[go: up one dir, main page]

DE3941796A1 - Belag, bestehend aus einem optisch wirkenden schichtsystem, fuer substrate, wobei das schichtsystem insbesondere eine hohe antireflexwirkung aufweist, und verfahren zur herstellung des belags - Google Patents

Belag, bestehend aus einem optisch wirkenden schichtsystem, fuer substrate, wobei das schichtsystem insbesondere eine hohe antireflexwirkung aufweist, und verfahren zur herstellung des belags

Info

Publication number
DE3941796A1
DE3941796A1 DE3941796A DE3941796A DE3941796A1 DE 3941796 A1 DE3941796 A1 DE 3941796A1 DE 3941796 A DE3941796 A DE 3941796A DE 3941796 A DE3941796 A DE 3941796A DE 3941796 A1 DE3941796 A1 DE 3941796A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
layer
thickness
refractive index
coating
angstroms
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Ceased
Application number
DE3941796A
Other languages
English (en)
Inventor
Joachim Dr Szczyrbowski
Klaus Dr Hartig
Wolfgang Lohwasser
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Balzers und Leybold Deutschland Holding AG
Original Assignee
Leybold AG
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Leybold AG filed Critical Leybold AG
Priority to DE3941796A priority Critical patent/DE3941796A1/de
Priority to DE19914117256 priority patent/DE4117256A1/de
Priority to US07/717,027 priority patent/US5170291A/en
Publication of DE3941796A1 publication Critical patent/DE3941796A1/de
Ceased legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
    • C03C17/3411—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials
    • C03C17/3429—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials at least one of the coatings being a non-oxide coating
    • C03C17/3447—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials at least one of the coatings being a non-oxide coating comprising a halide
    • C03C17/3452—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials at least one of the coatings being a non-oxide coating comprising a halide comprising a fluoride
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
    • C03C17/3411—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials
    • C03C17/3417—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials all coatings being oxide coatings
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
    • C03C17/3411—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials
    • C03C17/3429—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials at least one of the coatings being a non-oxide coating
    • C03C17/3464—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials at least one of the coatings being a non-oxide coating comprising a chalcogenide
    • C03C17/347—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials at least one of the coatings being a non-oxide coating comprising a chalcogenide comprising a sulfide or oxysulfide
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/11—Anti-reflection coatings
    • G02B1/113—Anti-reflection coatings using inorganic layer materials only
    • G02B1/115—Multilayers

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Geochemistry & Mineralogy (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)

