
| US8047856B2 (en) | 2010-02-24 | 2011-11-01 | Avago Technologies Fiber Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Array connector for optical transceiver module |
| JP5556316B2 (ja) * | 2010-04-02 | 2014-07-23 | 株式会社デンソー | 表面実装型電子部品及び表面実装型電子部品の実装構造 |
| US8414309B2 (en) * | 2010-05-03 | 2013-04-09 | Avago Technologies Fiber Ip (Singapore) Pte. Ltd | Receptacle for an optical transceiver module for protecting the module from airborne particles |
| JP5564328B2 (ja) * | 2010-05-19 | 2014-07-30 | 新光電気工業株式会社 | ソケット |
| JP2011258364A (ja) | 2010-06-08 | 2011-12-22 | Shinko Electric Ind Co Ltd | ソケット |
| JP2012004464A (ja) * | 2010-06-18 | 2012-01-05 | Toshiba Corp | 半導体装置、半導体装置の製造方法及び半導体装置の製造装置 |
| US9233627B2 (en) | 2010-06-24 | 2016-01-12 | Johnson Controls Technology Company | Electro-mechanical push button vehicle seat actuation mechanism |
| US8482111B2 (en) | 2010-07-19 | 2013-07-09 | Tessera, Inc. | Stackable molded microelectronic packages |
| JP5713598B2 (ja) | 2010-07-20 | 2015-05-07 | 新光電気工業株式会社 | ソケット及びその製造方法 |
| JP5788166B2 (ja) * | 2010-11-02 | 2015-09-30 | 新光電気工業株式会社 | 接続端子構造及びその製造方法、並びにソケット |
| JP5582995B2 (ja) | 2010-12-14 | 2014-09-03 | 新光電気工業株式会社 | ソケット |
| KR101118836B1 (ko) | 2011-02-11 | 2012-03-16 | 에프컴 코포레이션 | 전극패턴 검사장치 |
| JP5777997B2 (ja) | 2011-03-07 | 2015-09-16 | 日本特殊陶業株式会社 | 電子部品検査装置用配線基板およびその製造方法 |
| JP5798435B2 (ja) | 2011-03-07 | 2015-10-21 | 日本特殊陶業株式会社 | 電子部品検査装置用配線基板およびその製造方法 |
| KR101128063B1 (ko) | 2011-05-03 | 2012-04-23 | 테세라, 인코포레이티드 | 캡슐화 층의 표면에 와이어 본드를 구비하는 패키지 적층형 어셈블리 |
| KR101649521B1 (ko) * | 2011-05-13 | 2016-08-22 | 리노공업주식회사 | 프로브 및 그 제조방법 |
| CN102305880A (zh) * | 2011-09-08 | 2012-01-04 | 高德(无锡)电子有限公司 | 防止印刷电路板电镀软金电性测试扎伤转接板 |
| US8404520B1 (en) * | 2011-10-17 | 2013-03-26 | Invensas Corporation | Package-on-package assembly with wire bond vias |
| US9229029B2 (en) * | 2011-11-29 | 2016-01-05 | Formfactor, Inc. | Hybrid electrical contactor |
| WO2013095628A1 (en) * | 2011-12-23 | 2013-06-27 | Intel Corpporation | High bandwidth connector for internal and external io interfaces |
| WO2013101226A1 (en) * | 2011-12-30 | 2013-07-04 | Intel Corporation | Apparatus and method for automated sort probe assembly and repair |
| JPWO2013108759A1 (ja) | 2012-01-18 | 2015-05-11 | 日本発條株式会社 | スペーストランスフォーマおよびプローブカード |
| US8835228B2 (en) | 2012-05-22 | 2014-09-16 | Invensas Corporation | Substrate-less stackable package with wire-bond interconnect |
| US8796132B2 (en) * | 2012-06-29 | 2014-08-05 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | System and method for forming uniform rigid interconnect structures |
| US9502390B2 (en) | 2012-08-03 | 2016-11-22 | Invensas Corporation | BVA interposer |
| CN103682725A (zh) * | 2012-09-24 | 2014-03-26 | 富士康(昆山)电脑接插件有限公司 | 电连接器及其导电端子 |
| US9134343B2 (en) | 2012-09-28 | 2015-09-15 | Intel Corporation | Sort probe gripper |
| US9106027B2 (en) | 2012-12-21 | 2015-08-11 | Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Methods, apparatuses and systems for mid-plane mounting parallel optical communications modules on circuit boards |
| DE102013200308A1 (de) * | 2013-01-11 | 2014-07-17 | Infineon Technologies Ag | Bonddraht und Verfahren zur Herstellung einer Bondverbindung |
| JP6092729B2 (ja) * | 2013-07-19 | 2017-03-08 | 新光電気工業株式会社 | プローブカード及びその製造方法 |
| US9167710B2 (en) | 2013-08-07 | 2015-10-20 | Invensas Corporation | Embedded packaging with preformed vias |
