DE4201240C3 - Verfahren zur Herstellung eines Formkörpers und Formkörper aus Siliciumcarbid - Google Patents
Verfahren zur Herstellung eines Formkörpers und Formkörper aus SiliciumcarbidInfo
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Description
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung eines
Formkörpers und Formkörper aus Siliciumcarbid.
Formkörper aus Siliciumcarbid werden wegen ihrer guten Eigen
schaften wie hohe Festigkeit, chemische Beständigkeit und gute Wärme
leitfähigkeit in vielen Bereichen der Technik verwendet. Reaktionsgebun
denes, mit Silicium infiltriertes Siliciumcarbid besitzt zudem einen ho
hen Widerstand gegen Verschleiß und eine gute Korrosionsbeständigkeit,
da es sich hier um einen nahezu porenfreien, gasdichten Werkstoff han
delt. Der beträchtliche Gehalt an freiem Silicium von 10 bis 20%
schränkt jedoch seine Einsatzfähigkeit bei Temperaturen im Bereich des
Schmelzpunktes von Silicium und darüber ein.
Für den Hochtemperaturbereich wird daher vorzugsweise gesin
tertes Siliciumcarbid eingesetzt, dessen Restporosität gering ist und
üblicherweise zwischen 1 und 5%, und zwar bei kleinen Porengrößen,
liegt. Der Angriff korrosiver Medien ist folglich auch hier erschwert,
so daß der Werkstoff bereits eine recht gute Verschleißfestigkeit und
Korrosionsbeständigkeit besitzt. Die maximale Einschmelztemperatur liegt
bei ca. 1600-1650°C. Das Sintern von Siliciumcarbid erfolgt allerdings
unter einer erheblichen Volumenänderung (Schwindung), was die Herstel
lung von Großbauteilen aus derartigen Sinterprodukten schwierig oder gar
unmöglich macht. Darüber hinaus können die Sinterhilfsstoffe die Hoch
temperaturfestigkeit oberhalb von etwa 1300°C deutlich absenken.
Weiterhin ist es bekannt, im Hochtemperaturbereich Formkörper
aus rekristallisiertem Siliciumcarbid zu verwenden. Hierbei handelt es
sich um einen porösen, relativ grobkörnigen Werkstoff. Er entsteht durch
einen Hochtemperaturbrand, der nahezu ohne Änderung der äußeren Form,
also ohne Schwindung abläuft. Eine Porosität zwischen 20 und 25% und ei
ne Porengröße bis in dem mm-Bereich führen zu einem schlechten Korro
sionsverhalten.
Vorstehendes ist beispielsweise aus Technische Keramik,
R. Röttenbacher und W. Heider, Siliciuminfiltriertes Siliciumcarbid,
Jahrbuch 1. Ausgabe, Vulkan Verlag, Essen 1988 bekannt.
Aus der DE-PS 10 90 565 ist ein Verfahren zur Herstellung von
dichten siliciuminfiltrierten Siliciumcarbidkörpern bekannt, bei dem ei
ne Mischung verschiedener Körnungen von Siliciumcarbid verwendet wird.
Die Ausgangsmasse wird gepreßt, wobei das Zusammenhalten des durch das
Pressen hergestellten Formkörpers vor dem Brennen durch Zugabe eines
verkokbaren Bindemittels erreicht wird. Bei der Infiltration auftreten
des Riesenkornwachstum verhindert die Bildung einer geschlossenen Poro
sität. Bei Temperaturen über etwa 1400°C wird der Zugang für eine innere
Oxidation geöffnet, da das freie Silicium bei diesen Temperaturen
schmilzt und deshalb die Porenräume durchströmbar werden.
