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DE68918133T2 - Untereinheiten für hybrid-integrierte optoelektronische Schaltkreise. - Google Patents

Untereinheiten für hybrid-integrierte optoelektronische Schaltkreise.

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Publication number
DE68918133T2
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DE
Germany
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base
waveguide
lid
chips
assembly according
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DE68918133T
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DE68918133D1 (de
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Greg E Blonder
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
AT&T Corp
Original Assignee
American Telephone and Telegraph Co Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
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Publication date
Application filed by American Telephone and Telegraph Co Inc filed Critical American Telephone and Telegraph Co Inc
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    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10FINORGANIC SEMICONDUCTOR DEVICES SENSITIVE TO INFRARED RADIATION, LIGHT, ELECTROMAGNETIC RADIATION OF SHORTER WAVELENGTH OR CORPUSCULAR RADIATION
    • H10F55/00Radiation-sensitive semiconductor devices covered by groups H10F10/00, H10F19/00 or H10F30/00 being structurally associated with electric light sources and electrically or optically coupled thereto
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B6/00Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
    • G02B6/24Coupling light guides
    • G02B6/26Optical coupling means
    • G02B6/30Optical coupling means for use between fibre and thin-film device
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B6/00Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
    • G02B6/24Coupling light guides
    • G02B6/42Coupling light guides with opto-electronic elements
    • GPHYSICS
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    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
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    • G02B6/24Coupling light guides
    • G02B6/42Coupling light guides with opto-electronic elements
    • G02B6/4201Packages, e.g. shape, construction, internal or external details
    • G02B6/4204Packages, e.g. shape, construction, internal or external details the coupling comprising intermediate optical elements, e.g. lenses, holograms
    • H10W90/00

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  • Light Receiving Elements (AREA)

Description

    Beschreibung
  • Die Erfindung betrifft integrierte optoelektronische Schaltungen (Optoelectronic Integrated Circuits, OEICs) und speziell Baugruppen bzw. Unterbaugruppen für hybride Versionen von OEICs, in welchen individuelle Chips auf einer Basis befestigt werden und optisch und/oder elektronisch miteinander verbunden werden. Die Chips selbst können diskrete Einrichtungen sein, wie z.B. Laserdioden oder Photodioden oder integrierte Einrichtungen, wie z.B. Kombinationen von p-i-n-Photodioden und Feldeffekttransistoren (pinFETs) oder integrierte Schaltungen, wie z.B. Senderschaltungen oder Empfängerschaltungen.
  • In der elektronischen Technologie sind gedruckte Schaltungsplatinen (Printed Circuit Boards, PCs) im wesentlichen allgegenwärtig, werden überall, von Fernsehgeräten bis zu Computern vom Haushalt bis zum Satelliten angetroffen. Gedruckte Schaltungsplatinen ermöglichen die Verbindung individueller elektronischer Chips und Bauteile mittels metallisierter Muster, die auf einem isolierenden Substrat, wie z.B. einer Fiberglas- oder keramischen Platine abgeschieden sind. Diese Technologie ist sehr ausgereift, führt zu Platinen, die relativ einfach mit hoher Zuverlässigkeit und recht niedrigen Kosten herstellbar sind. Demgegenüber stecken optische und optoelektronische Technologien in den Kinderschuhen. Diskrete Bauteile bevölkern den Markt, diese Komponenten werden jedoch typischerweise mit High-Tech-Gruppe-III-V- Verbindungsverfahren hergestellt und in metallenen oder keramischen Gehäusen unter Verwendung spezialisierter Techniken und Ausrüstung zusammengebaut bzw. gepackt, welches diese typischerweise sehr teuer macht. Die Erträge für diskrete Baugruppen sind tendenziell relativ niedrig und tendieren, obwohl die Integration optoelektronischer Baugruppen untersucht wird, für die nahe Zukunft zu sogar noch niedrigeren Erträgen. Demzufolge besteht Bedarf an einer anderen Vorgehensweise, vergleichbar zu der Vorgehensweise bei gedruckten Platinen für elektronische Schaltungen, um die optische und elektronische Verbindung und Packung individueller optischer und elektronischer Chips auf eine leicht herstellbare und relativ preisgünstige Weise zu ermöglichen.
  • Die EP 0,150,929 beschreibt ein optische Kommunikationssystem mit einer optischen Sendeeinrichtung (beispielsweise Laserdiode) und einen optischen Empfangseinrichtung (d.h. einem Phototransistor), der auf dem gleichen Siliziumsubstrat mit einer physikalischen Trennung zwischen beiden befestigt ist. Eine optische Verbindung in der Form entweder einer Faser (die in eine in dem Silizium ausgebildeten Furche eingesetzt ist) oder eines Wellenleiters (einer Schicht aus Siliziumdioxid, die auf der Substratoberfläche ausgebildet ist) ist ausgebildet, um die optischen Einrichtungen zu koppeln.
  • Die WO-A-87/02474 beschreibt eine Anordnung zum Positionieren einer optischen Komponente, wie z.B. einer Laserdiode in Ausrichtung zu einem optischen Wellenleiter (wie z. B. einer Faser). Eine Klemme wird weiterhin beschrieben, um die ausgerichtete Anordnung zu bedecken. Gemäß vorliegender Erfindung wird eine Baugruppe wie in Anspruch 1 definiert zur Verfügung gestellt.
  • Bei der erfindungsgemäßen Baugruppe wird ein Einkristall- Halbleiterdeckel an der Basis befestigt, um eine Umhüllung auszubilden, welche Kavitäten bzw. Ausnehmungen umfaßt, die optisch und/oder elektrisch die Baugruppen voneinander isolieren.
  • Gemäß einer Ausführungsform der Erfindung werden optoelektronische Chips auf einer Einkristall-Halbleiterbasis befestigt und werden optisch miteinander durch Wellenleiter und Koppler, die einstückig an dem Halbleitermaterial ausgebildet sind, miteinander verbunden. Die an der Basis ausgebildete integrierte Schaltung kann beispielsweise als Transceiver bzw. Sendeempfänger dienen.
  • In einer Ausführungsform erstreckt sich wenigstens einer der Wellenleiter an der Basis unter dem Deckel zum Äußeren der Umhüllung hervor, wodurch die Kopplung einer Faser an den Wellenleiter ermöglicht wird, ohne daß diese in die Umhüllung eintreten muß.
  • In einer verwandten Ausführungsform wird eine Ausrichtungsbefestigung an einem Ende der Basis zum Ausrichten einer Faser zum Wellenleiter befestigt.
  • In einer weiteren Ausführungsform weist ein Halbleiterlaser eine Mesa auf, die eine Furche zum Ausrichten des Lasers zu einem der Wellenleiter erfaßt.
  • Vorzugsweise sind die Basis, der Deckel und die Befestigung aus Silizium hergestellt, um die relativ ausgereifte Technologie zu nutzen, die sich auf dem Gebiet der integrierten Schaltungen entwickelt hat. In diesem Falle sind die Wellenleiter aus Silica- bzw. Quarzglas hergestellt und können den üblichsten Bereich für Einzelmodenlichtausbreitung von 0,7-1,7 um abdecken. In dieser Form kann von der Erfindung gesagt werden, daß diese die "optische Siliziumbank"-Technologie nutzt.
  • Die Erfindung ist zusammen mit ihren verschiedenen Eigenschaften und Vorteilen aus der nachfolgenden detaillierteren Beschreibung in Zusammenschau mit den beigefügten Zeichnungen einfach zu verstehen, wobei die Figuren schematisch sind und im Interesse der Klarheit nicht maßstabsgerecht dargestellt sind.
