DE4341041A1 - Nickelfreies Phosphatierverfahren mit m-Nitrobenzolsulfonat - Google Patents
Nickelfreies Phosphatierverfahren mit m-NitrobenzolsulfonatInfo
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- AVXURJPOCDRRFD-UHFFFAOYSA-N Hydroxylamine Chemical compound ON AVXURJPOCDRRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 title abstract 2
- HWTDMFJYBAURQR-UHFFFAOYSA-N 80-82-0 Chemical compound OS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1[N+]([O-])=O HWTDMFJYBAURQR-UHFFFAOYSA-N 0.000 title 1
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 42
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims abstract description 16
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 13
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 13
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 claims abstract description 10
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims abstract description 6
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 6
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 claims abstract description 6
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 claims abstract description 3
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 31
- 239000011701 zinc Substances 0.000 claims description 24
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 claims description 22
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 19
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 18
- 229910002651 NO3 Inorganic materials 0.000 claims description 17
- 239000011572 manganese Substances 0.000 claims description 16
- NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N Nitrate Chemical compound [O-][N+]([O-])=O NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 13
- ONMOULMPIIOVTQ-UHFFFAOYSA-M 3-Nitrobenzene sulphonate Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=CC(S([O-])(=O)=O)=C1 ONMOULMPIIOVTQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 11
- PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N Manganese Chemical compound [Mn] PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 claims description 11
- -1 oxo anions Chemical class 0.000 claims description 11
- 239000010959 steel Substances 0.000 claims description 11
- IOVCWXUNBOPUCH-UHFFFAOYSA-M Nitrite anion Chemical compound [O-]N=O IOVCWXUNBOPUCH-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 10
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M Fluoride anion Chemical compound [F-] KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 8
- PTFCDOFLOPIGGS-UHFFFAOYSA-N Zinc dication Chemical compound [Zn+2] PTFCDOFLOPIGGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 238000010422 painting Methods 0.000 claims description 8
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims description 7
- 239000003973 paint Substances 0.000 claims description 6
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims description 5
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 claims description 4
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 claims description 3
- 239000007921 spray Substances 0.000 claims description 3
- 229910000851 Alloy steel Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910000680 Aluminized steel Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 230000009189 diving Effects 0.000 claims description 2
- 108090000623 proteins and genes Proteins 0.000 claims description 2
- 159000000000 sodium salts Chemical class 0.000 claims description 2
- 238000005507 spraying Methods 0.000 claims description 2
- ONMOULMPIIOVTQ-UHFFFAOYSA-N 98-47-5 Chemical compound OS(=O)(=O)C1=CC=CC([N+]([O-])=O)=C1 ONMOULMPIIOVTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 13
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 8
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 8
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 8
- XTEGARKTQYYJKE-UHFFFAOYSA-M Chlorate Chemical compound [O-]Cl(=O)=O XTEGARKTQYYJKE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- CWYNVVGOOAEACU-UHFFFAOYSA-N Fe2+ Chemical compound [Fe+2] CWYNVVGOOAEACU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 description 5
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VEQPNABPJHWNSG-UHFFFAOYSA-N Nickel(2+) Chemical compound [Ni+2] VEQPNABPJHWNSG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910001437 manganese ion Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910001335 Galvanized steel Inorganic materials 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 230000003213 activating effect Effects 0.000 description 3
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 3
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 3
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 description 3
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 3
- 239000008397 galvanized steel Substances 0.000 description 3
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 3
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 229910001453 nickel ion Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000002823 nitrates Chemical class 0.000 description 3
- 238000002161 passivation Methods 0.000 description 3
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 2
- 239000003570 air Substances 0.000 description 2
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 2
- SXDBWCPKPHAZSM-UHFFFAOYSA-M bromate Inorganic materials [O-]Br(=O)=O SXDBWCPKPHAZSM-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- SXDBWCPKPHAZSM-UHFFFAOYSA-N bromic acid Chemical compound OBr(=O)=O SXDBWCPKPHAZSM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 2
- 239000003651 drinking water Substances 0.000 description 2
- 235000020188 drinking water Nutrition 0.000 description 2
- 230000008595 infiltration Effects 0.000 description 2
- 238000001764 infiltration Methods 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 2
