DE505256C - Process for the production of screen negatives - Google Patents
Process for the production of screen negativesInfo
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 8
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 5
- 238000007639 printing Methods 0.000 claims description 4
- 230000001788 irregular Effects 0.000 claims description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000007645 offset printing Methods 0.000 description 1
- 239000004575 stone Substances 0.000 description 1
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- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
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Description
Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung von Rasternegativen, und zwar hauptsächlich für Stein- und Offsetdruck, unter Verwendung eines drehbaren Kreuzrasters oder eines sogenannten Kornrasters mit unregelmäßigen Elementen. Die Erfindung verfolgt den Zweck, Negative dieser Art zu schaffen, welche bei demselben Härtegrad einen wesentlich größeren Reichtum an Details als die bisher bekannten Rasternegative aufweisen. Das Verfahren besteht zu diesem Zwecke in der Hauptsache darin, daß die erforderliche Belichtungszeit in mindestens zwei Stufen geteilt wird, zwisehen welchen der Raster in seiner eigenen Ebene um einen Winkel gedreht wird, welcher bei Verwendung eines Kreuzrasters ein anderer ist als der, den die Linien des Rasters miteinander bilden, bzw. bei Verwendung einesThe present invention relates to a method for producing halftone negatives, mainly for stone and offset printing, using a rotatable one Cross grid or a so-called grain grid with irregular elements. the The purpose of the invention is to create negatives of this type, which are the same Degree of hardness a much greater wealth of details than the previously known Have raster negatives. The procedure for this purpose consists in the main in that the required exposure time is divided into at least two stages which the grid is rotated by an angle in its own plane, which when using a cross grid is different from the one the lines of the grid are used form with each other, or when using a
ao Kornrasters ein beliebiger anderer Winkel als 360° sein kann, so daß die bei der zweiten Belichtungsstufe in den helleren Teilen des Originals erhaltenen undurchsichtigen Elemente des Negativs einen Teil der nach der ersten Belichtungsstufe zurückgebliebenen durchsichtigen Elemente decken und man dadurch ein Negativ erhält, bei dem die durchsichtigen Elemente, welche später im Positiv die Druckelemente bilden solllen, in den helleren Teilen in geringerer Anzahl vorhanden sind als in den dunkleren Teilen. Durch die viel kräftigere Einwirkung des Lichtes auf diejenigen Stellen, die'den helleren Teilen des Originals entsprechen, werden nämlich die undurchsichtigen Elemente des Negativs an den betreffenden Stellen schon bei einer Belichtung so groß, daß nebeneinanderliegende Elemente sich berühren oder sogar teilweise überdecken, und die Folge ist daher, daß die durchsichtigen Elemente an solchen Stellen, welche helleren Teilen des Originals entsprechen, bei jeder weiteren Belichtung unter einer anderen Winkelstellung des Rasters an der Zahl rasch abnehmen.ao Kornrasters can be any other angle than 360 °, so that the second Exposure level opaque elements obtained in the lighter parts of the original of the negative cover part of the transparent elements left behind after the first exposure stage, and one thereby a negative is given, in which the transparent elements, which later in the positive which are intended to form printing elements are present in fewer numbers in the lighter parts than in the darker parts. By the much more powerful effect of light on those places which are the brighter parts the opaque elements of the negative will correspond to the original at the points in question already so large in one exposure that adjacent ones Elements touch or even partially overlap, and the result is therefore that the transparent elements in such places, which lighter parts of the original correspond, with each subsequent exposure at a different angular position of the grid rapidly decrease in number.
Bei der praktischen Ausführung des Verfahrens gemäß der Erfindung unter Verwendung eines gewöhnlichen Kreuzrasters mit einem Winkel von 90 ° zwischen den Linien des Rasters und unter Teilung der Belichtung in zwei Stufen erhält man das beste Ergebnis, wenn man den Raster zwischen den beiden Belichtungsstufen um einen Winkel von etwa 45° dreht.When practicing the method according to the invention using an ordinary cross grid with an angle of 90 ° between the lines of the grid and dividing the exposure in two stages you get the best result if you put the grid between the two Exposure levels rotates through an angle of about 45 °.