Description

Die Erfindung betrifft einen Belag, bestehend aus einem optisch wirkenden Schichtsystem, für Substrate, wobei das Schichtsystem insbesondere eine hohe Antireflexwirkung aufweist.
Es gibt eine breite Palette von Schichtsystemen für Substrate, insbesondere für Glas, die bestimmte optische Funktionen erfüllen. Die vorliegende Erfindung betrifft die Gattung der Antireflexschichten, beziehungsweise Antireflexschichtsysteme.
Durch die deutsche Offenlegungsschrift 36 29 996 ist ein Vorsatzaggregat für die Katodenstrahlröhre von Monitoren, Fernsehapparaten und dergleichen, bestehend aus einer Glasscheibe, insbesondere einer Grauglasscheibe, einer vorderseitigen Antireflexionsausrüstung und einer rückseitigen Absorptionsbeschichtung, wobei die Absorptionsbeschichtung Metallatome aufweist, bekannt­ geworden.
In dieser deutschen Offenlegungsschrift wird vorgeschlagen, daß die Absorptionsbeschichtung einschichtig aus Chrom, einer Chrom/Nickel-Legierung oder Siliciden aufgebaut und antistatisch eingerichtet und geerdet, sowie mit einer Dicke versehen ist, welche die Lichttransmission gegenüber der unbeschichteten Glasscheibe um etwa ein Drittel absenkt.
In der US-Patentschrift 38 54 796 wird weiterhin eine Beschichtung vorgeschlagen, die zur Reduzierung der Reflexion dienen soll. Die Beschichtung soll fur ein Substrat angewendet werden, das eine Mehrzahl von Schichten aufweist. In der Reihenfolge beginnend beim Substrat ist in der US-Patentschrift folgende Anordnung beschrieben: drei Gruppen von wenigstens zwei Lambda/4-Schichten, die aufeinanderfolgenden Schichten der ersten Gruppe haben einen Brechungsindex, der unterhalb des Brechungsindexes des Substrats liegt. Die Schichten der zweiten Gruppe haben einen sich vergrößernden Brechungsindex und die Schichten der dritten Gruppe haben einen Brechungsindex unterhalb des Brechungsindexes des Substrats. Weitere Einzelheiten sind der genannten US-Schrift zu entnehmen.
Zum Stand der Technik gehört weiterhin die US-Patentschrift 37 61 160. Dort werden eine Breitbandantireflexionsbeschichtung und Substrate, die damit beschichtet sind, vorgeschlagen. Sie weisen wenigstens vier Schichten für Glas mit hohem Index und wenigstens sechs Schichten für Glas mit niedrigem Index auf. Weitere Einzelheiten sind der genannten US-Schrift zu entnehmen.
Weiterhin wird in der US-Patentschrift 36 95 910 ein Verfahren zur Anbringung einer Antireflexbeschichtung auf einem Substrat beschrieben. Diese Beschichtung besteht aus mehreren Einzelschichten. Das Verfahren für die Aufbringung der Antireflexionsschichten erfolgt unter Vakuum, und zwar unter Verwendung von Elektronenstrahlen. Weitere Einzelheiten sind der genannten US-Patentschrift zu entnehmen.
Weiterhin gehört zum Stand der Technik die US-Patentschrift 38 29 197, die einen Antireflexionsbelag, der als Mehrschichtsystem ausgebildet ist, beschreibt. Dieser Belag soll auf einem stark brechenden Substrat angebracht werden. Das Schichtsystem besteht aus fünf einzelnen Schichten, die gegenseitig angepaßt sind, und zwar in Hinsicht auf ihren Brechungsindex und in Hinsicht auf ihre optische Dicke. Durch diese Anpassung soll eine günstige Antireflexionskurve mit einem breiten, flachen, mittleren Teil erreicht werden. Weitere Einzelheiten dieses Vorschlags sind der genannten US-Patentschrift zu entnehmen.
Zum Stand der Technik gehört weiterhin die schweizerische Patentschrift 2 23 344. Diese Schrift befaßt sich mit einem Überzug zur Verminderung der Oberflächenreflexion. Der Überzug besteht aus mindestens drei Schichten mit verschiedenen Brechungszahlen. Die Verminderung der Oberflächenreflexion soll nach dieser Schrift durch eine bestimmte Auswahl der Brechungszahlen der einzelnen Schichten erzielt werden.
Der Erfindung liegen folgende Aufgaben zugrunde:
Die Erfindung soll Voraussetzung schaffen für die Herstellung von Antireflexionsschichten auf transparenten Substraten, insbesondere auf solche Substrate, die einen Brechungsindex von n = ca. 1,5 bis 1,6 haben. Gleichzeitig soll die Lichttransmission hoch sein und die Gesamtdicke der Beschichtung soll möglichst gering sein, damit die Herstellungkosten entsprechend reduziert werden können.
Mit der Erfindung soll ein Konzept vorgeschlagen werden, bei dem großtechnisch DC-reaktiv mit Magnetron vom Metalltarget gesputtert werden kann.
Die geringe Zahl der Schichten des Schichtsystems, die geringe Dicke der Einzelschichten des Schichtsystems, die Auswahl preisgünstiger Einsatzmaterialien und die Möglichkeit, DC-reaktiv mit Magnetron vom Metalltarget zu sputtern, führen zu einer äußerst wirtschaftlichen Herstellung des erfindungsgemäßen Antireflexschichtsystems.
Zu dem Aufgabenkomplex, der der Erfindung zugrunde liegt, gehört die besondere Aufgabe, es möglich zu machen, daß die erste und die zweite Schicht in ihren Dicken stark variieren können, ohne daß sich die günstige Antireflexionswirkung des Gesamtsystems, bestehend aus vier Schichten, wesentlich ändert.