- UJJUJHTVDYXQON-UHFFFAOYSA-N nitro benzenesulfonate Chemical compound [O-][N+](=O)OS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 UJJUJHTVDYXQON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 2
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 2
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 2
- 238000005554 pickling Methods 0.000 description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 2
- 229910001415 sodium ion Inorganic materials 0.000 description 2
- JUWGUJSXVOBPHP-UHFFFAOYSA-B titanium(4+);tetraphosphate Chemical compound [Ti+4].[Ti+4].[Ti+4].[O-]P([O-])([O-])=O.[O-]P([O-])([O-])=O.[O-]P([O-])([O-])=O.[O-]P([O-])([O-])=O JUWGUJSXVOBPHP-UHFFFAOYSA-B 0.000 description 2
- AFPHTEQTJZKQAQ-UHFFFAOYSA-N 3-nitrobenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC([N+]([O-])=O)=C1 AFPHTEQTJZKQAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BTJIUGUIPKRLHP-UHFFFAOYSA-N 4-nitrophenol Chemical compound OC1=CC=C([N+]([O-])=O)C=C1 BTJIUGUIPKRLHP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- WAEMQWOKJMHJLA-UHFFFAOYSA-N Manganese(2+) Chemical compound [Mn+2] WAEMQWOKJMHJLA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000990 Ni alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920001665 Poly-4-vinylphenol Polymers 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012080 ambient air Substances 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000027455 binding Effects 0.000 description 1
- 238000009739 binding Methods 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 150000004649 carbonic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- ZCDOYSPFYFSLEW-UHFFFAOYSA-N chromate(2-) Chemical compound [O-][Cr]([O-])(=O)=O ZCDOYSPFYFSLEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L chromic acid Substances O[Cr](O)(=O)=O KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 230000009918 complex formation Effects 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 238000005238 degreasing Methods 0.000 description 1
- 238000004070 electrodeposition Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N furo[3,4-b]pyrazine-5,7-dione Chemical compound C1=CN=C2C(=O)OC(=O)C2=N1 AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 239000008233 hard water Substances 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- WBJZTOZJJYAKHQ-UHFFFAOYSA-K iron(3+) phosphate Chemical compound [Fe+3].[O-]P([O-])([O-])=O WBJZTOZJJYAKHQ-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 229910000399 iron(III) phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- HEPLMSKRHVKCAQ-UHFFFAOYSA-N lead nickel Chemical compound [Ni].[Pb] HEPLMSKRHVKCAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- ZAUUZASCMSWKGX-UHFFFAOYSA-N manganese nickel Chemical compound [Mn].[Ni] ZAUUZASCMSWKGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001463 metal phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002816 nickel compounds Chemical class 0.000 description 1
- QELJHCBNGDEXLD-UHFFFAOYSA-N nickel zinc Chemical compound [Ni].[Zn] QELJHCBNGDEXLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002826 nitrites Chemical class 0.000 description 1
- 150000002828 nitro derivatives Chemical class 0.000 description 1
- GQPLMRYTRLFLPF-UHFFFAOYSA-N nitrous oxide Inorganic materials [O-][N+]#N GQPLMRYTRLFLPF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000000864 peroxy group Chemical group O(O*)* 0.000 description 1
- 230000008092 positive effect Effects 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 239000004575 stone Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 description 1
- LRXTYHSAJDENHV-UHFFFAOYSA-H zinc phosphate Chemical compound [Zn+2].[Zn+2].[Zn+2].[O-]P([O-])([O-])=O.[O-]P([O-])([O-])=O LRXTYHSAJDENHV-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- 229910000165 zinc phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003755 zirconium compounds Chemical class 0.000 description 1
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C22/00—Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive liquid, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals
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- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
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- C23C22/06—Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive liquid, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals using aqueous solutions using aqueous acidic solutions with pH less than 6
- C23C22/07—Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive liquid, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals using aqueous solutions using aqueous acidic solutions with pH less than 6 containing phosphates
- C23C22/08—Orthophosphates
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- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
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- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
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- C23C22/05—Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive liquid, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals using aqueous solutions
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- C23C22/40—Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive liquid, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals using aqueous solutions using aqueous acidic solutions with pH less than 6 containing molybdates, tungstates or vanadates
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Description
Die Erfindung betrifft Verfahren zur Phosphatierung von Metalloberflächen
mit wäßrigen, sauren Phosphatierlösungen, die Zink-, Mangan- und Phospha
tionen sowie m-Nitrobenzolsulfonsäure oder deren wasserlösliche Salze ent
halten, sowie deren Anwendung als Vorbehandlung der Metalloberflächen für
eine anschließende Lackierung, insbesondere eine Elektrotauchlackierung.
