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DE69530103T2 - Verbindungselemente für mikroelektronische komponenten - Google Patents

Verbindungselemente für mikroelektronische komponenten

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Publication number
DE69530103T2
DE69530103T2 DE69530103T DE69530103T DE69530103T2 DE 69530103 T2 DE69530103 T2 DE 69530103T2 DE 69530103 T DE69530103 T DE 69530103T DE 69530103 T DE69530103 T DE 69530103T DE 69530103 T2 DE69530103 T2 DE 69530103T2
Authority
DE
Germany
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layer
tongue
tongues
substrate
masking
Prior art date
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Expired - Lifetime
Application number
DE69530103T
Other languages
English (en)
Other versions
DE69530103D1 (de
Inventor
Y. Khandros
L. Mathieu
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FormFactor Inc
Original Assignee
FormFactor Inc
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Filing date
Publication date
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Priority claimed from US08/452,255 external-priority patent/US6336269B1/en
Priority claimed from US08/457,479 external-priority patent/US6049976A/en
Priority claimed from US08/533,584 external-priority patent/US5772451A/en
Priority claimed from US08/554,902 external-priority patent/US5974662A/en
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Publication of DE69530103T2 publication Critical patent/DE69530103T2/de
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    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/44Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process
    • H01L2224/45Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/45001Core members of the connector
    • H01L2224/45099Material
    • H01L2224/451Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof
    • H01L2224/45138Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 950°C and less than 1550°C
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Description