  • Fig. 1 zeigt eine isometrische Ansicht einer optoelektronischen Sendeempfänger-Unterbaugruppe (mit abgenommenem Deckel) gemäß einer Ausführungsform der Erfindung.
  • Fig. 2-5 zeigen Querschnittsansichten von Anteilen der Basis, welche darstellen, wie Licht in dem integralen Silika-Wellenleiter aufwärts abgelenkt werden kann, um so einen optischen Prüfpunkt bereitzustellen oder um Licht zu einem Photodetektor auf der Platine zu koppeln.
  • Fig. 6 zeigt eine Querschnittsansicht eines Silika-Wellenleiters, der auf der Siliziumbasis aus Fig. 1 ausgebildet ist.
  • Fig. 7 zeigt die Anordnung der Kerne der Silika-Wellenleiter in dem Bereich, in welchem Koppler an der Siliziumbasis aus Fig. 1 ausgebildet sind.
  • Fig. 8 zeigt eine vergrößerte Darstellung, wie der Halbleiterlaser aus Fig. 1 zum Silika-Wellenleiter ausgerichtet ist.
  • Fig. 9 zeigt eine Querschnitts-Seitenansicht von Fig. 4.
  • Fig. 10 zeigt eine Tandem-V-Furchenanordnung, die verwendet wird, um eine optische Faser auszurichten und den Silika-Wellenleiter aus Fig. 1 zu koppeln.
  • Fig. 11 zeigt eine Querschnittsdarstellung einer Unterbaugruppe des in Fig. 1 dargestellten Typs, jedoch sind der Einfachheit wegen lediglich zwei Einrichtungen, eine Laserdiode und eine Photodiode an der Siliziumbasis dargestellt. Die Fig. beschreibt verschiedene Eigenschaften: einen Siliziumdeckel, der die Einrichtung von einer anderen isoliert, einen Wellenleiter, der sich unter dem Deckel zum Äußeren der Umhüllung erstreckt, so daß die Faser nicht durch die Umhüllung treten muß, und eine Ausrichtungsbefestigung an einem Ende der Basis zum Ausrichten der Faser zum Wellenleiter.
  • Fig. 12-13 zeigen, wie die Unterbaugruppe an Führungsstäbe angepaßt werden kann, so daß sie wie bei gedruckten Schaltungsplatinen in einen Rahmen eines Gerätes eingesteckt werden kann.
  • Nachstehend wird auf Fig. 1 Bezug genommen, in welcher ein optoelektronischer Senderempfänger gezeigt ist, der an einem Einkristall- Halbleitersubstrat ausgebildet ist, bevorzugt Silizium, um die ausgereifte Verfahrenstechnologie und kommerziellen standardisierten Ausrüstungen, die auf diesem Gebiet verfügbar sind, auszunutzen. Ein Sendeempfänger wurde lediglich zu Erläuterungszwecken dargestellt, da dieser wahrscheinlich die meisten der optoelektronischen Chips repräsentiert, die in anderen Schaltungen, wie z. B. Sendern und Empfängern auffindbar sind. Im allgemeinen ist wenigstens die Hauptoberfläche 12 der Siliziumbasis 10 oxydiert (um beispielsweise die SiO&sub2; -Schicht 12 auszubilden). Zusätzlich umfaßt der Sendeempfänger eine Vielzahl von Einzelmoden oder Mehrmoden- Silikawellenleitern, die einstückig in der Siliziumbasis ausgebildet sind, um die verschiedenen optoelektronischen Chips miteinander zu verbinden. In beispielhafter Weise umfassen diese Wellenleiter einen Übertragungswellenleiter 14 bzw. Sendewellenleiter 14 und optische Koppler 20 und 23. Der Wellenleiter 14 koppelt eine Laserdiode 16 an eine optische Faser 18 und der Koppler 20, dargestellt als evaneszenter Feldkoppler für Einzelmodenanwendungen, hat einen Wellenleiterabschnitt 22 zum Koppeln der optischen Faser 18 zu einer Empfänger-Photodiode 24 und einem Wellenleitersegment 26 zum optischen Koppeln des Lasers 16 an eine Leistungsüberwachungs-Photodiode 28. Der andere Koppler 23, der ebenfalls als evaneszenter Feldkoppler dargestellt ist, greift einen geringen Anteil der Leistung von dem Wellenleiter 14 ab, um einen optischen Prüfpunkt am Ort 25 bereitzustellen, eine Funktion, die nachher beschrieben wird. Für Mehrmodenanwendungen wären die Koppler 20-23 vorzugsweise in der Form bekannter Y-Koppler statt der evaneszenten Feldkoppler.
  • Die Oxidschicht 12 an der Basis dient dazu, die verschiedenen elektrischen Kontakte, die darin ausgebildet sind, elektrisch zu isolieren und optisch den evaneszenten Teil der optischen Mode im Wellenleiter von der Basis zu isolieren.
  • Wie in Fig. 6 dargestellt ist, haben die Silika- bzw. Glaswellenleiter typischerweise einen ungefähr halbkreisförmigen Kern 30, der durch eine untere Ummantelung 32 und eine obere Ummantelung 34 umgeben ist. Die Halbkreisform des Kerns paßt mit dem Mode im Wellenleiter 14 (Fig. 1) mit demjenigen in der Faser 18 überein und beträgt ungefähr 5 um im Durchmesser für Einzelmodenausbreitung. Vorzugsweise ist die untere Ummantelung 32 durch Oxydieren der Oberfläche der Siliziumbasis 10 ausgebildet, der Kern wird durch Abscheiden von Phosphorsilikatglas durch chemische Gasphasenabscheidung, Strukturieren des Glases zum Definieren des Kerns und dann Fließenlassen des strukturierten Kerns zum Ausbilden der halbkreisförmigen Form ausgebildet. Die obere Ummantelung 34 wird dann durch Abscheiden von Silika und nachfolgend Verdichten des Silikaglases ausgebildet. Wellenleiter dieses Typs haben optische Verluste von weniger als 0,03 dB/cm im Wellenlängenbereich von prinzipiellen Interesse für optische Kommunikationen, dies ist 0,7-1,6 um. Koppler umfassen die Seite- an-Seite-Anordnung zweier Kerne, wie in Fig. 7 dargestellt, so daß das evaneszente Feld des einen Wellenleiters benachbarte ausreichend überlappt, um optische Leistung von dem einen zum anderen zu übertragen.
  • Zusätzliche zu den vorstehend beschriebenen optischen Chips ist der Sendeempfänger schematisch dargestellt mit elektronischen Schaltungschips, wie z.B. die Lasertreiberschaltung 40, die mit der Laserdiode 16 verbunden ist und Empfängerschaltung 42, die elektrisch sowohl mit der Empfänger-Photodiode 24 als auch der Überwachungs-Photodiode 28 verbunden ist. Das Positionieren der Photodioden wie gezeigt erleichtert die Echolöschung, falls benötigt, jedoch können die Schaltung 40 und die Photodiode 28 auf der gleichen Seite des Wellenleiters 14 angeordnet werden, um die Überkreuzung der elektrischen Verbindung 7 zu vermeiden. Dennoch kann, vorausgesetzt, daß die Ummantelung des Wellenleiters dick genug ist, um merkliche Absorption durch das Metall in der Verbindung zu verhindern, die Überkreuzung realisiert werden.