Die Drehung des Rasters zwischen den Belichtungsstufen kann auf verschiedene Weise erfolgen. So kann man nach der ersten Belichtung beispielsweise die Kassette schließen und herausnehmen, hier den Raster drehen und nach Wiedereinsetzen der Kassette die Platte unter dem neuen Rasterwinkel belichten. Hierbei kann aber leicht eine Verschiebung der Platte stattfinden, so daß eineThe rotation of the grid between the exposure levels can be different Way. For example, you can close the cassette after the first exposure and take it out, turn the grid here and after reinserting the cassette the plate at the new grid angle expose. Here, however, a shift of the plate can easily take place, so that a
Unscharfe bzw. eine Verdoppelung der Konturen des Bildes herbeigeführt wird. Es ist daher zweckmäßiger, irgendeine geeignete mechanische Vorrichtung zu verwenden, welche eine Drehung des Rasters ohne Änderung der «genauen Stellung der Platte und ohne Änderung der Entfernung des Rasters von der Platte während der Drehung gestattet. Solche Vorrichtungen sind an sich ίο bekannt und brauchen daher hier nicht näher beschrieben zu werden.Blurred or a doubling of the contours of the image is brought about. It is therefore, it is more convenient to use any suitable mechanical device which allows rotation of the raster without change the exact position of the plate and without changing the distance of the grid from the plate during rotation. Such devices are known per se and therefore do not need any further details here to be described.
Das Verfahren kann ferner auch so ausgeführt werden, daß man für jede Stufe der Belichtung eine besondere Platte, Film o. dgl. verwendet und dann nach der Fertigstellung die Schichten dieser Platte o. dgl. zum Zwecke des Kopierens zusammenlegt.The method can also be carried out so that for each stage of the Exposure a special plate, film or the like. Used and then after completion the layers of this plate o. The like. Collapses for the purpose of copying.
In der beiliegenden Zeichnung ist beispielsweise eine Ausführungsweise des Verfahrens gemäß der Erfindung veranschaulicht. Bei dieser Ausführungsweise handelt es sich um die Herstellung eines Rasternegativs unter Verwendung eines gewöhnlichen Kreuzrasters und unter Teilung der Belichtung in zwei Stufen.In the accompanying drawing, for example, is an embodiment of the method illustrated according to the invention. This embodiment is the production of a screen negative using an ordinary cross screen and dividing the exposure into two stages.
Die Abb. la und ib zeigen in stark vergrößertem Maßstabe den verwendeten Kreuzraster, dessen Linien in der üblichen Weise einen Winkel von 90 ° miteinander bilden. Abb. ι a zeigt die Stellung des Rasters während der ersten Belichtungsstufe und Abb. ib die Stellung desselben während der zweiten Belichtungsstufe, wobei der Raster um einen Winkel von 45 ° gegenüber der Stellung gemäß Abb. ia gedreht ist.Figs. La and ib show in a greatly enlarged Scale the used cross grid, whose lines in the usual way form an angle of 90 ° with each other. Fig. Ι a shows the position of the grid during the first exposure stage and Fig. ib the position of the same during the second Exposure level, with the grid at an angle of 45 ° with respect to the position is rotated according to Fig. ia.
Bei der ersten Belichtung der Platte mit dem in der Stellung gemäß Abb. ia befindlichen Raster erhält man an einer Stelle der Platte, die einem dunkleren Teile des Originals entspricht, das in Abb. 2a in stark vergrößertem Maßstabe dargestellte Punktfeld. Da die Einwirkung des Lichtes hier recht schwach ist, so werden die erhaltenen undurchsichtigen Elemente i, deren Form durch die verwendete Blende bestimmt wird, klein im Verhältnis zu ihrem gegenseitigen Abstande. Hierauf dreht man den Raster um 450 in die Stellung gemäß Abb. ib und nimmt die zweite Belichtung vor. Bei dieser Belichtung erhält man an derselben Stelle der Platte das in Abb. 2b dargestellte Punktfeld. Die erhaltenen undurchsichtigen Elemente 2 haben hier dieselbe geringe Größe wie in Abb. 2a, aber eine andere, der geänderten Stellung des Rasters entsprechende Stellung. Nach Fertigstellung der Platte wird daher die betreffende Stelle derselben das in Abb. 2c dargestellte kombinierte Punktfeld aufweisen, in welchem die undurchsichtigen Elemente 1 und 2 infolge ihrer geringen Größe nebeneinanderliegen. During the first exposure of the plate with the grid in the position shown in Fig. Since the action of light is very weak here, the opaque elements i obtained, the shape of which is determined by the diaphragm used, are small in relation to their mutual distance. The grid is then rotated by 45 ° into the position shown in Fig. Ib and the second exposure is carried out. With this exposure, the point field shown in Fig. 2b is obtained at the same point on the plate. The opaque elements 2 obtained here have the same small size as in Fig. 2a, but a different position corresponding to the changed position of the grid. After completion of the plate, the relevant point of the same will therefore have the combined point field shown in Fig. 2c, in which the opaque elements 1 and 2 lie next to one another due to their small size.