  • Die Erfindung betrifft die Herstellung einer Zwischenlage für Verbindungen zwischen elektronischen Bauteilen, insbesondere mikroelektronischen Bauteilen und insbesondere Verbindungselemente, die durch Ausbilden einer Materialschicht, dann Überziehen zur Herstellung von elastischen Verbindungselementen hergestellt werden.
  • Elektronische Bauteile, insbesondere mikroelektronische Bauteile wie z. B. Halbleiterbauelemente (Chips) weisen häufig eine Vielzahl von Anschlüssen (auch als Bondkontaktstellen, Elektroden oder leitende Flächen bezeichnet) auf. Um solche Bauelemente zu einem brauchbaren System (oder Untersystem) zusammenzusetzen, müssen eine Anzahl von einzelnen Bauelementen elektrisch miteinander verbunden werden, typischerweise durch die Vermittlung einer Leiterplatte (oder Schaltungsplatte) (PCB, PWB).
  • Im Allgemeinen ist eine "Zwischenlage", wie hierin verwendet, ein Substrat mit Kontakten auf zwei entgegengesetzten Oberflächen desselben, welches zwischen zwei elektronischen Bauteilen angeordnet wird, um die zwei elektronischen Bauteile miteinander zu verbinden. Häufig ist es erwünscht, dass die Zwischenlage ermöglicht, dass zumindest eines der zwei miteinander verbundenen elektronischen Bauteile entfernt wird (z. B. zum Austausch, Aufrüsten und dergleichen).
  • Im Allgemeinen können Verbindungen zwischen elektronischen Bauteilen in die zwei breiten Kategorien von "relativ permanent" und "leicht demontierbar" klassifiziert werden.
  • Ein Beispiel einer "relativ permanenten" Verbindung ist eine Lötverbindung. Sobald zwei Bauteile aneinander gelötet sind, muss ein Loslötprozess verwendet werden, um die Bauteile zu trennen. Drahtbonden ist ein weiteres Beispiel einer "relativ permanenten" Verbindung.
  • Ein Beispiel einer "leicht demontierbaren" Verbindung sind starre Stifte eines elektronischen Bauteils, die von elastischen Buchsenelementen eines anderen elektronischen Bauteils aufgenommen werden. Die Buchsenelemente üben eine Kontaktkraft (Druck) auf die Stifte in einem Ausmaß aus, das ausreicht, um eine zuverlässige elektrische Verbindung zwischen diesen sicherzustellen. Verbindungselemente, die einen Druckkontakt mit einem elektronischen Bauteil herstellen sollen, werden hierin als "Federn" oder "Federelemente" bezeichnet.
  • Federelemente sind gut bekannt und erscheinen in einer Vielzahl von Formen und Größen. In der heutigen Mikroelektronikumgebung besteht ein tiefgehender Bedarf für alle Verbindungselemente, einschließlich Federn, immer kleiner zu werden, damit eine große Vielzahl solcher Verbindungselemente in einer kleinen Fläche angeordnet werden kann, um eine hohe Dichte von Verbindungen mit elektronischen Bauteilen zu bewirken.
  • Verfahren des Standes der Technik zur Herstellung von Federelementen beinhalten im Allgemeinen das Prägen (Stanzen) oder Ätzen eines Federmaterials wie z. B. Phosphorbronze oder Berylliumkupfer oder Stahl oder einer Legierung aus Nickel-Eisen-Kobalt (z. B. Kovar), um einzelne Federelemente auszubilden, das Formen der Federelemente, so dass sie eine Federform aufweisen (z. B. bogenförmig usw.), das Plattieren der Federelemente mit einem guten Kontaktmaterial (z. B. einem Edelmetall wie z. B. Gold, das einen niedrigen Kontaktwiderstand aufweist, wenn es mit einem ähnlichen Material in Kontakt steht), und das Formen einer Vielzahl von solchen geformten, plattierten Federelementen zu einem linearen, Umfangs- oder Matrixmuster. Wenn Gold auf die vorstehend erwähnten Materialien plattiert wird, ist manchmal eine dünne, beispielsweise 30-50 Mikroinch (wobei ein Mikroinch = 0,0254 um), Sperrschicht aus Nickel geeignet.
  • Verschiedene Probleme und Begrenzungen wohnen solchen Verfahren zur Herstellung von Federelementen inne.
  • Diese Prozesse sind beispielsweise begrenzt, wenn die Anwendungen verlangen, dass eine Vielzahl von Federn (Verbindungselementen) in einem feinen (z. B. 10 mil, wobei 1 mil = 25,4 um) Rastermaß angeordnet werden. Ein solches feines Rastermaß verlangt von Natur aus, dass jede Feder wesentlich kleiner (z. B. 3 mil) bemessen wird (d. h. im Querschnitt) als das Rastermaß. Eine Austanzfläche muss untergebracht werden und begrenzt, wie viel Material übriggelassen wird, um Federn auszubilden. Obwohl es relativ unkompliziert sein kann, Federn so klein wie 1 mil auszustanzen, erlegen solche kleinen Größen der Kontaktkraft, die zuverlässig durch die Federn ausgeübt werden kann, bestenfalls Begrenzungen auf. Dies ist im Zusammenhang mit der Fertigung von Flächenmatrizes von Federn besonders schmerzlich.
  • Im Allgemeinen ist eine bestimmte minimale Kontaktkraft erwünscht, um einen zuverlässigen Druckkontakt mit elektronischen Bauteilen (z. B. mit Anschlüssen an elektronischen Bauteilen) zu bewirken. Eine Kontakt- (Last-) Kraft von ungefähr 15 Gramm (einschließlich nicht mehr als 2 Gramm oder weniger und nicht weniger als 150 Gramm oder mehr pro Kontakt) kann beispielsweise erwünscht sein, um sicherzustellen, dass eine zuverlässige elektrische Verbindung mit einem Anschluss eines elektronischen Bauteils hergestellt wird, das mit Filmen auf seiner Oberfläche verunreinigt sein kann oder das Korrosions- oder Oxidationsprodukte auf seiner Oberfläche aufweist. Die minimale Kontaktkraft, die für jede Feder erforderlich ist, verlangt, entweder dass die Dehngrenze des Federmaterials oder dass die Größe des Federelements erhöht wird. Als allgemeine Aussage gilt, je höher die Dehngrenze eines Materials ist, desto schwieriger ist es zu bearbeiten (z. B. stanzen, biegen usw.). Und der Wunsch, Federn kleiner zu machen, schließt es im Wesentlichen aus, deren Querschnitt größer zu machen.
  • Eine weitere Begrenzung, die Verbindungselementen des Standes der Technik anhaftet, besteht darin, dass, wenn harte Materialien (wie sie z. B. zur Herstellung von Federn verwendet werden würden) verwendet werden, relativ "feindliche" (z. B. hohe Temperatur) Prozesse wie z. B. Hartlöten erforderlich sind, um die Verbindungselemente an Anschlüssen eines elektronischen Bauteils zu montieren. Es ist beispielsweise bekannt, starre Stifte an relativ "haltbare" Halbleitergehäuse hartzulöten. Solche "feindlichen" Prozesse sind im Zusammenhang mit bestimmten relativ "zerbrechlichen" elektronischen Bauteilen wie z. B. Halbleiterbauelementen im Allgemeinen nicht erwünscht (und häufig nicht brauchbar). Im Gegensatz dazu ist Drahtbonden ein Beispiel von relativ "freundlichen" Prozessen, das zerbrechliche elektronische Bauteile viel weniger potentiell beschädigt als Hartlöten. Weichlöten ist ein weiteres Beispiel eines relativ "freundlichen" Prozesses.
  • Ein weiteres Problem, das mit dem Montieren von Federn an elektronischen Bauteilen verbunden ist, ist zum größten Teil mechanischer Art. In Fällen, in denen eine Feder an einem Ende an einem Substrat (das für Zwecke dieser Aussage als unbewegliches Objekt betrachtet wird) montiert wird und Kräften entgegenwirken muss, die an ihrem freien Ende aufgebracht werden, ist die "schwache Bindung" (schwächster Punkt bei der Verwendung) häufig der Punkt, an dem die Feder (z. B. wird die Basis der Feder gebondet) an dem Substrat (z. B. Anschluss eines elektronischen Bauteils) befestigt ist. Dies berücksichtigt zumindest teilweise die Anforderung, "feindliche" Prozesse (z. B. Hartlöten) zu verwenden, um die Federn am Substrat zu montieren.
  • Ein weiteres subtiles Problem, das mit Verbindungselementen, einschließlich Federkontakten, verbunden ist, besteht darin, dass häufig die Anschlüsse eines elektronischen Bauteils nicht perfekt koplanar sind. Verbindungselemente, denen es an einem gewissen damit integrierten Mechanismus fehlt, um sich auf diese "Toleranzen" (grobe Nicht-Planaritäten) einzustellen, werden schwer gepresst, um einen Kontakt mit konsistentem Kontaktdruck mit den Anschlüssen des elektronischen Bauteils herzustellen.
  • DE-A-23 54 256 offenbart ein Halbleiter-Drahtbondverfahren, bei dem beim Bonden der Draht durch Abscheiden eines geeigneten Materials mechanisch verstärkt wird.
  • FR-A-2 680 284 offenbart eine Verbindungsvorrichtung, die Verbindungen mit sehr kleinem Rastermaß realisieren kann. Ein Verbindungselement umfasst eine Vielzahl von Leitern, die parallel angeordnet sind. Beide Enden jedes Leiters werden mit der Oberfläche eines Substrats verdrahtet, so dass jeder Leiter eine Halbschleife bildet. Der elektrische Kontakt zwischen dem Verbindungselement und der zu verbindenden Schaltung wird durch einen elastischen Kontakt zwischen den Leitern des Verbindungselements und den Kontaktstellen der Schaltung hergestellt.
  • DE-A-31 29 568, die den nächsten Stand der Technik, darstellt, offenbart ein Verbindungssystem, bei dem ein Anschluss eines Halbleiterbauelements mit einem Anschluss eines Substrats durch ein elastisches Verbindungselement durch Löten verbunden wird. Das elastische Element kann eine Spannung absorbieren, die zwischen dem Anschluss des Halbleiterbauelements und dem Anschluss des Substrats erzeugt wird.
  • EP-A-0 396 248 offenbart einen elektrischen Stift mit einem elektrisch leitenden Stiftelement und elektrisch leitenden Kopfelementen an beiden Stirnflächen des Stiftelements. Diese Miniaturstifte eignen sich besonders zum direkten Verbinden von Chipbauelementen und Gehäusesubstraten.
  • US-A-5 299 939 offenbart einen Federmatrix- Verbindungsstecker mit einem ersten Matrix- Federverbindungsstecker und einem zweiten Matrix- Federverbindungsstecker. Jeder Verbindungsstecker umfasst eine Vielzahl von Federn, die mit einer gesamten elektrischen Schicht bedeckt sind.
  • US-A-5 317 479 offenbart einen gekrümmten Leiter, der eine mechanische und elektrische Verbindung zwischen einem Chipkontakt und einer Leiterplatte vorsieht, wobei der gekrümmte Leiter aus einem einzelnen Streifen aus leitendem Metallmaterial ausgebildet ist und im Wesentlichen vollständig mit Lötmittel plattiert ist. Der gekrümmte Leiter ist im Allgemeinen 5-förmig oder Z-förmig und weist eine erste und eine zweite parallele Kontaktfläche auf, die angeordnet sind, um den Chipkontakt an der Leiterplatte mit dem Lötmittel in einer nachgiebigen und im Allgemeinen parallelen Anordnung, die im Wesentlichen frei von Spannung ist, zu montieren.
  • Die folgenden US-Patente werden als interessant angeführt: 5 386 344; 5 336 380; 5 317 479; 5 086 337; 5 067 007; 4 989 069; 4 893 172; 4 793 814; 4 777 564; 4 764 848; 4 667 219; 4 642 889; 4 330 165; 4 295 700; 4 067 104; 3 795 037; 3 616 532; und 3 509 270.
  • Die Erfindung ist in Anspruch 1 definiert. Spezielle Ausführungsbeispiele der Erfindung sind in den abhängigen Ansprüchen 2 bis 14 dargelegt.
  • Wie in dieser Anmeldung verwendet, bezieht sich der Begriff "Federform" auf theoretisch eine beliebige Form eines länglichen Elements, die eine elastische (Rückstell-) Bewegung eines Endes (Spitze) des länglichen Elements bezüglich einer auf die Spitze aufgebrachten Kraft zeigt. Dies umfasst längliche Elemente, die so geformt sind, dass sie ein oder mehrere Biegungen aufweisen, sowie im Wesentlichen gerade längliche Elemente.
  • Die Zungen werden vor dem Montieren an einem elektronischen Bauteil geformt.
  • In der Erfindung bestehen die Zungen aus "weichem" Material mit einer relativ niedrigen Dehngrenze, und werden mit einem "harten" Material mit einer relativ hohen Dehngrenze überzogen. Ein weiches Material wie z. B. Gold wird beispielsweise (z. B. durch elektrochemisches Plattieren) mit einem harten Material wie z. B. Nickel und seinen Legierungen überzogen.
  • Im Allgemeinen wird in der gesamten hierin dargelegten Beschreibung der Begriff "Plattieren" als beispielhaft für eine Anzahl von Verfahren zum Überziehen der Zungen verwendet. Es liegt innerhalb des Schutzbereichs dieser Erfindung, dass die Zungen durch ein beliebiges geeignetes Verfahren überzogen werden können, einschließlich, jedoch nicht begrenzt auf: verschiedene Prozesse, die die Abscheidung von Materialien aus wässerigen Lösungen beinhalten; elektrolytisches Plattieren; stromloses Plattieren; chemische Gasphasenabscheidung (CVD); physikalische Gasphasenabscheidung (PVD); Prozesse, die den Zerfall von Flüssigkeiten, Feststoffen oder Gasen bewirken; und dergleichen, wobei alle diese Verfahren zum Abscheiden von Materialien im Allgemeinen gut bekannt sind.
  • Im Allgemeinen sind zum Überziehen der Zungen mit einem Metallmaterial wie z. B. Nickel elektrochemische Prozesse bevorzugt, insbesondere stromloses Plattieren.
  • Weiche Materialien wie z. B. Gold, die sich leicht an Halbleiterbauelementen befestigen lassen, mangelt es im Allgemeinen an ausreichend Elastizität, um als Federn zu wirken. (Solche weichen Metallmaterialien zeigen hauptsächlich vielmehr eine plastische als elastische Verformung.) Andere weiche Materialien, die sich leicht an Halbleiterbauelementen befestigen lassen können und geeignete Elastizität besitzen, die jedoch nicht der vorliegenden Erfindung entsprechen, sind häufig elektrisch nicht-leitendend, wie im Fall der meisten Elastomermaterialien. In beiden Fällen können dem resultierenden Verbundverbindungselement gewünschte strukturelle und elektrische Eigenschaften durch den über den Kern aufgebrachten Überzug verliehen werden. Das resultierende Verbundverbindungselement kann sehr klein gemacht werden und kann dennoch geeignete Kontaktkräfte aufweisen. Überdies können eine Vielzahl von solchen Verbundverbindungselementen in einem feinen Rastermaß (z. B. 10 mils) angeordnet werden, selbst wenn sie eine Länge (z. B. 100 mils) aufweisen, die viel größer ist als das Rastermaß.
  • Weitere Aufgaben, Merkmale und Vorteile der Erfindung werden angesichts der folgenden Beschreibung derselben ersichtlich.
  • Nun wird im einzelnen auf bevorzugte Ausführungsbeispiele der Erfindung Bezug genommen, von welchen Beispiele in den zugehörigen Zeichnungen dargestellt sind. Obwohl die Erfindung im Zusammenhang mit diesen bevorzugten Ausführungsbeispielen beschrieben wird, sollte es selbstverständlich sein, dass keine Absicht besteht, den Schutzbereich der Erfindung auf diese speziellen Ausführungsbeispiele zu begrenzen.
  • Fig. 1A ist eine Draufsicht auf eine weiche Metallfolie in einem Vorschritt zur Herstellung einer Zwischenlage gemäß der Erfindung.
  • Fig. 1B ist eine Querschnittsansicht der weichen Metallfolie von Fig. 1A in einem anschließenden Prozessschritt gemäß der Erfindung.
  • Fig. 1C ist eine perspektivische Ansicht der weichen Metallfolie von Fig. 1A in einem anschließenden Prozessschritt gemäß der Erfindung.
  • Fig. 1D ist eine perspektivische Ansicht der weichen Metallfolie von Fig. 1A in einem anschließenden Prozessschritt bei der Verwendung als Zwischenlage zwischen zwei elektronischen Bauteilen gemäß der Erfindung.
  • Fig. 2A ist eine Draufsicht auf eine weiche Metallfolie in einem Vorschritt zur Herstellung einer Zwischenlage gemäß einem alternativen Ausführungsbeispiel der Erfindung.
  • Fig. 2B ist eine perspektivische Ansicht der weichen Metallfolie von Fig. 2A in einem anschließenden Prozessschritt gemäß der Erfindung.
  • Fig. 2C ist eine perspektivische Ansicht der weichen Metallfolie von Fig. 2A in einem anschließenden Prozessschritt gemäß der Erfindung.
  • Fig. 2D ist eine perspektivische Ansicht der weichen Metallfolie von Fig. 2A in einem anschließenden Prozessschritt zur Verwendung als Zwischenlage zwischen zwei elektronischen Bauteilen gemäß der Erfindung.
  • Fig. 3A ist eine Draufsicht auf eine weiche Metallfolie in einem Vorschritt bei der Herstellung einer Zwischenlage gemäß einem alternativen Ausführungsbeispiel der Erfindung.
  • Fig. 3B ist eine perspektivische Ansicht der weichen Metallfolie von Fig. 3A in einem anschließenden Prozessschritt gemäß der Erfindung.
  • Fig. 3C ist eine perspektivische Ansicht der weichen Metallfolie von Fig. 3A in einem anschließenden Prozessschritt gemäß der Erfindung.
  • Fig. 3D ist eine perspektivische Ansicht der weichen Metallfolie von Fig. 3A in einem anschließenden Prozessschritt bei der Verwendung als Zwischenlage zwischen zwei elektronischen Bauteilen gemäß der Erfindung.
  • Fig. 4A ist eine Querschnittsansicht eines Verfahrens, das sich zur Herstellung von einzelnen Verbindungselementen besonders gut eignet.
  • Fig. 4B ist eine Querschnittsansicht eines weiteren Verfahrens, das sich zur Herstellung von einzelnen Verbindungselementen besonders gut eignet.
  • Die Offenbarung von US-Patent 5 476 211 ist ein nützlicher Hintergrund für die vorliegende Erfindung.
  • Ein wichtiger Aspekt der vorliegenden Erfindung besteht darin, dass ein Verbundverbindungselement durch Beginnen mit einem ersten Material, dann Überziehen des ersten Materials mit einem geeigneten zweiten Material, um die mechanischen Eigenschaften des resultierenden Verbundverbindungselements herzustellen, ausgebildet werden kann. In dieser Weise kann ein elastisches Verbindungselement (Federelement) hergestellt werden, wobei mit einem Kern aus weichem Material begonnen wird, der sich leicht zu einer federnden Form formen lässt und der sich leicht an auch den zerbrechlichsten elektronischen Bauteilen befestigen lässt. Angesichts von Verfahren des Standes der Technik zum Ausbilden von Federelementen aus harten Materialien, ist es nicht leicht ersichtlich und ist wohl gegenintuitiv, dass weiche Materialien die Basis von Federelementen bilden können.