| US9583456B2 (en) | 2013-11-22 | 2017-02-28 | Invensas Corporation | Multiple bond via arrays of different wire heights on a same substrate |
| TWI481876B (zh) * | 2013-12-13 | 2015-04-21 | Mpi Corp | Probe module (3) |
| US9583411B2 (en) | 2014-01-17 | 2017-02-28 | Invensas Corporation | Fine pitch BVA using reconstituted wafer with area array accessible for testing |
| US10381326B2 (en) | 2014-05-28 | 2019-08-13 | Invensas Corporation | Structure and method for integrated circuits packaging with increased density |
| CN105588957B (zh) * | 2014-11-12 | 2019-03-22 | 致伸科技股份有限公司 | 测试座 |
| JP6407672B2 (ja) * | 2014-11-18 | 2018-10-17 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | 半導体装置の製造方法 |
| TW201625962A (zh) * | 2014-12-04 | 2016-07-16 | 技術探測股份有限公司 | 包括垂直探針之測試頭 |
| KR102542154B1 (ko) * | 2014-12-30 | 2023-06-13 | 테크노프로브 에스.피.에이. | 테스트 헤드용 접촉 프로브 |
| US9888579B2 (en) | 2015-03-05 | 2018-02-06 | Invensas Corporation | Pressing of wire bond wire tips to provide bent-over tips |
| WO2016195766A1 (en) * | 2015-05-29 | 2016-12-08 | R&D Circuits, Inc. | Improved power supply transient performance (power integrity) for a probe card assembly in an integrated circuit test environment |
| CN106449581A (zh) * | 2015-08-04 | 2017-02-22 | 三垦电气株式会社 | 半导体装置 |
| US10490528B2 (en) | 2015-10-12 | 2019-11-26 | Invensas Corporation | Embedded wire bond wires |
| US9490222B1 (en) | 2015-10-12 | 2016-11-08 | Invensas Corporation | Wire bond wires for interference shielding |
| US10332854B2 (en) | 2015-10-23 | 2019-06-25 | Invensas Corporation | Anchoring structure of fine pitch bva |
| US10181457B2 (en) | 2015-10-26 | 2019-01-15 | Invensas Corporation | Microelectronic package for wafer-level chip scale packaging with fan-out |
| US9984992B2 (en) | 2015-12-30 | 2018-05-29 | Invensas Corporation | Embedded wire bond wires for vertical integration with separate surface mount and wire bond mounting surfaces |
| CN105682356B (zh) * | 2016-03-11 | 2018-07-27 | 广东欧珀移动通信有限公司 | 柔性电路板组件及电子设备 |
| CN105912788B (zh) * | 2016-04-14 | 2019-03-12 | 中车长春轨道客车股份有限公司 | 端部接触式少片抛物线型主副簧的副簧刚度设计方法 |
| US20170330677A1 (en) * | 2016-05-11 | 2017-11-16 | Cascade Microtech, Inc. | Space transformers, planarization layers for space transformers, methods of fabricating space transformers, and methods of planarizing space transformers |
| US10263352B2 (en) * | 2016-06-10 | 2019-04-16 | Te Connectivity Corporation | Electrical contact pad for electrically contacting a connector |
| US10120020B2 (en) | 2016-06-16 | 2018-11-06 | Formfactor Beaverton, Inc. | Probe head assemblies and probe systems for testing integrated circuit devices |
| US9935075B2 (en) | 2016-07-29 | 2018-04-03 | Invensas Corporation | Wire bonding method and apparatus for electromagnetic interference shielding |
| CN106271010A (zh) * | 2016-08-29 | 2017-01-04 | 苏州倍声声学技术有限公司 | 微细线储能冲击焊接工艺 |
| US10299368B2 (en) | 2016-12-21 | 2019-05-21 | Invensas Corporation | Surface integrated waveguides and circuit structures therefor |
| US10782316B2 (en) | 2017-01-09 | 2020-09-22 | Delta Design, Inc. | Socket side thermal system |
| DE102017211619A1 (de) * | 2017-02-08 | 2018-08-09 | Siemens Aktiengesellschaft | Verfahren zur elektrischen Kontaktierung und Leistungsmodul |
| JP2018174018A (ja) * | 2017-03-31 | 2018-11-08 | タイコエレクトロニクスジャパン合同会社 | ソケット |