Diese angestrebte Unempfindlichkeit der beiden ersten relativ dünnen Schichten in Hinsicht auf die günstige Antireflexionswirkung des gesamten Systems bringt eine Reihe von Vorteilen:
Wenn man die Schichtdicken der ersten beiden Schichten nicht mit größter Genauigkeit aufzubringen braucht, beziehungsweise wenn man sich während des Aufbringverfahrens gewisse Toleranzfreiheiten bei der ersten und zweiten Schicht leisten kann, so wird das Gesamtherstellungsverfahren entsprechend einfacher und kostengünstiger.
Insgesamt gesehen ist das Gesamtpaket der Schichten relativ dünn. Es liegt ca. 30% unter vergleichbaren Schichtsystemen des Standes der Technik. Schon die Dünne des Gesamtpaketes verbilligt das Herstellungsverfahren.
Die gestellten Aufgaben werden erfindungsgemäß dadurch gelöst, daß auf der dem Betrachter zugewandten Substratseite (Vorderseite) (2) in der örtlichen Reihenfolge von der Vorderseite (2) zum Betrachter eine erste am Substrat anliegende, hochbrechendes Material, vorzugsweise TiO2, aufweisende Schicht (4) (erste Schicht) angeordnet ist, darauffolgend eine zweite, niederbrechendes Material, vorzugsweise Al2O3, aufweisende Schicht (5) (zweite Schicht) angeordnet ist, darauffolgend eine dritte hochbrechendes Material, vorzugsweise TiO2, aufweisende Schicht (6) (dritte Schicht) angeordnet ist, darauffolgend eine vierte niederbrechendes Material, vorzugsweise SiO2, aufweisende Schicht (7) (vierte Schicht) angeordnet ist.
Dabei kann vorgesehen werden, daß die erste Schicht (4) Verbindungen aus der Gruppe: TiO2, ZnS, Bi2O3, oder Mischungen der Verbindungen aus dieser Gruppe umfaßt.
Weiterhin wird vorgeschlagen, daß die zweite Schicht (5) Oxide aus der Gruppe: Al2O3, MgO, SiO2, SiAl-Oxid, NiSi-Oxid, oder Mischoxide aus dieser Gruppe umfaßt.
Außerdem kann vorgesehen werden, daß die dritte Schicht (6) Verbindungen aus der Gruppe: TiO2, ZnS, Bi2O3, oder Mischungen der Verbindungen aus dieser Gruppe umfaßt.
Schließlich kann die vierte Schicht (7) Verbindungen aus der Gruppe: SiO2, MgF2 oder Mischungen der Verbindungen aus dieser Gruppe umfassen.
In Hinsicht auf die Brechungskoeffizienten wird in weiterer Ausgestaltung der Erfindung vorgeschlagen, daß die erste Schicht (4) aus einem Material mit einem Brechungskoeffizienten von n größer als oder gleich 2,2, vorzugsweise n = 2,4 besteht, daß die zweite Schicht (5) aus einem Material mit einem Brechungskoeffizienten von n = ca. 1,6 besteht, daß die dritte Schicht (6) aus einem Material mit einem Brechungskoeffizienten von n größer als oder gleich 2,2, vorzugsweise n = 2,4 besteht, daß die vierte Schicht (7) aus einem Material mit einem Brechungskoeffizienten von n kleiner als oder gleich 1,5, vorzugsweise von n = 1,48 besteht.
Hinsichtlich der Schichtdicken wird vorgeschlagen, daß die erste Schicht eine Dicke von 100 Ångström +/-10% aufweist, daß die zweite Schicht eine Dicke von 400 Ångström +/-5% aufweist, daß die dritte Schicht eine Dicke von 1040 Ångström +/-2% aufweist, daß die vierte Schicht eine Dicke von 940 Ångström +/-2% aufweist, daß solche Werte für die jeweiligen Schichtdicken innerhalb der genannten Schichtdickentoleranzen gewählt werden, die die Interdepedenz der einzelnen Schichtdicken und der verwendeten Materialien zueinander berücksichtigen.
In einem bevorzugten Ausführungsbeispiel wird vorgesehen, daß auf der dem Betrachter zugewandten Substratseite (Vorderseite) (2) in der örtlichen Reihenfolge von der Vorderseite (2) zum Betrachter eine erste am Substrat anliegende, hochbrechendes Material, vorzugsweise TiO2, aufweisende Schicht (4) (erste Schicht) angeordnet ist, die eine Dicke von 100 Ångström +/-10% aufweist, darauffolgend eine zweite, niederbrechendes Material, vorzugsweise Al2O3, aufweisende Schicht (5) (zweite Schicht) angeordnet ist, die eine Dicke von 400 Ångström +/-5% aufweist, darauffolgend eine dritte hochbrechendes Material, vorzugsweise TiO2, aufweisende Schicht (6) (dritte Schicht) angeordnet ist, die eine Dicke von 1040 Ångström +/-2% aufweist, darauffolgend eine vierte niederbrechendes Material, vorzugsweise SiO2, aufweisende Schicht (7) (vierte Schicht) angeordnet ist, die eine Dicke von 940 Ångström +/-2% aufweist.
Von besonderen Vorteil für eine kostengünstige Herstellung ist der Vorschlag, nach dem ein Katodenzerstäubungsverfahren, insbesondere ein DC-reaktives Sputtern vom Target mit Magnetron zur Beschichtung eingesetzt wird.
Dabei kann für die erste und dritte Schicht vorgesehen werden, daß durch DC-reaktives Sputtern vom Ti-Target mit Magnetron eine Schicht aus TiO2 bei Anwesenheit eines Sputtergasgemisches, das Ar und O2 umfaßt, gebildet wird, und zwar bei einem Druck von cirka 5×10-3 mbar.
Für die zweite Schicht wird vorgeschlagen, daß durch DC-reaktives Sputtern vom Al-Target mit Magnetron eine Schicht aus Al2O3 bei Anwesenheit eines Sputtergasgemisches, das Ar und O2 umfaßt, gebildet wird, und zwar bei einem Druck von cirka 8×10-3 mbar.