  • Der Gegenstand der Verwendung der Verbindungselemente der Erfindung in Zwischenlagen wurde vorstehend erwähnt. Wie hierin verwendet, ist eine "Zwischenlage" im Allgemeinen ein Substrat mit Kontakten auf zwei entgegengesetzten Oberflächen desselben, welches zwischen zwei elektronischen Bauteilen angeordnet wird, um die zwei elektronischen Bauteile miteinander zu verbinden. Häufig ist es erwünscht, dass die Zwischenlage ermöglicht, dass zumindest eines der zwei miteinander verbundenen elektronischen Bauteile entfernt wird (z. B. zum Austausch, Aufrüsten und dergleichen).
  • Die Fig. 1A, 1B, 1C und 1D stellen ein Verfahren zur Herstellung einer Zwischenlage gemäß der vorliegenden Erfindung dar. In Fig. 1A ist gezeigt, dass eine flache, dünne (wie z. B. 0,001-0,005 Inch, wobei 1 Inch = 2,54 cm) Schicht 402 aus weichem Metall (z. B. Gold, weiche Kupferlegierung, weiche Aluminiumlegierung) strukturiert wird (wie z. B. durch Stanzen oder Ätzen), um die Umrisslinien einer Vielzahl (zwei von vielen sind dargestellt) von länglichen Elementen 404, 406, die darin einbeschrieben sind, festzulegen. Jedes längliche Element weist einen mittleren Teil und zwei Endteile auf, die sich in der Ebene der Schicht vom mittleren Teil erstrecken.
  • Wie in Fig. 1B gezeigt, wird eine Schicht aus Maskietungsmaterial 408 wie z. B. Photoresist auf eine Oberfläche der weichen Metallschicht außerhalb der Flächen der länglichen Elemente aufgebracht. Die Endteile von jedem länglichen Element werden bezüglich der Schicht aus der Ebene gebogen. Ein Endteil 404a des länglichen Elements 404 wird in einer Richtung (nach oben, wie dargestellt) gebogen, wodurch eine Zunge ausgebildet wird, die sich von der Schicht 402 nach oben erstreckt. Der andere Endteil 404b des länglichen Elements wird in einer entgegengesetzten (nach unten, wie dargestellt) Richtung gebogen, wodurch eine Zunge ausgebildet wird, die sich von der Schicht 402 nach unten erstreckt. Die Zungen (404a, 404b) können sich um theoretisch einen beliebigen gewünschten Abstand von der Schicht erstrecken, beispielsweise 5-100 mils für mikroelektronische Anwendungen. Die Formen dieser Zungen (404a, 404b) können bei dem Biegeprozess unabhängig voneinander gesteuert werden, so dass die sich nach oben erstreckenden Zungen dieselbe Form wie oder eine andere Form als die sich nach unten erstreckenden Zungen aufweisen.
  • Es sollte selbstverständlich sein, dass die Zungen in dem gleichen Schritt wie die Strukturierung der länglichen Elemente ausgebildet werden können und diese Schritte mit einer herkömmlichen Ausrüstung durchgeführt werden können.
  • Wie in Fig. 1C dargestellt, ist eine isolierende (dielektrische) Trägerschicht 410 wie z. B. eine Schicht (Film, Platte) aus Kapton (TM) oder Polyimid mit einer Vielzahl von Löchern 430 versehen. Die Isolationsschicht 410 wird über der weichen Metallschicht 402, so dass die Löcher 430 auf die Zungen ausrichten, auf einer Seite der Schicht entgegengesetzt zum Maskierungsmaterial angeordnet und wird an der weichen Metallschicht mit einem geeigneten Klebstoff (nicht dargestellt) befestigt.
  • Es liegt innerhalb des Schutzbereichs dieser Erfindung, dass die Isolationsschicht sowohl in diesem Ausführungsbeispiel als auch den nachstehend beschriebenen Ausführungsbeispielen eine Metallplatte sein kann, die mit einem dielektrischen Material bedeckt ist.
  • Die gesamte Anordnung wird dann mit einem harten Material 412 wie z. B. Nickel und seinen Legierungen überzogen. Die Trägerschicht 410 und das Maskierungsmaterial 408 stellen sicher, dass nur die länglichen Elemente mit dem harten Material überzogen werden. Schließlich wird das Maskierungsmaterial 408 abgelöst und das weiche Metall, das nicht überzogen wurde, wird entfernt, wie z. B. durch selektives chemisches Ätzen. Wahlweise können die Verbindungselemente in einem Nachbearbeitungsschritt mit einem Material, das gute Kontaktwiderstandseigenschaften aufweist, wie z. B. Gold, überzogen (z. B. plattiert) werden.
  • Dies führt zu einer Verbindungsstruktur mit Verbundverbindungselementen (den überzogenen Zungen), die sich von deren oberen und unteren Oberflächen erstrecken, wie in Fig. 1D gezeigt, wobei jedes der sich nach oben erstreckenden Verbundverbindungselemente als Kragarm wirkt und durch die Folie (402) mit einer entsprechenden der sich nach unten erstreckenden Zungen verbunden ist, die auch als Kragarm wirken, wobei jedes der Verbundverbindungselemente in der Lage ist, einem jeweiligen Anschluss eines elektronischen Bauteils eine gewünschte Kontaktkraft (z. B. 15 Gramm) zu verleihen.
  • In dieser Weise wird eine Zwischenlage 400 mit zwei Enden zum Verbinden eines Anschlusses 420 eines ersten elektronischen Bauteils (nicht dargestellt) mit einem entsprechenden Anschluss 422 eines zweiten elektronischen Bauteils (nicht dargestellt) erhalten, und eine zweite Verbindungsstruktur, die zur Verwendung in einer Zwischenlage geeignet ist, wird erhalten, welche zwei Enden zum Verbinden eines Anschlusses 424 des ersten elektronischen Bauteils (nicht dargestellt) mit einem entsprechenden Anschluss 426 des zweiten elektronischen Bauteils (nicht dargestellt) aufweist.
  • Fig. 1D stellt eine Verbindungsstruktur 400 dar, die aus einem langgestreckten Element 416 besteht, das mit demselben Material 412 in der Weise zum Ausbilden der vorstehend erwähnten Verbindungsstrukturen überzogen wurde. Das längliche Element 416 ist der Länge nach auf das längliche Element 406 ausgerichtet und liegt in einem Abstand von diesem und das längliche Element 416 ist seitlich auf das längliche Element 406 ausgerichtet und liegt in einem Abstand von diesem, was zeigt, dass die Verbindungselemente in Matrizes angeordnet werden können.
  • Ein Vorteil von diesem und, wie ersichtlich ist, anschließend beschriebenen Verfahren, besteht darin, dass eine weiche, nicht-elastische Metallschicht, die leicht ausgebildet (gestanzt und geformt) wird, überzogen werden kann, so dass sie robuste elastische Eigenschaften aufweist, in einer Weise ähnlich einem weichen Drahtkern, der geformt und überzogen wird, so dass er Elastizität aufweist.
  • Es liegt innerhalb des Schutzbereichs dieser Erfindung, dass eine Befestigungsvorrichtung die Funktion des Maskierungsmaterials 408 während des Überzieh- (z. B. Plattierungs-) Prozesses erfüllen kann, was das Maskierungsmaterial unnötig macht.
  • Es liegt innerhalb des Schutzbereichs dieser Erfindung, dass eine Vielzahl von Verbindungselementen als einzelne Kontaktstrukturen ausgebildet werden können, die anschließend nahe beieinander abgestützt werden sollen, wie z. B. mit einer Trägerschicht.
  • Im Allgemeinen trägt die Trägerschicht (410) eine Vielzahl von Verbindungselementen in einer vorgeschriebenen Beziehung zueinander, wie z. B. in einem rechteckigen (x, y) Matrixmuster. Die Trägerschicht kann biegsam sein, wie vorstehend beschrieben, oder kann starr sein (z. B. wie aus Keramik bestehen). Eine biegsame Trägerschicht weist den Vorteil auf, dass sie ermöglicht, dass die abgestützten Verbindungselemente innerhalb eines bestimmten Bereichs von vertikalen Positionen "schweben", um sich auf Oberflächenschwankungen (Toleranzen) in elektronischen Bauteilen, die mit diesen verbunden werden, einzustellen.
  • Die Fig. 2A-2F stellen ein alternatives Verfahren zur Herstellung einer Zwischenlage aus einer flachen Metallschicht dar.
  • Wie in Fig. 2A gezeigt, wird eine flache Schicht aus einer weichen Metall- (z. B. Kupfer) Schicht (z. B. Folie) strukturiert (gestanzt, geätzt oder dergleichen), so dass sie zwei diametral entgegengesetzte längliche Elemente 504 und 506 aufweist, die im Allgemeinen nebeneinander und parallel zueinander liegen. Die länglichen Elemente 502 und 504 werden an ihren Basisenden durch einen Ring 508 gehalten.
  • In einer Weise ähnlich zu dem Ausführungsbeispiel der Fig. 1A-1D wird eines der länglichen Elemente 504 so gebogen, dass es eine Zunge ist, die sich in einer Richtung erstreckt, und ein anderes der länglichen Elemente 506 wird als Zunge gebogen, die sich in einer entgegengesetzten Richtung erstreckt, was zu der in Fig. 2B gezeigten Anordnung führt (vergleiche Fig. 1B).
  • Wie in Fig. 2C gezeigt, wird ein geeignetes Maskierungsmaterial 510 wie z. B. Photoresist auf die Schicht 502 außerhalb des Bereichs des Rings 506 und der länglichen Elemente 504 und 506 aufgebracht.
  • Die Schicht 502 wird dann mit einem harten Metallmaterial (z. B. Nickel oder seinen Legierungen) 512 überzogen (z. B. plattiert), wodurch die Zungen (geformte längliche Elemente 504 und 506) in Verbindungselemente überführt werden, die als Federn wirken. Als nächstes wird das Maskierungsmaterial 510 entfernt und das gesamte nicht überzogene (mit 512) weiche Metall (502) wird entfernt, wie z. B. durch selektives Ätzen, was zu der Zwischenlagestruktur 500 von Fig. 2D führt, die Verbundverbindungselemente, die nach oben zeigen, und entsprechende Verbundverbindungselemente, die nach unten zeigen, aufweist, wobei sowohl die nach oben als auch nach unten zeigenden Verbindungselemente als Kragarme wirken, die jeweils in der Lage sind, einem jeweiligen Anschluss eines elektronischen Bauteils eine gewünschte Kontaktkraft (z. B. 15 Gramm) zu verleihen.
  • In dieser Weise wird eine Zwischenlage 500 mit zwei Enden zum Verbinden eines Anschlusses 520 eines ersten elektronischen Bauteils (nicht dargestellt) mit einem entsprechenden Anschluss 522 eines zweiten elektronischen Bauteils (nicht dargestellt) erhalten.
  • Als allgemeine Aussage ist das Ausführungsbeispiel 400 der Fig. 1A-1D gegenüber dem Ausführungsbeispiel 500 der Fig. 2A-2D bevorzugt.
  • Wie in den Fig. 3A-3D gezeigt, kann ein ähnliches (z. B. zum vorher mit Bezug auf die Fig. 2A-2E beschriebenen Ausführungsbeispiel) durch Strukturieren einer weichen Metallfolie 602 so, dass sie zwei parallele (nebeneinander) längliche Elemente 604 und 606 aufweist, die sich einen gemeinsamen Basisteil 608 teilen, erhalten werden.
  • Eines der länglichen Elemente 604 wird so gebogen, dass es eine Zunge ist, die sich in einer Richtung erstreckt, und ein anderes der länglichen Elemente 606 wird so gebogen, dass es eine Zunge ist, die sich in einer entgegengesetzten Richtung erstreckt, was zu der in Fig. 3B gezeigten Anordnung führt (vergleiche Fig. 2B).
  • Wie in Fig. 3C gezeigt, wird ein geeignetes Maskierungsmaterial wie z. B. Photoresist 610 auf die Schicht 602 außerhalb des Bereichs der länglichen Elemente 604 und 606 und ihrer gemeinsamen Basis 608 aufgebracht.
  • Die Schicht 602 wird dann mit einem harten Metallmaterial (z. B. Nickel oder seinen Legierungen) 612 überzogen (z. B. plattiert), wodurch die Zungen (geformte längliche Elemente 604 und 606) in Verbindungselemente überführt werden, die als Federn wirken. Als nächstes wird das Maskierungsmaterial 610 entfernt und das gesamte nicht überzogene (mit 612) weiche Metall (602) wird entfernt, wie z. B. durch selektives Ätzen, was zu der Zwischenlagestruktur 600 von Fig. 3D führt, die Verbundverbindungselemente, die nach oben zeigen, und entsprechende Verbundverbindungselemente, die nach unten zeigen, aufweist, wobei sowohl die nach oben als auch nach unten zeigenden Verbundverbindungselemente als Kragarme wirken, die jeweils in der Lage sind, einem jeweiligen Anschluss eines elektronischen Bauteils eine gewünschte Kontaktkraft (z. B. 15 Gramm) zu verleihen.
  • In dieser Weise wird eine Zwischenlage 600 mit zwei Enden zum Verbinden eines Anschlusses 620 eines ersten elektronischen Bauteils (nicht dargestellt) mit einem entsprechenden Anschluss 622 eines zweiten elektronischen Bauteils (nicht dargestellt) erhalten.
  • Obwohl nicht dargestellt, liegt es innerhalb des Schutzbereichs dieser Erfindung, dass eine Vielzahl von Verbindungselementen in einem gewünschten Muster (z. B. einer rechteckigen Matrix) durch Befestigen derselben an einem geeigneten Trägerelement wie z. B. einer Schicht, die mit einer Vielzahl von Löchern versehen ist, wie in Fig. 1C gezeigt, angeordnet werden können.
  • Mit Bezug beispielsweise auf das Ausführungsbeispiel 400 der Fig. 1A-1D ist ersichtlich, dass die ursprüngliche (vor dem Biegen) Länge der länglichen Elemente (404, 406) eine Grenze dessen festlegt, wie weit sich die Zungen von der Schicht erstrecken können - mit anderen Worten, eine Begrenzung der Länge (und/oder Höhe) des resultierenden Verbindungselements.
  • Wie hierin verwendet, bezieht sich der Begriff "Länge" im Allgemeinen auf die Längsabmessung eines länglichen Elements vor dem Formen (falls überhaupt), und der Begriff "Höhe) bezieht sich im Allgemeinen auf die Längsabmessung des länglichen Elements (und des resultierenden Verbindungselements) nach dem Formen und Beschichten. Für Zwecke der in diesem Dokument dargelegten Erörterung sind diese Begriffe im Allgemeinen austauschbar.
  • Die Fig. 4A und 4B stellen Verfahren zur Herstellung von einzelnen Verbindungselementen wie z. B. zum Lagern einer Vielzahl von solchen "Federkontakt"-Elementen und zum späteren automatischen Montieren derselben an einem elektronischen Bauteil wie z. B. einem Halbleiterbauelement oder einem Trägersubstrat für eine Zwischenlage dar.
  • Fig. 4A stellt ein Verfahren 800 dar, bei dem eine flache Schicht (Folie) 802 aus einem Material wie z. B. weichem Kupfer gestanzt, geätzt oder dergleichen wird, so dass sie eine Vielzahl (eines von vielen ist dargestellt) von länglichen Elementen (Zungen) 804 aufweist. Die länglichen Elemente 804 werden anschließend so geformt, dass sie eine Federform aufweisen. Jedes längliche Element 804 weist einen Basisteil 804a auf, der im Wesentlichen ein rudimentärer (restlicher) Teil der Schicht 802 ist und dem vorzugsweise ermöglicht wird, dass er mit der Schicht 802 koplanar bleibt. Jedes längliche Element 804 weist ein Ende (Spitze) 804b an einem entgegengesetzten Ende des länglichen Elements 804 vom Basisteil 804a auf. Das längliche Element 804 wird so gebogen, dass es eine beliebige geeignete federnde Form aufweist, in einem Bereich 804c, der zwischen der Spitze 804b und einem Teil 804d benachbart zum Basisteil 804a liegt.
  • Ein geeignetes Maskierungsmaterial 806 wie z. B. Photoresist wird auf beide Seiten der Schicht 802 aufgebracht, einschließlich (wie gezeigt) wahlweise über den Basisteil 804a des länglichen Elements 804, wobei der "wirksame" Teil des länglichen Elements 804 unmaskiert gelassen wird. Das längliche Element wird dann mit einem geeigneten Material 808 überzogen, das nach seiner Fähigkeit ausgewählt wird, dem resultierenden Verbindungselement Elastizität zu verleihen, wie vorstehend beschrieben. Das Überzugsmaterial kann wahlweise den Basisteil 804a des länglichen Elements 804 bedecken.
  • Das Maskierungsmaterial 806 wird dann entfernt, wie z. B. durch selektives Ätzen. Dies führt zu einer Vielzahl von einzelnen Verbundverbindungselementen, die an einem elektronischen Bauteil montiert oder in einer vorgeschriebenen räumlichen Beziehung (z. B. einer Matrix) zueinander durch Befestigen ihrer Basisteile (804a) an einem Trägersubstrat abgestützt werden können. Alternativ können eine Vielzahl von Verbindungselementen, die gemäß diesem Verfahren ausgebildet werden, durch ein Elastomer in einer Matrix aufgehängt werden.
  • Fig. 4B stellt ein weiteres Verfahren 850 dar, bei dem eine flache Schicht (Folie) 852 aus einem Material wie z. B. weichem Kupfer gestanzt, geätzt oder dergleichen wird, so dass sie eine Vielzahl (sechs von vielen sind dargestellt) von länglichen Elementen (Zungen) 854 aufweist. Jede Zunge 854a ist mit dem Basisteil 804a im vorherigen Ausführungsbeispiel 800 vergleichbar. In diesem Ausführungsbeispiel 850 wird die Schicht so gestanzt, dass die Basisteile 854a alle miteinander verbunden sind. Die dargestellten "Brücken" 856 sind lediglich beispielhaft. Die länglichen Elemente können während oder nach dem Stanzen der Schicht geformt werden.
  • Die länglichen Elemente 854 werden so geformt, dass sie eine Federform aufweisen, werden dann mit einem geeigneten Material (nicht dargestellt) überzogen, wie vorstehend beschrieben. Der Überzug (nicht dargestellt, vorstehend beschrieben) wird vorzugsweise aufgebracht, während die länglichen Elemente noch miteinander verbunden sind, und es ist nicht erforderlich, dass irgendein Maskierungsmaterial aufgebracht wird.
  • In einem Endschritt wird die Schicht mit der Vielzahl von miteinander verbundenen, überzogenen länglichen Elementen weiter gestanzt, um die einzelnen überzogenen länglichen Elemente (Verbindungselemente) voneinander zu vereinzeln (trennen).
  • Wie im vorherigen Beispiel 800 führt dieses Verfahren 850 zu einer Vielzahl von einzelnen Verbundverbindungselementen, die an einem elektronischen Bauteil montiert werden können oder in einer Matrix durch Befestigen ihrer Basisteile an einem Trägersubstrat miteinander abgestützt werden können. Alternativ können eine Vielzahl von Verbindungselementen, die gemäß diesem Verfahren ausgebildet werden, durch ein Elastomer in einer Matrix aufgehängt werden.
  • Obwohl die Erfindung in den Zeichnungen und in der vorangehenden Beschreibung im einzelnen beschrieben wurde, soll dasselbe als erläuternder und nicht einschränkender Art betrachtet werden - wobei es selbstverständlich ist, dass nur bevorzugte Ausführungsbeispiele gezeigt und beschrieben wurden.