Das Verfahren ist anwendbar zur Behandlung von Oberflächen aus Stahl, ver
zinktem oder legierungsverzinktem Stahl, Aluminium, aluminiertem oder le
gierungsaluminiertem Stahl, insbesondere zur Behandlung von ein- oder
beidseitig verzinktem, vorzugsweise elektrolytisch verzinktem Stahl.
Die Phosphatierung von Metallen verfolgt das Ziel, auf der Metalloberflä
che festverwachsene Metallphosphatschichten zu erzeugen, die für sich be
reits die Korrosionsbeständigkeit verbessern und in Verbindung mit Lacken
und anderen organischen Beschichtungen zu einer wesentlichen Erhöhung der
Lackhaftung und der Resistenz gegen Unterwanderung bei Korrosionsbeanspru
chung beitragen. Solche Phosphatierverfahren sind seit langem bekannt. Für
die Vorbehandlung vor der Lackierung eignen sich insbesondere die Nie
drig-Zink-Phosphatierverfahren, bei denen die Phosphatierlösungen ver
gleichsweise geringe Gehalte an Zinkionen von z. B. 0,5 bis 2 g/l aufwei
sen. Ein wesentlicher Parameter in diesen Niedrig-Zink-Phosphatierbädern
ist das Gewichtsverhältnis Phosphationen zu Zinkionen, das üblicherweise
im Bereich < 8 liegt und Werte bis zu 30 annehmen kann.
Es hat sich gezeigt, daß durch die Mitverwendung anderer mehrwertiger Ka
tionen in den Zink-Phosphatierbädern Phosphatschichten mit deutlich ver
besserten Korrosionsschutz- und Lackhaftungseigenschaften ausgebildet wer
den können. Beispielsweise finden Niedrig-Zink-Verfahren mit Zusatz von z. B.
0,5 bis 1,5 g/l Manganionen und z. B. 0,3 bis 2,0 g/l Nickelionen als
sogenannte Trikation-Verfahren zur Vorbereitung von Metalloberflächen für
die Lackierung, beispielsweise für die kathodische Elektrotauchlackierung
von Autokarosserien, weite Anwendung.
Der hohe Gehalt an Nickelionen in den Phosphatierlösungen der Trikation-
Verfahren und von Nickel und Nickelverbindungen in den gebildeten Phos
phatschichten bringt jedoch insofern Nachteile, als Nickel und Nickelver
bindungen aus der Sicht des Umweltschutzes und der Arbeitsplatzhygiene als
kritisch eingestuft werden. In letzter Zeit werden daher zunehmend Nie
drig-Zink-Phosphatierverfahren beschrieben, die ohne eine Mitverwendung
von Nickel zu qualitativ ähnlich hochwertigen Phosphatschichten wie die
nickelhaltigen Verfahren führen. Auch gegen die Beschleuniger Nitrit und
Nitrat werden wegen möglicher Bildung Nitroser Gase zunehmend Bedenken ge
äußert. Darüber hinaus hat sich gezeigt, daß die Phosphatierung von ver
zinktem Stahl mit nickelfreien Phosphatierbädern zu unzureichendem Korro
sionsschutz und unzureichender Lackhaftung führt, wenn die Phosphatierbä
der größere Mengen (< 0,5 g/l) Nitrat enthalten.
Beispielsweise beschreibt die DE-A-39 20 296 ein Phosphatierverfahren, das
auf Nickel verzichtet und neben Zink und Manganionen Magnesiumionen ver
wendet. Die hier beschriebenen Phosphatierbäder enthalten außer 0,2 bis 10
g/l Nitrationen weitere als Beschleuniger wirkende Oxidationsmittel, aus
gewählt aus Nitrit, Chlorat oder einem organischen Oxidationsmittel.
EP-A-60 716 offenbart Niedrig-Zink-Phosphatierbäder, die als essentielle
Kationen Zink und Mangan enthalten und die als fakultativen Bestandteil
Nickel beinhalten können. Der notwendige Beschleuniger wird vorzugsweise
ausgewählt aus Nitrit, m-Nitrobenzolsulfonat oder Wasserstoffperoxid. In
einem abhängigen Patentanspruch wird die Verwendung von 1 bis 10 g/l Ni
trat angegeben; alle Erfindungsbeispiele enthalten 4 g/l Nitrat.