  • Die nachfolgende Beschreibung richtet sich hauptsächlich auf die optischen Chips und im speziellen auf die Weise, wie diese optisch an die Silikawellenleiter gekoppelt sind.
  • Das Koppeln der Silikawellenleiter an einen Photodetektor ist in den Fig. 2-5 dargestellt. In einer in den Fig. 2 und 4 dargestellten Ausführungsform ist die Photodiode 24 eben an der Basis 10 ausgerichtet und ist oberhalb des Wellenleiters 22 durch die darunterliegenden Elektroden 44 zusammen mit Lötkontakten 46, die zwischen den Elektroden 44 und der Photodiode 24 (Fig. 4) angeordnet, um das Licht aus dem Wellenleiter 22 umzulenken, ist eine Furche 11 durch den Kern 30 geätzt (Fig. 2), so daß die Achse der Furche transversal zur Achse des Wellenleiters läuft und an einer dem ende des Wellenleiters entfernten Seitenwand metallisiert, um einen Reflektor 13 auszubilden. Somit wird aus dem Ende des Wellenleiters austretendes Licht, welches auf den Reflektor 13 trifft, aufwärts zur Photodiode 24 umgelenkt.
  • Alternativ, wie in Fig. 3 dargestellt, kann das Ende des Wellenleiters 22 so geformt sein, daß sich eine geneigte Oberfläche 15 ergibt, welche das Ende des Wellenleiters unterschneidet und durch innere Totalreflexion dazu dient, das Licht aufwärts zur Photodiode 24 umzulenken.
  • In wichtiger Weise bilden diese Techniken zum Umlenken des sich in dem Wellenleiter ausbreitenden Lichtes in eine Richtung nach oben von der Basis 10 eine wichtige Eigenschaft der Erfindung, dies bedeutet die Bereitstellung eines Prüfpunktes 25, wie in Fig. 1 dargestellt. Der Prüfpunkt 25, der den Orten aus Fig. 2 und 3 entspricht, wo Licht durch die geneigten reflektierenden Oberflächen nach oben umgelenkt wird, ist verwendbar, um Zusammenbaufunktionen oder den Schaltungsbetrieb zu überwachen. Um beispielsweise festzustellen, ob der Laser 16 korrekt zum Wellenleiter 14 ausgerichtet ist, koppelt der Koppler 23 einen geringen Bruchteil des Lichtes vom Wellenleiter 14 zum Prüfpunkt 25. Es wird daran gedacht, daß ein Prüfkopf, der einen Photodetektor in geeigneter Position enthält, über der Basis 10 während dem Zusammenbau angeordnet sein kann. Während des Laserbetriebs wird Laser-zu-Wellenleiter-Ausrichtung erreicht, wenn die optische Leistung am Prüfpunkt 25 maximiert ist. In ähnlicher Weise können andere Prüfpunkte an der Basis 10 mit einbezogen werden, um verschiedene Formen des Prüfens und Messens auszuführen, entweder automatisch während des Betriebs des Sendeempfängers oder manuell im Anwendungsfeld, welches eine Bedienungsperson in die Lage versetzt, einen geeignet konstruierten Prüfkopf über dem Testpunkt anzuordnen, um festzustellen, ob ein Fehler in der Schaltung aufgetreten ist.
  • Alternativ, wie in Fig. 5 dargestellt, muß die Photodiode nicht flach auf der Basis 10 anliegen, und in derartigen Fällen kann eine anisotrop in die Basis 10 geätzte V-Furche verwendet werden, um die Photodiode 24 entlang der dem Ende des Wellenleiters 22 fernen Wand anzuordnen. Auf diese Weise trifft das aus dem Ende des Wellenleiters austretende Licht die Photodiode direkt. Diese Anordnung hat den Vorteil, daß die schräge Orientierung der Photodiode die Wahrscheinlichkeit senkt, daß fehlerhafte Reflexionen in den Wellenleiter 22 zurückgekoppelt werden und möglicherweise andere Komponenten, wie z.B. Laser, die an diesem Wellenleiter angekoppelt sind, stört.
  • Die Kopplung der Laserdiode 16 an den Wellenleiter 14 ist in Fig. 8 und 9 dargestellt. Das hier beschriebene Ausrichtungsverfahren kann unabhängig vom optischen Prüfpunkt 25, oder falls erwünscht, zusammen mit diesem verwendet werden. Wie in Fig. 8 dargestellt hat die Laserdiode 16 eine Mesa 19, die an einer deren Oberflächen ausgebildet ist und die Basis 10 hat eine Furche 21, die axial zum Wellenleiter 14 ausgerichtet ist. Die Mesa kann am Laser im speziellen zum Zwecke der Ausrichtung ausgebildet sein oder kann integraler Bestandteil des Lasers für andere Zwecke sein (beispielsweise die Wellenleiterrippe eines Rippen-Wellenleiterlasers). In jedem Falle ist die Mesa 19 durch die Furche 21 geführt, um die Ausrichtung des aktiven Bereichs 17 der Laserdiode zum Wellenleiter 14 bereitzustellen. Die Mesa und Furche kann konstruktionsgemäß exakte Ausrichtung zum Wellenleiter selbst erzeugen oder kann eine grobe Ausrichtung erzeugen, falls dies erwünscht ist. Im letzteren falle kann die Laserdiode 16 optisch durch einen separaten Laser (beispielsweise einen Nd:YAG-Laser (nicht dargestellt), falls die Laserdiode 16 eine 1,3 um InP/InGaAsP-Einrichtung ist), und das in den Wellenleiter 14 gekoppelte Licht wird durch Überwachen entweder des in die Faser 18 gekoppelten Lichtes oder in den Testpunkt 25 gekoppelten Lichtes maximiert. Optisches Pumpen der Laserdiode 16 wird erreicht durch bereitstellen einer Öffnung 23 in der Metallisierung der Oberseite des Lasers, so daß die Pumpstrahlung in diesen aktiven Bereich eintreten kann. Selbstverständlich kann, falls die Oberseitenmetallisierung nicht zu anderen Zwecken benötigt wird (beispielsweise Prüfen vor der Befestigung an der Basis), diese weggelassen werden, wodurch die Notwendigkeit einer Öffnung 23 wegfällt.
  • Die Faser 18 wird optische zum Wellenleiter 14 mittels eines Paares von Tandem-B-Furchen, wie in Fig. 10 dargestellt, optisch gekoppelt. Eine relativ enge V-Furche 50 ist zur optischen Achse des Wellenleiters 14 ausgerichtet und dessen Größe ist angepaßt, den nackten Abschnitt 31 der Faser 18 (Fig. 1) zu empfangen, wohingegen die größere V-Furche 52 axial zur Furche 50 ausgerichtet ist und deren Größe den beschichteten Abschnitt 33 der Faser 18 (Fig. 1) aufnehmen kann. Die V-Furchen sind anisotrop geätzt durch zuerst teilweises Ätzen der größeren Furche 52, während der Ort der engeren Furche maskiert ist, dann Entfernen der Maske und Vervollständigen des Ätzens der größeren Furche und der engeren Furche auf simultane Weise.
  • Die vorstehend beschriebenen optischen Unterbaugruppen werden wie in den Fig. 11 und 12 dargestellt durch Bereitstellen eines Deckels 70 vervollständigt, welcher die verschiedenen an der Basis 10 befestigten Chips umhüllt, als Beispiel sind lediglich eine Laserdiode 92 und eine Photodiode 94, die durch einen Wellenleiter 80 gekoppelt sind, dargestellt.