| US10109490B1 (en) | 2017-06-20 | 2018-10-23 | Globalfoundries Inc. | Cobalt interconnects formed by selective bottom-up fill |
| KR101977473B1 (ko) * | 2017-07-27 | 2019-05-10 | 주식회사 기가레인 | 플럭스 확산이 개선된 프로브핀 및 이의 제조 방법 |
| CN111913019A (zh) * | 2017-09-15 | 2020-11-10 | 中华精测科技股份有限公司 | 探针卡装置的圆形探针 |
| CN107622978A (zh) * | 2017-10-13 | 2018-01-23 | 中国电子科技集团公司第十三研究所 | 一种陶瓷封装外壳 |
| CN107978578B (zh) * | 2017-11-23 | 2020-02-21 | 中国科学院力学研究所 | 一种变线宽的柔性可拉伸导线及其制备方法 |
| CN108188521B (zh) * | 2018-01-25 | 2020-10-02 | 山东建筑大学 | 一种钼铼合金箔材的高频感应加热钎焊方法 |
| WO2019176380A1 (ja) * | 2018-03-16 | 2019-09-19 | 富士電機株式会社 | 半導体装置 |
| CN108666308B (zh) * | 2018-06-19 | 2019-06-18 | 清华大学 | 柔性集成封装系统 |
| TWI668457B (zh) * | 2018-08-27 | 2019-08-11 | 創意電子股份有限公司 | 檢測裝置 |
| TWI672764B (zh) * | 2018-11-07 | 2019-09-21 | 國立成功大學 | 晶片封裝裝置及其對位壓合方法 |
| KR102168622B1 (ko) * | 2018-12-05 | 2020-10-21 | 경북대학교 산학협력단 | 국부 항복 전류를 이용한 선택적 열처리 방법 및 국부 항복 전류를 이용한 선택적 열처리용 프로브카드 |
| KR102163321B1 (ko) * | 2019-02-08 | 2020-10-21 | 화인인스트루먼트 (주) | 프로브 카드 및 그 제조 방법 |
| KR102139584B1 (ko) * | 2019-03-07 | 2020-07-30 | (주)티에스이 | 반도체 소자 테스트용 소켓 장치 |
| JP7206140B2 (ja) | 2019-03-22 | 2023-01-17 | 株式会社ヨコオ | 検査装置 |
| EP3719466A1 (de) * | 2019-04-01 | 2020-10-07 | Heraeus Nexensos GmbH | 3d-verbinderstruktur, verfahren zur herstellung einer 3d-verbinderstruktur und temperatursensor |
| KR20200123743A (ko) * | 2019-04-22 | 2020-10-30 | 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤 | 검사 방법, 수지 필름 롤의 제조 방법 및 수지 필름 롤 |
| US11561243B2 (en) * | 2019-09-12 | 2023-01-24 | International Business Machines Corporation | Compliant organic substrate assembly for rigid probes |
| JP7370055B2 (ja) * | 2020-02-12 | 2023-10-27 | 株式会社新川 | 半導体装置の製造方法及びワイヤボンディング装置 |
| KR102179457B1 (ko) * | 2020-03-25 | 2020-11-16 | (주)티에스이 | 테스트 소켓 및 이를 포함하는 테스트 장치와, 테스트 소켓의 제조방법 |
| WO2021200642A1 (ja) * | 2020-03-31 | 2021-10-07 | 積水ポリマテック株式会社 | 導電部材 |
| KR102410156B1 (ko) * | 2020-06-02 | 2022-06-17 | (주)티에스이 | 반도체 패키지의 테스트 장치 |
| KR102821123B1 (ko) * | 2020-07-02 | 2025-06-18 | 주식회사 케이엠더블유 | 솔더 기판 조립체 |
| TWI745197B (zh) * | 2020-12-18 | 2021-11-01 | 鴻勁精密股份有限公司 | 定位機構、作業機、測試機及測試設備 |
| CN112757161B (zh) * | 2020-12-31 | 2022-04-19 | 上海超硅半导体股份有限公司 | 一种抛光载具的修整方法 |
| JP2024527711A (ja) | 2021-06-30 | 2024-07-26 | デルタ・デザイン・インコーポレイテッド | 接触器アセンブリを含む温度制御システム |
| DE102021117095A1 (de) | 2021-07-02 | 2023-01-05 | Umicore Galvanotechnik Gmbh | Bronzeschichten als Edelmetallersatz |
| US12241912B2 (en) | 2021-10-22 | 2025-03-04 | Raytheon Company | Socketless or flush mount QFN (quad flat no lead) test board, fixture, and method |
| WO2023157900A1 (ja) * | 2022-02-18 | 2023-08-24 | ヌヴォトンテクノロジージャパン株式会社 | プローブユニット、検査装置、検査システム、検査方法、及び半導体レーザ装置の製造方法 |
| EP4325227B1 (de) * | 2022-08-16 | 2025-10-01 | Heraeus Precious Metals GmbH & Co. KG | Bandförmiger verbundwerkstoff für prüfnadeln |
| KR102824815B1 (ko) * | 2023-03-06 | 2025-06-25 | 퀄맥스 주식회사 | 블레이드 핀 |
| KR102843660B1 (ko) * | 2024-02-27 | 2025-08-07 | 주식회사 유씨에스 | 전자 디바이스 테스트용 소켓 |
| DK202430166A1 (en) * | 2024-04-15 | 2025-11-05 | Green Hydrogen Systems As | Bipolar plate and electrodes assembly and method for generating a bipolar plate and electrodes assembly and electrolyser unit adapted for electrolysing water into hydrogen and oxygen. |
Family Cites Families (93)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3373481A (en) * | 1965-06-22 | 1968-03-19 | Sperry Rand Corp | Method of electrically interconnecting conductors |