Für die vierte Schicht wird vorgeschlagen, daß durch DC-reaktives Sputtern vom Si-Target mit Magnetron eine Schicht aus SiO2 bei Anwesenheit eines Sputtergasgemisches, das Ar und O2 umfaßt, gebildet wird, und zwar bei einem Druck von cirka 1,2×10-2 mbar.
Zur Beschichtung können auch an sich bekannte Verfahren herangezogen werden, so wird zum Beispiel vorgeschlagen,daß ein an sich bekanntes Aufdampfverfahren zur Beschichtung eingesetzt wird, daß ein an sich bekanntes Chemical Vapor Deposition (CVD)-Verfahren zur Beschichtung eingesetzt wird, daß ein an sich bekanntes Plasma-gestütztes Chemical Vapor Deposition (CVD)-Verfahren zur Beschichtung eingesetzt wird oder daß ein an sich bekanntes Pyrolyse-Verfahren zur Beschichtung eingesetzt wird.
Mit der Erfindung werden folgende Vorteile erzielt:
Die eingangs beschriebenen Aufgaben werden gelöst. Besonders zu erwähnen ist, daß es durch die Erfindung ermöglicht wurde, daß die erste und die zweite Schicht in ihren Dicken stark variieren können, ohne daß sich die günstige Antireflexionswirkung des Gesamtsystems, bestehend aus vier Schichten, wesentlich ändert.
Insgesamt gesehen ist das Gesamtpaket der Schichten relativ dünn. Es liegt ca. 30% unter vergleichbaren Schichtsystemen des Standes der Technik. Schon die Dünne des Gesamtpaketes verbilligt das Herstellungsverfahren.
Weitere Einzelheiten der Erfindung, der Aufgabenstellung und der erzielten Vorteile sind der folgenden Beschreibung eines Ausführungsbeispiels der Erfindung zu entnehmen.
Dieses Ausführungsbeispiel wird anhand von zwei Figuren erläutert.
Fig. 1 zeigt ein Schichtsystem.
Fig. 2 zeigt die Refletionskurve in Prozent über Wellenlängen in nm.
Das Substrat 1 kann aus Glas oder aus einer Kunststoff- Folie oder aus einem anderen durchsichtigen Material bestehen. Die Vorderseite 2 des Substrats ist die Seite des Substrats, die dem Betrachter zugewandt ist. Die an der Vorderseite des Substrats anliegende Schicht wird als die "erste" Schicht 4 bezeichnet. Es folgen in Richtung zum Betrachter die "zweite" Schicht 5, die "dritte" Schicht 6, die "vierte" Schicht 7. Mit dem Pfeil 3 ist die Blickrichtung des Betrachters symbolisiert.
Es folgt die Beschreibung eines Schichtsystems, bei dem die Reflexion an der dem Betrachter zugewandten Oberfläche einer Polyesterfolie im sichtbaren Wellenbereich des Lichts gemessen wurden. Die Meßergebnisse sind grafisch anhand der Kurve 8 in Fig. 2 dargestellt.
Bei der Beschreibung des Schichtsystems werden die Bezugsziffern der Beschreibung der Fig. 1 benutzt.
Das Schichtsystem ist wie folgt aufgebaut:
Substrat: Polyesterfolie, Dicke 32 Mikrometer, Brechungskoeffizient n = 1,6
"erste" Schicht (4) Material: TiO2, Dicke 100 Ångström Brechungskoeffizient n = 2,4
"zweite" Schicht (5) Material: Al2O3, Dicke 400 Ångström Brechungskoeffizient n = 1,6
"dritte" Schicht (6) Material: TiO2, Dicke 1040 Ångström Brechungskoeffizient n = 2,4
"vierte" Schicht (7) Material: SiO2, Dicke 940 Ångström Brechungskoeffizient n = 1,48
Für dieses Schichtsystem wurden die Reflexion, wie oben dargestellt, an der Oberfläche der Polyesterfolie in Prozent gemessen, und zwar für einen Wellenlängenbereich von 360 nm bis 730 nm.
Nachfolgend werden die Meßergebnisse für die Reflexion in einer Tabelle bestimmten Wellenlängen gegenübergestellt:
Wellenlänge (nm)
Reflexion (%)
730
0,82
690 0,22
650 0,2
620 0,152
590 0,18
560 0,24
540 0,252
520 0,244
500 0,208
480 0,168
460 0,168
440 0,42
430 0,74
410 1,92
400 2,96
390 4,36
380 4,56
360 4,56
Die Meßergebnisse werden, wie dargelegt, als eine Kurve in Fig. 2 grafisch dargestellt. Auf der Abzisse 9 des Koordinatensystems in Fig. 2 sind die Wellenlängen in nm eingetragen. Auf der Ordinate 10 des Koordinatensystems sind die Prozentwerte für die Reflexion eingetragen.
Aus der Kurve ist deutlich erkennbar, daß die Reflexion im Kernwellenlängenbereich des sichtbaren Lichts insbesondere zwischen 450 und 700 nm, außerordentlich niedrig ist. Sie liegt weit unter 1%. Damit ist die gewünschte hohe Antireflexwirkung in überraschend deutlicher Weise erzielt worden.
Das Schichtsystem, mit dem die oben kommentierten Reflexionswerte erzielt wurden, ist nach dem im folgenden beschriebenen Verfahren hergestellt worden:
Es wurde mit Magnetron gesputtert und zwar in reaktiver Gasatmosphäre, bestehend aus einem Gasgemisch aus Ar und O₂.
Targetmaterial: Ti, Al, Si.
Verfahrensdruckniveau:
beim Sputtern vom Ti-Target: 5×10-3 mbar
beim Sputtern vom Al-Target: 8×10-3 mbar
beim Sputtern vom Si-Target: 1,2×10-2 mbar
Es wurde stöchiometrisch (volloxidisch) gesputtert.
Liste der Einzelteile
 1 Substrat, Glas, Folie
 2 Vorderseite
 3 Pfeil, Blickrichtung
 4 "erste" Schicht
 5 "zweite" Schicht
 6 "dritte" Schicht
 7 "vierte" Schicht
 8 Kurve
 9 Abzisse
10 Ordinate