Aus der DE-AS 28 37 900 ist es bekannt, grüne Formkörper bei
einer ausreichend hohen Temperatur zu brennen, um Siliciumcarbid zu re
kristallisieren und ein relativ grobes Gefüge (Porosität von etwa 20%)
zu bilden. Um ein Produkt mit erhöhter Dichte zu erhalten, wird zusätz
lich Kohlenstoff in den Poren des rekristallisierten Siliciumcarbidgefü
ges vorgesehen. Dieser kohlenstoffhaltige poröse Siliciumcarbidkörper
wird in einer siliciumhaltigen Atmosphäre bei einer Temperatur in der
Größenordnung von 2000°C gebrannt, um den gesamten vorhandenen Kohlen
stoff in Siliciumcarbid zu überführen, und, da das große Porenvolumen
auf diese Weise nur teilweise beseitigt werden kann, gegebenenfalls
vollständig mit freiem Silicium imprägniert.
Aufgabe der Erfindung ist es, ein Verfahren zur Herstellung
eines im Hochtemperaturbereich einsetzbaren und gutes Korrosionsverhal
ten zeigenden Formkörpers aus reaktionsgebundenem Siliciumcarbid bzw.
einen derartigen Formkörper zu schaffen.
Diese Aufgabe wird gelöst durch ein Verfahren zur Herstellung
eines Formkörpers aus reaktionsgebundenem Siliciumcarbid, wobei ein
Grünkörper aus einer Mischung umfassend pulvriges Siliciumcarbid mit ei
ner lückenlosen Korngrößenverteilung im Bereich zwischen 0,1 und 300 µm
und Kohlenstoff mittels eines keramischen Formgebungsverfahrens herge
stellt und der Grünkörper in Kontakt mit im Überschuß vorhandenem, flüs
sigem oder gasförmigem Silicium gebrannt wird, wonach der gebrannte
Grünkörper bei 1950 bis 2300°C und einem Schutzgasdruck von 0,3 bis 1,0
bar rekristallisiert wird.
Ferner wird die Aufgabe gelöst durch einen Formkörper aus re
aktionsgebundenem, siliciuminfiltrierten Siliciumcarbid mit einem Poren
aufweisenden Gefüge, das Gefüge zu einer Struktur mit geschlossenen Poren
mit < 8 Porenvol.-% und einem Porendurchmesser < 70 µm rekristallisiert
ist.
Hierdurch wird ein Formkörper aus reaktionsgebundenem Silici
umcarbid geschaffen, zu dessen Herstellung ein Grünkörper mit einer kon
tinuierlichen Korngrößenverteilung des Siliciumcarbids eingesetzt wird.
Durch die Wahl der Korngrößenverteilung des verwendeten Siliciumcarbid
pulvers hinsichtlich oberer Korngröße, Breite der Korngrößenver
teilung und Festlegung der jeweiligen Anteile der Kornfraktionen am
Gesamtvolumen kann die Porosität des Grünkörpers beeinflußt werden.
Sofern der Grünkörper auf diese Weise mit einer hohen Packungsdichte der
Siliziumkarbidkörner und folglich sehr feinen Porenkanälen ausgebildet
ist, kann durch eine Rekristallisation des SiC/Si-Verbundkörpers der
Restanteil an freiem Silizium insbesondere auf weniger als 3 Vol.-%
gesenkt werden. Die geringen Distanzen für den Materialtransport beim
Rekristallisationsprozeß begünstigen wohl auch die Bildung einer ge
schlossenen Porosität. Mittels zweier nacheinander angewendeter Wärme
behandlungsschritte wird aus einem Grünkörper ein Formkörper geschaffen,
dessen Anteil an freiem Silizium gegenüber dem SiC/Si-Werkstoff wesent
lich reduziert oder gegebenenfalls auch entfernt ist, und die ursprüng
lich offene Porosität in eine im wesentlich geschlossene Porosität um
gewandelt ist. Ein Restanteil an freiem Silizium kann einzelne geschlos
sene Poren füllen, so daß bei Temperaturen über dem Schmelzpunkt von Si
lizium, also über ca. 1400°C, keine Silizium-Ausschwitzungen auftreten.