| US3460238A (en) * | 1967-04-20 | 1969-08-12 | Motorola Inc | Wire severing in wire bonding machines |
| US3509270A (en) * | 1968-04-08 | 1970-04-28 | Ney Co J M | Interconnection for printed circuits and method of making same |
| US3616532A (en) * | 1970-02-02 | 1971-11-02 | Sperry Rand Corp | Multilayer printed circuit electrical interconnection device |
| DE2119567C2 (de) * | 1970-05-05 | 1983-07-14 | International Computers Ltd., London | Elektrische Verbindungsvorrichtung und Verfahren zu ihrer Herstellung |
| US3844909A (en) * | 1970-11-12 | 1974-10-29 | Gen Electric | Magnetic film plated wire and substrates therefor |
| US3753665A (en) * | 1970-11-12 | 1973-08-21 | Gen Electric | Magnetic film plated wire |
| US3832632A (en) * | 1971-11-22 | 1974-08-27 | F Ardezzone | Multi-point probe head assembly |
| US3842189A (en) | 1973-01-08 | 1974-10-15 | Rca Corp | Contact array and method of making the same |
| US3959874A (en) * | 1974-12-20 | 1976-06-01 | Western Electric Company, Inc. | Method of forming an integrated circuit assembly |
| US4074342A (en) * | 1974-12-20 | 1978-02-14 | International Business Machines Corporation | Electrical package for lsi devices and assembly process therefor |
| US4067104A (en) * | 1977-02-24 | 1978-01-10 | Rockwell International Corporation | Method of fabricating an array of flexible metallic interconnects for coupling microelectronics components |
| JPS5555985U (de) * | 1978-10-12 | 1980-04-16 | ||
| JPS568081U (de) * | 1979-06-29 | 1981-01-23 | ||
| US4418857A (en) * | 1980-12-31 | 1983-12-06 | International Business Machines Corp. | High melting point process for Au:Sn:80:20 brazing alloy for chip carriers |
| US4423376A (en) * | 1981-03-20 | 1983-12-27 | International Business Machines Corporation | Contact probe assembly having rotatable contacting probe elements |
| US4532152A (en) * | 1982-03-05 | 1985-07-30 | Elarde Vito D | Fabrication of a printed circuit board with metal-filled channels |
| US4488111A (en) * | 1982-06-01 | 1984-12-11 | At&T Technologies, Inc. | Coupling devices for operations such as testing |
| US4705205A (en) * | 1983-06-30 | 1987-11-10 | Raychem Corporation | Chip carrier mounting device |
| GB8330391D0 (en) * | 1983-11-15 | 1983-12-21 | Gen Electric Co Plc | Electrical interface arrangement |
| US4751199A (en) * | 1983-12-06 | 1988-06-14 | Fairchild Semiconductor Corporation | Process of forming a compliant lead frame for array-type semiconductor packages |
| US4548451A (en) * | 1984-04-27 | 1985-10-22 | International Business Machines Corporation | Pinless connector interposer and method for making the same |
| US4667219A (en) * | 1984-04-27 | 1987-05-19 | Trilogy Computer Development Partners, Ltd. | Semiconductor chip interface |
| DE3577371D1 (de) | 1984-07-27 | 1990-05-31 | Toshiba Kawasaki Kk | Apparat zum herstellen einer halbleiteranordnung. |
| JPS6149432A (ja) * | 1984-08-18 | 1986-03-11 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 半導体装置の製造方法 |
| DE3536908A1 (de) * | 1984-10-18 | 1986-04-24 | Sanyo Electric Co., Ltd., Moriguchi, Osaka | Induktivitaetselement und verfahren zur herstellung desselben |
| JPS61164038A (ja) * | 1985-01-14 | 1986-07-24 | Nissan Motor Co Ltd | タ−ボチヤ−ジヤのサ−ジ防止装置 |
| US4659437A (en) * | 1985-01-19 | 1987-04-21 | Tokusen Kogyo Kabushiki Kaisha | Method of thermal diffusion alloy plating for steel wire on continuous basis |