  • Für hermetische Anwendungen ist der Deckel entlang seines Umfangs zur Basis abgedichtet. Um das Erreichen der Hermetizität zu vereinfachen, durchdringt die Faser 18 nicht die hermetische Umhüllung. Statt dessen weist eine Siliziumbefestigung 76 eine V-Furche 78 auf, die oberhalb der V- Furche 50 in der Basis 10 so ausgerichtet ist, daß ein Kanal zum Aufnehmen der Faser ausgebildet ist. Dieser Kanal dient dazu, die Faser zu führen und diese an den Wellenleiter 80 zu koppeln, der sich in die hermetische Umhüllung erstreckt. Obwohl eine Einsenkung iin Deckel ausgebildet werden könnte, um den Wellenleiter 80 aufzunehmen, ist in der Praxis das verwendete Dichtmittel zum Ausbilden der hermetischen Abdichtung ausreichend eindrückbar, um den Wellenleiter ohne die Notwendigkeit einer Einsenkung aufzunehmen. Generell könnte die Befestigung 76 und der Deckel 70 ein einheitliches Bauteil sein, diese sind jedoch, wie dargestellt, bevorzugt getrennt.
  • Wie in Fig. 12 dargestellt hat der Deckel 70 parallel zur Basis 10 eine Abmessung, die kürzer als die entsprechende Abmessung der Basis ist, so daß daran ausgebildete Leitungen unter dem Deckel hervorragen und den elektrischen Zugriff zu diesen gestattet. Lediglich zwei Sätze derartiger Leitungen 73 und 75 sind zur Erläuterung dargestellt.
  • Darüber hinaus kann der Deckel 70 verwendet werden, um eine zusätzliche wichtige Eigenschaft der Erfindung bereitzustellen, die der optischen und elektrischen Isolierung der Chips an der Basis 10, wie in Fig. 11 dargestellt. Zur Optischen Isolation bei langen Wellenlängen (beispielsweise oberhalb 1,1-1,6 um) ist die innere Oberfläche des Deckels vorzugsweise metallisiert (nicht dargestellt), in der Praxis wird das Silizium vorzugsweise oxydiert, bevor das Metall abgeschieden wird. Bei kürzeren Wellenlängen (beispielsweise ungefähr 0,7-0,9 um) muß die Metallisierung nicht erforderlich sein, da das Silizium Licht bei derartigen Wellenlängen absorbiert. In jedem Falle ist der Deckel 70 mit einem Paar getrennter Aushöhlungen 72 und 74 versehen, die den Laser 92 und die Photodiode 94 jeweils aufnehmen können, wenn der Deckel an einem Ort ist. Somit sind die Bauteile durch Abschnitte des Deckels (wie z.B. 77) getrennt, welche die Einrichtungen elektrisch und optisch voneinander isolieren.
  • Es ist offensichtlich, daß der Deckel mehreren Zwecken dient, einschließlich: Schützen der Chips während mit dem Einkapseln der Unterbaugruppe in ein Gehäuse auftretenden Gießvorgängen, elektrischem und/oder optischem Isolieren der Chips. Zusätzlich kann dieser verwendet werden, um eine angepaßte Beschichtung in den Aushöhlungen zum Zwecke des Passivierens der Chips aufzunehmen, falls dies nötig ist.
  • Zusätzlich kann die Basis 10 (oder die Befestigung 76 oder beide) mit V-Furchen entlang deren parallelen Kanten, wie in den Fig. 12-13 dargestellt, versehen sein, um Führungsstäbe 90 aufzunehmen, die zum Einstecken der Baugruppe bzw. Unterbaugruppe in ein Gerät oder Rahmen verwendbar sind. Selbstverständlich würden die Führungsstäbe dabei die automatische Kopplung der Unterbaugruppe an Fasern (wie z.B. 18), die Teil des Rahmens oder Geräterahmens sind, ermöglichen. Die Unterbaugruppe kann mit einer Basis verwendet werden, an welcher eine beliebige optoelektronische Einrichtung befestigt ist (mit oder ohne Deckel) und optisch an die Faser gekoppelt wird, diese ist nicht auf Ausführungsformen beschränkt, in welchen die Basis eine integrierte Schaltung trägt.
  • In Fig. 12 sind die V-Furchen 100 entlang paralleler Kanten der Basis 10 ausgebildet, um die Stäbe 90 aufzunehmen. Die letztgenannten können an der Basis befestigt sein oder können Teil eines Geräterahmens sein. Alternativ ist die Befestigung 76 in Fig. 13 breiter hergestellt, erstreckt sich zur Breite der Basis. Parallele Kanten der Befestigung und der Basis sind so geätzt, daß im zusammengebauten Zustand die geätzten Strukturen V-Furchen 100 zum Aufnehmen der Stäbe 90 bilden. Im Hinblick auf die Herstellung kann die Konstruktion der Fig. 13 einfacher herstellbar sein, da die Konstruktion aus Fig. 12 das Ätzen von beiden Seiten der Basis umfaßt mit demzufolge der Ausrichtung von Masken von der Vorderseite zur Rückseite.

Claims (13)

1. Optoelektronische integrierte Schaltungsbaugruppe mit einer Einkristall-Halbleiterbasis (10) mit einer Hauptoberfläche (12) mit einer isolierenden Schicht (12) daran, optischen Wellenleitern (14, 22, 26), die integral an der Oberfläche ausgebildet sind, wenigstens zwei optoelektronischen Chips (16, 24, 28), die an der Basis befestigt sind und optisch an die Wellenleiter gekoppelt sind, wobei die Chips physikalisch voneinander getrennt sind,
gekennzeichnet durch
einen Einkristall-Halbleiterdeckel (70) an der Basis, wobei der Deckel wenigstens zwei physikalisch getrennte Aushöhlungen (72, 74) zum Aufnehmen der Chips umfaßt, wobei die Aushöhlungen durch Material (77), welches die Chips elektrisch und optisch voneinander isoliert, in dem Deckel getrennt sind.
2. Baugruppe nach Anspruch 1, in welcher der Deckel hermetisch an der Basis gedichtet ist und wenigstens einer der Wellenleiter sich unter dem Deckel zu dessen Äußerem erstreckt und ferner umfassend eine Einrichtung (50, 78, 76), die zum Koppeln des wenigstens einen Wellenleiters (14) an eine optische Faser (18) außerhalb des Deckels ist.
3. Baugruppe nach Anspruch 1, in welcher der Deckel eine Abmessung, gemessen parallel zu der Oberfläche aufweist, die kleiner als die entsprechende Abmessung der Basis ist, und ferner elektrische Kontakte (73, 75) an der Basis umfaßt, die sich von den Chips unter dem Deckel zu dessen Äußerem erstrecken.
4. Baugruppe nach Anspruch 1, in welcher parallele Kanten der Basis oder des Deckels Furchen umfassen, die Führungsstäbe 90 aufnehmen können.
5. Baugruppe nach Anspruch 1, in welcher die Wellenleiter einen Übertragungswellenleiter (14) und einen sekundären Wellenleiter, die ein Paar optischer Koppler (22, 26) bilden, umfassen, wobei die Chips einen Empfänger-Photodetektor (24) umfassen, der optisch mit einem (22) der Koppler verbunden ist, einen Monitor-Photodetektor (28) umfassen, der optisch an einen anderen (26) der Koppler gekoppelt ist und ferner eine Laserdiode (16) umfassen, die an ein Ende des Übertragungswellenleiters gekoppelt, ist und ferner eine Faserausrichtungseinheit (50, 78) umfassen, die an dem anderen Ende des Übertragungswellenleiters angeordnet ist.