Claims (14)

1. Verfahren zur Herstellung einer Zwischenlage, die ein erstes und ein zweites elektronisches Bauteil miteinander verbindet, gekennzeichnet durch:
Ausbilden einer ersten Zunge (404a; 504; 604) und einer zweiten Zunge (404b; 506; 606) in einer Schicht (402; 502; 602) aus einem ersten Metallmaterial;
Biegen der Zungen (404a, 404b; 504, 506; 604, 606), so dass sich die erste Zunge (404a; 504; 604) in einer ersten Richtung von der Schicht (402; 502; 602) erstreckt und so dass sich die zweite Zunge (404b; 506; 606) in einer zweiten Richtung von der Schicht erstreckt, wobei die zweite Richtung zur ersten Richtung entgegengesetzt ist; und
anschließendes Überziehen der Zungen mit einem zweiten Metallmaterial (412; 512; 612), das eine höhere Dehngrenze aufweist als das erste Material, wobei das zweite Material den Zungen Elastizität verleiht.
2. Verfahren nach Anspruch 1, wobei: vor dem Biegen der Zungen (404a, 404b) die erste Zunge (404a) der Länge nach in einer Linie mit der zweiten Zunge (404b) liegt.
3. Verfahren nach Anspruch 1, wobei: vor dem Biegen der Zungen (504, 506) die erste Zunge (504) zur zweiten Zunge (506) parallel ist.
4. Verfahren nach Anspruch 1; wobei: vor dem Biegen der Zungen (604, 606) die erste Zunge (604) zur zweiten Zunge (606) parallel ist und die Zungen sich einen gemeinsamen Basisteil (608) teilen.
5. Verfahren nach Anspruch 1, wobei die Zungen (404a, 404b; 504, 506; 604, 606) so gebogen werden, dass deren Kontaktbereiche von einem Rest der Schicht (402; 502; 602) entfernt sind.
6. Verfahren nach Anspruch 1, welches ferner umfasst: Maskieren eines Teils der Schicht (402; 502; 602) mit einer Maskierungsschicht (408; 510; 610), wobei die Zungen (404a, 404b; 504, 506; 604, 606) selektiv mit dem zweiten Material überzogen werden, wobei die Maskierungsschicht ein Überziehen des maskierten Teils der Schicht verhindert.
7. Verfahren nach Anspruch 1, wobei die Schicht aus dem ersten Material zwischen 0,001 und 0,005 Inch, d. h. zwischen 25,4 und 127 Mikrometer dick ist.
8. Verfahren nach Anspruch 1, wobei jede Zunge (404a, 404b; 504, 506; 604, 606) sich um einen Abstand zwischen 5 und 100 mils von der Schicht (402; 502; 602), d. h. zwischen 127 und 2540 Mikrometer von der Schicht erstreckt.
9. Verfahren nach Anspruch 1, wobei das erste Material aus der Gruppe ausgewählt ist, die aus Gold, weicher Kupferlegierung und weicher Aluminiumlegierung besteht.
10. Verfahren nach Anspruch 1, wobei das zweite Material Nickel umfasst.
11. Verfahren nach Anspruch 1, welches ferner umfasst
Befestigen eines Substrats (410) an der Schicht (402) aus einem ersten Material, so dass eine Oberfläche des Substrats und eine Oberfläche der Schicht parallel sind und aneinandergrenzen,
Vorsehen einer Vielzahl von Öffnungen (430) im Substrat (410), wobei jede Öffnung (430) eine jeweilige der ersten und der zweiten Zunge (404a, 404b) aufnimmt, was ermöglicht, dass die jeweilige eine Zunge durch die Öffnung hindurchtritt, so dass sich die jeweilige eine Zunge an der Oberfläche des Substrats entgegengesetzt zur Oberfläche des Substrats, die an die Schicht (402) angrenzt, vorbei erstrecken kann.
12. Verfahren nach Anspruch 11, ferner umfassend das Aufbringen eines Maskierungsmaterials (408) auf eine Oberfläche der Schicht (402) entgegengesetzt zur Oberfläche der Schicht, die an das Substrat (410) angrenzt, und das Strukturieren des Maskierungsmaterials (408), um eine Vielzahl von Öffnungen vorzusehen, wobei jede Öffnung eine jeweilige zweite der ersten und der zweiten Zunge (404a, 404b) aufnimmt, was ermöglicht, dass die jeweilige zweite Zunge durch die Öffnung hindurchtritt.
13. Verfahren nach Anspruch 12, welches ferner das galvanische Überziehen der ersten und der zweiten Zunge (404a, 404b) mit dem zweiten Material umfasst, so dass Teile der ersten oder der zweiten Zunge in den jeweiligen Öffnungen im Substrat oder Öffnungen im Maskierungsmaterial überzogen werden.
14. Verfahren nach Anspruch 13, welches ferner das Entfernen des Teils der Schicht (402) umfasst, der nicht mit dem zweiten Material überzogen wurde, so dass die erste Zunge und die zweite Zunge (404a, 404b) elektrisch miteinander verbunden sind.
DE69530103T 1994-11-15 1995-11-13 Verbindungselemente für mikroelektronische komponenten Expired - Lifetime DE69530103T2 (de)

Applications Claiming Priority (8)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US08/340,144 US5917707A (en) 1993-11-16 1994-11-15 Flexible contact structure with an electrically conductive shell
PCT/US1994/013373 WO1995014314A1 (en) 1993-11-16 1994-11-16 Contact structure for interconnections, interposer, semiconductor assembly and method
US08/452,255 US6336269B1 (en) 1993-11-16 1995-05-26 Method of fabricating an interconnection element
US08/457,479 US6049976A (en) 1993-11-16 1995-06-01 Method of mounting free-standing resilient electrical contact structures to electronic components
US52624695A 1995-09-21 1995-09-21
US08/533,584 US5772451A (en) 1993-11-16 1995-10-18 Sockets for electronic components and methods of connecting to electronic components
US08/554,902 US5974662A (en) 1993-11-16 1995-11-09 Method of planarizing tips of probe elements of a probe card assembly
PCT/US1995/014843 WO1996016440A1 (en) 1994-11-15 1995-11-13 Interconnection elements for microelectronic components

Publications (2)

Publication Number Publication Date
DE69530103D1 DE69530103D1 (de) 2003-04-30
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Family Applications (4)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE69530103T Expired - Lifetime DE69530103T2 (de) 1994-11-15 1995-11-13 Verbindungselemente für mikroelektronische komponenten
DE69531996T Expired - Lifetime DE69531996T2 (de) 1994-11-15 1995-11-13 Elektrische kontaktstruktur aus flexiblem draht
DE69535629T Expired - Lifetime DE69535629T2 (de) 1994-11-15 1995-11-13 Montage von elektronischen komponenten auf einer leiterplatte
DE69533336T Expired - Lifetime DE69533336T2 (de) 1994-11-15 1995-11-13 Testkarte und ihre anwendung