Auch in der EP-A-228 151 werden Phosphatierbäder beschrieben, die als es
sentielle Kationen Zink und Mangan enthalten. Der Phosphatierbeschleuniger
wird ausgewählt aus Nitrit, Nitrat, Wasserstoffperoxid, m-Nitrobenzolsul
fonat, m-Nitrobenzoat oder p-Nitrophenol. In abhängigen Ansprüchen wird
der Nitratgehalt auf 5 bis etwa 15 g/l sowie ein fakultativer Nickelgehalt
zwischen 0,4 und 4 g/l spezifiziert. Die Ausführungsbeispiele hierzu ent
halten alle sowohl Nickel als auch Nitrat. Das Schwergewicht dieser Anmel
dung liegt darauf, daß chloratfreie Phosphatierverfahren zur Verfügung ge
stellt werden. Ähnliches lehrt die EP-A-544 650.
Nitratfrei arbeitet das in WO 86/04931 offengelegte Phosphatierverfahren.
Hier beruht das Beschleunigersystem auf einer Kombination von 0,5-1 g/l
Bromat und 0,2-0,5 g/l m-Nitrobenzolsulfonat. Als essentielles mehrwer
tiges Kation wird lediglich Zink, als weitere fakultative Kationen Nickel,
Mangan oder Kobalt angegeben. Vorzugsweise enthalten die Phosphatierlösun
gen neben Zink mindestens 2 dieser fakultativen Metalle. EP-A-36 689 lehrt
die Verwendung von vorzugsweise 0,03 - 0,2 Gew.-% Nitrobenzolsulfonat in
Kombination mit vorzugsweise 0,1-0,5 Gew.-% Chlorat in Phosphatierbä
dern, deren Mangangehalt 5-33 Gew.-% des Zinkgehalts beträgt.
WO 90/12901 offenbart ein chlorat- und nitritfreies Verfahren zur Herstel
lung von nickel- und manganhaltigen Zinkphosphatschichten auf Stahl, Zink
und/oder deren Legierungen durch Spritzen, Spritztauchen und/oder Tauchen
mit einer wäßrigen Lösung enthaltend
0,3 bis 1,5 g/l Zink(II),
0,01 bis 2,0 g/l Mangan(II),
0,01 bis 0,8 g/l Eisen (II),
0,3 bis 2,0 g/l Nickel(II),
10,0 bis 20,0 g/l Phosphat-Ionen,
2,0 bis 10,0 g/l Nitrat-Ionen und
0,1 bis 2,0 g/l eines organischen Oxidationsmittels (beispielsweise m-Nitrobenzolsulfonat),
wobei die waßrige Lösung einen Gehalt an freier Säure von 0,5 bis 1,8 Punkten und einen Gesamtsäuregehalt von 15 bis 35 Punkten aufweist und Na⁺ in der zur Einstellung der freien Säure notwendigen Menge vorhan den ist.
0,3 bis 1,5 g/l Zink(II),
0,01 bis 2,0 g/l Mangan(II),
0,01 bis 0,8 g/l Eisen (II),
0,3 bis 2,0 g/l Nickel(II),
10,0 bis 20,0 g/l Phosphat-Ionen,
2,0 bis 10,0 g/l Nitrat-Ionen und
0,1 bis 2,0 g/l eines organischen Oxidationsmittels (beispielsweise m-Nitrobenzolsulfonat),
wobei die waßrige Lösung einen Gehalt an freier Säure von 0,5 bis 1,8 Punkten und einen Gesamtsäuregehalt von 15 bis 35 Punkten aufweist und Na⁺ in der zur Einstellung der freien Säure notwendigen Menge vorhan den ist.
DE-A-40 13 483 macht Phosphatierverfahren bekannt, mit denen ähnlich gute
Korrosionsschutzeigenschaften wie mit den Trikation-Verfahren erzielt wer
den können. Diese Verfahren verzichten auf Nickel und verwenden statt des
sen Kupfer in niedrigen Konzentrationen, 0,001 bis 0,03 g/l. Zur Oxidation
des bei der Beizreaktion von Stahloberflächen gebildeten zweiwertigen Ei
sens in die dreiwertige Stufe dienen Sauerstoff und/oder andere gleichwir
kende Oxidationsmittel. Als solche werden Nitrit, Chlorat, Bromat, Peroxi-
Verbindungen sowie organische Nitroverbindungen, wie Nitrobenzolsulfonat
angegeben.
Die Erfindung stellt sich die Aufgabe, Phosphatierbäder zur Verfügung zu
stellen, die frei sind von dem aus Umwelt- und arbeitsplatzhygienischen
Gründen bedenklichen Nickel oder dem ähnlich bedenklichen Kobalt, kein
Nitrit enthalten und gleichzeitig einen stark verminderten Nitratgehalt
aufweisen und vorzugsweise frei sind von Nitrat. Desweiteren sollen die
Phosphatierbäder frei von Kupfer sein, dessen Dosierung im laut DE-A-40 13 483
wirksamen Konzentrationsbereich von 1-30 ppm problematisch ist.