Die maximale Einsatztemperatur liegt bei ca. 1800°C, wobei die Hochtem
peraturfestigkeit nicht absinkt. Gegenüber dem rekristallisierten Sili
ziumkarbid ist eine wesentlich geringere innere Oxydation zu beobachten.
Ein weiterer wesentlicher Vorteil besteht darin, daß die Re
kristallisation im Anschluß an das Silicieren im wesentlichen ohne
Schwindung abläuft. Der rekristallisierte SiC/Si-Werkstoff eignet sich
daher auch besonders für die Herstellung großformatiger, komplexer Bau
teile. Die herstellbaren Formkörper sind demzufolge sehr dicht und kön
nen spezifische Gewichte <2,8 g/cm³, insbesondere <3,0 g/cm³ besitzen.
Die Rekristallisation wird durchgeführt bei Tempera
turen von 1950°C bis 2300°C unter Ausschluß von Sauerstoff, vorzugsweise unter
Schutzgas, mit Drücken von 0,3 bis 1,0 bar. Bei der genannten Tempera
tur findet aufgrund der damit verbundenen Verringerung der Oberflächen
energie eine Umwandlung der dreidimensional vernetzten zylindrischen
Poren in isolierte statt. Der dazu notwendige Materialtransport erfolgt
wahrscheinlich über Lösungs-Ausscheidungsreaktionen von Kohlenstoff mit
Silizium als Lösungsmittel oder über Verdampfung und Sublimation. Das
Vorliegen feiner Porenkanäle im reaktionsgebundenen Siliziumkarbid auf
grund kontinuierlicher Korngrößenverteilung begünstigt den für die Re
kristallisation notwendigen Materialtransport.
Der Einsatz des Schlickergießverfahrens vereinfacht die For
mung von Großbauteilen, insbesondere von zwei- und dreidimensional groß
formatigen Bauteilen und/oder komplizierten Körpergestaltungen.
Eine bevorzugte Korngrößenverteilung des Siliziumkarbids zur
Erzielung eines Grünkörpers mit Porenradien <50 µm kann wie folgt ge
wählt werden:
Korngrößenbereich 0,1 bis 30 µm, 45 bis 65 Vol.-%,
vorzugsweise 46 bis 56 Vol.-%;
Korngrößenbereich 30 bis 100 µm, 20 bis 35 Vol.-%, vorzugsweise 22 bis 30 Vol.-%;
Korngrößenbereich über 100 µm (obere Korngröße im Bereich 150 bis 300 µm), 15 bis 35 Vol.-%, vorzugsweise 18 bis 30 Vol.-%.
Korngrößenbereich 30 bis 100 µm, 20 bis 35 Vol.-%, vorzugsweise 22 bis 30 Vol.-%;
Korngrößenbereich über 100 µm (obere Korngröße im Bereich 150 bis 300 µm), 15 bis 35 Vol.-%, vorzugsweise 18 bis 30 Vol.-%.
Weitere Ausgestaltungen der Erfindung sind der nachfolgenden
Bescheibung und den Unteransprüchen zu entnehmen.
Ein Formkörper aus reaktionsgebundenem Siliziumkarbid besitzt
einen Gefügeaufbau, der durch zwei thermische Behandlungen modifiziert
ist, wobei zur Formgebung eines Grünkörpers alle üblichen Verfahren, wie
Schlickergießen, Strangpressen, Trockenpressen, isostatisches Pres
sen aber auch Foliengießen und Spritzguß eingesetzt worden sein können.