6. Baugruppe nach Anspruch 1, in welcher einer der Chips eine Laserdiode (16) umfaßt, die optisch an ein Ende des Übertragungswellenleiters (14) gekoppelt ist, und ferner einen Koppler (20) umfaßt zum Extrahieren eines Bruchteils des Lichtes, das von der Laserdiode in den Übertragungswellenleiter gekoppelt ist, und eine Einrichtung (23) umfaßt zum Umlenken des Lichts in dem Koppler zu einem Prüfpunkt (25), an welchem Licht nach oben von der Basis austritt, wobei die Überwachung der Ausrichtung des Lasers zum Übertragungswellenleiter ermöglicht ist.
7. Baugruppe nach Anspruch 1, in welcher die Hauptoberfläche der Basis eine axial zu einem der Wellenleiter ausgerichtete Furche umfaßt und einer der Chips eine Halbleiterlaserdiode mit einer daran ausgebildeten Mesa (19) und einem aktiven Bereich umfaßt, wobei die Mesa in der Furche (21) so angeordnet ist, daß der aktive Bereich zum Wellenleiter (14) ausgerichtet ist.
8. Baugruppe nach Anspruch 7, in welcher der Laser gegenüberliegende Hauptoberflächen hat, wobei die Mesa an einer der Hauptoberflächen angeordnet ist, und eine Metallisierung mit einer Öffnung (23) darin an der gegenüberliegenden Hauptoberfläche angeordnet ist.
9. Baugruppe nach Anspruch 1, in welcher sich wenigstens einer der Wellenleiter (80) unter dem Deckel hervor zu dessen Äußeren erstreckt und ferner
eine Einrichtung (50, 78) außerhalb des Deckels umfaßt zum Koppeln wenigstens eines Wellenleiters an eine optische Faser, wobei der Deckel eine Abmessung parallel zur Oberfläche hat, die kleiner als die entsprechende Abmessung der Basis ist und ferner elektrische Kontakte (73, 75) an der Basis umfaßt, die sich von den Chips unter dem Deckel zu dessen Äußerem erstrecken.
10. Baugruppe nach Anspruch 9, in welcher die Wellenleiter einen Übertragungswellenleiter (14) und einen sekundären Wellenleiter, die ein Paar (22, 26) von optischen Kopplern bilden, umfassen, und wobei die Chips einen Empfänger-Photodetektor (24) umfassen, der optisch an einen der Koppler angeschlossen ist, einen Monitor-Photodetektor (28) umfassen, der optisch an einen anderen der Koppler gekoppelt ist und ferner eine Laserdiode (16) umfassen, die an ein Ende des Übertragungswellenleiters gekoppelt ist.
11. Baugruppe nach Anspruch 10, in welcher die Basis eine Hauptoberfläche (12) hat, in welcher eine Furche (21) ausgebildet ist, wobei einer der Wellenleiter (14) axial zur Furche ausgerichtet ist, und wobei der Laser eine an diesem ausgebildete Mesa (19) hat und einen aktiven Bereich, wobei die Mesa in der Furche (21) so angeordnet ist, daß der aktive Bereich zu einem Wellenleiter ausgerichtet ist.
12. Baugruppe nach Anspruch 9, in welcher die Basis ein Paar paralleler Kanten hat und eine V-Furche in jeder der Kanten ausgebildet ist, so daß Führungsstäbe (90) für die Baugruppe in den Furchen anordenbar sind.
13. Baugruppe nach Anspruch 9, in welcher die Basis ein Paar paralleler Kanten hat und die Kopplungseinrichtung eine einkristalline Siliziumbefestigung umfaßt, die an einem Ende der Basis befestigt ist, wobei die Befestigung ein Paar von Kanten parallel zu denjenigen der Basis hat, wobei die Kanten geneigte Oberflächen haben, die darin parallele V-Furchen so ausbilden, daß die Führungsstäbe (90) für die Baugruppen in den Furchen anordenbar sind.
DE68918133T 1988-03-03 1989-02-22 Untereinheiten für hybrid-integrierte optoelektronische Schaltkreise. Expired - Fee Related DE68918133T2 (de)

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US (1) US4904036A (de)
EP (1) EP0331338B1 (de)
JP (1) JPH0734495B2 (de)
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ES (1) ES2058498T3 (de)
SG (1) SG154394G (de)

Families Citing this family (146)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4741796A (en) * 1985-05-29 1988-05-03 Siemens Aktiengesellschaft Method for positioning and bonding a solid body to a support base
DE3834335A1 (de) * 1988-10-08 1990-04-12 Telefunken Systemtechnik Halbleiterschaltung
US5073003A (en) * 1988-12-23 1991-12-17 At&T Bell Laboratories Optoelectronic device package method and apparatus
US4998803A (en) * 1989-04-13 1991-03-12 Tacan Corporation Mounting structure for optical and electro-optical components and method of making same
US4969712A (en) * 1989-06-22 1990-11-13 Northern Telecom Limited Optoelectronic apparatus and method for its fabrication
FR2659148B1 (fr) * 1990-03-01 1993-04-16 Commissariat Energie Atomique Procede de connexion entre une fibre optique et un microguide optique.