Claims (16)

1. Belag, bestehend aus einem optisch wirkenden Schichtsystem, für Substrate, wobei das Schichtsystem insbesondere eine hohe Antireflexwirkung aufweist, dadurch gekennzeichnet, daß auf der dem Betrachter zugewandten Substratseite (Vorderseite) (2) in der örtlichen Reihenfolge von der Vorderseite (2) zum Betrachter eine erste am Substrat anliegende, hochbrechendes Material, vorzugsweise TiO2, aufweisende Schicht (4) (erste Schicht) angeordnet ist, darauffolgend eine zweite, niederbrechendes Material, vorzugsweise Al2O3, aufweisende Schicht (5) (zweite Schicht) angeordnet ist, darauffolgend eine dritte hochbrechendes Material, vorzugsweise TiO2, aufweisende Schicht (6) (dritte Schicht) angeordnet ist, darauffolgend eine vierte niederbrechendes Material, vorzugsweise SiO2, aufweisende Schicht (7) (vierte Schicht) angeordnet ist.
2. Belag nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die erste Schicht (4) Verbindungen aus der Gruppe: TiO2, ZnS, Bi2O3, oder Mischungen der Verbindungen aus dieser Gruppe umfaßt.
3. Belag nach Anspruch 1 und/oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß die zweite Schicht (5) Oxide aus der Gruppe: Al2O3, MgO, SiO2, SiAl-Oxid, NiSi-Oxid, oder Mischoxide aus dieser Gruppe umfaßt.
4. Belag nach einem oder mehreren der vorangegangenen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die dritte Schicht (6) Verbindungen aus der Gruppe: TiO2, ZnS, Bi2O3, oder Mischungen der Verbindungen aus dieser Gruppe umfaßt.
5. Belag nach einem oder mehreren der vorangegangenen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die vierte Schicht (7) Verbindungen aus der Gruppe: SiO2, MgF2 oder Mischungen der Verbindungen aus dieser Gruppe umfaßt.
6. Belag nach einem oder mehreren der vorangegangenen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die erste Schicht (4) aus einem Material mit einem Brechungskoeffizienten von n größer als oder gleich 2,2, vorzugsweise n = 2,4 besteht, daß die zweite Schicht (5) aus einem Material mit einem Brechungskoeffizienten von n = ca. 1,6 besteht, daß die dritte Schicht (6) aus einem Material mit einem Brechungskoeffizienten von n größer als oder gleich 2,2, vorzugsweise n = 2,4 besteht, daß die vierte Schicht (7) aus einem Material mit einem Brechungskoeffizienten von n kleiner als oder gleich 1,5, vorzugsweise von n = 1,48 besteht.
7. Belag nach einem oder mehreren der vorangegangenen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die erste Schicht eine Dicke von 100 Ångström +/-10% aufweist, daß die zweite Schicht eine Dicke von 400 Ångström +/-5% aufweist, daß die dritte Schicht eine Dicke von 1040 Ångström +/-2% aufweist, daß die vierte Schicht eine Dicke von 940 Ångström +/-2% aufweist, daß solche Werte für die jeweiligen Schichtdicken innerhalb der genannten Schichtdickentoleranzen gewählt werden, die die Interdepedenz der einzelnen Schichtdicken und der verwendeten Materialien zueinander berücksichtigen.
8. Belag, bestehend aus einem optisch wirkenden Schichtsystem, für Substrate, wobei das Schichtsystem insbesondere eine hohe Antireflexwirkung aufweist, dadurch gekennzeichnet, daß auf der dem Betrachter zugewandten Substratseite (Vorderseite) (2) in der örtlichen Reihenfolge von der Vorderseite (2) zum Betrachter eine erste am Substrat anliegende, hochbrechendes Material, vorzugsweise TiO2, aufweisende Schicht (4) (erste Schicht) angeordnet ist, die eine Dicke von 100 Ångström +/-10% aufweist, darauffolgend eine zweite, niederbrechendes Material, vorzugsweise Al2O3, aufweisende Schicht (5) (zweite Schicht) angeordnet ist,die eine Dicke von 400 Ångström +/-5% aufweist, darauffolgend eine dritte hochbrechendes Material, vorzugsweise TiO2, aufweisende Schicht (6) (dritte Schicht) angeordnet ist, die eine Dicke von 1040 Ångström +/-2% aufweist, darauffolgend eine vierte niederbrechendes Material, vorzugsweise SiO2, aufweisende Schicht (7) (vierte Schicht) angeordnet ist, die eine Dicke von 940 Ångström +/-2% aufweist.
9. Verfahren zur Herstellung eines Belags nach einem oder mehreren der vorangegangenen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß ein Katodenzerstäubungsverfahren, insbesondere ein DC-reaktives Sputtern vom Target mit Magnetron zur Beschichtung eingesetzt wird.
10. Verfahren nach einem oder mehreren der vorangegangenen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß durch DC-reaktives Sputtern vom Ti-Target mit Magnetron eine Schicht aus TiO2 bei Anwesenheit eines Sputtergasgemisches, das Ar und O2 umfaßt, gebildet wird, und zwar bei einem Druck von cirka 5×10-3 mbar.
11. Verfahren nach einem oder mehreren der vorangegangenen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß durch DC-reaktives Sputtern vom Al-Target mit Magnetron eine Schicht aus Al2O3 bei Anwesenheit eines Sputtergasgemisches, das Ar und O2 umfaßt, gebildet wird, und zwar bei einem Druck von cirka 8×10-3 mbar.
12. Verfahren nach einem oder mehreren der vorangegangenen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß durch DC-reaktives Sputtern vom Si-Target mit Magnetron eine Schicht aus SiO2 bei Anwesenheit eines Sputtergasgemisches, das Ar und O2 umfaßt, gebildet wird, und zwar bei einem Druck von cirka 1,2×10-2 mbar.
13. Verfahren zur Herstellung eines Belags nach einem oder mehreren der vorangegangenen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß ein an sich bekanntes Aufdampfverfahren zur Beschichtung eingesetzt wird.
14. Verfahren zur Herstellung eines Belags nach einem oder mehreren der vorangegangenen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß ein an sich bekanntes Chemical Vapor Deposition (CVD)-Verfahren zur Beschichtung eingesetzt wird.
15. Verfahren zur Herstellung eines Belags nach einem oder mehreren der vorangegangenen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß ein an sich bekanntes Plasma-gestütztes Chemical Vapor Deposition (CVD)-Verfahren zur Beschichtung eingesetzt wird.
16. Verfahren zur Herstellung eines Belags nach einem oder mehreren der vorangegangenen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß ein an sich bekanntes Pyrolyse-Verfahren zur Beschichtung eingesetzt wird.
DE3941796A 1989-12-19 1989-12-19 Belag, bestehend aus einem optisch wirkenden schichtsystem, fuer substrate, wobei das schichtsystem insbesondere eine hohe antireflexwirkung aufweist, und verfahren zur herstellung des belags Ceased DE3941796A1 (de)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE3941796A DE3941796A1 (de) 1989-12-19 1989-12-19 Belag, bestehend aus einem optisch wirkenden schichtsystem, fuer substrate, wobei das schichtsystem insbesondere eine hohe antireflexwirkung aufweist, und verfahren zur herstellung des belags
DE19914117256 DE4117256A1 (de) 1989-12-19 1991-05-27 Belag, bestehend aus einem optisch wirkenden schichtsystem, fuer substrate, wobei das schichtsystem insbesondere eine hohe antireflexwirkung aufweist
US07/717,027 US5170291A (en) 1989-12-19 1991-06-18 Coating, composed of an optically effective layer system, for substrates, whereby the layer system has a high anti-reflective effect, and method for manufacturing the coating