Nachfolgend werden die Gefügebestandteile eines Formkörpers
aus einem rekristallisierten SiC/Si-Verbundwerkstoff beschrieben: Ein
Gefügebestandteil ist primär und sekundär gebildetes Siliziumkarbid. Das
sekundäre Siliziumkarbid ist während eines ersten Wärmebehandlungs
schrittes, einem Silicieren, durch Umwandlung von kolloidalem Kohlen
stoff im Kontakt mit flüssigem oder gasförmigem Silizium entstanden. Ein
weiterer Gefügebestandteil ist freies Silizium. Dieses freie Silizium
hat bei einem Silicieren mit Silizium im Überschuß als überschüssiges
Silizium Poren gefüllt, die während des ersten Wärmebehandlungsschrittes
durchströmbar waren. Nach einem zweiten Wärmebehandlungsschritt, einem
Rekristallisieren, beträgt der Restanteil an freiem Silizium <8 Vol.-%,
vorzugsweise <5 Vol.-%. Von einer dem Gefüge zugrundeliegenden
Arbeitsmasse können noch unwesentliche Restanteile, wie beispielsweise
dichter Kohlenstoff, im Gefüge auftauchen. Der Gehalt derartiger
Restbestände liegt unter 1 Vol.-%.
Ein weiterer Gefügebestandteil ist schließlich die Porosität.
Das rekristallisierte Gefüge besitzt eine im wesentlichen geschlossene
Porosität, vorzugsweise nur geschlossen, mit einem Porenvolumenanteil
von <8%. Sofern ein Restanteil an freiem Silizium eingebaut ist, füllt
dieser die Poren, wobei alle oder ein Teil der Poren mit freiem Silizium
gefüllt sein können. Dabei liegt der Porendurchmesser bei Werten <70 µm.
Das spezifische Gewicht eines rekristallisierten
SiC/Si-Verbundwerkstoffes mit dem vorstehend beschriebenen Gefüge liegt
bei <2,8 g/cm³, vorzugsweise <3,0 g/cm³.
Das rekristallisierte Gefüge wird erhalten durch ein Rekri
stallisieren eines mit Silizium im Überschuß silicierten Grünkörpers bei
1950 bis 2300°C unter Ausschluß von Sauerstoff, vorzugsweise unter
Schutzgas, mit Drücken von 0,3 bis 1,0 bar. Der Restanteil an freiem
Silizium ist dann vorzugsweise auf einen Teil der geschlossenen Poren
verteilt.
Zur Bildung eines Grünkörpers als Vorstufe für die Schaffung
eines Formkörpers mit dem erfindungsgemäßen Gefüge wird ein pulvriges
Siliziumkarbid mit einer lückenlosen Korngrößenver
teilung über mehr als zwei Zehnerpotenzen der Korngrößen hinaus bei
einer oberen Korngrenze von mindestens 150 µm verwendet. Besonders be
vorzugt ist eine lückenlose, kontinuierliche Korngrößenverteilung. Als
Formgebungsverfahren wird vorzugsweise das Schlickergießverfahren be
nutzt. Die hierzu eingesetzte Arbeitsmasse besteht aus Siliziumkarbid,
kolloidalem Kohlenstoff, Hilfsstoffen und einem flüssigen Medium.
Eine Rezeptur für die Schlickergießmasse umfaßt einen Sili
ziumkarbidanteil von mindestens 70 Gew.-%, einen Anteil an kolloidalem
Kohlenstoff von etwa 5 bis 15 Gew.-%, vorzugsweise 8 bis 12 Gew.-%,
einen Wasseranteil von weniger als 28 Gew.-%, vorzugsweise weniger als
22 Gew.-%, und einen Anteil an Hilfsstoffen von 0,3 bis 1,5 Gew.-%.
Das als Ausgangsmaterial verwendete Siliziumkarbid wird
eingesetzt mit einer Korngrößenverteilung, dessen Volumenanteile mit
einer oberen Korngröße im Bereich zwischen 150 und 300 wie folgt gewählt
sind:
Korngrößenbereich 0,1 bis 30 µm, 45 bis 65 Vol.-%,
vorzugsweise 46 bis 56 Vol.-%;
Korngrößenbereich 30 bis 100 µm, 20 bis 35 Vol.-%, vorzugsweise 22 bis 30 Vol.-%;
Korngrößenbereich über 100 µm (obere Korngröße im Bereich 150 bis 300 µm), 15 bis 35 Vol.-%, vorzugsweise 18 bis 30 Vol.-%.