Diese Aufgabe wird gelöst durch ein Verfahren zur Phosphatierung von Me
talloberflächen mit wäßrigen, sauren Phosphatierlösungen, die Zink-, Man
gan- und Phosphationen und als Beschleuniger m-Nitrobenzosulfonsäure oder
deren wasserlösliche Salze enthalten, dadurch gekennzeichnet, daß man die
Metalloberflächen mit einer Phosphatierlösung in Berührung bringt, die
frei von Nickel, Kobalt, Kupfer, Nitrit und Oxo-Anionen von Halogenen ist
und die
0,3 bis 2 g/l Zn(II)
0,3 bis 4 g/l Mn(II)
5 bis 40 g/l Phosphationen
0,2 bis 2 g/l m-Nitrobenzolsulfonat
und höchstens 0,5 g/l Nitrationen
enthält, wobei der Mn-Gehalt mindestens 50% des Zn-Gehalts beträgt.
0,3 bis 2 g/l Zn(II)
0,3 bis 4 g/l Mn(II)
5 bis 40 g/l Phosphationen
0,2 bis 2 g/l m-Nitrobenzolsulfonat
und höchstens 0,5 g/l Nitrationen
enthält, wobei der Mn-Gehalt mindestens 50% des Zn-Gehalts beträgt.
Daß die Phosphatierbäder frei von Nickel, Kupfer, Nitrit und Oxo-Anionen
von Halogenen sein sollen, bedeutet dabei, daß diese Elemente bzw. Ionen
den Phosphatierbädern nicht bewußt zugesetzt werden. Es ist jedoch in der
Praxis nicht auszuschließen, daß solche Bestandteile über das zu behan
delnde Material, das Ansatzwasser oder die Umgebungsluft in Spuren in die
Phosphatierbäder eingetragen werden. Insbesondere ist es nicht auszu
schließen, daß bei der Phosphatierung von mit Zink-Nickel-Legierungen be
schichtetem Stahl Nickelionen in die Phosphatierlösung eingetragen werden.
Jedoch wird an die erfindungsgemäßen Phosphatierbäder die Erwartung ge
stellt, daß unter technischen Bedingungen die Nickelkonzentration in den
Bädern unter 0,01 g/l, insbesondere unter 0,0001 g/l liegt. Vorzugsweise
wird den Bädern kein Nitrat zugesetzt. Es ist jedoch nicht auszuschließen,
daß die Bäder den Nitratgehalt des lokal verfügbaren Trinkwassers (gemäß
Trinkwasserverordnung in Deutschland maximal 50 mg/l) oder durch Ver
dunstung bedingte höhere Nitratgehalte aufweisen. Die erfindungsgemäßen
Bäder sollen jedoch einen maximalen Nitratgehalt von 0,5 g/l aufweisen und
enthalten vorzugsweise weniger als 0,1 g/l Nitrat.
m-Nitrobenzolsulfonat kann als freie Säure oder in Form wasserlöslicher
Salze eingesetzt werden. Als "wasserlöslich" werden hierbei solche Salze
bezeichnet, die sich in den Phosphatierbädern soweit auflösen, daß die
erforderlichen Konzentrationen von 0,2 bis 2 g/l m-Nitrobenzolsulfonat
erreicht werden. Hierfür können besonders die Alkalimetallsalze, vorzugs
weise die Natriumsalze, in Betracht. Bevorzugterweise enthalten die Phos
phatierbäder 0,4 bis 1 g/l m-Nitrobenzolsulfonat.
Bei Phosphatierbädern, die für unterschiedliche Substrate geeignet sein
sollen, ist es üblich, freies und/oder komplexgebundenes Fluorid in Mengen
bis zu 2,5 g/l Gesamtfluorid, davon bis zu 800 mg/l freies Fluorid zuzu
setzen. Die Anwesenheit solcher Fluoridmengen ist auch für die erfindungs
gemäßen Phosphatierbäder von Vorteil. Bei Abwesenheit von Fluorid soll der
Aluminiumgehalt des Bades 3 mg/l nicht überschreiten. Bei Gegenwart von
Fluorid werden infolge der Komplexbildung höhere Al-Gehalte toleriert,
sofern die Konzentration des nicht komplexierten Al 3 mg/l nicht über
steigt.