| US4642889A (en) * | 1985-04-29 | 1987-02-17 | Amp Incorporated | Compliant interconnection and method therefor |
| JPS61287155A (ja) * | 1985-06-14 | 1986-12-17 | Hitachi Ltd | 半導体装置及び半導体装置の製造方法 |
| US4661192A (en) * | 1985-08-22 | 1987-04-28 | Motorola, Inc. | Low cost integrated circuit bonding process |
| US4793814A (en) * | 1986-07-21 | 1988-12-27 | Rogers Corporation | Electrical circuit board interconnect |
| US4777564A (en) * | 1986-10-16 | 1988-10-11 | Motorola, Inc. | Leadform for use with surface mounted components |
| US4764848A (en) * | 1986-11-24 | 1988-08-16 | International Business Machines Corporation | Surface mounted array strain relief device |
| US5189507A (en) * | 1986-12-17 | 1993-02-23 | Raychem Corporation | Interconnection of electronic components |
| US4955523A (en) * | 1986-12-17 | 1990-09-11 | Raychem Corporation | Interconnection of electronic components |
| JP2533511B2 (ja) * | 1987-01-19 | 1996-09-11 | 株式会社日立製作所 | 電子部品の接続構造とその製造方法 |
| US5086337A (en) * | 1987-01-19 | 1992-02-04 | Hitachi, Ltd. | Connecting structure of electronic part and electronic device using the structure |
| JPS63279477A (ja) * | 1987-05-09 | 1988-11-16 | Pioneer Electronic Corp | ディスクプレ−ヤの情報読取装置 |
| US4983907A (en) | 1987-05-14 | 1991-01-08 | Intel Corporation | Driven guard probe card |
| US5045975A (en) * | 1987-05-21 | 1991-09-03 | Cray Computer Corporation | Three dimensionally interconnected module assembly |
| JPH0640106B2 (ja) * | 1987-11-09 | 1994-05-25 | 株式会社日立製作所 | 半導体lsi検査装置用プローブヘッド及びその製造方法 |
| US5014111A (en) * | 1987-12-08 | 1991-05-07 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Electrical contact bump and a package provided with the same |
| JPH063820B2 (ja) * | 1988-07-25 | 1994-01-12 | 松下電器産業株式会社 | 半導体装置の実装方法 |
| JPH01152271A (ja) * | 1987-12-09 | 1989-06-14 | Toshiba Corp | スパッタ装置 |
| JPH01313969A (ja) * | 1988-06-13 | 1989-12-19 | Hitachi Ltd | 半導体装置 |
| US5137461A (en) * | 1988-06-21 | 1992-08-11 | International Business Machines Corporation | Separable electrical connection technology |
| DE3838413A1 (de) * | 1988-11-12 | 1990-05-17 | Mania Gmbh | Adapter fuer elektronische pruefvorrichtungen fuer leiterplatten und dergl. |
| US5037023A (en) * | 1988-11-28 | 1991-08-06 | Hitachi, Ltd. | Method and apparatus for wire bonding |
| JPH02226996A (ja) * | 1989-02-28 | 1990-09-10 | Seiko Instr Inc | 圧電素子接着装置および圧電素子接着方法 |
| JPH02237047A (ja) * | 1989-03-09 | 1990-09-19 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体試験装置 |
| US4914814A (en) * | 1989-05-04 | 1990-04-10 | International Business Machines Corporation | Process of fabricating a circuit package |
| US5366380A (en) * | 1989-06-13 | 1994-11-22 | General Datacomm, Inc. | Spring biased tapered contact elements for electrical connectors and integrated circuit packages |
| US5349495A (en) * | 1989-06-23 | 1994-09-20 | Vlsi Technology, Inc. | System for securing and electrically connecting a semiconductor chip to a substrate |
| JP3087294B2 (ja) * | 1989-09-29 | 2000-09-11 | ジェイエスアール株式会社 | 異方導電性シートの製造方法 |
| US4998885A (en) * | 1989-10-27 | 1991-03-12 | International Business Machines Corporation | Elastomeric area array interposer |
| JPH03142847A (ja) * | 1989-10-30 | 1991-06-18 | Hitachi Ltd | 半導体集積回路装置 |
| US5095187A (en) * | 1989-12-20 | 1992-03-10 | Raychem Corporation | Weakening wire supplied through a wire bonder |