Korngrößenbereich 30 bis 100 µm, 20 bis 35 Vol.-%, vorzugsweise 22 bis 30 Vol.-%;
Korngrößenbereich über 100 µm (obere Korngröße im Bereich 150 bis 300 µm), 15 bis 35 Vol.-%, vorzugsweise 18 bis 30 Vol.-%.
Der kolloidale Kohlenstoff wird vorzugsweise mit Partikel
größen <3 µm eingesetzt.
Die Hilfsstoffe umfassen einen Verflüssiger und einen Binder.
Als Verflüssiger kann ein Sulfonat zyklischer organischer Verbindungen
verwendet werden, das vorzugsweise mit einem alkalischen Elektrolyt ge
mischt ist. Der Anteil des Verflüssigers beträgt vorzugsweise 0,1 bis
0,5 Gew.-%. Als Binder kann ein Polysaccharid verwendet werden, wobei
der Anteil vorzugsweise 0,3 bis 1,0 Gew.-% beträgt.
Das Litergewicht einer solchen Schlickergießmasse liegt über
2000 g, vorzugsweise über 2300 g. Der pH-Wert des Schlickers liegt über
8, vorzugsweise über 9,5. Der so erhaltene Schlicker wird in eine Gips
form gegossen, wobei nach dem Hohl- oder Vollgußverfahren gearbeitet
werden kann. Nach einer bestimmten Standzeit, wobei in einer 1/4 h eine
Scherbenstärke von ca. 8 mm erreicht wird, wird der Grünkörper ausge
formt und danach getrocknet. Die erzielbare Gründichte liegt über 2,0
g/cm³, vorzugsweise über 2,3 g/cm³. Dann wird in bekannter Weise der
Grünkörper im Kontakt mit Silizium erhitzt, wodurch der Kohlenstoff in
Siliziumkarbid umgewandelt wird und gleichzeitig die Poren mit metalli
schem Silizium gefüllt werden.
Silizium wird im Überschuß angeboten, so daß, nachdem aller
Kohlenstoff zu Siliziumkarbid abreagiert ist, überschüssiges Silizium
die Poren füllt.
Nach Beendigung dieses ersten Wärmebehandlungsschrittes
erfolgt ein zweiter Wärmebehandlungsschritt
zum Rekristallisieren bei
bei 1950 bis 2300°C unter Ausschluß von Sauerstoff mit 0,3 bis 1,0 bar.
Dieser zweite Wärmebehandlungsschritt erfolgt über eine Zeitspanne von
0,5 bis 2 h.
Gemäß weiterer Ausführungsbeispiele des Formkörpers kann das
Siliziumkarbid gezielt ersetzt sein durch Kohlenstoff bis zu 15 Vol.-%
oder durch Hartstoffe, wie Titankarbid, Titannitrid, Wolframkarbid und
dergl., bis zu etwa 8 Vol.-%. Das Eigenschaftsprofil des Formkörpers
läßt sich auf diese Weise ändern. Insbesondere durch einen Kohlenstoff
anteil kann der Elastizitäts-Modul reduziert werden, d. h. die Sprödigkeit
wird verringert. Zur Bildung eines solchen Formkörpers aus einem reakti
onsgebundenen, mit Silizium infiltrierten Siliziumkarbid-Formkörpers
wird der Formkörper aus einer Arbeitsmasse hergestellt, der der
Kohlenstoff und/oder die Hartstoffe vorzugsweise mit dem gleichen
Korngrößenspektrum wie das Siliziumkarbid zugesetzt werden. In einer
anderen Ausführungsform können auch nur bestimmte Kornfraktionen von
Siliziumkarbid durch Kohlenstoff und/oder Hartstoffe bis zu den
genannten Vol.-%en ersetzt sein.