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE3941796A DE3941796A1 (de) 1989-12-19 1989-12-19 Belag, bestehend aus einem optisch wirkenden schichtsystem, fuer substrate, wobei das schichtsystem insbesondere eine hohe antireflexwirkung aufweist, und verfahren zur herstellung des belags

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE3941796A1 true DE3941796A1 (de) 1991-06-20

Family

ID=6395725

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE3941796A Ceased DE3941796A1 (de) 1989-12-19 1989-12-19 Belag, bestehend aus einem optisch wirkenden schichtsystem, fuer substrate, wobei das schichtsystem insbesondere eine hohe antireflexwirkung aufweist, und verfahren zur herstellung des belags

Country Status (1)

Country Link
DE (1) DE3941796A1 (de)

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0619504A1 (de) * 1993-04-08 1994-10-12 Optische Werke G. Rodenstock Antireflex-Belag
DE4335224A1 (de) * 1993-10-15 1995-04-20 Leybold Ag Vorrichtung für die Herstellung optischer Schichten
DE4430363A1 (de) * 1994-08-26 1996-02-29 Leybold Ag Optische Linse aus einem klarsichtigen Kunststoff
DE19636970A1 (de) * 1996-09-12 1998-03-19 Leybold Systems Gmbh Optisch wirkendes Antireflexschichtsystem
EP0976542A1 (de) * 1998-06-19 2000-02-02 Balzers Hochvakuum AG Verbundglas und Verfahren zur Herstellung einer beschichteten Kunststoffolie vorzugsweise hierfür
EP1234808A1 (de) * 2001-02-22 2002-08-28 Blösch Holding AG Transparente, mineralische Körper mit Entspiegelungsschicht und Verfahren zu deren Herstellung
EP2492251A1 (de) * 2011-02-23 2012-08-29 Schott Ag Substrat mit Antireflexionsbeschichtung und Verahren zu dessen Herstellung
CN110885969A (zh) * 2019-10-30 2020-03-17 杭州美迪凯光电科技股份有限公司 一种减少摄像模组点子缺陷的cvd制备方法及其产物
US11079514B2 (en) 2011-02-23 2021-08-03 Schott Ag Optical element with high scratch resistance
CN119640215A (zh) * 2025-02-17 2025-03-18 常州瀚镓半导体有限公司 一种InP基半导体激光器芯片的腔面镀膜结构和方法