An einer anderen Stelle der Platte dagegen, die einem helleren Teile des Originals entspricht, erhält man bei der ersten Belichtung mit dem Raster in der Stellung gemäß Abb. ia das in Abb. 3a dargestellte Punktfeld. Da die Einwirkung des Lichtes hier viel kräftiger ist, so werden die erhaltenen undurchsichtigen Elemente 3 so groß, daß sie sich gerade berühren. Bei der zweiten Belichtung, nach erfolgter Drehung des Rasters in die Stellung gemäß Abb. ib, erhält man an derselben Stelle der Platte das in Abb. 3b dargestellte Punktfeld, dessen undurchsichtige Elemente 4 dieselbe Größe wie in Abb. 3a haben, aber eine andere Lage einnehmen. Nach Fertigstellung der Platte wird daher diese Stelle das in Abb. 3c dargestellte kombinierte Punktfeld aufweisen. Infolge der Größe der undurchsichtigen Elemente 3 und 4 überdecken diese teilweise einander, und ferner überdecken die bei der zweiten Belichtungsstufe erhaltenen undurchsichtigen Elemente 4 auch einen Teil der nach der ersten Belichtung zurückgebliebenen durchsichtigen Elemente 5 (Abb. 3a), so daß die im fertigen Negativ noch zurückbleibenden durchsichtigen Elemente 6 (Abb. 3c), die im Positiv die Druckelemente bilden sollen, viel weniger an der Zahl werden als die durchsichtigen Elemente 5 in Abb. 3a.At another point on the plate, on the other hand, which corresponds to a lighter part of the original, obtained with the first exposure with the grid in the position shown in Fig. ia the point field shown in Fig. 3a. Since the effect of light is much stronger here is, the obtained opaque elements 3 become so large that they just touch. In the second exposure, after the grid has been rotated into the position shown in Fig. Ib, one obtains the same Place on the plate the point field shown in Fig. 3b, its opaque elements 4 the same size as in Fig. 3a, but take a different position. After completion Therefore, on the plate, this point becomes the combined point field shown in Fig. 3c exhibit. As a result of the size of the opaque elements 3 and 4, these partially overlap one another, and also overlap so do the opaque elements 4 obtained in the second exposure stage some of the transparent elements left after the first exposure 5 (Fig. 3a), so that the transparent elements still remaining in the finished negative 6 (Fig. 3c), which are supposed to form the printing elements in the positive, much less on the Numbers are called the transparent elements 5 in Fig. 3a.
Die Abb. 4a bis 4c zeigen schließlich das Ergebnis des neuen Verfahrens bei der Herstellung eines Rasternegativs aus einem Original mit helleren und dunkleren Teilen, die allmählich ineinander übergehen (Graukeil). Bei der ersten Belichtung der Platte mit dem Raster in der Stellung gemäß Abb. ia erhält man das in Abb. 4a dargestellte Punktfeld, und bei der zweiten Belichtung, nach Drehung des Rasters in die Stellung gemäß Abb. ib, erhält man das in Abb. 4b dargestellte Punktfeld. Nach Fertigstellung der Platte wird diese daher das in Abb. 4c dargestellte kombinierte Punktfeld aufweisen. Wie aus der letztgenannten Abbildung ersichtlich ist, sind die durchsichtigen Elemente 7, die später im Positiv die Druckelemente bilden sollen, an den oberen Stellen der Platte, die den helleren Teilen des Originals entsprechen, beträchtlich geringer an der Zahl als an den unteren Stellen, die den dunkleren Teilen des Originals entsprechen. Man erhält daher mit diesem Negativ einen wesentlich größeren Reichtum an Einzelheiten des Bildes, als es mit den bisher bekannten Verfahren möglich gewesen ist.Finally, FIGS. 4a to 4c show the result of the new manufacturing process of a raster negative from an original with lighter and darker parts that gradually merge into one another (gray wedge). With the first exposure of the plate with the grid in the position shown in Fig. Ia received the point field shown in Fig. 4a, and for the second exposure, after rotation of the grid in the position according to Fig. ib, you get the point field shown in Fig. 4b. After the plate has been completed, it is combined with the one shown in Fig. 4c Have point field. As can be seen from the last-mentioned figure, the transparent elements 7, which are later in the The printing elements should form positive, at the upper parts of the plate, which are the lighter ones Parts of the original correspond, considerably fewer in number than the lower ones Places that correspond to the darker parts of the original. One therefore obtains with this On the negative side, there is a much greater wealth of details in the picture than there has been previously known method has been possible.
Claims (3)
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| SE505256X | 1928-03-13 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DE505256C true DE505256C (en) | 1930-08-16 |
Family
ID=20310823
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DEW82082D Expired DE505256C (en) | 1928-03-13 | 1929-03-13 | Process for the production of screen negatives |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| DE (1) | DE505256C (en) |
-
1929
- 1929-03-13 DE DEW82082D patent/DE505256C/en not_active Expired
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