| US4989069A (en) * | 1990-01-29 | 1991-01-29 | Motorola, Inc. | Semiconductor package having leads that break-away from supports |
| US5471151A (en) * | 1990-02-14 | 1995-11-28 | Particle Interconnect, Inc. | Electrical interconnect using particle enhanced joining of metal surfaces |
| JP2781247B2 (ja) * | 1990-02-28 | 1998-07-30 | 旭化成工業株式会社 | 微小突起電極付接続基板の製造方法 |
| JPH03292406A (ja) * | 1990-04-06 | 1991-12-24 | Shiyuukou:Kk | 基礎台調整用支持具 |
| US5130779A (en) * | 1990-06-19 | 1992-07-14 | International Business Machines Corporation | Solder mass having conductive encapsulating arrangement |
| US5187020A (en) * | 1990-07-31 | 1993-02-16 | Texas Instruments Incorporated | Compliant contact pad |
| GB2247565B (en) * | 1990-08-22 | 1994-07-06 | Gen Electric Co Plc | A method of testing a semiconductor device |
| US5148103A (en) * | 1990-10-31 | 1992-09-15 | Hughes Aircraft Company | Apparatus for testing integrated circuits |
| JPH04240570A (ja) * | 1991-01-24 | 1992-08-27 | Shimadzu Corp | マイクロ・プローブ・ボード |
| JPH04273458A (ja) * | 1991-02-28 | 1992-09-29 | Ando Electric Co Ltd | 測定ヘッドとプローブカードの水平出し機構 |
| JPH04297050A (ja) * | 1991-03-12 | 1992-10-21 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体検査装置およびその平板状基板の製造方法 |
| JP3092191B2 (ja) * | 1991-03-27 | 2000-09-25 | ジェイエスアール株式会社 | 回路基板検査装置 |
| JP3135135B2 (ja) * | 1991-04-18 | 2001-02-13 | 三菱電機株式会社 | 半導体装置,その製造方法,その試験方法及びその試験装置 |
| US5076794A (en) * | 1991-04-29 | 1991-12-31 | Compaq Computer Corporation | Space-saving mounting interconnection between electrical components and a printed circuit board |
| JPH0529406A (ja) * | 1991-07-18 | 1993-02-05 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体検査装置 |
| US5345038A (en) * | 1991-07-29 | 1994-09-06 | Kyocera America, Inc. | Multi-layer ceramic packages |
| CA2115553C (en) * | 1991-09-30 | 2002-08-20 | Deepak Keshav Pai | Plated compliant lead |
| US5309324A (en) * | 1991-11-26 | 1994-05-03 | Herandez Jorge M | Device for interconnecting integrated circuit packages to circuit boards |
| US5225777A (en) * | 1992-02-04 | 1993-07-06 | International Business Machines Corporation | High density probe |
| US5289631A (en) * | 1992-03-04 | 1994-03-01 | Mcnc | Method for testing, burn-in, and/or programming of integrated circuit chips |
| US5299939A (en) * | 1992-03-05 | 1994-04-05 | International Business Machines Corporation | Spring array connector |
| US5483421A (en) * | 1992-03-09 | 1996-01-09 | International Business Machines Corporation | IC chip attachment |
| JPH05283494A (ja) * | 1992-04-03 | 1993-10-29 | Katsuyoshi Nakano | 集積回路素子ウエハー用測定電極 |
| US5210939A (en) * | 1992-04-17 | 1993-05-18 | Intel Corporation | Lead grid array integrated circuit |
| US5237743A (en) * | 1992-06-19 | 1993-08-24 | International Business Machines Corporation | Method of forming a conductive end portion on a flexible circuit member |
| US5248262A (en) * | 1992-06-19 | 1993-09-28 | International Business Machines Corporation | High density connector |
| JPH0650990A (ja) * | 1992-07-30 | 1994-02-25 | Nec Corp | プローブカード |
| DE4232745C2 (de) * | 1992-09-30 | 2002-07-18 | Univ Dresden Tech | Bonddraht zum Ultraschallbonden |
| US5334804A (en) * | 1992-11-17 | 1994-08-02 | Fujitsu Limited | Wire interconnect structures for connecting an integrated circuit to a substrate |
| JPH06213928A (ja) * | 1993-01-18 | 1994-08-05 | Tokyo Electron Ltd | プローブヘッドの製造方法 |