Family Applications After (3)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE69531996T Expired - Lifetime DE69531996T2 (de) 1994-11-15 1995-11-13 Elektrische kontaktstruktur aus flexiblem draht
DE69535629T Expired - Lifetime DE69535629T2 (de) 1994-11-15 1995-11-13 Montage von elektronischen komponenten auf einer leiterplatte
DE69533336T Expired - Lifetime DE69533336T2 (de) 1994-11-15 1995-11-13 Testkarte und ihre anwendung

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AU (4) AU4283996A (de)
DE (4) DE69530103T2 (de)
WO (4) WO1996015458A1 (de)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE10317276A1 (de) * 2003-04-11 2004-10-21 E.G.O. Elektrogerätebau GmbH Anordnung von Schalteinrichtungen
DE102004003275A1 (de) * 2004-01-21 2005-08-25 Infineon Technologies Ag Verbindungselemente auf Halbleiterchips für Halbleiterbauteile und Verfahren zur Herstellung derselben

Families Citing this family (219)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6043563A (en) * 1997-05-06 2000-03-28 Formfactor, Inc. Electronic components with terminals and spring contact elements extending from areas which are remote from the terminals
US5371654A (en) * 1992-10-19 1994-12-06 International Business Machines Corporation Three dimensional high performance interconnection package
US7368924B2 (en) 1993-04-30 2008-05-06 International Business Machines Corporation Probe structure having a plurality of discrete insulated probe tips projecting from a support surface, apparatus for use thereof and methods of fabrication thereof
US7073254B2 (en) 1993-11-16 2006-07-11 Formfactor, Inc. Method for mounting a plurality of spring contact elements
US20020053734A1 (en) 1993-11-16 2002-05-09 Formfactor, Inc. Probe card assembly and kit, and methods of making same
US6741085B1 (en) 1993-11-16 2004-05-25 Formfactor, Inc. Contact carriers (tiles) for populating larger substrates with spring contacts
US20020004320A1 (en) * 1995-05-26 2002-01-10 David V. Pedersen Attaratus for socketably receiving interconnection elements of an electronic component
DE69635227T2 (de) * 1995-05-26 2006-06-29 Formfactor, Inc., Livermore Kontakträger zum bestücken von substraten mit federkontakten
US6685817B1 (en) 1995-05-26 2004-02-03 Formfactor, Inc. Method and apparatus for controlling plating over a face of a substrate
US6483328B1 (en) * 1995-11-09 2002-11-19 Formfactor, Inc. Probe card for probing wafers with raised contact elements
DE69733928T2 (de) 1996-05-17 2006-06-14 Formfactor Inc Mikroelektronische kontaktstruktur und herstellungsverfahren dazu
JP2940475B2 (ja) * 1996-06-24 1999-08-25 日本電気株式会社 Icのパッケージ、icのプローバ及びそれらの製造方法
AU3603497A (en) * 1996-07-05 1998-02-02 Formfactor, Inc. Floating lateral support for ends of elongate interconnection elements
WO1998011446A1 (en) 1996-09-13 1998-03-19 International Business Machines Corporation Integrated compliant probe for wafer level test and burn-in
JP2000502810A (ja) 1996-09-13 2000-03-07 インターナシヨナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーシヨン 支持面から突出した複数の個別絶縁プローブ・チップを有するプローブ構造、それを使用するための装置および製造方法
US7282945B1 (en) 1996-09-13 2007-10-16 International Business Machines Corporation Wafer scale high density probe assembly, apparatus for use thereof and methods of fabrication thereof
US6690185B1 (en) 1997-01-15 2004-02-10 Formfactor, Inc. Large contactor with multiple, aligned contactor units
US5921786A (en) * 1997-04-03 1999-07-13 Kinetrix, Inc. Flexible shielded laminated beam for electrical contacts and the like and method of contact operation
AU8280398A (en) 1997-06-30 1999-01-19 Formfactor, Inc. Sockets for semiconductor devices with spring contact elements
WO1999014404A1 (en) * 1997-09-17 1999-03-25 Formfactor, Inc. Method of making a structure with improved material properties by moderate heat treatment of a metal deposit
US6378809B1 (en) 1997-10-10 2002-04-30 Space Systems AFT deployable thermal radiators for spacecraft
US6724203B1 (en) 1997-10-30 2004-04-20 International Business Machines Corporation Full wafer test configuration using memory metals
US6497581B2 (en) 1998-01-23 2002-12-24 Teradyne, Inc. Robust, small scale electrical contactor
US5973394A (en) * 1998-01-23 1999-10-26 Kinetrix, Inc. Small contactor for test probes, chip packaging and the like
US6078500A (en) * 1998-05-12 2000-06-20 International Business Machines Inc. Pluggable chip scale package
US6705876B2 (en) 1998-07-13 2004-03-16 Formfactor, Inc. Electrical interconnect assemblies and methods
JP4490978B2 (ja) * 1998-08-12 2010-06-30 東京エレクトロン株式会社 コンタクタ
US6218910B1 (en) 1999-02-25 2001-04-17 Formfactor, Inc. High bandwidth passive integrated circuit tester probe card assembly
US6448865B1 (en) 1999-02-25 2002-09-10 Formfactor, Inc. Integrated circuit interconnect system
US6208225B1 (en) 1999-02-25 2001-03-27 Formfactor, Inc. Filter structures for integrated circuit interfaces
US6459343B1 (en) 1999-02-25 2002-10-01 Formfactor, Inc. Integrated circuit interconnect system forming a multi-pole filter
AU5156300A (en) * 1999-05-27 2000-12-18 Nanonexus, Inc. Construction structures and manufacturing processes for integrated circuit waferprobe card assemblies
US7382142B2 (en) 2000-05-23 2008-06-03 Nanonexus, Inc. High density interconnect system having rapid fabrication cycle
US6799976B1 (en) 1999-07-28 2004-10-05 Nanonexus, Inc. Construction structures and manufacturing processes for integrated circuit wafer probe card assemblies
AU5171800A (en) * 1999-05-27 2000-12-18 Nanonexus, Inc. Massively parallel interface for electronic circuit
US6812718B1 (en) 1999-05-27 2004-11-02 Nanonexus, Inc. Massively parallel interface for electronic circuits
US7247035B2 (en) 2000-06-20 2007-07-24 Nanonexus, Inc. Enhanced stress metal spring contactor
US7349223B2 (en) 2000-05-23 2008-03-25 Nanonexus, Inc. Enhanced compliant probe card systems having improved planarity
US7215131B1 (en) 1999-06-07 2007-05-08 Formfactor, Inc. Segmented contactor
US7189077B1 (en) 1999-07-30 2007-03-13 Formfactor, Inc. Lithographic type microelectronic spring structures with improved contours
US6939474B2 (en) 1999-07-30 2005-09-06 Formfactor, Inc. Method for forming microelectronic spring structures on a substrate
US6888362B2 (en) 2000-11-09 2005-05-03 Formfactor, Inc. Test head assembly for electronic components with plurality of contoured microelectronic spring contacts
US6780001B2 (en) 1999-07-30 2004-08-24 Formfactor, Inc. Forming tool for forming a contoured microelectronic spring mold
US6398558B1 (en) * 1999-08-04 2002-06-04 Fci Americas Technology, Inc. Electrical connector and contact therefor
US6468098B1 (en) * 1999-08-17 2002-10-22 Formfactor, Inc. Electrical contactor especially wafer level contactor using fluid pressure
JP4574096B2 (ja) * 1999-09-09 2010-11-04 日本発條株式会社 導電性接触子
US6657455B2 (en) * 2000-01-18 2003-12-02 Formfactor, Inc. Predictive, adaptive power supply for an integrated circuit under test
US6509751B1 (en) 2000-03-17 2003-01-21 Formfactor, Inc. Planarizer for a semiconductor contactor
US7262611B2 (en) * 2000-03-17 2007-08-28 Formfactor, Inc. Apparatuses and methods for planarizing a semiconductor contactor
JP2003528459A (ja) * 2000-03-17 2003-09-24 フォームファクター,インコーポレイテッド 半導体接触器を平坦化するための方法と装置
JP4088015B2 (ja) 2000-03-24 2008-05-21 株式会社新川 湾曲状ワイヤの形成方法
US7952373B2 (en) * 2000-05-23 2011-05-31 Verigy (Singapore) Pte. Ltd. Construction structures and manufacturing processes for integrated circuit wafer probe card assemblies
US7579848B2 (en) 2000-05-23 2009-08-25 Nanonexus, Inc. High density interconnect system for IC packages and interconnect assemblies
JP2002267687A (ja) * 2001-03-12 2002-09-18 Advantest Corp プローブカード及び試験装置
JP2002343478A (ja) * 2001-05-16 2002-11-29 Tyco Electronics Amp Kk 電気コンタクトおよびそれを用いた電気接続部材
US6747469B2 (en) * 2001-11-08 2004-06-08 Koninklijke Philips Electronics N.V. Preconditioning integrated circuit for integrated circuit testing
US6817052B2 (en) 2001-11-09 2004-11-16 Formfactor, Inc. Apparatuses and methods for cleaning test probes
US20030115517A1 (en) * 2001-12-18 2003-06-19 Rutten Ivo Wilhelmus Johaooes Marie Microprocessor-based probe for integrated circuit testing
DE60226076T2 (de) * 2001-12-27 2009-06-25 Formfactor, Inc., Livermore Kühlungseinrichtung mit direkter kühlung von aktiven elektronischen komponenten
US7064953B2 (en) 2001-12-27 2006-06-20 Formfactor, Inc. Electronic package with direct cooling of active electronic components
US6891385B2 (en) 2001-12-27 2005-05-10 Formfactor, Inc. Probe card cooling assembly with direct cooling of active electronic components
US6840374B2 (en) 2002-01-18 2005-01-11 Igor Y. Khandros Apparatus and method for cleaning test probes
DE10220194A1 (de) * 2002-05-06 2003-11-27 Infineon Technologies Ag Kontaktierung von Nanoröhren
US20030211139A1 (en) * 2002-05-07 2003-11-13 Thierry Legon Dispersions of lipid particles for use as therapeutic and cosmetic agents and intracellular delivery vehicles
US6965244B2 (en) 2002-05-08 2005-11-15 Formfactor, Inc. High performance probe system
US6911835B2 (en) * 2002-05-08 2005-06-28 Formfactor, Inc. High performance probe system
EP1367643B1 (de) * 2002-05-15 2006-04-05 Tyco Electronics AMP GmbH Elektronikmodul
ATE322743T1 (de) 2002-05-15 2006-04-15 Tyco Electronics Amp Gmbh Elektronikmodul
US7122760B2 (en) * 2002-11-25 2006-10-17 Formfactor, Inc. Using electric discharge machining to manufacture probes
US6920689B2 (en) 2002-12-06 2005-07-26 Formfactor, Inc. Method for making a socket to perform testing on integrated circuits
JP4003230B2 (ja) 2003-01-23 2007-11-07 船井電機株式会社 ボールグリッドアレイ型icの実装構造
GB0325247D0 (en) * 2003-10-29 2003-12-03 Conductive Inkjet Tech Ltd Method of forming a conductive metal region on a substrate
JP2004259530A (ja) 2003-02-25 2004-09-16 Shinko Electric Ind Co Ltd 外部接触端子を有する半導体装置及びその使用方法
US7066751B2 (en) * 2003-04-23 2006-06-27 Asustek Computer Inc. Adjustable connector module
US6958670B2 (en) * 2003-08-01 2005-10-25 Raytheon Company Offset connector with compressible conductor
CN100583566C (zh) * 2003-08-22 2010-01-20 Abb瑞士有限公司 用于功率半导体模块中的接触设备的压力接触弹簧
DE10345377B4 (de) * 2003-09-30 2009-07-30 Qimonda Ag Halbleitermodul und Verfahren zur Herstellung eines Halbleitermoduls
JP2005127952A (ja) * 2003-10-27 2005-05-19 Sumitomo Electric Ind Ltd コンタクトプローブおよびその製造方法
DE10355921B4 (de) * 2003-11-29 2005-12-22 Festo Ag & Co. Elektrische Schaltungsanordnung mit einem elektronischen Chip in einer Aufnahmevorrichtung des Schaltungsträgers
JP2005201813A (ja) 2004-01-16 2005-07-28 Shinko Electric Ind Co Ltd 半導体検査装置及びコンタクトの製造方法
TW200525675A (en) 2004-01-20 2005-08-01 Tokyo Electron Ltd Probe guard
US7251884B2 (en) * 2004-04-26 2007-08-07 Formfactor, Inc. Method to build robust mechanical structures on substrate surfaces
EP1742073A1 (de) * 2004-04-27 2007-01-10 Kabushiki Kaisha Nihon Micronics Elektrische verbindungseinrichtung
CN1316508C (zh) * 2004-05-11 2007-05-16 番禺得意精密电子工业有限公司 一种电连接器
USRE43503E1 (en) 2006-06-29 2012-07-10 Microprobe, Inc. Probe skates for electrical testing of convex pad topologies
US9097740B2 (en) 2004-05-21 2015-08-04 Formfactor, Inc. Layered probes with core
US9476911B2 (en) 2004-05-21 2016-10-25 Microprobe, Inc. Probes with high current carrying capability and laser machining methods
US8988091B2 (en) 2004-05-21 2015-03-24 Microprobe, Inc. Multiple contact probes
DE102004061853A1 (de) * 2004-12-22 2006-03-02 Infineon Technologies Ag Trägervorrichtung zum Aufnehmen von Halbleiterbauelementen und Verfahren zur Herstellung einer entsprechenden Trägervorrichtung
KR100788208B1 (ko) 2005-03-08 2007-12-26 동경 엘렉트론 주식회사 접속핀의 형성 방법, 프로브, 접속핀, 프로브 카드 및프로브의 제조 방법
DE102005013323A1 (de) 2005-03-22 2006-10-05 Infineon Technologies Ag Kontaktierungsvorrichtung zum Kontaktieren einer integrierten Schaltung, insbesondere eines Chips oder eines Wafers, mit einer Testervorrichtung, entsprechendes Testverfahren und entsprechendes Herstellungsverfahren
US7371676B2 (en) 2005-04-08 2008-05-13 Micron Technology, Inc. Method for fabricating semiconductor components with through wire interconnects
US7393770B2 (en) * 2005-05-19 2008-07-01 Micron Technology, Inc. Backside method for fabricating semiconductor components with conductive interconnects
WO2006126279A1 (ja) * 2005-05-23 2006-11-30 Kabushiki Kaisha Nihon Micronics プローブ組立体、その製造方法および電気的接続装置
JP4472593B2 (ja) 2005-07-12 2010-06-02 東京エレクトロン株式会社 プローブカード