Citations (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE736411C (de) * 1939-05-28 1943-06-19 Jenaer Glaswerk Schott & Gen Verfahren zur AEnderung des Reflexionsvermoegens optischer Glaeser
DE742463C (de) * 1942-07-15 1944-01-18 Jenaer Glaswerk Schott & Gen Schicht zur AEnderung des Reflexionsvermoegens aus einer Mehrzahl abwechselnd uebereinanderliegender Teilschichten aus zwei Stoffen von verschiedener Brechungszahl
DE1596816A1 (de) * 1966-01-11 1971-04-01 Glaverbel Verfahren und Verglasung zur Daempfung der ultravioletten Strahlung
DE2448499A1 (de) * 1973-11-12 1975-05-15 Balzers Hochvakuum Strahlenteiler
DE3125267A1 (de) * 1981-06-26 1983-01-13 Patra Patent Treuhand Halogenellipsoidreflektorlampe mit kaltlichtreflektor
DE2902848C2 (de) * 1978-04-13 1983-02-17 Litton Systems, Inc., 90210 Beverly Hills, Calif. Verfahren zur Herstellung von dünnen optischen Mehrfachschichten
US4387960A (en) * 1980-03-31 1983-06-14 Minolta Camera Co. Ltd. Multi-layer anti-reflection coating
DE2256435C3 (de) * 1971-12-07 1984-03-08 N.V. Philips' Gloeilampenfabrieken, 5621 Eindhoven Verfahren zur Herstellung eines hohlen Kaltlichtspiegels
DE3302827A1 (de) * 1983-01-28 1984-08-02 Leybold-Heraeus GmbH, 5000 Köln Verfahren zum herstellen von optischen elementen mit interferenzschichten
DE2646513C2 (de) * 1976-10-15 1984-10-04 Bfg Glassgroup, Paris Verfahren zur Herstellung einer wärmereflektierenden Natron-Kalk-Silikatglasscheibe
DE3404736A1 (de) * 1983-04-18 1984-10-18 Balzers Hochvakuum Gmbh, 6200 Wiesbaden Duennschichtanordnung
DE3627248A1 (de) * 1985-10-22 1987-04-23 Satis Vacuum Ag Verfahren zur herstellung eines antireflexionsfilms auf organischen linsen oder brillenglaesern
DE3636676A1 (de) * 1985-10-31 1987-05-07 Toshiba Kawasaki Kk Optischer interferenzfilm
DE3430727C2 (de) * 1983-08-22 1989-07-20 Kabushiki Kaisha Toshiba, Kawasaki, Kanagawa, Jp

Patent Citations (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE736411C (de) * 1939-05-28 1943-06-19 Jenaer Glaswerk Schott & Gen Verfahren zur AEnderung des Reflexionsvermoegens optischer Glaeser
DE742463C (de) * 1942-07-15 1944-01-18 Jenaer Glaswerk Schott & Gen Schicht zur AEnderung des Reflexionsvermoegens aus einer Mehrzahl abwechselnd uebereinanderliegender Teilschichten aus zwei Stoffen von verschiedener Brechungszahl
DE1596816A1 (de) * 1966-01-11 1971-04-01 Glaverbel Verfahren und Verglasung zur Daempfung der ultravioletten Strahlung
DE2256435C3 (de) * 1971-12-07 1984-03-08 N.V. Philips' Gloeilampenfabrieken, 5621 Eindhoven Verfahren zur Herstellung eines hohlen Kaltlichtspiegels
DE2448499A1 (de) * 1973-11-12 1975-05-15 Balzers Hochvakuum Strahlenteiler
DE2646513C2 (de) * 1976-10-15 1984-10-04 Bfg Glassgroup, Paris Verfahren zur Herstellung einer wärmereflektierenden Natron-Kalk-Silikatglasscheibe
DE2902848C2 (de) * 1978-04-13 1983-02-17 Litton Systems, Inc., 90210 Beverly Hills, Calif. Verfahren zur Herstellung von dünnen optischen Mehrfachschichten
US4387960A (en) * 1980-03-31 1983-06-14 Minolta Camera Co. Ltd. Multi-layer anti-reflection coating
DE3125267A1 (de) * 1981-06-26 1983-01-13 Patra Patent Treuhand Halogenellipsoidreflektorlampe mit kaltlichtreflektor
DE3302827A1 (de) * 1983-01-28 1984-08-02 Leybold-Heraeus GmbH, 5000 Köln Verfahren zum herstellen von optischen elementen mit interferenzschichten
DE3404736A1 (de) * 1983-04-18 1984-10-18 Balzers Hochvakuum Gmbh, 6200 Wiesbaden Duennschichtanordnung
DE3430727C2 (de) * 1983-08-22 1989-07-20 Kabushiki Kaisha Toshiba, Kawasaki, Kanagawa, Jp
DE3627248A1 (de) * 1985-10-22 1987-04-23 Satis Vacuum Ag Verfahren zur herstellung eines antireflexionsfilms auf organischen linsen oder brillenglaesern
DE3636676A1 (de) * 1985-10-31 1987-05-07 Toshiba Kawasaki Kk Optischer interferenzfilm

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
US-Z: BUEHLER, M., et.al.: All-oxide broadband antireflection coatings by reactive ion plating deposition. In: Applied Optics, No.16, Vol.27, 15.Aug.1988, S.3359-3361 *