US5023881A (en) * 1990-06-19 1991-06-11 At&T Bell Laboratories Photonics module and alignment method
US5124281A (en) * 1990-08-27 1992-06-23 At&T Bell Laboratories Method of fabricating a photonics module comprising a spherical lens
US5039190A (en) * 1990-09-07 1991-08-13 At&T Bell Laboratories Apparatus comprising an optical gain device, and method of producing the device
JPH04152725A (ja) * 1990-10-17 1992-05-26 Hitachi Ltd マスタークロック分配方法およびそれを用いた装置
DE4111095C1 (de) * 1991-04-05 1992-05-27 Ant Nachrichtentechnik Gmbh, 7150 Backnang, De
US5263111A (en) * 1991-04-15 1993-11-16 Raychem Corporation Optical waveguide structures and formation methods
US5182787A (en) * 1991-04-29 1993-01-26 At&T Bell Laboratories Optical waveguide structure including reflective asymmetric cavity
US5534442A (en) * 1991-05-10 1996-07-09 Northern Telecom Limited Process of providing uniform photoresist thickness on an opto-electronic device
US5125054A (en) * 1991-07-25 1992-06-23 Motorola, Inc. Laminated polymer optical waveguide interface and method of making same
US5179609A (en) * 1991-08-30 1993-01-12 At&T Bell Laboratories Optical assembly including fiber attachment
JP2976642B2 (ja) * 1991-11-07 1999-11-10 日本電気株式会社 光結合回路
DE4142340A1 (de) * 1991-12-20 1993-06-24 Siemens Ag Optoelektronischer ic
JP2773501B2 (ja) * 1991-12-24 1998-07-09 日本電気株式会社 導波路と受光素子の固定構造
JP2755274B2 (ja) * 1991-12-26 1998-05-20 日本電気株式会社 導波路型受光モジュール
JP3024354B2 (ja) * 1992-01-27 2000-03-21 日本電気株式会社 半導体レーザ
DE69331876T2 (de) * 1992-01-28 2002-11-28 British Telecommunications P.L.C., London Ausrichtung von integrierten optischen Komponenten
US5189296A (en) * 1992-04-03 1993-02-23 International Business Machines Corporation Optical receiver having a low capacitance integrated photodetector
DE4212208A1 (de) * 1992-04-10 1993-10-14 Bosch Gmbh Robert Verfahren zur Herstellung optischer Polymerbauelemente mit integrierter Faser-Chip-Kopplung in Abformtechnik
JPH05333231A (ja) * 1992-05-29 1993-12-17 Furukawa Electric Co Ltd:The 光導波路と光ファイバの接続方法
DE4232608C2 (de) * 1992-09-29 1994-10-06 Bosch Gmbh Robert Verfahren zum Herstellen eines Deckels für eine integriert optische Schaltung
US5355386A (en) * 1992-11-17 1994-10-11 Gte Laboratories Incorporated Monolithically integrated semiconductor structure and method of fabricating such structure
US6090635A (en) * 1992-11-17 2000-07-18 Gte Laboratories Incorporated Method for forming a semiconductor device structure having a laser portion
DE4300652C1 (de) * 1993-01-13 1994-03-31 Bosch Gmbh Robert Verfahren zur Herstellung einer hybrid integrierten optischen Schaltung und Vorrichtung zur Emission von Lichtwellen
US5329392A (en) * 1993-03-19 1994-07-12 At&T Bell Laboratories Optical communication system with multiple fiber monitoring
GB9306136D0 (en) * 1993-03-24 1993-05-12 Plessey Telecomm Opto-electronic circuits
US5359686A (en) * 1993-03-29 1994-10-25 Motorola, Inc. Interface for coupling optical fibers to electronic circuitry
JP2546506B2 (ja) * 1993-07-27 1996-10-23 日本電気株式会社 光半導体素子と光導波路の結合構造およびその結合方法
JP3302458B2 (ja) * 1993-08-31 2002-07-15 富士通株式会社 集積化光装置及び製造方法
ES2078863B1 (es) * 1993-09-10 1996-08-01 Telefonica Nacional Espana Co Cabeza optica fotodetectora.
US5559914A (en) * 1993-10-19 1996-09-24 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Components for optical circuits and method of manufacturing the same
EP0654866A3 (de) * 1993-11-23 1997-08-20 Motorola Inc Träger zur Verbindung eines Halbleiterwürfels und Herstellungsverfahren.
US5415730A (en) * 1993-12-14 1995-05-16 At&T Corp. Metal coated optical fiber techniques
ES2100791B1 (es) * 1994-02-03 1997-12-16 Telefonica Nacional Espana Co Dispositivo optoelectronico de fotodetectores en guiaonda con diversidad de polarizacion.
SE503905C2 (sv) * 1994-03-16 1996-09-30 Ericsson Telefon Ab L M Förfarande för framställning av en optokomponent samt optokomponent
SE513183C2 (sv) * 1994-03-18 2000-07-24 Ericsson Telefon Ab L M Förfarande för framställning av en optokomponent samt kapslad optokomponent
US5479540A (en) * 1994-06-30 1995-12-26 The Whitaker Corporation Passively aligned bi-directional optoelectronic transceiver module assembly
WO1996000996A1 (en) * 1994-06-30 1996-01-11 The Whitaker Corporation Planar hybrid optical amplifier
FI945124A0 (fi) * 1994-10-31 1994-10-31 Valtion Teknillinen Spektrometer
DE4440935A1 (de) * 1994-11-17 1996-05-23 Ant Nachrichtentech Optische Sende- und Empfangseinrichtung
JPH08166523A (ja) * 1994-12-13 1996-06-25 Hitachi Ltd 光アセンブリ
DE4445835C2 (de) * 1994-12-22 2000-01-13 Bosch Gmbh Robert Thermooptischer Schalter, insbesondere Richtkoppler, sowie Verfahren zu seiner Herstellung
AUPN258095A0 (en) * 1995-04-21 1995-05-18 Unisearch Limited Low temperature fabrication of silica-based pecvd channel waveguides
JP3356581B2 (ja) * 1995-05-12 2002-12-16 松下電器産業株式会社 光回路部品及びその製造方法
DE69618035T2 (de) * 1995-06-30 2002-07-11 The Whitaker Corp., Wilmington Vorrichtung zur ausrichtung eines optoelektronischen bauteils
JP3147141B2 (ja) * 1995-08-30 2001-03-19 株式会社日立製作所 光アセンブリ
US5933551A (en) * 1995-09-29 1999-08-03 The Whitaker Corp. Bidirectional link submodule with holographic beamsplitter
US5611008A (en) * 1996-01-26 1997-03-11 Hughes Aircraft Company Substrate system for optoelectronic/microwave circuits
US5701372A (en) * 1996-10-22 1997-12-23 Texas Instruments Incorporated Hybrid architecture for integrated optic switchable time delay lines and method of fabricating same
IT1286385B1 (it) * 1996-11-19 1998-07-08 Italtel Spa Procedimento per realizzare l'accoppiamento in un dispositivo optoelettronico tra una fibra ottica ed una guida d'onda e dispositivo
SE508068C2 (sv) * 1996-12-19 1998-08-24 Ericsson Telefon Ab L M Mikroreplikering i metall
GB2315595B (en) * 1997-02-07 1998-06-10 Bookham Technology Ltd Device for re-directing light fromoptical waveguide
DE19748989A1 (de) * 1997-11-06 1999-07-15 Daimler Chrysler Ag Optisches Sende/Empfangsmodul
US6117794A (en) * 1998-01-16 2000-09-12 Lucent Technologies, Inc. Method for improved metal oxide bonding of optical elements
US6240113B1 (en) 1998-02-27 2001-05-29 Litton Systems, Inc. Microlaser-based electro-optic system and associated fabrication method
US6085007A (en) * 1998-02-27 2000-07-04 Jiang; Ching-Long Passive alignment member for vertical surface emitting/detecting device
US5981975A (en) * 1998-02-27 1999-11-09 The Whitaker Corporation On-chip alignment fiducials for surface emitting devices
US6072815A (en) * 1998-02-27 2000-06-06 Litton Systems, Inc. Microlaser submount assembly and associates packaging method
AU2984599A (en) * 1998-03-05 1999-09-20 Laser Power Corporation Coupled cavity laser source for telecommunications
US6275317B1 (en) 1998-03-10 2001-08-14 Agere Systems Optoelectronics Guardian Corp. Hybrid integration of a wavelength selectable laser source and optical amplifier/modulator
JP3211770B2 (ja) * 1998-05-11 2001-09-25 日本電気株式会社 固体レーザ装置及びそれを備えた固体レーザ増幅器
US6172997B1 (en) 1998-06-16 2001-01-09 Aculight Corporation Integrated semiconductor diode laser pumped solid state laser
JP2000028865A (ja) * 1998-07-09 2000-01-28 Mitsubishi Electric Corp 半導体レーザモジュール
US6393183B1 (en) * 1998-08-13 2002-05-21 Eugene Robert Worley Opto-coupler device for packaging optically coupled integrated circuits
SE514478C2 (sv) * 1998-12-15 2001-02-26 Ericsson Telefon Ab L M Optisk mottagar- och sändarmodul