Das Gewichtsverhältnis Phosphationen zu Zinkionen in den Phosphatierbädern
kann in weiten Grenzen schwanken, sofern es im Bereich zwischen 3,7 und 30
liegt. Ein Gewichtsverhältnis zwischen 10 und 20 ist besonders bevorzugt.
Als weitere Parameter zur Steuerung von Phosphatierbädern sind dem Fach
mann die Gehalte an freier Säure und an Gesamtsäure bekannt. Die in dieser
Schrift verwendete Bestimmungsmethode dieser Parameter ist im Beispielteil
angegeben. Werte der freien Säure zwischen 0,3 und 1,5 Punkten bei Teile
phosphatierung, bei Bandphosphatierung bis zu 2,5 Punkten und der Gesamt
säure zwischen etwa 15 und etwa 25 Punkten liegen im technisch üblichen
Bereich und sind im Rahmen dieser Erfindung geeignet.
Der Mangangehalt des Phosphatierbades soll zwischen 0,3 und 4 g/l liegen,
da bei geringeren Mangangehalten der positive Einfluß auf das Korrosions
verhalten der Phosphatschichten nicht mehr gegeben ist und bei höheren
Mangangehalten kein weiterer positiver Effekt eintritt. Gehalte zwischen
0,3 und 2 g/l und insbesondere zwischen 0,5 und 1,5 g/l sind bevorzugt.
Den Zinkgehalt des Phosphatierbades stellt man vorzugsweise auf Werte zwi
schen 0,6 und 1,4 g/l ein. Infolge des Beizabtrages bei der Phosphatierung
zinkhaltiger Oberflächen ist es jedoch möglich, daß der aktuelle Zinkge
halt des arbeitenden Bades auf bis zu 2 g/l ansteigt. Dabei ist darauf zu
achten, daß der Mangangehalt mindestens 50% des Zinkgehaltes beträgt, da
anderenfalls unzureichende Korrosionsschutzeigenschaften resultieren. In
welcher Form die Zink- und Manganionen in die Phosphatierbäder eingebracht
werden, ist prinzipiell ohne Belang. Um den erfindungsgemäßen Bedingungen
zu genügen, sind jedoch die Nitrite, Nitrate, sowie Salze mit Oxo-Anionen
von Halogenen dieser Kationen nicht einsetzbar. Es bietet sich insbesonde
re an, als Zink- und/oder Manganquelle die Oxide und/ oder die Karbonate
zu verwenden. Außer den genannten zweiwertigen Kationen enthalten Phospha
tierbäder üblicherweise Natrium-, Kalium- und/oder Ammoniumionen, die zum
Einstellen der Parameter freie Säure und Gesamtsäure herangezogen werden.
Bei der Anwendung des Phosphatierverfahrens auf Stahloberflächen geht Ei
sen in Form von Eisen(II)-Ionen in Lösung. Da die erfindungsgemäßen Phos
phatierbäder keine Substanzen enthalten, die gegenüber Eisen(II) stark
oxidierend wirken, geht das zweiwertige Eisen vornehmlich in Folge von
Luftoxidation in den dreiwertigen Zustand über, so daß es als Eisen(III)-
Phosphat ausfallen kann. Daher können sich in den erfindungsgemäßen Phos
phatierbädern Eisen(II)-Gehalte aufbauen, die deutlich über den Gehalten
liegen, die Oxidationsmittel-haltige Bäder enthalten. In diesem Sinne sind
Eisen(II)-Konzentrationen bis zu 50 ppm normal, wobei kurzfristig im Pro
duktionsablauf auch Werte bis zu 500 ppm auftreten können. Für das erfin
dungsgemäße Phosphatierverfahren sind solche Eisen(II)-Konzentrationen
nicht schädlich. Bei Ansatz in hartem Wasser können die Phosphatierbäder
weiterhin die Härtebildner-Kationen Mg(II) und Ca(II) in einer Gesamtkon
zentration von bis zu 7 mmol/l enthalten.
Das erfindungsgemäße Verfahren ist geeignet zur Phosphatierung von Ober
flächen aus Stahl, verzinktem oder legierungsverzinktem Stahl, Aluminium,
aluminiertem oder legierungsaluminiertem Stahl.