Cited By (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0619504A1 (de) * 1993-04-08 1994-10-12 Optische Werke G. Rodenstock Antireflex-Belag
DE4335224A1 (de) * 1993-10-15 1995-04-20 Leybold Ag Vorrichtung für die Herstellung optischer Schichten
DE4430363A1 (de) * 1994-08-26 1996-02-29 Leybold Ag Optische Linse aus einem klarsichtigen Kunststoff
DE19636970A1 (de) * 1996-09-12 1998-03-19 Leybold Systems Gmbh Optisch wirkendes Antireflexschichtsystem
EP0976542A1 (de) * 1998-06-19 2000-02-02 Balzers Hochvakuum AG Verbundglas und Verfahren zur Herstellung einer beschichteten Kunststoffolie vorzugsweise hierfür
US6174592B1 (en) 1998-06-19 2001-01-16 Balzers Hochvakuum Aq Composite glass and method for producing a coated plastic foil, preferably therefor
CH693138A5 (de) * 1998-06-19 2003-03-14 Unaxis Trading Ag Verbundglas und Verfahren zur Herstellung einer beschichteten Kunststoffolie hierfür.
EP1234808A1 (de) * 2001-02-22 2002-08-28 Blösch Holding AG Transparente, mineralische Körper mit Entspiegelungsschicht und Verfahren zu deren Herstellung
EP2492251A1 (de) * 2011-02-23 2012-08-29 Schott Ag Substrat mit Antireflexionsbeschichtung und Verahren zu dessen Herstellung
US9296648B2 (en) 2011-02-23 2016-03-29 Schott Ag Substrate with antireflection coating and method for producing same
US10365409B2 (en) 2011-02-23 2019-07-30 Schott Ag Substrate with antireflection coating and method for producing same
US11029450B2 (en) 2011-02-23 2021-06-08 Schott Ag Substrate with antireflection coating and method for producing same
US11079514B2 (en) 2011-02-23 2021-08-03 Schott Ag Optical element with high scratch resistance
US11906700B2 (en) 2011-02-23 2024-02-20 Schott Ag Substrate with antireflection coating and method for producing same
CN110885969A (zh) * 2019-10-30 2020-03-17 杭州美迪凯光电科技股份有限公司 一种减少摄像模组点子缺陷的cvd制备方法及其产物
CN119640215A (zh) * 2025-02-17 2025-03-18 常州瀚镓半导体有限公司 一种InP基半导体激光器芯片的腔面镀膜结构和方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE3941797A1 (de) Belag, bestehend aus einem optisch wirkenden schichtsystem, fuer substrate, wobei das schichtsystem insbesondere eine hohe antireflexwirkung aufweist, und verfahren zur herstellung des belags
DE69626805T2 (de) Lichtdurchlässige Substrate mit antireflektierenden Beschichtungen
DE69128192T2 (de) Verfahren zur abscheidung von nioboxid enthaltenden optischen beschichtungen mittels reaktiver gleichstromzerstäubung
DE19541937C1 (de) Wärmedämmendes Schichtsystem mit niedriger Emissivität, hoher Transmission und neutraler Ansicht in Reflexion und Transmission
DE69533229T2 (de) Antireflektierender belag für temperaturempfindlichen träger
DE69702011T2 (de) Mehrfach mit Dünnfilmen beschichtetes transparentes Substrat
DE69831055T2 (de) Antireflektierende Beschichtungen
DE3787949T2 (de) Sichtvorrichtung und Verfahren zu ihrer Herstellung.
DE69223251T2 (de) Elektrisch leitende, lichtdämpfende antireflektierende beschichtung
DE69122602T2 (de) Elektrisch leitfähige, lichtschwächende antireflexbeschichtung
DE4407067C2 (de) Dielektrisches Interferenz-Filtersystem, LCD-Anzeige und CCD-Anordnung sowie Verfahren zur Herstellung eines dielektrischen Interferenz-Filtersystems
DE3818341C2 (de) Teildurchlässiger Spiegel aus Kunststoff
EP0258831A2 (de) Vorsatzaggegrat für die Kathodenstrahlröhre von Monitoren, Fernsehapparaten und dergleichen
DE3009533A1 (de) Verfahren zur herstellung eines reflexverminderndenmehrschichtenbelages und optischer koerper mit reflexverminderndem mehrschichtenbelag
DE3941796A1 (de) Belag, bestehend aus einem optisch wirkenden schichtsystem, fuer substrate, wobei das schichtsystem insbesondere eine hohe antireflexwirkung aufweist, und verfahren zur herstellung des belags
DE3942990A1 (de) Belag, bestehend aus einem optisch wirkenden schichtsystem, fuer substrate, wobei das schichtsystem insbesondere eine hohe antireflexwirkung aufweist, und verfahren zur herstellung des belags
DE112020006040T5 (de) Optischer filter und verfahren zur herstellung desselben
DE4117257B4 (de) Optisch wirkendes Schichtsystem mit hoher Antireflexwirkung für transparente Substrate
EP1307767B1 (de) Reflexionsmindernde beschichtung
DE4117256A1 (de) Belag, bestehend aus einem optisch wirkenden schichtsystem, fuer substrate, wobei das schichtsystem insbesondere eine hohe antireflexwirkung aufweist
EP1371745A1 (de) Verfahren und Mehrkammervorrichtung zur Beschichtung eines Glassubstrats mit einem Schichtsystem SnO/ZnO/Ag/CrNOx
DE102005000911B4 (de) Umweltbeständiges hochreflektierendes Spiegelschichtsystem und Verfahren zu dessen Herstellung
DE19541014B4 (de) Antireflexschichtsystem und Verfahren zur Herstellung eines Antireflexschichtsystems
DE3807600A1 (de) Niederreflektierender, hochtransparenter in durch- als auch in aussenansicht neutral wirkender sonnenschutz- und/oder waermedaemmender belag fuer ein substrat aus transparentem material
EP1424315A1 (de) Sonnenschutzglas

Legal Events

Date Code Title Description
OM8 Search report available as to paragraph 43 lit. 1 sentence 1 patent law
AG Has addition no.

Ref country code: DE

Ref document number: 4117256

Format of ref document f/p: P

8127 New person/name/address of the applicant

Owner name: BALZERS UND LEYBOLD DEUTSCHLAND HOLDING AG, 63450

8110 Request for examination paragraph 44
8131 Rejection