| US5386344A (en) * | 1993-01-26 | 1995-01-31 | International Business Machines Corporation | Flex circuit card elastomeric cable connector assembly |
| CA2110472C (en) * | 1993-03-01 | 1999-08-10 | Anilkumar Chinuprasad Bhatt | Method and apparatus for in-situ testing of integrated circuit chips |
| JPH06265577A (ja) * | 1993-03-12 | 1994-09-22 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体試験用電気的接続治具 |
| US5414298A (en) * | 1993-03-26 | 1995-05-09 | Tessera, Inc. | Semiconductor chip assemblies and components with pressure contact |
| JPH06294818A (ja) * | 1993-04-08 | 1994-10-21 | Seiko Epson Corp | パフォーマンスボード |
-
1995
- 1995-11-13 EP EP01127397A patent/EP1198001A3/de not_active Withdrawn
- 1995-11-13 EP EP03027450A patent/EP1408337A3/de not_active Withdrawn
- 1995-11-13 KR KR1020067014613A patent/KR20060087616A/ko not_active Ceased
- 1995-11-13 AU AU42839/96A patent/AU4283996A/en not_active Abandoned
- 1995-11-13 AU AU41599/96A patent/AU4159996A/en not_active Abandoned
- 1995-11-13 JP JP8516307A patent/JP2892505B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1995-11-13 EP EP04010749A patent/EP1447846A3/de not_active Withdrawn
- 1995-11-13 EP EP03027449A patent/EP1408338A3/de not_active Withdrawn
- 1995-11-13 CN CNB031486444A patent/CN1251319C/zh not_active Expired - Fee Related
- 1995-11-13 KR KR1019970703256A patent/KR100408948B1/ko not_active Expired - Fee Related
- 1995-11-13 KR KR10-2002-7006744A patent/KR100394205B1/ko not_active Expired - Fee Related
- 1995-11-13 KR KR10-2000-7003257A patent/KR100399210B1/ko not_active Expired - Fee Related
- 1995-11-13 AU AU41600/96A patent/AU4160096A/en not_active Abandoned
- 1995-11-13 WO PCT/US1995/014844 patent/WO1996015458A1/en not_active Ceased
- 1995-11-13 CN CN95197034A patent/CN1118099C/zh not_active Expired - Fee Related
- 1995-11-13 KR KR1020007003258A patent/KR20030096425A/ko not_active Ceased
- 1995-11-13 WO PCT/US1995/014909 patent/WO1996017378A1/en not_active Ceased
- 1995-11-13 JP JP51630896A patent/JP3386077B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1995-11-13 WO PCT/US1995/014843 patent/WO1996016440A1/en not_active Ceased
- 1995-11-13 DE DE69530103T patent/DE69530103T2/de not_active Expired - Lifetime
- 1995-11-13 AU AU41598/96A patent/AU4159896A/en not_active Abandoned
- 1995-11-13 WO PCT/US1995/014842 patent/WO1996015551A1/en not_active Ceased
- 1995-11-13 KR KR1019970700634A patent/KR100324059B1/ko not_active Expired - Fee Related
- 1995-11-13 JP JP51695896A patent/JP2002509639A/ja active Pending
- 1995-11-13 JP JP08518844A patent/JP3114999B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1995-11-13 DE DE69531996T patent/DE69531996T2/de not_active Expired - Lifetime
- 1995-11-13 DE DE69535629T patent/DE69535629T2/de not_active Expired - Lifetime
- 1995-11-13 DE DE69533336T patent/DE69533336T2/de not_active Expired - Lifetime
- 1995-11-15 KR KR1019970700957A patent/KR100278093B1/ko not_active Expired - Fee Related
-
1998
- 1998-08-24 JP JP23742498A patent/JP3157134B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1999
- 1999-08-16 JP JP22986699A patent/JP4160693B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2000
- 2000-07-04 JP JP2000202978A patent/JP2001077250A/ja not_active Withdrawn
-
2002
- 2002-09-30 JP JP2002285165A patent/JP4160809B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2002-09-30 JP JP2002285164A patent/JP4163922B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2005