US20070057685A1 (en) * 2005-09-14 2007-03-15 Touchdown Technologies, Inc. Lateral interposer contact design and probe card assembly
JP4860242B2 (ja) 2005-11-11 2012-01-25 東京エレクトロン株式会社 プローブ装置
US8018242B2 (en) 2005-12-05 2011-09-13 Nhk Spring Co., Ltd. Probe card
JP4823667B2 (ja) 2005-12-05 2011-11-24 日本発條株式会社 プローブカード
US7307348B2 (en) 2005-12-07 2007-12-11 Micron Technology, Inc. Semiconductor components having through wire interconnects (TWI)
JP2007165383A (ja) 2005-12-09 2007-06-28 Ibiden Co Ltd 部品実装用ピンを形成したプリント基板
JP4654897B2 (ja) 2005-12-09 2011-03-23 イビデン株式会社 部品実装用ピンを有するプリント配線板の製造方法
JP2007165747A (ja) * 2005-12-16 2007-06-28 Unitechno Inc システムインパッケージ(SiP)用半導体チップ接触機構
JP2007183194A (ja) * 2006-01-10 2007-07-19 Micronics Japan Co Ltd プロービング装置
US7312617B2 (en) 2006-03-20 2007-12-25 Microprobe, Inc. Space transformers employing wire bonds for interconnections with fine pitch contacts
WO2007114790A1 (en) * 2006-03-31 2007-10-11 Agency For Science, Technology And Research Method of fabricating an interconnection for electrically connecting an electrical component to a substrate
US7659612B2 (en) 2006-04-24 2010-02-09 Micron Technology, Inc. Semiconductor components having encapsulated through wire interconnects (TWI)
CN101467051B (zh) 2006-06-08 2012-03-28 日本发条株式会社 探针卡
KR100771476B1 (ko) * 2006-06-16 2007-10-30 가부시키가이샤 니혼 마이크로닉스 전기적 접속장치
FR2905520A1 (fr) * 2006-09-04 2008-03-07 St Microelectronics Sa Boitier semi-conducteur a composants inverses et procede de fabrication d'un tel boitier
US8907689B2 (en) 2006-10-11 2014-12-09 Microprobe, Inc. Probe retention arrangement
JP2008145208A (ja) * 2006-12-08 2008-06-26 Hitachi High-Technologies Corp 半導体検査装置
US20100190387A1 (en) * 2007-01-31 2010-07-29 Gigaset Communications Gmbh Contact System
US7764076B2 (en) 2007-02-20 2010-07-27 Centipede Systems, Inc. Method and apparatus for aligning and/or leveling a test head
US7955158B2 (en) * 2007-03-26 2011-06-07 Mattel, Inc. Toy vehicle booster and track set
US7514948B2 (en) 2007-04-10 2009-04-07 Microprobe, Inc. Vertical probe array arranged to provide space transformation
WO2009011365A1 (ja) 2007-07-19 2009-01-22 Nhk Spring Co., Ltd. プローブカード
KR100950446B1 (ko) * 2007-09-11 2010-04-02 윌테크놀러지(주) Pcb를 구비하는 스페이스 트랜스포머 및 이를 포함하는프로브 카드
KR100920790B1 (ko) 2007-10-22 2009-10-08 가부시키가이샤 니혼 마이크로닉스 프로브 조립체, 그 제조방법 및 전기적 접속장치
DE102007054709B4 (de) 2007-11-16 2014-11-13 Semikron Elektronik Gmbh & Co. Kg Leistungshalbleitermodul mit einem Substrat und mit einer Druckeinrichtung
WO2009107747A1 (ja) 2008-02-29 2009-09-03 日本発條株式会社 配線基板およびプローブカード
KR100951344B1 (ko) * 2008-03-25 2010-04-08 주식회사 아이엠텍 프로브 카드, 프로브 카드용 스페이스 트랜스포머 및스페이스 트랜스포머 제조 방법
JP5511155B2 (ja) * 2008-06-25 2014-06-04 パナソニック株式会社 インターポーザ基板とその製造方法
DE102008034918B4 (de) * 2008-07-26 2012-09-27 Feinmetall Gmbh Elektrische Prüfeinrichtung für die Prüfung eines elektrischen Prüflings sowie elektrisches Prüfverfahren
KR101235228B1 (ko) * 2008-08-08 2013-02-20 니혼 하츠쵸 가부시키가이샤 워크 부재, 전기 접점 부재, 콘택트 프로브 및 전기 접점 부재의 제조방법
EP2159580B1 (de) * 2008-08-26 2015-10-07 Lake Shore Cryotronics, Inc. Sondenspitze
DE102008059314A1 (de) * 2008-11-27 2010-06-02 Conti Temic Microelectronic Gmbh Gehäuse mit einem toleranzbehafteten elektronischen Bauteil
KR101067497B1 (ko) * 2008-12-20 2011-09-27 주식회사 바른전자 반도체 패키지
US8232818B2 (en) 2009-02-19 2012-07-31 Advantest America, Inc. Probe head for a microelectronic contactor assembly, the probe head having SMT electronic components thereon
US8047856B2 (en) 2010-02-24 2011-11-01 Avago Technologies Fiber Ip (Singapore) Pte. Ltd. Array connector for optical transceiver module
JP5556316B2 (ja) * 2010-04-02 2014-07-23 株式会社デンソー 表面実装型電子部品及び表面実装型電子部品の実装構造
US8414309B2 (en) * 2010-05-03 2013-04-09 Avago Technologies Fiber Ip (Singapore) Pte. Ltd Receptacle for an optical transceiver module for protecting the module from airborne particles
JP5564328B2 (ja) * 2010-05-19 2014-07-30 新光電気工業株式会社 ソケット
JP2011258364A (ja) 2010-06-08 2011-12-22 Shinko Electric Ind Co Ltd ソケット
JP2012004464A (ja) * 2010-06-18 2012-01-05 Toshiba Corp 半導体装置、半導体装置の製造方法及び半導体装置の製造装置
US9233627B2 (en) 2010-06-24 2016-01-12 Johnson Controls Technology Company Electro-mechanical push button vehicle seat actuation mechanism
US8482111B2 (en) 2010-07-19 2013-07-09 Tessera, Inc. Stackable molded microelectronic packages
JP5713598B2 (ja) 2010-07-20 2015-05-07 新光電気工業株式会社 ソケット及びその製造方法
JP5788166B2 (ja) * 2010-11-02 2015-09-30 新光電気工業株式会社 接続端子構造及びその製造方法、並びにソケット
JP5582995B2 (ja) 2010-12-14 2014-09-03 新光電気工業株式会社 ソケット
KR101118836B1 (ko) 2011-02-11 2012-03-16 에프컴 코포레이션 전극패턴 검사장치
JP5777997B2 (ja) 2011-03-07 2015-09-16 日本特殊陶業株式会社 電子部品検査装置用配線基板およびその製造方法
JP5798435B2 (ja) 2011-03-07 2015-10-21 日本特殊陶業株式会社 電子部品検査装置用配線基板およびその製造方法
KR101128063B1 (ko) 2011-05-03 2012-04-23 테세라, 인코포레이티드 캡슐화 층의 표면에 와이어 본드를 구비하는 패키지 적층형 어셈블리
KR101649521B1 (ko) * 2011-05-13 2016-08-22 리노공업주식회사 프로브 및 그 제조방법
CN102305880A (zh) * 2011-09-08 2012-01-04 高德(无锡)电子有限公司 防止印刷电路板电镀软金电性测试扎伤转接板
US8404520B1 (en) * 2011-10-17 2013-03-26 Invensas Corporation Package-on-package assembly with wire bond vias
US9229029B2 (en) * 2011-11-29 2016-01-05 Formfactor, Inc. Hybrid electrical contactor
WO2013095628A1 (en) * 2011-12-23 2013-06-27 Intel Corpporation High bandwidth connector for internal and external io interfaces
WO2013101226A1 (en) * 2011-12-30 2013-07-04 Intel Corporation Apparatus and method for automated sort probe assembly and repair
JPWO2013108759A1 (ja) 2012-01-18 2015-05-11 日本発條株式会社 スペーストランスフォーマおよびプローブカード
US8835228B2 (en) 2012-05-22 2014-09-16 Invensas Corporation Substrate-less stackable package with wire-bond interconnect
US8796132B2 (en) * 2012-06-29 2014-08-05 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. System and method for forming uniform rigid interconnect structures
US9502390B2 (en) 2012-08-03 2016-11-22 Invensas Corporation BVA interposer
CN103682725A (zh) * 2012-09-24 2014-03-26 富士康(昆山)电脑接插件有限公司 电连接器及其导电端子
US9134343B2 (en) 2012-09-28 2015-09-15 Intel Corporation Sort probe gripper
US9106027B2 (en) 2012-12-21 2015-08-11 Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. Methods, apparatuses and systems for mid-plane mounting parallel optical communications modules on circuit boards
DE102013200308A1 (de) * 2013-01-11 2014-07-17 Infineon Technologies Ag Bonddraht und Verfahren zur Herstellung einer Bondverbindung
JP6092729B2 (ja) * 2013-07-19 2017-03-08 新光電気工業株式会社 プローブカード及びその製造方法
US9167710B2 (en) 2013-08-07 2015-10-20 Invensas Corporation Embedded packaging with preformed vias
US9583456B2 (en) 2013-11-22 2017-02-28 Invensas Corporation Multiple bond via arrays of different wire heights on a same substrate
TWI481876B (zh) * 2013-12-13 2015-04-21 Mpi Corp Probe module (3)
US9583411B2 (en) 2014-01-17 2017-02-28 Invensas Corporation Fine pitch BVA using reconstituted wafer with area array accessible for testing
US10381326B2 (en) 2014-05-28 2019-08-13 Invensas Corporation Structure and method for integrated circuits packaging with increased density
CN105588957B (zh) * 2014-11-12 2019-03-22 致伸科技股份有限公司 测试座
JP6407672B2 (ja) * 2014-11-18 2018-10-17 ルネサスエレクトロニクス株式会社 半導体装置の製造方法
TW201625962A (zh) * 2014-12-04 2016-07-16 技術探測股份有限公司 包括垂直探針之測試頭
KR102542154B1 (ko) * 2014-12-30 2023-06-13 테크노프로브 에스.피.에이. 테스트 헤드용 접촉 프로브
US9888579B2 (en) 2015-03-05 2018-02-06 Invensas Corporation Pressing of wire bond wire tips to provide bent-over tips
WO2016195766A1 (en) * 2015-05-29 2016-12-08 R&D Circuits, Inc. Improved power supply transient performance (power integrity) for a probe card assembly in an integrated circuit test environment
CN106449581A (zh) * 2015-08-04 2017-02-22 三垦电气株式会社 半导体装置
US10490528B2 (en) 2015-10-12 2019-11-26 Invensas Corporation Embedded wire bond wires
US9490222B1 (en) 2015-10-12 2016-11-08 Invensas Corporation Wire bond wires for interference shielding
US10332854B2 (en) 2015-10-23 2019-06-25 Invensas Corporation Anchoring structure of fine pitch bva
US10181457B2 (en) 2015-10-26 2019-01-15 Invensas Corporation Microelectronic package for wafer-level chip scale packaging with fan-out
US9984992B2 (en) 2015-12-30 2018-05-29 Invensas Corporation Embedded wire bond wires for vertical integration with separate surface mount and wire bond mounting surfaces
CN105682356B (zh) * 2016-03-11 2018-07-27 广东欧珀移动通信有限公司 柔性电路板组件及电子设备
CN105912788B (zh) * 2016-04-14 2019-03-12 中车长春轨道客车股份有限公司 端部接触式少片抛物线型主副簧的副簧刚度设计方法
US20170330677A1 (en) * 2016-05-11 2017-11-16 Cascade Microtech, Inc. Space transformers, planarization layers for space transformers, methods of fabricating space transformers, and methods of planarizing space transformers
US10263352B2 (en) * 2016-06-10 2019-04-16 Te Connectivity Corporation Electrical contact pad for electrically contacting a connector
US10120020B2 (en) 2016-06-16 2018-11-06 Formfactor Beaverton, Inc. Probe head assemblies and probe systems for testing integrated circuit devices
US9935075B2 (en) 2016-07-29 2018-04-03 Invensas Corporation Wire bonding method and apparatus for electromagnetic interference shielding
CN106271010A (zh) * 2016-08-29 2017-01-04 苏州倍声声学技术有限公司 微细线储能冲击焊接工艺
US10299368B2 (en) 2016-12-21 2019-05-21 Invensas Corporation Surface integrated waveguides and circuit structures therefor
US10782316B2 (en) 2017-01-09 2020-09-22 Delta Design, Inc. Socket side thermal system
DE102017211619A1 (de) * 2017-02-08 2018-08-09 Siemens Aktiengesellschaft Verfahren zur elektrischen Kontaktierung und Leistungsmodul
JP2018174018A (ja) * 2017-03-31 2018-11-08 タイコエレクトロニクスジャパン合同会社 ソケット
US10109490B1 (en) 2017-06-20 2018-10-23 Globalfoundries Inc. Cobalt interconnects formed by selective bottom-up fill
KR101977473B1 (ko) * 2017-07-27 2019-05-10 주식회사 기가레인 플럭스 확산이 개선된 프로브핀 및 이의 제조 방법
CN111913019A (zh) * 2017-09-15 2020-11-10 中华精测科技股份有限公司 探针卡装置的圆形探针
CN107622978A (zh) * 2017-10-13 2018-01-23 中国电子科技集团公司第十三研究所 一种陶瓷封装外壳
CN107978578B (zh) * 2017-11-23 2020-02-21 中国科学院力学研究所 一种变线宽的柔性可拉伸导线及其制备方法
CN108188521B (zh) * 2018-01-25 2020-10-02 山东建筑大学 一种钼铼合金箔材的高频感应加热钎焊方法
WO2019176380A1 (ja) * 2018-03-16 2019-09-19 富士電機株式会社 半導体装置
CN108666308B (zh) * 2018-06-19 2019-06-18 清华大学 柔性集成封装系统
TWI668457B (zh) * 2018-08-27 2019-08-11 創意電子股份有限公司 檢測裝置
TWI672764B (zh) * 2018-11-07 2019-09-21 國立成功大學 晶片封裝裝置及其對位壓合方法
KR102168622B1 (ko) * 2018-12-05 2020-10-21 경북대학교 산학협력단 국부 항복 전류를 이용한 선택적 열처리 방법 및 국부 항복 전류를 이용한 선택적 열처리용 프로브카드
KR102163321B1 (ko) * 2019-02-08 2020-10-21 화인인스트루먼트 (주) 프로브 카드 및 그 제조 방법
KR102139584B1 (ko) * 2019-03-07 2020-07-30 (주)티에스이 반도체 소자 테스트용 소켓 장치
JP7206140B2 (ja) 2019-03-22 2023-01-17 株式会社ヨコオ 検査装置
EP3719466A1 (de) * 2019-04-01 2020-10-07 Heraeus Nexensos GmbH 3d-verbinderstruktur, verfahren zur herstellung einer 3d-verbinderstruktur und temperatursensor
KR20200123743A (ko) * 2019-04-22 2020-10-30 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤 검사 방법, 수지 필름 롤의 제조 방법 및 수지 필름 롤
US11561243B2 (en) * 2019-09-12 2023-01-24 International Business Machines Corporation Compliant organic substrate assembly for rigid probes
JP7370055B2 (ja) * 2020-02-12 2023-10-27 株式会社新川 半導体装置の製造方法及びワイヤボンディング装置
KR102179457B1 (ko) * 2020-03-25 2020-11-16 (주)티에스이 테스트 소켓 및 이를 포함하는 테스트 장치와, 테스트 소켓의 제조방법
WO2021200642A1 (ja) * 2020-03-31 2021-10-07 積水ポリマテック株式会社 導電部材
KR102410156B1 (ko) * 2020-06-02 2022-06-17 (주)티에스이 반도체 패키지의 테스트 장치
KR102821123B1 (ko) * 2020-07-02 2025-06-18 주식회사 케이엠더블유 솔더 기판 조립체
TWI745197B (zh) * 2020-12-18 2021-11-01 鴻勁精密股份有限公司 定位機構、作業機、測試機及測試設備
CN112757161B (zh) * 2020-12-31 2022-04-19 上海超硅半导体股份有限公司 一种抛光载具的修整方法
JP2024527711A (ja) 2021-06-30 2024-07-26 デルタ・デザイン・インコーポレイテッド 接触器アセンブリを含む温度制御システム
DE102021117095A1 (de) 2021-07-02 2023-01-05 Umicore Galvanotechnik Gmbh Bronzeschichten als Edelmetallersatz
US12241912B2 (en) 2021-10-22 2025-03-04 Raytheon Company Socketless or flush mount QFN (quad flat no lead) test board, fixture, and method
WO2023157900A1 (ja) * 2022-02-18 2023-08-24 ヌヴォトンテクノロジージャパン株式会社 プローブユニット、検査装置、検査システム、検査方法、及び半導体レーザ装置の製造方法
EP4325227B1 (de) * 2022-08-16 2025-10-01 Heraeus Precious Metals GmbH & Co. KG Bandförmiger verbundwerkstoff für prüfnadeln
KR102824815B1 (ko) * 2023-03-06 2025-06-25 퀄맥스 주식회사 블레이드 핀
KR102843660B1 (ko) * 2024-02-27 2025-08-07 주식회사 유씨에스 전자 디바이스 테스트용 소켓
DK202430166A1 (en) * 2024-04-15 2025-11-05 Green Hydrogen Systems As Bipolar plate and electrodes assembly and method for generating a bipolar plate and electrodes assembly and electrolyser unit adapted for electrolysing water into hydrogen and oxygen.