Die genannten Materialien können - wie es im Automobilbau zunehmend üb
lich wird - auch nebeneinander vorliegen. Das Verfahren ist für die An
wendung im Tauch-, Spritz- oder Spritz/Tauchverfahren geeignet. Es kann
insbesondere im Automobilbau eingesetzt werden, wo Behandlungszeiten zwi
schen 1 und 8 Minuten üblich sind. Der Einsatz bei der Bandphosphatierung
im Stahlwerk, wobei die Behandlungszeiten zwischen 5 und 12 Sekunden lie
gen, ist jedoch ebenfalls möglich. Wie bei anderen Phosphatierbädern des
Standes der Technik ebenfalls üblich, liegen die geeigneten Badtemperatu
ren zwischen 30 und 70°C, wobei der Temperaturbereich zwischen 40 und 55°C
bevorzugt wird.
Das erfindungsgemäße Phosphatierverfahren ist zur Erzeugung einer Gleit
schicht für Umformungen und insbesondere zur Behandlung der genannten Me
talloberflächen vor einer Lackierung, beispielsweise vor einer kathodi
schen Elektrotauchlackierung gedacht, wie sie im Automobilbau üblich ist.
Das Phosphatierverfahren ist als Teilschritt der technisch üblichen Vor
behandlungskette zu sehen. In dieser Kette sind der Phosphatierung übli
cherweise die Schritte Reinigen/Entfetten, Zwischenspülen und Aktivieren
vorgeschaltet, wobei die Aktivierung üblicherweise mit Titanphosphat-hal
tigen Aktiviermitteln erfolgt. Der erfindungsgemäßen Phosphatierung kann,
gegebenenfalls nach einer Zwischenspülung, eine passivierende Nachbehand
lung folgen. Für eine solche passivierende Nachbehandlung sind Chromsäu
re-haltige Behandlungsbäder weit verbreitet. Aus Gründen des Arbeits- und
Umweltschutzes sowie aus Entsorgungsgründen besteht jedoch die Tendenz,
diese chromhaltigen Passivierbäder durch chromfreie Behandlungsbäder zu
ersetzen. Hierfür sind rein anorganische Badlösungen, insbesondere auf der
Basis von Zirkonverbindungen, oder auch organisch-reaktive Badlösungen,
beispielsweise auf Basis von Polyvinylphenolen, bekannt. Zwischen dieser
Nachpassivierung und der sich üblicherweise anschließenden Elektrotauch
lackierung wird in der Regel eine Zwischenspülung mit vollentsalztem Was
ser durchgeführt.
Die erfindungsgemäßen Phosphatierverfahren sowie Vergleichsverfahren wur
den an Stahlblechen und an beidseitig elektrolytisch verzinkten
Stahlblechen (ZE), wie sie im Automobilbau Verwendung finden, überprüft.
Dabei wurde folgender in der Karosseriefertigung gebräuchlicher
Verfahrensgang im Tauchverfahren ausgeführt:
- 1. Reinigen mit einem alkalischen Reiniger (Ridoline® 1558, Henkel KGaA), Ansatz 2% in Stadtwasser, 55°C, 5 Minuten.
- 2. Spülen mit Stadtwasser, Raumtemperatur, 1 Minute.
- 3. Aktivieren mit einem flüssigen Titanphosphat-haltigen Aktiviermittel im Tauchen (Fixodine® L, Henkel KGaA), Ansatz 0,5% in vollentsalztem Wasser, Raumtemperatur, 1 Minute.
- 4. Phosphatieren mit Phosphatierbädern gemäß Tabelle 1 (Ansatz in voll
entsalztem Wasser, wenn nicht anders vermerkt). Außer den in Tabelle 1
genannten Kationen enthielten die Phosphatierbäder lediglich Natrium
ionen zum Einstellen der freien Säure. Die Bäder enthielten kein Ni
trit und keine Oxo-Anionen von Halogenen.
Unter der Punktzahl der freien Säure wird der Verbrauch in ml an 0,1- normaler Natronlauge verstanden, um 10 ml Badlösung bis zu einem pH- Wert von 3,6 zu titrieren. Analog gibt die Punktzahl der Gesamtsäure den Verbrauch in ml bis zu einem pH-Wert von 8,5 an. - 5. Spülen mit Stadtwasser, Raumtemperatur, 1 Minute.
- 6. Nachpassivieren mit einem chromathaltigen Nachpassiviermittel (Deoxy lyte® 41, Henkel KGaA,) Ansatz 0,1% in vollentsalztem Wasser, 40°C, 1 Minute.
- 7. Spülen mit vollentsalztem Wasser.
- 8. Trockenblasen mit Preßluft.