JP2000208853A (ja) * 1999-01-12 2000-07-28 Oki Electric Ind Co Ltd 光ファイバ増幅装置用導波路装置及び光ファイバ増幅装置
JP3637228B2 (ja) * 1999-02-09 2005-04-13 住友電気工業株式会社 光送受信モジュール
JP2000241642A (ja) * 1999-02-17 2000-09-08 Sumitomo Electric Ind Ltd 光送受信モジュール
US6285043B1 (en) * 1999-11-01 2001-09-04 The Boeing Company Application-specific optoelectronic integrated circuit
JP4582489B2 (ja) * 2000-01-21 2010-11-17 住友電気工業株式会社 発光装置
JP3680738B2 (ja) * 2001-01-24 2005-08-10 日本電気株式会社 波長多重光通信モジュール
US6392257B1 (en) 2000-02-10 2002-05-21 Motorola Inc. Semiconductor structure, semiconductor device, communicating device, integrated circuit, and process for fabricating the same
JP2004503920A (ja) 2000-05-31 2004-02-05 モトローラ・インコーポレイテッド 半導体デバイスおよび該半導体デバイスを製造する方法
WO2002009187A2 (en) 2000-07-24 2002-01-31 Motorola, Inc. Heterojunction tunneling diodes and process for fabricating same
US7345316B2 (en) * 2000-10-25 2008-03-18 Shipley Company, L.L.C. Wafer level packaging for optoelectronic devices
US6932519B2 (en) 2000-11-16 2005-08-23 Shipley Company, L.L.C. Optical device package
US6827503B2 (en) * 2000-12-01 2004-12-07 Shipley Company, L.L.C. Optical device package having a configured frame
US6883977B2 (en) 2000-12-14 2005-04-26 Shipley Company, L.L.C. Optical device package for flip-chip mounting
US20020096683A1 (en) 2001-01-19 2002-07-25 Motorola, Inc. Structure and method for fabricating GaN devices utilizing the formation of a compliant substrate
US6547445B2 (en) 2001-02-06 2003-04-15 Teradyne, Inc. High-density fiber optic backplane
US6885786B2 (en) * 2001-02-07 2005-04-26 Shipley Company, L.L.C. Combined wet and dry etching process for micromachining of crystalline materials
US20030021572A1 (en) * 2001-02-07 2003-01-30 Steinberg Dan A. V-groove with tapered depth and method for making
US6907150B2 (en) * 2001-02-07 2005-06-14 Shipley Company, L.L.C. Etching process for micromachining crystalline materials and devices fabricated thereby
US6608950B2 (en) * 2001-02-14 2003-08-19 Northrop Grumman Corporation Integrated optoelectronic device and method for making same
US6964804B2 (en) * 2001-02-14 2005-11-15 Shipley Company, L.L.C. Micromachined structures made by combined wet and dry etching
WO2002082551A1 (en) 2001-04-02 2002-10-17 Motorola, Inc. A semiconductor structure exhibiting reduced leakage current
US20020195417A1 (en) * 2001-04-20 2002-12-26 Steinberg Dan A. Wet and dry etching process on <110> silicon and resulting structures
DE10144207B4 (de) * 2001-04-30 2008-05-15 Mergeoptics Gmbh Anordnung mit mindestens zwei unterschiedlichen elektronischen Halbleiterschaltungen und Verwendung der Anordnung zur schnellen Datenübertragung
US6709989B2 (en) 2001-06-21 2004-03-23 Motorola, Inc. Method for fabricating a semiconductor structure including a metal oxide interface with silicon
US6623177B1 (en) * 2001-07-09 2003-09-23 Emc Corporation Systems and methods for providing fiber optic communications between circuit boards
US6992321B2 (en) 2001-07-13 2006-01-31 Motorola, Inc. Structure and method for fabricating semiconductor structures and devices utilizing piezoelectric materials
EP1278086A1 (de) * 2001-07-18 2003-01-22 Alcatel Kugellinse und opto-elektronisches Modul mit derselben
US6693298B2 (en) 2001-07-20 2004-02-17 Motorola, Inc. Structure and method for fabricating epitaxial semiconductor on insulator (SOI) structures and devices utilizing the formation of a compliant substrate for materials used to form same
US7019332B2 (en) 2001-07-20 2006-03-28 Freescale Semiconductor, Inc. Fabrication of a wavelength locker within a semiconductor structure
US20030015770A1 (en) * 2001-07-20 2003-01-23 Motorola, Inc. Optical waveguide trenches in composite integrated circuits
US6855992B2 (en) 2001-07-24 2005-02-15 Motorola Inc. Structure and method for fabricating configurable transistor devices utilizing the formation of a compliant substrate for materials used to form the same
US20030034491A1 (en) 2001-08-14 2003-02-20 Motorola, Inc. Structure and method for fabricating semiconductor structures and devices for detecting an object
JP2003066290A (ja) * 2001-08-29 2003-03-05 Sumitomo Electric Ind Ltd 光通信モジュール
JP2003069054A (ja) * 2001-08-29 2003-03-07 Sumitomo Electric Ind Ltd 光通信モジュール
KR100439088B1 (ko) * 2001-09-14 2004-07-05 한국과학기술원 상호 자기 정렬된 다수의 식각 홈을 가지는 광결합 모듈및 그 제작방법
GB2379995B (en) * 2001-09-21 2005-02-02 Kamelian Ltd An optical coupling
US6818464B2 (en) * 2001-10-17 2004-11-16 Hymite A/S Double-sided etching technique for providing a semiconductor structure with through-holes, and a feed-through metalization process for sealing the through-holes
US20030071327A1 (en) 2001-10-17 2003-04-17 Motorola, Inc. Method and apparatus utilizing monocrystalline insulator
US6574399B2 (en) * 2001-11-02 2003-06-03 Corning Incorporated Ceramic waferboard for integration of optical/optoelectronic/electronic components
US6856735B2 (en) 2001-11-06 2005-02-15 Chromux Technologies, Inc. Tap couplers for fiber optic arrays
FR2836559B1 (fr) * 2002-02-28 2004-06-04 Schneider Electric Ind Sa Dispositif de couplage optique, sonde optique et dispositif de communication comportant un tel dispositif de couplage
JP2003303975A (ja) * 2002-04-08 2003-10-24 Opnext Japan Inc モニタ用フォトダイオード付光モジュール。
US6657272B2 (en) * 2002-04-19 2003-12-02 Triquint Technology Holding Co. Off-axis silicon substrate for optimized optical coupling
US6916717B2 (en) 2002-05-03 2005-07-12 Motorola, Inc. Method for growing a monocrystalline oxide layer and for fabricating a semiconductor device on a monocrystalline substrate
US6839935B2 (en) * 2002-05-29 2005-01-11 Teradyne, Inc. Methods and apparatus for cleaning optical connectors
US7440179B2 (en) * 2002-05-29 2008-10-21 Alphion Corporation SOA-MZI device fault isolation
US6762941B2 (en) 2002-07-15 2004-07-13 Teradyne, Inc. Techniques for connecting a set of connecting elements using an improved latching apparatus
EP1385277B1 (de) * 2002-07-22 2005-06-08 Agilent Technologies, Inc. - a Delaware corporation - Überwachungsdatenübertragung in einem optischen Kommunikationssystem
US6832858B2 (en) * 2002-09-13 2004-12-21 Teradyne, Inc. Techniques for forming fiber optic connections in a modularized manner
US7169619B2 (en) 2002-11-19 2007-01-30 Freescale Semiconductor, Inc. Method for fabricating semiconductor structures on vicinal substrates using a low temperature, low pressure, alkaline earth metal-rich process
US6885065B2 (en) 2002-11-20 2005-04-26 Freescale Semiconductor, Inc. Ferromagnetic semiconductor structure and method for forming the same
US6806202B2 (en) 2002-12-03 2004-10-19 Motorola, Inc. Method of removing silicon oxide from a surface of a substrate
US7042562B2 (en) * 2002-12-26 2006-05-09 Amphenol Corp. Systems and methods for inspecting an optical interface
US6965128B2 (en) 2003-02-03 2005-11-15 Freescale Semiconductor, Inc. Structure and method for fabricating semiconductor microresonator devices
TW595137B (en) * 2003-03-11 2004-06-21 Delta Electronics Inc Active assembly apparatus of planer lightguide circuit
JP2004336025A (ja) * 2003-04-14 2004-11-25 Fujikura Ltd 光モジュール、光モジュール実装基板、光伝送モジュール、双方向光伝送モジュール、光モジュールの製造方法
EP1479648A3 (de) 2003-05-23 2005-10-19 Rohm and Haas Electronic Materials, L.L.C. Ätzungsverfahren zum Mikrobearbeiten von kristallinen Stoffen und dadurch hergestellte Bauelemente.