- 2005-09-26 JP JP2005278874A patent/JP4540577B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2007
- 2007-01-04 JP JP2007000149A patent/JP4588721B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2007-07-20 JP JP2007189655A patent/JP2007329491A/ja active Pending
- 2007-08-22 JP JP2007216518A patent/JP2008034861A/ja active Pending
-
2010
- 2010-10-20 JP JP2010235936A patent/JP2011069829A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE10317276A1 (de) * | 2003-04-11 | 2004-10-21 | E.G.O. Elektrogerätebau GmbH | Anordnung von Schalteinrichtungen |
| DE102004003275A1 (de) * | 2004-01-21 | 2005-08-25 | Infineon Technologies Ag | Verbindungselemente auf Halbleiterchips für Halbleiterbauteile und Verfahren zur Herstellung derselben |
| DE102004003275B4 (de) * | 2004-01-21 | 2007-04-19 | Infineon Technologies Ag | Halbleiterbauteil mit Verbindungselementen auf Halbleiterchips und Verfahren zur Herstellung derselben |
Also Published As
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| DE69530103T2 (de) | Verbindungselemente für mikroelektronische komponenten | |
| DE69811307T2 (de) | Steckverbindersystem von hoher Dichte | |
| DE69323117T2 (de) | Verbinder hoher Packungsdichte | |
| EP0004899B1 (de) | Verfahren zur Herstellung elektrisch leitender und schwingungssicherer Verbindungen zwischen gedruckten Rückwandverdrahtungen von Leiterplatten und Kontaktfedern einer Federleiste, sowie hierfür geeignete Federleiste | |
| DE60131677T2 (de) | I-kanal-oberflächenmontage-verbinder | |
| DE69519226T2 (de) | Verbinder mit integrierter Flachbaugruppe | |
| DE69502108T2 (de) | Kugelrasterbuchsegehaüse | |
| DE19928788B4 (de) | Elektronisches Keramikbauelement | |
| EP3262666B1 (de) | Elektrisches bauelement und verfahren zur herstellung eines elektrischen bauelements | |
| DE69122301T2 (de) | Verbinder, Leiterplattenkontaktelement und Rückhalteteil | |
| DE68917798T2 (de) | Anschlussstruktur und Verfahren zu deren Herstellung. | |
| DE4319081A1 (de) | Elektrisches Verbindersystem mit hoher Dichte | |
| DE10231168A1 (de) | Verfahren zur Herstellung von elektrischen Kontakten | |
| DE69620273T2 (de) | Verfahren zur Herstellung von Abstandshaltern auf einer elektrischen Leiterplatte | |
| DE4140010A1 (de) | Leiterplatte und verfahren zu ihrer herstellung | |
| DE19649549C1 (de) | Anordnung, insbesondere zur Verwendung in einem elektronischen Steuergerät, und Verfahren zur Herstellung derselben | |
| DE102005021568A1 (de) | Leiterplatte mit Einpressanschluss | |
| DE69723801T2 (de) | Herstellungsverfahren einer Kontaktgitter-Halbleiterpackung | |
| DE102017125505A1 (de) | Steckerbuchse für Leiterplatinen | |
| EP1105942B1 (de) | Kontaktiervorrichtung, insbesondere zum ankontaktieren von elektrischen bauelementen und schaltungsträgern, sowie verfahren zu deren herstellung | |
| DE69301077T2 (de) | Miniatur Trennstelle | |
| EP3819989B1 (de) | Elektrisch leitende verbindung von leiterplatten | |
| DE60212299T2 (de) | Pin-grid-array elektrischer Steckverbinder | |
| EP0968631B1 (de) | Verfahren zur bildung metallischer leitermuster auf elektrisch isolierenden unterlagen | |
| EP1128476A2 (de) | Steckverbinder sowie Verfahren zur Herstellung eines Steckverbinders |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| 8364 | No opposition during term of opposition |