Die flächenbezogene Masse ("Schichtgewicht") wurde durch Ablösen in
5%-iger Chromsäurelösung bestimmt gemäß DIN 50 942, Tabelle 6. Korrosionprü
fungen erfolgten nach dem VDA-Wechselklimatest 621-415 mit KTL-Grundierung
(KTL-hellgrau der Firma BASF, FT 85-7042). Bewertet wurden nach jeweils 10
einwöchigen Prüfzyklen die Lackunterwanderung (mm) gemäß DIN 53 167 und die
Steinschlag-Kennwerte nach VW-Prüfvorschrift VW-P3.17.1 (K-Werte: bester
Wert K = 1, schlechtester Wert K = 10). Die Ergebnisse sind in Tabelle 1
enthalten.
Claims (11)
1. Verfahren zur Phosphatierung von Metalloberflächen mit wäßrigen, sau
ren Phosphatierlösungen, die Zink-, Mangan- und Phosphationen und als
Beschleuniger m-Nitrobenzosulfonsäure oder deren wasserlösliche Salze
enthalten, dadurch gekennzeichnet, daß man die Metalloberflächen mit
einer Phosphatierlösung in Berührung bringt, die frei von Nickel, Ko
balt, Kupfer, Nitrit und Oxo-Anionen von Halogenen ist und die
0,3 bis 2 g/l Zn(II)
0,3 bis 4 g/l Mn(II)
5 bis 40 g/l Phosphationen
0,2 bis 2 g/l m-Nitrobenzolsulfonat
und höchstens 0,5 g/l Nitrationen
enthält, wobei der Mn-Gehalt mindestens 50% des Zn-Gehalts beträgt.
0,3 bis 2 g/l Zn(II)
0,3 bis 4 g/l Mn(II)
5 bis 40 g/l Phosphationen
0,2 bis 2 g/l m-Nitrobenzolsulfonat
und höchstens 0,5 g/l Nitrationen
enthält, wobei der Mn-Gehalt mindestens 50% des Zn-Gehalts beträgt.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Phospha
tierlösung m-Nitrobenzolsulfonat als freie Säure oder als wasserlösli
ches Salz, insbesondere als Natriumsalz, enthält und die Konzentration
an m-Nitrobenzolsulfonat 0,4 bis 1 g/l beträgt.
3. Verfahren nach einem oder beiden der Ansprüche 1 und 2, dadurch ge
kennzeichnet, daß die Phosphatierlösung weniger als 0,1 g/l Nitrat
enthält.
4. Verfahren nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 3, dadurch ge
kennzeichnet, daß die Phosphatierlösung zusätzlich Fluorid in freier
und/oder komplex gebundener Form in Mengen bis zu 2,5 g/l Gesamtfluo
rid, davon bis zu 800 mg/l freies Fluorid enthält.
5. Verfahren nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 4, dadurch ge
kennzeichnet, daß die Phosphatierlösung ein Gewichtsverhältnis Phos
phationen zu Zinkionen zwischen 3,7 und 30, vorzugsweise zwischen 10
und 20 aufweist.
6. Verfahren nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 5, dadurch ge
kennzeichnet, daß die Phosphatierlösung einen Mn(II)-Gehalt zwischen
0,3 und 2 g/l, vorzugsweise zwischen 0,5 und 1,5 g/l aufweist.
7. Verfahren nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 6, dadurch ge
kennzeichnet, daß der Wert der Gesamtsäure zwischen 15 und 25 Punkten
und der Wert der freien Säure bei Teilephosphatierung zwischen 0,3 und
1,5 Punkte, bei Bandphosphatierung zwischen 0,3 und 2,5 Punkten betra
gen.
8. Verfahren nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 7 zur Behand
lung von Oberflächen aus Stahl, verzinktem oder legierungsverzinktem
Stahl, Aluminium, aluminiertem oder legierungsaluminiertem Stahl.
9. Verfahren nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, daß man die Metall
oberfläche mit der Phosphatierlösung durch Spritzen, Tauchen oder
Spritztauchen für Behandlungszeiten zwischen 5 Sekunden und 8 Minuten
in Kontakt bringt.
10. Verfahren nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, daß die Temperatur
der Phosphatierlösung zwischen 30 und 70°C, vorzugsweise zwischen 40
und 55°C beträgt.
11. Verfahren nach Anspruch 10 zur Behandlung von Metalloberflächen vor
einer Lackierung, insbesondere vor einer kathodischen Elektrotauch
lackierung.
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| DE4341041A1 true DE4341041A1 (de) | 1995-06-08 |
Family
ID=6503976
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DE19934341041 Withdrawn DE4341041A1 (de) | 1993-09-06 | 1993-12-02 | Nickelfreies Phosphatierverfahren mit m-Nitrobenzolsulfonat |
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