Family Cites Families (93)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3373481A (en) * 1965-06-22 1968-03-19 Sperry Rand Corp Method of electrically interconnecting conductors
US3460238A (en) * 1967-04-20 1969-08-12 Motorola Inc Wire severing in wire bonding machines
US3509270A (en) * 1968-04-08 1970-04-28 Ney Co J M Interconnection for printed circuits and method of making same
US3616532A (en) * 1970-02-02 1971-11-02 Sperry Rand Corp Multilayer printed circuit electrical interconnection device
DE2119567C2 (de) * 1970-05-05 1983-07-14 International Computers Ltd., London Elektrische Verbindungsvorrichtung und Verfahren zu ihrer Herstellung
US3844909A (en) * 1970-11-12 1974-10-29 Gen Electric Magnetic film plated wire and substrates therefor
US3753665A (en) * 1970-11-12 1973-08-21 Gen Electric Magnetic film plated wire
US3832632A (en) * 1971-11-22 1974-08-27 F Ardezzone Multi-point probe head assembly
US3842189A (en) 1973-01-08 1974-10-15 Rca Corp Contact array and method of making the same
US3959874A (en) * 1974-12-20 1976-06-01 Western Electric Company, Inc. Method of forming an integrated circuit assembly
US4074342A (en) * 1974-12-20 1978-02-14 International Business Machines Corporation Electrical package for lsi devices and assembly process therefor
US4067104A (en) * 1977-02-24 1978-01-10 Rockwell International Corporation Method of fabricating an array of flexible metallic interconnects for coupling microelectronics components
JPS5555985U (de) * 1978-10-12 1980-04-16
JPS568081U (de) * 1979-06-29 1981-01-23
US4418857A (en) * 1980-12-31 1983-12-06 International Business Machines Corp. High melting point process for Au:Sn:80:20 brazing alloy for chip carriers
US4423376A (en) * 1981-03-20 1983-12-27 International Business Machines Corporation Contact probe assembly having rotatable contacting probe elements
US4532152A (en) * 1982-03-05 1985-07-30 Elarde Vito D Fabrication of a printed circuit board with metal-filled channels
US4488111A (en) * 1982-06-01 1984-12-11 At&T Technologies, Inc. Coupling devices for operations such as testing
US4705205A (en) * 1983-06-30 1987-11-10 Raychem Corporation Chip carrier mounting device
GB8330391D0 (en) * 1983-11-15 1983-12-21 Gen Electric Co Plc Electrical interface arrangement
US4751199A (en) * 1983-12-06 1988-06-14 Fairchild Semiconductor Corporation Process of forming a compliant lead frame for array-type semiconductor packages
US4548451A (en) * 1984-04-27 1985-10-22 International Business Machines Corporation Pinless connector interposer and method for making the same
US4667219A (en) * 1984-04-27 1987-05-19 Trilogy Computer Development Partners, Ltd. Semiconductor chip interface
DE3577371D1 (de) 1984-07-27 1990-05-31 Toshiba Kawasaki Kk Apparat zum herstellen einer halbleiteranordnung.
JPS6149432A (ja) * 1984-08-18 1986-03-11 Matsushita Electric Ind Co Ltd 半導体装置の製造方法
DE3536908A1 (de) * 1984-10-18 1986-04-24 Sanyo Electric Co., Ltd., Moriguchi, Osaka Induktivitaetselement und verfahren zur herstellung desselben
JPS61164038A (ja) * 1985-01-14 1986-07-24 Nissan Motor Co Ltd タ−ボチヤ−ジヤのサ−ジ防止装置
US4659437A (en) * 1985-01-19 1987-04-21 Tokusen Kogyo Kabushiki Kaisha Method of thermal diffusion alloy plating for steel wire on continuous basis
US4642889A (en) * 1985-04-29 1987-02-17 Amp Incorporated Compliant interconnection and method therefor
JPS61287155A (ja) * 1985-06-14 1986-12-17 Hitachi Ltd 半導体装置及び半導体装置の製造方法
US4661192A (en) * 1985-08-22 1987-04-28 Motorola, Inc. Low cost integrated circuit bonding process
US4793814A (en) * 1986-07-21 1988-12-27 Rogers Corporation Electrical circuit board interconnect
US4777564A (en) * 1986-10-16 1988-10-11 Motorola, Inc. Leadform for use with surface mounted components
US4764848A (en) * 1986-11-24 1988-08-16 International Business Machines Corporation Surface mounted array strain relief device
US5189507A (en) * 1986-12-17 1993-02-23 Raychem Corporation Interconnection of electronic components
US4955523A (en) * 1986-12-17 1990-09-11 Raychem Corporation Interconnection of electronic components
JP2533511B2 (ja) * 1987-01-19 1996-09-11 株式会社日立製作所 電子部品の接続構造とその製造方法
US5086337A (en) * 1987-01-19 1992-02-04 Hitachi, Ltd. Connecting structure of electronic part and electronic device using the structure
JPS63279477A (ja) * 1987-05-09 1988-11-16 Pioneer Electronic Corp ディスクプレ−ヤの情報読取装置
US4983907A (en) 1987-05-14 1991-01-08 Intel Corporation Driven guard probe card
US5045975A (en) * 1987-05-21 1991-09-03 Cray Computer Corporation Three dimensionally interconnected module assembly
JPH0640106B2 (ja) * 1987-11-09 1994-05-25 株式会社日立製作所 半導体lsi検査装置用プローブヘッド及びその製造方法
US5014111A (en) * 1987-12-08 1991-05-07 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Electrical contact bump and a package provided with the same
JPH063820B2 (ja) * 1988-07-25 1994-01-12 松下電器産業株式会社 半導体装置の実装方法
JPH01152271A (ja) * 1987-12-09 1989-06-14 Toshiba Corp スパッタ装置
JPH01313969A (ja) * 1988-06-13 1989-12-19 Hitachi Ltd 半導体装置
US5137461A (en) * 1988-06-21 1992-08-11 International Business Machines Corporation Separable electrical connection technology
DE3838413A1 (de) * 1988-11-12 1990-05-17 Mania Gmbh Adapter fuer elektronische pruefvorrichtungen fuer leiterplatten und dergl.
US5037023A (en) * 1988-11-28 1991-08-06 Hitachi, Ltd. Method and apparatus for wire bonding
JPH02226996A (ja) * 1989-02-28 1990-09-10 Seiko Instr Inc 圧電素子接着装置および圧電素子接着方法
JPH02237047A (ja) * 1989-03-09 1990-09-19 Mitsubishi Electric Corp 半導体試験装置
US4914814A (en) * 1989-05-04 1990-04-10 International Business Machines Corporation Process of fabricating a circuit package
US5366380A (en) * 1989-06-13 1994-11-22 General Datacomm, Inc. Spring biased tapered contact elements for electrical connectors and integrated circuit packages
US5349495A (en) * 1989-06-23 1994-09-20 Vlsi Technology, Inc. System for securing and electrically connecting a semiconductor chip to a substrate
JP3087294B2 (ja) * 1989-09-29 2000-09-11 ジェイエスアール株式会社 異方導電性シートの製造方法
US4998885A (en) * 1989-10-27 1991-03-12 International Business Machines Corporation Elastomeric area array interposer
JPH03142847A (ja) * 1989-10-30 1991-06-18 Hitachi Ltd 半導体集積回路装置
US5095187A (en) * 1989-12-20 1992-03-10 Raychem Corporation Weakening wire supplied through a wire bonder
US4989069A (en) * 1990-01-29 1991-01-29 Motorola, Inc. Semiconductor package having leads that break-away from supports
US5471151A (en) * 1990-02-14 1995-11-28 Particle Interconnect, Inc. Electrical interconnect using particle enhanced joining of metal surfaces
JP2781247B2 (ja) * 1990-02-28 1998-07-30 旭化成工業株式会社 微小突起電極付接続基板の製造方法
JPH03292406A (ja) * 1990-04-06 1991-12-24 Shiyuukou:Kk 基礎台調整用支持具
US5130779A (en) * 1990-06-19 1992-07-14 International Business Machines Corporation Solder mass having conductive encapsulating arrangement
US5187020A (en) * 1990-07-31 1993-02-16 Texas Instruments Incorporated Compliant contact pad
GB2247565B (en) * 1990-08-22 1994-07-06 Gen Electric Co Plc A method of testing a semiconductor device
US5148103A (en) * 1990-10-31 1992-09-15 Hughes Aircraft Company Apparatus for testing integrated circuits
JPH04240570A (ja) * 1991-01-24 1992-08-27 Shimadzu Corp マイクロ・プローブ・ボード
JPH04273458A (ja) * 1991-02-28 1992-09-29 Ando Electric Co Ltd 測定ヘッドとプローブカードの水平出し機構
JPH04297050A (ja) * 1991-03-12 1992-10-21 Mitsubishi Electric Corp 半導体検査装置およびその平板状基板の製造方法
JP3092191B2 (ja) * 1991-03-27 2000-09-25 ジェイエスアール株式会社 回路基板検査装置
JP3135135B2 (ja) * 1991-04-18 2001-02-13 三菱電機株式会社 半導体装置,その製造方法,その試験方法及びその試験装置
US5076794A (en) * 1991-04-29 1991-12-31 Compaq Computer Corporation Space-saving mounting interconnection between electrical components and a printed circuit board
JPH0529406A (ja) * 1991-07-18 1993-02-05 Mitsubishi Electric Corp 半導体検査装置
US5345038A (en) * 1991-07-29 1994-09-06 Kyocera America, Inc. Multi-layer ceramic packages
CA2115553C (en) * 1991-09-30 2002-08-20 Deepak Keshav Pai Plated compliant lead
US5309324A (en) * 1991-11-26 1994-05-03 Herandez Jorge M Device for interconnecting integrated circuit packages to circuit boards
US5225777A (en) * 1992-02-04 1993-07-06 International Business Machines Corporation High density probe
US5289631A (en) * 1992-03-04 1994-03-01 Mcnc Method for testing, burn-in, and/or programming of integrated circuit chips
US5299939A (en) * 1992-03-05 1994-04-05 International Business Machines Corporation Spring array connector
US5483421A (en) * 1992-03-09 1996-01-09 International Business Machines Corporation IC chip attachment
JPH05283494A (ja) * 1992-04-03 1993-10-29 Katsuyoshi Nakano 集積回路素子ウエハー用測定電極
US5210939A (en) * 1992-04-17 1993-05-18 Intel Corporation Lead grid array integrated circuit
US5237743A (en) * 1992-06-19 1993-08-24 International Business Machines Corporation Method of forming a conductive end portion on a flexible circuit member
US5248262A (en) * 1992-06-19 1993-09-28 International Business Machines Corporation High density connector
JPH0650990A (ja) * 1992-07-30 1994-02-25 Nec Corp プローブカード
DE4232745C2 (de) * 1992-09-30 2002-07-18 Univ Dresden Tech Bonddraht zum Ultraschallbonden
US5334804A (en) * 1992-11-17 1994-08-02 Fujitsu Limited Wire interconnect structures for connecting an integrated circuit to a substrate
JPH06213928A (ja) * 1993-01-18 1994-08-05 Tokyo Electron Ltd プローブヘッドの製造方法
US5386344A (en) * 1993-01-26 1995-01-31 International Business Machines Corporation Flex circuit card elastomeric cable connector assembly
CA2110472C (en) * 1993-03-01 1999-08-10 Anilkumar Chinuprasad Bhatt Method and apparatus for in-situ testing of integrated circuit chips
JPH06265577A (ja) * 1993-03-12 1994-09-22 Mitsubishi Electric Corp 半導体試験用電気的接続治具
US5414298A (en) * 1993-03-26 1995-05-09 Tessera, Inc. Semiconductor chip assemblies and components with pressure contact
JPH06294818A (ja) * 1993-04-08 1994-10-21 Seiko Epson Corp パフォーマンスボード