US6985645B2 (en) * 2003-09-24 2006-01-10 International Business Machines Corporation Apparatus and methods for integrally packaging optoelectronic devices, IC chips and optical transmission lines
GB0327661D0 (en) * 2003-11-28 2003-12-31 Qinetiq Ltd Optical Amplifier
US7681306B2 (en) * 2004-04-28 2010-03-23 Hymite A/S Method of forming an assembly to house one or more micro components
US7246954B2 (en) * 2004-08-09 2007-07-24 Avago Technologies Fiber Ip (Singapore) Ltd. Pte. Opto-electronic housing and optical assembly
ATE426828T1 (de) 2005-03-31 2009-04-15 Pgt Photonics Spa Verfahren zur herstellung eines umlenkspiegels in optischen wellenleiterbauelementen
US7471855B2 (en) * 2005-07-13 2008-12-30 Alcatel-Lucent Usa Inc. Monlithically coupled waveguide and phototransistor
CN1878035B (zh) * 2006-06-05 2010-04-14 四川飞阳科技有限公司 混和集成硅基光电信号处理芯片
JP4882644B2 (ja) * 2006-08-10 2012-02-22 パナソニック電工株式会社 光電気変換装置
US8269344B2 (en) * 2008-03-28 2012-09-18 Broadcom Corporation Method and system for inter-chip communication via integrated circuit package waveguides
TWI398971B (zh) * 2009-05-27 2013-06-11 億光電子工業股份有限公司 發光二極體封裝結構
US8262297B2 (en) 2010-07-30 2012-09-11 Tyco Electronics Corporation Body having a dedicated lens for imaging an alignment feature
US8977088B2 (en) 2010-07-30 2015-03-10 Tyco-Electronics Corporation Interposer with alignment features
CN106842440A (zh) * 2012-03-05 2017-06-13 纳米精密产品股份有限公司 用于耦合光纤输入/输出的具有结构化反射表面的耦合装置
US20160274318A1 (en) 2012-03-05 2016-09-22 Nanoprecision Products, Inc. Optical bench subassembly having integrated photonic device
US8995805B2 (en) * 2012-04-20 2015-03-31 Micron Technology, Inc. Method and apparatus providing a coupled photonic structure
JP5727538B2 (ja) * 2013-03-25 2015-06-03 日本電信電話株式会社 光導波路素子およびその製造方法
US9647419B2 (en) * 2014-04-16 2017-05-09 Apple Inc. Active silicon optical bench
JP2023527861A (ja) * 2020-05-29 2023-06-30 エリコン メテコ(ユーエス)インコーポレイテッド ろう付け合金粉末の製造のためのhdh(水素化脱水素)プロセス
US12153269B2 (en) * 2020-12-23 2024-11-26 Intel Corporation Active optical coupler

Family Cites Families (24)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5041559A (de) * 1973-08-02 1975-04-16
US4114177A (en) * 1975-05-01 1978-09-12 Bell Telephone Laboratories, Incorporated Optically coupled device with diffusely reflecting enclosure
NL7505629A (nl) * 1975-05-14 1976-11-16 Philips Nv Inrichting voor het koppelen van een lichtbron met een optische vezel.
US4079404A (en) * 1976-12-30 1978-03-14 International Business Machines Corporation Self-aligning support structure for optical components
US4130343A (en) * 1977-02-22 1978-12-19 Bell Telephone Laboratories, Incorporated Coupling arrangements between a light-emitting diode and an optical fiber waveguide and between an optical fiber waveguide and a semiconductor optical detector
US4136928A (en) * 1977-05-06 1979-01-30 Bell Telephone Laboratories, Incorporated Optical integrated circuit including junction laser with oblique mirror
US4186994A (en) * 1978-04-21 1980-02-05 Bell Telephone Laboratories, Incorporated Arrangement for coupling between an electrooptic device and an optical fiber
FR2426347A1 (fr) * 1978-05-18 1979-12-14 Thomson Csf Source laser a semi-conducteur et son procede de fabrication
US4210923A (en) * 1979-01-02 1980-07-01 Bell Telephone Laboratories, Incorporated Edge illuminated photodetector with optical fiber alignment
US4425146A (en) * 1979-12-17 1984-01-10 Nippon Telegraph & Telephone Public Corporation Method of making glass waveguide for optical circuit
JPS5756807A (en) * 1980-09-24 1982-04-05 Canon Inc Thin film waveguide type head
DE3142918A1 (de) * 1981-10-29 1983-05-11 Licentia Patent-Verwaltungs-Gmbh, 6000 Frankfurt Opto-elektrische koppelanordnung
US4500165A (en) * 1982-04-02 1985-02-19 Codenoll Technology Corporation Method and apparatus for aligning optical fibers
US4695858A (en) * 1982-07-19 1987-09-22 Tokyo Shibaura Denki Kabushiki Kaisha Duplex optical communication module unit
FR2546311B1 (fr) * 1983-05-17 1986-03-28 France Etat Procede et dispositif de connexion entre une fibre optique et un composant d'optique integree comportant un guide d'onde
US4611886A (en) * 1983-12-29 1986-09-16 At&T Bell Laboratories Integrated optical circuit package
US5009476A (en) * 1984-01-16 1991-04-23 Texas Instruments Incorporated Semiconductor layer with optical communication between chips disposed therein
CA1255382A (en) * 1984-08-10 1989-06-06 Masao Kawachi Hybrid optical integrated circuit with alignment guides
JPS61242069A (ja) * 1985-04-19 1986-10-28 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> 混成光集積回路およびその製造方法
DE3531734A1 (de) * 1985-09-05 1987-03-12 Siemens Ag Einrichtung zur positionierung eines halbleiterlasers mit selbstjustierender wirkung fuer eine anzukoppelnde glasfaser
JPS6273437A (ja) * 1985-09-26 1987-04-04 Mitsubishi Electric Corp 光学式ヘツド装置
ATE82076T1 (de) * 1985-10-16 1992-11-15 British Telecomm Optische komponente mit wellenleiter.
EP0226868B1 (de) * 1985-12-10 1992-11-25 Siemens Aktiengesellschaft Integriert-optischer Multiplex-Demultiplex-Modul für die optische Nachrichtenübertragung
JP3171676B2 (ja) * 1992-06-30 2001-05-28 前田建設工業株式会社 場所打ちコンクリート水平部材の架設工法

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Publication number Publication date
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