Claims (14)
1. Verfahren zur Herstellung eines Formkörpers aus reaktions
gebundenem Siliciumcarbid, wobei ein Grünkörper aus einer Mischung um
fassend pulvriges Siliciumcarbid mit einer lückenlosen Korngrößenvertei
lung im Bereich zwischen 0,1 und 300 µm und Kohlenstoff mittels eines
keramischen Formgebungsverfahrens hergestellt und der Grünkörper in Kon
takt mit im Überschuß vorhandenem, flüssigem oder gasförmigem Silicium
gebrannt wird, wonach der gebrannte Grünkörper bei 1950 bis 2300°C und
einem Schutzgasdruck von 0,3 bis 1,0 bar rekristallisiert wird.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der
Grünkörper durch Schlickerguß hergestellt wird, wobei ein Schlicker mit
einem Siliciumcarbidanteil von mindestens 70 Gew.-%, einem kolloidalen
Kohlenstoffanteil von etwa 5 bis 15 Gew.-%, einem Wasseranteil von weni
ger als 28 Gew.-% und Hilfsstoffen verwendet wird.
3. Verfahren nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß ein
Schlicker mit einem Siliciumcarbidanteil mit Korngrößen einer Obergrenze
zwischen 150 und 300 µm verwendet wird, der im Korngrößenbereich von 0,1
bis 30 µm 45 bis 65 Vol.-% Siliciumcarbid, im Korngrößenbereich von 30
bis 100 µm 20 bis 35 Vol.-% Siliciumcarbid und im Korngrößenbereich über
100 µm 15 bis 35 Vol.-% Siliciumcarbid enthält.
4. Verfahren nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß ein
Schlicker mit einem Siliciumcarbidanteil verwendet wird, der im Korn
größenbereich von 0,1 bis 30 µm 46 bis 56 Vol.-% Siliciumcarbid, im
Korngrößenbereich von 30 bis 100 µm 22 bis 30 Vol.-% Siliciumcarbid und
im Korngrößenbereich über 100 µm 18 bis 30 Vol.-% Siliciumcarbid ent
hält.
5. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekenn
zeichnet, daß während 0,5 bis 2 h rekristallisiert wird.
6. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekenn
zeichnet, daß zur Herstellung der Grünkörper 8 bis 12 Gew.-% kolloidaler
Kohlenstoff mit einer Partikelgröße < 3 µm verwendet werden.
7. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekenn
zeichnet, daß das Siliciumkarbid teilweise durch Kohlenstoff und/oder
Hartstoffe ersetzt wird.
8. Verfahren nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, daß das
Siliciumcarbid durch bis zu 15 Vol.-% Kohlenstoff oder durch bis zu 8
Vol.-% Hartstoffe, jeweils bezogen auf den Formkörper, ersetzt wird.
9. Verfahren nach Anspruch 7 oder 8, dadurch gekennzeichnet,
daß der Anteil an das Siliciumcarbid ersetzendem Kohlenstoff und/oder
Hartstoffen mit einem Korngrößenspektrum entsprechend dem für Silicium
carbid verwendet wird.
10. Verfahren nach Anspruch 7 oder 8, dadurch gekennzeichnet,
daß durch den Anteil an das Siliciumcarbid ersetzendem Kohlenstoff und/
oder Hartstoffen bestimmte Kornfraktionen von Siliciumcarbid ersetzt
werden.
11. Formkörper aus reaktionsgebundenem, siliciuminfiltrierten
Siliciumcarbid mit einem Poren aufweisenden Gefüge, dadurch ge
kennzeichnet, daß das Gefüge zu einer Struktur mit geschlos
sen Poren mit < 8 Porenvol.-% und einem Porendurchmesser < 70 µm rekri
stallisiert ist.
12. Formkörper nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, daß
die Poren teilweise oder ganz mit einem Restanteil an freiem Silicium
gefüllt sind.
13. Formkörper nach Anspruch 11 oder 12, dadurch gekennzeich
net, daß er ein spezifisches Gewicht < 2,8 g/cm³ hat.
14. Formkörper nach Anspruch 12 oder 13, dadurch gekennzeich
net, daß der Restanteil an freiem Silicium < 5 Vol.-% beträgt.
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