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE10317276A1 (de) * 2003-04-11 2004-10-21 E.G.O. Elektrogerätebau GmbH Anordnung von Schalteinrichtungen
DE102004003275A1 (de) * 2004-01-21 2005-08-25 Infineon Technologies Ag Verbindungselemente auf Halbleiterchips für Halbleiterbauteile und Verfahren zur Herstellung derselben
DE102004003275B4 (de) * 2004-01-21 2007-04-19 Infineon Technologies Ag Halbleiterbauteil mit Verbindungselementen auf Halbleiterchips und Verfahren zur Herstellung derselben

Also Published As

Publication number Publication date
CN1171167A (zh) 1998-01-21
JP2006084475A (ja) 2006-03-30
JP4160693B2 (ja) 2008-10-01
AU4160096A (en) 1996-06-06
DE69535629T2 (de) 2008-07-31
AU4283996A (en) 1996-06-19
KR20060087616A (ko) 2006-08-02
JPH09508241A (ja) 1997-08-19
JP2008034861A (ja) 2008-02-14
JP3157134B2 (ja) 2001-04-16
KR100324059B1 (ko) 2002-04-17
EP1198001A2 (de) 2002-04-17
JP2000067953A (ja) 2000-03-03
KR100278093B1 (ko) 2001-01-15
WO1996016440A1 (en) 1996-05-30
CN1118099C (zh) 2003-08-13
DE69533336D1 (de) 2004-09-09
JP2007329491A (ja) 2007-12-20
JP4160809B2 (ja) 2008-10-08
EP1447846A3 (de) 2007-10-17
JPH11514493A (ja) 1999-12-07
JPH11126800A (ja) 1999-05-11
JP2001077250A (ja) 2001-03-23
AU4159896A (en) 1996-06-06
CN1251319C (zh) 2006-04-12
DE69530103D1 (de) 2003-04-30
WO1996015458A1 (en) 1996-05-23
DE69531996D1 (de) 2003-11-27
WO1996017378A1 (en) 1996-06-06
WO1996015551A1 (en) 1996-05-23
KR100399210B1 (ko) 2003-09-26
EP1408337A3 (de) 2007-09-19
JP3386077B2 (ja) 2003-03-10
JP4588721B2 (ja) 2010-12-01
EP1447846A2 (de) 2004-08-18
DE69533336T2 (de) 2005-01-13
JPH10506197A (ja) 1998-06-16
EP1198001A3 (de) 2008-07-23
JP2002509639A (ja) 2002-03-26
JP2003177144A (ja) 2003-06-27
JP2011069829A (ja) 2011-04-07
KR970705029A (ko) 1997-09-06
DE69531996T2 (de) 2004-07-22
KR20030096425A (ko) 2003-12-31
EP1408338A2 (de) 2004-04-14
JP2007132950A (ja) 2007-05-31
JP2003179110A (ja) 2003-06-27
CN1495870A (zh) 2004-05-12
JP2892505B2 (ja) 1999-05-17
KR100394205B1 (ko) 2003-08-06
DE69535629D1 (de) 2007-12-06
KR100408948B1 (ko) 2004-04-03
JP4163922B2 (ja) 2008-10-08
JP3114999B2 (ja) 2000-12-04
EP1408338A3 (de) 2007-09-26
AU4159996A (en) 1996-06-17
JP4540577B2 (ja) 2010-09-08
EP1408337A2 (de) 2004-04-14

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